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JP4080515B2 - Optical recording method for two-layer phase change information recording medium - Google Patents

Optical recording method for two-layer phase change information recording medium Download PDF

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JP4080515B2 JP2006237524A JP2006237524A JP4080515B2 JP 4080515 B2 JP4080515 B2 JP 4080515B2 JP 2006237524 A JP2006237524 A JP 2006237524A JP 2006237524 A JP2006237524 A JP 2006237524A JP 4080515 B2 JP4080515 B2 JP 4080515B2
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Description

本発明は光情報記録・再生を行う光情報記録媒体に関し、さらに詳しくは、2層相変化型情報記録媒体の光記録方法に関する。   The present invention relates to an optical information recording medium that performs optical information recording / reproduction, and more particularly to an optical recording method for a two-layer phase change information recording medium.

CD−RやCD−RWなどの光ディスクは、ポリカーボネートなどプラスチックの円形基板の上に記録層を設け、さらにその上にアルミニウムや金、銀などの金属を蒸着またはスパッタリングして反射層を形成したもので、基板面側からレーザー光を入射して、信号の記録、再生を行う。近年、コンピューター等で扱う情報量が増加したことから、DVD−RAM、DVD−RW、DVD+RWのような、光ディスクの信号記録容量の増大、および信号情報の高密度化が進んでいる。CDの記録容量は650MB程度で、DVDは4.7GB程度であるが、今後、更なる高記録密度化が要求されている。   Optical discs such as CD-R and CD-RW have a recording layer provided on a plastic circular substrate such as polycarbonate, and a reflective layer is formed thereon by vapor deposition or sputtering of a metal such as aluminum, gold or silver. Then, laser light is incident from the substrate surface side to record and reproduce signals. In recent years, since the amount of information handled by computers and the like has increased, the signal recording capacity of optical disks such as DVD-RAM, DVD-RW, and DVD + RW has increased and the density of signal information has increased. The recording capacity of a CD is about 650 MB and the DVD is about 4.7 GB, but further higher recording density is required in the future.

本発明の従来技術として、このような高記録密度媒体を実現するために、使用するレーザー波長を青色光領域まで短波長化することが提案されている。また、記録再生を行うピックアップに用いられる対物レンズの開口数を大きくすることで、光記録媒体に照射されるレーザー光のスポットサイズを小さくして、高記録密度が可能となる。しかしながら、レーザーの短波長化や対物レンズの開口数の増大などにより、スポットサイズを小さくして記録密度を高める方法には限界があり、情報記録層を片面に2層設けることによって容量を高める技術が、特許第2702905号公報などが開示されている。   As a prior art of the present invention, in order to realize such a high recording density medium, it has been proposed to shorten the laser wavelength used to the blue light region. Further, by increasing the numerical aperture of an objective lens used for a pickup for recording / reproducing, the spot size of laser light irradiated on the optical recording medium can be reduced, and high recording density can be achieved. However, there is a limit to the method of increasing the recording density by reducing the spot size by shortening the wavelength of the laser or increasing the numerical aperture of the objective lens. A technology for increasing the capacity by providing two information recording layers on one side. However, Japanese Patent No. 2702905 is disclosed.

しかしながら、上記2層相変化光ディスクは多くの課題があり、まだ実用化には至っていない。例えば、レーザー光照射側から見て手前に位置する記録層がレーザー光を十分に透過しなければ、奥側に位置する記録層の記録、再生はできない。そこでレーザー光を十分に透過させるためには、第1情報記録層のAgやAlなどの反射層をなくすか、極薄にしなければならない。   However, the two-layer phase change optical disc has many problems and has not yet been put into practical use. For example, if the recording layer positioned in front of the laser beam irradiation side does not sufficiently transmit the laser beam, the recording layer positioned on the back side cannot be recorded or reproduced. Therefore, in order to sufficiently transmit the laser light, it is necessary to eliminate or make the reflection layer of Ag or Al of the first information recording layer very thin.

一般に相変化型光記録では、記録層をレーザー光照射により溶融させ、急冷することにより非晶質マークを形成するが、反射層のない第1情報記録層では、熱拡散が小さいために非晶質マークを形成することが困難になる。   In general, in phase change type optical recording, an amorphous mark is formed by melting a recording layer by laser light irradiation and quenching, but the first information recording layer without a reflective layer is amorphous because of low thermal diffusion. It becomes difficult to form a quality mark.

一方、レーザー光入射側からみて奥側にある第2情報記録層を記録、再生する場合は、レーザー光がピックアップに戻ってくるまでに第1情報記録層である程度吸収されてしまうために、第2情報記録層は、高吸収かつ高反射率でなければならない。そのためには、十分な厚さの反射層を設けなくてはならない。   On the other hand, when recording and reproducing the second information recording layer on the back side as viewed from the laser beam incident side, the laser beam is absorbed to some extent by the first information recording layer before returning to the pickup. 2 The information recording layer must be highly absorbing and highly reflective. For that purpose, a reflective layer having a sufficient thickness must be provided.

このことから、第1情報記録層と第2情報記録層は、熱的に構造が全く異なったものになり、第1情報記録層は第2情報記録層に比べて急冷しにくい、つまり非晶質化しにくいという現象が生じる。この問題を解決するためには、第1記録層も非晶質化しやすいように、それぞれの記録層材料の結晶化速度を変えたり、また、2層とも記録再生特性が良好になるよう、それぞれ別々の記録方法で記録するといったことが要求される。結晶化速度の遅い記録材料の方が、速い材料に比べて記録層の冷却速度が遅くても、すなわち急冷でなくても、非晶質化を行うことが出来る。つまり、急冷しにくい第1記録層に結晶化速度の遅い材料を用いることによって、第1、第2記録層とも同じ記録条件(記録線速度)で、良好に記録再生を行うことが出来る。   Therefore, the first information recording layer and the second information recording layer are thermally completely different from each other, and the first information recording layer is hard to be rapidly cooled compared to the second information recording layer, that is, amorphous. The phenomenon that it is difficult to improve occurs. In order to solve this problem, the crystallization speed of each recording layer material is changed so that the first recording layer is also easily amorphized, and the recording / reproduction characteristics of both layers are improved. Recording with different recording methods is required. A recording material having a slower crystallization rate can be amorphized even if the cooling rate of the recording layer is slower than that of a faster material, that is, it is not rapidly cooled. That is, by using a material with a low crystallization speed for the first recording layer that is difficult to cool rapidly, both the first and second recording layers can be recorded and reproduced satisfactorily under the same recording conditions (recording linear velocity).

本発明は、2層構造の相変化型光記録媒体において、上記問題点を解決し、第1情報記録層、第2情報記録層ともに記録再生特性の優れた2層相変化情報記録媒体の記録方法を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-mentioned problems in a phase change optical recording medium having a two-layer structure, and recording on a two-layer phase change information recording medium having excellent recording and reproducing characteristics in both the first information recording layer and the second information recording layer. It aims to provide a method.

前記の課題を解決するために、請求項では、光が入射される側から、光透過層、第1情報記録層、透明層、第2情報記録層の順に積層されてなる2層相変化型情報記録媒体に、光ビームを照射することにより、前記2層相変化型情報記録媒体の記録層に相変化を生じさせ情報の記録・消去を行う記録方法において、第1情報記録層の記録における記録パワーPw1と消去パワーPe1の比、Pw1/Pe1が、2.5≦Pw1/Pe1≦3.2で、かつ、第2情報記録層の記録における記録パワーPw2と消去パワーPe2の比、Pw2/Pe2が、1.7≦Pw2/Pe2≦2.7である2層相変化型情報記録媒体の光記録方法であることを主要な特徴とする。 In order to solve the above-described problem, in claim 1 , a two-layer phase change in which a light transmission layer, a first information recording layer, a transparent layer, and a second information recording layer are laminated in this order from the light incident side. In a recording method for recording and erasing information by causing a phase change in the recording layer of the two-layer phase change information recording medium by irradiating a light beam onto the type information recording medium, the recording of the first information recording layer The ratio of the recording power Pw1 to the erasing power Pe1, and Pw1 / Pe1 is 2.5 ≦ Pw1 / Pe1 ≦ 3.2, and the ratio of the recording power Pw2 to the erasing power Pe2 in the recording of the second information recording layer is Pw2. The main feature is that / Pe2 is an optical recording method for a two-layer phase change information recording medium in which 1.7 ≦ Pw2 / Pe2 ≦ 2.7 .

本発明の効果として、2層構造の相変化型光記録媒体において、第1情報記録層、第2情報記録層ともに記録再生特性の優れた2層相変化情報記録媒体の記録方法を提供することができる。   As an effect of the present invention, in a phase change optical recording medium having a two-layer structure, a recording method for a two-layer phase change information recording medium having excellent recording and reproducing characteristics for both the first information recording layer and the second information recording layer is provided. Can do.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態に係わる2層層変化型情報記録媒体の概略断面図である。光透過層3の上に、第1情報記録層1、透明層4、第2情報記録層2、保護基板5を順次蓄積した構造からなるものである。第1情報記録層1は、第1下部保護層11、第1記録層12、第1上部保護層13、第1反射層14、第1放熱層15からなり、第2情報記録層2は、第2下部保護層21、第2記録層22、第2上部保護層23、第2反射層24からなる。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a two-layer change type information recording medium according to an embodiment of the present invention. The first information recording layer 1, the transparent layer 4, the second information recording layer 2, and the protective substrate 5 are sequentially stacked on the light transmission layer 3. The first information recording layer 1 includes a first lower protective layer 11, a first recording layer 12, a first upper protective layer 13, a first reflective layer 14, and a first heat dissipation layer 15, and the second information recording layer 2 includes It consists of a second lower protective layer 21, a second recording layer 22, a second upper protective layer 23, and a second reflective layer 24.

光透過層3、透明層4の材料は通常ガラス、セラミックスあるいは樹脂であり、樹脂基板が成形性、コストの点で好適である。樹脂の例としてはポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられるが、成形性、光学特性、コストの点で優れるポリカーボネート樹脂やポリメチルメタクリレート(PMMA)などのアクリル系樹脂が好ましい。   The material of the light transmission layer 3 and the transparent layer 4 is usually glass, ceramics or resin, and a resin substrate is preferable in terms of moldability and cost. Examples of the resin include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer resin, polyethylene resin, polypropylene resin, silicone resin, fluorine resin, ABS resin, urethane resin, etc. Acrylic resins such as polycarbonate resin and polymethyl methacrylate (PMMA), which are excellent in terms of moldability, optical characteristics, and cost, are preferable.

光透過層3あるいは透明層4には案内溝などの凹凸パターンが形成されており、射出成形または、フォトポリマー法によって成形される。透明層4は、記録再生を行う際に、ピックアップが第1情報記録層と第2情報記録層とを識別し、光学的に分離可能とする厚さであり、30〜50μmが好ましい。50μmより厚いと、第2情報記録層を記録再生する際に、球面収差が発生し、記録再生が困難になってしまう。 The light transmissive layer 3 or the transparent layer 4 is provided with an uneven pattern such as a guide groove, and is formed by injection molding or a photopolymer method. The transparent layer 4 has a thickness that enables the pickup to distinguish between the first information recording layer and the second information recording layer and perform optical separation when recording and reproduction are performed, and is preferably 30 to 50 μm. If the thickness is larger than 50 μm, spherical aberration occurs when recording / reproducing the second information recording layer, and recording / reproducing becomes difficult.

録層12、22の材料としては、Sb−Te共晶系合金が使用される。CD−RWで使われているAg−In−Sb−Te四元系合金も、Sb−Te共晶系合金を主成分としており、記録(アモルファス化)感度・速度、及び消去比が極めて良好なため、記録層の材料として適している。また、結晶化速度も速く、高線速記録、高密度記録に適している。これらの記録層材料にはさらなる性能向上、信頼性向上などを目的にAg、Inの他に、Au、Al、B、Bi、C、Ca、Cu、Cr、Co、Cd、Ce、Cs、Dy、Fe、Ge、Gd、Hf、K、La、Li、Mn、Ni、Nb、N、Nd、Na、O、Os、Pd、Pr、Pb、Ru、Rh、Rb、S、Sb、Si、Sm、Sc、Se、Ti、Tb、Ta、V、W、Y、Zn、Zrなどの他の元素や不純物を添加することができる。Sb−Te共晶系合金は、Sb−Teの比によって結晶化速度が変化することが知られている。すなわち、Sb−Te比が大きいほど、結晶化速度は速くなる。 As the material of the serial Rokuso 12, 22, Sb-Te eutectic alloy is used. The Ag-In-Sb-Te quaternary alloy used in CD-RW is also mainly composed of an Sb-Te eutectic alloy, and has a very good recording (amorphization) sensitivity / speed and erasure ratio. Therefore, it is suitable as a material for the recording layer. Further, the crystallization speed is high, and it is suitable for high linear velocity recording and high density recording. In addition to Ag and In for the purpose of further improving performance and reliability, these recording layer materials include Au, Al, B, Bi, C, Ca, Cu, Cr, Co, Cd, Ce, Cs, and Dy. Fe, Ge, Gd, Hf, K, La, Li, Mn, Ni, Nb, N, Nd, Na, O, Os, Pd, Pr, Pb, Ru, Rh, Rb, S, Sb, Si, Sm , Sc, Se, Ti, Tb, Ta, V, W, Y, Zn, Zr, and other elements and impurities can be added. It is known that the crystallization speed of the Sb—Te eutectic alloy changes depending on the ratio of Sb—Te. That is, the larger the Sb-Te ratio, the faster the crystallization rate.

記録材料の結晶化速度を測定するのは、通常は転移線速を測定し、その値から結晶化速度を見積もっている。転移線速とは、線速を速めながらDCイレーズを行い、反射率が下がり始めた線速、すなわち、非晶質化が始まった線速の事をいう。結晶化速度が速いほど、当然、非晶質化の始まる線速も速くなるため、転移線速によって結晶化速度が速いか遅いかを相対的に評価することが出来る。   The crystallization speed of the recording material is usually measured by measuring the transition linear velocity and estimating the crystallization speed from the measured value. The transition linear velocity means a linear velocity at which the reflectivity starts to decrease after DC erasing while increasing the linear velocity, that is, a linear velocity at which amorphization has started. Naturally, the higher the crystallization speed, the higher the linear speed at which amorphization starts. Therefore, it is possible to relatively evaluate whether the crystallization speed is fast or slow depending on the transition linear speed.

1情報記録層を構成する第1記録層材料のSb−Te比と、第2情報記録層を構成する第2記録層材料のSb−Te比を変えて、それぞれ適切に選ぶことにより、第1情報記録層、第2情報記録層ともに記録再生特性の優れた2層相変化型情報記録媒体を得た。すなわち、第1記録層材料を構成するSb/Teの原子比Sb−Te=X、第2記録層材料を構成するSb/Teの原子比Sb−Te=Yとすると、X≦Yとすることによって、2層ともに、高C/Nで、消去比の優れることを見出した。Sb−Te比は、第1記録層、第2記録層ともに、2≦Sb−Te≦4.6であることが好ましい。2より小さいと、結晶化速度が遅すぎ、高線速記録が不可能となり、また、消去比も悪化してしまう。4.6より大きいと、第1情報記録層では、C/N値が不十分になり、保存特性も悪化する。以上の範囲内でSb−Teを調節し、第1記録層と第2記録層の転移線速の差を、2m/s以上にすることが好ましい。 By appropriately selecting the Sb-Te ratio of the first recording layer material constituting the first information recording layer and the Sb-Te ratio of the second recording layer material constituting the second information recording layer, respectively, A two-layer phase change information recording medium having excellent recording / reproducing characteristics was obtained for both the one information recording layer and the second information recording layer. That is, if Sb / Te atomic ratio Sb-Te = X constituting the first recording layer material and Sb / Te atomic ratio Sb-Te = Y constituting the second recording layer material, X ≦ Y. Thus, the two layers were found to have high C / N and an excellent erase ratio. The Sb-Te ratio is preferably 2 ≦ Sb−Te ≦ 4.6 for both the first recording layer and the second recording layer. If it is less than 2, the crystallization speed is too slow, high linear velocity recording becomes impossible, and the erasure ratio also deteriorates. If it is larger than 4.6, the C / N value becomes insufficient in the first information recording layer, and the storage characteristics also deteriorate. It is preferable to adjust Sb-Te within the above range so that the difference in transition linear velocity between the first recording layer and the second recording layer is 2 m / s or more.

また、第1記録層材料は、GeTe−Sb2Te3擬似二元合金を主成分とした材料を用いてもよい。GeTe−Sb2Te3擬似二元合金記録層は、GeTeを多くすることによって、結晶と非晶質の光学定数の差が大きくなることが知られており、第1情報記録層のような、反射量の少ない場合でも、結晶と非晶質の反射率差を大きくすることができるというメリットがある。しかしながら、消去パワーマージンが狭いことや、記録層に隣接して界面層を設けなければ記録特性が優れないといったデメリットもある。 The first recording layer material may be a material mainly composed of GeTe—Sb 2 Te 3 pseudo binary alloy. The GeTe-Sb 2 Te 3 pseudo binary alloy recording layer is known to increase the difference in optical constant between crystal and amorphous when GeTe is increased, like the first information recording layer, Even when the amount of reflection is small, there is an advantage that the difference in reflectance between crystal and amorphous can be increased. However, there are demerits that the erasing power margin is narrow and the recording characteristics are not excellent unless an interface layer is provided adjacent to the recording layer.

Sb−Te共晶系合金、GeTe−Sb2Te3擬似二元合金それぞれの長所を利用し、第1記録層にはGeTe−Sb2Te3擬似二元合金を、第2記録層にはSb−Te共晶系合金を主成分とした記録材料を用いることにより、2層ともに、記録再生特性の優れた2層相変化型情報記録媒体を得た。これも本発明の形態のひとつである。本発明の記録層は、各種気相成長法、たとえば真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマCVD法、光CVD法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などによって形成できる。なかでも、スパッタリング法が、量産性、膜質等に優れている。 Sb-Te eutectic alloy, utilizing the GeTe-Sb 2 Te 3 pseudo binary alloy, respectively advantages and the first recording layer GeTe-Sb 2 Te 3 pseudo binary alloy, the second recording layer Sb By using a recording material mainly composed of a -Te eutectic alloy, a two-layer phase change information recording medium having excellent recording and reproducing characteristics was obtained for both layers. This is also one form of the present invention. The recording layer of the present invention can be formed by various vapor phase growth methods such as vacuum deposition, sputtering, plasma CVD, photo CVD, ion plating, and electron beam evaporation. Among these, the sputtering method is excellent in mass productivity and film quality.

反射層14、24としては、Al、Au、Ag、Cu、Taなどの金属材料、またはそれらの合金などを用いることができる。また、添加元素としては、Cr、Ti、Si、Pdなどが使用される。このような反射層は、各種気相成長法、たとえば真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマCVD法、光CVD法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などによって形成できる。なかでも、スパッタリング法が、量産性、膜質等に優れている。第2反射層24は、50〜200nm、好適には80〜150nmとするのがよい。50nmより薄くなると反射率が小さくなり、200nmより厚くなると感度の低下を生じる。   As the reflective layers 14 and 24, metal materials such as Al, Au, Ag, Cu, and Ta, or alloys thereof can be used. Further, Cr, Ti, Si, Pd or the like is used as an additive element. Such a reflective layer can be formed by various vapor deposition methods such as vacuum deposition, sputtering, plasma CVD, photo CVD, ion plating, and electron beam deposition. Among these, the sputtering method is excellent in mass productivity and film quality. The second reflective layer 24 is 50 to 200 nm, preferably 80 to 150 nm. When the thickness is less than 50 nm, the reflectance decreases, and when the thickness is greater than 200 nm, the sensitivity is lowered.

第1情報記録層の光透過率減少を防ぐためには、第1反射層14は設けない方が好ましいが、第1反射層14を設けることにより、記録時に第1記録層12の熱が、第1上部保護層13を介して第1反射層14に拡散されるので、より冷却速度が速くなり、非晶質マークの形成が容易になり、ジッター値も低くなる。また、光学シミュレーションによれば、結晶部の反射率と非晶質の反射率の差を大きくすることができ、大きな再生信号振幅を得られる。しかしながら、第2情報記録層へ透過するレーザー光を考慮すると、反射膜14の膜厚は10nm以下であることが好ましい。10nmより厚いと、透過率が減少し、第2情報記録層の記録再生が困難になる。   In order to prevent a decrease in the light transmittance of the first information recording layer, it is preferable not to provide the first reflective layer 14, but by providing the first reflective layer 14, the heat of the first recording layer 12 is increased during recording. 1 Diffused to the first reflective layer 14 via the upper protective layer 13, the cooling rate becomes faster, the formation of amorphous marks becomes easier, and the jitter value also becomes lower. Further, according to the optical simulation, the difference between the reflectance of the crystal part and the reflectance of the amorphous part can be increased, and a large reproduction signal amplitude can be obtained. However, in consideration of the laser light transmitted to the second information recording layer, the thickness of the reflective film 14 is preferably 10 nm or less. If it is thicker than 10 nm, the transmittance decreases and it becomes difficult to record and reproduce the second information recording layer.

また、第1記録層の結晶状態の反射光と非晶質状態の反射光のうち、反射率の高い方をR1High、低い方をR1Lowとすると、R1High/R1Low≧1.5であり、結晶状態および非晶質状態での光透過率が40%以上であることが好ましい。R1High/R1Lowが上記範囲外であると、第1情報記録層から得られる再生信号振幅が不足する。また、光透過率が40%に満たないと、第2情報記録層の記録再生が困難になる。 Of the reflected light amorphous state and the reflected light in the crystalline state of the first recording layer, a higher reflectance R 1High, lower the When R 1Low, with R 1High / R 1Low ≧ 1.5 In addition, the light transmittance in the crystalline state and the amorphous state is preferably 40% or more. When R 1High / R 1Low is out of the above range, the reproduction signal amplitude obtained from the first information recording layer is insufficient. Further, if the light transmittance is less than 40%, recording / reproduction of the second information recording layer becomes difficult.

また、第2記録層の結晶状態の反射光と非晶質状態の反射光のうち、反射率の高い方をR2High、低い方をR2Lowとすると、R2High/R2Low≧1.5であり、結晶状態および非晶質状態での光吸収率が50%以上であることが好ましい。R2High/R2Lowが上記範囲外であると、第2情報記録層から得られる再生信号振幅が不足する。また、光吸収率が50%未満であると、第2情報記録層の記録感度が不足する。 Of the reflected light amorphous state and the reflected light in the crystalline state of the second recording layer, a higher reflectance R 2High, lower the When R 2Low, with R 2High / R 2Low ≧ 1.5 In addition, it is preferable that the light absorptance in the crystalline state and the amorphous state is 50% or more. When R 2High / R 2Low is outside the above range, the reproduction signal amplitude obtained from the second information recording layer is insufficient. If the light absorption rate is less than 50%, the recording sensitivity of the second information recording layer is insufficient.

保護層11、13、21、23は記録層12、22の劣化変質を防ぎ、記録層12、22の接着強度を高め、かつ記録特性を高めるなどの作用を有するもので、SiO、SiO2、ZnO、SnO2、Al23、TiO2、In23、MgO、ZrO2などの金属酸化物、Si34、AlN、TiN、BN、ZrNなどの窒化物、ZnS、In23、TaS4などの硫化物、SiC、TaC、B4C、WC、TiC、ZrCなどの炭化物やダイヤモンド状カーボンあるいは、それらの混合物が挙げられる。これらの材料は、単体で保護層とすることもできるが、互いの混合物としてもよい。また、必要に応じて不純物を含んでもよい。保護層の融点は記録層よりも高いことが必要である。このような保護層は、各種気相成長法、たとえば真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマCVD法、光CVD法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などによって形成できる。なかでも、スパッタリング法が、量産性、膜質等に優れている。 Protective layer 11,13,21,23 prevents deterioration alteration of the recording layer 12 and 22 to increase the bonding strength of the recording layers 12 and 22, and as it has the effect of such increase recording characteristics, SiO, SiO 2, Metal oxides such as ZnO, SnO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , In 2 O 3 , MgO, ZrO 2 , nitrides such as Si 3 N 4 , AlN, TiN, BN, ZrN, ZnS, In 2 S 3 , sulfides such as TaS 4 , carbides such as SiC, TaC, B 4 C, WC, TiC, ZrC, diamond-like carbon, or a mixture thereof. These materials can be used alone as a protective layer, but may also be a mixture of each other. Moreover, you may contain an impurity as needed. The melting point of the protective layer needs to be higher than that of the recording layer. Such a protective layer can be formed by various vapor phase growth methods such as vacuum deposition, sputtering, plasma CVD, photo CVD, ion plating, and electron beam deposition. Among these, the sputtering method is excellent in mass productivity and film quality.

第1下部保護層11、第2下部保護層21の厚さは、20〜200nmであることが好ましい。20nm以下であると、保護膜としての機能を果たさなくなる。200nmより厚いと、量産性に問題が生じてくる。これらの範囲で、最適な反射率になるように、膜厚の設計を行う。第1上部保護層13、第2上部保護層23の膜厚は、3〜40nmであることが好ましい。3nmより薄いと、記録感度が低下してしまう。40nmより厚いと、放熱効果が得られなくなってしまう。   The thickness of the first lower protective layer 11 and the second lower protective layer 21 is preferably 20 to 200 nm. When the thickness is 20 nm or less, the function as a protective film is not achieved. If it is thicker than 200 nm, a problem arises in mass productivity. In these ranges, the film thickness is designed so as to obtain an optimum reflectance. The film thicknesses of the first upper protective layer 13 and the second upper protective layer 23 are preferably 3 to 40 nm. If it is thinner than 3 nm, the recording sensitivity is lowered. If it is thicker than 40 nm, the heat dissipation effect cannot be obtained.

放熱層15としては、AlN、Si34、SiC、Al23、BN、酸化インジウム/酸化スズ複合酸化物(ITO)、酸化スズ/酸化アンチモン複合酸化物(ATO)、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)など比較的熱伝導率の高いものが挙げられる。これらを単体としてもよいし、これらの混合物を用いてもよい。熱伝導率が下がらない範囲で、必要に応じて不純物を含んでいてもよい。放熱層15の膜厚は、20〜200nmが好ましい。20nmより薄いと、放熱効果が得られなくなる。200nmより厚いと、量産性に問題が生じる。 As the heat dissipation layer 15, AlN, Si 3 N 4 , SiC, Al 2 O 3 , BN, indium oxide / tin oxide composite oxide (ITO), tin oxide / antimony oxide composite oxide (ATO), diamond-like carbon ( DLC) and the like having a relatively high thermal conductivity. These may be used alone or a mixture thereof may be used. As long as the thermal conductivity does not decrease, impurities may be included as necessary. The film thickness of the heat dissipation layer 15 is preferably 20 to 200 nm. If it is thinner than 20 nm, the heat dissipation effect cannot be obtained. If it is thicker than 200 nm, a problem arises in mass productivity.

次に、2層相変化型情報記録媒体の記録方法について、詳細に説明する。本発明の2層相変化型情報記録媒体の記録方法は、線速度一定(CLV)方式で記録マークを形成する記録方法であり、第1情報記録層に記録を行う際の線速度が、第2情報記録層に記録を行う際の線速度より、速いことが特徴である。こうすることによって、第1情報記録層、第2情報記録層ともに、低ジッターかつ消去比が優れることを見出した。記録する際の線速度と、冷却速度に密接な関係がある。反射層14薄い第1情報記録層では、前述のように第2情報記録層に比べて冷却速度は遅くなる。したがって、第1情報記録層の線速度を速めることによって、冷却しやすくして、非晶質マークを容易に形成できる。このような記録方法を用いれば、第1記録層と第2記録層の材料構成を大きく変更しなくても、2層ともに記録特性の優れた光ディスクを提供することができる。 Next , the recording method of the two- layer phase change information recording medium will be described in detail. The recording method of the two-layer phase change information recording medium of the present invention is a recording method for forming a recording mark by a constant linear velocity (CLV) method, and the linear velocity when recording on the first information recording layer is 2 It is characterized by being faster than the linear velocity when recording on the information recording layer. By doing so, it has been found that both the first information recording layer and the second information recording layer have low jitter and an excellent erasure ratio. There is a close relationship between the linear velocity during recording and the cooling rate. As described above, the cooling rate of the first information recording layer with the thin reflective layer 14 is slower than that of the second information recording layer. Therefore, by increasing the linear velocity of the first information recording layer, it is easy to cool and an amorphous mark can be easily formed. By using such a recording method, it is possible to provide an optical disc having excellent recording characteristics in both layers without greatly changing the material configuration of the first recording layer and the second recording layer.

また、第1情報記録層の記録における記録パワーPw1と消去パワーPe1の比Pw1/Pe1を、第2情報記録層の記録における記録パワーPw2と消去パワーPe2の比Pw2/Pe2よりも大きくすることによって、第1情報記録層、第2情報記録層ともに、低ジッターかつ消去比が優れることを見出した。 Further, the ratio Pw 1 / Pe 1 of the recording power Pw 1 and the erasing power Pe 1 in the recording of the first information recording layer, the ratio of the recording power Pw 2 and the erasing power Pe 2 in the recording of the second information recording layer Pw 2 / It has been found that by making it larger than Pe 2 , both the first information recording layer and the second information recording layer have low jitter and an excellent erase ratio.

実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例になんら限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

参考例1
直径12cm、厚さ0.6mmで表面にピッチ0.4μmの連続溝によるトラッキングガイドの凹凸を持つポリカーボネート基板上にZnS・SiO2からなる第1下部保護層150nm、Ag−In−Sb−Teからなる第1記録層6nm、ZnS・SiO2からなる第1上部保護層10nm、AlTiからなる第1反射層10nm、AlNからなる放熱層200nmの順に製膜し、第1情報記録層を形成した。製膜方法はArガス雰囲気中のスパッタ法である。このようにして形成された第1記録層の透過率を測定した。この第1情報記録層上に、2P光重合法によって、ピッチ0.4μmの連続溝によるトラッキングガイドの凹凸を持つ透明層を形成した。透明層の厚さは40μmである。さらにその上に、ZnS・SiO2からなる第2下部保護層40nm、Ag−In−Sb−Teからなる第2記録層12nm、ZnS・SiO2からなる第2上部保護層15nm、AlTiからなる第2反射層150nmの順に製膜し、第2情報記録層を形成した。製膜方法はArガス雰囲気中のスパッタ法である。
Reference example 1
A first lower protective layer 150 nm made of ZnS · SiO 2 and Ag—In—Sb—Te on a polycarbonate substrate having a diameter of 12 cm, a thickness of 0.6 mm, and a surface of the groove having a tracking groove with a pitch of 0.4 μm on the surface. A first recording layer 6 nm, a first upper protective layer 10 nm made of ZnS · SiO 2, a first reflective layer 10 nm made of AlTi, and a heat dissipation layer 200 nm made of AlN were formed in this order to form a first information recording layer. The film forming method is a sputtering method in an Ar gas atmosphere. The transmittance of the first recording layer thus formed was measured. On this first information recording layer, a transparent layer having irregularities of tracking guides by continuous grooves with a pitch of 0.4 μm was formed by 2P photopolymerization. The thickness of the transparent layer is 40 μm. Further thereon, a second lower protective layer 40nm made of ZnS · SiO 2, Ag-In -Sb-Te second recording layer 12nm made of, the second upper protective layer 15nm made of ZnS · SiO 2, first made of AlTi Two reflective layers were formed in the order of 150 nm to form a second information recording layer. The film forming method is a sputtering method in an Ar gas atmosphere.

その上に、スピンコーターを用いてオーバーコート層を設けて2層相変化型光ディスクを作成した。第1記録層材料、第2記録層材料は、Ag、Inの量は一定でSb−Te比を変えて数種類の上記2層相変化型光ディスクの作製を行った。ついで、大口径の半導体レーザーを有する初期化装置によって、それぞれの光ディスクの記録層の初期化処理を行った。   On top of that, an overcoat layer was provided using a spin coater to prepare a two-layer phase change optical disc. For the first recording layer material and the second recording layer material, several types of the above-mentioned two-layer phase change type optical discs were produced by changing the Sb-Te ratio while the amounts of Ag and In were constant. Next, the initialization process of the recording layer of each optical disk was performed by an initialization apparatus having a large-diameter semiconductor laser.

作成された各光ディスクについてレーザー波長 407nmNA(開口数)=0.65線速 6.5m/s線密度0.19μm/bitの条件で、3TマークのC/Nおよび消去比の測定を行った。各メディアの第1記録層、第2記録層のSb−Teを横軸にし、CN、消去比を縦軸にしたグラフを図4に示す。図からわかるように、第1記録層、第2記録層におけるSb−Te比のそれぞれの最適値は、第1記録層の方が小さい値であることがわかった。また、これとは別にAg−In−Sb−Teを用いた相変化光ディスクのSb−Te比と転移線速の関係を示したのが、図5である。図4、5から、第1記録層のSb−Te比を第2記録層のSb−Te比よりも小さく、すなわち、第1記録層材料の結晶化速度を第2記録層の結晶化速度より遅くすれば、2層とも高C/Nおよび消去比に優れた2層相変化光ディスクを得ることが出来る。   For each of the produced optical disks, the C / N and erasure ratio of the 3T mark were measured under the conditions of laser wavelength 407 nm NA (numerical aperture) = 0.65 linear velocity 6.5 m / s linear density 0.19 μm / bit. FIG. 4 shows a graph in which Sb-Te of the first recording layer and the second recording layer of each medium is plotted on the horizontal axis, and CN and erase ratio are plotted on the vertical axis. As can be seen from the figure, the optimum value of the Sb-Te ratio in the first recording layer and the second recording layer is smaller in the first recording layer. In addition, FIG. 5 shows the relationship between the Sb—Te ratio of the phase change optical disk using Ag—In—Sb—Te and the transition linear velocity. 4 and 5, the Sb-Te ratio of the first recording layer is smaller than the Sb-Te ratio of the second recording layer, that is, the crystallization speed of the first recording layer material is higher than the crystallization speed of the second recording layer. By slowing down, a two-layer phase change optical disk having a high C / N ratio and an excellent erasure ratio can be obtained.

参考例2
直径12cm、厚さ0.6mmで表面にピッチ0.4μmの連続溝によるトラッキングガイドの凹凸を持つポリカーボネート基板上にZnS・SiO2からなる第1下部保護層150nm、GeNからなる界面層3nm、Ge2Sb2Te5からなる第1記録層6nm、GeNからなる界面層3nm、ZnS・SiO2からなる第1上部保護層10nm、AlTiからなる第1反射層10nm、AlNからなる放熱層200nmの順に製膜し、第1情報記録層を形成した。製膜方法はArガス雰囲気中のスパッタ法である。このようにして形成された第1記録層の透過率を測定した。この第1情報記録層上に、2P法によって、ピッチ0.4μmの連続溝によるトラッキングガイドの凹凸を持つ透明層を形成した。透明層の厚さは40μmである。
Reference example 2
On a polycarbonate substrate having a diameter of 12 cm, a thickness of 0.6 mm, and a groove with tracking guides formed by continuous grooves with a pitch of 0.4 μm on the surface, a first lower protective layer 150 nm made of ZnS · SiO 2 , an interface layer 3 nm made of GeN, Ge The first recording layer 6 nm made of 2 Sb 2 Te 5, the interface layer 3 nm made of GeN, the first upper protective layer 10 nm made of ZnS · SiO 2, the first reflective layer 10 nm made of AlTi, and the heat dissipation layer 200 nm made of AlN in this order. A film was formed to form a first information recording layer. The film forming method is a sputtering method in an Ar gas atmosphere. The transmittance of the first recording layer thus formed was measured. On this first information recording layer, a transparent layer having tracking guide concavities and convexities formed by continuous grooves having a pitch of 0.4 μm was formed by the 2P method. The thickness of the transparent layer is 40 μm.

さらにその上に、ZnS・SiO2からなる第2下部保護層40nm、Ag1In7Sb65Te27からなる第2記録層12nm、ZnS・SiO2からなる第2上部保護層15nm、AlTiからなる第2反射層150nmの順に製膜し、第2情報記録層を形成した。 Further thereon, consisting of ZnS · SiO 2 and a second lower protective layer 40nm, Ag 1 In 7 Sb 65 second recording layer 12nm made of Te 27, a second upper protective layer 15nm made of ZnS · SiO 2, AlTi The second reflective layer was formed in the order of 150 nm to form a second information recording layer.

製膜方法はArガス雰囲気中のスパッタ法である。その上に、スピンコーターを用いてオーバーコート層を設けて2層相変化型光ディスクを作成した。ついで、大口径の半導体レーザーを有する初期化装置によって、光ディスクの記録層の初期化処理を行った。   The film forming method is a sputtering method in an Ar gas atmosphere. On top of that, an overcoat layer was provided using a spin coater to prepare a two-layer phase change optical disc. Next, the initialization process of the recording layer of the optical disk was performed by an initialization apparatus having a large-diameter semiconductor laser.

この光ディスクに対して、参考例1と同条件で3TマークのC/Nおよび消去比の測定を行った。また、第1情報記録層、第2情報記録層の光学特性を示す。なお、以下に示す反射率、光透過率、光吸収率は、それぞれの情報記録層に入射した光の強度を100%としたときの値である。
第1情報記録層
C/N:52dB
消去比:35dB
結晶部
反射率:11.6%
光透過率:56.4%
光吸収率:32.0%
非晶質部
反射率:4.7%
光透過率:50.8%
光吸収率:44.5%
第2情報記録層
C/N:56dB
消去比:48dB
結晶部
反射率:40.2%
光吸収率:59.8%
非晶質部
反射率:19.8%
光吸収率:80.2%
The C / N and erasure ratio of the 3T mark were measured on this optical disc under the same conditions as in Reference Example 1 . In addition, optical characteristics of the first information recording layer and the second information recording layer are shown. The reflectance, light transmittance, and light absorptance shown below are values when the intensity of light incident on each information recording layer is 100%.
First information recording layer C / N: 52 dB
Erase ratio: 35 dB
Crystal part reflectance: 11.6%
Light transmittance: 56.4%
Light absorption rate: 32.0%
Amorphous part reflectance: 4.7%
Light transmittance: 50.8%
Light absorption rate: 44.5%
Second information recording layer C / N: 56 dB
Erase ratio: 48 dB
Crystal part reflectance: 40.2%
Light absorption rate: 59.8%
Amorphous part reflectance: 19.8%
Light absorption rate: 80.2%

また、このサンプルディスクとは別に、Ge2Sb2Te5とAg1In7Sb65Te27を記録材料として用いた1層光ディスクをそれぞれ作成した。(基板/ZnS・SiO2:50nm/記録材料:15nm/ZnS・SiO2:15nm/Ag:120nm)この光ディスクを用いて、7mWの照射パワーでイレーズし、転移線速を測定したところ、Ge2Sb2Te5は1.5m/sで、Ag1In7Sb65Te27は8m/sであった。 Separately from this sample disk, single-layer optical disks using Ge 2 Sb 2 Te 5 and Ag 1 In 7 Sb 65 Te 27 as recording materials were prepared. (Substrate / ZnS · SiO 2: 50nm / recording material: 15nm / ZnS · SiO 2: 15nm / Ag: 120nm) using the optical disc where, to erase the irradiation power of 7 mW, was measured transition linear velocity, Ge 2 Sb 2 Te 5 was 1.5 m / s, and Ag 1 In 7 Sb 65 Te 27 was 8 m / s.

以上の結果から、この光ディスクは第1情報記録層で高い光透過率が得られているので、第2情報記録層へ十分な強度の光を入射することが出来た。また、第1情報記録層、第2情報記録層ともに、結晶、非晶質の反射率差が大きいので、十分な信号振幅を得ることができ、かつ、C/Nが大きく、消去比も優れているので、良好な記録再生特性を得ることが出来た。   From the above results, since this optical disk has a high light transmittance in the first information recording layer, it was possible to make light of sufficient intensity incident on the second information recording layer. In addition, since both the first information recording layer and the second information recording layer have a large difference in reflectance between crystal and amorphous, it is possible to obtain a sufficient signal amplitude, a large C / N, and an excellent erasure ratio. Therefore, good recording / reproduction characteristics could be obtained.

また、参考例1、2およびその他の試作実験からも、第2情報記録層から十分な信号振幅を得るには、第1記録層の結晶:非晶質反射率比R1High/R1Low≧1.5および第2記録層の結晶:非晶質反射率比R2High/R2Low≧1.5であることが必要であり、また第1記録層の結晶状態および非晶質状態での光透過率が40%以上、第2記録層の結晶状態および非晶質状態での光吸収率が50%以上であると良いことが確認された。 Also, from Reference Examples 1 and 2 and other prototype experiments, in order to obtain a sufficient signal amplitude from the second information recording layer, the crystal: amorphous reflectance ratio R 1High / R 1Low ≧ 1 of the first recording layer .5 and second recording layer crystal: amorphous reflectance ratio R 2 High / R 2 Low ≧ 1.5, and light transmission in the crystalline and amorphous states of the first recording layer It was confirmed that the light absorption rate in the crystalline state and the amorphous state of the second recording layer was preferably 50% or more when the rate was 40% or more.

実施例1
直径12cm、厚さ0.6mmで表面にピッチ0.4μmの連続溝によるトラッキングガイドの凹凸を持つポリカーボネート基板上にZnS・SiO2からなる第1下部保護層150nm、Ag1In7Sb65Te27からなる第1記録層6nm、ZnS・SiO2からなる第1上部保護層10nm、AlTiからなる第1反射層10nm、AlNからなる放熱層200nmの順に製膜し、第1情報記録層を形成した。製膜方法はArガス雰囲気中のスパッタ法である。このようにして形成された第1記録層の透過率を測定した。この第1情報記録層上に、2P法によって、ピッチ0.4μmの連続溝によるトラッキングガイドの凹凸を持つ透明層を形成した。透明層の厚さは40μmである。
Example 1
A first lower protective layer 150 nm made of ZnS · SiO 2 and Ag 1 In 7 Sb 65 Te 27 on a polycarbonate substrate having a diameter of 12 cm, a thickness of 0.6 mm, and a surface of a groove having a tracking guide with a pitch of 0.4 μm on the surface. A first recording layer 6 nm, a first upper protective layer 10 nm made of ZnS · SiO 2, a first reflective layer 10 nm made of AlTi, and a heat dissipation layer 200 nm made of AlN were formed in this order to form a first information recording layer. . The film forming method is a sputtering method in an Ar gas atmosphere. The transmittance of the first recording layer thus formed was measured. On this first information recording layer, a transparent layer having tracking guide concavities and convexities formed by continuous grooves having a pitch of 0.4 μm was formed by the 2P method. The thickness of the transparent layer is 40 μm.

さらにその上に、ZnS・SiO2からなる第2下部保護層40nm、Ag1In7Sb65Te27からなる第2記録層12nm、ZnS・SiO2からなる第2上部保護層15nm、AlTiからなる第2反射層150nmの順に製膜し、第2情報記録層を形成した。製膜方法はArガス雰囲気中のスパッタ法である。その上に、スピンコーターを用いてオーバーコート層を設けて2層相変化型光ディスクを作成した。ついで、大口径の半導体レーザーを有する初期化装置によって、それぞれの光ディスクの記録層の初期化処理を行った。 Further thereon, consisting of ZnS · SiO 2 and a second lower protective layer 40nm, Ag 1 In 7 Sb 65 second recording layer 12nm made of Te 27, a second upper protective layer 15nm made of ZnS · SiO 2, AlTi The second reflective layer was formed in the order of 150 nm to form a second information recording layer. The film forming method is a sputtering method in an Ar gas atmosphere. On top of that, an overcoat layer was provided using a spin coater to prepare a two-layer phase change optical disc. Next, the initialization process of the recording layer of each optical disk was performed by an initialization apparatus having a large-diameter semiconductor laser.

第1情報記録層、第2情報記録層のライトパワーPw、イレースパワーPeの比を変えて記録を行い、C/Nおよび消去比を測定した結果が図7である。図から明らかなように、第1情報記録層の記録における記録パワーPw1と消去パワーPe1の比、Pw1/Pe1が、2.5≦Pw1/Pe1≦3.2で、かつ、第2情報記録層の記録における記録パワーPw2と消去パワーPe2の比、Pw2/Pe2が、1.7≦Pw2/Pe2≦2.7であることで、第1情報記録層、第2情報記録層ともに、消去比が40dB以上となり、記録再生特性が優れることがわかった。FIG. 7 shows the result of recording by changing the ratio of the write power Pw and the erase power Pe of the first information recording layer and the second information recording layer, and measuring the C / N and the erasure ratio. As is apparent from the figure, the ratio of the recording power Pw1 to the erasing power Pe1 in the recording of the first information recording layer, Pw1 / Pe1, is 2.5 ≦ Pw1 / Pe1 ≦ 3.2, and the second information recording layer When the ratio of the recording power Pw2 and the erasing power Pe2 in the recording of Pw2 / Pe2 is 1.7 ≦ Pw2 / Pe2 ≦ 2.7, the erasing ratio is the same for both the first information recording layer and the second information recording layer. It was found that the recording / reproducing characteristics were excellent at 40 dB or more.

参考例3Reference example 3
実施例1の2層光ディスクの第1記録層、第2記録層に対してCLV方式で、記録線速を変えて記録を行い、C/Nおよび消去比を測定した結果が図6である。図から明らかなように、高C/Nおよび消去比最大となる記録線速は、第1情報記録層の方が第2情報記録層より速いことがわかる。このことから、線速度一定(CLV)方式で記録マークを形成する記録方式において、第1情報記録層に記録を行う際の線速度を、第2情報記録層に記録を行う際の線速度より速くすれば、第1情報記録層、第2情報記録層ともに、記録再生特性が優れることがわかった。FIG. 6 shows the result of measuring the C / N and the erasure ratio by performing recording on the first recording layer and the second recording layer of the two-layer optical disk of Example 1 by changing the recording linear velocity by the CLV method. As is apparent from the figure, the recording linear velocity at which the high C / N and the erasure ratio are maximized is faster in the first information recording layer than in the second information recording layer. Therefore, in the recording method in which the recording mark is formed by the constant linear velocity (CLV) method, the linear velocity when recording on the first information recording layer is higher than the linear velocity when recording on the second information recording layer. It was found that if the speed was increased, both the first information recording layer and the second information recording layer were excellent in recording / reproducing characteristics.

本発明の活用例としては、2層構造の相変化型光記録媒体において、第1情報記録層、第2情報記録層ともに記録再生特性の優れた2層相変化情報記録媒体の記録方法に好適に用いることができる。   As an application example of the present invention, in a phase change type optical recording medium having a two-layer structure, both the first information recording layer and the second information recording layer are suitable for a recording method of a two-layer phase change information recording medium excellent in recording / reproducing characteristics. Can be used.


本発明の一実施形態に係わる2層相変化型情報記録媒体の概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a two-layer phase change information recording medium according to an embodiment of the present invention. 本発明の他の実施形態に係わる2層相変化型情報記録媒体の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the two-layer phase change type information recording medium concerning other embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施形態に係わる2層相変化型情報記録媒体の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the two-layer phase change type information recording medium concerning further another embodiment of this invention. 第1及び第2情報記録層のSb−Te比とCN比、消去比の関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship between Sb-Te ratio of a 1st and 2nd information recording layer, CN ratio, and an erase ratio. 記録材料のSb−Te比と転移線速の関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship between Sb-Te ratio of a recording material, and a transition linear velocity. 第1及び第2情報記録層の記録線速とCN比、消去比の関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship between the recording linear velocity of a 1st and 2nd information recording layer, CN ratio, and an erasure ratio. 第1情報記録層及び第2情報記録層の記録パワーPと消去パワーの比に対するCN比、消去比の関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship of CN ratio with respect to the ratio of the recording power P and the erasing power of a 1st information recording layer and a 2nd information recording layer, and an erasing ratio.

符号の説明Explanation of symbols

1 第1情報記録層
2 第2情報記録層
3 光透過層
4 透明層
5 保護基板
11 第1下部保護層
12 第1記録層
13 第1上部保護層
14 第1反射層
15 放熱層
16 界面層
17 界面層
21 第2下部保護層
22 第2記録層
23 第2上部保護層
24 第2反射層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st information recording layer 2 2nd information recording layer 3 Light transmission layer 4 Transparent layer 5 Protective substrate 11 1st lower protective layer 12 1st recording layer 13 1st upper protective layer 14 1st reflection layer 15 Heat dissipation layer 16 Interface layer 17 Interface layer 21 Second lower protective layer 22 Second recording layer 23 Second upper protective layer 24 Second reflective layer

Claims (1)

光が入射される側から、光透過層、第1情報記録層、透明層、第2情報記録層の順に積層されてなる2層相変化型情報記録媒体に、光ビームを照射することにより、前記2層相変化型情報記録媒体の記録層に相変化を生じさせ情報の記録・消去を行う記録方法において、第1情報記録層の記録における記録パワーPw1と消去パワーPe1の比、Pw1/Pe1が、2.5≦Pw1/Pe1≦3.2で、かつ、第2情報記録層の記録における記録パワーPw2と消去パワーPe2の比、Pw2/Pe2が、1.7≦Pw2/Pe2≦2.7であることを特徴とする2層相変化型情報記録媒体の光記録方法。 By irradiating a light beam onto a two-layer phase change information recording medium in which a light transmission layer, a first information recording layer, a transparent layer, and a second information recording layer are laminated in this order from the light incident side , In the recording method for recording and erasing information by causing a phase change in the recording layer of the two-layer phase change type information recording medium, the ratio of the recording power Pw1 to the erasing power Pe1 in the recording of the first information recording layer, Pw1 / Pe1 Is 2.5 ≦ Pw1 / Pe1 ≦ 3.2, and the ratio of the recording power Pw2 to the erasing power Pe2 in the recording of the second information recording layer, Pw2 / Pe2, is 1.7 ≦ Pw2 / Pe2 ≦ 2. 7. An optical recording method for a two-layer phase change information recording medium,
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