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JP4566585B2 - アゾ化合物及びその製造方法、並びに、感光層用材料 - Google Patents

アゾ化合物及びその製造方法、並びに、感光層用材料 Download PDF

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Description

本発明は、新規なアゾ化合物及び該アゾ化合物の製造方法、並びに、感光層用材料に関する。
従来より、アゾ化合物は種々の産業分野において古くから染料、或いは顔料として広く用いられており、例えば、繊維の染色用やカラー写真光材料の色材として、また最近では、フォトクロミックな用途にも利用されているきわめて重要な化合物群である。このアゾ化合物は、一般には「ジアゾニウム化合物」と「カップラー化合物」とをカップリング反応させて合成する。このジアゾニウム化合物及びカップラー化合物に関しては、目的とするアゾ染料或いは顔料の用途に応じ、種々の構造を有する化合物が用いられており、そのジアゾニウム化合物及びカップラー化合物の選択により、得られるアゾ染料或いはアゾ顔料の吸収波長と強度、水に対する溶解度、光に対する堅牢性或いは樹脂に対する分散特性等が決定される。
特に、電子写真感光体の分野においては、ある種のアゾ化合物が電子写真感光体の一つの形態である積層型感光体に用いられる有機光導電体、特に、電荷発生顔料として有用であることが知られている。この積層型感光体は、周知のように導電性支持体上に光によって電荷担体を発生する能力を有する電荷発生顔料を主成分とする電荷発生層とその上に電荷発生層で発生した電荷担体を効率よく注入し、更に、これを搬送する能力を有する電荷輸送物質を主成分とする電荷輸送層とを設けた感光体である。このような感光体に使用されるアゾ化合物としては、例えば、ベンジジン系ビスアゾ化合物(特許文献1及び特許文献2参照)、スチルベンゼン系ビスアゾ化合物(特許文献3参照)、ジフェニルヘキサトリエン系ビスアゾ化合物(特許文献4参照)、ジフェニルブタジエン系ビスアゾ化合物(特許文献5参照)、等が知られている。
一方、このようなアゾ顔料に使用されるカップラー化合物としては、例えば、ナフトール系カップラー(特許文献6参照)、ベンズカルバゾール系カップラー(特許文献7参照)、ナフタルイミド系カップラー(特許文献8参照)、ペリノン系カップラー(特許文献9参照)、アズレン系カップラー(特許文献10参照)、アントラセン系カップラー(特許文献11参照)、等がすでに知られている。
しかし、従来のアゾ化合物を用いた積層型感光体は、一般に感度、及び耐久性が低いため、実用上必ずしも十分とはいえず、電子写真プロセスに必要とされる種々の要求を満足するに至らっておらず、一層の感度、及び耐久性の向上が望まれているのが現状である。
特開昭47−37543号公報 特開昭52−55643号公報 特開昭52−8832号公報 特開昭58−222152号公報 特開昭58−222153号公報 特開昭47−37543号公報 特開昭58−122967号公報 特開昭54−79632号公報 特開昭57−176055号公報 特開昭60−10256号公報 特開昭61−257953号公報
本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、実用的な高感度の電子写真感光体に好適に用いられる新規なアゾ化合物及び該アゾ化合物の効率のよい製造方法、並びに、感光層用材料を提供することを目的とする。
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のカップラーを使用した新規アゾ化合物が、容易に製造可能であり、特に、電子写真感光体に用いた場合に実用的な感度と耐久性を有することを知見した。
本発明は、本発明者らの前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> 下記一般式(1)で表されることを特徴とするアゾ化合物である。
ただし、前記一般式(1)中、r及びrは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はニトロ基を表す。2つのCpはカップラー残基を表し、該2つのCpの1つは、下記一般式(2)で表されるカップラー残基であり、Cpの他の1つは、下記一般式(2)、下記一般式(8)及び下記一般式(24)のいずれかで表されるカップラー残基である。
ただし、前記一般式(2)中、R 、R、R及びRは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表す。ただし、RとRは互いに結合して置換又は無置換のアルキレンによる環、置換又は無置換の不飽和脂肪族環、又は置換又は無置換の芳香族環を形成してもよい。Xは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、又はアミノ基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい。
ただし、前記一般式(8)中、Zは、式中のベンゼン環と縮合して置換又は無置換の炭化水素環を形成する2価の有機残基、又は式中のベンゼン環と縮合して置換又は無置換の複素環を形成する2価の有機残基を表す。R14は、水素原子、置換又は無置換のアルキル基、又は置換又は無置換のフェニル基を表す。Yは、置換又は無置換の炭化水素環基、又は置換又は無置換の複素環基を表す。
ただし、前記一般式(24)中、y2は、芳香族炭化水素の2価基又は窒素原子を環内に含む複素環の2価基を表す。これらの環は更に置換基により置換されていてもよい。
<2> 一般式(1)において、2つのCpの1つは、下記一般式(5)で表されるカップラー残基であり、Cpの他の1つは、下記一般式(5)、下記一般式(2)、下記一般式(8)及び下記一般式(24)のいずれかで表されるカップラー残基である前記<1>に記載のアゾ化合物である。
ただし、前記一般式(5)中、Aは、芳香族基、又は複素環基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい。mは、1〜6の整数を示す。
ただし、前記一般式(2)中、R 、R、R及びRは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表す。ただし、RとRは互いに結合して置換又は無置換のアルキレンによる環、置換又は無置換の不飽和脂肪族環、又は置換又は無置換の芳香族環を形成してもよい。Xは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、又はアミノ基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい。
ただし、前記一般式(8)中、Zは、式中のベンゼン環と縮合して置換又は無置換の炭化水素環を形成する2価の有機残基、又は式中のベンゼン環と縮合して置換又は無置換の複素環を形成する2価の有機残基を表す。R14は、水素原子、置換又は無置換のアルキル基、又は置換又は無置換のフェニル基を表す。Yは、置換又は無置換の炭化水素環基、又は置換又は無置換の複素環基を表す。
ただし、前記一般式(24)中、y2は、芳香族炭化水素の2価基又は窒素原子を環内に含む複素環の2価基を表す。これらの環は更に置換基により置換されていてもよい。
<3> 一般式(1)において、2つのCpの1つは、下記一般式(2)で表されるカップラー残基であり、Cpの他の1つは、下記一般式(8)で表されるカップラー残基である前記<1>に記載のアゾ化合物である。
ただし、前記一般式(2)中、R 、R 、R 及びR は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表す。ただし、R とR は互いに結合して置換又は無置換のアルキレンによる環、置換又は無置換の不飽和脂肪族環、又は置換又は無置換の芳香族環を形成してもよい。Xは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、又はアミノ基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい。
ただし、前記一般式(8)中、Z は、式中のベンゼン環と縮合して置換又は無置換の炭化水素環を形成する2価の有機残基、又は式中のベンゼン環と縮合して置換又は無置換の複素環を形成する2価の有機残基を表す。R 14 は、水素原子、置換又は無置換のアルキル基、又は置換又は無置換のフェニル基を表す。Y は、置換又は無置換の炭化水素環基、又は置換又は無置換の複素環基を表す。
<4> 一般式(1)において、2つのCpの1つは、下記一般式(2)で表されるカップラー残基であり、Cpの他の1つは、下記一般式(24)で表されるカップラー残基である前記<1>に記載のアゾ化合物である。
ただし、前記一般式(2)中、R 、R 、R 及びR は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表す。ただし、R とR は互いに結合して置換又は無置換のアルキレンによる環、置換又は無置換の不飽和脂肪族環、又は置換又は無置換の芳香族環を形成してもよい。Xは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、又はアミノ基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい。
ただし、前記一般式(24)中、y 2 は、芳香族炭化水素の2価基又は窒素原子を環内に含む複素環の2価基を表す。これらの環は更に置換基により置換されていてもよい。
<5> 前記<1>から<4>のいずれかに記載のアゾ化合物の製造方法であって、下記一般式(9)で表わされるジアゾニウム塩化合物と、下記一般式(10)で表わされるカップラー化合物とを反応させることを特徴とするアゾ化合物の製造方法である。
ただし、前記一般式(9)中、r 及びr は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はニトロ基を表す。Z は、アニオン基を表す、
HCp 一般式(10)
ただし、前記一般式(10)中、Cpは、カップラー残基を表す。
<6> 前記<1>から<4>のいずれかに記載のアゾ化合物からなることを特徴とする感光層用材料である。
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、従来に比べて製造が容易であり、特に、電荷発生物質として用いることにより、高感度の電子写真感光体を製造することができる新規アゾ化合物を提供できる。
(アゾ化合物及びその製造方法)
本発明のアゾ化合物は、下記一般式(1)で表されるものである。
ただし、前記一般式(1)中、r及びrは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はニトロ基を表す。2つのCpはカップラー残基を表し、該2つのCpの少なくとも1つは下記一般式(2)、下記一般式(3)及び下記一般式(4)のいずれかで表されるカップラー残基である。
ただし、前記一般式(2)、一般式(3)、及び一般式(4)中、R、R、R及びRは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表す。ただし、RとRは互いに結合して置換又は無置換のアルキレンによる環、置換又は無置換の不飽和脂肪族環、又は置換又は無置換の芳香族環を形成してもよい。Xは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、又はアミノ基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい。Yは、置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、置換又は無置換のアラルキレン基、置換又は無置換の芳香族性を有する2価の有機残基、置換又は無置換の複素芳香族性を有する2価の有機残基、又はCO−Z−で示される2価のカルボニル基含有有機残基(ただし、Zは、アルキレン基、シクロアルキレン基、芳香族性を有する2価の有機残基、複素芳香族性を有する2価の有機残基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい)を表す。
本発明のアゾ化合物の製造方法は、下記一般式(9)で表わされるジアゾニウム塩化合物と、下記一般式(10)で表わされるカップラー化合物とを反応させる。
ただし、前記一般式(9)中、r、rは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はニトロ基を表わし、Zはアニオン基を表す、
HCp 一般式(10)
ただし、前記一般式(10)中、Cpはカップラー残基を表す。
以下、本発明のアゾ化合物の製造方法の説明を通じて、本発明のアゾ化合物の詳細も明らかにする。
本発明のアゾ化合物、及び該アゾ化合物の製造原料は、以下の方法により製造することができる。
即ち、下記一般式(11)で表わされるスチレン化合物と、下記一般式(12)で表わされるアセチレンジカルボン酸エステル化合物を、次のような反応(Diels−Alder反応)をさせることで下記一般式(13)で表されるナフタレン化合物を得る。
ただし、前記反応は酸化反応を伴うDiels−Alder反応であり、Liebigs Ann.Chem.,595,1(1955)には、ハイドロキノン類とヨウ素による反応が、Ber.,69,1686(1936)には、ニトロベンゼン溶媒中で、無水マレイン酸による反応が記載されている。本発明においては、ニトロベンゼン溶媒中、アセチレンジカルボン酸エステルによる反応を、反応温度を100℃〜160℃、更に好適には130℃〜150℃に制御することにより、1段階の反応で、高収率で上記一般式(13)で表されるナフタレン化合物を得ることができる。
次に、上記で得られた一般式(13)のナフタレン化合物の保護基であるRを次のように除去することで下記一般式(14)で表されるナフタレン化合物が得られる(脱保護基)。
ただし、前記一般式(14)中、Rは、OH基の保護基であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチル基、iso−プロピル基、t−ブチル基、ベンジル基、アリル基、メトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、トリメチルシリル基等が挙げられ、これらの中でも、更に好適には、酸触媒下、室温で除去可能なiso−プロピル基、t−ブチル基、メトキシメチル基である。前記酸触媒としては、例えば、硫酸、トリフルオロ酢酸、臭化水素酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、などを挙げることができる。
次に、前記合成で得られた一般式(14)のナフタレン化合物と、下記一般式(15)のアミン化合物を、次に示されるようなエステル/アミド交換反応させることにより、下記一般式(16)で表されるカップラー化合物を得ることができる。
一般に、エステル/アミド交換反応は塩基性触媒下で行われるが、J.Am.Chem.Soc.,71,1245(1945)には、エステル/アミド交換反応にグリコール系、水、或いはグリセロール系溶剤の添加が有効であることが記載されている。本発明においては、前記一般式(14)のナフタレン化合物と前記一般式(15)のアミン化合物を、エステル/イミド交換反応(環化反応を含む)で、グリコール系、或いはグリセロール系溶媒より選ばれた少なくとも1種含有する系中で、反応温度を100℃〜170℃、好適には110℃〜150℃に温度制御することにより、高収率で、前記一般式(16)のカップラー化合物が得られる。
また、下記一般式(18)又は下記一般式(19)のカップラー化合物は、次式で示されるように、前記合成で得られた前記一般式(14)のナフタレン化合物と下記一般式(17)のジアミン化合物より製造される。
この場合、前記一般式(16)のカップラー化合物の製造と同様のエステル/イミド交換反応(2回の環化反応を含む)を使用できる。ただし、反応温度は130℃〜180℃、好適には140℃〜170℃である。
また、一般式(16)、一般式(18)、一般式(19)で示されるカップラー化合物は以下に示す方法によっても製造可能である。
即ち、式(13)のナフタレン化合物を酸触媒存在下で反応させることにより、一般式(20)で示されるナフタレン化合物を得ることができる。この場合、Rは保護基であれば特に制約はないが、メチル基、iso−プロピル基などが一般に使用でき、好適にはメチル基が使用できる。前記酸触媒としては、例えば、臭化水素酸、三臭化ホウ素などを挙げることができる。
次に、前記合成で得られた前記一般式(20)のナフタレン化合物と前記一般式(15)のアミン化合物を酸触媒下で反応させることより前記一般式(16)のカップラー化合物を得ることができる。前記酸触媒としては、例えば、酢酸、硫酸等が使用でき、必要に応じて反応により生成する水を反応系外に出すことにより更に効率よく反応することができる。
また、前記一般式(18)或いは前記一般式(19)のカップラー化合物は、前記合成で得られた一般式(20)のナフタレン化合物と前記一般式(17)のジアミン化合物を酸触媒下で反応させることより得ることができる。前記酸触媒としては、例えば、酢酸、硫酸等が使用でき、必要に応じて反応により生成する水を反応系外に出すことにより更に効率よく反応することができる。
前記一般式(1)で表わされるアゾ化合物は、以下の反応式により合成することができる。まず、相当する2,7−ジアミノジベンゾ[a,c]フェナジン化合物を出発原料とし、これをジアゾ化して一般式(9)で表わされるジアゾニウム塩として単離したのち、これを適当な有機溶媒(N,N−ジメチルホルムアミドなど)中で、前記の各顔料に対応する一般式(10)で表わされるカップラー化合物とアルカリの存在下でカップリング反応させることにより製造することができる。
本発明の一般式(1)のアゾ化合物中、2種以上のカップラー化合物(10)の使用が可能で、この場合、前記一般式(9)で表わされるジアゾニウム化合物に、前記一般式(16)、一般式(18)又は一般式(19)のカップラー化合物と、後述の一般式(Cp1)〜一般式(Cp15)で例示されるカップラー化合物とを2段階に順に反応させるか、或いは最初のカップリング反応によって得られるジアゾニウム塩化合物を単離した後、更に、それぞれに対応するカップラー化合物を反応することによって得ることができる。
前記一般式(1)中、r、rはそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はニトロ基を表す。この場合、アルキル基は、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜8のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。r、rのアルコキシ基は、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜8のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が挙げられるがこれらに限るものではない。r、rのハロゲン原子は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。また、Zは、Cl、Br、I、BF、PF、B(C 、ClO 、SO 2−、AsF 、下記式で表される基、SbF などのアニオン官能基を示し、これらの中でも、BF が特に好ましい。
また、前記一般式(2)、一般式(3)、一般式(4)、一般式(11)、一般式(13)、一般式(14)、一般式(16)、一般式(18)、一般式(19)、及び一般式(20)中、R、R、R及びRはそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表し、ただし、RとRは互いに結合して置換又は無置換のアルキレンによる環、置換又は無置換の不飽和脂肪族環、又は置換又は無置換の芳香族環を形成しても良い。この場合、アルキル基は、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜8のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。また、アルコキシ基は、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜8のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が挙げられるがこれらに限るものではない。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。RとRが互いに結合して環を形成する場合、RとRが互いに結合してできる原子団はとしては、置換又は無置換のプロピレン基、置換又は無置換のブチレン基、置換又は無置換のペンチレン基などの置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のプロペニレン基、置換又は無置換のブテニレン基、置換又は無置換のペンテニレン基などの置換又は無置換のアルケニレン基、或いは置換又は無置換のベンゼン環、置換又は無置換のナフタレン環などの芳香環を形成しても良い。この場合、置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子等が挙げられる。
また、前記一般式(12)、一般式(13)、一般式(14)中、Rはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜8アルキル基、ベンジル基等のアルアルキル基、2−メトキシエチル基等の置換アルキル基が挙げられる。
また、前記一般式(11)、一般式(13)中、R6はOH基の保護基であれば特に制約はないが、好適にはメチル基、iso−プロピル基、t−ブチル基、ベンジル基、アリル基、メトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、トリメチルシリル基等が挙げられ、更に好適には、iso−プロピル基、t−ブチル基が挙げられるがこれらに限るものではない。
また、前記一般式(2)、一般式(15)、一般式(16)中、Xは水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換又は無置換の環状不飽和脂肪族基、置換又は無置換の芳香族基、置換又は無置換の複素環基、又は置換又は無置換のアミノ基を表す。この場合、前記アルキル基は、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜12のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基などのアルキル基が挙げられるがこれらに限るものではない。前記シクロアルキル基は、好ましくは炭素数5〜8のシクロアルキル基であり、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられるがこれらに限るものではない。前記環状不飽和脂肪族基は、例えば、インダニル基、テトラリニル基が挙げられるがこれらに限るものではない。前記芳香族基は、好ましくは炭素数6〜30芳香族炭化水素基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。前記複素環基は、環を形成する原子に窒素、酸素、イオウなどの複素原子を少なくとも1つ含むもので、例えば、ピリジル基、ピラジノ基、キノリノ基、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、インドリル基などが挙げられる。前記アミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基などのアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基などの芳香族アミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのカルボアミノ基が挙げられるがこれらに限るものではない。
これらのアルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基;ベンジル基、フェネチル基、メトキシメチル基などの置換アルキル基;メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基などのアルコキシ基;置換基を有しても良いフェニル基;置換基を有しても良い、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基などの芳香族基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子;ヒドロキシ基;置換基を有しても良いアミノ基;置換基を有しても良い、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのカルボアミノ基;ニトロ基;シアノ基;アセチル基;置換基を有してもよいベンゾイル基;置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基;置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基;置換基を有しても良いカルバモイル基などが挙げられる。
前記一般式(2)で示されるカップラー残基の中でも、Xが置換又は無置換のアルキル基であるカップラー残基が好ましく、これらの中でも、前記一般式(5)で表されるカップラー残基が特に好ましい。
また、前記一般式(5)中、Aは、置換又は無置換の芳香族基、又は置換又は無置換の複素環基を表す。この場合、芳香族基は、好ましくは炭素数6〜30芳香族炭化水素基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。複素環基は、環を形成する原子に窒素、酸素、イオウなどの複素原子を少なくとも1つ含むもので、例えば、ピリジル基、ピラジノ基、キノリノ基、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、インドリル基などが挙げられる。アミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基などのアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基などの芳香族アミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのカルボアミノ基が挙げられるがこれらに限るものではない。それらの置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、ベンジル基、フェネチル基、メトキシメチル基などの置換アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基などのアルコキシ基、置換基を有しても良いフェニル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有しても良いカルバモイル基などが挙げられる。
また、前記一般式(3)、一般式(4)、一般式(6)、一般式(7)、一般式(18)、一般式(19)中、Yは、置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、置換又は無置換のアラルキレン基、置換又は無置換の芳香族性を有する2価の有機残基、置換又は無置換の複素芳香族性を有する2価の有機残基、又はCO−Z−で示される2価のカルボニル基含有有機残基(ただし、Zは置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、置換又は無置換の芳香族性を有する2価の有機残基、又は置換又は無置換の複素芳香族性を有する2価の有機残基を表す。この場合、アルキレン基は、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜12のアルキレン基であり、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、デシレン基などのアルキレン基が挙げられるがこれらに限るものではない。アルキレン基はその炭素−炭素結合で芳香族環が形成されても良い。シクロアルキレン基は、好ましくは炭素数5〜8のシクロアルキレン基であり、例えばシクロペンチレン基、シクロヘキシレン基が挙げられるがこれらに限るものではない。アラルキレン基は、好ましくは炭素数7〜20のアラルキレン基であり、例えばトルイレン基、キシリレン基、エチレンフェニレンエチレン基、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基が挙げられるがこれらに限るものではない。芳香族性を有する2価の有機残基としては、好ましくは炭素数6〜30のアリール基やアリール基の骨格にさらに飽和脂肪族環もしくは不飽和脂肪族環が縮合したものであり、例えばo−フェニレン基、1,8−ナフチレン基、2,3−ナフチレン基、1,2−アンスリレン基、9,10−フェナンスリレン基、等が挙げられがこれらに限るものではない。複素環芳香族性を有する2価の有機残基は、環を形成する原子に窒素、酸素、イオウなどの複素原子を少なくとも1つ含むもので、複素環芳香族基の他、複素環芳香族基の骨格にさらに飽和脂肪族環、不飽和脂肪族環、もしく複素環が縮合したものを含み、例えば、3,4−ピラゾールジイル基、2,3−ピリジンジイル基、5,6−ピリミジンジイル基、6,7−ベンズイミダゾールジイル基、6,7キノリンジイル基等が挙げられがこれらに限るものではない。カルボニル基含有2価の有機残基としては、2−ベンゾイル基、2−ナフチルカルボニル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。
これらのアルキレン基、シクロアルキレン基、アラルキレン基、芳香族性を有する2価の有機残基、複素芳香族性を有する2価の有機残基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、ベンジル基、フェネチル基、メトキシメチル基などの置換アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基などのアルコキシ基、置換基を有しても良いフェニル基、置換基を有しても良いナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基などの芳香族基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ヒドロキシ基、置換基を有しても良いアミノ基、アセチルアミノ基、置換基を有してもよいベンゾイルアミノ基などのカルボアミノ基、ニトロ基、シアノ基、アセチル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有しても良いカルバモイル基などが挙げられる。
前記一般式(3)、及び一般式(4)で示されるカップラー残基の中でも、前記一般式(6)、及び一般式(7)で示されるカップラー残基が好ましく、これらの中でもYが置換または無置換のアルキレン基、置換または無置換のカルボニル基含有2価の有機残基であるカップラー残基が好ましく、これらの中でも特にYが、下記一般式(21)、及び一般式(22)で示されるカップラー残基が好ましい。
前記一般式(21)中のB1、及び前記一般式(22)中のB2は、例えば、o−フェニレン基、2,3−ナフチレン基などの芳香族炭化水素環の2価基、例えば2,3−ピリンイル基、3,4−ピラゾールイル基、2,3−ピリジンイル基、4,5−ピリジンイル基、4,5−イミダゾールイル基などの芳香族複素環の2価基を表し、それらの置換基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基などのアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基などが挙げられる。
以下に本発明の新規カップラー(Cp)の例を示す。
前記一般式(1)のCpにおいて、前記一般式(2)、一般式(3)、及び一般式(4)で示されるカップラー残基以外に共存しても良いカップラー残基の例としては、例えば、フェノール類、ナフトール類などのフェノール性水酸基を有する化合物、アミノ基を有する芳香族アミノ化合物あるいはアミノ基とフェノール性水酸基を有するアミノナフトール類、脂肪族もしくは、芳香族のエノール性ケトン基を有する化合物(活性メチレン基を有する化合物)などが挙げられ、好ましくは、カップラー残基Cpが下記一般式(Cp1)、一般式(Cp2)、一般式(Cp3)、一般式(Cp4)、一般式(Cp5)、一般式(Cp6)、一般式(Cp7)、一般式(Cp8)、一般式(Cp9)、一般式(Cp10)、一般式(Cp11)、一般式(Cp12)又は一般式(Cp13)で表わされるものである。
ただし、前記一般式(Cp1)、一般式(Cp2)、一般式(Cp3)、及び一般式(Cp4)中、X、Y、Z、l及びmは、それぞれ以下のものを表す。
は−OH又はNHSO−R13を表す。
ただし、R11及びR12は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表し、R13は置換もしくは無置換のアルキル基又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。
は水素原子、ハロゲン、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、カルボキシ基、スルホ基、置換もしくは無置換のスルファモイル基又は下記式で表される機を表す。
ただし、R14は水素原子、アルキル基又はその置換体、フェニル基又はその置換体を表わし、Yは炭化水素環基又はその置換体、複素環基又はその置換体、あるいは、下記式で表される基を表す。
ただし、R15は炭化水素環基又はその置換体、複素環基又はその置換体、あるいはスチリル基又はその置換体、R16は水素原子、アルキル基、フェニル基又はその置換体を表すか、あるいはR15及びR16はそれらに結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。
は炭化水素環又はその置換体あるいは複素環又はその置換体を表す。
lは1又は2の整数である。
mは、1又は2の整数である。
ただし、式(Cp5)中、R17は置換もしくは、無置換の炭化水素基を表わし、Xは前記に同じである。
ただし、式(Cp6)中、Yは芳香族炭化水素の2価基又は窒素原子を環内に含む複素環の2価基を表す。これらの環は、置換又は無置換でもよい。Xは前記に同じである。
ただし、式(Cp7)中、R18はアルキル基、カルバモイル基、カルボキシ基又はそのエステルを表わし、Arは炭化水素環基又はその置換体を表わし、Xは前記と同じである。
ただし、上記一般式(Cp8)及び一般式(Cp9)中、R19は水素原子又は置換もしくは無置換の炭化水素基を表わし、Arは炭化水素環基又はその置換体を表す。
前記一般式(Cp1)、一般式(Cp2)、一般式(Cp3)又は一般式(Cp4)のZ1の炭化水素環としてはベンゼン環、ナフタレン環などが例示できる。また、置換基を有してもよい複素環としてはインドール環、カルバゾール環、ベンゾラン環、ジベンゾフラン環などが例示できる。Zの環における置換基としては塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子が例示できる。
又はR15における炭化水素環基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ピレニル基などが、また、複素環基としてはピリジル基、チェニル基、フリル基、インドリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基、ジベンゾフラニル基などが例示でき、さらに、R15及びR16が結合して形成する環としては、フルオレン環などが例示できる。
又はR15の炭化水素環基又は複素環基あるいはR及びR16によって形成される環における置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのジアルキルアミノ基、トリフルオロメチル基などのハロメチル基、ニトロ基、シアノ基位、カルボキシル基又はそのエステル、水酸基、−SONaなどのスルホン酸塩基などが挙げられる。
14のフェニル基の置換体としては、塩素原子又は臭素原子などのハロゲン原子が例示できる。
17又はR19における炭化水素基の代表例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基又はこれらの置換体が例示できる。
又はRの炭化水素基における置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、水酸基、ニトロ基などが例示できる。
Ar又はArにおける炭化水素環基としては、フェニル基、ナフチル基などがその代表例であり、また、これらの基における置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、ニトロ基、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、シアノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのジアルキルアミノ基などが例示できる。
また、X1の中では特に水酸基が適当である。
上記カップラー残基の中でも好ましいのは上記一般式(Cp2)、一般式(Cp5)、一般式(Cp6)、一般式(Cp7)、一般式(Cp8)及び一般式(Cp9)で示されるものであり、この中でも一般式におけるXが水酸基のものが好ましい。また、一般式(Cp2)で示されるカップラー残基の中でも、特に一般式(Cp10)で示されるカップラー残基が好ましい。
ただし、Y及びZは前記に同じである。
さらに好ましくは一般式で表わされるカップラー残基である。
ただし、Z、Y及びR12は前記と同じである。
さらにまた、上記の好ましいカップラー残基の中でも一般式(Cp12)又は一般式(Cp13)で表わされるものが適当である。
ただし、Z、R14、R15及びR16は前記と同じである。また、R20としては上記のYの置換基が例示できる。
また、前記一般式(Cp6)で示されるカップラー残基の中でも、特に下記一般式(Cp14)あるいは下記一般式(Cp15)で示されるカップラー残基が好ましい。
ただし、前記一般式(Cp14)及び(Cp15)中、Wは、芳香族炭化水素の2価基又は窒素原子を環内に含む複素環の2価基を表す。これらの環は、置換又は無置換でもよい。
以下に、カップラー残基(Cp)の例を示す。
以下に本発明のアゾ化合物の具体例を以下の表に示すが、簡略化のため、下記表47に示す中心骨格と、表48ないし表55に示すAr、Ar、及び2つのカップラー化合物(Cp)を示し、それらの各々の番号の組合せでアゾ化合物を示す。なお、これらの具体例に本発明のアゾ化合物が限定されるものではない。
次に、本発明を実施例により具体的に説明するが、これにより本発明の態様が限定されるものではない。
(合成例1)
<2−(t−ブトキシ)7,8−ナフタル酸ジメチルエステル(一般式(13)におけるR=R=R=R=H,R=CH,R=t−Cの化合物)の製造>
p−t−ブトキシスチレン35.25g(0.2mol)、アセチレンジカルボン酸ジメチルエステル56.84g(0.4mol)をニトロベンゼン200mlに溶解し、140℃で5時間、反応、放冷する。更に、減圧下、ニトロベンゼンを留去後、残渣に対し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒として、n−ヘキサン:酢酸エチル=9:1)処理を施し、40.78gの粗製の目的物が得られた。
次いで、ジイソプロピルエーテルより再結晶して、36.63g(収率57.9%)の目的のナフタレン化合物を得た。融点は、82.0〜83.0℃であった。元素分析値を下表に示す。
(合成例2)
<2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸ジメチルエステル(一般式(14)におけるR=R=R=R=H,R=CHの化合物)の製造>
合成例1で得られた、2−(t―ブトキシ)7,8−ナフタル酸ジメチルエステル31.63g(0.1mol)を120mlの塩化メチレンに溶解し、室温攪拌下、トリフルオロ酢酸57.01g(0.5mol)を10分を要して滴下し、更に、同条件(室温)下で3時間攪拌反応を続ける。反応後、反応物を氷上に注ぎ、水を加え、分相する。塩化メチレン相を、更に2回水洗し、無水硫酸マグネシウムにより脱水する。ろ過により、硫酸マグネシウムを除去し、塩化メチレンを留去した残渣を、トルエンより再結晶して、24.31g(収率93.4%)の目的のナフタレン化合物を得た。融点は、139.0〜139.8℃であった。元素分析値を下表に示す。
(合成例3)
<N−n−ヘキシル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(一般式(16)におけるR=R=R=R=H,X=C13−n〔カップラーNo.C1〕の化合物)の製造>
合成例2で得られた2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸ジメチルエステル10.41g(0.04mol)、及びn−ヘキシルアミン12.14g(0.12mol)をエチレングリコール100ml中、窒素ガス気流下120℃にて4時間、攪拌反応を行った。反応終了、放冷後、反応物を氷上に注ぎ、塩酸酸性した後、析出した結晶をろ取し、500mlのイオン交換水で洗浄後、60℃で減圧下に乾燥して、粗製の目的物9.73gを得た。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒として、トルエン:酢酸エチル=4:1)処理、及びトルエンより再結晶して7.12g(収率59.9%)の黄色のカップラー化合物<カップラーNo.C1>を得た。融点は、165.5〜166.5℃であった。元素分析値を下表に示す。
(合成例4)
<N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(一般式(16)におけるR=R=R=R=H,X=下記式のベンジル〔カップラーNo.C5〕の化合物)の製造>
合成例2で得られた2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸ジメチルエステル10.41g(0.04mol)、及びベンジルアミン8.57g(0.08mol)をエチレングリコール100ml中、窒素ガス気流下140℃で6時間、攪拌反応を行なった。反応終了、放冷後、反応物を氷上に注ぎ、塩酸酸性とした後、析出した結晶をろ取し、500mlのイオン交換水で洗浄後、60℃で減圧下に乾燥して、粗製の目的物10.21gを得た。得られた粗製物をn−ブタノールより再結晶して9.57g(収率78.9%)の橙色のカップラー化合物<カップラーNo.C5>を得た。融点は、255.2〜259.0℃であった。元素分析値を下表に示す。
(合成例5)
<N−(2−フェニルエチル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(一般式(16)におけるR=R=R=R=H,X=下記式のフェニルエチル〔カップラーNo.C14〕の化合物)の製造>
ベンジルアミン8.57g(0.08mol)をフェネチルアミン9.69g(0.08mol)使用する以外は、合成例4と同様に反応して、粗製の目的物10.48gを得た。得られた粗製物をn−ブタノールより再結晶して9.95g(収率78.4%)の黄色のカップラー化合物<カップラーNo.C14>を得た。融点は、233.5〜236.5℃であった。元素分析値を下表に示す。
(合成例6)
<N−(3−フェニルプロピル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(一般式(16)におけるR=R=R=R=H,X=下記式のフェニルプロピル〔カップラーNo.C24〕の化合物)の製造>
ベンジルアミン8.57g(0.08mol)を3−フェニルプロピルアミン10.82g(0.08mol)使用する以外は、合成例4と同様に反応して、粗製の目的物13.25gを得た。得られた粗製物をn−ブタノールより再結晶して11.17g(収率84.3%)の黄色のカップラー化合物<カップラーNo.C24>を得た。融点は、206.9〜212.0℃であった。元素分析値を下表に示す。
(合成例7)
<N−フェニル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(一般式(16)におけるR=R=R=R=H,X=下記式のフェニル〔カップラーNo.C28〕の化合物)の製造>
ベンジルアミン8.57g(0.08mol)をアニリン7.45g(0.08mol)使用する以外は、合成例4と同様に反応して、粗製の目的物12.04gを得た。得られた粗製物をn−ブタノール/トルエン(1/1vol)より再結晶して、8.15g(収率69.7%)の黄色のカップラー化合物<カップラーNo.C28>を得た。融点は、245.5〜248.9℃であった。元素分析値を下表に示す。
(合成例8)
<12−ヒドロキシ−ベンゾ〔6,7〕イソインドール〔2,1−a〕ペリミジン−14−オン、或いは9−ヒドロキシ−ベンゾ〔4,5〕イソインドール〔2,1−a〕ペリミジン−14−オン(一般式(18)或いは一般式(19)におけるR=R=R=R=H,Y=下記式のナフチレン<カップラーNo.E23>の化合物〕の製造>
合成例2で得られた2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸ジメチルエステル10.41g(0.04mol)、及び1,8−ジアミノナフタレン12.66g(0.08mol)をエチレングリコール100ml中、窒素ガス気流下160℃で8時間、攪拌反応を行なった。反応終了、放冷後、反応物を氷上に注ぎ、塩酸酸性とした後、析出した結晶をろ取し、500mlのイオン交換水で洗浄後、60℃で減圧下に乾燥して、粗製の目的物9.96gを得た。得られた粗製物をニトロベンゼンより再結晶して8.80g(収率65.4%)の赤色のカップラー化合物<カップラーNo.E23>を得た。分解点は398℃であった。元素分析値を下表に示す。
(実施例1)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P3)の製造−
N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C5の化合物)0.91g(3mmol)をDMF100mlに溶解し、室温にて、予め2,7−ジアミノジベンゾ[a,c]フェナジンより合成されたジベンゾ[a,c]フェナジン−2,7−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート0.76g(1.5mmol)を加えた。次いで、10質量%酢酸ナトリウム水溶液4.92gを10分を要して滴下し、室温にて6時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてDMF120mlで3回洗浄し、次に、水120mlで2回洗浄した。70℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物(アゾ化合物No.P3)を得た。
得られたアゾ化合物についての、収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(実施例2)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P4)の製造−
N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C5の化合物)0.46g(1.5mmol)をDMF60mlに溶解し、室温にて、予め2,7−ジアミノジベンゾ[a,c]フェナジンより合成されたジベンゾ[a,c]フェナジン−2,7−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート0.76g(1.5mmol)を加え、30分間室温攪拌した。次いで、2−ヒドロキシ−3−フェニルカルバモイルナフタレン(カップラーNo.17の化合物)0.39g(1.5mmol)とDMF40mlからなる溶液を加える。
次いで、10質量%酢酸ナトリウム水溶液4.92gを10分を要して滴下し、室温にて6時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてDMF120mlで3回洗浄し、次に、水120mlで2回洗浄した。70℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物(アゾ化合物No.P4)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(実施例3)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P20)の製造−
実施例1において、N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C5の化合物)0.91g(3mmol)の代わりに、N−(2−フェニルエチル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C14の化合物)0.95g(3mmol)を使用した以外は、実施例1と同様に製造し、アゾ化合物(アゾ化合物No.P20)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(実施例4)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P21)の製造−
実施例1において、N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C5の化合物)0.46g(1.5mmol)の代わりに、N−(2−フェニルエチル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C14の化合物)0.48g(1.5mmol)を使用した以外は、実施例1と同様に製造し、アゾ化合物(アゾ化合物No.P21)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(実施例5)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P27)の製造−
実施例1において、N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C5の化合物)0.91g(3mmol)の代わりに、N−(3−フェニルプロピル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C24の化合物)0.99g(3mmol)を使用した以外は、実施例1と同様に製造し、アゾ化合物(アゾ化合物No.P27)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(実施例6)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P28)の製造−
実施例1において、N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C5の化合物)0.46g(1.5mmol)の代わりに、N−(3−フェニルプロピル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C24の化合物)0.50g(1.5mmol)を使用した以外は、実施例1と同様に製造し、アゾ化合物(アゾ化合物No.P28)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(実施例7)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P169)の製造−
N−(3−フェニルプロピル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C24の化合物)0.50g(1.5mmol)をDMF60mlに溶解し、室温にて、予め2,7−ジアミノ−11−メチルジベンゾ[a,c]フェナジンより合成された11−メチルジベンゾ[a,c]フェナジン−2,7−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート0.78g(1.5mmol)を加え、30分間室温攪拌した。次いで、2−ヒドロキシ−3−フェニルカルバモイル−11H−ベンゾ[a]カルバゾール(カップラーNo.73の化合物)0.57g(1.5mmol)とDMF40mlからなる溶液を加える。次いで、10質量%酢酸ナトリウム水溶液4.92gを10分を要して滴下し、室温にて6時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてDMF120mlで3回洗浄し、次に、水120mlで2回洗浄した。70℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物(アゾ化合物No.P169)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(実施例8)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P207)の製造−
N−(3−フェニルプロピル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C24の化合物)0.99g(3mmol)をDMF100mlに溶解し、室温にて、予め2,7−ジアミノ−11−クロルジベンゾ[a,c]フェナジンより合成された11−クロルジベンゾ[a,c]フェナジン−2,7−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート0.0.81g(1.5mmol)を加えた。次いで、10質量%酢酸ナトリウム水溶液4.92gを10分を要して滴下し、室温にて6時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてDMF120mlで3回洗浄し、次に、水120mlで2回洗浄した。70℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物(アゾ化合物No.P207)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(実施例9)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P209)の製造−
N−(3−フェニルプロピル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C24の化合物)0.50g(1.5mmol)をDMF60mlに溶解し、室温にて、予め2,7−ジアミノ−11−クロルジベンゾ[a,c]フェナジンより合成された11−クロルジベンゾ[a,c]フェナジン−2,7−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート0.81g(1.5mmol)を加え、30分間室温攪拌した。次いで、2−ヒドロキシ−3−フェニルカルバモイル−11H−ベンゾ[a]カルバゾール(カップラーNo.73の化合物)0.57g(1.5mmol)とDMF40mlからなる溶液を加える。次いで、10質量%酢酸ナトリウム水溶液4.92gを10分を要して滴下し、室温にて6時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてDMF120mlで3回洗浄し、次に、水120mlで2回洗浄した。70℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物(アゾ化合物No.P209)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(実施例10)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P289)の製造−
N−(2−フェニルエチル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C14の化合物)0.159g(0.50mmol)をDMSO 20mlに溶解し、室温にて、予め2,7−ジアミノ−11,12−ジメチルジベンゾ[a,c]フェナジンより合成された11,12−ジメチルジベンゾ[a,c]フェナジン−2,7−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート0.268g(0.50mmol)を加え、10分間室温攪拌した。次いで、2(5)−ヒドロキシ−7H−ベンズイミダゾ[2,1−a]ベンズイソキノリノン−7(カップラーNo.195の化合物)0.143g(0.50mmol)とDMSO 20mlからなる溶液を加えた。次いで、10質量%酢酸ナトリウム水溶液1.65gを10分を要して滴下し、室温にて6時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてDMSO 60mlで3回洗浄し、次に、水60mlで2回洗浄した。70℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物(アゾ化合物No.P289)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
更に、本発明を以下の応用例により具体的に説明するが、これにより本発明の実施の形態が安定されるものではない。
(応用例1)
本発明の実施例5(アゾ化合物No.P27)のアゾ化合物7.5質量部、ポリエステル樹脂(バイロン200:東洋紡製)の0.5質量%テトラヒドロフラン溶液500質量部をボールミル中で粉砕、混合し、得られた分散液をアルミニウム蒸着ポリエステルフィルム上にドクターブレードで塗布し、自然乾燥して、厚さ約1μmの電荷発生層を形成した。
次に、下記構造式(D−1)で示される電荷輸送物質1質量部、ポリカーボネート樹脂(パンライトK1300:帝人化成製)1質量部、テトラヒドロフラン8質量部の電荷輸送層塗布液を調整し、前記電荷発生層上にドクターブレードで塗布し、80℃にて2分間、次いで120℃にて5分間乾燥して厚さ20μmの電荷輸送層を形成した。
以上のようにして得られた電子写真感光体について、25℃/55%RHの環境下、静電複写紙試験装置EPA−8200(川口電機製作所製)を用いて、暗所で−6kVのコロナ放電を20秒間行って帯電させた後、更に20秒間暗所に放置し、そのときの表面電位V0(V)を測定し、次いで、タングステンランプによって感光体表面の照度5.3ルックスになるようにして光を照射しその表面電位がV0の1/2になるまでの時間(秒)を求め、露光量E1/2(ルックス・秒)を算出した。その結果はV0=−1382ボルト、E1/2=1.94ルックス・秒であった。
本発明のアゾ化合物の製造原料(カップラー化合物)は、従来のカップラー化合物と比較して製造が容易であり、この製造原料(カップラー化合物)を用いたアゾ化合物も容易に製造することができる。また、本発明のアゾ化合物は、感光層用材料として用いることにより、高感度の電子写真感光体を提供することができる。
図1は、本発明のアゾ化合物(実施例1)の赤外線吸収スペクトルを示す図である。 図2は、本発明のアゾ化合物(実施例2)の赤外線吸収スペクトルを示す別の図である。 図3は、本発明のアゾ化合物(実施例3)の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。 図4は、本発明のアゾ化合物(実施例4)の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。 図5は、本発明のアゾ化合物(実施例5)の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。 図6は、本発明のアゾ化合物(実施例6)の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。 図7は、本発明のアゾ化合物(実施例7)の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。 図8は、本発明のアゾ化合物(実施例8)の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。 図9は、本発明のアゾ化合物(実施例9)の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。 図10は、本発明のアゾ化合物(実施例10)の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。

Claims (5)

  1. 下記一般式(1)で表されることを特徴とするアゾ化合物。
    ただし、前記一般式(1)中、r及びrは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はニトロ基を表す。2つのCpはカップラー残基を表し、該2つのCpの1つは、下記一般式(2)及び下記一般式(5)のいずれかで表されるカップラー残基であり、Cpの他の1つは、下記一般式(2)、下記一般式(5)、下記一般式(8)及び下記一般式(24)のいずれかで表されるカップラー残基である。
    ただし、前記一般式(2)中、R、R、R及びRは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表す。ただし、RとRは互いに結合して無置換のアルキレンによる環、無置換の不飽和脂肪族環、又は無置換の芳香族環を形成してもよい。これらはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子により更に置換されていてもよい。Xは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、又はアミノ基を表す。
    ただし、前記一般式(5)中、A は、無置換の芳香族基、又は無置換の複素環基を表し、これらはアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基により更に置換されていてもよい。mは、1〜6の整数を示す。
    ただし、前記一般式(8)中、Zは、式中のベンゼン環と縮合して無置換の炭化水素環を形成する2価の有機残基、又は式中のベンゼン環と縮合して無置換の複素環を形成する2価の有機残基を表す。これらはハロゲン原子により更に置換されていてもよい。R14は、水素原子、無置換のアルキル基、又は無置換のフェニル基を表す。Yは、無置換の炭化水素環基、又は無置換の複素環基を表す。
    ただし、前記一般式(24)中、yは、芳香族炭化水素の2価基又は窒素原子を環内に含む複素環の2価基を表す。
  2. 一般式(1)において、2つのCpの1つは、下記一般式(2)又は下記一般式(5)で表されるカップラー残基であり、Cpの他の1つは、下記一般式(8)で表されるカップラー残基である請求項1に記載のアゾ化合物。
    ただし、前記一般式(2)中、R 、R 、R 及びR は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表す。ただし、R とR は互いに結合して無置換のアルキレンによる環、無置換の不飽和脂肪族環、又は無置換の芳香族環を形成してもよい。これらはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子により更に置換されていてもよい。Xは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、又はアミノ基を表す。
    ただし、前記一般式(5)中、A は、無置換の芳香族基、又は無置換の複素環基を表し、これらはアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基により更に置換されていてもよい。mは、1〜6の整数を示す。
    ただし、前記一般式(8)中、Z は、式中のベンゼン環と縮合して無置換の炭化水素環を形成する2価の有機残基、又は式中のベンゼン環と縮合して無置換の複素環を形成する2価の有機残基を表す。これらはハロゲン原子により更に置換されていてもよい。R 14 は、水素原子、アルキル基、又はフェニル基を表す。Y は、炭化水素環基、又は複素環基を表す。
  3. 一般式(1)において、2つのCpの1つは、下記一般式(2)又は下記一般式(5)で表されるカップラー残基であり、Cpの他の1つは、下記一般式(24)で表されるカップラー残基である請求項1に記載のアゾ化合物。
    ただし、前記一般式(2)中、R 、R 、R 及びR は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表す。ただし、R とR は互いに結合して無置換のアルキレンによる環、無置換の不飽和脂肪族環、又は無置換の芳香族環を形成してもよい。これらはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子により更に置換されていてもよい。Xは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、又はアミノ基を表す。
    ただし、前記一般式(5)中、A は、無置換の芳香族基、又は無置換の複素環基を表し、これらはアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基により更に置換されていてもよい。mは、1〜6の整数を示す。
    ただし、前記一般式(24)中、y は、芳香族炭化水素の2価基又は窒素原子を環内に含む複素環の2価基を表す。
  4. 請求項1から3のいずれかに記載のアゾ化合物の製造方法であって、下記一般式(9)で表わされるジアゾニウム塩化合物と、下記一般式(10)で表わされるカップラー化合物とを反応させることを特徴とするアゾ化合物の製造方法。
    ただし、前記一般式(9)中、r 及びr は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はニトロ基を表す。Z は、アニオン基を表す。
    HCp 一般式(10)
    ただし、前記一般式(10)中、Cpは、カップラー残基を表す。
  5. 請求項1から3のいずれかに記載のアゾ化合物からなることを特徴とする感光層用材料。
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