JP3671281B2 - トリメチルシリルアジドの製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、アミノ化剤、アジド化剤あるいはヘテロ環化合物の合成に有用な、トリメチルシリルアジドを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、トリメチルシリルアジドを製造する方法としては、トリメチルシリルクロライドとアジ化水素の無機塩とを、溶媒中で反応させる方法が知られている[シンセシス(Synthesis)2,106〜107(1988)][オルガニック・シンセシス(Org.Synth.)50,107〜(1970)][ジャーナル・オブ・ケミカル・フィジックス(J.Chem.Phys.)28,1962〜1964(1958)]。
【0003】
また、トリメチルシリルクロライドとマクロポーラスポリマーに担持させたアジ化水素の無機塩とを、溶媒中で反応させる方法も知られている[特開平1ー143878]。
【0004】
しかしながら、上記の製法においては次の(1)〜(2)のような問題がある。
【0005】
(1) 反応完結までに6〜60時間という長時間を必要としている。又、反応時間を短縮するためには、アジ化水素の無機塩をマクロポーラスポリマーに担持させて使用する必要がある。
【0006】
(2) 生成したトリメチルシリルアジドの単離方法としては、蒸留による方法しかなく、その蒸留ではトリメチルシリルアジドと溶媒とが十分に分離せず、トリメチルシリルアジド中に溶媒が混入するために純度が低下する。すなわち、高純度なトリメチルシリルアジドを得るには、多段数の精密蒸留装置が必要であり、そのための設備が必要となり、製造コストの上昇の原因となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、上記した従来技術の問題点を解決し、トリメチルシリルクロライドから、容易にしかも高収率で、高品質のトリメチルシリルアジドを製造する方法を提供する。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明者らは鋭意研究したところ、相間移動触媒を用いることによって、無溶媒で且つ短時間でトリメチルシリルアジドが得られることを見出した。さらに、無溶媒で反応を行うことにより、生成したトリメチルシリルアジドの単離においては多段数の精密蒸留装置を必要せず、単蒸留あるいは濾過により、容易に、高純度なトリメチルシリルアジドが得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【0009】
すなわち、本発明は、下記式(1)で表されるトリメチルシリルクロライドと下記式(2)で表されるアジ化水素の無機塩とを、相間移動触媒の存在下、無溶媒で反応させることを特徴とする、下記式(3)で表されるトリメチルシリルアジドを容易に、高純度で単離することのできる製造方法である。
(CH3)3SiCl (1)
M(N3)n (2)
(式中、Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であり、nは1または2である。)
(CH3)3SiN3 (3)
【0010】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
【0011】
本発明の製造方法において用いうるアジ化水素の無機塩の具体例としては、ナトリウム、カリウム、リチウム、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属のアジ化物が挙げられる。好ましくはアジ化ナトリウムが工業的に好適である。これらのアジ化水素の無機塩の使用量は、トリメチルシリルクロライド1モルに対して、アジ化水素換算で通常1.0〜1.5モルの範囲、好ましくは1.0〜1.05モルである。
【0012】
また、本発明の製造方法において用いうる相間移動触媒の具体例としては、従来公知の4級アンモニウム塩、4級アンモニウム塩源となり得る3級アミン、ポリエーテル化合物を使用することができる。例えば、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチルアンモニウムブロマイド、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド、トリエチルアミン塩酸塩、ポリエチレングリコールメチルエーテル、ポリエチレングリコールテトラヒドロフルフリルエーテル、ポリエチレングリコールジステアリン酸エステル、ポリエチレングリコール、および、ポリエチレングリコールメチルエーテル、ポリエチレングリコールテトラヒドロフルフリルエーテル、ポリエチレングリコールのシリル化物等を挙げられるが、これらに限定されるものではない。好ましい相間移動触媒は、工業的で安価な点より、ポリエチレングリコールおよびそのシリル化物である。これらの相間移動触媒の使用量は、トリメチルシリルクロライドに対し、通常0.1重量%以上、好ましくは2〜6重量%の範囲である。
【0013】
反応温度は、通常0〜60℃、好ましくは45〜55℃の範囲である。また、反応時間は触媒の添加量、反応温度により影響を受けるが、通常0.5〜20時間、好ましくは1〜10時間である。
【0014】
反応終了後にトリメチルシリルアジドを単離するには、蒸留あるいは無機塩等を濾過によって除けばよい。単離は、溶媒を使用していないのでトリメチルシリルアジドへの溶媒の混入がなく、容易に、高純度なトリメチルシリルアジドを得ることができる。
【0015】
従って、本発明は、従来の溶媒を用いる合成法に比べて、短時間の反応で、高純度なトリメチルシリルアジドを製造するのに非常に有利な方法である。
【0016】
【実施例】
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0017】
実施例1
還流冷却器、温度計および撹拌機を設けたフラスコに、トリメチルシリルクロライド423.7g(3.9モル)、アジ化ナトリウム266.2g(4.1モル)、および、ポリエチレングリコール8.5gを入れ、50〜55℃に加熱して1時間反応させた。反応終了後、内温を96〜97℃まで昇温し、トリメチルシリルアジドを蒸留によって、単離した。その結果、無色透明液体のトリメチルシリルアジド392.3g(3.4モル)を得た。これはトリメチルシリルクロライドに対して収率87.3%に相当する。また、ガスクロマトグラフィ−(GC)分析による純度は97.9%であった。
【0018】
実施例2
実施例1と同様な装置に、トリメチルシリルクロライド10.9g(0.1モル)、アジ化ナトリウム6.8g(0.11モル)、および、テトラエチルアンモニウムブロマイド0.44gを入れ、55〜60℃に加熱して5時間反応させた。反応終了後、内温を97〜98℃まで昇温し、トリメチルシリルアジドを蒸留によって、単離した。その結果、無色透明液体のトリメチルシリルアジド9.9g(0.86モル)を得た。これはトリメチルシリルクロライドに対して収率86.1%に相当する。また、GC分析による純度は96.7%であった。
【0019】
実施例3
実施例1と同様な装置に、トリメチルシリルクロライド21.8g(0.2モル)、アジ化ナトリウム13.4g(0.21モル)、および、テトラブチルアンモニウムブロマイド0.66gを入れ、50〜55℃に加熱して9時間反応させた。反応終了後、内温を96〜97℃まで昇温し、トリメチルシリルアジドを蒸留によって、単離した。その結果、無色透明液体のトリメチルシリルアジド20.6g(0.18モル)を得た。これはトリメチルシリルクロライドに対して収率89.6%に相当する。また、GC分析による純度は97.1%であった。
【0020】
実施例4
実施例1と同様な装置に、トリメチルシリルクロライド21.8g(0.2モル)、アジ化ナトリウム13.4g(0.21モル)、および、トリエチルアミン塩酸塩1.3gを入れ、50〜55℃に加熱して10時間反応させた。反応終了後、内温を94〜97℃まで昇温し、トリメチルシリルアジドを蒸留によって、単離した。その結果、無色透明液体のトリメチルシリルアジド19.6g(0.17モル)を得た。これはトリメチルシリルクロライドに対して収率85.0%に相当する。また、GC分析による純度は96.5%であった。
【0021】
【発明の効果】
本発明の製造方法によれば、トリメチルシリルクロライドから溶媒を使用することなく、トリメチルシリルアジドを製造し、容易、且つ高純度で単離することができる。従って、工業的に有利かつ好適な方法である。
Claims (4)
- 下記式(1)で表されるトリメチルシリルクロライドと下記式(2)で表されるアジ化水素の無機塩とを、相間移動触媒の存在下、無溶媒で反応させることを特徴とする下記式(3)で表されるトリメチルシリルアジドの製造方法。
(CH3)3SiCl (1)
M(N3)n (2)
(式中、Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であり、nは1または2である。)
(CH3)3SiN3 (3) - アジ化水素の無機塩がアジ化ナトリウムであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 相間移動触媒がポリエチレングリコールおよびそのシリル化物であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の方法。
- 反応溶媒を使用しないことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
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