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JP4591901B2 - 反射型表示装置 - Google Patents

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JP4591901B2
JP4591901B2 JP2000114652A JP2000114652A JP4591901B2 JP 4591901 B2 JP4591901 B2 JP 4591901B2 JP 2000114652 A JP2000114652 A JP 2000114652A JP 2000114652 A JP2000114652 A JP 2000114652A JP 4591901 B2 JP4591901 B2 JP 4591901B2
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康夫 都甲
靖 岩倉
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Stanley Electric Co Ltd
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Sharp Corp
Stanley Electric Co Ltd
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射型表示装置及びその製造方法に関し、特に、微粒子分散型電気泳動表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般的な微粒子分散型電気泳動表示装置は、一対の電極間に直流電圧を印加することにより、色素中に分散された微粒子が片側の電極に電気泳動することにより表示を切り替えるものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記のような原理に基づく微粒子分散型電気泳動表示装置を用いると、以下のような問題が生じる。
【0004】
1)色素が微粒子に吸着すると、白表示と黒表示とのコントラスト比を大きくすることができない。すなわち、色素が微粒子に吸着すると、微粒子の移動による白表示(微粒子が観察者側の電極に移動し、微粒子による入射光の散乱による反射光が表示に寄与した場合)と、色(黒)表示(微粒子が観察者側とは逆の電極に移動し、色素の色が表示に寄与した場合)の差がはっきりと現れない。
【0005】
2)ある程度の大きさを持つ微粒子を、長時間溶媒中に分散させておくためには、溶媒と微粒子(もしくは色素)の比重を完全に一致させる必要がある。
【0006】
比重が一致しない場合には、微粒子を長い時間分散させることが難しい。微粒子が分散媒中において沈殿もしくは浮遊するため、微粒子が片側の電極に移動し、良好な表示を維持することが難しかった。
【0007】
3)微粒子の粒径を0.2ミクロン以下にすれば、微粒子を分散媒中に長時間にわたって分散させておくことができる。しかしながら、微粒子の粒径をあまり小さくしすぎると、十分な散乱が起こらず、反射光の強度が十分でないという問題があった。
【0008】
4)一対の電極間に直流電圧を印加して、色素中に分散している微粒子を電気泳動により片側の電極に移動させることで表示を切り替える方式では、セル厚が十分に厚いか、もしくは色素濃度が十分高くないと、光が色素により完全には吸収されず、良好な色(黒)表示を得ることができない。
【0009】
セルの厚さを厚くした場合には表示を変化させる場合の応答時間が異常に遅くなるという問題点が生じる。
【0010】
加えて、色素濃度が高い場合、分散媒(溶媒)中に色素が析出するという問題が起こりやすい。色素の析出は、特に低温時に発生しやすいため、表示装置としての信頼性に影響を与える。一旦、色素の析出が起こると、高温処理などを行う必要があり問題となる。
5)従来の方式では、セル厚のバラツキがそのまま表示(色(黒)表示)のバラツキにつながるという問題点があった。この問題は、表示のバラツキを均一にすることが容易ではないということを意味する。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明の一観点によれば、第1基板と、前記第1基板に対して所定のギャップを介して上方に対向配置される透明な第2基板と、前記第2基板の前記第1基板側表面上に形成される複数の電極と、前記第1基板と前記第2基板との間に挟持された分散媒と、前記分散媒と前記第2基板との界面近傍の前記分散媒中に浮遊する前記分散媒より比重の小さい多数の微粒子と、前記複数の電極の隣接する電極間に電圧を印加することができる電圧印加手段とを含む反射型表示装置が提供される。
【0012】
本発明の他の観点によれば、第1基板と、前記第1基板上に形成されるストライプ状の複数の第1電極と、前記第1基板に対して所定のギャップを有して上方に対向配置される透明な第2基板と、前記第1電極と対向し前記第2基板上に前記第1電極と交差する方向に形成されるストライプ状の複数の第2電極と、前記第1基板と前記第2基板との間に挟持された分散媒と、前記分散媒と前記第2基板との界面近傍の前記分散媒中に浮遊する前記分散媒より比重の小さい多数の微粒子と、前記第1電極と前記第2電極との間に電圧を印加することができる電圧印加手段とを含む反射型表示装置が提供される。
【0013】
【発明の実施の形態】
発明者は、対向する2枚の基板のうち、一方の基板(例えば上側基板、すなわち観察者側の基板)の近傍のみに光散乱体として働く微粒子をほぼ均一に浮遊させることを思いついた。
【0014】
微粒子を2枚の基板間に充填された分散媒中に3次元的に均一に分布させるよりも、基板の界面近傍に2次元的に浮遊させる方が均一性を保持しやすい。
【0015】
微粒子を2枚の基板の界面近傍に2次元的に均一に浮遊させれば、入射光は微粒子により散乱されて白を表示し、基板面に沿って電位差を生じさせて微粒子を電気泳動により横方向に移動させれば入射光は散乱されずに吸収又は透過して黒表示することができる。
【0016】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【0017】
まず本発明の第1実施例について説明する。
【0018】
図1は、反射型表示装置の構造を模式的に示す断面図である。
【0019】
図1に示すように、反射型表示装置Aは、下側に設けられている第1の基板1と、上側に設けられている第2の基板3と、第1の基板1と第2の基板3との間に挟持された分散媒5とを有している。
【0020】
第1の基板1の上に光吸収層11が形成されている。第2の基板3の下面に、所定の間隔を開けて電極15が複数形成されている。さらに、電極15間に電圧を印加することができる電圧印加手段18が形成されている。横方向に隣接する電極15間に電圧を印加すると電極間に電位差が生じる。
【0021】
分散媒5と第2基板3との界面付近の分散媒5中に、多数の微粒子17が浮遊する。
【0022】
第1基板1は、ガラス、プラスチック、フィルムなど任意の透明な材料で形成される。
【0023】
第2基板3は、ガラスなどの透明基板ばかりではなく、金属や半導体などの不透明な材料を用いることもできる。
【0024】
第1及び第2の基板1、3の厚さには、特に制限はない。但し、表示装置自体を薄くしたい場合は基板も薄い方が好ましい。
【0025】
光吸収層11はブラックマトリクスとして用いられる黒色顔料、カーボンブラックなど、光を吸収しやすい材料で形成されている。例えば、LCD用ブラックマリクスに用いられる黒色顔料(例えば、フジフィルムオーリン社製COLORMOSAIC CK)を用いた。
【0026】
分散媒5は、イソブチルベンゼン、直鎖アルキルベンゼン等のベンゼン系の溶媒、テトラクロロエチレン系、フェニルキシリルエタン系、シリコーンオイル等の溶媒を用いることができる。
【0027】
微粒子17は、白色光散乱体、例えば、TiO2、SiO2、ZnO等の金属酸化物又はその中空体、ラテックス、プラスチックボール(例えば、ミクロパール)、ポリスチレンボール等の有機物を用いることができる。
【0028】
第1実施例においては、溶媒5としてドデシルベンゼンを、微粒子17として粒径が0.5ミクロンのポリスチレン中空体を用いた。
【0029】
中空体は、例えば日本ゼオン社製のMH5055(粒径500nm)、JSR社製の0640(粒径240nm)を用いることができる。
【0030】
尚、ポリスチレン中空体は、粒径が約0.5ミクロンであるが、多数の微粒子が凝集することがあり、この場合には約2ミクロンから10ミクロンの実効粒径を有することになる場合がある。
【0031】
電極15は第2基板3上に、ストライプ状に形成されている。電極材料としては、ITOのような透明電極でもA1、Mo等の透明でない電極材料でも良い。
【0032】
或いは、TFTのようなアクティブ素子により形成しても良い(この場合、IPS−LCD用TFTと同様な電極構成にすればよい)。
【0033】
実施例1では、0.5ミクロンのポリスチレン中空体の比重が溶媒5の比重よりも小さいため、溶媒5内に均一に分散するのではなく、第2基板近傍に浮遊した状態で分散する。
【0034】
尚、溶媒の比重は、例えば0.86、スチレン中空体の比重は例えば0.47である。
【0035】
電圧印加手段18は、3つの第2電極15から延びる端子T1、T2、T3間に、電圧を印加することができるように構成されている。
【0036】
より詳細には、直流電源DCと、直流電源DCから延びる正負の2つの端子T4とT5とを有している。さらに、端子T4と端子T5とは、端子T1、T2、T3との間で結線できるように構成されている。すなわち、直流電源DCからの直流電圧が、端子T3、T4、T4を通して3つの第2電極間の任意の2端子間に印加できるように構成されている。
【0037】
反射型表示装置Aの製造方法に関して簡単に説明する。
【0038】
第1の基板1上に光吸収層11を形成する。第2の基板3の表面に、所定の間隔を開けて電極15をストライプ状に複数形成する。電極15間に電圧を印加することができる電圧印加手段18を形成する。
【0039】
第1基板1と第2基板3とを対向して配置し、それらの外周部を囲むシール材により分散媒収容空間を形成する。
【0040】
分散媒収容空間内に分散媒5と微粒子17とを注入する。分散媒収容空間内を封止する。
【0041】
図2は、反射型表示装置Aの動作を説明するための概略的な図である。
【0042】
反射型表示装置Aにおいて、黒表示をする場合は、隣接する電極15aと電極15bとの間に直流電圧を印加する。横方向に並ぶ電極15aと電極15bとの間に電位差が生じる。電気泳動により微粒子17が片側の電極(負電極)15aに集まる。より具体的には、負電極15aの電極端部に微粒子17が集中する。
【0043】
第2基板3側から入射した入射光は吸収層11により吸収されるために第1基板1により反射されず、第2基板3側から光は出射しない。電極15a、15b間では黒表示を行う。吸収層11の代わりに透過層を設けた場合も同様の動作をする。従ってY1領域は黒表示を行う。
【0044】
白表示を行う場合は、微粒子17が電極15b、15c間に均一に分布した時点で直流の印加を停止すれば良い。Y2領域は、電極15b、15c間に微粒子が分布する。第2基板側から入射した入射光が微粒子17によって散乱され、散乱光が第2基板3側から出射する。
【0045】
実施例1の反射型表示装置においては、セル厚15ミクロンのセルを用いた場合に、電極15a、15b間の距離を60ミクロンにし、片側の電極15aに60V印加した場合、150msecの電圧印加時間により負電極15a側端部付近に微粒子17が完全に移動した。
【0046】
50msecだけ直流電圧を印加した場合には、最も表示が白くなった。
【0047】
中間調表示を行う場合は50msecと150msecとの間で適当な時間だけ直流を印加しておけばよい。直流電圧の印加時間が長いほど黒表示に近づく。
【0048】
尚、光を吸収する光吸収層11の代わりに光を透過する光透過層を用いても良い。
【0049】
次に第2実施例による反射型表示装置について説明する。
【0050】
図3に第2実施例による反射型表示装置の配置を示す。
【0051】
図3(a)は、反射型表示装置の断面図である。図3(b)は、反射型表示装置の平面図であり、第1電極と第2電極の配置を示す。
【0052】
図3に示すように、反射型表示装置Bは、下側に設けられている第1の基板31と、上側に設けられている第2の基板33と、第1の基板31と第2の基板33との間に挟持された分散媒35とを有している。
【0053】
第1の基板31の上に第1の光吸収層41が形成されている。第2の基板33の表面に、所定の間隔を開けて第1電極45が複数形成されている。隣接する第1電極45間に第2の光吸収層57が任意に形成される。
【0054】
分散媒35中には多数の微粒子37が第2基板33側に偏って浮遊している。
【0055】
第1の基板31と第1の光吸収層41との間に、第2電極51が形成されている。第1の光吸収層41の上に、第1の高分子層53が形成されている。
【0056】
第1電極45の上に、第2の高分子層55が形成されている。
【0057】
第2の基板33として用いることができる材料は、ガラス、プラスチック、フィルムなど透明な材料が好ましい。
【0058】
第1の基板31として用いることができる材料は、ガラスなどの透明基板だけでなく、金属、半導体などの透明でない材料を用いることができる。
【0059】
第1の光吸収層41はブラックマトリクスに用いられる黒の顔料やカーボンブラックなど、ほとんど光を反射せず光を吸収するものであればよい。
【0060】
第2の光吸収層57は、第1電極45の端部とオーバーラップしていてもよい。
【0061】
第2実施例による反射型表示装置Bは、光吸収層としてLCD用ブラックマトリクスにも使われている黒色顔料(フジフィルムオーリン社製COLOR MOSAIC CK)を用いた。
【0062】
分散媒35として、液晶的な特性を示す高分子を用いる。
【0063】
微粒子37は、TiO2、SiO2、ZnO等の各種金属酸化物やその中空体、スチレンボール等の有機物を用いることができる。
【0064】
第2実施例では、溶媒35としてシアノ基を有するネマチック液晶材料を用いた。微粒子37として、粒径が0.5ミクロンのポリスチレン中空体を用いた。
他の材料を用いても良い。
【0065】
液晶材料は、チッソ石油化学株式会社製の液晶を用いた。
【0066】
微粒子を移動させるメカニズムについては不明であるが、発明者は、液晶配向(ダイレクタ)の動きが微粒子を動かすものと推測している。
【0067】
図3(a)及び(b)に示すように、第1電極45は、ストライプ状に複数本形成されている。第2電極51も、ストライプ状に複数本形成されている。第1電極45と第2電極51とは、交差するよう方向に延びている。交差角度は、好ましくは90度である。
【0068】
第2基板33上に形成される第1電極45は、例えばITO等の透明電極を用いるのが好ましい。
【0069】
第1基板31上の第2電極51は、ITO等の透明電極を用いても良いが、Al、Mo等の透明でない電極を用いても良い。例えば薄膜トランジスタ(TFT)のようなアクティブ素子により形成しても良い。一般的なTFT−LCD用のTFT(用画素電極)と同様の電極構成にすればよい。
【0070】
上述のようにマトリックス状に形成された第1電極45と第2電極51との間には、任意の第1電極と第2電極との間に電圧を印加することができる電圧印加手段58が形成されている。電圧印加手段58は、電極間にパルス電圧を印加することができる。
【0071】
第1及び第2の高分子層53、55は、例えばポリイミドにより形成することができる。布やナイロンなどで高分子層53、55を擦るいわゆるラビング処理或いは斜め方向からUV光を照射するいわゆる光配向処理等の配向処理を行う。
【0072】
配向の方向は、第2基板33上のストライプ状の第1電極45が延びる方向と直交する方向にする。
【0073】
尚、第1基板31上にも配向構造を設ける場合には、第1基板31上のストライプ状の第2の電極51が延びる方向と180度異なる方向にする。上下基板間で逆方向になるようにする。
【0074】
微粒子は電圧による界面付近の液晶分子のスイッチングにより配向方向に移動する。微粒子が移動する機構についての詳細は不明であるが、並進方向は、界面の液晶分子の配向方向と印加するパルスの極性に依存することがわかっている。
【0075】
そのため、界面付近の液晶分子の高速スイッチングにより微粒子が回転し、その回転に応じて移動するものと推測される。
【0076】
直流を加えた場合に比べて、直流成分を有するパルス電圧を印加した場合の方が、微粒子は速く移動する現象がみられる。このことから、分散媒が液晶の場合に、電極間に生じた電界の影響で微粒子は移動し、加えて液晶の配向(ダイレクタ)が変化することにより微粒子を移動させるのを助けるものと推測される。
【0077】
尚、高分子層、特に第1の高分子層53は必ずしも必要ではないが、高分子層を設けた方が微粒子の移動速度や移動状態の均一性が向上する。
【0078】
実施例2に示す反射型表示装置では、微粒子(0.5ミクロン径のポリスチレン中空体)の比重が分散媒より軽いため、溶媒中に均一に分散するのではなく、図3に示すように溶媒の第2基板33側に浮遊した状態で分散している。
【0079】
図3(b)に示すように、第1電極45と第2電極51とは90度の交差角度で交差している。微粒子は、平面上にほぼ均等に分布している。
【0080】
図4に示すように、電極41、51間に電圧印加手段58により単極性の矩形パルスを印加する。パルス電圧は、ピーク電圧をプラス80Vとし、ボトム電圧を0Vとする。
【0081】
電極45a、51間に生じた電位差により、電極45aと交差する領域において電極45a側(上側)に浮遊していた微粒子37が、電気泳動により電極51(負電極)端部に集まり黒表示がされる。
【0082】
図4(b)に示すように、第1電極45aと第2電極51との交差領域X1、X2に分布していた微粒子が、交差領域X1、X2の外周端部近傍に集まり、領域X1内、X2内の微粒子が減少し黒表示になる。
【0083】
白表示を行う場合は、微粒子37が2つの電極45b、45c間の領域の半分付近まで移動した時点でパルス印加を停止すればよい。微粒子は電極45b、45c間において、第2基板33側の界面近傍に面方向にほぼ均一に浮遊した状態となる。
【0084】
2つの電極45b、45cが存在する場合に、2つの電極のうち一方の電極45bの端部に微粒子が集まっている状態で黒表示される。この微粒子を他方の電極45cに向けて移動させてゆくと、2つの電極45b、45c間のちょうど中間付近まで微粒子が移動すると、中間表示、すなわち灰色の表示になる。
【0085】
さらに微粒子が移動して、2つの電極45b、45c間の全領域を覆うようになると、光は微粒子で反射され白表示となる。他方の電極45cに微粒子が移動し終わると、再び黒表示がなされる。
【0086】
上記の、白表示を行う場合は、微粒子37が2つの電極45b、45c間の領域の半分付近まで移動した時点でパルス印加を停止すればよいとの記載において、微粒子が半分まで移動した状態とは、2つの電極45b、45c間の全領域を微粒子が覆う状態のことを指す。
【0087】
実施例2の反射型表示装置Bの具体的なセル厚は15ミクロンであり、電極幅は60ミクロンである。上下の電極45、51間に80Vの単極性矩形パルス(周波数1kHz)を印加した場合、微粒子37は、1000msecで片側の電極45bの端部から反対側の電極45aの端部に完全に移動した。
【0088】
電極のうち特に端部付近に微粒子が移動して集まるメカニズムについてはよくわかっていないが、発明者は、電極の端部よりも内側の部分においては微粒子を動かす力が働かなくなり、まず先に到着した粒子が電極の端部で停止する。その後に移動してきた微粒子は、既に端部に凝集している微粒子によって移動を遮られ、結局、電極端部に微粒子が集まるものと考えている。
【0089】
上記と同じ条件で、単極性矩形パルスを500msec印加した場合、微粒子が均等に分布し、表示が最も白になった。中間調表示を行う場合は、500msecと1000msecとの間において適当な時間だけパルスを印加すればよい。
【0090】
尚、光を吸収する吸収層の代わりに光を透過する透過層を用いても良い。
【0091】
次に、第3及び第4実施例による反射型表示装置について図面を参照して説明する。
【0092】
第3及び第4実施例による反射型表示装置は、第1及び第2実施例による反射型表示装置A又はBに対して、マイクロプリズムを設けた装置である。
【0093】
第3及び第4実施例による反射型表示装置について説明する。
【0094】
図5に、マイクロプリズムMPの模式的な構造を示す。
【0095】
図5に示すマイクロプリズムMPは、各プリズム間に溝(溝部)61が形成されている。稜線部63と溝部61との間の幅は10μm、高さの差は5μmである。
【0096】
尚、マイクロプリズムMPの稜線部63と溝部61との間の幅は、好ましくは0.5μmから100μmの間であり、更に好ましくは2μmから20μmの間であることが望ましい。
【0097】
マイクロプリズムMPの稜線部63と溝部61との間の高さの差は、好ましくは0.5μmから50μmの間であり、更に好ましくは1μmから10μmの間であることが望ましい。
【0098】
マクロプリズムMP用の材料としては、JSR社(日本)製(オプトマーNN700,MFR−310)、富士フィルムオーリン製(CSPシリーズ)などの光硬化型レジストで透明性の高い材料が用いられる。或いは、金型などにより作製されたマイクロプリズムシート(ポリエチレンテレフタレート:PET等)でも良い。
【0099】
実施例3及び4においては、JSR社製オプトマーNN700(屈折率1.53)を用い、図5に示すサイズになるようにフォトリソグラフィー工程により作製した。露光技術としては斜方露光を用いた。
【0100】
尚、斜方露光技術について補足すると、例えば上記のネガ型材料を基板上に塗布し、幅の狭いスリット開口を有するマスクを用いて露光を行う。第一回目の露光を行う際には、スリット開口からの紫外線の入射方向を斜めにする。第二回目の露光を行う際には、スリット開口からの紫外線の入射方向を第一回目の露光の際とは反対の方向から斜め露光を行う。スリット開口に近い表面付近においては、ネガ型レジストの露光領域の幅は狭いが、基板方向に向けて露光領域の幅は広くなる。露光後に現像を行うと、基板側に向けて幅の広い三角柱状のマイクロプリズムが形成できる。
【0101】
図6に、第3実施例による反射型表示装置の構造を示す。
【0102】
図6に示すように、反射型表示装置Cは、マクロプリズムMPが、第2基板3側の電極15表面に、溝61が第1基板1の方向に向けて延びるように設けられている。尚、図6は、図1のVIa−VIb線断面に対応する図である。
【0103】
第3実施例による反射型表示装置Cは、マイクロプリズムMPの溝61が延在する方向に沿って微粒子が移動しやすくなる。
【0104】
尚、マイクロプリズムMPと第2基板3との間に散乱板を形成すれば、反射型表示装置の表示特性は格段に向上する。
【0105】
具体的には、30度の入射角で光が入射し、法線方向から測定した場合の特性は、反射率80%(標準白色板を100%とする)、コントラスト比50程度の非常に優れた特性を示す。
【0106】
マイクロプリズムや散乱板に指向性を与えれば、反射率はさらに向上する。電極15の界面(実際にはマイクロプリズムの界面)に、界面活性剤層などを形成しても良い。界面活性剤により微粒子が吸着しにくくなると、微粒子の移動がさらにスムースになる。
【0107】
図7に、第4実施例による反射型表示装置の構造を示す。
【0108】
図7に示すように、反射型表示装置Dは、マクロプリズムMPが、第2基板33側の第2高分子層55表面に、溝61が第1基板31の方向に向く方向に設けられている。尚、図7は、図3のVIIa−VIIb線断面に対応する図である。
【0109】
第4実施例による反射型表示装置Dは、マイクロプリズムMPの溝61が延在する方向に沿って微粒子が移動する。
【0110】
尚、マイクロプリズムMPと第2基板33との間に散乱板を形成すれば、反射型表示装置の表示特性は格段に向上する。第3実施例の場合と同様の非常に優れた表示特性を示した。
【0111】
マイクロプリズムや散乱板に指向性を与えれば、反射率はさらに向上する。電極の界面(実際にはマイクロプリズムの界面)に、界面活性剤層などを形成しても良い。界面活性剤により微粒子が吸着しにくくなると、微粒子の移動がさらにスムースになる。
【0112】
以上、第1から第4までの各実施例による反射型液晶装置を用いれば、以下のような効果が得られる。
【0113】
1)微粒子に色素を混ぜる必要がないため、色素が微粒子に吸着することによって生じる表示の劣化が生じない。色素自体の信頼性の問題も考慮しなくて良くなる。
【0114】
2)微粒子を、分散媒に浮遊した状態で用いるため、分散媒中に微粒子を分散させる場合と異なり、分散媒と微粒子との比重を完全に一致させる必要がない。
従って、材料選択の範囲も広がる。
【0115】
微粒子は、第2基板(上側電極)側に浮遊した状態を維持するため、良好な表示を永続的に得ることができる。
【0116】
3)微粒子は分散媒に浮遊した状態で用いられるため、分散媒に対し比重の軽い微粒子を選べば良く、粒径をあまり小さくする必要もない。そのため十分な散乱反射特性が得られる比較的大きな粒径の微粒子を用いることも可能となる。
【0117】
4)第1実施例の反射型表示装置では、表示を切り替える際に、微粒子は基板面と平行な方向(横方向)に移動するため、第1基板(下側基板)上に吸収層を設ければ、入射光をほぼ完全に吸収することができ、極めて良好な黒表示を得ることができる。
【0118】
5)表示特性のセル厚依存性が小さい。従って、セル厚の均一性に対する要求が緩く製造上有利である。加えて、マイクロプリズムと組み合わせることにより、表示品位を一層向上させることができる。
【0119】
微粒子は、球形以外にも種々の形状を選択できる。
【0120】
尚、第2基板に形成されている電極を、第1基板の表面近傍にまで達するように形成しても良い。或いは、電極の下に第1基板の表面近傍にまで達する仕切り板を形成しても良い。第2基板の表面上に浮遊する微粒子の面密度をより均一にすることができるであろう。
【0121】
本発明の反射型表示装置は、ディスプレイ全般、児童用玩具等、紙(電子の紙)の代替品全般など、極めて広汎な製品のうち、一対の基板が上下関係にある配置をとる製品、特に一対の基板により機能が実現される表示面が水平に配置される製品に適用することができる。
【0122】
以上、本発明の実施例について例示したが、その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。
【0123】
【発明の効果】
表示の安定性とコントラスト比に優れた反射型表示装置が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例による反射型表示装置の構造を示す断面図である。
【図2】本発明の第1実施例による反射型表示装置の動作を説明するための図である。
【図3】本発明の第2実施例による反射型表示装置の構造図であり、図3(a)は断面図、図3(b)は電極の配置を示す平面図である。
【図4】本発明の第2実施例による反射型表示装置の動作を説明するための図であり、図4(a)は断面図、図4(b)は電極と微粒子の配置を示す平面図である。
【図5】マイクロプリズムの構造を示す図である。
【図6】本発明の第3実施例による反射型表示装置の構造を示す断面図である。
【図7】本発明の第4実施例による反射型表示装置の構造を示す断面図である。
【符号の説明】
A、B、C、D 反射型表示装置
1 第1基板
3 第2基板
5 分散媒
11 光吸収層
15 電極
17 微粒子
18 電圧印加手段
31 第1基板
33 第2基板
35 分散媒
37 微粒子
41 第1の光吸収層
45 第1電極
51 第2電極
57 第2の光吸収層
MP マイクロプリズム
X、Y 領域

Claims (13)

  1. 第1基板と、
    前記第1基板に対して所定のギャップを介して上方に対向配置される透明な第2基板と、
    前記第2基板の前記第1基板側表面上に形成される複数の電極と、
    前記第1基板と前記第2基板との間に挟持された分散媒と、
    前記分散媒と前記第2基板との界面近傍の前記分散媒中に浮遊する前記分散媒より比重の小さい多数の微粒子と、
    前記複数の電極の隣接する電極間に電圧を印加することができる電圧印加手段と
    を含む反射型表示装置。
  2. 第1基板と、
    前記第1基板上に形成されるストライプ状の複数の第1電極と、
    前記第1基板に対して所定のギャップを有して上方に対向配置される透明な第2基板と、
    前記第1電極と対向し前記第2基板上に前記第1電極と交差する方向に形成されるストライプ状の複数の第2電極と、
    前記第1基板と前記第2基板との間に挟持された分散媒と、
    前記分散媒と前記第2基板との界面近傍の前記分散媒中に浮遊する前記分散媒より比重の小さい多数の微粒子と、
    前記第1電極と前記第2電極との間に電圧を印加することができる電圧印加手段と
    を含む反射型表示装置。
  3. 前記微粒子は中空体である請求項1又は2に記載の反射型表示装置。
  4. 前記複数の電極は、ストライプ状に形成されている請求項1に記載の反射型表示装置。
  5. 前記第1基板上に、光を吸収する吸収層が形成されている請求項1又は2に記載の反射型表示装置。
  6. 前記第1基板上に、光を透過する透過層が形成されている請求項1又は2に記載の反射型表示装置。
  7. 前記分散媒は液晶性を有する請求項1又は2に記載の反射型表示装置。
  8. 前記第2基板上に配向膜が形成されている請求項1又は2に記載の反射型表示装置。
  9. 前記第2基板上に配向膜が形成されており、
    前記配向膜の配向処理の方向は、前記ストライプ状の複数の第2電極が延在する方向と直交する方向である請求項1又は2に記載の反射型表示装置。
  10. 前記電圧印加手段は、前記複数の電極の間にパルス電圧を印加する請求項1に記載の反射型表示装置。
  11. 前記電圧印加手段は、前記第1電極と前記第2電極との間にパルス電圧を印加する請求項2に記載の反射型表示装置。
  12. さらに、前記第2基板の内側表面上に、前記ストライプ状の複数の第2電極が延在する方向と直交する方向に延び、溝部と稜線部とを交互に有する多数のマイクロプリズムが設けられている請求項2に記載の反射型表示装置。
  13. 前記微粒子は、前記第2基板の外側から入射する光を散乱する光散乱体である請求項1又は2に記載の反射型表示装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4706947B2 (ja) * 2000-10-19 2011-06-22 スタンレー電気株式会社 固体粒子の分散方法及び表示装置
CN1668972A (zh) * 2002-07-17 2005-09-14 皇家飞利浦电子股份有限公司 面内切换电泳显示装置
JP4488671B2 (ja) * 2002-09-19 2010-06-23 スタンレー電気株式会社 表示装置およびその駆動方法
JP4185120B2 (ja) * 2006-06-30 2008-11-26 株式会社東芝 表示装置
US7808696B2 (en) * 2006-07-31 2010-10-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Electrophoretic display device and fabrication thereof
TWI646382B (zh) 2014-09-10 2019-01-01 美商電子墨水股份有限公司 用以驅動電泳顯示器的方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0271825U (ja) * 1988-11-18 1990-05-31
JPH08320505A (ja) * 1995-03-22 1996-12-03 Toshiba Corp 液晶表示装置
JPH11158470A (ja) * 1997-11-28 1999-06-15 Sumitomo Chem Co Ltd 光散乱型液晶素子に用いる組成物およびそれを用いる液晶表示素子
JP3949308B2 (ja) * 1999-02-05 2007-07-25 株式会社リコー 電気泳動表示用表示液

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20230072611A1 (en) * 2014-09-10 2023-03-09 E Ink Corporation Color electrophoretic display with segmented top plane electrode to create distinct switching areas

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