JP4363217B2 - アルカリ土類金属ホウ酸塩蛍光体及びそれを用いた発光装置 - Google Patents
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Description
(Ca1−a,Ma)O・αB2O3・βCe2O3・γTb2O3
(MはMg、Sr、Ba及びZnから選択される少なくとも1種の元素、0≦a≦0.9、0.05≦α≦3.0、0.005≦β≦0.30、0.005≦γ≦0.30)
a)前記発光素子は、その発光層がAl及び/又はInを含む窒化ガリウム系半導体で、その発光スペクトルのピーク波長が少なくとも260〜390nmの範囲にある長波長紫外線を放射するLEDチップであり、
b)前記フォトルミネッセンス蛍光体は、発光スペクトルのピーク波長が少なくとも543〜547nmの範囲にあり、且つ励起スペクトルのピーク波長が少なくとも260〜390nmの範囲にある(1)乃至(4)に記載のアルカリ土類金属ホウ酸塩蛍光体を含有することを特徴とする。
励起光源としては、発光素子が利用できる。本明細書において発光素子とは、発光ダイオード(LED)やレーザダイオード(LD)等の半導体発光素子の他、真空放電による発光、熱発光からの発光を得るための素子も含む。本発明では半導体発光素子が好ましく、以下に詳述する。
本発明において半導体発光素子は、蛍光体を効率よく励起可能な発光波長を発光できる発光層を有する半導体発光素子が好ましい。このような半導体発光素子の材料として、BN、SiC、ZnSeやGaN、InGaN、InAlGaN、AlGaN、BAlGaN、BInAlGaNなど種々の半導体を挙げることができる。同様に、これらの元素に不純物元素としてSiやZnなどを含有させ発光中心とすることもできる。蛍光体を効率良く励起できる紫外領域から可視光の短波長を効率よく発光可能な発光層の材料として、特に、窒化物半導体(例えば、AlやGaを含む窒化物半導体、InやGaを含む窒化物半導体としてInxAlyGa1−x−yN(0≦x、0≦y、x+y≦1))がより好適に挙げられる。本発明では、主発光ピークが260〜390nmの範囲になるようにAl又はIn量を調製して得られる窒化ガリウム系半導体発光素子が、好ましく用いられる。
更に、本発明において、蛍光体に加えて拡散剤を含有させても良い。具体的な拡散剤としては、チタン酸バリウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化珪素等が好適に用いられる。これによって良好な指向特性を有する発光装置が得られる。
更に、本発明において、色変換部材中に蛍光体に加えてフィラーを含有させても良い。具体的な材料は拡散剤と同様であるが、拡散剤と中心粒径が異なり、本明細書においてフィラーとは中心粒径が5μm以上100μm以下のものをいう。このような粒径のフィラーを透光性樹脂中に含有させると、光散乱作用により発光装置の色度バラツキが改善される他、透光性樹脂の耐熱衝撃性を高めることができる。これにより高温下での使用においても、発光素子と外部電極とを電気的に接続しているワイヤーの断線や前記発光素子底面とパッケージの凹部底面と剥離等を防止することができる信頼性の高い発光装置が得られる。更には樹脂の流動性を長時間一定に調整することが可能となり所望とする場所内に封止部材を形成することができ歩留まり良く量産することが可能となる。
蛍光体は、発光素子から放出された光を他の発光波長に変換する。吸収光の波長より長波長の光を放出する波長変換材料として蛍光体を使用し、発光素子の発光と蛍光体の変換光の混色により所望の光を外部に放出させることができる。蛍光体は、励起光源として例えばLEDの半導体発光層から発光された光で励起されて発光する。
(Ca1−a,Ma)O・αB2O3・βCe2O3・γTb2O3
(MはMg、Sr、Ba及びZnから選択される少なくとも1種の元素、0≦a≦0.9、0.05≦α≦3.0、0.005≦β≦0.30、0.005≦γ≦0.30)
(Ca1−a,Ma)O・αB2O3・βCe2O3・γTb2O3
(MはMg、Sr、Ba及びZnから選択される少なくとも1種の元素、0≦a≦0.9)
CaCO3 ・・・・・・・1.00mol(100.0g)
H3BO3・・・・・・・・0.56mol(34.62g)
CeO2 ・・・・・・・・0.056mol(9.64g)
Tb4O7・・・・・・・・0.014mol(10.47g)
を混合し、アルミナ坩堝に充填し、水素・窒素の混合ガス雰囲気において、室温から1180℃まで300℃/hrで昇温し、1180℃で3時間焼成する。得られる焼成品を水中でボールミルし、水洗、分離、乾燥して、篩を通し、中心粒径が10μmのCaO・0.28B2O3・0.028Ce2O3・0.028Tb2O3蛍光体を得る。蛍光体の組成を表1に示す。この蛍光体は、365nm紫外線励起により、546nmに発光ピークを有し、発光色は緑色で、色度座標値はx=0.321、y=0.502である。また、励起スペクトルのピーク波長は331nmである。
<発光装置>
LEDチップは、発光層として発光ピークが紫外域にある365nmのInAlGaN半導体を有する窒化物半導体素子を用いる。より具体的にはLEDチップは、洗浄させたサファイヤ基板上にTMG(トリメチルガリウム)ガス、TMI(トリメチルインジウム)ガス、窒素ガス及びドーパントガスをキャリアガスと共に流し、MOCVD法で窒化物半導体を成膜させることにより形成させることができる。ドーパントガスとしてSiH4とCp2Mgを切り替えることによってn型窒化物半導体やp型窒化物半導体となる層を形成させる。
次に、以下の下地層及び組成傾斜層を介して、n型クラッド層兼n型コンタクト層を形成する。
バッファ層:続いて、水素雰囲気中、510℃でアンモニアとTMG(トリメチルガリウム)を用い、基板上にGaNよりなるバッファ層を約200Åの膜厚で成長させる。
高温成長層:バッファ層成長後、TMGのみを止めて、温度を1050℃まで上昇させ、1050℃になったら、原料ガスにTMG、アンモニアを用い、アンドープGaNよりなる高温成長の窒化物半導体を5μmの膜厚で成長させる。
組成傾斜層:高温成長層成長後、さらに同様の温度で、原料ガスにTMG、TMA、アンモニアを用い、組成傾斜AlGaN層を0.4μmの膜厚で成長させる。この組成傾斜層は、高温成長層とn型クラッド層との格子不整合を緩和させるためのもので、アンドープのGaNからSiを1×1019/cm3ドープしたn型Al0.07Ga0.93NまでAlの混晶比とSiのドープ量とを徐々に大きくして形成する。
次に、1050℃でTMG、TMA、アンモニア、シランを用い、Siを1×1019/cm3ドープしたn型Al0.07Ga0.93Nよりなるn型クラッド層層兼n型コンタクト層を2.5μmの膜厚で形成する。
次に、温度を900℃にして、原料ガスにTMI(トリメチルインジウム)、TMG、TMAを用い、Siを1×1019/cm3ドープしたAl0.09Ga0.91Nよりなる障壁層、その上にアンドープのIn0.01Ga0.99Nよりなる井戸層を、障壁層A/井戸層A/障壁層B/井戸層B/障壁層C/井戸層C/障壁層Dの順に積層する。この時、障壁層AとBとCとDをそれぞれ200Å、井戸層AとBとCをそれぞれ60Åの膜厚で形成する。障壁層Dのみアンドープとする。
次に、水素雰囲気中、1050℃でTMG、TMA、アンモニア、Cp2Mg(シクロペンタジエニルマグネシウム)を用い、Mgを1×1020/cm3ドープしたAl0.38Ga0.62Nよりなるp型クラッド層を270Åの膜厚で成長させる。
続いて、p型クラッド層上に、TMG、TMA、アンモニア、Cp2Mgを用いて、Mgを4×1018/cm3ドープしたAl0.07Ga0.93Nよりなる第1のp型コンタクト層を0.1μmの膜厚で成長させ、その後、ガスの流量を調整してMgを1×1020/cm3ドープしたAl0.07Ga0.93Nよりなる第2のp型コンタクト層を0.02μmの膜厚で成長させた。
各コンタクト層上に、スパッタリング法を用いて正負各台座電極をそれぞれ形成させる。なお、p型窒化物半導体上の全面には金属薄膜を透光性電極として形成させた後に、透光性電極の一部に台座電極を形成させてある。具体的には、エッチング後、p型層のほぼ全面を覆うように、膜厚110Åの透光性p電極(Ni/Au=60/50)と、そのp電極の上に膜厚0.5μmのAuよりなり、延長導線部を3本有する台座電極を発光素子の角部に辺に沿って形成する。一方、エッチングにより露出させたn側コンタクト層の表面には、前記台座電極と対向するようにWとAlを含むn電極を形成する。出来上がった半導体ウェーハにスクライブラインを引いた後、外力により分割させ半導体発光素子であるLEDチップを形成させる。
蛍光体原料として、CaCO3に加えて、MgCO3、SrCO3、BaCO3、ZnOから選択される少なくとも1種の化合物を用い、表1に示した蛍光体組成の割合で原料を混合する以外は実施例1と同様にして蛍光体を作製する。
2 半導体発光素子
3 蛍光体層ワイヤー
4 ワイヤー
Claims (4)
- 一般式が次式で表されることを特徴とするアルカリ土類金属ホウ酸塩蛍光体。
(Ca1−a,Ma)O・αB2O3・βCe2O3・γTb2O3
(MはMg、Sr、Ba及びZnから選択される少なくとも1種の元素、0≦a≦0.60、0.1≦α≦2.0、0.01≦β≦0.20、0.01≦γ≦0.20) - 波長が少なくとも260〜390nmの範囲にある長波長紫外線により励起され発光する請求項1に記載のアルカリ土類金属ホウ酸塩蛍光体。
- 請求項1又は2に記載のアルカリ土類金属ホウ酸塩蛍光体を用いた発光装置。
- 発光層が半導体である発光素子と、該発光素子によって発光された光の一部を吸収して、吸収した光の波長と異なる波長を有する光を発光するフォトルミネッセンス蛍光体とを備えた発光装置において、
a)前記発光素子は、その発光層がAl及び/又はInを含む窒化ガリウム系半導体で、その発光スペクトルのピーク波長が少なくとも260〜390nmの範囲にある長波長紫外線を放射するLEDチップであり、
b)前記フォトルミネッセンス蛍光体は、発光スペクトルのピーク波長が少なくとも543〜547nmの範囲にあり、且つ励起スペクトルのピーク波長が少なくとも260〜390nmの範囲にある請求項1又は2に記載のアルカリ土類金属ホウ酸塩蛍光体を含有することを特徴とする発光装置。
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