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JP4165110B2 - 4−オキシピリミジン誘導体の製法 - Google Patents

4−オキシピリミジン誘導体の製法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カルボン酸エステル類と3-アミノアクリロニトリル類とから4-オキシピリミジン誘導体を製造する方法に関する。4-オキシピリミジン誘導体は、医薬・農薬等の合成中間体として有用な化合物である。
【0002】
【従来の技術】
従来、4-オキシピリミジン誘導体を製造する方法としては、一般的に、ピリミジン-4-オン類に塩素化剤を作用させて4-クロロピリミジン類とし、これにアルコールを反応させる方法が開示されている(例えば、D.J.Brown, "HETEROCYCLIC COMPOUNDS ; THE PYRIMIDINES SUPPLEMENT I, Chapter VII", JOHN WILEY & SONS(1970))。しかしながら、この方法では、毒性の高い塩素化剤を使用するために、後処理が繁雑となる等、工業的な製法としては満足出来るものではなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、即ち、簡便な方法によって、入手が容易なカルボン酸エステル類と3-アミノアクリロニトリル類とから、収率良く4-オキシピリミジン誘導体を製造する、工業的に好適なピリミジン誘導体の製法を提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
一般式(1)
【0005】
【化5】
Figure 0004165110
【0006】
(式中、Mは、金属原子を示し、Rは、置換基を有していても良い、炭化水素基を示す。)
で示される金属アルコキシドの存在下、一般式(2)
【0007】
【化6】
Figure 0004165110
【0008】
(式中、Rは、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は複素環基を示し、Rは、置換基を有していても良い、炭化水素基を示す。)で示されるカルボン酸エステル類と一般式(3)
【0009】
【化7】
Figure 0004165110
【0010】
(式中、Rは、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は複素環基を示す。)で示される3−アミノアクリロニトリル類とを反応させることを特徴とする、一般式(4)
【0011】
【化8】
Figure 0004165110
【0012】
(式中、R及びRは、前記と同義であり、Rは、前記のR又はRのいずれか一方と同義である。)
で示される4-オキシピリミジン誘導体の製法。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明の反応で使用する金属アルコキシドは、前記の一般式(1)で示される。その一般式(1)において、Mは、金属原子である。又、Rは、置換基を有していても良い、炭化水素基であるが、具体的には、例えば、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基である。
【0014】
前記金属原子としては、例えば、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、セシウム原子等の1A族金属原子;マグネシウム原子、カルシウム原子等の2A族原子;アルミニウム原子等の3A族原子が挙げられるが、好ましくはナトリウム原子、カリウム原子、更に好ましくはナトリウム原子である。
【0015】
前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【0016】
前記シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【0017】
前記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【0018】
前記アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、ナフチル基、アントリル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【0019】
前記の炭化水素基は、置換基を有していても良い。その置換基としては、炭素原子を介して出来る置換基、酸素原子を介して出来る置換基、窒素原子を介して出来る置換基、硫黄原子を介して出来る置換基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【0020】
前記炭素原子を介して出来る置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロブチル基等のシクロアルキル基;ビニル基、アリル基、プロペニル基、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基等のアルケニル基;キノリル基、ピリジル基、ピロリジル基、ピロリル基、フリル基、チエニル基等の複素環基;フェニル基、トリル基、フルオロフェニル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等のアリール基;トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基;シアノ基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【0021】
前記酸素原子を介して出来る置換基としては、例えば、メトキシル基、エトキシル基、プロポキシル基、ブトキシル基、ペンチルオキシル基、ヘキシルオキシル基、ヘプチルオキシル基、ベンジルオキシル基等のアルコキシル基;フェノキシル基、トルイルオキシル基、ナフチルオキシル基等のアリールオキシル基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【0022】
前記窒素原子を介して出来る置換基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、メチルブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、N-メチル-N-メタンスルホニルアミノ基等の第二アミノ基;モルホリノ基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、ピラゾリジニル基、ピロリジノ基、インドリル基等の複素環式アミノ基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【0023】
前記硫黄原子を介して出来る置換基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基等のアルキルチオ基;フェニルチオ基、トルイルチオ基、ナフチルチオ基等のアリールチオ基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【0024】
前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【0025】
前記金属アルコキシドの使用量は、カルボン酸エステル類1molに対し、好ましくは0.5〜5.0mol、更に好ましくは1.0〜2.5molである。
【0026】
本発明の反応で使用するカルボン酸エステル類は、前記の一般式(2)で示される。その一般式(2)において、Rは、置換基を有していても良い、反応に関与しない基であるが、具体的には、例えば、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は複素環基である。
【0027】
前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【0028】
前記シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【0029】
前記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【0030】
前記アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、ナフチル基、アントリル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【0031】
前記複素環基としては、例えば、フリル基、チエニル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、トリアゾリル基、チアゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピリミジリル基、ピリミジノイル基、キノリル基、メチレンジオキシフェニル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【0032】
前記の反応に関与しない基は、置換基を有していても良い。その置換基としては、Rの説明において記載したものと同義である。
【0033】
又、Rは、置換基を有していても良い、炭化水素基であるが、具体的には、前記のRと同義である。
【0034】
本発明の反応で使用する3-アミノアクリロニトリル類は、前記の一般式(3)で示される。その一般式(3)において、Rは、置換基を有していても良い、反応に関与しない基であるが、具体的には、前記のRと同義である。
【0035】
前記3-アミノアクリロニトリル類の使用量は、カルボン酸エステル類1molに対して、好ましくは0.5〜5.0mol、更に好ましくは1.0〜2.5molである。
【0036】
本発明の反応は反応前に存在する又は反応中に生成するアルコール以外の溶媒の存在下において行っても良い。使用する溶媒としては、反応を阻害したり、反応生成物に影響を与えたりするものでなければ特に制限されず、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;N,N-ジメチルホルムアミド等のアミド類;N,N'-ジメチルイミダゾリジノン等の尿素類が挙げられるが、好ましくはエーテル類、スルホキシド類、尿素類が使用される。なお、これらの溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
【0037】
前記溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性等によって適宜調節するが、カルボン酸エステル類1gに対して、好ましくは0.5〜20g、更に好ましくは0.75〜10gである。
【0038】
本発明の反応は、例えば、不活性ガスの雰囲気にて、金属アルコキシド、カルボン酸エステル類及び3-アミノアクリロニトリル類を混合し、攪拌しながら反応させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは40〜110℃、更に好ましくは50〜100℃であり、反応圧力は特に制限されない。
【0039】
なお、最終生成物である4-オキシピリミジン誘導体は、反応終了後、例えば、抽出、濃縮、蒸留、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィー等による一般的な方法によって単離・精製される。
【0040】
又、4-オキシピリミジン誘導体は、前記の一般式(4)で示される。その一般式(4)において、Rは、前記のR又はRのいずれか一方と同一である。
【実施例】
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
【0041】
実施例1(2−シクロプロピル−4−メトキシ−6−メチルピリミジンの合成)攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積100mlのガラス製フラスコに、窒素雰囲気下、28質量%ナトリウムメトキシド3.59g(18.6mmol)、シクロプロパンカルボン酸メチル1.86g(18.6mmol)及び3−アミノ−3−メチルアクリロニトリル(別名3−アミノクロトニトリル)1.53g(18.6mmol)を加え、還流下(67℃)で10時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却してトルエン50mlを加えた後に、液温を30℃以下に保ちながら水20mlをゆるやかに添加した。次いで、有機層と水層を分離し、水層をトルエン20mlで2回抽出した。その抽出液(トルエン層)と有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(充填剤;ワコーゲルC−200(和光純薬工業社製)、展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=9:1(容量比))で精製し、無色透明液体として2−シクロプロピル−4−メトキシ−6−メチルピリミジン2.10gを得た(単離収率:69%)。2−シクロプロピル−4−メトキシ−6−メチルピリミジンの物性値は以下の通りであった。
【0042】
EI-MS(m/e);163(M-1)、CI-MS(m/e);165(M+1)
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm));0.94〜1.00(2H,m)、1.03〜1.13(2H,m)、2.07〜2.16(1H,m)、2.36(3H,d,J=0.5Hz)、3.88(2H,s)、6.30(1H,d,J=0.5Hz)
IR(液膜法,cm-1);3100〜2870、1590〜1570、1470〜1360、1296、1196、1162、1103
【0043】
実施例2(2−イソプロピル−4−メトキシ−6−メチルピリミジンの合成)攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積100mlのガラス製フラスコに、窒素雰囲気下、28質量%ナトリウムメトキシド3.86g(20.0mmol)、イソ酪酸メチル2.04g(20.0mmol)及び3−アミノ−3−メチルアクリロニトリル1.64g(20.0mmol)を加え、還流下(67℃)で10時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却してトルエン50mlを加えた後に、液温を30℃以下に保ちながら水20mlをゆるやかに添加した。次いで、有機層と水層を分離し、水層をトルエン20mlで2回抽出した。その抽出液(トルエン層)と有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(充填剤;ワコーゲルC−200(和光純薬工業社製)、展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=9:1(容量比))で精製し、無色透明液体として2−イソプロピル−4−メトキシ−6−メチルピリミジン2.29gを得た(単離収率:69%)。2−イソプロピル−4−メトキシ−6−メチルピリミジンの物性値は以下の通りであった。
【0044】
EI-MS(m/e);151(M-CH3)、CI-MS(m/e);167(M+1)
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm));1.30(6H,d,J=7.2Hz)、2.38(3H,s)、3.05(1H,sept,J=7.2Hz)、3.94(3H,s)、6.35(1H,d,s)
【0045】
実施例3(2−t−ブチル−4−メトキシ−6−メチルピリミジンの合成)攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積100mlのガラス製フラスコに、窒素雰囲気下、28質量%ナトリウムメトキシド3.86g(20.0mmol)、ピバリン酸メチル2.32g(20.0mmol)及び3−アミノ−3−メチルアクリロニトリル1.64g(20.0mmol)を加え、還流下(67℃)で10時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却してトルエン50mlを加えた後に、液温を30℃以下に保ちながら水20mlをゆるやかに添加した。次いで、有機層と水層を分離し、水層をトルエン20mlで2回抽出した。その抽出液(トルエン層)と有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(充填剤;ワコーゲルC−200(和光純薬工業社製)、展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=9:1(容量比))で精製し、無色透明液体として2−t−ブチル−4−メトキシ−6−メチルピリミジン2.45gを得た(単離収率:68%)。2−t−ブチル−4−メトキシ−6−メチルピリミジンの物性値は以下の通りであった。
【0046】
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm));1.36(9H,s)、2.40(3H,s)、3.93(3H,s)、6.32(1H,s)
【0047】
実施例4(2−エチル−4−メトキシ−6−メチルピリミジンの合成)攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積100mlのガラス製フラスコに、窒素雰囲気下、28質量%ナトリウムメトキシド3.86g(20.0mmol)、プロピオン酸メチル1.76g(20.0mmol)及び3−アミノ−3−メチルアクリロニトリル1.64g(20.0mmol)を加え、還流下(67℃)で10時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却してトルエン50mlを加えた後に、液温を30℃以下に保ちながら水20mlをゆるやかに添加した。次いで、有機層と水層を分離し、水層をトルエン20mlで2回抽出した。その抽出液(トルエン層)と有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(充填剤;ワコーゲルC−200(和光純薬工業社製)、展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=9:1(容量比))で精製し、無色透明液体として2−エチル−4−メトキシ−6−メチルピリミジン1.98gを得た(単離収率:65%)。2−エチル−4−メトキシ−6−メチルピリミジンの物性値は以下の通りであった。
【0048】
EI-MS(m/e);151(M-1)、CI-MS(m/e);153(M+1)
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm));1.32(3H,t,J=7.6Hz)、2.40(3H,s)、2.83(2H,q,J=7.6Hz)、3.94(3H,s)、6.37(1H,s)
【0049】
実施例5(2−ベンジル−4−メトキシ−6−メチルピリミジンの合成)攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積100mlのガラス製フラスコに、窒素雰囲気下、28質量%ナトリウムメトキシド3.86g(20.0mmol)、フェニル酢酸メチル3.00g(20.0mmol)及び3−アミノ−3−メチルアクリロニトリル1.64g(20.0mmol)を加え、還流下(67℃)で10時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却してトルエン50mlを加えた後に、液温を30℃以下に保ちながら水20mlをゆるやかに添加した。次いで、有機層と水層を分離し、水層をトルエン20mlで2回抽出した。その抽出液(トルエン層)と有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(充填剤;ワコーゲルC−200(和光純薬工業社製)、展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=9:1(容量比))で精製し、無色透明液体として2−ベンジル−4−メトキシ−6−メチルピリミジン3.08gを得た(単離収率:72%)。2−ベンジル−4−メトキシ−6−メチルピリミジンの物性値は以下の通りであった。
【0050】
EI-MS(m/e);213(M-1)、CI-MS(M+1);215(M+1)
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm));2.40(3H,s)、3.90(3H,s)、4.12(2H,s)、6.37(1H,s)、7.17〜7.41(5H,m)
【0051】
【発明の効果】
本発明により、簡便な方法によって、入手が容易なカルボン酸エステル類と3-アミノアクリロニトリル類とから、収率良く4-オキシピリミジン誘導体を製造する、工業的に好適な4-オキシピリミジン誘導体の製法を提供することが出来る。

Claims (4)

  1. 一般式(1)
    Figure 0004165110
    (式中、Mは、金属原子を示し、Rは、置換基を有していても良い、炭化水素基を示す。)で示される金属アルコキシドの存在下、一般式(2)
    Figure 0004165110
    (式中、Rは、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は複素環基を示し、Rは、置換基を有していても良い、炭化水素基を示す。)で示されるカルボン酸エステル類と一般式(3)
    Figure 0004165110
    (式中、Rは、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は複素環基を示す。)で示される3−アミノアクリロニトリル類とを反応させることを特徴とする、一般式(4)
    Figure 0004165110
    (式中、R及びRは、前記と同義であり、Rは、前記のR又はRのいずれか一方と同一である。)で示される4−オキシピリミジン誘導体の製法。
  2. 一般式(2)のR が置換基を有していても良いアルキル基である請求項1に記載の4−オキシピリミジン誘導体の製法。
  3. 一般式(3)のR が置換基を有していても良いアルキル基である請求項1または 2 に記載の4−オキシピリミジン誘導体の製法。
  4. 一般式(3)のR がメチル基である請求項1〜3のいずれかに記載の4−オキシピリミジン誘導体の製法。
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