JP3460895B2 - 導電性ゴムローラ及び画像形成装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真プリンタ
などの静電転写プロセスを利用する画像形成装置に好適
に用いられる導電性ゴムローラと、これを用いた画像形
成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】静電転写プロセスを利用した画像形成装
置としては、従来、例えば図４に示したものが知られて
いる。図４において符号１は画像形成装置であり、この
画像形成装置１は、感光体からなる像担持体２と、この
像担持体２の表面にローラ接触方式によって帯電処理を
行う帯電ローラ３と、像担持体２の表面に露光処理を行
って該表面に静電潜像を形成する露光処理部４と、静電
潜像が形成された像担持体２表面に現像処理を行って前
記静電潜像を転写可能なトナー像にする現像ローラ５と
を備え、像担持体２表面に形成したトナー像を、転写ロ
ーラ６によって紙を主とする印字媒体７上に転写し、前
記静電潜像を可視像化するものである。また、この画像
形成装置１には、前記現像ローラ５にトナーを供給する
ための供給ローラ８が設けられ、さらに、印字媒体７上
にトナー像を転写した後、像担持体２表面上に残存した
トナーを除去するためのクリーニングローラ９が設けら
れている。

【０００３】ところで、このような構成の画像形成装置
１においては、前述したようにそれぞれ別個に機能する
帯電ローラ３、現像ローラ５、転写ローラ６、供給ロー
ラ８、クリーニングローラ９が備えられている。これら
各ローラは、いずれもカーボンブラックやシリカ、金属
イオンなどの導電剤（導電物質）が混入されることで導
電性を有した、半導電性のゴムローラとなっている。こ
れらゴムローラとしては、抵抗値安定化の面から、特に
酸化に伴う分解反応やさらには過酸化物の生成反応によ
って発生する亀裂などを防止するため、一連の酸化対策
として、通常主鎖に不飽和結合をもたない結合エネルギ
ーの大きいゴム、すなわち二重結合、三重結合を有しな
い非共役ポリマーが用いられている。そして、このよう
に各ゴムローラは非共役ポリマーによって構成されるこ
とから、ポリマー自体では導電性を示さず、したがって
前述したように各種の導電剤が混入されることにより、
導電性を具有するようになっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
各ゴムローラでは以下に述べる不都合がある。前記各ゴ
ムローラは主に粒子状の導電剤がゴムに配合されて形成
されていることから、このような製造法に起因してロー
ラ製造時に導電剤の分散過多が生じ、これによって安定
した均一な抵抗値を形成することが困難である。また、
画像形成装置に組み込まれて可動している際、ローラ表
面への放電電流の垂直浸入により導電路（導電粒子がつ
くる連鎖）の破壊が起こり、これによって安定した均一
な抵抗値を保持することが困難になる。さらに、使用に
伴い、機械的なストレスによって導電路が切断されるな
どの疲労破壊が起こり、やはり安定した均一な抵抗値を
保持することが困難になる。

【０００５】また、電気的なゴムの用途としては、通
常、電気絶縁性か導電性かのいずれかが要求されるだけ
であるが、前述した画像形成装置における各ゴムローラ
の場合では、その中間的な狭い幅の導電性に設定されて
いるため、ゴム材料の表面酸化による影響が抵抗値の上
昇として顕著に現れ、これにより表面酸化による電気的
特性の変化によっても各ゴムローラの機能が大きく低下
してしまう。本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、粒子状導電剤の混入によ
る導電性付与に起因する不都合をなくし、しかも耐酸化
性に優れ、これにより安定した抵抗値を保持することの
できる導電性ゴムローラと、これを用いた画像形成装置
とを提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記目的を
達成するべく鋭意研究した結果、以下の知見を得た。一
般に導電物質を混入しないポリマーは絶縁状態（抵抗が
１０¹²Ω・ｃｍ以上）を示すものの、例外として、共役
二重結合あるいは共役三重結合をもったポリマーは導電
性を示す。しかして、これまで共役鎖をもたないゴムは
導電性を示さないものと考えられてきたが、近年、数種
類のポリマーがヨウ素ドーピングによって導電性を示す
ことが確認されている。図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は
ヨウ素ドーピング（ヨウ素処理）によって導電性を示す
ことが知られている非共役系ポリマーを示す図である。
また、図６はヨウ素ドーピング処理したゴムポリマーの
架橋反応過程における活性分離状態を示す図であり、図
７は活性分離したポリマーの架橋反応プロセスを示す図
である。図６、図７より、ヨウ素ドーピングによってＣ
＝Ｃ結合のπ結合を形成している２個のπ電子のうち、
１個の電子がヨウ素に取り込まれることにより、Ｃ＝Ｃ
結合を形成していた炭素原子のうちの一方は電子が不足
した状態となって正電荷をもち、ヨウ素は電子を取り込
んでイオン化する。また、他方の炭素原子は、π結合の
切断によって電子を保有し、他のポリマー鎖のそれと新
しい結合（架橋反応）をつくる。そして、このような知
見に基づきさらに研究を進めた結果、前述したような化
学的性質を示す導電性ポリマーを用い、これを例えば画
像形成装置のゴムローラに適用することにより、前記目
的が達成できるとの考えに至り、本発明を完成した。

【０００７】すなわち、本発明における請求項１記載の
導電性ゴムローラでは、導電性シャフトと、該導電性シ
ャフトの周面上に設けられた第一抵抗調整層と、該第一
抵抗調整層上に設けられた第二抵抗調整層とからなり、
前記第一抵抗調整層が、導電物質を配合してなるゴムか
ら形成され、前記第二抵抗調整層が、共役鎖をもたない
ポリマーがヨウ素処理によって導電性が付与された導電
性ゴムから形成されてなることを前記課題の解決手段と
した。なお、前記第一抵抗調整層を形成する、導電物質
を配合してなるゴムとしては、シリコンゴムあるいはポ
リウレタンゴムから形成することが好ましい。また、請
求項４記載の導電性ゴムローラでは、導電性シャフト
と、該導電性シャフトの周面上に設けられた抵抗調整層
とからなり、前記抵抗調整層が、共役鎖をもたないポリ
マーがヨウ素処理によって導電性が付与された導電性ゴ
ムから形成されてなることを前記課題の解決手段とし
た。

【０００８】請求項６記載の画像形成装置では、像担持
体と、この像担持体の表面を接触帯電させる帯電ローラ
と、前記像担持体の表面に露光処理を行って該表面に静
電潜像を形成する露光処理部と、静電潜像が形成された
像担持体表面に現像処理を行って前記静電潜像を転写可
能なトナー像にする現像ローラと、該現像ローラにトナ
ーを供給する供給ローラと、像担持体表面に形成したト
ナー像を印字媒体上に転写して前記静電潜像を可視像化
する転写ローラと、像担持体表面に残留したトナーを除
去するクリーニングローラとを具備してなる画像形成装
置において、前記帯電ローラ、現像ローラ、供給ロー
ラ、転写ローラ、クリーニングローラの少なくとも一つ
が、前記の導電性ゴムローラからなることを前記課題の
解決手段とした。

【０００９】請求項１記載の導電性ゴムローラによれ
ば、該ローラの表層側となる第二抵抗調整層が、共役鎖
をもたないポリマーがヨウ素処理によって導電性が付与
された導電性ゴムから形成されてなるので、導電剤を混
入することによって導電性を具有した導電性ゴムに比
べ、その製造法に起因する抵抗値の不均一性が解消さ
れ、さらには使用に伴う抵抗値の変化も抑えられる。ま
た、第一抵抗調製層が、導電物質を配合してなるゴムか
ら形成されているので、この導電性ゴムローラを製造す
る場合、例えば従来のゴムローラの表面に、前記第二抵
抗調製層を形成するゴムが溶解された溶液をコーティン
グ処理することによって該第二抵抗調製層を形成し、こ
れにより導電性ゴムローラを得るといった製造法が採用
可能になる。

【００１０】請求項４記載の導電性ゴムローラによれ
ば、抵抗調整層が、共役鎖をもたないポリマーがヨウ素
処理によって導電性が付与された導電性ゴムから形成さ
れてなるので、請求項１記載の導電性ゴムローラの場合
と同様に、導電剤を混入することによって導電性を具有
した導電性ゴムに比べ、その製造法に起因する抵抗値の
不均一性が解消され、さらには使用に伴う抵抗値の変化
も抑えられる。請求項６記載の画像形成装置によれば、
前記導電性ゴムローラを用いてなるので、その抵抗値が
均一でしかも使用に伴う変化も抑えられていることか
ら、使用に供されたローラとしての機能が十分に発揮さ
れ、かつ長期の使用にもその機能が十分安定して発揮さ
れる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施の形態例によ
り詳しく説明する。図１は請求項１記載の導電性ゴムロ
ーラの一形態例となる本発明の第一実施形態例を示す図
であり、図１中符号１０は導電性ゴムローラである。こ
の導電性ゴムローラ１０は、金属製の導電性シャフト１
１と、導電性シャフト１１の周面上に設けられた第一抵
抗調整層１２と、第一抵抗調整層１２上に設けられた第
二抵抗調整層１３とからなるものである。第一抵抗調製
層１２は、導電物質としてカーボンブラックなどの粒子
状導電剤を配合し、その体積抵抗値を１０⁴ 〜１０¹²Ω
・ｃｍに調製した、十分な肉厚を有する従来公知の半導
電性シリコンゴムからなるものである。

【００１２】第二抵抗調製層１３は、図５（ａ）に示し
た１，４−シス−ポリイソプレン（ＮＲ）、図５（ｂ）
に示した１，４−トランス−ポリイソプレン（ＩＲ）、
図５（ｃ）に示した２，３−ジメチルブタジエン（Ｂ
Ｒ）（以下、それぞれＮＲ、ＩＲ、ＢＲと記す）等の非
共役二重結合を有するゴムがヨウ素処理（ヨウ層ドーピ
ング）され、これにより導電性が付与されたものであ
り、体積抵抗値が１０¹ 〜１０³ Ω・ｃｍ程度に調製さ
れたものである。また、この第二抵抗調製層１３は、そ
の膜厚が数十μｍ〜数百μｍ程度とされたコーティング
膜である。ここで、このようなコーティング膜（第二抵
抗調製層１３）の形成法としては、例えば、前記ＮＲ、
ＩＲ、ＢＲ等のゴムを適宜な溶剤に溶かしてゴムセメン
ト状の溶液とし、次いでこれに１０〜１５ｗｔ％程度の
ヨウ素を添加して導電性を付与する。その後、ヨウ素を
添加した、すなわちヨウ素処理したゴム溶液を第一抵抗
調製層１２表面に所定厚でコーティングし、さらに乾燥
処理によって溶剤をとばすことによりコーティング膜
（第二抵抗調製層１３）を得る。

【００１３】このような導電性ゴムローラ１０にあって
は、第一抵抗調製層１２上に導電性が付与された第二抵
抗調製層１３がコーティングされているため、その表面
が十分な導電性を示し、これにより例えば図４に示した
画像形成装置１の各ローラに用いられた場合、放電によ
り各抵抗調製層を形成するポリマーが破壊されるのを防
止することができる。また、コート層（第二抵抗調製層
１３）によって電子流を分散することから、第一抵抗調
製層１２へ流れ込む電流密度を局部的に小さくすること
ができ、これにより第一抵抗調製層１２中に形成されて
いる導電路の負担が軽くしてその疲労破壊を防止するこ
とができる。

【００１４】また、ＮＲ、ＩＲ、ＢＲは特に耐摩耗性に
優れており、これらから形成されるコート層（第二抵抗
調製層１３）は硬いことから、第二抵抗調製層１３を形
成するシリコンゴムの欠点でもある力学的強度の弱さを
補い、表面における機械的ストレスによる摩耗を防止す
ることができる。さらに、ＮＲ、ＩＲ、ＢＲはヨウ素ド
ーピングによりその二重結合が切れて単結合になるため
（主鎖に二重結合をもたないため）、耐酸化性に優れた
特性を示し、したがって安定した抵抗値を保持すること
が可能となり、シリコンゴムの放電による表面ＳｉＯ₂
化を防止することができる。

【００１５】この第一実施形態例では、第一抵抗調製層
１２としてシリコンゴムを用いたが、シリコンゴムの場
合、半導電性を得るため導電物質として粒子状導電剤を
ゴム中に分散配合していることから、その分散性が悪く
なると場所により抵抗値がばらつくおそれがある。した
がって、さらに安定した均一な抵抗値を得るため、第一
抵抗調製層１２を形成するゴムとして、シリコンゴムに
代えてポリウレタンゴムを用いてもよい。ポリウレタン
ゴムから第一抵抗調製層１２を形成するには、ポリウレ
タンゴムに導電物質として金属イオンを配合し、イオン
電導により体積抵抗値が１０⁴ 〜１０¹²Ω・ｃｍ程度と
なる半導電性ゴムとする。

【００１６】このようなポリウレタンゴムからなる第一
抵抗調製層１２を有した導電性ゴムローラにあっては、
ポリウレタンゴムが特に耐水性が低いことから加水分解
を起こし易く、したがってこれを例えば図４に示した画
像形成装置１の各ローラに用いられた場合、一般的には
加水分解に伴って感光体（像担持体）あるいは他材料と
の接触により汚染を引き起こす可能性がある。しかしな
がら、本実施形態例の導電性ゴムローラでは、第一抵抗
調製層１２上に比較的耐水性が高いＮＲ、ＩＲ、ＢＲと
いったゴムからなるコート層（第二抵抗調製層１３）が
設けられていることから、ポリウレタン層（第一抵抗調
製層１２）への水分の浸入を防いで前記の汚染をなくす
ことができ、もちろん安定した均一なローラ抵抗をも具
有したものとなる。

【００１７】すなわち、前記ポリウレタンからなる第一
抵抗調製層１２において、金属イオンによって形成され
る導電路は、カーボンブラック等の粒子状導電物質がつ
くるストラクチャーに比べより微細な均一分散構造であ
る。したがって、均一な電流分散によって場所による抵
抗値のばらつきがほとんどなく、安定した抵抗値が得ら
れる。ただし、静止状態で直流電流が印加された場合に
は、正イオンが負電極側に集まるため若干問題はあるも
のの、通常の画像形成装置ではローラが周方向に回転す
るため、特にイオンの移動による電流密度のかたよりと
いった問題は発生しない。また、交流電源を用いること
も対策の一つである。

【００１８】このようにポリウレタンゴムからなる第一
抵抗調製層１２を有した導電性ゴムローラにあっては、
金属イオンを配合することで導電物質が均一に分散した
第一抵抗調製層１２を形成することができ、しかも形成
される導電路が微細分散構造となることから電流を均一
に分散させることができ、これにより局部的な電流過多
を防いで導電路の疲労破壊を防止することができる。ま
た、ポリウレタンゴムはシリコンゴムに比べて機械的強
度に優れており、しかもその導電路が金属イオンによる
微細構造であるため、機械的なストレスによる抵抗値へ
の影響も低減することができる。さらに、第二抵抗調製
層１３がヨウ素処理によって導電性が付与されたコート
層であることから、先の実施形態例と同様の効果が得ら
れる。

【００１９】図２（ａ）、（ｂ）は請求項４記載の導電
性ゴムローラの一形態例となる本発明の第二実施形態例
を示す図であり、図２（ａ）、（ｂ）中符号２０は導電
性ゴムローラである。この導電性ゴムローラ２０は、金
属製の導電性シャフト２１と、該導電性シャフト２１の
周面上に設けられた抵抗調整層２２とからなるものであ
る。すなわち、この実施例が図１に示した実施例と異な
るところは、図１に示した実施形態例がヨウ素処理した
ゴムをコーティング材として用い、これによって第二抵
抗調製層１３を形成したのに対し、図２（ａ）、（ｂ）
に示した実施形態例ではヨウ素処理したゴムを単層で形
成し、これを抵抗調製層２２とした点である。

【００２０】抵抗調製層２２は、ヨウ素処理によって体
積抵抗値が１０⁴ 〜１０¹²Ω・ｃｍ程度に調製されたＮ
Ｒ、ＩＲまたはＢＲである。これらゴムに対してのヨウ
素処理としては、ゴムの架橋反応工程前にヨウ素添加を
行う方法や、これらゴムによって絶縁性ローラを製造し
た後、該絶縁性ローラをヨウ素雰囲気中（ヨウ素蒸気）
に所定時間暴露させ、導電性を付与するといった方法が
採られる。ここで、前記各ゴム（ＮＲ、ＩＲ、ＢＲ）の
抵抗値、すなわち電気伝導度は、図３に示すようにヨウ
素処理におけるヨウ素添加濃度によって調製される。し
たがって、このヨウ素処理ゴムによる抵抗調製層２２
は、導電物質を混入することなく導電性を具有するもの
となる。

【００２１】このような抵抗調製層２２は、先の実施形
態例の第二抵抗調製層１３と同様に、電気的特性に関し
ても電子と正帯電ホールの移動によって導電性を示すた
め、ウレタンゴムの導電剤である金属イオンによって形
成される導電路よりもさらに微細でかつ均一性に優れた
ストラクチャーが得られ、非常に安定したローラ抵抗値
を有するものとなる。ただし、前記のヨウ素処理方法の
うち後者の方法、すなわちヨウ素雰囲気暴露法では、図
２（ａ）に示すようにゴム層はある厚みｈを有している
ため当然内部に向かうほどヨウ素蒸気の浸入の度合いが
少なくなり、表面と内部との間で抵抗値に差が生じる
が、暴露時間を調整することによって表面は導電性、内
部は半導電性を示すゴム層を得ることができる。

【００２２】したがって、このような導電性ゴムローラ
２０にあっては、単層で抵抗調製層２２を形成すること
から、例えば従来の加工法を利用できるなど製造プロセ
スの簡単化が図れ、また、当然第一実施形態例と同様に
ローラ抵抗値の均一性やその安定性などの効果も得られ
る。

【００２３】前記第一、第二実施形態例では、第二抵抗
調製層１３、あるいは抵抗調製層２２を形成するための
ゴムとしてＮＲ、ＩＲ、ＢＲを用いたが、ヨウ素化によ
る絶縁性ゴムへの導電性の付与は、二重結合に隣接した
一個以上の電子供与基を含む全てのゴムに適用可能であ
り、したがってこのような電子供与基を含むゴムにあっ
ても、第二抵抗調製層１３、あるいは抵抗調製層２２を
形成するためのゴムとして使用可能である。以下に、電
子供与基を含むゴムを用いた実施形態例について説明す
る。

【００２４】電子供与基を含むゴムとしては、例えば図
８に示すクロロレンゴム（ＣＲ）（以下、ＣＲと記す）
が挙げられる。このようなＣＲを用いて図１に示した構
造の導電性ゴムローラ１０を形成するには、先に述べた
例と同様にその第一抵抗調製層１２を体積抵抗値が１０
⁴ 〜１０¹²Ω・ｃｍ程度の半導電性シリコンゴムまたは
半導電性ウレタンゴムによって形成し、第二抵抗調製層
１３を体積抵抗値が１０¹ 〜１０³ Ω・ｃｍ程度のヨウ
素処理ＣＲによって形成する。なお、ＣＲのヨウ素処理
方法については、該第二抵抗調製層１３がコート層とな
るため、先に述べた方法と同様に溶剤を用いたヨウ素添
加法が採用される。

【００２５】また、図２に示した導電性ゴムローラ２０
を形成するには、やはり先に述べた例と同様にその抵抗
調製層２２を体積抵抗値が１０⁴ 〜１０¹²Ω・ｃｍの調
製されたヨウ素処理ＣＲによって形成する。なお、ＣＲ
のヨウ素処理方法については、ＣＲによりゴムローラを
製造した後、先の第二実施形態例と同様に該ゴムローラ
をヨウ素雰囲気中に暴露させ、導電性を付与するといっ
た方法が採られる。このように本発明の導電性ゴムロー
ラは、ＮＲ、ＩＲ、ＢＲ以外の絶縁性ゴムにヨウ素処理
し、導電性を具有させたものでもよく、特にＣＲは耐候
性耐酸化性（耐オゾン性、耐熱性）、耐薬品性などに対
して平均した優れた性質を示すため、ヨウ素処理ＣＲを
用いてなる導電性ゴムローラはさらに過酷な条件下でも
使用可能となり、長期に亘って安定した抵抗値を維持す
ることができる。

【００２６】以上に述べた導電性ゴムローラは、図４に
示した画像形成装置１の各ローラ、すなわち帯電ローラ
３、現像ローラ５、転写ローラ６、供給ローラ８、クリ
ーニングローラ９として好適に用いられる。すなわち、
前記実施形態例の各導電性ゴムローラは前述したように
抵抗値が均一であり、しかも安定した抵抗値を維持でき
るものであるから、これらを各ローラとして用いた画像
形成装置１は、各ローラがそれぞれ高性能化したものと
なり、しかも長期の使用にも十分耐え得るものとなる。

【００２７】ここで、画像形成装置１の各ローラ、すな
わち帯電ローラ３、現像ローラ５、転写ローラ６、供給
ローラ８、クリーニングローラ９については、抵抗値の
均一化、安定化とともにそれぞれの機能に応じた特性が
要求される。すなわち、各ローラはそれぞれ帯電、転
写、トナー搬送、クリーニングなどといった機能が要求
されるため、ローラ表面の構造状態は非常に重要であ
る。例えば、帯電ローラ３、現像ローラ５は均一な帯電
能力、均一な現像能力が要求されるため、ローラ表面と
しては平滑構造であることが好ましい。一方、転写ロー
ラ６、供給ローラ８、クリーニングローラ９としては、
トナー搬送能力、あるいはトナーかき落とし能力が要求
されるため、ローラ表面としてはスポンジ構造が通常適
している。

【００２８】このような構造のうち前記平滑構造に適用
するには、図１に示した導電性ゴムローラ１０の場合以
下のようにして構成される。すなわち、図１に示した実
施形態例で述べたごとく、その第一抵抗調製層１２を、
体積抵抗値が１０⁴ 〜１０¹²Ω・ｃｍ程度である平滑な
ゴム構造を有する半導電性のシリコン層またはウレタン
層とし、第二抵抗調製層１３を、体積抵抗値が１０¹ 〜
１０³ Ω・ｃｍ程度であるヨウ素処理したＮＲ等の導電
性ゴムポリマーからなるコート層とする。ここで、第二
抵抗調製層１３はコート層であることから、この導電性
ゴムローラ１０の表面構造はその第一抵抗調製層１２の
表面構造によって決まる。したがって、この導電性ゴム
ローラ１０は、第一抵抗調製層１２が平滑なゴム構造を
有することから、そのローラ表面（第二抵抗調製層表
面）も平滑な構造となる。

【００２９】一方、図２に示した導電性ゴムローラ２０
の場合では、その抵抗調製層２２を平滑なゴム構造の層
で形成することにより、ローラ表面が平滑な構造とな
る。また、前記スポンジ構造に適用するには、図１に示
した導電性ゴムローラ１０の場合、その第一抵抗調製層
１２を発泡スポンジ体で形成することにより、そのロー
ラ表面が凹凸構造を有する略スポンジ構造となる。一
方、図２に示した導電性ゴムローラ２０の場合では、そ
の抵抗調製層２２を発泡スポンジ体で形成することによ
り、ローラ表面がスポンジ構造となる。

【００３０】このように第一抵抗調整層１２、または抵
抗調整層２２に発泡スポンジ体あるいは表面が平滑なゴ
ム構造体を用いることで、ローラ材料による抵抗値の均
一安定化とともに、各ローラの機能に応じた性能を高め
ることができ、したがってこのような導電性ゴムローラ
を有することによって画像形成装置は、各ローラが優れ
た機能を発揮するとともに長期の使用においてもその機
能を十分維持するものとなる。

【００３１】なお、前記導電性ゴムローラは、単に画像
形成装置の各ローラだけでなく、他の装置においてもも
ちろん使用可能であり、また、その用途に応じてヨウ素
処理されるゴムの種類を適宜に選択することにより、用
途に応じた様々な特性と前記の優れた電気的特性を併せ
もつものとなる。

【００３２】

【発明の効果】以上説明したように本発明における請求
項１記載の導電性ゴムローラは、該ローラの表層側とな
る第二抵抗調整層が、共役鎖をもたないポリマーがヨウ
素処理によって導電性が付与された導電性ゴムから形成
されたものであるから、導電剤を混入することによって
導電性を具有した導電性ゴムに比べ、その製造法に起因
する抵抗値の不均一性を解消して均一な抵抗値を有する
ものとなり、さらには使用に伴う抵抗値の変化も抑えて
安定した抵抗値を有するものとなる。また、従来のゴム
ローラの表面に、第二抵抗調製層を形成するゴムが溶解
された溶液をコーティング処理することによって該第二
抵抗調製層を形成するといった製造法が可能になること
から、製造コストの上昇を最低限に抑えることができ
る。

【００３３】請求項４記載の導電性ゴムローラは、抵抗
調整層が、共役鎖をもたないポリマーがヨウ素処理によ
って導電性が付与された導電性ゴムから形成されたもの
であるから、請求項１記載の導電性ゴムローラの場合と
同様に、導電剤を混入することによって導電性を具有し
た導電性ゴムに比べ、その製造法に起因する抵抗値の不
均一性を解消して均一な抵抗値を有するものとなり、さ
らには使用に伴う抵抗値の変化も抑えて安定した抵抗値
を有するものとなる。請求項６記載の画像形成装置は、
抵抗値が均一でしかも使用に伴う変化も抑えられた前記
導電性ゴムローラを用いてなるものであるから、該ゴム
ローラが優れた機能を発揮するとともに長期の使用にお
いてもその機能を十分維持するものとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明における導電性ゴムローラの第一実施形
態例の概略構成図である。

【図２】本発明における導電性ゴムローラの第二実施形
態例の概略構成図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側
面図である。

【図３】ヨウ素濃度と電気伝導度との関係を示すグラフ
図である。

【図４】本発明に係る画像形成装置の概略構成図であ
る。

【図５】本発明に用いられるゴムポリマーの構造を示す
図であり、（ａ）はＮＲ、（ｂ）はＩＲ、（ｃ）はＢＲ
を示す図である。

【図６】ヨウ素ドーピング処理したゴムポリマーの架橋
反応過程における活性状態を示す図である。

【図７】活性分離したポリマーの架橋反応プロセスを示
す図である。

【図８】ＣＲの構造を示す図である。

【符号の説明】

１ 画像形成装置 ２ 像担持体 ３ 帯電ローラ ４ 露光処理部 ５ 現像ローラ ６ 転写ローラ ７ 印字媒体 ８ 供給ローラ ９ クリーニングローラ １０、２０ 導電性ゴムローラ １１、２１ 導電性シャフト １２ 第一抵抗調製層 １３ 第二抵抗調製層 ２２ 抵抗調製層

フロントページの続き (72)発明者 石川 匡幸 東京都港区芝浦４丁目11番地22号 株式 会社沖データ内 (56)参考文献 特開 平７−149448（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−118728（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−98549（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 15/02 F16C 13/00 G03G 15/08 501 G03G 15/16 103 G03G 21/10

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性シャフトと、該導電性シャフトの
   周面上に設けられた第一抵抗調整層と、該第一抵抗調整
   層上に設けられた第二抵抗調整層とからなり、 前記第一抵抗調整層が、導電物質を配合してなるゴムか
   ら形成され、 前記第二抵抗調整層が、共役鎖をもたないポリマーがヨ
   ウ素処理によって導電性が付与された導電性ゴムから形
   成されてなることを特徴とする導電性ゴムローラ。
2. 【請求項２】 前記第一抵抗調整層を形成する、導電物
   質を配合してなるゴムが、シリコンゴムからなることを
   特徴とする請求項１記載の導電性ローラ。
3. 【請求項３】 前記第一抵抗調整層を形成する、導電物
   質を配合してなるゴムが、導電物質として金属イオンを
   配合してなるポリウレタンゴムからなることを特徴とす
   る請求項１記載の導電性ゴムローラ。
4. 【請求項４】 導電性シャフトと、該導電性シャフトの
   周面上に設けられた抵抗調整層とからなり、 前記抵抗調整層が、共役鎖をもたないポリマーがヨウ素
   処理によって導電性が付与された導電性ゴムから形成さ
   れてなることを特徴とする導電性ゴムローラ。
5. 【請求項５】 前記共役鎖をもたないポリマーは、１，
   ４−シス−ポリイソプレン、１，４−トランス−ポリイ
   ソプレン、２，３−ジメチルブタジエンから選択された
   ポリマーであることを特徴とする請求項１又は４に記載
   の導電性ゴムローラ。
6. 【請求項６】 像担持体と、この像担持体の表面を接触
   帯電させる帯電ローラと、前記像担持体の表面に露光処
   理を行って該表面に静電潜像を形成する露光処理部と、
   静電潜像が形成された像担持体表面に現像処理を行って
   前記静電潜像を転写可能なトナー像にする現像ローラ
   と、該現像ローラにトナーを供給する供給ローラと、像
   担持体表面に形成したトナー像を印字媒体上に転写して
   前記静電潜像を可視像化する転写ローラと、像担持体表
   面に残留したトナーを除去するクリーニングローラとを
   具備してなる画像形成装置において、 前記帯電ローラ、現像ローラ、供給ローラ、転写ロー
   ラ、クリーニングローラの少なくとも一つが、請求項
   １、２、３、４又は５記載の導電性ゴムローラからなる
   ことを特徴とする画像形成装置。