JP4421261B2 - 膜−電極構造体の製造方法 - Google Patents
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Description
または、前記接着剤として、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチル(3,3,3−トリフルオロプロピル)ポリシロキサン(粘度1.0Pa・s、珪素原子結合ビニル基含有量1.0重量%)100重量部、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルハイドロジェンシロシキ(3,3,3−トリフルオロプロピル)ポリシロキサン(粘度0.01Pa・s、珪素原子結合ビニル基含有量0.5重量%)3.5重量部、フェロセン0.01重量部を撹拌し、脱泡したものに、反応触媒として、ビス(1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン)白金触媒を、白金が分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチル(3,3,3−トリフルオロプロピル)ポリシロキサンに対して重量比で5ppmとなるように添加したものを挙げることができる。
次に、式(3)で示されるオリゴマー28.4重量部、2,5−ジクロロ−4’−(4−フェノキシ)フェノキシベンゾフェノン29.2重量部、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド1.37重量部、ヨウ化ナトリウム1.36重量部、トリフェニルホスフィン7.34重量部、亜鉛末11.0重量部をフラスコに取り、乾燥窒素置換した。次に、N−メチル−2−ピロリドンを加え、80℃に加熱して撹拌下に4時間重合を行った。重合溶液をテトラヒドロフランで希釈し、塩酸/メタノールで凝固させ回収した。回収物に対してメタノール洗浄を繰り返し、テトラヒドロフランに溶解した。これをメタノールで再沈殿して精製し、濾集したポリマーを真空乾燥して、式(2)で示されるポリアリーレン化合物を得た(収率96%)。
(1)拡散層5が触媒層3の外周縁から外方に延在されている点。
(2)固体高分子電解質膜2と拡散層6とが接着性支持層9の外周縁から外方に延在されている点。
(3)触媒層4と接着性支持層9との間に間隙10が設けられている点。
本比較例では、固体高分子電解質膜2の接着性支持層9が形成される領域に、前記凹凸を全く形成しなかった以外は、実施例1と全く同一にして図1に示す膜−電極構造体1aと、図3に示す膜−電極構造体11とを製造し、実施例1と全く同一にして接着性支持層9の剥離強度(gf/cm)を求めた。結果を表1に示す。
Claims (1)
- 触媒層を備える1対の電極と、両電極の該触媒層により挟持された固体高分子電解質膜とを備え、
該触媒層は、該固体高分子電解質膜の外周縁よりも内周側に位置し、
該固体高分子電解質膜の少なくとも一方の面が、該触媒層と、接着性支持層とにより被覆されており、該接着性支持層は該触媒層の外周側に全周に亘って設けられ該固体高分子電解質膜に接着して支持する膜−電極構造体の製造方法であって、
高分子電解質溶液から固体高分子電解質膜を形成する工程と、
該固体高分子電解質膜の該接着性支持層により被覆される部分に、表面粗さの最大高さRmaxが3〜20μmの範囲にある凹凸を形成する工程と、
シート状支持体上に接着剤を塗布し、乾燥させて該接着性支持層を形成する工程と、
該接着性支持層の内周側に、ペースト状の触媒を塗布し、乾燥させて触媒層を形成する工程と、
該固体高分子電解質膜の該凹凸が形成された部分に、該シート状支持体上に形成された接着性支持層を、加熱下に押圧して接合する工程とを備えることを特徴とする膜−電極構造体の製造方法。
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