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JP4335178B2 - Multilayer electronic components and multilayer ceramic capacitors - Google Patents

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JP4335178B2 JP2005179721A JP2005179721A JP4335178B2 JP 4335178 B2 JP4335178 B2 JP 4335178B2 JP 2005179721 A JP2005179721 A JP 2005179721A JP 2005179721 A JP2005179721 A JP 2005179721A JP 4335178 B2 JP4335178 B2 JP 4335178B2
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Description

本発明は、積層型電子部品及び積層セラミックコンデンサに関する。   The present invention relates to a multilayer electronic component and a multilayer ceramic capacitor.

この種の積層型電子部品として、複数の内部回路要素導体及びセラミック層が積層された積層体を備えるものが知られている(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。特許文献1に記載された積層型電子部品(積層セラミックコンデンサ)は、内部回路要素導体(内部電極)とセラミック層とが交互に積層された内層部と、セラミック層が積層された外層部とを備える。特許文献2に記載された積層型電子部品(積層セラミック電子部品)では、セラミック層が酸化物ガラスを含んでいる。
特開平9−129486号公報 特開平8−191031号公報
As this type of multilayer electronic component, one having a laminate in which a plurality of internal circuit element conductors and ceramic layers are laminated is known (for example, see Patent Document 1 and Patent Document 2). A multilayer electronic component (multilayer ceramic capacitor) described in Patent Document 1 includes an inner layer portion in which internal circuit element conductors (internal electrodes) and ceramic layers are alternately stacked, and an outer layer portion in which ceramic layers are stacked. Prepare. In the multilayer electronic component (multilayer ceramic electronic component) described in Patent Document 2, the ceramic layer includes oxide glass.
JP-A-9-129486 JP-A-8-191031

本発明は、焼成ムラが抑制された積層型電子部品及び積層セラミックコンデンサを提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a multilayer electronic component and a multilayer ceramic capacitor in which firing unevenness is suppressed.

本発明者等は、焼成ムラを抑制し得る積層型電子部品について鋭意検討を行った結果、以下のような事実を新たに見出した。   As a result of intensive studies on multilayer electronic components that can suppress firing unevenness, the present inventors have newly found the following facts.

特許文献1には、内層部と外層部とを備える積層型電子部品が記載されている。本発明者等は、このような積層型電子部品を焼成すると、内層部が外層部よりも低温で焼結し、その結果積層型電子部品に焼成ムラが生じてしまうことを見出した。   Patent Document 1 describes a multilayer electronic component having an inner layer portion and an outer layer portion. The present inventors have found that when such a multilayer electronic component is fired, the inner layer portion is sintered at a lower temperature than the outer layer portion, and as a result, uneven firing occurs in the multilayer electronic component.

上述した焼成ムラは、内層部に合わせた温度で焼成を行っても、あるいは外層部に合わせた温度で焼成を行っても起こる。すなわち、内層部に合わせた温度で焼成を行うと、外層部が十分に焼結されない。一方、外層部に合わせた温度で焼成を行うと、内層部が過度に焼成されてしまう。内層部が過度に焼成されてしまうと、内層部のセラミック層には半導体化の問題が生じ、内部回路要素導体には球状化による被覆率の低下の問題が生じる。   The above-described firing unevenness occurs even when firing is performed at a temperature matched with the inner layer portion or when firing is performed at a temperature matched with the outer layer portion. That is, when firing is performed at a temperature matched to the inner layer portion, the outer layer portion is not sufficiently sintered. On the other hand, if firing is performed at a temperature matched to the outer layer portion, the inner layer portion is excessively fired. If the inner layer portion is excessively fired, the ceramic layer of the inner layer portion has a problem of being made into a semiconductor, and the inner circuit element conductor has a problem of lowering the coverage due to spheroidization.

本発明者等は、内層部が外層部よりも低温で焼結することについて検討したところ、内層部においてセラミック層と交互に積層される内部回路要素導体が、焼成時に内層部のセラミック層に対して焼結助剤として機能してしまうのではないかとの考察を得た。近年、電子機器の小型化に伴い、電子機器内に実装される積層型電子部品の薄層化が求められている。したがって、この考察によると、薄層化により内層部での各セラミック層に与える内部回路要素導体の影響が大きくなり、焼成ムラの問題がより顕著になると考えられる。   The present inventors have examined that the inner layer portion is sintered at a lower temperature than the outer layer portion, and the inner circuit element conductor laminated alternately with the ceramic layer in the inner layer portion is compared with the ceramic layer of the inner layer portion during firing. I thought that it might function as a sintering aid. In recent years, with the miniaturization of electronic devices, it has been required to reduce the thickness of multilayer electronic components mounted in electronic devices. Therefore, according to this consideration, it is considered that the influence of the internal circuit element conductor on each ceramic layer in the inner layer portion increases due to the thinning, and the problem of firing unevenness becomes more remarkable.

また、特許文献2には、酸化物ガラスを含むセラミック層を備える積層型電子部品が記載されているが、内層部及び外層部の焼結温度については検討されていない。   Patent Document 2 describes a multilayer electronic component including a ceramic layer containing oxide glass, but the sintering temperature of the inner layer portion and the outer layer portion is not studied.

このような検討結果を踏まえ、本発明に係る積層型電子部品は、複数の第1のセラミック層と複数の内部回路要素導体とが交互に積層された内層部と、内層部を挟むように複数の第2のセラミック層がそれぞれ積層された一対の外層部と、を備える積層型電子部品であって、第1及び第2のセラミック層が、ガラス成分を含んでおり、第2のセラミック層に含まれるガラス成分の融点が、第1のセラミック層に含まれるガラス成分の融点よりも低いことを特徴とする。   Based on such examination results, the multilayer electronic component according to the present invention includes an inner layer portion in which a plurality of first ceramic layers and a plurality of internal circuit element conductors are alternately stacked, and a plurality of layers so as to sandwich the inner layer portion. And a pair of outer layer parts each laminated with a second ceramic layer, wherein the first and second ceramic layers include a glass component, and the second ceramic layer includes The melting point of the glass component contained is lower than the melting point of the glass component contained in the first ceramic layer.

セラミック層にガラス成分を含ませることにより、セラミック層の焼結温度を低くすることが可能となる。この積層型電子部品では、第2のセラミック層に含まれるガラス成分の融点が、第1のセラミック層に含まれるガラス成分の融点より低いので、第2のセラミック層では第1のセラミック層と比べて焼結温度が低くなる。一方、内部回路要素導体と交互に積層されている第1のセラミック層では、内部回路要素導体の影響を受けることによって、焼結温度が実質的に低下すると考えられる。これにより、内層部及び外層部の双方において焼結温度が低下することとなるため、内層部と外層部との間で焼結温度の差が小さくなる。したがって、内層部の焼結温度に合わせて焼成を行っても、外層部を十分に焼結させることができる。その結果、焼成ムラを抑制することが可能となる。また、内層部と外層部との焼結温度の差が小さくなることによって、内層部と外層部との間の縮率差が小さくなるため、クラックの発生も抑制される。   By including a glass component in the ceramic layer, the sintering temperature of the ceramic layer can be lowered. In this multilayer electronic component, since the melting point of the glass component contained in the second ceramic layer is lower than the melting point of the glass component contained in the first ceramic layer, the second ceramic layer is compared with the first ceramic layer. This lowers the sintering temperature. On the other hand, in the first ceramic layers alternately laminated with the internal circuit element conductors, it is considered that the sintering temperature is substantially lowered due to the influence of the internal circuit element conductors. Thereby, since sintering temperature will fall in both an inner layer part and an outer layer part, the difference of sintering temperature between an inner layer part and an outer layer part becomes small. Therefore, the outer layer portion can be sufficiently sintered even if firing is performed in accordance with the sintering temperature of the inner layer portion. As a result, firing unevenness can be suppressed. Further, since the difference in sintering temperature between the inner layer portion and the outer layer portion is reduced, the difference in shrinkage between the inner layer portion and the outer layer portion is reduced, so that the occurrence of cracks is also suppressed.

また、第1のセラミック層はガラス成分としてBa-Ca-Si-O系ガラスを含んでおり、第2のセラミック層はガラス成分としてBa-Ca-B-Si-O系ガラスを含んでいることが好ましい。Ba-Ca-B-Si-O系ガラスは、Ba-Ca-Si-O系ガラスにBOを添加したものであるため、Ba-Ca-Si-O系ガラスと比べて融点が低い。よって、第2のセラミック層の焼結温度は第1のセラミック層の焼結温度よりも低くなる。第1のセラミック層の焼結温度は内部回路要素導体の影響で実質的に低くなるので、外層部である第2のセラミック層と内層部である第1のセラミック層との間における焼結温度の差は小さくなる。よって、焼成ムラを抑制することが可能となる。 The first ceramic layer contains Ba-Ca-Si-O glass as a glass component, and the second ceramic layer contains Ba-Ca-B-Si-O glass as a glass component. Is preferred. Ba-Ca-B-Si-O glass has a lower melting point than Ba-Ca-Si-O glass because B 2 O 3 is added to Ba-Ca-Si-O glass. . Therefore, the sintering temperature of the second ceramic layer is lower than the sintering temperature of the first ceramic layer. Since the sintering temperature of the first ceramic layer is substantially lowered due to the influence of the internal circuit element conductor, the sintering temperature between the second ceramic layer that is the outer layer portion and the first ceramic layer that is the inner layer portion. The difference between is small. Therefore, it is possible to suppress firing unevenness.

また、第1のセラミック層及び第2のセラミック層は、ガラス成分としてBa-Ca-Si-O系ガラスを共に含んでおり、第2のセラミック層に含まれるBa-Ca-Si-O系ガラスは、第1のセラミック層に含まれるBa-Ca-Si-O系ガラスよりもSiの量が多いことが好ましい。Siの量が多いBa-Ca-Si-O系ガラスは、Siの量が少ないBa-Ca-Si-O系ガラスと比べて融点が低い。よって、第2のセラミック層の焼結温度は第1のセラミック層の焼結温度よりも低くなる。第1のセラミック層の焼結温度は内部回路要素導体の影響で実質的に低くなるので、外層部である第2のセラミック層と内層部である第1のセラミック層との間における焼結温度の差は小さくなる。よって、焼成ムラを抑制することが可能となる。   Further, the first ceramic layer and the second ceramic layer both contain Ba—Ca—Si—O glass as a glass component, and Ba—Ca—Si—O glass contained in the second ceramic layer. The amount of Si is preferably larger than that of the Ba—Ca—Si—O-based glass contained in the first ceramic layer. Ba—Ca—Si—O based glass with a large amount of Si has a lower melting point than Ba—Ca—Si—O based glass with a small amount of Si. Therefore, the sintering temperature of the second ceramic layer is lower than the sintering temperature of the first ceramic layer. Since the sintering temperature of the first ceramic layer is substantially lowered due to the influence of the internal circuit element conductor, the sintering temperature between the second ceramic layer that is the outer layer portion and the first ceramic layer that is the inner layer portion. The difference between is small. Therefore, it is possible to suppress firing unevenness.

また、内層部は、内部回路要素導体と同層に位置すると共に、内部回路要素導体が形成されない領域に当該内部回路要素導体の厚みによる段差を吸収するように形成された第3のセラミック層を有し、第3のセラミック層が、ガラス成分を含んでおり、第3のセラミック層に含まれるガラス成分の融点が、第1のセラミック層に含まれるガラス成分の融点よりも低いことが好ましい。   The inner layer portion is located in the same layer as the internal circuit element conductor, and a third ceramic layer formed so as to absorb a step due to the thickness of the internal circuit element conductor is formed in a region where the internal circuit element conductor is not formed. Preferably, the third ceramic layer contains a glass component, and the melting point of the glass component contained in the third ceramic layer is preferably lower than the melting point of the glass component contained in the first ceramic layer.

内部回路要素導体の厚みによる段差を吸収するように形成された第3のセラミック層を有することによって、この積層型電子部品では、デラミネーションの発生が抑制される。また、第3のセラミック層に含まれるガラス成分の融点は、第1のセラミック層に含まれるガラス成分の融点よりも低いので、第3のセラミック層では第1のセラミック層よりも焼結温度が低くなる。第1のセラミック層では、内部回路要素導体の影響で焼結温度が実質的に低くなっているため、第3のセラミック層と第1のセラミック層との焼結温度の差は小さくなる。よって、内層部内における焼成ムラを抑制することが可能となる。   By having the third ceramic layer formed so as to absorb the step due to the thickness of the internal circuit element conductor, in this multilayer electronic component, the occurrence of delamination is suppressed. Moreover, since the melting point of the glass component contained in the third ceramic layer is lower than the melting point of the glass component contained in the first ceramic layer, the sintering temperature of the third ceramic layer is higher than that of the first ceramic layer. Lower. In the first ceramic layer, since the sintering temperature is substantially lowered due to the influence of the internal circuit element conductor, the difference in the sintering temperature between the third ceramic layer and the first ceramic layer becomes small. Therefore, it is possible to suppress uneven firing in the inner layer portion.

また、第1のセラミック層はガラス成分としてBa-Ca-Si-O系ガラスを含んでおり、第2のセラミック層及び第3のセラミック層はガラス成分としてBa-Ca-B-Si-O系ガラスを含んでいることが好ましい。Ba-Ca-B-Si-O系ガラスは、Ba-Ca-Si-O系ガラスと比べて融点が低い。よって、第2のセラミック層及び第3のセラミック層の焼結温度は、第1のセラミック層の焼結温度よりも低くなる。第1のセラミック層の焼結温度は実質的に低くなっているため、第2のセラミック層及び第3のセラミック層と第1のセラミック層との焼結温度の差は小さくなる。その結果、外層部と内層部との間、及び内層部内における焼成ムラを抑制することが可能となる。   The first ceramic layer contains Ba—Ca—Si—O glass as a glass component, and the second ceramic layer and the third ceramic layer contain Ba—Ca—B—Si—O glass as a glass component. It preferably contains glass. Ba-Ca-B-Si-O glass has a lower melting point than Ba-Ca-Si-O glass. Therefore, the sintering temperature of the second ceramic layer and the third ceramic layer is lower than the sintering temperature of the first ceramic layer. Since the sintering temperature of the first ceramic layer is substantially low, the difference in sintering temperature between the second ceramic layer and the third ceramic layer and the first ceramic layer is small. As a result, it is possible to suppress firing unevenness between the outer layer portion and the inner layer portion and within the inner layer portion.

また、第1のセラミック層、第2のセラミック層、及び第3のセラミック層は、ガラス成分としてBa-Ca-Si-O系ガラスをそれぞれ含んでおり、第2のセラミック層及び第3のセラミック層に含まれるBa-Ca-Si-O系ガラスは、第1のセラミック層に含まれるBa-Ca-Si-O系ガラスよりもSiの量が多いことが好ましい。Siの量が多いBa-Ca-Si-O系ガラスは、Siの量が少ないBa-Ca-Si-O系ガラスと比べて融点が低い。よって、第2のセラミック層及び第3のセラミック層の焼結温度は、第1のセラミック層の焼結温度よりも低くなる。第1のセラミック層の焼結温度は実質的に低くなっているため、第2のセラミック層及び第3のセラミック層と第1のセラミック層との焼結温度の差は小さくなる。その結果、外層部と内層部との間、及び内層部内における焼成ムラを抑制することが可能となる。   The first ceramic layer, the second ceramic layer, and the third ceramic layer each contain Ba—Ca—Si—O-based glass as a glass component, and the second ceramic layer and the third ceramic layer are included. The Ba—Ca—Si—O-based glass contained in the layer preferably has a larger amount of Si than the Ba—Ca—Si—O-based glass contained in the first ceramic layer. Ba—Ca—Si—O based glass with a large amount of Si has a lower melting point than Ba—Ca—Si—O based glass with a small amount of Si. Therefore, the sintering temperature of the second ceramic layer and the third ceramic layer is lower than the sintering temperature of the first ceramic layer. Since the sintering temperature of the first ceramic layer is substantially low, the difference in sintering temperature between the second ceramic layer and the third ceramic layer and the first ceramic layer is small. As a result, it is possible to suppress firing unevenness between the outer layer portion and the inner layer portion and within the inner layer portion.

また、内部回路要素導体の厚みが1.5μm以下であるとともに、第1のセラミック層の厚みが、内部回路要素導体の厚みの1.5倍以下であることが好ましい。この場合、小型化、薄層化の要求を満たすとともに、外層部の過度な焼成を抑制することができる。   The thickness of the internal circuit element conductor is preferably 1.5 μm or less, and the thickness of the first ceramic layer is preferably 1.5 times or less of the thickness of the internal circuit element conductor. In this case, the requirements for downsizing and thinning can be satisfied, and excessive firing of the outer layer portion can be suppressed.

また、本発明に係る積層セラミックコンデンサは、複数の第1のセラミック層と複数の内部電極とが交互に積層された内層部と、内層部を挟むように複数の第2のセラミック層がそれぞれ積層された一対の外層部と、を備える積層セラミックコンデンサであって、第1及び第2のセラミック層が、ガラス成分を含んでおり、第2のセラミック層に含まれるガラス成分の融点が、第1のセラミック層に含まれるガラス成分の融点よりも低いことを特徴とする。   The multilayer ceramic capacitor according to the present invention includes an inner layer portion in which a plurality of first ceramic layers and a plurality of internal electrodes are alternately stacked, and a plurality of second ceramic layers so as to sandwich the inner layer portion. A laminated ceramic capacitor comprising a pair of outer layer portions, wherein the first and second ceramic layers contain a glass component, and the melting point of the glass component contained in the second ceramic layer is the first. It is characterized by being lower than the melting point of the glass component contained in the ceramic layer.

この積層セラミックコンデンサでは、外層部と内層部との間で焼結温度の差を小さくでき、焼成ムラを抑制することが可能となる。   In this multilayer ceramic capacitor, the difference in sintering temperature between the outer layer portion and the inner layer portion can be reduced, and firing unevenness can be suppressed.

本発明によれば、焼成ムラが抑制された積層型電子部品及び積層セラミックコンデンサを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a multilayer electronic component and a multilayer ceramic capacitor in which firing unevenness is suppressed.

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and redundant description is omitted.

まず、図1、図2に基づいて、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサC1の構成を説明する。図1は本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。図2は、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの分解斜視図である。   First, based on FIG. 1, FIG. 2, the structure of the multilayer ceramic capacitor C1 which concerns on this embodiment is demonstrated. FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to this embodiment. FIG. 2 is an exploded perspective view of the multilayer ceramic capacitor according to the present embodiment.

積層セラミックコンデンサC1は、図1に示されるように、内層部10と、この内層部10を挟んで位置する一対の外層部20とを備えている。本実施形態に係る積層セラミックコンデンサC1は、長手方向の長さが1.0mmに設定され、幅が0.5mmに設定され、高さが0.5mmに設定された、いわゆる1005タイプの積層セラミックコンデンサである。積層セラミックコンデンサC1の外表面には、端子電極30が形成されている。   As shown in FIG. 1, the multilayer ceramic capacitor C <b> 1 includes an inner layer portion 10 and a pair of outer layer portions 20 positioned with the inner layer portion 10 interposed therebetween. The multilayer ceramic capacitor C1 according to the present embodiment has a so-called 1005 type multilayer ceramic in which the length in the longitudinal direction is set to 1.0 mm, the width is set to 0.5 mm, and the height is set to 0.5 mm. It is a capacitor. A terminal electrode 30 is formed on the outer surface of the multilayer ceramic capacitor C1.

内層部10は、複数(本実施形態では13層)の第1のセラミック層12と、複数(本実施形態では12層)の内部回路要素導体14と、複数(本実施形態では12層)の第3のセラミック層16とを有している。第1のセラミック層12と内部回路要素導体14とは、交互に積層されている。内部回路要素導体14と同じ層の、内部回路要素導体14が形成されていない領域には、第3のセラミック層16が形成されている。この第3のセラミック層16は、内部回路要素導体14と略同じ厚さを有することで、内部回路要素導体14によって生じる段差を吸収する。第3のセラミック層16は、第1のセラミック層12よりも融点の低いガラス成分を含んでいる。より具体的には、第1のセラミック層12はBa-Ca-Si-O系ガラスを含み、第3のセラミック層16はBa-Ca-B-Si-O系ガラスを含んでいる。第3のセラミック層16に含まれるBa-Ca-B-Si-O系ガラスは、Ba-Ca-Si-O系ガラスにBOを添加したものである。 The inner layer portion 10 includes a plurality of (13 layers in this embodiment) first ceramic layers 12, a plurality (12 layers in this embodiment) of internal circuit element conductors 14, and a plurality (12 layers in this embodiment). And a third ceramic layer 16. The first ceramic layers 12 and the internal circuit element conductors 14 are alternately stacked. A third ceramic layer 16 is formed in a region of the same layer as the internal circuit element conductor 14 where the internal circuit element conductor 14 is not formed. The third ceramic layer 16 has substantially the same thickness as the internal circuit element conductor 14, thereby absorbing the step generated by the internal circuit element conductor 14. The third ceramic layer 16 includes a glass component having a melting point lower than that of the first ceramic layer 12. More specifically, the first ceramic layer 12 includes Ba—Ca—Si—O-based glass, and the third ceramic layer 16 includes Ba—Ca—B—Si—O-based glass. The Ba—Ca—B—Si—O-based glass contained in the third ceramic layer 16 is obtained by adding B 2 O 3 to a Ba—Ca—Si—O-based glass.

内部回路要素導体14は、主成分としてNiを含んでおり、内部電極として機能する。内部回路要素導体14の厚さは、1.5μm以下である。これに対して、第1のセラミック層12の厚みは、内部回路要素導体14の厚さの1.5倍以下となっている。   The internal circuit element conductor 14 contains Ni as a main component and functions as an internal electrode. The thickness of the internal circuit element conductor 14 is 1.5 μm or less. On the other hand, the thickness of the first ceramic layer 12 is 1.5 times or less the thickness of the internal circuit element conductor 14.

外層部20は、第2のセラミック層22が複数(本実施形態では5層)積層されることにより構成されている。第2のセラミック層22は、第1のセラミック層12よりも融点の低いガラス成分を含んでいる。より具体的には、第2のセラミック層22はBa-Ca-B-Si-O系ガラスを含んでいる。第2のセラミック層22に含まれるBa-Ca-B-Si-O系ガラスは、Ba-Ca-Si-O系ガラスにBOを添加したものである。 The outer layer portion 20 is configured by laminating a plurality of (in this embodiment, five) second ceramic layers 22. The second ceramic layer 22 includes a glass component having a melting point lower than that of the first ceramic layer 12. More specifically, the second ceramic layer 22 includes Ba—Ca—B—Si—O-based glass. The Ba—Ca—B—Si—O-based glass contained in the second ceramic layer 22 is obtained by adding B 2 O 3 to a Ba—Ca—Si—O-based glass.

以上のように、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサC1では、第1のセラミック層12、第2のセラミック層22、及び第3のセラミック層16はいずれもガラス成分を含んでいる。したがって、各セラミック層の焼結温度は低くなる。その結果、積層セラミックコンデンサC1を焼成する温度を低くすることが可能となる。   As described above, in the multilayer ceramic capacitor C1 according to this embodiment, the first ceramic layer 12, the second ceramic layer 22, and the third ceramic layer 16 all contain a glass component. Therefore, the sintering temperature of each ceramic layer is lowered. As a result, the temperature for firing the multilayer ceramic capacitor C1 can be lowered.

本実施形態に係る積層セラミックコンデンサC1では、第1のセラミック層12はBa-Ca-Si-O系ガラスを含み、第2のセラミック層22はBa-Ca-B-Si-O系ガラスを含んでいる。Ba-Ca-B-Si-O系ガラスは、Ba-Ca-Si-O系ガラスにBOを添加したものであるため、Ba-Ca-Si-O系ガラスと比べて融点が低い。よって、第2のセラミック層22の焼結温度は、第1のセラミック層12の焼結温度に比べて低くなる。一方、第1のセラミック層12は、内部回路要素導体14と交互に積層されているため、内部回路要素導体14の影響を受ける。内部回路要素導体14の影響により、第1のセラミック層12の焼結温度は実質的に低くなる。したがって、第1のセラミック層12及び第2のセラミック層22では、どちらも焼結温度が低下することとなる。これにより、第1のセラミック層12を含む内層部10と、第2のセラミック層22を含む外層部20とにおける焼結温度の差は小さくなる。内層部10と外層部20とにおける焼結温度の差が小さいため、外層部20に合わせた温度で積層セラミックコンデンサC1を焼成した場合であっても、内層部10が過度に焼成されるといったことがなくなる。その結果、積層セラミックコンデンサC1に焼成ムラが生じにくくなり、外層部20と内層部10とが十分に焼結された、信頼性の高い積層セラミックコンデンサを得ることができる。また、内層部10の過度な焼成により生じていた、第1のセラミック層12の半導体化や、内部回路要素導体14の球状化が抑制される。更に、内層部10の焼結温度と外層部20の焼結温度との差が小さくなることにより、内層部10の縮率と外層部20の縮率との差も小さくなるので、クラックの発生が抑制される。 In the multilayer ceramic capacitor C1 according to the present embodiment, the first ceramic layer 12 includes Ba—Ca—Si—O-based glass, and the second ceramic layer 22 includes Ba—Ca—B—Si—O-based glass. It is out. Ba-Ca-B-Si-O glass has a lower melting point than Ba-Ca-Si-O glass because B 2 O 3 is added to Ba-Ca-Si-O glass. . Therefore, the sintering temperature of the second ceramic layer 22 is lower than the sintering temperature of the first ceramic layer 12. On the other hand, since the first ceramic layers 12 are alternately laminated with the internal circuit element conductors 14, the first ceramic layers 12 are affected by the internal circuit element conductors 14. Due to the influence of the internal circuit element conductor 14, the sintering temperature of the first ceramic layer 12 is substantially lowered. Therefore, in both the first ceramic layer 12 and the second ceramic layer 22, the sintering temperature is lowered. Thereby, the difference in sintering temperature between the inner layer portion 10 including the first ceramic layer 12 and the outer layer portion 20 including the second ceramic layer 22 is reduced. Since the difference in sintering temperature between the inner layer portion 10 and the outer layer portion 20 is small, the inner layer portion 10 is excessively fired even when the multilayer ceramic capacitor C1 is fired at a temperature matched to the outer layer portion 20. Disappears. As a result, it is difficult to cause uneven firing in the multilayer ceramic capacitor C1, and a highly reliable multilayer ceramic capacitor in which the outer layer portion 20 and the inner layer portion 10 are sufficiently sintered can be obtained. In addition, the semiconductor layer of the first ceramic layer 12 and the spheroidization of the internal circuit element conductors 14 caused by excessive firing of the inner layer portion 10 are suppressed. Furthermore, since the difference between the sintering temperature of the inner layer portion 10 and the sintering temperature of the outer layer portion 20 is reduced, the difference between the shrinkage ratio of the inner layer portion 10 and the shrinkage rate of the outer layer portion 20 is also reduced. Is suppressed.

本実施形態に係る積層セラミックコンデンサC1では、内部回路要素導体14が形成されない領域に、第3のセラミック層16が形成されている。第3のセラミック層16は内部回路要素導体14と略同じ厚さを有しているので、内部回路要素導体14と第3のセラミック層16とによって平坦な平面が構成されることとなる。その結果、内層部10と外層部20との間や内層部10内におけるデラミネーションの発生を抑制することができる。また、第3のセラミック層16はBa-Ca-B-Si-O系ガラスを含んでいる。このため、第3のセラミック層16では、Ba-Ca-Si-O系ガラスを含む第1のセラミック層12よりも焼結温度が低くなる。その結果、内層部10内での焼成ムラを抑制することが可能となる。   In the multilayer ceramic capacitor C1 according to this embodiment, the third ceramic layer 16 is formed in a region where the internal circuit element conductor 14 is not formed. Since the third ceramic layer 16 has substantially the same thickness as the internal circuit element conductor 14, the internal circuit element conductor 14 and the third ceramic layer 16 constitute a flat plane. As a result, it is possible to suppress the occurrence of delamination between the inner layer portion 10 and the outer layer portion 20 or in the inner layer portion 10. The third ceramic layer 16 includes Ba—Ca—B—Si—O-based glass. For this reason, in the 3rd ceramic layer 16, sintering temperature becomes lower than the 1st ceramic layer 12 containing Ba-Ca-Si-O type glass. As a result, uneven firing within the inner layer portion 10 can be suppressed.

本実施形態に係る積層セラミックコンデンサC1では、内部回路要素導体14の厚さは1.5μm以下である。そのため、積層セラミックコンデンサC1の薄層化が可能であり、小型化、さらには多層化も可能となる。また、第1のセラミック層12の厚さは内部回路要素導体14の厚さの1.5倍以下である。ここで、例えば、第1のセラミック層12の厚さを内部回路要素導体14の厚さの1.5倍よりも大きくした場合を考える。この場合、第1のセラミック層12と内部回路要素導体14との間の距離が大きくなるため、第1のセラミック層12に対する内部回路要素導体14の影響は小さくなる。その結果、第1のセラミック層12の焼結温度の実質的な低下が起こらず、第2のセラミック層22の焼結温度のみ低下することとなる。第2のセラミック層22の焼結温度のみが低下すると、積層セラミックコンデンサC1を焼成した際、外層部20のみが焼けすぎてしまうおそれがある。本実施形態に係る積層セラミックコンデンサC1では、第1のセラミック層12の厚さを内部回路要素導体14の厚さの1.5倍以下とすることによって、外層部20の焼けすぎを抑制している。   In the multilayer ceramic capacitor C1 according to this embodiment, the thickness of the internal circuit element conductor 14 is 1.5 μm or less. Therefore, the multilayer ceramic capacitor C1 can be thinned, and can be downsized and further multilayered. Further, the thickness of the first ceramic layer 12 is not more than 1.5 times the thickness of the internal circuit element conductor 14. Here, for example, consider a case where the thickness of the first ceramic layer 12 is greater than 1.5 times the thickness of the internal circuit element conductor 14. In this case, since the distance between the first ceramic layer 12 and the internal circuit element conductor 14 is increased, the influence of the internal circuit element conductor 14 on the first ceramic layer 12 is reduced. As a result, the sintering temperature of the first ceramic layer 12 does not substantially decrease, and only the sintering temperature of the second ceramic layer 22 decreases. If only the sintering temperature of the second ceramic layer 22 is lowered, only the outer layer portion 20 may be burned too much when the multilayer ceramic capacitor C1 is fired. In the multilayer ceramic capacitor C1 according to the present embodiment, the thickness of the first ceramic layer 12 is 1.5 times or less the thickness of the internal circuit element conductor 14, thereby suppressing overburning of the outer layer portion 20. Yes.

以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、本発明を積層セラミックコンデンサに適用した例を示しているが、これに限らず、例えばインダクタ、バリスタ、サーミスタ等の積層型電子部品にも適用可能である。   The preferred embodiment of the present invention has been described in detail above, but the present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above-described embodiment, an example in which the present invention is applied to a multilayer ceramic capacitor is shown. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to multilayer electronic components such as inductors, varistors, and thermistors.

また、上述した積層セラミックコンデンサC1では、第1のセラミック層12はガラス成分としてBa-Ca-Si-O系ガラスを含み、第2のセラミック層22及び第3のセラミック層16はガラス成分としてBa-Ca-B-Si-O系ガラスを含むとした。これを、第1のセラミック層12、第2のセラミック層22、及び第3のセラミック層16は、ガラス成分としてBa-Ca-Si-O系ガラスをそれぞれ含むとしてもよい。この場合、第2のセラミック層22及び第3のセラミック層16に含まれるBa-Ca-Si-O系ガラスは、第1のセラミック層12に含まれるBa-Ca-Si-O系ガラスよりもSiの量が多いものとする。Siの量が多いBa-Ca-Si-O系ガラスは、Siの量が少ないBa-Ca-Si-O系ガラスと比べて融点が低い。よって、第2のセラミック層及び第3のセラミック層16の焼結温度は第1のセラミック層の焼結温度よりも低くなる。その結果、第1のセラミック層12だけが過度に焼成されるといったことがなくなり、積層セラミックコンデンサC1に焼成ムラが生じにくくなる。   In the multilayer ceramic capacitor C1 described above, the first ceramic layer 12 includes Ba—Ca—Si—O-based glass as a glass component, and the second ceramic layer 22 and the third ceramic layer 16 include Ba as a glass component. -Ca-B-Si-O glass is included. As for this, the 1st ceramic layer 12, the 2nd ceramic layer 22, and the 3rd ceramic layer 16 may each contain Ba-Ca-Si-O system glass as a glass ingredient. In this case, the Ba—Ca—Si—O based glass contained in the second ceramic layer 22 and the third ceramic layer 16 is more than the Ba—Ca—Si—O based glass contained in the first ceramic layer 12. It is assumed that the amount of Si is large. Ba—Ca—Si—O based glass with a large amount of Si has a lower melting point than Ba—Ca—Si—O based glass with a small amount of Si. Therefore, the sintering temperature of the second ceramic layer and the third ceramic layer 16 is lower than the sintering temperature of the first ceramic layer. As a result, only the first ceramic layer 12 is not fired excessively, and firing unevenness is less likely to occur in the multilayer ceramic capacitor C1.

また、上述した積層セラミックコンデンサC1では、内部回路要素導体14の主成分をNiとしたが、例えばCuとしてもよい。内部回路要素導体14の厚みを1.5μm以下としたが、1.5μmを超えていてもよい。第1のセラミック層12の厚さを内部回路要素導体14の厚さの1.5倍以下としたが、1.5倍を超えていてもよい。   In the above-described multilayer ceramic capacitor C1, the main component of the internal circuit element conductor 14 is Ni, but it may be Cu, for example. Although the thickness of the internal circuit element conductor 14 is 1.5 μm or less, it may exceed 1.5 μm. Although the thickness of the first ceramic layer 12 is 1.5 times or less the thickness of the internal circuit element conductor 14, it may be more than 1.5 times.

実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment. 実施形態に係る積層セラミックコンデンサの分解斜視図である。1 is an exploded perspective view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

C1…積層セラミックコンデンサ、10…内層部、12…第1のセラミック層、14…内部回路要素導体、16…第3のセラミック層、20…外層部、22…第2のセラミック層、30…端子電極。   C1 ... multilayer ceramic capacitor, 10 ... inner layer part, 12 ... first ceramic layer, 14 ... internal circuit element conductor, 16 ... third ceramic layer, 20 ... outer layer part, 22 ... second ceramic layer, 30 ... terminal electrode.

Claims (7)

複数の第1のセラミック層と複数の内部回路要素導体とが交互に積層された内層部と、
前記内層部を挟むように複数の第2のセラミック層がそれぞれ積層された一対の外層部と、を備える積層型電子部品であって、
前記第1及び第2のセラミック層が、ガラス成分を含んでおり、
前記第2のセラミック層に含まれるガラス成分の融点が、前記第1のセラミック層に含まれるガラス成分の融点よりも低く、
前記内部回路要素導体の厚みが1.5μm以下であるとともに、
前記第1のセラミック層の厚みが、前記内部回路要素導体の厚みの1.5倍以下であることを特徴とする積層型電子部品。
An inner layer portion in which a plurality of first ceramic layers and a plurality of internal circuit element conductors are alternately stacked;
A multilayer electronic component comprising a pair of outer layer parts each having a plurality of second ceramic layers laminated so as to sandwich the inner layer part,
The first and second ceramic layers include a glass component;
The second melting point of the glass component contained in the ceramic layer, rather lower than the melting point of the glass component contained in the first ceramic layer,
While the thickness of the internal circuit element conductor is 1.5 μm or less,
The multilayer electronic component according to claim 1, wherein a thickness of the first ceramic layer is 1.5 times or less of a thickness of the internal circuit element conductor .
前記第1のセラミック層は前記ガラス成分としてBa-Ca-Si-O系ガラスを含んでおり、
前記第2のセラミック層は前記ガラス成分としてBa-Ca-B-Si-O系ガラスを含んでいることを特徴とする請求項1に記載の積層型電子部品。
The first ceramic layer contains Ba-Ca-Si-O-based glass as the glass component,
2. The multilayer electronic component according to claim 1, wherein the second ceramic layer includes Ba—Ca—B—Si—O-based glass as the glass component.
前記第1のセラミック層及び前記第2のセラミック層は、前記ガラス成分としてBa-Ca-Si-O系ガラスをそれぞれ含んでおり、
前記第2のセラミック層に含まれるBa-Ca-Si-O系ガラスは、前記第1のセラミック層に含まれるBa-Ca-Si-O系ガラスよりもSiの量が多いことを特徴とする請求項1に記載の積層型電子部品。
The first ceramic layer and the second ceramic layer each contain Ba—Ca—Si—O-based glass as the glass component,
The Ba—Ca—Si—O-based glass contained in the second ceramic layer has a larger amount of Si than the Ba—Ca—Si—O-based glass contained in the first ceramic layer. The multilayer electronic component according to claim 1.
前記内層部は、前記内部回路要素導体と同層に位置すると共に、前記内部回路要素導体が形成されない領域に当該内部回路要素導体の厚みによる段差を吸収するように形成された第3のセラミック層を有し、
前記第3のセラミック層が、ガラス成分を含んでおり、
前記第3のセラミック層に含まれるガラス成分の融点が、前記第1のセラミック層に含まれるガラス成分の融点よりも低いことを特徴とする請求項1に記載の積層型電子部品。
The inner layer portion is located in the same layer as the internal circuit element conductor, and a third ceramic layer formed so as to absorb a step due to the thickness of the internal circuit element conductor in a region where the internal circuit element conductor is not formed. Have
The third ceramic layer includes a glass component;
The multilayer electronic component according to claim 1, wherein the melting point of the glass component contained in the third ceramic layer is lower than the melting point of the glass component contained in the first ceramic layer.
前記第1のセラミック層は前記ガラス成分としてBa-Ca-Si-O系ガラスを含んでおり、
前記第2のセラミック層及び前記第3のセラミック層は前記ガラス成分としてBa-Ca-B-Si-O系ガラスを含んでいることを特徴とする請求項4に記載の積層型電子部品。
The first ceramic layer contains Ba-Ca-Si-O-based glass as the glass component,
5. The multilayer electronic component according to claim 4, wherein the second ceramic layer and the third ceramic layer contain Ba—Ca—B—Si—O-based glass as the glass component.
前記第1のセラミック層、前記第2のセラミック層、及び前記第3のセラミック層は、前記ガラス成分としてBa-Ca-Si-O系ガラスをそれぞれ含んでおり、
前記第2のセラミック層及び前記第3のセラミック層に含まれるBa-Ca-Si-O系ガラスは、前記第1のセラミック層に含まれるBa-Ca-Si-O系ガラスよりもSiの量が多いことを特徴とする請求項4に記載の積層型電子部品。
The first ceramic layer, the second ceramic layer, and the third ceramic layer each contain Ba—Ca—Si—O-based glass as the glass component,
The Ba—Ca—Si—O-based glass contained in the second ceramic layer and the third ceramic layer is more Si than the Ba—Ca—Si—O-based glass contained in the first ceramic layer. The multilayer electronic component according to claim 4, wherein the multilayer electronic component is a large amount.
複数の第1のセラミック層と複数の内部電極とが交互に積層された内層部と、
前記内層部を挟むように複数の第2のセラミック層がそれぞれ積層された一対の外層部と、を備える積層セラミックコンデンサであって、
前記第1及び第2のセラミック層が、ガラス成分を含んでおり、
前記第2のセラミック層に含まれるガラス成分の融点が、前記第1のセラミック層に含まれるガラス成分の融点よりも低く、
前記内部電極の厚みが1.5μm以下であるとともに、
前記第1のセラミック層の厚みが、前記内部電極の厚みの1.5倍以下であることを特徴とする積層セラミックコンデンサ。
An inner layer portion in which a plurality of first ceramic layers and a plurality of internal electrodes are alternately stacked;
A multilayer ceramic capacitor comprising a pair of outer layer portions each having a plurality of second ceramic layers laminated so as to sandwich the inner layer portion,
The first and second ceramic layers include a glass component;
The second melting point of the glass component contained in the ceramic layer, rather lower than the melting point of the glass component contained in the first ceramic layer,
While the thickness of the internal electrode is 1.5 μm or less,
The multilayer ceramic capacitor according to claim 1, wherein the thickness of the first ceramic layer is 1.5 times or less the thickness of the internal electrode .
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