JP4377861B2 - 光情報記録媒体用Ａｇ合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット - Google Patents
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Description
本発明は、光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットに関する技術分野に属し、特には、CD，DVD ，Blu-ray Disk，HD-DVD等の光情報記録媒体において、光ディスク形成後にレーザー等を用いたマーキングを可能とするために、低熱伝導率、低溶融温度、高反射率、高耐食性を有する反射膜、この反射膜の形成用のスパッタリングターゲット、及び、この反射膜を備えた光情報記録媒体に関する技術分野に属するものである。
光ディスクにはいくつかの種類があるが、記録再生原理から大きくは、再生専用型、追記型、書換型の３種類に分類される。
この中、再生専用型光ディスクは、図１に例示するように、透明プラスチック基体（例えばポリカーボネート基体）上に設けた凹凸の記録ピットによって記録データを形成した後にAl、Ag、Au等を主成分とする反射膜層を設けた構造を有しており、データ読み出しはディスクに照射されたレーザー光の位相差や反射差を検出することにより、行う。また、それぞれ個別の記録ピットを形成した透明プラスチック基体上に反射膜層を設けたものと半透明反射層を設けた透明プラスチック基体の２枚の基体を張り合わせて２層に記録したデータを読み出すタイプもある。片面でこの記録再生方式では、データは再生専用（追記、書換不可）であり、この方式を採る光ディスクとしては、CD-ROM, DVD-ROM, DVD-Videoなどが挙げられる。なお、図１は断面構造を示す模式図であって、図１において、符番の１と５はポリカーボネート基体、２は半透明反射膜層（Au，Ag合金，Si）、３は接着層、４は全反射膜層（Ag合金）を示すものである。
このような再生専用型の光ディスクでは、あらかじめ光ディスク形成時に情報のパターンを形成したスタンパによるプレス加工でディスクを大量生産することから、光ディスク個別にIDをつけることは困難であった。しかしながら、ディスクの不正コピーの防止、商品流通のトレーサビリティの向上、付加価値の向上等の目的から、再生専用型光ディスクにおいてもレーベルゲート方式や BCA（Burst Cutting Area）方式など、ディスク形成後に、専用の装置を用いてディスク一枚毎のIDを記録したディスクが規格化され始めている。このIDのマーキングは、現状では主に製造後のディスクにレーザー光を照射して、反射膜のAl合金を溶融し、反射膜に穴（空洞）をあけることにより記録を行うという方法により行われている。
再生専用の光ディスクの反射膜としては、これまで一般構造材として流通量が多く、そのため安価な JIS6061(Al-Mg系合金）を中心としたAl合金が広く使用されてきた。また、記録型（追記、書換）の光ディスクでは、より高反射率なAg合金が広く使用されている。
しかしながら、これらの材料は、熱伝導率が高く、マーキングに高いレーザーパワーを要し、そのため基体であるポリカーボネート基体や接着層にダメージを与えるといった問題点がある。また、耐食性が低く、レーザーマーキングを行った場合、マーキングあとに空洞が出来るため、その後の恒温恒湿試験において反射膜の腐食が発生するという問題点がある。Ag合金を使用する場合、Agの耐熱性の低さから、高温でAg膜が凝集し、反射率が低下するという問題がある。レーザーマーキングのパワーを低下させるためには、反射層の熱伝導率の低下に加えて、光吸収率（レーザー光の吸収率）の増加、溶融温度の低下が必要である。
Ag合金の熱伝導率の低減に関して、特開1992-252440 号公報にはAgにGe，Si，Sn，Pb，Ga，In，Tl，Sb，Biを添加して熱伝導率を低減する方法が開示されている。特開1992-28032号公報にはAgにCr，Ti，Si，Ta，Nb，Pt，Ir，Fe，Re，Sb，Zr，Sn，Niを添加して熱伝導率を低減する方法が示されている。しかしながら、これらの反射膜は、レーザー照射により膜を溶融・除去することは前提としていないため、膜の熱伝導率の低下と同時に溶融温度が上昇するものもあり、レーザーマーキング用Ag合金として十分な要求特性を満たすものは未だ提供されていないのが現状である。
特開1992-252440 号公報
特開1992-28032号公報
以上述べたように、レーザーマーキングをするAg合金には、低熱伝導率、低溶融温度、高耐食性が必要とされる。
現状、再生専用の光ディスクでは、反射膜にはJIS 6061系Al合金が使用されているが、本合金は熱伝導率、耐食性の観点で上記レーザーマーキングには対応が困難である。
本発明はこのような事情に着目してなされたものであって、その目的は、再生専用型光ディスクにおけるレーザーマーキングが容易にできる光情報記録媒体用Ag合金反射膜、この反射膜を備えた光情報記録媒体、及び、この反射膜の形成用のスパッタリングターゲットを提供しようとするものである。
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を行った結果、Agに対して特定の合金元素を特定量含有させたAg合金薄膜が低い熱伝導率、低い溶融温度、高い耐食性を有し、レーザーマーキングに適した光情報記録媒体用反射膜として好適な反射膜（金属膜）であるとの知見を得た。本発明はこのような知見に基づきなされたものであり、本発明によれば上記目的を達成することができる。
このようにして完成され上記目的を達成することができた本発明は、光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットに係わり、特許請求の範囲の請求項１〜３記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜（第１〜３発明に係るAg合金反射膜）、請求項４記載の光情報記録媒体（第４発明に係る光情報記録媒体）、請求項５〜８記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット（第５〜８発明に係るスパッタリングターゲット）であり、それは次のような構成としたものである。
即ち、請求項１記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、Agを主成分とし、希土類元素の１種以上を合計で１〜10原子％含有すると共にIn，Sn，Alの１種以上を合計で１〜15原子％（但し、Alを含有する場合、Al含有量は１〜５原子％を除く）含有し、且つ、前記希土類元素の１種以上の含有量と前記In，Sn，Alの１種以上の含有量のうち何れかの含有量が５原子％以上であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜である〔第１発明〕。
請求項２記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、前記希土類元素の１種以上が、Nd，Gd，Ｙの１種以上である請求項１記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜である〔第２発明〕。
請求項３記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、Bi，Sbの１種以上を0.01〜３原子％含有している請求項１または２記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜である〔第３発明〕。
請求項４記載の光情報記録媒体は、請求項１〜３のいずれかに記載のAg合金反射膜を有していることを特徴とする光情報記録媒体である〔第４発明〕。
請求項５記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、Agを主成分とし、希土類元素の１種以上を合計で１〜10原子％含有すると共に、In，Sn，Alの１種以上を合計で１〜15原子％（但し、Alを含有する場合、Al含有量は１〜５原子％を除く）含有し、且つ、前記希土類元素の１種以上の含有量と前記In，Sn，Alの１種以上の含有量のうち何れかの含有量が５原子％以上であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第５発明〕。
請求項６記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、前記希土類元素の１種以上が、Nd，Gd，Ｙの１種以上である請求項５記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第６発明〕。
請求項７記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、Sbを0.01〜３原子％含有している請求項５または６記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第７発明〕。
請求項８記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、Biを0.03〜10原子％含有している請求項５または６記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第８発明〕。
本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜によれば、再生専用型光ディスクにおけるレーザーマーキングが容易にできる。本発明に係る光情報記録媒体は、かかるAg合金反射膜を有し、再生専用型光ディスクにおけるレーザーマーキングを好適に行うことができる。本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットによれば、かかるAg合金反射膜を形成することができる。
前述したように、レーザーマーキングに適したAg合金薄膜では、低い熱伝導率、低い溶融温度、高い耐食性を有することが必要である。
本発明者らは、Agに種々の元素を添加したAg合金スパッタリングターゲットを製作し、これらターゲットを使用してスパッタリング法により種々の成分・組成のAg合金薄膜を形成し、その組成及び反射薄膜層としての特性を調べ、以下〔下記(1) 〜(2) 〕のことを見いだした。
(1) Agに希土類元素の１種以上を合計で１〜10原子％（at％）添加すると共にIn，Sn，Alの１種以上を合計で１〜15原子％（但し、Alを含有する場合、Al含有量は１〜５原子％を除く）添加し、且つ、前記希土類元素の１種以上の含有量と前記In，Sn，Alの１種以上の含有量のうち何れかの含有量が５原子％以上となるようにすることにより、光記録媒体に必要な反射率を維持しながら、熱伝導率の低下、光吸収率の増大が可能である。上記希土類元素の１種以上の添加量が１原子％（以降、単に％ともいう）未満の場合には、熱伝導率低下の効果が小さく、10％超の場合には、溶融温度の上昇が起こり、また、薄膜の耐久性が低下する。上記In，Sn，Alの１種以上の添加量が１％未満の場合には、溶融温度低下の効果が小さく、15％超の場合には、光記録媒体の読み出し波長に対する反射率が小さくなり、信号出力が低下する。上記希土類元素の１種以上の添加量と上記In，Sn，Alの１種以上の添加量のいずれもが５％未満の場合には、熱伝導率低下、溶融温度低下の効果が小さく、低レーザーパワーでのマーキングが困難である。
(2) さらにBi，Sbの１種以上を添加することにより、高温高湿環境下での腐食や凝集による反射率低下を更に抑制することができる。合金化による反射率低下の観点から、これらは３％以下の添加が良い。0.01％未満では上記反射率低下を抑制する効果が小さい。これらの元素の好ましい下限値は0.1 ％であり、好ましい上限値は２％である。
以上のような知見に基づいて本発明は完成されたものであり、前述のような構成の光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットとしている。
このようにして完成された本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、Agを主成分とし、希土類元素の１種以上を合計で１〜10原子％含有すると共にIn，Sn，Alの１種以上を合計で１〜15原子％（但し、Alを含有する場合、Al含有量は１〜５原子％を除く）含有し、且つ、前記希土類元素の１種以上の含有量と前記In，Sn，Alの１種以上の含有量のうち何れかの含有量が５原子％以上であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜である〔第１発明〕。
この光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、前記(1) のことからわかるように、希土類元素の１種以上を合計で１〜10原子％含有すると共にIn，Sn，Alの１種以上を合計で１〜15原子％（但し、Alを含有する場合、Al含有量は１〜５原子％を除く）含有し、且つ、前記希土類元素の１種以上の含有量と前記In，Sn，Alの１種以上の含有量のうち何れかの含有量が５原子％以上であることにより、光記録媒体に必要な反射率を有すると共に、溶融温度が低く、また、熱伝導率が低く、且つ、光吸収率が高くてレーザーマーキングしやすく、耐食性に優れて耐久性が良好である。
従って、本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、レーザーマーキングに良好に対応でき、光情報記録媒体用反射膜として好適に用いることができる。即ち、レーザーマーキングが容易にでき、光記録媒体に必要な反射率を有すると共に、耐食性に優れて耐久性が良好である（高温高湿環境下での腐食やAg凝集による反射率低下が抑制される）。
本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜において、更にBi，Sbの少なくとも１種を0.01〜３％含有するようにした場合、前記(2) のことからわかるように、高温高湿環境下での腐食や凝集による反射率低下を更に抑制することができる〔第２発明〕。
本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜において、希土類元素の１種以上としては、例えばNd，Gd，Ｙの１種以上を挙げることができる〔第３発明〕。
本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜の膜厚については、５nm〜200nm とすることが望ましく、更には10nm〜100nm とすることが望ましい。この理由を以下説明する。膜厚が５nm未満の場合、光の透過成分が大きく、高い反射率が得られなくなるので、膜厚５nm以上とすることが望ましく、更には10nm以上とすることが望ましい。膜厚が厚いとAg合金反射膜を溶融させるためにレーザーが与えるエネルギーを大きくする必要があり、マーキングが困難になり、また、膜厚の増加と共に表面平滑性が低下し、光が散乱されやすくなり、高い信号出力が得られなくなるので、膜厚200nm 以下とすることが望ましく、更には100nm 以下とすることが望ましい。
本発明に係る光情報記録媒体は、前述のような本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜を有していることとしている〔第４発明〕。この光情報記録媒体は、レーザーマーキングを好適に行うことができる。このため、過大レーザー出力によるディスク構成材（ポリカーボネート基体や接着層）の熱ダメージがなく、また、耐食性に優れていることから、高温高湿環境下での腐食や凝集による反射率低下が生じ難く、かかる点において優れた特性を有することができる。
本発明に係る光情報記録媒体は、上記のように優れた特性を有することができるので、レーザーマーキング用として特に好適に用いることができる。
本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットは、Agを主成分とし、希土類元素の１種以上を合計で１〜10原子％含有すると共にIn，Sn，Alの１種以上を合計で１〜15原子％（但し、Alを含有する場合、Al含有量は１〜５原子％を除く）含有し、且つ、前記希土類元素の１種以上の含有量と前記In，Sn，Alの１種以上の含有量のうち何れかの含有量が５原子％以上であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第５発明〕。このAg合金スパッタリングターゲットによれば、本発明の第１発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜を形成させることができる。
本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットにおいて、更にSbを0.01〜３原子％含有するようにした場合は、本発明の第３発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜の中、Sbを0.01〜３原子％含有するものを形成させることができる〔第７発明〕。本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットにおいて、更にBiを0.03〜10原子％含有するようにした場合は、本発明の第３発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜の中、Biを0.01〜３原子％含有するものを形成させることができる〔第８発明〕。なお、前記希土類元素、In，Sn，Alの場合や前記Sbの場合、ターゲット中に添加された元素量がそのまま薄膜中の含有量に反映されるが、上記Biの場合には、薄膜中のBi量はターゲット中のBi量の数十％程度に減少してしまうので、上記のようなターゲット組成（含有量）としている。
本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットにおいて、希土類元素の１種以上としてはNd，Gd，Ｙの１種以上を挙げることができる〔第６発明〕。このように希土類元素の１種以上としてNd，Gd，Ｙの１種以上を用いた場合、本発明の第２発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜を形成させることができる。
本発明の実施例および比較例について、以下説明する。なお、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。Ag-A-B合金は、A 及びB を含有するAg合金のことである。Ag-A-B-C合金は、A 、B 及びC を含有するAg合金のことである。Ag-aA-bBは、A を a％（原子％）、B を b％含有するAg合金のことである。Ag-aA-bB-cC は、A を a％（原子％）、 Bを b％、C をc ％含有するAg合金のことである。
〔例１〕
表１に示す組成のAg合金薄膜、即ち、Ag-Nd-In合金薄膜（Nd及びInを含有するAg合金薄膜）〔No.1〜5 〕、Ag-Gd-In合金薄膜〔No.6〜10〕、及び、 Ag-Ｙ-In 合金薄膜〔No.11 〜15〕を作製し、Nd，Gd，Ｙの添加量（含有量）と薄膜の溶融温度、熱伝導率、反射率、BCA (Burst Cutting Area ）方式によるマーキング（以下、 BCAマーキングという）時のレーザーパワーとの関係を調べた。
表１に示す組成のAg合金薄膜、即ち、Ag-Nd-In合金薄膜（Nd及びInを含有するAg合金薄膜）〔No.1〜5 〕、Ag-Gd-In合金薄膜〔No.6〜10〕、及び、 Ag-Ｙ-In 合金薄膜〔No.11 〜15〕を作製し、Nd，Gd，Ｙの添加量（含有量）と薄膜の溶融温度、熱伝導率、反射率、BCA (Burst Cutting Area ）方式によるマーキング（以下、 BCAマーキングという）時のレーザーパワーとの関係を調べた。
上記薄膜は、次のようにして作製した。即ち、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、ポリカーボネート基板（基板サイズ：直径120mm 、厚さ 0.6mm）上に、Ag-Nd-In合金薄膜、Ag-Gd-In合金薄膜、あるいは、 Ag-Ｙ-In 合金薄膜を作製（成膜）した。このとき、成膜条件は、基板温度：22℃，Arガス圧：３mTorr ，成膜速度：30nm/sec，背圧：５×10-6Torr以下である。スパッタリングターゲットとしては、各種添加元素のチップを純Agターゲット上に配置した複合ターゲットを用いた。
薄膜の溶融温度は、次のようにして測定した。厚さ１μm に成膜したAg合金薄膜を基板より剥離し、約５mg収集したものを示差熱測定器を用いて測定した。このとき溶け初めの温度と溶け終わりの温度の平均値を溶融温度とした。熱伝導率については、厚さ100nm で作製したAg合金薄膜の電気抵抗率から換算した。反射率については、波長405nm における反射率を測定して求めた。 BCAマーキング時のレーザーパワーは次のようにして調べた。BCA マーキングには日立コンピュータ機器製POP-120-8Rを使用し、線速度８ｍ／ｓでランダムなBCA パターンを記録し、光学顕微鏡により溶融が開始するときのレーザーパワーを調べた。
上記測定（調査）の結果を表１に示す。Ag合金薄膜の組成に関しては、In含有量は全て５％であり、Nd、Gd、Ｙ含有量を変化させている。即ち、No.1〜5 のようにNd含有量を変化させ、No.6〜10のようにGd含有量を変化させ、No.11 〜15のようにＹ含有量を変化させている。In含有量は全て５％であるので、本発明の第１発明の要件の中、In，Sn，Alの１種以上：１〜15％（但し、Alを含有する場合、Al含有量は１〜５原子％を除く）という要件、及び、希土類元素の含有量とIn，Sn，Alの１種以上の含有量のうち何れかの含有量：５％以上という要件は全て満たしている。希土類元素の含有量：１〜10％という要件を満たすものと満たしていないものとがある。
表１からわかるように、Nd、Gd、Ｙの添加量（含有量）の増加とともに熱伝導率が低下し、また、溶融温度が低下している。即ち、Nd含有量の増加とともに熱伝導率が低下し、溶融温度が低下しており〔No.1〜5 〕、Gd含有量の増加とともに熱伝導率が低下し、溶融温度が低下しており〔No.6〜10〕、Ｙ含有量の増加とともに熱伝導率が低下し、溶融温度が低下している〔No.11 〜15〕。Nd、Gd、Ｙ添加量が１％未満の場合、レーザーマーキングに高いパワーを要している。Nd、Gd、Ｙ添加量が10％超の場合、十分に高い反射率が得られていない。
これらの結果から、In，Sn，Alの１種以上：１〜15％（但し、Alを含有する場合、Al含有量は１〜５原子％を除く）という要件、及び、希土類元素の含有量とIn，Sn，Alの１種以上の含有量のうち何れかの含有量：５％以上という要件を満たすと共に、希土類元素の含有量：１〜10％という要件を満たす必要があることが確認された。つまり、本発明の第１発明の要件を満たす必要があることが確認された。
〔例２〕
前記例１の場合と同様の作製方法により、表２に示す組成のAg合金薄膜、即ち、Ag-Nd-In合金薄膜〔No.1a 〜3a〕、Ag-Nd-Sn合金薄膜〔No.4a 〜6a〕を作製し、前記例１の場合と同様の測定方法により、薄膜の溶融温度、熱伝導率および反射率を測定し、前記例１の場合と同様の方法により、 BCAマーキング時のレーザーパワーを調べた。
前記例１の場合と同様の作製方法により、表２に示す組成のAg合金薄膜、即ち、Ag-Nd-In合金薄膜〔No.1a 〜3a〕、Ag-Nd-Sn合金薄膜〔No.4a 〜6a〕を作製し、前記例１の場合と同様の測定方法により、薄膜の溶融温度、熱伝導率および反射率を測定し、前記例１の場合と同様の方法により、 BCAマーキング時のレーザーパワーを調べた。
上記測定（調査）の結果を表２に示す。Ag合金薄膜の組成に関しては、Nd含有量は全て５％であり、In，Sn等の含有量を変化させている。即ち、No.1a 〜3aのようにIn含有量を変化させ、No.4a 〜6aのようにSn含有量を変化させている。Nd含有量は全て５％であるので、本発明の第１発明の要件の中、希土類元素の含有量：１〜10％という要件、及び、希土類元素の含有量とIn，Sn，Alの１種以上の含有量のうち何れかの含有量：５％以上という要件は全て満たしている。In，Sn，Alの１種以上：１〜15％（但し、Alを含有する場合、Al含有量は１〜５原子％を除く）という要件も満たしている。
表２からわかるように、In，Snの添加によりマーキングに必要なレーザーパワーを大きく低下することができ、これら元素の添加量（含有量）の増加とともにマーキングに必要なレーザーパワーが低下している。即ち、In含有量の増加とともにマーキングに必要なレーザーパワーが低下しており〔No.1a 〜3a〕、Sn含有量の増加とともにマーキングに必要なレーザーパワーが低下している〔No.4a 〜6a〕。InやSnの含有量の増大とともに反射率が低下し、No.1a 〜3aの中では No.3a（In含有量：15％）が最も反射率が低く、No.4a 〜6aの中では No.6a（Sn含有量：15％) が最も反射率が低い。これら元素の含有量が15％を超えると反射率の低下がさらに大きくなる。
これらの結果から、希土類元素の含有量：１〜10％という要件、及び、希土類元素の含有量とIn，Sn，Alの１種以上の含有量のうち何れかの含有量：５％以上という要件を満たすと共に、In，Sn，Alの１種以上：１〜15％（但し、Alを含有する場合、Al含有量は１〜５原子％を除く）という要件を満たす必要があることが確認された。つまり、本発明の第１発明の要件を満たす必要があることが確認された。
〔例３〕
前記例１の場合と同様の作製方法により、表３に示す組成のAg合金薄膜、即ち、Ag-Nd-In合金薄膜〔No.1b 〕、Ag-Nd-In-Bi 合金薄膜〔No.2b 〜4b〕、Ag-Nd-In-Sb 合金薄膜〔No.5b 〜7b〕を作製した。膜厚はいずれも100nm とした。この薄膜について、波長405nm における反射率を測定し、そして、環境試験を行い、この環境試験後の薄膜について波長405nm における反射率を測定し、これにより環境試験による反射率の変化量（低下量）を求めた。このとき、環境試験の条件は、温度80℃，湿度85％RHで、保持時間は96時間とした。
前記例１の場合と同様の作製方法により、表３に示す組成のAg合金薄膜、即ち、Ag-Nd-In合金薄膜〔No.1b 〕、Ag-Nd-In-Bi 合金薄膜〔No.2b 〜4b〕、Ag-Nd-In-Sb 合金薄膜〔No.5b 〜7b〕を作製した。膜厚はいずれも100nm とした。この薄膜について、波長405nm における反射率を測定し、そして、環境試験を行い、この環境試験後の薄膜について波長405nm における反射率を測定し、これにより環境試験による反射率の変化量（低下量）を求めた。このとき、環境試験の条件は、温度80℃，湿度85％RHで、保持時間は96時間とした。
上記測定（調査）の結果を表３に示す。表３からわかるように、Bi，Sbの添加により、環境試験による反射率の変化量（低下量）が小さくなり、環境試験による反射率低下が大幅に抑制されている。この効果は、より具体的には、No.1b 及びNo.2b 〜4bからと、No.1b 及びNo.5b 〜7bからわかる。即ち、No.1b 、No.2b 〜4bから、Biの添加効果がわかり、No.1b 、No.5b 〜7bから、Sbの添加効果がわかる。
Bi，Sbの含有量が増えるに伴って環境試験による反射率低下量が小さくなるが、それに伴って環境試験前の薄膜の反射率が小さくなっている。表３に示すBi，Sbの含有量の場合には環境試験前の薄膜の反射率は、不充分というほどではないが、Bi含有量やSbの含有量が３％を超えると、環境試験前の薄膜の反射率が更に小さくなり、好ましくない。また、Bi含有量やSbの含有量が0.01％未満の場合は、環境試験による反射率低下の抑制効果が小さくなるので、環境試験による反射率低下の抑制の点では0.01％以上とすることが好ましい。
本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、再生専用型光ディスクにおけるレーザーマーキングが容易にできるので、再生専用型光ディスクの光情報記録媒体用反射膜として好適に用いることができて有用である。
１--ポリカーボネート基体、２--半透明反射膜層（Au，Ag合金，Si）、３--接着層、
４--全反射膜層（Ag合金）、５--ポリカーボネート基体。
４--全反射膜層（Ag合金）、５--ポリカーボネート基体。
Claims (8)
- 光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、Agを主成分とし、希土類元素の１種以上を合計で１〜10原子％含有すると共にIn，Sn，Alの１種以上を合計で１〜15原子％（但し、Alを含有する場合、Al含有量は１〜５原子％を除く）含有し、且つ、前記希土類元素の１種以上の含有量と前記In，Sn，Alの１種以上の含有量のうち何れかの含有量が５原子％以上であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜。
- 前記希土類元素の１種以上が、Nd，Gd，Ｙの１種以上である請求項１記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜。
- Bi，Sbの１種以上を0.01〜３原子％含有している請求項１または２記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜。
- 請求項１〜３のいずれかに記載のAg合金反射膜を有していることを特徴とする光情報記録媒体。
- Agを主成分とし、希土類元素の１種以上を合計で１〜10原子％含有すると共にIn，Sn，Alの１種以上を合計で１〜15原子％（但し、Alを含有する場合、Al含有量は１〜５原子％を除く）含有し、且つ、前記希土類元素の１種以上の含有量と前記In，Sn，Alの１種以上の含有量のうち何れかの含有量が５原子％以上であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
- 前記希土類元素の１種以上が、Nd，Gd，Ｙの１種以上である請求項５記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
- Sbを0.01〜３原子％含有している請求項５または６記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
- Biを0.03〜10原子％含有している請求項５または６記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
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