JP3761612B2 - Semiconductor integrated circuit and test method thereof - Google Patents
Semiconductor integrated circuit and test method thereof Download PDFInfo
- Publication number
- JP3761612B2 JP3761612B2 JP24746195A JP24746195A JP3761612B2 JP 3761612 B2 JP3761612 B2 JP 3761612B2 JP 24746195 A JP24746195 A JP 24746195A JP 24746195 A JP24746195 A JP 24746195A JP 3761612 B2 JP3761612 B2 JP 3761612B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- signal
- memory circuit
- memory
- data
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路及びその試験方法に関するものであり、特に、データが随時書込み読出し可能なメモリを備えた半導体回路装置及びそのメモリ回路の試験方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、情報処理装置のデータ処理速度の高速化に伴いメモリ回路のデータ読出し速度の高速化が要求されている。また、半導体集積回路(以下LSIという)装置は、ユーザの要求から益々多機能化・高密度化している。そして、多機能LSIは、1つの基板に複雑な論理回路やメモリ回路が組み込まれる傾向にある。このようなLSIのメモリ回路を試験する場合、複雑なテストパターンと高性能の試験装置が必要になる。一般に、メモリ回路を性能評価するためには、アクセスタイム(データ読出し速度)と書込みパルス幅を測定する必要がある。アクセスタイムは、アドレスをメモリ回路に指定してからデータが読み出されるまでの時間であり、書込みパルス幅はライトイネーブル信号のパルス幅である。ライトイネーブル信号は、データの書込み又は読出し動作を設定する制御信号である。いずれの信号もメモリ回路の主要パラメータである。
【0003】
図10(A)〜(C)は従来例に係るメモリ回路の試験方法の説明図を示している。図10(A)において、1はデータが随時書込み読出し可能なメモリ回路(RAMマクロ)であり、複数のメモリセルを備えている。2はメモリ回路の性能評価のための試験をするメモリテスタである。メモリテスタ2は、メモリ回路1にテストパターンを入力したり、アドレスを指定した時点からデータが出力されるまでをサーチするストローブ信号(STRB)を発生したり、同様に、アドレスを指定した時点からデータが出力されるまでのライトイネーブル信号のパルス幅を広げる機能を有している。
【0004】
また、アドレスADX 、アドレスADY 、データDIN、ライトイネーブル信号WE、チップセレクト信号CS及び電源VCCは、メモリテスタ2からメモリ回路1へ供給し、出力データDOUT はメモリ回路1からメモリテスタ2へ出力する。メモリテスタ2とメモリ回路1は接地線GNDで接続する。
次に、メモリ回路1のアクセスタイム(TAA)を測定する場合について説明をする。まず、メモリテスタ2はチップセレクト信号CS及びライトイネーブル信号WEをいずれも「L」(ロー)レベルにし、その後、アドレスADX =0、ADY =0を指定してデータDIN=1をメモリセルに書き込む。また、メモリテスタ2はアドレスADX =1、ADY =1を指定してデータDIN=0をメモリセルに書き込む。
【0005】
その後、メモリテスタ2はライトイネーブル信号WEを「H」(ハイ)レベルにしてデータ読出し状態にし、アドレスADX =0、ADY =0を指定してデータDOUT =1の出力を期待する。この際に、メモリテスタ2内では図10(B)に示すようにアドレスADX =0、ADY =0を指定した時刻が記憶される。また、アドレスADX =0、ADY =0を指定した時点に、ストローブ信号(STRB)がデータDOUT =1の出力を検出(サーチ)し始める。このサーチは、データDOUT =1がメモリ回路1の出力端子に到達するまで続けられている。このサーチは、テストパターンを繰り返し発生することにより実行される。データDOUT =1が得らると、データが得られた時刻が記憶される。
【0006】
そして、メモリテスタ2ではデータDOUT =1が得られた時刻からアドレスADX =0、ADY =0を指定した時刻を引算することにより、アクセスタイムが算出できる。
次に、メモリ回路1へのライトイネーブル信号のパルス幅(TWW)を測定する場合について説明をする。まず、メモリテスタ2はチップセレクト信号CS及びライトイネーブル信号WEをいずれも「L」(ロー)レベルにする。そして、メモリ回路1を初期設定するために、アドレスADX =0、ADY =0を指定してデータDIN=0をメモリセルに書き込む。また、メモリテスタ2はアドレスADX =1、ADY =1を指定してデータDIN=1をメモリセルに書き込む。
【0007】
その後、メモリテスタ2はアドレスADX =0、ADY =0を指定してメモリセルのデータDIN=0を1に書き換え、データDOUT =1の出力を期待する。この際に、メモリテスタ2はライトイネーブル信号WEを「L」レベルから「H」レベルにしてデータ読出し状態にする。そして、メモリテスタ2内では図10(C)に示すようにアドレスADX =0、ADY =0を指定した時点からデータDOUT =1が出力されるまで、ライトイネーブル信号WEのパルス幅が徐々に広げられている。
【0008】
このパルス幅の拡張はテストパターンを繰り返し発生することにより実行されている。データDOUT =1を得たときのパルス幅がライトイネーブル信号のパルス幅として求められる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、メモリ回路のデータ読出しスピードが高くなると、ストローブ信号によってアクセスタイムをサーチする方法では、サンプルタイミングを短くするために、ストローブ信号の動作速度をデータ読出しスピードよりも数倍高くする必要がある。そして、アドレスを指定した時点からデータが得られるまでのサーチ精度を高くしなければならない。この結果、メモリ回路のデータ読出しスピードが高くなればなるほど高級なテスタが必要になる。
【0010】
また、ライトイネーブル信号WEのパルス幅を測定する場合に、メモリテスタ2は、ライトイネーブル信号WEのパルス幅を徐々に広げるためのテストパターンをメモリ回路1の各アドレス毎に発生しなくてはならない。このパルス幅の拡張は、アドレスを指定した時点からデータが出力されるまで続けなくてはならないため、複雑なテストパターンが必要となる。このため、パルス幅の精度が高くなるほど、高級なテスタが必要になる。
【0011】
このようにメモリ回路のデータ読出し速度の高速化に伴い、高い精度の試験装置や複雑なテストパターンを使用しなくてはならないので、データ読出し速度及び書込みパルス幅の測定が益々困難になったり、試験コストが増大するという問題があった。
本発明は、かかる従来例の問題点に鑑み創作されたものであり、メモリ回路のデータ読出し速度が高くなった場合であっても、複雑なテストパターンや高い精度の試験装置に依存することなく、メモリ回路の性能評価に必要なパラメータの一つである書込みパルス幅を簡易に測定することができる半導体集積回路及びその試験方法を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記の従来技術の課題を解決するため、本発明の一形態に係る半導体集積回路は、その実施形態として図5、図6に示すように、データを記憶する複数のメモリセルを備えたメモリ回路(20)と、該メモリ回路の出力をアドレス入力に帰還して該メモリ回路を発振させる帰還回路(11)と、外部からの書込み許可信号(WE)に基づいて複数種類のパルス幅のサンプル信号(WEa,WEb,WEc,WEd)を生成し、テストモード信号(TMw)及びパルス選択信号(S1,S2)に応答して前記複数種類のパルス幅のサンプル信号のうちいずれか1つを書込み許可信号(WEx)として前記メモリ回路に出力する書込みパルス発生回路(29)とを備えたことを特徴とする。
【0013】
本発明の半導体集積回路において、前記帰還回路は、テストモード信号と前記メモリ回路の出力信号から生成した帰還信号を出力する第1の論理回路と、前記第1の論理回路の帰還信号と外部アドレスから生成した内部アドレスを前記メモリ回路に出力する第2の論理回路から成ることを特徴とする。
【0015】
また、本発明の他の形態によれば、上記の形態に係る半導体集積回路の試験方法が提供される。この試験方法は、メモリ回路と、該メモリ回路の出力をアドレス入力に帰還して該メモリ回路を発振させる機能を備えた半導体集積回路の試験方法であって、予め、複数種類のパルス幅のサンプル信号を生成し、該複数種類のパルス幅のサンプル信号のうちいずれか1つを書込み許可信号として前記メモリ回路に入力すると共に、該メモリ回路にアドレスを入力して該メモリ回路をデータ書込み状態にし、前記メモリ回路が発振しないときは他のパルス幅のサンプル信号を該メモリ回路に入力してデータ書込み状態にし、前記メモリ回路が発振したときの当該サンプル信号のパルス幅から書込み許可信号のパルス幅を求めることを特徴とする。
【0018】
本発明に係る半導体集積回路及びその試験方法によれば、テストモード信号及びパルス選択信号を入力すると、書込みパルス発生回路において生成された複数種類のパルス幅のサンプル信号のうちいずれか1つが書込み許可信号としてメモリ回路に出力されるので、メモリ回路の発振状態を確認することによって、メモリ回路の主要パラメータである書込み許可信号のパルス幅を当該サンプル信号のパルス幅から求めることができる。
【0019】
すなわち、テストモード信号及びパルス選択信号が書込みパルス発生回路に入力されると、パルス選択信号に応じた任意のパルス幅のサンプル信号の1つが選択され、この選択されたサンプル信号は書込み許可信号としてメモリ回路に入力される。そして、このメモリ回路にアドレスを指定すると、メモリ回路がデータ書込み状態になる。そして、メモリ回路の発振を確認する。メモリ回路が発振すれば、データがメモリセルに書き込まれたものと判断できる。
【0020】
また、メモリ回路が発振しなければ、データがメモリセルに書き込まれていないので、他のパルス幅のサンプル信号(書込み許可信号)をメモリ回路に入力してデータ書込み状態にする。この結果、メモリ回路が発振すれば、このときのサンプル信号のパルス幅を検出することにより、書込み許可信号のパルス幅を簡単に求めることができる。
【0021】
【発明の実施の形態】
次に、図を参照しながら本発明の実施の形態について説明をする。図1〜9は、本発明の実施の形態に係る半導体集積回路及びその試験方法の説明図である。
(1)第1の実施の形態
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体集積回路の構成図を示している。図1において、10はデータを記憶するメモリセル群14を備えたRAMマクロ(以下単にRAMという)であり、メモリ回路の一例である。RAM10はデータが随時書込み読出し可能なメモリである。RAM10はアドレスバッファ12と、Xデコーダ13と、メモリセル群14と、Yデコーダ15と、センスアンプ16と、I/Oバッファ17と、タイミング発生回路18から成る。
【0022】
アドレスバッファ12はタイミング制御信号に基づいてアドレスADo 〜ADn を入力する。Xデコーダ13はタイミング制御信号に基づいて列アドレスADxをデコードする。列アドレスADxをデコードしたワード線選択信号はXデコーダ13からメモリセル群14へ出力される。メモリセル群14はワード線選択信号及びビット線選択信号に基づいてデータを記憶したり、データを出力する。
【0023】
Yデコーダ15はタイミング制御信号に基づいて行アドレスADY をデコードする。行アドレスADY のデコード結果となるビット線選択信号はYデコーダ15からセンスアンプ16へ出力される。センスアンプ16はタイミング制御信号及びビット線選択信号に基づいてビット線を選択する。I/Oバッファ17はライトイネーブル信号WEに基づいてデータを書込み状態にしたり、データを読出し状態にする。タイミング発生回路18はチップセレクト信号CS及びライトイネーブル信号WEに基づいて各種タイミング制御信号を生成する。
【0024】
11はRAM10の出力をアドレス入力に帰還してRAM10を発振させる帰還回路である。図2(A)はRAM10に接続した帰還回路の構成図を示している。図2(A)において、101 は、帰還信号Sfを二入力OR回路102 及び103 に帰還する二入力AND回路であり、第1の論理回路の一例である。帰還信号Sfはテストモード信号TMR とRAM10のデータ(出力信号)DOUT との論理積を採ったものである。
【0025】
3はテストモード信号TMR を外部から設定する端子である。端子3はRAM10の周辺に設けている。本発明の実施の形態ではアクセスタイムを測定するときには、テストモード信号TMR を「H」レベルにして、帰還回路11を動作(オン)させるようにする。なお、信号TMR を「L」レベルにすると、帰還回路11が非動作(オフ)状態になるようにしている。
【0026】
102 は、内部アドレスAXをRAM10の列アドレスとして入力する二入力OR回路であり、第2の論理回路を構成する。内部アドレスAXは帰還信号Sfと外部からの列アドレスADxとの論理和を採ったものである。
103 は、内部アドレスAYをRAM10の行アドレスとして入力する二入力OR回路であり、第2の論理回路を構成する。内部アドレスAYは帰還信号Sfと外部からの行アドレスADY との論理和を採ったものである。
【0027】
このように二入力AND回路101 がテストモード信号TMR とRAM10の出力データDOUT から帰還信号Sfを生成すると、この帰還信号Sfは、二入力AND回路101 から二入力OR回路102 及び103 へ出力される。そして、二入力OR回路102 及び103 は帰還信号Sfと外部アドレスADx,ADY から内部アドレスAX,AYを生成する。この内部アドレスAX,AYは二入力OR回路102 からRAM10に出力されるので、帰還回路11はRAM10の出力データDOUT を内部アドレスAX,AYとしてフィードバックすることができる。
【0028】
また、図2(A)において、RAM10内の14A〜14Dは4つのメモリセルを示している。本発明の実施の形態では、メモリセル14Aにはデータ「1」が書き込まれている。このデータ「1」はアドレスAX,AYに「0,0」を指定することにより書き込むようにする。メモリセル14Dにはデータ「0」が書き込まれている。このデータ「0」はアドレスAX,AYに「1,1」を指定することにより書き込まれるようにする。なお、本発明の実施の形態ではメモリセル14B,14Cにはデータが書き込まれない。従って、アドレスAX,AYに「1,0」を指定したり、「0,1」を指定しない。図2(A)において、200 は周波数カウンタであり、RAM10が発振した時の発振周波数を測定するものである。
【0029】
図2(B)はRAM10が発振した時の出力データの波形図を示している。本発明の実施の形態ではRAM10が発振すると、データ「1」と「0」とが交互に出力されるようになる。従って、データ「1」と「0」とを繰り返し読出す周期からアクセスタイムが測定できる。ここで、Tをデータ「1」と「0」とを繰り返し読出す周期とすると、アクセスタイム(TAA)はT/2となる。
【0030】
次に、RAM10を有する半導体集積回路の試験方法について、図3,4を参照しながら、アクセスタイムを測定する方法を説明する。予め、図4に示すように、テストモード信号TMR を「L」レベルにして、帰還回路11を非動作(オフ)状態にする。そして、RAM10のアドレス入力に「0,0」を指定してメモリセル14Aにデータ「1」を書き込む。また、RAM10のアドレス入力に「1,1」を指定してメモリセル14Dにデータ「0」を書き込む。このときのライトイネーブル信号WEのパルス幅はTWWである。これについては第2の実施の形態で説明する。
【0031】
その後、外部アドレスADx及びADY を0に固定したまま、テストモード信号TMR を図4に示すように「H」レベルにして、帰還回路11を動作(オン)させる。すると、図3(A)において、二入力OR回路102 の出力,すなわち、内部アドレスAXは「0」となり、二入力OR回路103 の出力,すなわち、内部アドレスAYは「0」となる。従って、アドレスAX,AYが「0,0」を指定するので、データ「1」が読み出される。このデータ「1」は二入力AND回路101 に出力されるので、AND回路101 の出力,すなわち、帰還信号は「1」に反転する。
【0032】
この結果、図3(B)において、二入力OR回路102 の出力,すなわち、内部アドレスAXは「1」となり、二入力OR回路103 の出力,すなわち、内部アドレスAYは「1」となる。従って、アドレスAX,AYが「1,1」を指定するので、データ「0」が読み出される。このデータ「0」は二入力AND回路101 に出力されるので、AND回路101 の出力,すなわち、帰還信号は「0」に反転する。
【0033】
従って、メモリセル14Aのデータ「1」及びメモリセル14Dのデータ「0」が交互に読み出され、このデータ「1」又は「0」がRAM10のアドレス入力に交互に帰還する。これにより、該RAM10が発振するので、RAM10の発振周波数を周波数カウンタ200 で測定すれば、発振周波数からアクセスタイム(データ読出し速度)が算出できる(図2(B)又は図4参照のこと)。
【0034】
このようにして本発明の第1の実施の形態に係る半導体集積回路では、RAM10のメモリセル14Aのデータ「1」及びメモリセル14Dのデータ「0」が交互に読み出されると、帰還回路11によってメモリセル14Aのデータ「1」及びメモリセル14Dのデータ「0」がRAM10のアドレス入力に帰還されるので、RAM10が発振する。
【0035】
したがって、RAM10の発振周波数を周波数カウンタ200 で測定することにより、データ「1」と「0」とを繰り返し読出す周期TからアクセスタイムがT/2によって簡易に測定できる。
このようにアクセスタイムが簡易に測定できるので、メモリ回路のデータ読出し速度が高くなった場合であっても、複雑なテストパターンや高い精度の試験装置に依存しなくなる。また、一次試験(ウエハ状態での試験)の段階で、メモリ回路の主要パラメータが測定できるので、1つの基板に複雑な論理回路やメモリ回路を組み込んだ多機能LSIの完成時の動作予測及び早期に良・不良品の振り分けを行うことができる。この結果、1次試験以降の工程スケジュールが立て易くなり、ウエハプロセス工程及び設計へのフィードバック等も容易になる。
【0036】
更に、最終試験(パッケージに組んだ状態での試験)の段階でも、メモリ回路のアクセスタイムが簡易に測定できるので、高性能のテスタや複雑なテストパターンに依存しない。これにより、大幅な試験コストが低減できる。
(2)第2の実施の形態
図5は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体集積回路の構成図を示している。第2の実施の形態では第1の実施の形態と異なり、ライトイネーブル信号(書込み許可信号)WExをRAM20のI/Oバッファ17に出力する可変型−パルス信号発生器(以下単にWPG回路という)を設けているものである。
【0037】
すなわち、本発明の第2の実施の形態に係る半導体集積回路は、図5に示すように、帰還回路11及びRAM20から成る。RAM20は図5において、アドレスバッファ12と、Xデコーダ13と、メモリセル群14と、Yデコーダ15と、センスアンプ16と、I/Oバッファ17と、タイミング発生回路28及びWPG回路29から成る。
【0038】
WPG回路29はライトイネーブル信号WExをI/Oバッファ17に出力する回路であり、書込みパルス発生回路の一例である。ライトイネーブル信号WExは、テストモード信号TMw及びパルス選択信号S1,S2を入力したWPG回路29によって生成される。WPG回路29は、後述するように内部で生成した4種類のパルス幅のサンプル信号(図6の例では、WEa,WEb,WEc,WEdで示される信号)のうちいずれか1つをライトイネーブル信号WExとしてI/Oバッファ17に出力する。このWPG回路29の内部構成図については、図6において詳述する。
【0039】
また、アドレスバッファ12と、Xデコーダ13と、メモリセル群14と、Yデコーダ15と、センスアンプ16と、I/Oバッファ17と、タイミング発生回路28の機能については第1の実施の形態と同様であるので、その説明を省略する。
図6はWPG回路29の内部構成図を示している。図6において、4は、テストモード信号TMW を外部から設定する端子である。端子4はRAM20の周辺に設けている。本発明の実施の形態では書込みパルス幅を測定するときに、テストモード信号TMW を「H」レベルにしてWPG回路29を動作(オン)させるようにしている。また、信号TMW を「L」レベルにすると、WPG回路29が非動作(オフ)状態にするようにしている。
【0040】
5、6はパルス選択信号S1,S2を外部から設定する2つの端子である。端子5、6はRAM20の周辺に設けている。信号S1,S2は書込みパルス幅を測定するときに、4種類のパルス幅のサンプル信号WE1,WE2,WE3,WE4の1つを選択する信号となる。信号S1,S2は2ビットのデータ「0」,「1」を組み合わせて端子に入力する。
【0041】
30はテストモード信号TMW を反転するインバータである。31はパルス選択信号S1を反転するインバータである。32はパルス選択信号S2を反転するインバータである。33は反転テストモード信号TMW 、ライトイネーブル信号WE、パルス選択信号S1及びS2の否定論理和を採ったサンプル信号WEaを出力する4入力NOR回路である。ここで、サンプル信号WEaのパルス幅はaである。
【0042】
34は反転テストモード信号TMW 、ライトイネーブル信号WE、パルス選択信号S1及び反転パルス選択信号S2の論理和を採った信号を出力する4入力OR回路である。35は反転テストモード信号TMW 、ライトイネーブル信号WE、反転パルス選択信号S1及びパルス選択信号S2の論理和を採った信号を出力する4入力OR回路である。36は反転テストモード信号TMW 、ライトイネーブル信号WE、反転パルス選択信号S1及びS2の論理和を採った信号を出力する4入力OR回路である。
【0043】
37は4入力OR回路34の出力信号を遅延してサンプル信号WEbを出力するインバータである。サンプル信号WEbのパルス幅はbである。38,39は4入力OR回路35の出力信号を遅延してサンプル信号WEcを出力するインバータを各々示している。サンプル信号WEcのパルス幅はcである。
40,41,42は4入力OR回路36の出力信号を遅延してサンプル信号WEdを出力するインバータを各々示している。サンプル信号WEdのパルス幅はdである。4つのサンプル信号WEa〜WEdのパルス幅の大小関係はa<b<c<dに設定している。
【0044】
43はライトイネーブル信号WE、サンプル信号WEa、WEb、WEc、WEdの論理和を採って、4つの中の1つのサンプル信号WExを出力する5入力OR回路である。5入力OR回路43の出力はI/Oバッファ17にライトイネーブル信号の候補として入力される。
次に、WPG回路の機能を説明する。RAM20の書込みパルス幅を測定しない通常動作時には、図7に示すように、テストモード信号TMW が「L」レベルになる。従って、WPG回路29はオフする。この結果、パルス選択信号S1及びS2の論理に係わらず、外部から入力されたパルス幅のライトイネーブル信号WEがそのままRAM20のI/Oバッファ17に出力される。
【0045】
また、RAM20の書込みパルス幅を測定する試験動作時には、図8に示すようにテストモード信号TMW が「H」レベルになる。従って、WPG回路29はオンする。この結果、パルス選択信号S1及びS2が「0,0」のときには、5入力OR回路43からI/Oバッファ17へライトイネーブル信号の候補としてパルス幅aのサンプル信号WEaが出力される。
【0046】
更に、パルス選択信号S1及びS2が「0,1」のときには、5入力OR回路43からI/Oバッファ17へライトイネーブル信号の候補としてパルス幅bのサンプル信号WEbが出力される。更に、パルス選択信号S1及びS2が「1,0」のときには、5入力OR回路43からI/Oバッファ17へライトイネーブル信号の候補としてパルス幅cのサンプル信号WEcが出力される。同様に、パルス選択信号S1及びS2が「1,1」のときには、5入力OR回路43からI/Oバッファ17へライトイネーブル信号の候補としてパルス幅dのサンプル信号WEdが出力される。
【0047】
次に、RAM20を有する半導体集積回路の試験方法について、図9を参照しながら、ライトイネーブル信号のパルス幅を測定する方法を説明する。予め、図6に示したようなWPG回路29によって、図8に示したような4種類のパルス幅a〜dのサンプル信号WEa〜WEdが出力できるようにする。
また、図9に示すように、テストモード信号TMR は「L」レベルにしたままで、テストモード信号TMW を「H」レベルにし、チップセレクト信号CSを「L」レベルにする。そして、RAM20をデータを書き込むために、アドレスADX =0、ADY =0を指定する。この際に、パルス選択信号S1及びS2に「0,0」を入力して、WPG回路29からI/Oバッファ17にパルス幅aのサンプル信号WEaを入力する。本発明の実施の形態では、狭いパルス幅のサンプル信号から徐々に広いパルス幅のサンプル信号へ設定するようにしている。
【0048】
これにより、ライトイネーブル信号WExによってデータDIN=1がメモリセルに書き込まれるようになるが、選択した信号WEaのパルス幅aが狭いとデータDINがメモリセルに書き込むことができない。なお、データDIN=1がメモリセルに書き込まれ否かは、第1の実施の形態で説明したように、テストモード信号TMR を「H」レベルにして、出力データをアドレス入力に帰還し、RAM20が発振するか否により確認する。
【0049】
したがって、サンプル信号WEaで発振しないときには、テストモード信号TMR を「L」レベルに戻す。そして、aよりパルス幅の広いサンプル信号WEbを選択するために、パルス選択信号S1及びS2に「0,1」を入力する。また、アドレスADX =1、ADY =1を指定してデータDIN=0をメモリセルに書き込むようにする。
【0050】
すると、WPG回路29からI/Oバッファ17にパルス幅bのサンプル信号WEbが入力される。その後、テストモード信号TMR を「H」レベルにして、RAM20が発振するか否により確認する。これにより、RAM20が発振する場合には、パルス幅bのサンプル信号WEbによってデータDINが書き込めたことになる。このサンプル信号WEbのパルス幅b以下ではデータ書込みができないことがわかり、RAM20の主要パラメータである書込みパルス幅を把握することができる。
【0051】
このようにして、本発明の第2の実施の形態に係る半導体集積回路では、テストモード信号TMW 及びパルス選択信号S1,S2を入力すると、4種類のパルス幅a〜dのサンプル信号WEa〜WEdの1つがライトイネーブル信号WExとしてWPG回路29からRAM20のI/Oバッファ17に出力されるので、RAM20の発振状態を確認することによって、メモリの主要パラメータであるライトイネーブル信号WEのパルス幅をサンプル信号WExのパルス幅から求めることができる。
【0052】
なお、RAM20が発振しなければ、データDINがメモリセルに書き込まれていないので、パルス選択信号S1,S2を入力し直して他のパルス幅のサンプル信号を選択し、残りのパルス幅のサンプル信号の1つをライトイネーブル信号WEとしてWPG回路29からRAM20のI/Oバッファ17に出力する。そして、RAM20を書込み状態にする。この結果、RAM20が発振すれば、このサンプル信号のパルス幅を検出することにより、ライトイネーブル信号WEのパルス幅を求めることができる。
【0053】
このようにすると、従来例のような、アドレスを指定した時点からデータが出力されるまで、ライトイネーブル信号WEのパルス幅を徐々に広げるためのテストパターンが要らないし、各アドレス毎に複雑なテストパターンを発生しなくても済み、メモリテスタの負担が軽減できる。
これにより、RAM20のデータ読出し速度が高くなった場合であっても、複雑なテストパターンや高い精度の試験装置に依存することなく、RAM20の書込みパルス幅が簡易に測定できる。
【0054】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の半導体集積回路では、帰還回路がメモリ回路の出力をアドレス入力に帰還するので、メモリ回路が発振する。このため、読出しデータの発振周波数を測定することにより、この発振周波数の2分の1周期によってアクセスタイムが測定できる。
【0055】
本発明の他の半導体集積回路では、テストモード信号及びパルス選択信号を入力すると、何種類かのパルス幅のサンプル信号の1つが書込み許可信号として信号出力回路からメモリ回路に出力されるので、メモリ回路の発振状態を確認することによって、書込み許可信号のパルス幅をサンプル信号のパルス幅から求めることができる。
【0056】
これにより、簡易試験が可能なメモリ内蔵型の半導体集積回路の提供に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る半導体集積回路の構成図である。
【図2】本発明の各実施の形態に係る帰還回路の説明図及び出力データの波形図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態に係るメモリマクロの動作補足図である。
【図4】本発明の第1の実施の形態に係るメモリ試験時の動作波形図である。
【図5】本発明の第2の実施の形態に係る半導体集積回路の構成図である。
【図6】本発明の第2の実施の形態に係るパルス発生回路の構成図である。
【図7】本発明の第2の実施の形態に係るパルス発生回路の動作波形図(その1)である。
【図8】本発明の第2の実施の形態に係るパルス発生回路の動作波形図(その2)である。
【図9】本発明の第2の実施の形態に係るメモリ試験時の動作波形図である。
【図10】従来例に係るメモリ回路の試験方法の説明図である。
【符号の説明】
1…メモリ回路、2…メモリテスタ、11…帰還回路、12…アドレスバッファ、13…Xデコーダ、14…メモリセル群、15…Yデコーダ、16…センスアンプ、17…I/Oバッファ、18,28…タイミング発生回路、101 …二入力AND回路、102, 103 …二入力OR回路、14A〜14D…メモリセル、200 …周波数測定器、29…パルス発生器、30〜32,37〜42…インバータ、33…4入力NOR回路、34〜36…4入力OR回路、43…5入力OR回路、51〜54…端子。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit and a test method therefor, and more particularly, to a semiconductor circuit device including a memory in which data can be written and read at any time, and a test method for the memory circuit.
[0002]
[Prior art]
In recent years, with the increase in data processing speed of information processing apparatuses, it has been required to increase the data reading speed of memory circuits. In addition, semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as LSI) devices are becoming more and more multifunctional and denser due to user requirements. Multifunctional LSIs tend to incorporate complex logic circuits and memory circuits on a single substrate. When testing such an LSI memory circuit, a complicated test pattern and a high-performance test apparatus are required. Generally, in order to evaluate the performance of a memory circuit, it is necessary to measure the access time (data read speed) and the write pulse width. The access time is the time from when the address is specified to the memory circuit until the data is read, and the write pulse width is the pulse width of the write enable signal. The write enable signal is a control signal for setting a data write or read operation. Both signals are the main parameters of the memory circuit.
[0003]
10A to 10C are explanatory diagrams of a memory circuit testing method according to a conventional example. In FIG. 10A,
[0004]
Address ADX, Address ADYThe data DIN, the write enable signal WE, the chip select signal CS and the power supply VCC are supplied from the
Next, a case where the access time (TAA) of the
[0005]
Thereafter, the
[0006]
In the
Next, a case where the pulse width (TWW) of the write enable signal to the
[0007]
Thereafter, the
[0008]
This expansion of the pulse width is executed by repeatedly generating a test pattern. The pulse width when data DOUT = 1 is obtained as the pulse width of the write enable signal.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, when the data reading speed of the memory circuit is increased, in the method of searching the access time by the strobe signal, it is necessary to make the operation speed of the strobe signal several times higher than the data reading speed in order to shorten the sample timing. Then, the search accuracy from the time when the address is designated until the data is obtained must be increased. As a result, the higher the data reading speed of the memory circuit, the higher the quality tester is required.
[0010]
Further, when measuring the pulse width of the write enable signal WE, the
[0011]
As the data reading speed of the memory circuit is increased in this way, it is necessary to use a high-accuracy test device and a complicated test pattern, so that it becomes more difficult to measure the data reading speed and the write pulse width. The problem of increased testing coststhere were.
The present invention was created in view of the problems of the conventional example, and does not depend on a complicated test pattern or a high-accuracy test apparatus even when the data reading speed of the memory circuit is increased. The memory circuitOne of the parameters required for performance evaluationEasy measurement of write pulse widthit canSemiconductor integrated circuit and test method thereofTo provideWith the goal.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problems of the prior art, according to one embodiment of the present invention.Implementation of semiconductor integrated circuitsFig. 5 and Fig. 6 as formsAs shown inWith multiple memory cells for storing dataMemory circuit(20)When,TheReturn the output of the memory circuit to the address input.TheFeedback circuit for oscillating memory circuits(11) and a plurality of types of sample signals (WEa, WEb, WEc, WEd) based on a write permission signal (WE) from the outside,Test mode signal(TMw)And pulse selection signalIn response to (S1, S2)Of pulse width sample signalOne of themOne write enable signal(WEx)Output to the memory circuit asAnd a write pulse generation circuit (29).It is characterized by that.
[0013]
In the semiconductor integrated circuit of the present invention, the feedback circuit includes a first logic circuit that outputs a feedback signal generated from a test mode signal and an output signal of the memory circuit, a feedback signal of the first logic circuit, and an external address. It comprises a second logic circuit for outputting the internal address generated from the above to the memory circuit.
[0015]
According to another aspect of the present invention, a method for testing a semiconductor integrated circuit according to the above aspect is provided. This test method is a test method of a semiconductor integrated circuit having a memory circuit and a function of causing the memory circuit to oscillate by feeding back an output of the memory circuit to an address input.In advance,Multiple typesGenerate a sample signal with pulse width,Any one of the plurality of types of pulse width sample signalsAs a write enable signalSaidInput to the memory circuit,TheAn address is input to the memory circuit to put the memory circuit in a data write state, and the memory circuit oscillates.When notSample signal with other pulse widthInput to the memory circuit to write data,When the memory circuit oscillatesConcernedWrite enable signal pulse width from sample signal pulse widthCharacterized by seeking.
[0018]
According to the semiconductor integrated circuit and the test method thereof according to the present invention,When a test mode signal and a pulse selection signal are input,Multiple types generated in the write pulse generatorOf pulse width sample signalOne of themOne as a write enable signalmemorySince it is output to the circuit, by checking the oscillation state of the memory circuit, the memorycircuitThe pulse width of the write enable signal, which is the main parameter ofConcernedIt can be obtained from the pulse width of the sample signal.
[0019]
That is, the test mode signal and the pulse selection signal areWrite pulse generationWhen input to the circuit, one of the sample signals of any pulse width according to the pulse selection signal is selected.,thisThe selected sample signal is input to the memory circuit as a write permission signal. When an address is specified for this memory circuit, the memory circuit enters a data write state. Then, the oscillation of the memory circuit is confirmed. If the memory circuit oscillates, it can be determined that data has been written to the memory cell.
[0020]
If the memory circuit does not oscillate, data is not written to the memory cell.(Write enable signal) is input to the memory circuit and dataSet to write state. As a result, if the memory circuit oscillates, the pulse width of the write enable signal is reduced by detecting the pulse width of the sample signal at this time.simplyTo askit can.
[0021]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 to 9 are explanatory diagrams of a semiconductor integrated circuit and a test method thereof according to an embodiment of the present invention.
(1) First embodiment
FIG. 1 shows a configuration diagram of a semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1,
[0022]
The
[0023]
The
[0024]
A
[0025]
3 is a test mode signal TMRIs a terminal to set the from the outside. The
[0026]
[0027]
In this way, the two-input AND
[0028]
In FIG. 2A, 14A to 14D in the
[0029]
FIG. 2B shows a waveform diagram of output data when the
[0030]
Next, a method for measuring the access time will be described as a method for testing a semiconductor integrated circuit having the
[0031]
After that, external addresses ADx and ADYTest mode signal TM withRIs set to the “H” level as shown in FIG. 4 to operate (turn on) the
[0032]
As a result, in FIG. 3B, the output of the two-input OR
[0033]
Accordingly, the data “1” of the
[0034]
Thus, in the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention, when the data “1” of the
[0035]
Therefore, by measuring the oscillation frequency of the
As described above, since the access time can be easily measured, even when the data reading speed of the memory circuit is increased, it does not depend on a complicated test pattern or a highly accurate test apparatus. In addition, since the main parameters of the memory circuit can be measured at the stage of the primary test (test in the wafer state), the operation prediction at the time of completion of the multifunctional LSI in which a complex logic circuit or memory circuit is incorporated on one substrate can be realized. It is possible to sort good and defective products. As a result, the process schedule after the primary test can be easily established, and the wafer process process and feedback to the design can be facilitated.
[0036]
Furthermore, since the access time of the memory circuit can be easily measured even in the final test (test in a state assembled in a package), it does not depend on a high-performance tester or a complicated test pattern. Thereby, a significant test cost can be reduced.
(2) Second embodiment
FIG. 5 shows a configuration diagram of a semiconductor integrated circuit according to the second embodiment of the present invention. Unlike the first embodiment, the second embodiment is a variable-pulse signal generator (hereinafter simply referred to as a WPG circuit) that outputs a write enable signal (write permission signal) WEx to the I /
[0037]
That is, the semiconductor integrated circuit according to the second embodiment of the present invention includes a
[0038]
The
[0039]
The functions of the
FIG. 6 shows an internal configuration diagram of the
[0040]
Reference numerals 5 and 6 denote two terminals for setting the pulse selection signals S1 and S2 from the outside. Terminals 5 and 6 are provided around the
[0041]
30 is a test mode signal TMWIs an inverter that inverts. 31 is an inverter for inverting the pulse selection signal S1. 32 is an inverter for inverting the pulse selection signal S2. 33 is an inverted test mode signal TMW, A 4-input NOR circuit that outputs a sample signal WEa obtained by taking a negative OR of the write enable signal WE and the pulse selection signals S1 and S2. Here, the pulse width of the sample signal WEa is a.
[0042]
34 is an inverted test mode signal TMW, A 4-input OR circuit that outputs a logical OR of the write enable signal WE, the pulse selection signal S1, and the inverted pulse selection signal S2. 35 is an inverted test mode signal TMW, A 4-input OR circuit that outputs a logical OR of the write enable signal WE, the inverted pulse selection signal S1, and the pulse selection signal S2.
[0043]
An
[0044]
Next, the function of the WPG circuit will be described. During normal operation in which the write pulse width of the
[0045]
Further, during a test operation for measuring the write pulse width of the
[0046]
Further, when the pulse selection signals S1 and S2 are “0, 1”, the sample signal WEb having a pulse width b is output from the 5-input OR
[0047]
Next, a method for measuring the pulse width of the write enable signal will be described with reference to FIG. In advance, the
Further, as shown in FIG. 9, the test mode signal TMRRemains at “L” level and the test mode signal TMWIs set to “H” level, and the chip select signal CS is set to “L” level. Then, in order to write data in the
[0048]
As a result, the data DIN = 1 is written into the memory cell by the write enable signal WEx. However, if the pulse width a of the selected signal WEa is narrow, the data DIN cannot be written into the memory cell. Note that whether or not the data DIN = 1 is written to the memory cell depends on the test mode signal TM as described in the first embodiment.RIs set to “H” level, the output data is fed back to the address input, and it is confirmed whether or not the
[0049]
Therefore, when the sample signal WEa does not oscillate, the test mode signal TMRTo “L” level. Then, “0, 1” is input to the pulse selection signals S1 and S2 in order to select the sample signal WEb having a pulse width wider than a. Address ADX= 1, ADY= 1 is specified, and data DIN = 0 is written to the memory cell.
[0050]
Then, the sample signal WEb having the pulse width b is input from the
[0051]
Thus, in the semiconductor integrated circuit according to the second embodiment of the present invention, the test mode signal TMWWhen the pulse selection signals S1 and S2 are input, one of the four types of sample signals WEa to WEd having the pulse widths a to d is output from the
[0052]
If the
[0053]
Thus, unlike the conventional example, a test pattern for gradually increasing the pulse width of the write enable signal WE is not required until data is output from the time when the address is designated, and a complicated test is performed for each address. It is not necessary to generate a pattern, and the burden on the memory tester can be reduced.
Thereby, even when the data reading speed of the
[0054]
【The invention's effect】
As described above, in the semiconductor integrated circuit of the present invention, since the feedback circuit feeds back the output of the memory circuit to the address input, the memory circuit oscillates. Therefore, by measuring the oscillation frequency of the read data, the access time can be measured by a half cycle of this oscillation frequency.
[0055]
In another semiconductor integrated circuit of the present invention, when a test mode signal and a pulse selection signal are input, one of several types of pulse width sample signals is output from the signal output circuit to the memory circuit as a write enable signal. By confirming the oscillation state of the circuit, the pulse width of the write permission signal can be obtained from the pulse width of the sample signal.
[0056]
This greatly contributes to the provision of a semiconductor integrated circuit with a built-in memory capable of a simple test.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an explanatory diagram of a feedback circuit and a waveform diagram of output data according to each embodiment of the present invention.
FIG. 3 is an operation supplement diagram of the memory macro according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 4 is an operation waveform diagram during a memory test according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a configuration diagram of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a configuration diagram of a pulse generation circuit according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 7 is an operation waveform diagram (part 1) of the pulse generation circuit according to the second embodiment of the present invention;
FIG. 8 is an operation waveform diagram (part 2) of the pulse generation circuit according to the second embodiment of the present invention;
FIG. 9 is an operation waveform diagram during a memory test according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 10 is an explanatory diagram of a testing method of a memory circuit according to a conventional example.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (3)
該メモリ回路の出力をアドレス入力に帰還して該メモリ回路を発振させる帰還回路と、 外部からの書込み許可信号に基づいて複数種類のパルス幅のサンプル信号を生成し、テストモード信号及びパルス選択信号に応答して前記複数種類のパルス幅のサンプル信号のうちいずれか1つを書込み許可信号として前記メモリ回路に出力する書込みパルス発生回路とを備えたことを特徴とする半導体集積回路。A memory circuit comprising a plurality of memory cells for storing data;
A feedback circuit for oscillating the memory circuit by feeding the output of the memory circuit to the address input, and generates a sample signal of a plurality of kinds of pulse widths based on a write enable signal from the outside, the test mode signal and the pulse selection signal And a write pulse generating circuit for outputting any one of the plurality of types of pulse width sample signals to the memory circuit as a write permission signal.
前記第1の論理回路の帰還信号と外部アドレスから生成した内部アドレスを前記メモリ回路に出力する第2の論理回路とを有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。The feedback circuit includes a first logic circuit for outputting a feedback signal generated from the test mode signal and the output signal of the memory circuit,
The semiconductor integrated circuit according to claim 1, characterized in that a second logic circuit for outputting an internal address generated from the feedback signal and the external address of the first logical circuit to the memory circuit.
予め、複数種類のパルス幅のサンプル信号を生成し、
該複数種類のパルス幅のサンプル信号のうちいずれか1つを書込み許可信号として前記メモリ回路に入力すると共に、該メモリ回路にアドレスを入力して該メモリ回路をデータ書込み状態にし、
前記メモリ回路が発振しないときは他のパルス幅のサンプル信号を該メモリ回路に入力してデータ書込み状態にし、
前記メモリ回路が発振したときの当該サンプル信号のパルス幅から書込み許可信号のパルス幅を求めることを特徴とする半導体集積回路の試験方法。 In a test method for a semiconductor integrated circuit having a memory circuit and a function of oscillating the memory circuit by feeding back an output of the memory circuit to an address input,
Generate sample signals of multiple types of pulse widths in advance,
And inputs to the memory circuit as a write enable signal to any one of the sample signals of the plurality several pulse widths, and the memory circuit in the data write state by entering an address in the memory circuit,
When the memory circuit does not oscillate , input a sample signal of another pulse width to the memory circuit to enter a data write state,
The method of testing a semiconductor integrated circuit in which the memory circuit and obtains the pulse width of the write enable signal from the pulse width of the sample signal when the oscillation.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24746195A JP3761612B2 (en) | 1995-09-26 | 1995-09-26 | Semiconductor integrated circuit and test method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24746195A JP3761612B2 (en) | 1995-09-26 | 1995-09-26 | Semiconductor integrated circuit and test method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0991995A JPH0991995A (en) | 1997-04-04 |
| JP3761612B2 true JP3761612B2 (en) | 2006-03-29 |
Family
ID=17163798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24746195A Expired - Lifetime JP3761612B2 (en) | 1995-09-26 | 1995-09-26 | Semiconductor integrated circuit and test method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3761612B2 (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2962238B2 (en) | 1996-08-15 | 1999-10-12 | 日本電気株式会社 | Logic circuit and test method thereof |
| US6324125B1 (en) * | 1999-03-30 | 2001-11-27 | Infineon Technologies Ag | Pulse width detection |
| JP4307445B2 (en) * | 2003-07-22 | 2009-08-05 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | Integrated circuit device having test circuit for measuring AC characteristic of built-in memory macro |
| KR100797878B1 (en) * | 2006-01-13 | 2008-01-24 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | Integrated circuit device including test circuitry for measuring AC characteristics of embedded memory macros |
| FR2901362B1 (en) | 2006-05-19 | 2011-03-11 | St Microelectronics Sa | CIRCUIT FOR QUALIFYING AND CHARACTERIZING A MEMORY EMBARKED IN A SEMICONDUCTOR PRODUCT |
-
1995
- 1995-09-26 JP JP24746195A patent/JP3761612B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0991995A (en) | 1997-04-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6658611B1 (en) | Programmable built-in self-test system for semiconductor memory device | |
| US6388929B1 (en) | Semiconductor memory device performing redundancy repair based on operation test and semiconductor integrated circuit device having the same | |
| KR0144711B1 (en) | Test control circuit and method of semiconductor memory apparatus | |
| US6823485B1 (en) | Semiconductor storage device and test system | |
| US6807116B2 (en) | Semiconductor circuit device capable of accurately testing embedded memory | |
| KR100592349B1 (en) | Semiconductor device, test method thereof and semiconductor integrated circuit | |
| US7480841B2 (en) | Semiconductor integrated circuit which properly executes an operational test of a circuit under test in the semiconductor integrated circuit | |
| JPH08315598A (en) | Memory integrated circuit with built-in test function | |
| JP3761612B2 (en) | Semiconductor integrated circuit and test method thereof | |
| US6275428B1 (en) | Memory-embedded semiconductor integrated circuit device and method for testing same | |
| US20030167428A1 (en) | ROM based BIST memory address translation | |
| JPH11306797A (en) | Semiconductor storage device | |
| US7023198B2 (en) | Semiconductor device and method of inspecting the same | |
| US20040260975A1 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
| US20020041242A1 (en) | Semiconductor apparatus | |
| US6931565B2 (en) | Semiconductor memory | |
| US6873557B2 (en) | Integrated circuit device with a built-in detecting circuit for detecting maximum memory access time of an embedded memory | |
| JPS62103894A (en) | Reading end signal generation circuit | |
| US20070011511A1 (en) | Built-in self-test method and system | |
| JPH04274100A (en) | Memory-lsi with built-in test circuit | |
| JP2946838B2 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
| JP3442226B2 (en) | Integrated circuit with delay evaluation circuit | |
| US6496433B2 (en) | Semiconductor device and semiconductor device testing method | |
| US7227810B2 (en) | Semiconductor device and testing method for semiconductor device | |
| US7085974B2 (en) | Semiconductor device, method of testing the same and electronic instrument |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050421 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050531 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050801 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060110 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060111 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090120 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100120 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110120 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110120 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120120 Year of fee payment: 6 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120120 Year of fee payment: 6 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130120 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140120 Year of fee payment: 8 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |