[go: up one dir, main page]

JP3335503B2 - Inspection method and inspection device for perforated plate - Google Patents

Inspection method and inspection device for perforated plate

Info

Publication number
JP3335503B2
JP3335503B2 JP18078395A JP18078395A JP3335503B2 JP 3335503 B2 JP3335503 B2 JP 3335503B2 JP 18078395 A JP18078395 A JP 18078395A JP 18078395 A JP18078395 A JP 18078395A JP 3335503 B2 JP3335503 B2 JP 3335503B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
perforated plate
unevenness
image
filter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP18078395A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH095057A (en
Inventor
正嘉 小林
邦夫 上田
亨 芝原
吉治 浅井
正邦 伊東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Holdings Co Ltd, Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Screen Holdings Co Ltd
Priority to JP18078395A priority Critical patent/JP3335503B2/en
Priority to KR1019960006361A priority patent/KR100221697B1/en
Publication of JPH095057A publication Critical patent/JPH095057A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3335503B2 publication Critical patent/JP3335503B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、多数の透孔が概周期的
に配列された透孔板について、透孔の寸法異常に起因し
た光透過率のムラを検査する透孔板の検査方法及び検査
装置に関し、特にカラーブラウン管用のシャドウマスク
や液晶表示パネル用カラーフィルタ等の透孔板を検査す
る検査方法及び検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for inspecting a perforated plate in which a large number of perforated plates are arranged at substantially regular intervals to check for irregularities in light transmittance caused by abnormal dimensions of the perforated holes. More particularly, the present invention relates to an inspection method and an inspection apparatus for inspecting a perforated plate such as a shadow mask for a color CRT or a color filter for a liquid crystal display panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にシャドウマスクは、フォトエッチ
ング法を用いて金属薄板に多数の透孔を概周期的に配列
させて形成することにより製造される。このシャドウマ
スクの製造方法は、金属薄板の主面に耐エッチング性を
有するレジストを塗布して、金属薄板の主面にレジスト
膜を形成するコーティング工程と、シャドウマスクの電
子ビーム通過孔等に対応する所定のパターンを有するパ
ターン板を介してレジスト膜に光を照射して、レジスト
膜に所定のパターンを焼き付ける焼付工程と、所定のパ
ターンが焼き付けられたレジスト膜に現像液を供給し
て、レジスト膜の所定部分を溶解除去しレジスト膜を所
定のパターンに形成すると共に金属薄板のエッチングさ
れるべき主面を露出させる現像工程と、所定のパターン
に形成されたレジスト膜を有する金属薄板にエッチング
液を供給して、レジスト膜に覆われていない金属薄板の
露出した主面をエッチングして電子ビーム通過孔である
多数の透孔を形成するエッチング工程とからなる。
2. Description of the Related Art In general, a shadow mask is manufactured by arranging a large number of through-holes in a thin metal plate in a substantially periodic manner using a photo-etching method. This method of manufacturing a shadow mask corresponds to a coating process in which a resist having etching resistance is applied to the main surface of a thin metal plate to form a resist film on the main surface of the thin metal plate, and corresponds to an electron beam passage hole and the like of the shadow mask. A baking step of irradiating the resist film with light through a pattern plate having a predetermined pattern to bake a predetermined pattern on the resist film, and supplying a developing solution to the resist film having the predetermined pattern printed thereon, A developing step of dissolving and removing a predetermined portion of the film to form a resist film in a predetermined pattern and exposing a main surface of the metal sheet to be etched; and an etching solution for the metal sheet having the resist film formed in the predetermined pattern. Is supplied, and the exposed main surface of the metal sheet not covered with the resist film is etched to form a large number of electron beam passage holes. Consisting of an etching step for forming a through hole.

【0003】上述のコーティング工程において金属薄板
の主面にレジストが均一に塗布されず主面に形成された
レジスト膜の膜厚が不均一な場合や、エッチング工程に
おいて金属薄板の有するレジスト膜にエッチング液が均
一に供給されない場合、金属薄板に形成された多数の透
孔に局所的な寸法異常が発生する。
In the above-mentioned coating process, when the resist is not uniformly applied to the main surface of the metal sheet and the thickness of the resist film formed on the main surface is not uniform, or when the resist film of the metal sheet is etched in the etching step. If the liquid is not supplied uniformly, local dimensional abnormalities occur in many through holes formed in the metal sheet.

【0004】この局所的な透孔の寸法異常を検査する手
法として、透孔の形状や孔径等の寸法異常に起因した光
透過率のムラを検査する手法が採られている。具体的に
説明すると、図16に示すように、まず、シャドウマス
クSMを検査員が手で持ち、このシャドウマスクSM
を、光源(図示省略)を内蔵したライトテーブル202
の透光性の傾斜テーブル面204の手前に配置する。そ
して、光源の光を傾斜テーブル面204を経てシャドウ
マスクSMに照射し、シャドウマスクSMを図中に矢印
で示すように揺らしつつ、シャドウマスクSMを目視す
る。この際、シャドウマスクSMに透孔の形状や孔径等
の寸法異常が局所的に起きていれば、検査員により透孔
を通過する光透過率のムラとして認識され、このムラが
許容される範囲であるか否かを過去の経験から判断して
良品のシャドウマスクと不良品のシャドウマスクとが選
別される。透孔の寸法異常に起因した光透過率のムラと
しては、シャドウマスクSMの全面に亘って光の濃淡ム
ラが点在する全体ムラや、濃淡ムラが部分的に散在する
部分ムラ,縦或いは横方向に濃淡ムラが線状に生じるス
ジムラ等がある。
[0004] As a method of inspecting the local dimensional abnormality of the through hole, a method of inspecting the unevenness of the light transmittance due to the dimensional abnormality such as the shape and the hole diameter of the through hole has been adopted. More specifically, as shown in FIG. 16, first, the inspector holds the shadow mask SM by hand, and
To a light table 202 having a built-in light source (not shown).
In front of the light-transmitting inclined table surface 204. Then, the light of the light source is applied to the shadow mask SM via the inclined table surface 204, and the shadow mask SM is visually observed while swinging the shadow mask SM as indicated by an arrow in the drawing. At this time, if a dimensional abnormality such as the shape or diameter of the through-hole is locally generated in the shadow mask SM, the inspector recognizes it as unevenness of the light transmittance passing through the through-hole, and this unevenness is within an allowable range. It is determined from the past experience whether or not the shadow mask is a good shadow mask and a defective shadow mask. The unevenness of the light transmittance due to the abnormal size of the through-hole includes the entire unevenness in which the light and shade unevenness is scattered over the entire surface of the shadow mask SM, the partial unevenness in which the light and shade unevenness is partially scattered, the vertical or horizontal direction. There are uneven streaks or the like in which density unevenness occurs linearly in the direction.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た検査では、検査員の目視判断による都合上、以下のよ
うな問題があった。
However, the above-described inspection has the following problems due to the visual judgment of the inspector.

【0006】良品のシャドウマスクであっても許容され
る範囲の光透過率のムラは存在している。しかも、検査
員は、この光学的なムラに加え、透孔を通過した分の光
量の光そのものをも見ることになる。更には、検査に際
して、良品のシャドウマスクSMについて起きるムラと
検査対象のシャドウマスクSMについて起きるムラとを
常時見比べるわけではなく、経験的に認識している良品
のシャドウマスクSMのムラとの対比を、検査対象のシ
ャドウマスクSMのムラを目視しながら行なっていた。
よって、良品と検査対象のシャドウマスクSMのムラの
対比を経た良否判断に、高度の熟練と相当の経験が必要
であった。また、熟練の程度や経験がほぼ同一であって
も、検査員の個人差や健康状態等により、良否判断がば
らつくことがあった。
[0006] Even with a good shadow mask, there is unevenness in light transmittance within an allowable range. Moreover, the inspector sees not only the optical unevenness but also the light of the amount corresponding to the light passing through the through hole. Further, in the inspection, the unevenness of the non-defective shadow mask SM is not always compared with the non-uniformity of the shadow mask SM to be inspected. This is performed while visually checking the unevenness of the shadow mask SM to be inspected.
Therefore, a high level of skill and considerable experience was required to determine the quality of the non-defective product and the shadow mask SM to be inspected based on the unevenness of the shadow mask SM. In addition, even if the level of skill and the experience are almost the same, the quality judgment may vary depending on the individual differences of the inspectors and the health condition.

【0007】本発明は、上記問題点を解決するためにな
され、シャドウマスク等の透孔板の透孔の寸法異常に起
因した光透過率のムラの目視検査の簡略化と検査精度の
向上とを図ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has been made to simplify visual inspection of light transmittance unevenness caused by abnormal dimensional dimension of a hole in a hole plate of a shadow mask or the like and to improve the inspection accuracy. The purpose is to plan.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めになされた本発明の透孔板の検査方法で採用した手順
は、多数の透孔が概周期的に配列された透孔板につい
て、透孔の寸法異常に起因した光透過率のムラを検査す
る透孔板の検査方法において、前記透孔板の一方の主面
側から光を照射する照射工程と、前記透孔板を他方の主
面側から撮像して、該撮像画像の階調データを求める撮
像工程と、前記階調データを所定のフィルタにより平滑
化処理して平滑化データを求める平滑化工程と、前記階
調データを前記平滑化データで除算して、前記撮像画像
の規格化データを算出する規格化工程と、前記規格化デ
ータに基づいて、検査対象である前記透孔板の他方の主
面を表示する被検査透孔板表示工程と、前記ムラの程度
が許容される範囲である良品の透孔板、又は前記ムラの
程度が許容されない範囲である不良品の透孔板である限
度見本についての前記規格化データを準備する準備工程
と、前記限度見本の規格化データに基づいて、限度見本
の前記他方の主面を表示する限度見本表示工程と、を含
むことをその要旨とする。
The procedure adopted in the method for inspecting a perforated plate of the present invention, which has been made to achieve the above object, is based on a perforated plate in which a large number of perforated holes are arranged approximately periodically. In a method for inspecting a perforated plate for inspecting unevenness of light transmittance caused by a dimensional abnormality of a perforated hole, an irradiation step of irradiating light from one main surface side of the perforated plate, An imaging step of imaging from the main surface side to obtain gradation data of the captured image; a smoothing step of smoothing the gradation data by a predetermined filter to obtain smoothed data; Dividing by the smoothed data to calculate normalized data of the captured image; and inspecting the other main surface of the perforated plate to be inspected based on the normalized data. Perforated plate display step and degree of unevenness
Is a non-defective perforated plate within the allowable range, or
As long as the defective perforated plate is in an unacceptable range
Preparing step for preparing the standardized data for a sample
And the limit sample based on the standardized data of the limit sample.
And a limit sample display step of displaying the other main surface .

【0009】[0009]

【0010】また、上記目的を達成するためになされ
本発明の透孔板の検査装置で採用した手段は、多数の透
孔が概周期的に配列された透孔板について、透孔の寸法
異常に起因した光透過率のムラを検査する透孔板の検査
装置において、前記透孔板を支持する支持手段と、前記
支持手段に支持された透孔板の一方の主面側から光を照
射する照射手段と、前記支持手段により支持された透孔
板を他方の主面側から撮像して、該撮像画像の階調デー
タを求める撮像手段と、前記階調データを所定のフィル
タにより平滑化処理して平滑化データを求める平滑化手
段と、前記階調データを前記平滑化データで除算して、
前記撮像画像の規格化データを算出する規格化手段と、
前記規格化データに基づいて、検査対象である前記透孔
板の他方の主面を表示する表示手段と、前記ムラの程度
が許容される範囲である良品の透孔板、又は前記ムラの
程度が許容されない範囲である不良品の透孔板である限
度見本についての前記規格化データを記憶する記憶手段
とを有し、前記表示手段は、検査対象である透孔板の他
方の主面を表示すると共に前記限度見本の規格化データ
に基づいて、限度見本の前記他方の主面を表示する手段
であることをその要旨とする。
[0010] The present invention has been made to achieve the above object .
The means adopted in the apparatus for inspecting a perforated plate of the present invention is a perforated plate in which a large number of perforated holes are arranged at substantially regular intervals, and the perforated plate for inspecting unevenness in light transmittance caused by a dimensional abnormality of perforated holes. In the plate inspection apparatus, a supporting means for supporting the perforated plate, an irradiating means for irradiating light from one main surface side of the perforated plate supported by the supporting means, and a supporting means supported by the supporting means. An imaging unit that captures the perforated plate from the other main surface side and obtains gradation data of the captured image; a smoothing unit that obtains smoothed data by performing a smoothing process on the gradation data with a predetermined filter; Dividing the gradation data by the smoothed data,
Normalizing means for calculating standardized data of the captured image,
Display means for displaying the other main surface of the perforated plate to be inspected based on the standardized data, and a degree of the unevenness
Is a non-defective perforated plate within the allowable range, or
As long as the defective perforated plate is in an unacceptable range
Storage means for storing the standardized data for the sample
And the display means is provided in addition to the perforated plate to be inspected.
And the standardized data of the limit sample
Means for displaying the other main surface of the limit sample based on
As its gist that this is.

【0011】[0011]

【0012】この本発明の検査装置において、次のよう
にすることができる。まず第1に、前記平滑化手段が平
滑化処理する際の前記所定のフィルタを、m行n列
(m、nは、自然数)のフィルタウィンドを有するメデ
ィアンフィルタとできる。
In the inspection apparatus of the present invention,
Can be First, the predetermined filter when pre Symbol smoothing means for smoothing processing, m rows and n columns (m, n is a natural number) can and median filter having a filter window of.

【0013】第2に、前記平滑化手段が、m行1列(m
は、自然数)のフィルタウィンドを有するメディアンフ
ィルタで前記階調データを平滑化処理して第1平滑化デ
ータを求める手段と、1行n列(nは、自然数)のフィ
ルタウィンドを有するメディアンフィルタで前記第1平
滑化データを平滑化処理して前記平滑化データを求める
手段と、を有するものとできる。
[0013] in the second, the previous Symbol smoothing means, m rows and one column (m
Means for obtaining the first smoothed data by smoothing the gradation data with a median filter having a filter window of (natural number), and a median filter having a filter window of 1 row and n columns (n is a natural number). means for determining said smoothed data said first smoothing data smoothed, can and shall to have a.

【0014】第3に、前記平滑化手段が、1行n列(n
は、自然数)のフィルタウィンドを有するメディアンフ
ィルタで前記階調データを平滑化処理して第2平滑化デ
ータを求める手段と、m行1列(mは、自然数)のフィ
ルタウィンドを有するメディアンフィルタで前記第2平
滑化データを平滑化処理して前記平滑化データを求める
手段と、を有するものとできる。
[0014] Third, the previous Symbol smoothing means, one row and n columns (n
Means for obtaining the second smoothed data by smoothing the gradation data with a median filter having a filter window of (natural number), and a median filter having a filter window of m rows and 1 column (m is a natural number). means for determining said smoothed data said second smoothing data smoothed, can and shall to have a.

【0015】第4に、前記平滑化手段が透孔板の透孔が
形成された範囲である透孔領域の周辺の階調データであ
り前記メディアンフィルタのフィルタウィンドを満たさ
ないデータ数の階調データについて、該フィルタウィン
ドを満たさないデータ数の階調データをその大きさの順
に並べたときに中央にくるデータを出力データとするメ
ディアンフィルタを用いて平滑化処理するものである。
[0015] Fourth, the prior SL smoothing means hole plate hole is gradation data of the periphery of the hole area in the range formed of the number of data that do not meet the filter window of the median filter floor The tone data is subjected to smoothing processing using a median filter that uses the data located at the center when the tone data of the number of data that does not satisfy the filter window are arranged in order of the size as output data.

【0016】[0016]

【作用】上記構成を有する本発明の透孔板の検査方法で
は、照射工程で透孔板の一方の主面から光を照射して、
光を透孔から通過させる。これにより、透孔板の透孔か
らは光が透過し、透孔板の他方の主面側では、透孔の配
置の密度に倣って明暗の分布が得られる。この明暗の分
布は、撮像工程での透孔板の撮像を経て、画素の濃度値
である階調データとして捕らえられる。この階調データ
の高い空間周波数である雑音は、平滑化工程での所定の
フィルタによる平滑化処理を経て低減され、撮像画像の
平滑化データが求められる。よって、この平滑化データ
にあっては、透孔板の透孔の配置の密度に倣った明暗の
分布はデータとして反映されているものの、透孔板のム
ラに関しては雑音或いは小さな変動として低減若しくは
除去される。そして、規格化工程により、階調データは
平滑化データで除算されて撮像画像の規格化データが算
出され、この規格化データに基づいて、被検査透孔板表
示工程により、検査対象の透孔板における他方の主面側
の画像が表示される。
[Action] In the inspection method of the hole plate of the present invention that have a above-described configuration, by irradiating light from one main surface of the hole plate in the irradiation step,
Light is passed through the through hole. Thus, light is transmitted from the through-holes of the perforated plate, and a light-dark distribution is obtained on the other main surface side of the perforated plate according to the density of the arrangement of the through-holes. This light / dark distribution is captured as gradation data, which is the density value of a pixel, through imaging of a perforated plate in an imaging step. Noise, which is a high spatial frequency of the gradation data, is reduced through a smoothing process using a predetermined filter in a smoothing process, and smoothed data of a captured image is obtained. Therefore, in this smoothed data, although the distribution of light and dark according to the density of the arrangement of the perforations in the perforated plate is reflected as data, the unevenness of the perforated plate is reduced or reduced as noise or small fluctuation. Removed. Then, in the normalization step, the gradation data is divided by the smoothed data to calculate standardized data of the captured image, and based on the normalized data, the inspection target through-hole plate display step performs An image of the other main surface side of the plate is displayed.

【0017】規格化データは、平滑化データでの階調デ
ータの除算を経ていることから、透孔板の透孔の配置の
密度に倣った明暗の分布が除去され、透孔の寸法異常に
起因した光透過率のムラを表わすデータとなる。従っ
て、この規格化データに基づいた透孔板の他方の主面側
の画像表示により、透孔の寸法異常に起因した光透過率
のムラが強調されて表示され、検査員にこのムラを画像
(ムラ画像)として提供できる。
Since the normalized data has undergone the division of the gradation data by the smoothed data, the distribution of brightness and darkness according to the density of the arrangement of the perforations in the perforated plate is removed, and the size of the perforations is abnormal. This is data representing the resulting unevenness of the light transmittance. Therefore, by displaying an image on the other main surface side of the perforated plate based on the standardized data, the unevenness of the light transmittance due to the dimensional abnormality of the perforated hole is emphasized and displayed. (Uneven image).

【0018】しかも、この本発明の透孔板の検査方法で
は、限度見本表示工程により、ムラの程度が許容される
範囲である良品の透孔板、又はムラの程度が許容されな
い範囲である不良品の透孔板である限度見本についての
規格化データに基づいた画像表示を行う。よって、検査
員には、限度見本の透孔板のムラ画像と検査対象の透孔
板のムラ画像とを対比して提供できる。
Further, in the method for inspecting a perforated plate of the present invention , a non-defective perforated plate in which the degree of non-uniformity is acceptable or a degree in which the degree of non-uniformity is not acceptable is obtained in the limit sample display step. An image is displayed based on the standardized data for the limit sample, which is a non-defective perforated plate. Therefore, the inspector can be provided with the non-uniform image of the perforated plate of the limit sample and the non-uniform image of the perforated plate to be inspected in comparison.

【0019】また、本発明の透孔板の検査装置では、支
持手段により支持した透孔板に、その一方の主面から照
射手段により光を照射して、光を透孔から通過させる。
これにより、透孔板の透孔からは光が透過し、透孔板の
他方の主面側では、透孔の配置の密度に倣って明暗の分
布が得られる。この明暗の分布は、撮像手段により透孔
板が撮像されて、画素の濃度値である階調データとして
捕らえられる。この階調データの高い空間周波数である
雑音は、平滑化手段の有する所定のフィルタによる平滑
化処理を経て低減され、撮像画像の平滑化データが求め
られる。よって、この平滑化データにあっては、透孔板
の透孔の配置の密度に倣った明暗の分布はデータとして
反映されているものの、透孔板のムラに関しては雑音或
いは小さな変動として低減若しくは除去される。そし
て、規格化手段により、階調データは平滑化データで除
算されて撮像画像の規格化データが算出され、この規格
化データに基づいて、表示手段により、検査対象の透孔
板における他方の主面側の画像が表示される。
Further, in the inspection apparatus for a perforated plate of the present invention, the perforated plate supported by the supporting means is irradiated with light from one main surface of the perforated plate by the irradiating means to pass the light through the perforated hole.
Thus, light is transmitted from the through-holes of the perforated plate, and a light-dark distribution is obtained on the other main surface side of the perforated plate according to the density of the arrangement of the through-holes. This distribution of light and darkness is captured as tone data, which is the density value of a pixel, by capturing an image of the perforated plate by the imaging unit. Noise, which is a high spatial frequency of the gradation data, is reduced through a smoothing process using a predetermined filter included in the smoothing means, and smoothed data of the captured image is obtained. Therefore, in this smoothed data, although the distribution of light and dark according to the density of the arrangement of the perforations in the perforated plate is reflected as data, the unevenness of the perforated plate is reduced or reduced as noise or small fluctuation. Removed. Then, the normalizing means divides the gradation data by the smoothed data to calculate standardized data of the captured image, and based on the normalized data, the display means displays the other main data of the perforated plate to be inspected. The image on the surface side is displayed.

【0020】規格化データは、平滑化データでの階調デ
ータの除算を経ていることから、透孔板の透孔の配置の
密度に倣った明暗の分布が除去され、透孔の寸法異常に
起因した光透過率のムラを表わすデータとなる。従っ
て、この規格化データに基づいた透孔板の他方の主面側
の画像表示により、透孔の寸法異常に起因した光透過率
のムラが強調されて表示され、検査員にこのムラを画像
(ムラ画像)として提供できる。
Since the standardized data has undergone the division of the gradation data by the smoothed data, the distribution of lightness and darkness in accordance with the density of the arrangement of the perforations on the perforated plate is removed, and the size of the perforations is abnormal. This is data representing the resulting unevenness of the light transmittance. Therefore, by displaying an image on the other main surface side of the perforated plate based on the standardized data, the unevenness of the light transmittance due to the dimensional abnormality of the perforated hole is emphasized and displayed. (Uneven image).

【0021】この本発明の透孔板の検査装置において、
ムラの程度が許容される範囲である良品の透孔板、又は
ムラの程度が許容されない範囲である不良品の透孔板で
ある限度見本についての規格化データを記憶手段に記憶
しておき、この記憶した規格化データに基づいて、表示
手段により限度見本の他方の主面を表示すると共に検査
対象の透孔板の他方の主面を表示する。よって、検査員
には、限度見本の透孔板のムラ画像と検査対象の透孔板
のムラ画像とを対比して提供できる。
[0021] In the inspection equipment of the through-hole plate of the present invention,
Non-defective perforated plate in which the degree of unevenness is in an allowable range, or standardized data on a limit sample that is a defective perforated plate in which the degree of unevenness is in an unacceptable range is stored in the storage means, On the basis of the stored standardized data, the display means displays the other main surface of the limit sample and the other main surface of the inspection target perforated plate. Therefore, the inspector can be provided with the non-uniform image of the perforated plate of the limit sample and the non-uniform image of the perforated plate to be inspected in comparison.

【0022】こうした本発明の透孔板の検査装置におい
て、平滑化手段での平滑化処理をm行n列(m、nは、
自然数)のフィルタウィンドを有するメディアンフィル
タで行なう。よって、階調データからは効果的に雑音が
低減されると共に、小さな変動が平滑化された平滑化デ
ータが得られる。
[0022] inspection equipment smell of the through-hole plate of this invention
Then , the smoothing processing by the smoothing means is performed by m rows and n columns (m and n are
This is performed by a median filter having a filter window of (natural number). Therefore, from the gradation data, noise is effectively reduced, and smoothed data in which small fluctuations are smoothed is obtained.

【0023】また、こうした本発明の透孔板の検査装
において、平滑化手段により、まずm行1列(mは、自
然数)のフィルタウィンドを有するメディアンフィルタ
で階調データを平滑化処理して第1平滑化データを求め
る。次に1行n列(nは、自然数)のフィルタウィンド
を有するメディアンフィルタで第1平滑化データを平滑
化処理して平滑化データを求める。このため階調データ
からは効果的に雑音が低減されると共に、小さな変動が
平滑化された平滑化データが得られるのみならず、平滑
化処理を二段階に分けて行なう。
[0023] In addition, inspection equipment of the through-hole plate of this invention
, The smoothing means first smoothes the gradation data with a median filter having a filter window of m rows and 1 column (m is a natural number) to obtain first smoothed data. Next, the first smoothed data is smoothed by a median filter having a filter window of one row and n columns (n is a natural number) to obtain smoothed data. For this reason, noise is effectively reduced from the gradation data, and not only is smoothed data in which small fluctuations are smoothed out, but also the smoothing process is performed in two stages.

【0024】更に、こうした本発明の透孔板の検査装
において、平滑化手段により、まず1行n列(nは、自
然数)のフィルタウィンドを有するメディアンフィルタ
で階調データを平滑化処理して第2平滑化データを求め
る。次にm行1列(mは、自然数)のフィルタウィンド
を有するメディアンフィルタで第2平滑化データを平滑
化処理して平滑化データを求める。このため階調データ
からは効果的に雑音が低減されると共に、小さな変動が
平滑化された平滑化データが得られるのみならず、平滑
化処理を二段階に分けて行なう。
[0024] In addition, the inspection equipment of the through-hole plate of this invention
In the above, the smoothing means first smoothes the gradation data with a median filter having a filter window of one row and n columns (n is a natural number) to obtain second smoothed data. Next, the second smoothed data is smoothed by a median filter having a filter window of m rows and 1 column (m is a natural number) to obtain smoothed data. For this reason, noise is effectively reduced from the gradation data, and not only is smoothed data in which small fluctuations are smoothed out, but also the smoothing process is performed in two stages.

【0025】また、これら本発明の透孔板の検査装置に
おいて、平滑化手段によりメディアンフィルタを用い
て、透孔板の透孔が形成された範囲である透孔領域の周
辺の階調データでありメディアンフィルタのフィルタウ
ィンドを満たさないデータ数の階調データについても出
力データを得る。よって、平滑化データと階調データと
のデータ数の整合と、透孔領域の周辺における階調デー
タの平滑化処理とを図ることができる。
[0025] In addition, the inspection equipment of the through-hole plate of these present invention
The median filter is used by the smoothing means, and the gradation data is the gradation data around the perforated area, which is the range in which the perforations of the perforated plate are formed, and the number of gradations does not satisfy the filter window of the median filter. Output data is also obtained for data. Therefore, it is possible to match the number of data between the smoothed data and the gradation data and to smooth the gradation data around the perforated area.

【0026】[0026]

【実施例】次に、本発明に係る透孔板の検査装置の好適
な実施例について、シャドウマスクの検査装置を例に採
り説明する。まず、この実施例のシャドウマスク検査装
置30の外観構成について説明する。図1の正面図に示
すように、シャドウマスク検査装置30は、シャドウマ
スクSMを撮像し画像データを得るための光学測定装置
40と、画像データに基づき種々のデータ処理を行なう
データ処理装置50とで構成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, a preferred embodiment of an inspection apparatus for a perforated plate according to the present invention will be described using an inspection apparatus for a shadow mask as an example. First, the external configuration of the shadow mask inspection apparatus 30 of this embodiment will be described. As shown in the front view of FIG. 1, the shadow mask inspection device 30 includes an optical measurement device 40 for imaging the shadow mask SM and obtaining image data, and a data processing device 50 for performing various data processing based on the image data. It is composed of

【0027】光学測定装置40は、定盤41を備え、こ
の定盤41の上面には照明光を通過させるための開口が
ほぼ中央に形成されている。また、定盤41の上面に
は、光を拡散して透過するガラス板43が載置されてお
り、ガラス板43の下方には、光源44が配置されてい
る。この光源44としては、例えば高周波点灯型の蛍光
灯が使用される。なお、ガラス板43の上面には、マス
ク板45(図2参照)が載置され、このマスク板45に
シャドウマスクSMが粘着テープ等により密着・固定さ
れるが、その様子については、後述する。
The optical measuring device 40 has a surface plate 41, and an opening for passing illumination light is formed substantially at the center of the upper surface of the surface plate 41. A glass plate 43 that diffuses and transmits light is placed on the upper surface of the surface plate 41, and a light source 44 is arranged below the glass plate 43. As the light source 44, for example, a high frequency lighting type fluorescent lamp is used. A mask plate 45 (see FIG. 2) is placed on the upper surface of the glass plate 43, and the shadow mask SM is adhered and fixed to the mask plate 45 with an adhesive tape or the like. .

【0028】定盤41からは、上方に伸びるスタンド支
持アーム46が立設されており、スタンド支持アーム4
6には、カメラ保持ビーム47がいわゆる片持ちで設け
られている。また、カメラ保持ビーム47は、スタンド
支持アーム46に図示しない調整機構により調整自在に
取り付けられいるので、カメラ保持ビーム47とCCD
カメラ49とを一体に上下方向(図中Z方向)に移動さ
せることができる。また、CCDカメラ49は、カメラ
保持ビーム47に調整自在に取り付けられ、CCDカメ
ラ49を左右方向(図中X方向)に移動させることがで
きる。このため、種々のサイズのシャドウマスクの撮像
すべき領域とCCDカメラ49の撮像領域とが一致する
ようにCCDカメラ49を上下、左右に移動させること
ができる。
A stand support arm 46 extending upward from the surface plate 41 is provided.
6 is provided with a so-called cantilever camera holding beam 47. The camera holding beam 47 is attached to the stand support arm 46 so as to be adjustable by an adjusting mechanism (not shown).
The camera 49 and the camera 49 can be integrally moved in the vertical direction (Z direction in the figure). The CCD camera 49 is attached to the camera holding beam 47 so as to be adjustable, and can move the CCD camera 49 in the left-right direction (X direction in the figure). For this reason, the CCD camera 49 can be moved up and down, left and right so that the regions to be imaged by the shadow masks of various sizes coincide with the imaging regions of the CCD camera 49.

【0029】CCDカメラ49は、CCD素子を二次元
配置したCCDカメラであり、画像の濃淡を濃淡レンジ
で10ビットのデジタル出力が可能である。なお、CC
Dカメラ49からは、1,534 画素×1,024 画素の画像を
取得することができる。
The CCD camera 49 is a CCD camera in which CCD elements are two-dimensionally arranged, and is capable of digitally outputting a 10-bit digital image in a grayscale range. Note that CC
From the D camera 49, an image of 1,534 pixels × 1,024 pixels can be obtained.

【0030】データ処理装置50は、後述する画像を表
示するディスプレイ52と、種々の画像処理を行う画像
処理装置54と、CCDカメラ49のゲイン及びシャッ
タースピードを制御するカメラ制御装置62とを備えて
いる。
The data processing device 50 includes a display 52 for displaying an image described later, an image processing device 54 for performing various image processing, and a camera control device 62 for controlling the gain and shutter speed of the CCD camera 49. I have.

【0031】次にシャドウマスク検査装置30の電気的
構成について、図2のブロック図を用いて説明する。光
源44から出射された光は、ガラス板43と、シャドウ
マスクSMの透孔とを順次通過してCCDカメラ49に
入射する。この際、マスク板45にシャドウマスクSM
が密着・固定され、シャドウマスクSMの透孔が形成さ
れた領域である透孔領域SMeはマスク板45の開口4
5aから露出し、透孔が形成されていないシャドウマス
クSMの周辺領域はマスクされる。よって、CCDカメ
ラ49は、透孔領域SMeに関してシャドウマスクSM
を撮像し、その2次元に配列された濃淡画像(多値画
像)の画像データDiとして得る。この画像データDi
は、カメラ制御装置62を介して画像処理装置54に取
り込まれ、後述する画像処理が施された後、種々の画像
がディスプレイ52に表示される。
Next, the electrical configuration of the shadow mask inspection apparatus 30 will be described with reference to the block diagram of FIG. The light emitted from the light source 44 sequentially passes through the glass plate 43 and the through holes of the shadow mask SM, and enters the CCD camera 49. At this time, the shadow mask SM is
Are adhered and fixed, and a through-hole region SMe, which is a region where the through-hole of the shadow mask SM is formed,
The peripheral region of the shadow mask SM that is exposed from 5a and has no through hole is masked. Therefore, the CCD camera 49 sets the shadow mask SM with respect to the through-hole area SMe.
Is obtained as image data Di of a two-dimensionally arranged gray-scale image (multi-valued image). This image data Di
Is captured by the image processing device 54 via the camera control device 62 and subjected to image processing described later, and then various images are displayed on the display 52.

【0032】画像処理装置54は、予め登録されたプロ
グラムによって様々な処理を行なう汎用型の高速画像処
理装置であり、種々の画像処理等のほか予め定められた
他の処理を行なうCPU66と、画像データDi等のデ
ータの一時的な記憶を行うRAM等の主記憶装置68
と、データの入力のためのキーボード70と、画像デー
タDi等のデータを保存する補助記憶装置72、例えば
フレキシブルディスク装置等と、検査結果等の打ち出し
用のプリンタ74とを備えており、これらは互いにバス
ライン64を介して接続されている。また、この画像処
理装置54のバスライン64には、カメラ制御装置62
とディスプレイ52とが接続されている。
The image processing device 54 is a general-purpose high-speed image processing device that performs various processes according to programs registered in advance. The image processing device 54 includes a CPU 66 that performs predetermined other processes in addition to various image processes and the like. Main storage device 68 such as RAM for temporarily storing data such as data Di
And a keyboard 70 for inputting data, an auxiliary storage device 72 for storing data such as image data Di, for example, a flexible disk device, etc., and a printer 74 for outputting inspection results and the like. They are connected to each other via a bus line 64. Further, a camera control device 62 is connected to a bus line 64 of the image processing device 54.
And the display 52 are connected.

【0033】次に、本実施例のシャドウマスク検査装置
30が行なう透孔のムラ検査処理について、図3以降の
フローチャート等を用いて説明する。
Next, a description will be given of a through hole unevenness inspection process performed by the shadow mask inspection apparatus 30 according to the present embodiment with reference to flowcharts shown in FIG.

【0034】図3のフローチャートは、本実施例にて行
なうシャドウマスクSMの透孔のムラ検査処理の概要を
示しており、当該処理が開始されると以降の処理を行な
う上で必要な初期化を行なう(ステップS100)。例
えば、本検査でムラ(透孔の寸法異常に起因した光透過
率のムラ)の良否判断の基準となる限度見本のシャドウ
マスクSMの設定(初期設定)や、検査開始初期画面の
ディスプレイ52への表示,後述の処理にて用いるメモ
リ領域のクリア等を行なう。
[0034] The flowchart of FIG. 3, the initial required on shows the outline of beam La inspection process permeable holes of the shadow mask SM performed in this embodiment, the following processing when the processing is started performed (Step S100). For example, the setting (initial setting) of a limit sample shadow mask SM serving as a criterion for judging the quality of unevenness (unevenness of light transmittance due to abnormal size of a through hole) in the main inspection, and the display 52 of the initial screen of the inspection start. Is displayed, and a memory area used in the processing described later is cleared.

【0035】この初期化を行なうと、ディスプレイ52
には初期設定画面が表示され、それ以降の検査処理の過
程において必要となる種々の項目(初期設定項目)の入
力箇所は、この初期設定画面ではデータ未入力のままで
ある。また、限度見本のシャドウマスクSMの初期設定
を受けて、これら限度見本のシャドウマスクSMのムラ
の表示画像データが、初期設定された限度見本のシャド
ウマスクSMごとに読み出される。この限度見本のシャ
ドウマスクSMごとのムラ画像は、後述の初期設定で必
要事項の設定が終了すると、この読み出された表示画像
データに基づいてディスプレイ52に表示される。な
お、各限度見本のシャドウマスクSMについてのムラの
表示画像データは、ムラの程度がシャドウマスクの品質
の許容される範囲でありかつ当該程度が異なる複数のシ
ャドウマスクSMについて、又は、ムラの程度がシャド
ウマスクの品質の許容されない範囲でありかつ当該程度
が異なる複数のシャドウマスクSMについて後述する検
査対象のシャドウマスクSMと同様にして予め取得され
ており、限度見本のシャドウマスクSMごとに補助記憶
装置72に記憶されている。
When this initialization is performed, the display 52
Displays an initial setting screen, and the input portions of various items (initial setting items) required in the course of the subsequent inspection processing remain without data input on the initial setting screen. Further, in response to the initial setting of the limit sample shadow mask SM, the display image data of the unevenness of the limit sample shadow mask SM is read out for each of the initially set limit sample shadow masks SM. The non-uniform image of each of the limit sample shadow masks SM is displayed on the display 52 based on the read display image data when necessary items are set in the initial setting described later. In addition, the display image data of the unevenness of the shadow mask SM of each of the limit samples is such that the degree of the unevenness is within a range in which the quality of the shadow mask is allowable and the plurality of shadow masks SM having different degrees of the unevenness are displayed. Are obtained in advance in the same manner as the shadow mask SM to be inspected later for a plurality of shadow masks SM whose quality of the shadow mask is unacceptable and the degree thereof is different, and the auxiliary storage is provided for each shadow mask SM of the limit sample. It is stored in the device 72.

【0036】ステップS100に続いては、検査の過程
において必要となる種々の項目について初期設定を行な
う(ステップS110)。この初期設定では、初期化処
理にてデータ未入力のまま表示された初期設定画面の初
期設定項目に順次データを入力する。つまり、初期設定
処理の詳細処理を表わした図4のフローチャートに示す
ように、検査結果の出力ファイル名(ステップS11
1),検査対象のシャドウマスクSMをマスクするため
に用いるマスク板45のマスクタイプ(ステップS11
2),検査員名(ステップS113)を順次入力する。
これらは、検査終了後に表示或いはプリントアウトする
検査結果に掲載される。なお、出力ファイルは、検査結
果を検査対象のシャドウマスクSMごとに保存するため
のファイルであり、そのデータフォーマットは、検査対
象のシャドウマスクSMのサンプルID(例えば、製造
シリアル番号),検査員名,検査日等を保存できるよう
構築されている。
Subsequent to step S100, initial settings are made for various items required in the course of inspection (step S110). In this initial setting, data is sequentially input to the initial setting items on the initial setting screen displayed without inputting data in the initialization processing. That is, as shown in the flowchart of FIG. 4 showing the detailed processing of the initial setting processing, the output file name of the inspection result (step S11
1) The mask type of the mask plate 45 used to mask the shadow mask SM to be inspected (step S11)
2) The name of the inspector (step S113) is sequentially input.
These are displayed in the inspection result displayed or printed out after the inspection is completed. The output file is a file for storing inspection results for each shadow mask SM to be inspected, and has a data format of a sample ID (for example, a manufacturing serial number) of the shadow mask SM to be inspected, an inspector name , Inspection date, etc.

【0037】これら入力が完了すると、検査開始スイッ
チが押圧されるまで待機し(ステップS114)、検査
が開始されれば、出力ファイルをオープンして(ステッ
プS115)、検査結果の出力に備える。その後は、入
力された出力ファイル名等の初期設定データを出力して
(ステップS116)、ディスプレイ52の初期設定画
面中にこれら初期設定データを表示し、結果入力画面を
設定する(ステップS117)。続いて、初期設定済み
の限度見本のシャドウマスクSMごとのムラ画像を、読
み出し済みの表示画像データに基づいてディスプレイ5
2に表示する(ステップS118)。この場合、複数の
限度見本が設定されていれば、その複数の限度見本のシ
ャドウマスクSMのムラ画像は、ディスプレイ52に分
割して同時に表示される。次いで、検査対象のシャドウ
マスクSMの良否判断の結果等を入力するための結果入
力画面を、複数の限度見本のシャドウマスクSMのムラ
画像と共にディスプレイ52に表示する(ステップS1
19)。
When these inputs are completed, the process waits until the inspection start switch is pressed (step S114). When the inspection is started, an output file is opened (step S115) to prepare for the output of the inspection result. After that, the input initial setting data such as the output file name is output (step S116), the initial setting data is displayed on the initial setting screen of the display 52, and the result input screen is set (step S117). Subsequently, based on the read-out display image data, a non-uniform image of each of the initially set limit sample shadow masks SM is displayed on the display 5.
2 (step S118). In this case, if a plurality of limit samples are set, the uneven images of the shadow mask SM of the plurality of limit samples are divided and displayed on the display 52 simultaneously. Next, a result input screen for inputting a result of the quality judgment of the shadow mask SM to be inspected or the like is displayed on the display 52 together with the uneven images of the shadow mask SM of the plurality of limit samples (step S1).
19).

【0038】この初期設定処理によるディスプレイ52
への画像表示の様子は、図5の模式図に示すようにな
る。つまり、初期設定された4つのシャドウマスクSM
についての個々のムラ画像SMG1,SMG2,SMG
3,SMG4と、結果入力画面RGとが、ディスプレイ
52の表示領域52aに分割して同時に表示される。こ
のムラ画像SMG1〜SMG4は表示画像データに基づ
くものなので、画像処理装置54における図示しない拡
大処理により、個々のムラ画像を個別に拡大表示するこ
とができる。なお、このムラ画像SMG1〜SMG4
は、検査対象のシャドウマスクSMのムラ画像に対して
限度見本のムラ画像となる。
The display 52 by this initial setting process
The state of image display on the screen is as shown in the schematic diagram of FIG. That is, the initially set four shadow masks SM
Uneven image SMG1, SMG2, SMG for
3, the SMG 4 and the result input screen RG are displayed on the display area 52a of the display 52 separately at the same time. Since the non-uniform images SMG1 to SMG4 are based on display image data, individual non-uniform images can be individually enlarged and displayed by an enlargement process (not shown) in the image processing device 54. The uneven images SMG1 to SMG4
Is a limit sample unevenness image with respect to the unevenness image of the shadow mask SM to be inspected.

【0039】こうして表示される限度見本のムラ画像S
MG1〜SMG4は、ステップS100で初期設定され
た限度見本のシャドウマスクSMのムラ画像であり、こ
の初期設定に応じて異なる。例えば、初期設定で、濃淡
ムラが点在する全体ムラの程度が異なる4つのシャドウ
マスクSMが設定されれば、全体ムラの程度が段階的に
異なるムラ画像が表示される。また、初期設定のシャド
ウマスクSMが全体ムラの良好なシャドウマスクSM
と、部分ムラの良好なシャドウマスクSMと、縦ムラの
良好なシャドウマスクSMと、横ムラが良好なシャドウ
マスクSMであれば、これら異なるムラについてのムラ
画像が表示される。
The thus displayed limit sample unevenness image S
MG1 to SMG4 are uneven images of the limit sample shadow mask SM initially set in step S100, and differ according to the initial settings. For example, if four shadow masks SM having different levels of overall unevenness in which density unevenness is scattered are set in the initial setting, an unevenness image in which the extent of overall unevenness is gradually changed is displayed. Further, the shadow mask SM of the initial setting is a shadow mask SM having good overall unevenness.
If the shadow mask SM has good partial unevenness, the shadow mask SM has good vertical unevenness, and the shadow mask SM has good horizontal unevenness, uneven images of these different unevennesses are displayed.

【0040】上記した初期設定に続いては、マスク板4
5が載置されたガラス板43への検査員によるシャドウ
マスクSMのセット完了を待ち、セット完了後にスイッ
チ操作されて発せられる入力開始指示を待機する(ステ
ップS120)。ここで入力開始指示があれば、シャド
ウマスクSMの画像の入力・可視化処理を行なう(ステ
ップS130)。なお、この入力・可視化処理に先立
ち、或いは当該処理と同時に、光源44は点灯制御され
る。
Following the initial setting described above, the mask plate 4
It waits for the inspector to complete setting of the shadow mask SM on the glass plate 43 on which 5 is placed, and waits for an input start instruction issued by operating a switch after the setting is completed (step S120). Here, if there is an input start instruction, an input / visualization process of the image of the shadow mask SM is performed (step S130). The lighting of the light source 44 is controlled prior to or simultaneously with the input / visualization processing.

【0041】この入力・可視化処理では、検査対象のシ
ャドウマスクSMについての透過画像を取り込み、ムラ
画像表示のための種々の処理を行なう。つまり、その詳
細処理を表わした図6のフローチャートに示すように、
まず、CCDカメラ49によりシャドウマスクSMの透
過画像を撮像する際の撮像条件に合致するよう、CCD
カメラ49を設定する(ステップS131)。具体的に
説明すると、予め定められたシャッタースピード,ゲイ
ン,フォーカス等の撮像条件と検査対象のシャドウマス
クSMの透孔の透孔領域SMe等に基づいて、CCDカ
メラ49のシャッタースピード設定,ゲイン設定,フォ
ーカス調整等と、CCDカメラ49のZ軸位置調整とが
行なわれる。Z軸位置調整は、図示しない調整機構を手
動で操作して、スタンド支持アーム46に対してカメラ
保持ビーム47とCCDカメラ49とを一体に上下方向
に移動させて行われ、シャッタースピード設定、ゲイン
調整等は、カメラ制御装置62により行われる。また、
フォーカス調整はCCDカメラ49のレンズ部77を手
動で調整することにより行われる。この場合、CCDカ
メラ49のフォーカスは、CCDカメラ49の画素の並
びとシャドウマスクSMの透孔の周期的な配列との間で
起きるモアレを除去するために、ぼかし気味に調整され
る。
In this input / visualization process, a transmission image of the shadow mask SM to be inspected is captured, and various processes for displaying a non-uniform image are performed. That is, as shown in the flowchart of FIG.
First, the CCD camera 49 adjusts the CCD so as to match the imaging conditions when capturing the transmission image of the shadow mask SM.
The camera 49 is set (Step S131). More specifically, the shutter speed setting and gain setting of the CCD camera 49 are performed based on predetermined imaging conditions such as shutter speed, gain, focus, and the like, and the through-hole area SMe of the through-hole of the shadow mask SM to be inspected. , Focus adjustment, etc., and Z-axis position adjustment of the CCD camera 49 are performed. The Z-axis position adjustment is performed by manually operating an adjustment mechanism (not shown) to vertically move the camera holding beam 47 and the CCD camera 49 with respect to the stand support arm 46, thereby setting the shutter speed and setting the gain. The adjustment and the like are performed by the camera control device 62. Also,
The focus adjustment is performed by manually adjusting the lens unit 77 of the CCD camera 49. In this case, the focus of the CCD camera 49 is adjusted to be slightly blurred in order to remove moire that occurs between the arrangement of pixels of the CCD camera 49 and the periodic arrangement of the through holes of the shadow mask SM.

【0042】こうしてCCDカメラ49の撮像条件が設
定されると、CCDカメラ49はガラス板43上のシャ
ドウマスクSMの撮像を開始し、光源44から照射され
シャドウマスクSMの透孔を透過した光の透過画像(以
下、生画像という)をCCDカメラ49で取り込む(ス
テップS132)。CCDカメラ49は、シャドウマス
クSMの生画像を1,534 画素×1,024 画素で濃淡レンジ
が10ビットのデジタル出力で階調データとしてカメラ
制御装置62及びバスライン64を介して主記憶装置6
8に出力する。
When the imaging conditions of the CCD camera 49 are set in this way, the CCD camera 49 starts imaging of the shadow mask SM on the glass plate 43, and the light emitted from the light source 44 and transmitted through the through holes of the shadow mask SM. A transmission image (hereinafter, referred to as a raw image) is captured by the CCD camera 49 (step S132). The CCD camera 49 outputs the raw image of the shadow mask SM as digital data of 1,534 pixels × 1,024 pixels and a gradation range of 10 bits as gradation data through the camera control device 62 and the bus line 64 via the main storage device 6.
8 is output.

【0043】一般にシャドウマスクSMに形成された多
数の透孔のそれぞれの間隔は、シャドウマスクの中央部
では狭くその周辺方向に向かうに従って広くなる。これ
は、平坦なシャドウマスクSMをドーム状に成形するこ
とを考慮してシャドウマスクSMの透孔の配置が設計さ
れているためである。このことから、シャドウマスクS
Mの透過画像のデータである上述の階調データは、シャ
ドウマスクSMの透孔の配置の密度に倣って、シャドウ
マスクSMの中央部では明るく周辺方向に向かうに従っ
て暗くなる明暗のパターン(以下、このパターンをグレ
ードという)が濃淡レンジとして表れたデータである。
しかも、この階調データには、シャドウマスクSMのム
ラに基づく濃淡も反映されている。
In general, the distance between a large number of through-holes formed in the shadow mask SM is narrow at the center of the shadow mask and widens toward the periphery. This is because the arrangement of the through holes of the shadow mask SM is designed in consideration of forming the flat shadow mask SM into a dome shape. From this, the shadow mask S
The above-described gradation data, which is the data of the transmission image of M, is a light-dark pattern (hereinafter, referred to as “bright” at the center of the shadow mask SM and becomes darker toward the peripheral direction, according to the density of the arrangement of the through-holes of the shadow mask SM. This pattern is referred to as grade) is data represented as a shade range.
In addition, the gradation data reflects the shading based on the unevenness of the shadow mask SM.

【0044】そして、この生画像の階調データは、カメ
ラ制御装置62を経て画像処理装置54に送り出され
る。なお、画像処理装置54へのデータ出力と共に、カ
メラ制御装置62は、生画像をディスプレイ52に表示
する。これにより、CCDカメラ49の撮像領域の確認
ができる。
Then, the gradation data of the raw image is sent to the image processing device 54 via the camera control device 62. In addition to the data output to the image processing device 54, the camera control device 62 displays the raw image on the display 52. Thereby, the imaging area of the CCD camera 49 can be confirmed.

【0045】このようにして画像処理装置54に階調デ
ータが送り出されると、画像処理装置54では、生画像
の4×4画素分を一まとめとして画像圧縮を行ない(ス
テップS133)、生画像の階調データ(1,534 画素×
1,024 画素×10ビット;データの大きさは16ビット
=2バイト)を320 ×256 ×14ビット(データの大き
さは同じ)のデータに圧縮する。この画像圧縮をするこ
とで、後述のメディアンフィルタにてフィルタリングす
る際のデータ処理時間を短縮することができる。
When the gradation data is sent to the image processing device 54 in this way, the image processing device 54 performs image compression on the 4 × 4 pixels of the raw image as a unit (step S 133). Tone data (1,534 pixels x
1,024 pixels × 10 bits; data size is 16 bits = 2 bytes) is compressed to 320 × 256 × 14 bits (data size is the same). By performing this image compression, it is possible to reduce the data processing time when filtering is performed by a median filter described later.

【0046】CCDカメラ49により得た生画像の出力
信号には、光源44やガラス板43自体で引き起こされ
る発光分布ムラや撮像系の感度ムラ等のもたらす信号が
重畳している。従って、上記のステップS133に続い
ては、圧縮した画像データ(階調データ)をそのデータ
数が等しくされたリファレンスデータ(階調データ;32
0 ×256 ×2バイト)で除算して、シェーディング補正
する(ステップS134)。このリファレンスデータ
は、ガラス板43にシャドウマスクSMを載せずマスク
板45のみを載せた状態で予め撮像した画像の階調デー
タであり、主記憶装置68に予め記憶されている。よっ
て、このリファレンスデータは、シェーディング補正時
に読み出される。
The output signal of the raw image obtained by the CCD camera 49 is superimposed with a signal resulting from uneven light emission distribution caused by the light source 44 and the glass plate 43 itself and uneven sensitivity of the imaging system. Therefore, following the above-described step S133, the compressed image data (grayscale data) is converted into reference data (grayscale data; 32) having the same number of data.
(0 × 256 × 2 bytes) to perform shading correction (step S134). The reference data is gradation data of an image captured in advance with only the mask plate 45 mounted on the glass plate 43 without mounting the shadow mask SM, and is stored in the main storage device 68 in advance. Therefore, this reference data is read at the time of shading correction.

【0047】続いて、このシェーディング補正済みの階
調データを31画素×31画素(以下、単に31×31
と称す)のフィルタウィンドを有するメディアンフィル
タにより平滑化処理する画像補正を行ない(ステップS
135)、階調データが平滑化されたメディアンデータ
を得る。この際の平滑化処理は、31×31のフィルタ
ウィンドの各データウィンドを埋めるデータ(階調デー
タ)をその大きさの順に並べてデータ列を作成し、その
データ列の中央の位置にくるデータを出力値とする処理
を一処理単位とする。そして、320 ×256 に圧縮済みか
つシェーディング補正済みの階調データについて、メデ
ィアンフィルタのフィルタリング領域を変えながら、例
えばフィルタウィンドを所定の方向に1画素づつ移動さ
せて、上記の一処理単位の処理を上記階調データのデー
タ領域に亘って繰り返す。
Subsequently, the gradation data after shading correction is converted into 31 pixels × 31 pixels (hereinafter simply referred to as 31 × 31 pixels).
Image correction for smoothing processing by a median filter having a filter window of
135), obtaining median data in which the gradation data is smoothed. In the smoothing process at this time, data (gradation data) that fills each data window of the 31 × 31 filter window is arranged in the order of its size to create a data string, and data at the center position of the data string is created. Processing to be an output value is defined as one processing unit. Then, with respect to the grayscale data compressed to 320 × 256 and subjected to shading correction, while changing the filtering area of the median filter, for example, the filter window is moved one pixel at a time in a predetermined direction, and the above-described processing in one processing unit is performed. This operation is repeated over the data area of the gradation data.

【0048】このメディアンフィルタでの平滑化処理に
より、圧縮かつシェーディング補正済みの階調データか
らは効果的に高い空間周波数である雑音が低減される。
また、小さな変動が平滑化された画像の平滑化データが
得られる。そして、この平滑化データにあっては、シャ
ドウマスクSMのグレードおよび大きな変動は反映され
ているものの、シャドウマスクSMのムラは雑音或いは
小さな変動として低減若しくは除去される。
By the smoothing processing by the median filter, noise having a high spatial frequency is effectively reduced from the compressed and shaded gradation data.
Further, smoothed data of an image in which small fluctuations are smoothed is obtained. Although the smoothed data reflects the grade and large fluctuation of the shadow mask SM, the unevenness of the shadow mask SM is reduced or eliminated as noise or small fluctuation.

【0049】その後は、検査対象のシャドウマスクSM
のムラのみを画像表示すべく、以下のデータ変換を行な
う(ステップS136)。つまり、ステップS133,
134で圧縮かつシェーディング補正済みの階調データ
をメディアンフィルタでの平滑化処理済みの平滑化デー
タで除算して、生画像についての規格化データを求め
る。この除算演算に際して、平滑化データのデータの値
がゼロである場合には、該当するデータでの除算は行な
わず、規格化データの該当データは値ゼロに設定され
る。こうして得られた規格化データは、平滑化データで
の階調データの除算を経ていることから、平滑化データ
に濃淡レンジとして反映したシャドウマスクSMのグレ
ードおよび大きな変動は除去され、透孔の寸法異常に起
因した光透過率のムラを表わすデータとなる。なお、こ
の除算で得られた規格化データは実数データであり画像
処理で扱いにくいので、整数データに変換すべく所定の
整数、例えば4000を乗算して最終的な規格化データ
とされる。
Thereafter, the shadow mask SM to be inspected is
The following data conversion is performed to display only the unevenness of the image (step S136). That is, step S133,
At step 134, the grayscale data that has been compressed and subjected to shading correction is divided by the smoothed data that has been subjected to the smoothing processing by the median filter to obtain standardized data for the raw image. In this division operation, if the value of the data of the smoothed data is zero, the division by the corresponding data is not performed, and the corresponding data of the normalized data is set to a value of zero. Since the standardized data obtained in this way has undergone the division of the gradation data by the smoothed data, the grade and large fluctuation of the shadow mask SM reflected as a shade range on the smoothed data are removed, and the size of the through-hole is reduced. This is data representing unevenness in light transmittance due to the abnormality. Note that the normalized data obtained by this division is real number data and is difficult to handle in image processing, so that it is multiplied by a predetermined integer, for example, 4000, to be converted into integer data, to be final normalized data.

【0050】次に、この規格化データに基づいた画像、
即ち透孔の寸法異常に起因した光透過率のムラを濃淡レ
ンジデータの可視化画像変換を経て得られるムラ画像を
ディスプレイ52に表示する(ステップS137)。こ
の可視化画像表示処理により得られた検査対象のシャド
ウマスクSMのムラ画像SMG0は、図7に示すよう
に、既に表示済みの限度見本のムラ画像SMG1〜SM
G4と結果入力画面RGとが表示済みのディスプレイ5
2の画面に表示される。つまり、ムラ画像SMG0と限
度見本のムラ画像SMG1〜SMG4とは、ディスプレ
イ52に分割して同時に表示され、これらムラ画像は対
比して表示される。なお、図7におけるムラ画像SMG
1は全体ムラについての限度見本(良品)のムラ画像で
あり、ムラ画像SMG2は横ムラについての限度見本
(良品)のムラ画像であり、ムラ画像SMG3は縦ムラ
についての限度見本(良品)のムラ画像であり、ムラ画
像SMG4は部分ムラについての限度見本(良品)のム
ラ画像である。また、ムラ画像SMG4のムラ画像にお
ける矢印は、マウスカーソルである。
Next, an image based on this normalized data,
That is, the unevenness of the light transmittance caused by the dimensional abnormality of the through-hole is displayed on the display 52 (Step S137). As shown in FIG. 7, the unevenness image SMG0 of the shadow mask SM to be inspected obtained by the visualized image display processing is, as shown in FIG.
Display 5 on which G4 and result input screen RG have been displayed
2 is displayed on the screen. That is, the non-uniform image SMG0 and the limit sample non-uniform images SMG1 to SMG4 are divided and displayed simultaneously on the display 52, and these non-uniform images are displayed in comparison. Note that the uneven image SMG in FIG.
Reference numeral 1 denotes a non-uniform image of the limit sample (non-defective product) for the entire non-uniformity, the non-uniform image SMG2 is a non-uniform image of the limit sample (non-defective product) for the horizontal non-uniformity, and the non-uniform image SMG3 is a non-standard sample of the non-standard sample (conforming product) This is a non-uniform image, and the non-uniform image SMG4 is a non-uniform image of a limit sample (non-defective product) for partial non-uniformity. The arrow in the uneven image of the uneven image SMG4 is a mouse cursor.

【0051】ここで、シャドウマスクSMの生画像から
ムラ画像が得られるまでに行なわれる処理の内容を模式
的に説明する。図8に示すように、CCDカメラ49で
撮像された生画像Gは、ステップS132〜134の処
理を経て、圧縮かつシェーディング補正済みの階調デー
タGDとされる。図中のグラフは、生画像の横軸に沿っ
た画像における階調データGDを示している。その一
方、ステップS135の処理により階調データGDをメ
ディアンフィルタにより平滑化処理した平滑化データM
/FDは、図示するように、シャドウマスクSMのムラ
を雑音或いは小さな変動として階調データGDから低減
若しくは除去され、シャドウマスクSMのグレードのみ
が反映されたデータとなる。
Here, the contents of processing performed until an uneven image is obtained from a raw image of the shadow mask SM will be schematically described. As shown in FIG. 8, the raw image G captured by the CCD camera 49 is subjected to the processing of steps S132 to 134, and is converted into compressed and shading-corrected gradation data GD. The graph in the figure shows the gradation data GD in the image along the horizontal axis of the raw image. On the other hand, the smoothed data M obtained by smoothing the gradation data GD by the median filter by the processing of step S135
As shown in the figure, / FD is data in which unevenness of the shadow mask SM is reduced or removed from the gradation data GD as noise or small fluctuation, and only the grade of the shadow mask SM is reflected.

【0052】次いで、ステップS136の処理を経る
と、階調データGDを平滑化データM/FDで除算した
規格化データKDが得られ、ステップS137の処理で
規格化データKDに基づいてムラ画像SMG0が表示さ
れる。図示するように、このムラ画像SMG0は、検査
対象のシャドウマスクSMのムラのみの画像であり、グ
レードが除去されていることから結果的にムラが強調さ
れた画像となる。
Then, after the processing of step S136, normalized data KD obtained by dividing the gradation data GD by the smoothed data M / FD is obtained. In the processing of step S137, the uneven image SMG0 is generated based on the normalized data KD. Is displayed. As shown in the figure, the unevenness image SMG0 is an image of only the unevenness of the shadow mask SM to be inspected, and since the grade has been removed, the unevenness is enhanced.

【0053】上記した一連の処理からなるステップS1
30の入力・可視化処理に続いては、図3に示すように
評価結果入力処理を行なう(ステップS140)。この
処理では、入力・可視化処理により表示された検査対象
のシャドウマスクSMのムラ画像SMG0と限度見本の
ムラ画像SMG1〜SMG4とを検査員が見比べて、そ
の結果の入力がされる。入力項目は、検査対象のシャド
ウマスクSMのサンプルIDと、評価結果(高品質良
品,中品質良品,不良品等の区別)と、ムラ種別(ムラ
無し,全体ムラ,部分ムラ,横ムラ,縦ムラ,その他の
ムラの区別)と、ムラ発生位置(ムラ画像を4×4に分
割した際の分割位置)の3項目である。なお、ムラ発生
位置については、ムラ種別でムラ無し以外のムラが入力
されたときのみ入力可能となり、ムラ無しの場合は入力
がスキップできるよう構成されている。
Step S1 consisting of a series of processes described above
Subsequent to the input / visualization processing of No. 30, an evaluation result input processing is performed as shown in FIG. 3 (step S140). In this processing, the inspector compares the uneven image SMG0 of the shadow mask SM to be inspected displayed by the input / visualization processing with the uneven sample SMG1 to SMG4 of the limit sample, and inputs the result. The input items are the sample ID of the shadow mask SM to be inspected, the evaluation result (discrimination of high quality good, medium quality good, defective, etc.), and the type of unevenness (no unevenness, overall unevenness, partial unevenness, horizontal unevenness, vertical unevenness). There are three items: unevenness and other unevenness) and an unevenness occurrence position (divided position when an uneven image is divided into 4 × 4). It should be noted that the non-uniformity position can be input only when non-uniformity is input in the non-uniformity type, and the input can be skipped when no non-uniformity exists.

【0054】そして、必要項目の入力が完了してデータ
保存のスイッチが押されると、これら入力項目は、該当
する検査対象のシャドウマスクSMについてステップS
133で圧縮した階調データ(320 ×256 ×2バイト)
と共に補助記憶装置72に記憶される。よって、こうし
て検査が済んだシャドウマスクSMについて再度ムラ画
像を表示したい場合には、このデータを読み出して上記
したステップS130の処理を行なえばよいことにな
る。また、データ保存が完了すると、次回のシャドウマ
スクSMの検査に備えて、検査対象のシャドウマスクS
Mのムラ画像SMG0のディスプレイ52からの消去
と、このムラ画像SMG0の表示のために演算され一時
的に記憶されていた画像データの主記憶装置68からの
消去とが行なわれる。
When the input of necessary items is completed and the switch for saving data is pressed, these input items are set in step S for the corresponding shadow mask SM to be inspected.
Gradation data compressed by 133 (320 × 256 × 2 bytes)
Is stored in the auxiliary storage device 72 together with the data. Therefore, when it is desired to display a non-uniform image again on the shadow mask SM that has been inspected in this way, it is sufficient to read out this data and perform the processing of step S130 described above. When the data storage is completed, the shadow mask S to be inspected is prepared for the next inspection of the shadow mask SM.
Erasure of the M uneven image SMG0 from the display 52 and erasure of the image data calculated and temporarily stored for displaying the uneven image SMG0 from the main storage device 68 are performed.

【0055】ステップS140での評価結果入力処理に
続いては、他のシャドウマスクSMについての上記した
検査を継続して行なう必要があるか否かを判断する(ス
テップS150)。そして、継続して検査する場合には
上記したステップS120〜の処理を繰り返す。なお、
この検査継続は、所定のスイッチの押圧状況から判断さ
れる。
Subsequent to the evaluation result input processing in step S140, it is determined whether or not it is necessary to continue the above-described inspection for another shadow mask SM (step S150). If the inspection is to be continued, the above-described processing of steps S120 to S120 is repeated. In addition,
The continuation of the inspection is determined from the pressing state of a predetermined switch.

【0056】以上説明したように本実施例のシャドウマ
スク検査装置30では、検査対象のシャドウマスクSM
における透孔の寸法異常に起因した光透過率のムラのみ
を強調したムラ画像と、複数の限度見本のシャドウマス
クSMについてのムラを強調したムラ画像とをディスプ
レイ52に同時に対比して表示し、これらのムラ画像を
検査員に提供する。このため、検査員は、ムラのみにつ
いて複数の限度見本と対比観察してシャドウマスクSM
の良否判断を下すことができ、高度の熟練や相当の経験
を必要としない。従って、本実施例のシャドウマスク検
査装置30によれば、シャドウマスクSMの透孔の寸法
異常に起因した光透過率のムラの目視検査をより一層簡
略化することができると共に、その目視検査の検査精度
を飛躍的に向上させることができる。
As described above, in the shadow mask inspection apparatus 30 of this embodiment, the shadow mask SM to be inspected is
The display 52 simultaneously displays a non-uniform image in which only the non-uniformity of the light transmittance caused by the abnormal size of the through hole is emphasized and a non-uniform image in which the non-uniformity of the plurality of limit sample shadow masks SM is emphasized. These uneven images are provided to the inspector. For this reason, the inspector observes only the unevenness with a plurality of limit samples, and observes the shadow mask SM.
Can be determined, and does not require a high degree of skill or considerable experience. Therefore, according to the shadow mask inspection apparatus 30 of the present embodiment, the visual inspection of the unevenness of the light transmittance caused by the abnormal size of the through-hole of the shadow mask SM can be further simplified, and the visual inspection can be performed. Inspection accuracy can be dramatically improved.

【0057】また、シャドウマスク検査装置30では、
31×31のフィルタウィンドを有するメディアンフィ
ルタにより平滑化処理して平滑化データを得るので、雑
音或いは小さな変動としてのムラを階調データから効果
的に低減或いは除去する。このため、シャドウマスク検
査装置30によれば、ムラ画像をムラがよりクリアに強
調された画像とするので、目視検査の検査精度を更に向
上させることができる。
In the shadow mask inspection device 30,
Since smoothed data is obtained by performing a smoothing process using a median filter having a 31 × 31 filter window, noise or unevenness as small fluctuation is effectively reduced or eliminated from the grayscale data. For this reason, according to the shadow mask inspection device 30, since the unevenness image is an image in which unevenness is more clearly emphasized, the inspection accuracy of the visual inspection can be further improved.

【0058】また、シャドウマスク検査装置30では、
検査対象となったシャドウマスクSMについての評価結
果と圧縮済みの階調データ(320 ×256 ×2バイト)を
補助記憶装置72に記憶する。よって、当該シャドウマ
スクSMについての品質に追跡調査等が必要となって
も、容易に対処することができる。具体的に説明する
と、このシャドウマスクSMが品質不良であると後日さ
れても、検査時の階調データを用いて再度ムラ画像を表
示すれば、指摘された品質不良とムラ画像とを対比する
ことができる。このため、評価の妥当性や品質不良の原
因究明を行なうことができる。
In the shadow mask inspection device 30,
The evaluation result of the shadow mask SM to be inspected and the compressed gradation data (320 × 256 × 2 bytes) are stored in the auxiliary storage device 72. Therefore, even if the quality of the shadow mask SM needs to be tracked or the like, it can be easily dealt with. More specifically, even if it is later determined that the shadow mask SM is of poor quality, if the uneven image is displayed again using the gradation data at the time of inspection, the indicated poor quality and uneven image are compared. be able to. Therefore, the validity of the evaluation and the cause of the quality defect can be determined.

【0059】ここで、上記した実施例のシャドウマスク
検査装置30の変形例について説明する。上記のシャド
ウマスク検査装置30では、以下の理由から、メディア
ンフィルタのフィルタウィンドを31×31に固定し
た。しかし、このフィルタウィンドを検査対象となるシ
ャドウマスクSMに許容されるムラの大きさやシャドウ
マスクSMの種類、撮像時の画像の大きさ、ディスプレ
イ52の分解能等により可変設定するよう変形すること
もできる。
Here, a modified example of the shadow mask inspection apparatus 30 of the above embodiment will be described. In the above-described shadow mask inspection apparatus 30, the filter window of the median filter is fixed to 31 × 31 for the following reason. However, the filter window can be modified so as to be variably set according to the size of unevenness allowed for the shadow mask SM to be inspected, the type of the shadow mask SM, the size of the image at the time of imaging, the resolution of the display 52, and the like. .

【0060】一般に、メディアンフィルタのような高い
空間周波数を除去するローパスフィルタで除去できる変
動(雑音,本発明にあってはムラ)は、その大きさがフ
ィルタサイズのほぼ半分程度のものであることがよく知
られている。その一方、表示したいムラ画像では、シャ
ドウマスクSMに許容される最大サイズの大きさを越え
る緩やかな変動についてはグレードに含めて表示せず、
この最大サイズを下回るサイズの変動をムラとして表示
できることが望まれる。換言すれば、ローパスフィルタ
で階調データを平滑化する際には、ローパスフィルタの
フィルタサイズは、上記緩やかな変動のみを通過させ、
これより小さい変動を遮断するサイズとなる。
In general, the fluctuation (noise, non-uniformity in the present invention) that can be removed by a low-pass filter such as a median filter that removes a high spatial frequency is about half the size of the filter. Is well known. On the other hand, in a nonuniform image to be displayed, a gradual change exceeding the maximum size allowed for the shadow mask SM is not included in the grade and displayed.
It is desired that a change in size below the maximum size can be displayed as unevenness. In other words, when the gradation data is smoothed by the low-pass filter, the filter size of the low-pass filter allows only the above-described gradual change to pass,
This is a size that blocks fluctuations smaller than this.

【0061】メディアンフィルタであっても、ローパス
フィルタと同様に緩やかな変動のみを通過させこれより
小さい変動を遮蔽するサイズのフィルタウィンドを必要
とする。本実施例では、この遮蔽変動の変動サイズ(下
限サイズ)が14mm程度であり、ディスプレイ52に
表示する画像(320 ×256 )の1画素が約0.9mmで
あるとして、次式に従ってフィルタウィンドのサイズF
WSを決定した。
Even in the case of a median filter, a filter window having a size that allows only a gradual change to pass and blocks a change smaller than that is required, similarly to a low-pass filter. In the present embodiment, assuming that the variation size (lower limit size) of the shielding variation is about 14 mm and one pixel of the image (320 × 256) displayed on the display 52 is about 0.9 mm, the filter window is calculated according to the following equation. Size F
WS was determined.

【0062】FWS/2=(14/0.9) FWS=(14/0.9)×2=31FWS / 2 = (14 / 0.9) FWS = (14 / 0.9) × 2 = 31

【0063】従って、画素の大きさや、検査品質のレベ
ルを左右する遮蔽変動の下限サイズ等を、検査に先立っ
て設定できるように、例えばテンキー等により入力でき
るよう構成すれば、異なった大きさのムラに対する検査
の汎用性を高めることができる。具体的には、表示する
画像の1画素が0.5mmであれば、上記式,か
ら、平滑化処理に用いるメディアンフィルタは57×5
7のフィルタウィンドを有するメディアンフィルタとな
る。このため、上記の実施例を、メディアンフィルタの
フィルタウィンドを決定する処理を備え、決定したサイ
ズ(例えば57×57)のフィルタウィンドを有するメ
ディアンフィルタにて上記のステップS135を実行す
るよう変形することができる。
Therefore, if the size of the pixel and the lower limit size of the shielding fluctuation which influences the level of the inspection quality can be set by, for example, a ten-key pad so as to be set prior to the inspection, a different size can be obtained. Versatility of inspection for unevenness can be improved. Specifically, if one pixel of an image to be displayed is 0.5 mm, from the above equation, the median filter used for the smoothing process is 57 × 5
7 is a median filter having seven filter windows. For this reason, the above embodiment is modified to include a process of determining a filter window of a median filter, and to execute the above step S135 with a median filter having a filter window of a determined size (for example, 57 × 57). Can be.

【0064】また、遮蔽変動の下限サイズの視野角をも
考慮して、メディアンフィルタのフィルタウィンドのサ
イズFWSを可変設定するよう変形することもできる。
例えば、CCDカメラ49の撮像距離が約60cmで、
画像(320 ×256 )の1画素が約0.9mm,遮蔽変動
の下限サイズの視野角が1.3degree程度であれば、こ
の1.3degree程度以下のサイズを遮蔽することができ
るよう次式に従ってフィルタウィンドのサイズFWSを
決定する。
In addition, the size of the filter window FWS of the median filter can be modified so as to be variably set in consideration of the viewing angle of the lower limit size of the shielding fluctuation.
For example, when the imaging distance of the CCD camera 49 is about 60 cm,
If one pixel of the image (320 × 256) is about 0.9 mm and the viewing angle of the lower limit size of the shielding fluctuation is about 1.3 degree, the following equation is used to shield the size of about 1.3 degree or less. Determine the size FWS of the filter window.

【0065】 FWS/2=(tan(1.3/2)×600×2) FWS=(tan(1.3/2)×600×2)×2
=31
FWS / 2 = (tan (1.3 / 2) × 600 × 2) FWS = (tan (1.3 / 2) × 600 × 2) × 2
= 31

【0066】CCDカメラ49の撮像距離が約100c
mであれば、次式に従ってフィルタウィンドのサイズF
WSを決定する。
The imaging distance of the CCD camera 49 is about 100c.
m, the filter window size F according to the following equation:
Determine WS.

【0067】FWS/2=(tan(1.3/2)×
1000×2) FWS=(tan(1.3/2)×1000×2)×
2=51
FWS / 2 = (tan (1.3 / 2) ×
1000 × 2) FWS = (tan (1.3 / 2) × 1000 × 2) ×
2 = 51

【0068】つまり、遮蔽変動の下限サイズの視野角や
CCDカメラ49の撮像距離等を、例えばテンキー等に
より検査に先立って入力しそれに応じてメディアンフィ
ルタのフィルタウィンドのサイズを決定できるように、
変形することもできる。
That is, the viewing angle of the lower limit size of the shielding fluctuation, the imaging distance of the CCD camera 49, and the like are input prior to the inspection using, for example, a numeric keypad, and the size of the filter window of the median filter can be determined accordingly.
It can also be deformed.

【0069】次に、他の実施例(第2実施例)について
説明する。この第2実施例では、m行n列のフィルタウ
ィンド(31×31)を有するメディアンフィルタによ
る平滑化処理(ステップS135)に替え、m行1列の
フィルタウィンド(5×1)を有するメディアンフィル
タと1行n列のフィルタウィンド(1×5)を有するメ
ディアンフィルタとを組み合わせた平滑化処理を採用し
た。よって、以下の説明に当たっては、異なる構成(処
理内容)について図9,図10のフローチャートを用い
て詳述する。
Next, another embodiment (second embodiment) will be described. In the second embodiment, a median filter having an m-row and 1-column filter window (5 × 1) is replaced with a smoothing process (step S135) using a median filter having an m-row and n-column filter window (31 × 31). And a median filter having a 1 × 5 filter window (1 × 5). Therefore, in the following description, different configurations (processing contents) will be described in detail with reference to the flowcharts of FIGS.

【0070】第2実施例における透孔のムラ検査処理で
は、図9のフローチャートに示すように、メディアンフ
ィルタによる平滑化処理に先立ち、平滑化処理するデー
タ領域を確定し、その領域の座標原点(X0 ,Y0 )を
求める(ステップS200)。つまり、図11に示すよ
うに、CCDカメラ49から得られた画像データ(階調
データ)に基づき、透孔の透孔領域SMe(平滑化処理
領域)についてのX軸に沿った濃度断面グラフを作図若
しくは演算し、X軸に沿った両端座標Xa,Xbを、各
行に亘って求める。また、Y軸に沿った濃度断面グラフ
からY軸に沿った両端座標Ya,Ybを、各列に亘って
求める。そして、この結果から座標原点(X0 ,Y0 )
を求める。
In the through hole unevenness inspection processing according to the second embodiment, as shown in the flowchart of FIG. 9, prior to the smoothing processing by the median filter, the data area to be smoothed is determined, and the coordinate origin of the area is determined. X0, Y0) are obtained (step S200). That is, as shown in FIG. 11, based on the image data (gradation data) obtained from the CCD camera 49, a density cross-sectional graph along the X-axis of the through-hole area SMe (smoothing processing area) of the through-hole is obtained. Drawing or calculation is performed, and both end coordinates Xa and Xb along the X axis are obtained over each row. In addition, both end coordinates Ya and Yb along the Y axis are obtained from the concentration cross section graph along the Y axis over each column. From this result, the coordinate origin (X0, Y0)
Ask for.

【0071】こうしてデータ領域の確定,座標原点(X
0 ,Y0 )の算出の後には、上記の実施例におけるステ
ップS134のシェーディング補正済みの階調データ
(320×256 )について、メディアンフィルタ(M/
F)による平滑化処理(ステップS202〜252)を
行なう。この平滑化処理では、まず、1×5のフィルタ
ウィンドを有するM/Fによるメディアンフィルタ処理
(M/F処理)の対象となる座標(Xs,Ys)を(X
i,Yj)に決定する(ステップS202)。これによ
り、M/F処理は、この決定された座標(Xi,Yj)
から開始される。
In this way, the data area is determined and the coordinate origin (X
After the calculation of (0, Y0), the median filter (M / M) is applied to the gradation data (320 × 256) after the shading correction in step S134 in the above embodiment.
F) (steps S202 to S252). In this smoothing process, first, coordinates (Xs, Ys) to be subjected to median filter processing (M / F processing) by M / F having a 1 × 5 filter window are represented by (X
i, Yj) (step S202). As a result, the M / F process performs the determined coordinates (Xi, Yj).
Started from.

【0072】その後は、このM/F処理座標(Xi,Y
j)を含むYj行の透孔行について、シェーディング補
正みの階調データ(320 ×256 )からデータを切り出す
(ステップS204)。この場合、M/F処理座標(X
i,Yj)が(X0 ,Y0 )であれば、ステップS20
4の処理により、図12に示すようにYj行(X軸)の
透孔行の階調データが(320 ×1 )切り出される。な
お、以下の説明に当たっては、説明の便宜上、最初のM
/F処理座標(Xi,Yj)が座標原点(X0 ,Y0 )
であるとして説明する。
Thereafter, the M / F processing coordinates (Xi, Y
Data is extracted from the shading-corrected gradation data (320 × 256) for the Yj through-hole rows including j) (step S204). In this case, the M / F processing coordinates (X
If (i, Yj) is (X0, Y0), step S20
By the processing of No. 4, as shown in FIG. 12, the gradation data of the through-hole row of the Yj-th row (X-axis) is cut out (320 × 1). In the following description, the first M
/ F processing coordinates (Xi, Yj) are coordinate origins (X0, Y0)
It will be described as.

【0073】続いて、この切り出した1列の階調データ
について、(X0 ,Y0 )でM/F処理を行なう(ステ
ップS206)。このM/F処理では、図13に示すよ
うに、M/F処理座標(X0 ,Y0 )のデータ”3”が
フィルタウィンドの中央にくるよう、1×5のM/Fの
フィルタウィンドに0,3,3,4,2の5個のデータ
をこの順に格納する(図13(a))。次に、これらデ
ータをその大きさの順(0,2,3,3,4)に並べた
データ列の中央の位置にくるデータ”3”を出力値とす
る。この出力値”3”は、メディアンフィルタ済みデー
タ(M/Fデータ)における座標(X0 ,Y0 )に出力
されて蓄積される。
Subsequently, an M / F process is performed on the cut-out one column of gradation data at (X0, Y0) (step S206). In this M / F processing, as shown in FIG. 13, 0 is set in the 1 × 5 M / F filter window so that the data “3” of the M / F processing coordinates (X 0, Y 0) is at the center of the filter window. , 3, 3, 4, and 2 are stored in this order (FIG. 13A). Next, the data "3" at the center of the data sequence in which these data are arranged in the order of their sizes (0, 2, 3, 3, 4) is set as the output value. This output value "3" is output and accumulated at coordinates (X0, Y0) in the median-filtered data (M / F data).

【0074】次に、iを値1だけインクリメントしてM
/F処理座標(Xi,Yj)(=(X0 ,Y0 ))を1
データ分右に移動し(ステップS208)、移動後の座
標(Xi+1,Yj)についてM/F処理する際に格納
するデータ数に不足がないか、具体的にはデータ数が5
未満であるか否かを判断する(ステップS210)。こ
こで、否定判断するまで、ステップS206,208を
繰り返す。つまり、(X0 ,Y0 )から1データ分右に
移動したM/F処理座標(X1 ,Y0 )では、フィルタ
ウィンドに格納した3,3,4,2,5の並び替え後の
データ列(2,3,3,4,5)から得た出力値”3”
を(図13(b))、M/Fデータにおける座標(X1
,Y0 )のデータとする。そして、ステップS210
での否定判断を受けてフィルタウィンドに5個のデータ
が過不足なく格納されるまで、即ち、図13(c)に示
すように、データ列の右端にてフィルタウィンドに5個
のデータを格納するまでは、上記したように5個のデー
タについてM/F処理が繰り返し行なわれる。この図1
3(c)に示す出力値”2”は、M/Fのフィルタウィ
ンドを1×n(nは自然数,本実施例ではn=5)とし
た場合、座標(Xb−(n−1)/2,Yj)(本実施例で
は(Xb−2,Yj))のデータとなる。
Next, i is incremented by 1 to obtain M
/ F processing coordinates (Xi, Yj) (= (X0, Y0))
The data is moved to the right by data (step S208), and there is no shortage in the number of data to be stored when the M / F processing is performed on the coordinates (Xi + 1, Yj) after the movement.
It is determined whether it is less than (Step S210). Here, steps S206 and S208 are repeated until a negative determination is made. In other words, at the M / F processing coordinates (X1, Y0) moved one data to the right from (X0, Y0), the rearranged data string (2, 3, 4, 2, 5, 5) stored in the filter window , 3,3,4,5) output value "3"
(FIG. 13 (b)) and coordinates (X1) in the M / F data.
, Y0). Then, step S210
13 until the five data are stored in the filter window without excess or shortage, that is, as shown in FIG. 13C, the five data are stored in the filter window at the right end of the data string. Until the above, the M / F processing is repeatedly performed on the five data as described above. This figure 1
The output value “2” shown in 3 (c) is obtained by using coordinates (Xb− (n−1) /) when the filter window of M / F is 1 × n (n is a natural number, n = 5 in this embodiment). 2, (Yj) ((Xb-2, Yj) in this embodiment).

【0075】なお、ステップS210での判断を、1×
n(nは奇数,本実施例ではn=5)のM/Fとした場
合、右移動後の座標(Xi+1,Yj)が(Xb−(n
−4),Yj)(本実施例では(Xb−1,Yj))で
あるか否かの判断に替えることもできる。
It should be noted that the judgment in step S210 is 1 ×
Assuming that the M / F is n (n is an odd number, n = 5 in this embodiment), the coordinates (Xi + 1, Yj) after rightward movement are (Xb− (n)
-4), Yj) (in this embodiment, (Xb-1, Yj)).

【0076】一方、図13(c)に示すM/F処理の後
のステップS208でM/F処理座標の1データ分右移
動した場合には、フィルタウィンドへの格納データ数が
4となるため、続くステップS210では否定判断され
る。よって、この場合には、以下に記す右端部M/F処
理を行なう(ステップS212)。
On the other hand, if the data is shifted right by one data of the M / F processing coordinates in step S208 after the M / F processing shown in FIG. 13C, the number of data stored in the filter window becomes four. In the following step S210, a negative determination is made. Therefore, in this case, the right end M / F processing described below is performed (step S212).

【0077】この右端部M/F処理では、フィルタウィ
ンドのデータ数より少ない奇数個のデータ、本実施例で
は、データ数が3個の場合とデータ数が1個の場合とに
なるようにM/F処理座標(Xi,Yj)を右に移動し
つつ、3個および1個のデータについてのデータの取り
込み,並び替えおよび出力値の取得を行なう。つまり、
図13(d)に示すように、2,1,2のデータをフィ
ルタウィンドに格納してその並び替えを行ない、そのデ
ータ列(1,2,2)の中央の位置にくるデータ”2”
を出力値とする。この出力値”2”をM/Fデータにお
ける座標(Xb−1,Y0 )のデータとする。次に、図
13(e)に示すように、1個のデータ”2”を中央の
位置にくるデータとして出力値とする。この出力値”
2”をM/Fデータにおける座標(Xb,Y0 )のデー
タとする。
In the right end M / F processing, the odd number of data smaller than the number of data in the filter window. In this embodiment, M is set so that the number of data is three and the number of data is one. While moving the / F processing coordinates (Xi, Yj) to the right, data fetching, rearranging, and obtaining output values of three and one data are performed. That is,
As shown in FIG. 13 (d), data of 2, 2 and 1 are stored in the filter window and rearranged, and data "2" at the center of the data sequence (1, 2, 2) is obtained.
Is the output value. This output value "2" is used as the data of the coordinates (Xb-1, Y0) in the M / F data. Next, as shown in FIG. 13E, one piece of data “2” is set as an output value as data at the center position. This output value "
2 "is the data of the coordinates (Xb, Y0) in the M / F data.

【0078】なお、上述のように中央に位置するデータ
が容易に取得できるので奇数個のデータについて行うの
が好ましい。しかし、奇数個のデータに限るわけではな
く、偶数個のデータであってもよいことは勿論である。
偶数個のデータについての場合、例えば(1,5,9,
8,7,3)の6個をデータの場合には、この6個のデ
ータを並べ替えて(1,3,5,7,8,9)とし、そ
の中央に位置するデータを”5”又は”7”のどちらか
とする。若しくは、両者の平均値である(5+7)/2
=6を中央に位置するデータとすれば中央値に位置する
データを取得することができる。
Since data located at the center can be easily obtained as described above, it is preferable to perform the processing on an odd number of data. However, the present invention is not limited to the odd number of data, and may be an even number of data.
For an even number of data, for example, (1, 5, 9,
In the case where six data (8, 7, 3) are data, these six data are rearranged to (1, 3, 5, 7, 8, 9, 9), and the data located at the center thereof is "5". Or "7". Or (5 + 7) / 2, which is the average of the two
If the data located at the center is set to = 6, the data located at the median can be obtained.

【0079】上記したステップS212に続いては、切
り出したYj行の透孔行のデータ列の左側のデータにつ
いてM/F処理を行なうべく、まずM/F処理開始座標
(Xi,Yj)にM/Fのフィルタウィンドを復帰させ
る(ステップS214)。その後、iを値1だけデクリ
メントしてM/F処理座標(Xi,Yj)(=(X0,
Y0 ))を1データ分左に移動する(ステップS21
6)。この移動後の座標(Xi−1,Yj)(=(X-
1,Y0 ))がデータ列左側についてM/F処理する際
の最初の処理座標となる。
Subsequent to step S212, first, the M / F processing start coordinates (Xi, Yj) are set to the M / F processing start coordinates (Xi, Yj) in order to perform the M / F processing on the data on the left side of the data row of the cut-out Yj through-hole row. / F filter window is restored (step S214). After that, i is decremented by 1 and the M / F processing coordinates (Xi, Yj) (= (X0,
Y0)) is moved left by one data (step S21).
6). The coordinates (Xi-1, Yj) after this movement (= (X-
1, Y0)) are the first processing coordinates when performing M / F processing on the left side of the data string.

【0080】続いて、この移動後の座標(Xi−1,Y
j)(=(X-1,Y0 ))から上記したようにしてM/
F処理を順次行なう。つまり、ステップS216に続い
ては、(X-1,Y0 )でのM/F処理(ステップS21
8),M/F処理座標の1データ分の左移動(ステップ
S220),移動後の座標での格納データ数判断(ステ
ップS222)とステップS218〜220の繰り返
し,データ数不足時の左端部M/F処理(ステップS2
24)が行なわれる。よって、図14に示すように、座
標(Xi−1,Yj)から座標(Xa,Yj)までに亘
ってM/Fデータが蓄積され、ステップS202〜22
4までの処理により、切り出したYj行の透孔行と同じ
データ数(320 ×1 )のM/Fデータが作成される。
Subsequently, the coordinates (Xi−1, Y
j) (= (X-1, Y0)) and M /
The F process is sequentially performed. That is, following step S216, the M / F processing at (X-1, Y0) (step S21)
8) Leftward movement of one data of the M / F processing coordinates (step S220), determination of the number of stored data at the coordinates after the movement (step S222) and repetition of steps S218 to S220. / F processing (step S2
24) is performed. Therefore, as shown in FIG. 14, M / F data is accumulated from the coordinates (Xi-1, Yj) to the coordinates (Xa, Yj), and steps S202 to S22 are performed.
By the processing up to 4, M / F data of the same data number (320 × 1) as the cut-out Yj through-hole rows is created.

【0081】こうしたYj行の透孔行についてのM/F
処理に続いては、図10に示すように、Yj行以外の各
行の透孔行についても同様の処理、即ちM/F処理開始
座標の決定,データ切り出し,開始座標から右側のデー
タについてのM/F処理,左側のデータについてのM/
F処理および各行についてのこれら処理の繰り返しを行
なう。これにより切り出した各行の透孔行についてのM
/Fデータが作成される。よって、ステップS224に
続いては、320 ×1 のM/Fデータを総ての行について
集め、320 ×256 の大きさのM/Fデータを構築する
(ステップS226)。以下、このステップS228で
構築されたM/Fデータを1次M/Fデータと呼ぶこと
とする。
The M / F for the Yj-th row of through-holes
Subsequent to the processing, as shown in FIG. 10, the same processing is performed for the through-hole rows other than the Yj row, that is, determination of the M / F processing start coordinate, data cutout, and M for the data on the right side from the start coordinate. / F processing, M /
The F process and these processes for each row are repeated. Thus, the M for each of the cut-out through-hole rows
/ F data is created. Therefore, following step S224, 320 × 1 M / F data is collected for all rows, and M / F data having a size of 320 × 256 is constructed (step S226). Hereinafter, the M / F data constructed in step S228 will be referred to as primary M / F data.

【0082】上記した1次M/Fデータの構築に続いて
は、5×1のフィルタウィンドを有するM/Fによるメ
ディアンフィルタ処理を、この構築済みの1次M/Fデ
ータについて行ない(ステップS228〜250)、ス
テップS252にて2次M/Fデータが構築される。こ
の5×1のM/FによるM/F処理では、その処理の対
象となるデータが1次M/Fデータである点と、M/F
のフィルタウィンドが5×1である点が上記したM/F
処理と異なるので、データの切り出しはX列のデータに
ついて行なわれ、M/F処理はY軸に沿ったM/Fの移
動と共に行なわれる点で異なるに過ぎない。よって、そ
の詳細な説明については省略する。
Subsequent to the construction of the primary M / F data described above, median filter processing by the M / F having a 5 × 1 filter window is performed on the constructed primary M / F data (step S228). To 250), secondary M / F data is constructed in step S252. In the M / F processing by the 5 × 1 M / F, the point that the data to be processed is the primary M / F data and the M / F
The point that the filter window of 5 × 1 is the above M / F
The processing is different from that of the first embodiment only in that data extraction is performed on the data of the X column and the M / F processing is performed along with the movement of the M / F along the Y axis. Therefore, the detailed description is omitted.

【0083】こうして5×1のM/Fによる処理を経て
構築された2次M/Fデータは、320 ×256 の大きさの
データであり、生画像の階調データと同じ大きさとな
る。そして、ステップS252に続いては、図6のステ
ップS136,137の処理を行なう。つまり、圧縮か
つシェーディング補正済みの階調データを2次M/Fデ
ータで除算して、生画像についての規格化データを求
め、この規格化データに基づいたムラ画像をディスプレ
イ52に表示する。この際の表示の様子は、既述したム
ラ画像SMG0と同様である(図7参照)。
The secondary M / F data constructed through the processing by the 5 × 1 M / F is data having a size of 320 × 256, and has the same size as the gradation data of the raw image. Then, following step S252, the processing of steps S136 and 137 in FIG. 6 is performed. That is, the compressed and shading-corrected gradation data is divided by the secondary M / F data to obtain standardized data for the raw image, and an uneven image based on the standardized data is displayed on the display 52. The display at this time is the same as that of the uneven image SMG0 described above (see FIG. 7).

【0084】この第2実施例のシャドウマスク検査装置
30では、M/F処理を1×5のM/Fと5×1のM/
Fとで二段回に分けて行なう。よって、第2実施例のシ
ャドウマスク検査装置30によれば、M/F処理の際の
演算負荷の軽減を通してその演算速度を向上させ、ムラ
画像表示を速やかに行なって検査時間の短縮化を図るこ
とができる。
In the shadow mask inspection apparatus 30 of the second embodiment, the M / F processing is performed by the 1 × 5 M / F and the 5 × 1 M / F.
F and two steps. Therefore, according to the shadow mask inspection apparatus 30 of the second embodiment, the calculation speed is improved by reducing the calculation load in the M / F processing, and the unevenness image is promptly displayed to shorten the inspection time. be able to.

【0085】また、第2実施例のシャドウマスク検査装
置30では、フィルタウィンドのデータ数より少ない奇
数個のデータについてのデータの取り込み,並び替えお
よび出力値の取得を行なう。よって、CCDカメラ49
で撮像した生画像のデータ数と2次M/Fデータとのデ
ータ数を整合させ、シャドウマスクSMの透孔の透孔領
域SMeのエッジ周辺における階調データをそのまま用
いてM/Fデータを得ることができる。この結果、第2
実施例のシャドウマスク検査装置30によれば、ムラ画
像をエッジ周辺の生データの反映を通して一層クリアに
表示して当該ムラを顕在化させることができるので、飛
躍的な目視検査の簡略化と検査精度の向上とを図ること
ができる。
The shadow mask inspection apparatus 30 according to the second embodiment captures, rearranges, and obtains output values of an odd number of data smaller than the number of data in the filter window. Therefore, the CCD camera 49
The number of data of the raw image picked up in step 2 is matched with the number of data of the secondary M / F data, and the M / F data is converted using the gradation data around the edge of the hole area SMe of the hole of the shadow mask SM as it is. Obtainable. As a result, the second
According to the shadow mask inspection apparatus 30 of the embodiment, the unevenness image can be displayed more clearly through reflection of the raw data around the edge and the unevenness can be made obvious, thereby dramatically simplifying the visual inspection and inspecting. The accuracy can be improved.

【0086】以上本発明の実施例について説明したが、
本発明はこの様な実施例になんら限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々なる態
様で実施し得ることは勿論である。
The embodiments of the present invention have been described above.
The present invention is not limited to such embodiments at all, and it goes without saying that the present invention can be implemented in various modes without departing from the gist of the present invention.

【0087】例えば、メディアンフィルタによる平滑化
処理に替え、移動平均法や4次式近似法による平滑化処
理を採ることもできる。これらの平滑化処理では、図1
5に示すように、シャドウマスクSMにウィンドを掛
け、そのウィンド内の画像の濃度(階調データ)を積算
して平均値Ravを求める。そして、濃度積算,平均デ
ータの移動平均或いは最小二乗法による4次元近似をへ
て、平滑化しグレードを求める。その後、このグレード
のデータで濃度積算データを除算して規格化し、ムラ画
像を表示する。
For example, in place of the smoothing processing by the median filter, a smoothing processing by a moving average method or a quartic approximation method can be adopted. In these smoothing processes, FIG.
As shown in FIG. 5, a window is applied to the shadow mask SM, and the density (gradation data) of the image in the window is integrated to obtain an average value Rav. Then, it is smoothed to obtain a grade through density integration, moving average of average data or four-dimensional approximation by the least square method. After that, the density integrated data is divided by this grade data to standardize the data, and an uneven image is displayed.

【0088】更に、検査するムラの種類によって1次の
フィルタウィンドのサイズと2次のフィルタウィンドの
サイズとを変えてもよい。例えば、主にスジムラを検査
する場合は、1×5のM/Fと7×1のM/Fを用い
る。また更には、要求される検査品質等に応じてフィル
タウィンドのサイズをその都度可変に設定する構成を採
ることもできる。
Further, the size of the primary filter window and the size of the secondary filter window may be changed according to the type of unevenness to be inspected. For example, when mainly inspecting uneven streaks, a 1 × 5 M / F and a 7 × 1 M / F are used. Still further, a configuration may be adopted in which the size of the filter window is variably set each time according to the required inspection quality or the like.

【0089】[0089]

【発明の効果】以上詳述したように本発明の透孔板の検
査方法では、透孔板における透孔の寸法異常に起因した
光透過率のムラを強調して表示し、検査員に提供する。
このため、検査員は、検査対象の透孔板についてムラが
強調された画像を目視して良否判断すればよく、高度の
熟練や相当の経験を必要としない。よって、透孔板の透
孔の寸法異常に起因した光透過率のムラの目視検査を簡
略化できると共に、その目視検査の検査精度を向上させ
ることができる。しかも、検査員に、限度見本の透孔板
と検査対象の透孔板とについてのムラ画像を対比して目
視させるので、目視検査をより簡略化でき、検査精度を
より向上させることができる。
As described above in detail, in the method for inspecting a perforated plate according to the present invention , unevenness in light transmittance caused by anomalous dimensions of perforated holes in the perforated plate is emphasized and displayed and provided to the inspector. I do.
For this reason, the inspector only has to visually judge the quality of the perforated plate to be inspected, in which the unevenness is emphasized, and does not require a high level of skill or considerable experience. Therefore, it is possible to simplify the visual inspection of the unevenness of the light transmittance caused by the dimensional abnormality of the aperture of the aperture plate, and to improve the inspection accuracy of the visual inspection . In addition, the inspector is required to provide a sample plate
And compare the uneven images of the perforated plate to be inspected
Visual inspection, which simplifies visual inspection and improves inspection accuracy.
It can be further improved.

【0090】[0090]

【0091】また、本発明の透孔板の検査装置では、透
孔板における透孔の寸法異常に起因した光透過率のムラ
を強調して表示し、検査員に提供する。このため、検査
員は、検査対象の透孔板についてムラが強調された画像
を目視して良否判断すればよく、高度の熟練や相当の経
験を必要としない。よって、透孔板の透孔の寸法異常に
起因した光透過率のムラの目視検査を簡略化できると共
に、その目視検査の検査精度を向上させることができ
。しかも、検査員に、限度見本の透孔板と検査対象の
透孔板とについてのムラ画像を対比して目視させるの
で、目視検査をより簡略化でき、検査精度をより向上さ
せることができる。
In the inspection apparatus for a perforated plate according to the present invention, unevenness in light transmittance caused by an abnormal dimensional dimension of the perforated plate in the perforated plate is emphasized and displayed, and provided to the inspector. For this reason, the inspector only has to visually judge the quality of the perforated plate to be inspected, in which the unevenness is emphasized, and does not require a high level of skill or considerable experience. Therefore, it is possible to simplify the visual inspection of the unevenness of the light transmittance caused by the dimensional abnormality of the aperture of the aperture plate, and to improve the inspection accuracy of the visual inspection . In addition, the inspector gives the limit sample perforated plate and the inspection target
Visually compare the uneven image with the perforated plate
Simplifies visual inspection and improves inspection accuracy
Can be made.

【0092】[0092]

【0093】この本発明の検査装置において、m行n列
のフィルタウィンドを有するメディアンフィルタによる
平滑化処理を通して、階調データからの効果的な雑音低
減、小さな変動の平滑化を図ることにした。こうすれ
ば、光透過率のムラがより強調された画像が得られるの
で、目視検査の検査精度を更に向上させることができ
る。
[0093] In the testing apparatus of the present invention, through the smoothing processing by the median filter having a filter window of m rows and n columns, and effective noise reduction of the gradation data, the smoothing of small variations in FIG Rukoto . Like this
For example, an image in which unevenness in light transmittance is further enhanced can be obtained, so that the inspection accuracy of the visual inspection can be further improved.

【0094】また、メディアンフィルタによる平滑化処
理を二段階に分けて行ない、平滑化処理ごとの演算負荷
を低減させることにした。こうすれば、平滑化処理速度
を向上して検査時間を短縮することができる。
[0094] Also, it performed separately smoothing process by the median filter in two stages, was Rukoto reduce operation load of each smoothing. This can improve the smoothing processing speed and shorten the inspection time.

【0095】更に、メディアンフィルタによる平滑化処
理を二段階に分けて行ない、平滑化処理ごとの演算負荷
を低減させることにした。こうすれば、平滑化処理速度
を向上して検査時間を短縮することができる。
[0095] Further, it performed separately smoothing process by the median filter in two stages, was Rukoto reduce operation load of each smoothing. This can improve the smoothing processing speed and shorten the inspection time.

【0096】また、平滑化データと階調データとのデー
タ数の整合と、透孔板の透孔領域の周辺における階調デ
ータの平滑化処理とを図ることにした。こうすれば、
調データを平滑化データで除算する際に、透孔板におけ
る階調データと平滑化データとの位置合わせを行なう必
要がないので除算処理速度を短縮できると共に、透孔領
域の周辺におけるムラ画像を得ることができる。
[0096] Further, to the number of data matching between the smoothed data and tone data, the smoothing processing of the gradation data in the vicinity of the hole region of the hole plate to FIG Rukoto. In this way, when dividing the gradation data by the smoothed data, it is not necessary to align the gradation data and the smoothed data on the perforated plate, so that the division processing speed can be reduced and the perforated area can be reduced. An uneven image in the periphery can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例のシャドウマスク検査装置30の外観構
成を示す正面図。
FIG. 1 is a front view showing an external configuration of a shadow mask inspection apparatus 30 according to an embodiment.

【図2】このシャドウマスク検査装置30の電気的構成
を示すブロック図。
FIG. 2 is a block diagram showing an electrical configuration of the shadow mask inspection device 30.

【図3】シャドウマスク検査装置30が行なう透孔のム
ラ検査処理の全体を表わしたフローチャート。
FIG. 3 is a flowchart showing the entirety of a through hole unevenness inspection process performed by a shadow mask inspection apparatus 30;

【図4】このムラ検査処理における初期設定処理の詳細
な内容を表わしたフローチャート。
FIG. 4 is a flowchart showing detailed contents of an initial setting process in the unevenness inspection process.

【図5】この初期設定処理によるディスプレイ52への
画像表示の様子を模式的に示す模式図。
FIG. 5 is a schematic diagram schematically showing an image displayed on a display 52 by the initial setting process.

【図6】ムラ検査処理における入力・可視化処理の詳細
な内容を表わしたフローチャート。
FIG. 6 is a flowchart showing detailed contents of an input / visualization process in the unevenness inspection process.

【図7】ムラ検査処理によりディスプレイ52に画像表
示されるそれぞれのムラ画像の表示の状態を表わした写
真。
FIG. 7 is a photograph showing a display state of each uneven image displayed on the display 52 by the unevenness inspection process.

【図8】シャドウマスクSMの生画像からムラ画像が得
られるまでに行なわれる処理の内容を模式的に説明する
説明図。
FIG. 8 is an explanatory diagram schematically illustrating the contents of processing performed until a non-uniform image is obtained from a raw image of a shadow mask SM.

【図9】第2実施例のシャドウマスク検査装置30が行
なう透孔のムラ検査処理の前半部分を表わしたフローチ
ャート。
FIG. 9 is a flowchart showing the first half of a through hole unevenness inspection process performed by the shadow mask inspection apparatus 30 of the second embodiment.

【図10】その後半部分を表わしたフローチャート。FIG. 10 is a flowchart showing the latter half.

【図11】このムラ検査処理におけるステップS200
の処理内容を説明するための説明図。
FIG. 11 shows a step S200 in the unevenness inspection processing.
FIG. 4 is an explanatory diagram for describing the processing content of FIG.

【図12】このムラ検査処理におけるステップS204
の処理内容を説明するための説明図。
FIG. 12 is a step S204 in the unevenness inspection processing.
FIG. 4 is an explanatory diagram for describing the processing content of FIG.

【図13】このムラ検査処理におけるステップS206
〜212までの処理内容を説明するための説明図。
FIG. 13 is a step S206 in the unevenness inspection processing.
FIG. 4 is an explanatory diagram for describing processing contents of to 212.

【図14】このムラ検査処理におけるステップS218
〜224までの処理内容を説明するための説明図。
FIG. 14 is a step S218 in the unevenness inspection process.
FIG. 9 is an explanatory diagram for describing processing contents of to 224.

【図15】メディアンフィルタによる平滑化処理に替わ
る移動平均法や4次式近似法による平滑化処理の概要を
説明する説明図。
FIG. 15 is an explanatory diagram illustrating an outline of a smoothing process using a moving average method or a quartic approximation method that replaces the smoothing process using a median filter.

【図16】シャドウマスクSMについての従来のムラ検
査の様子を説明するための説明図。
FIG. 16 is an explanatory diagram for explaining a state of a conventional unevenness inspection for a shadow mask SM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

30…シャドウマスク検査装置 40…光学測定装置 41…定盤 43…ガラス板 44…光源 45…マスク板 45a…開口 46…スタンド支持アーム 47…カメラ保持ビーム 49…CCDカメラ 50…データ処理装置 52…ディスプレイ 52a…表示領域 54…画像処理装置 62…カメラ制御装置 64…バスライン 66…CPU 68…主記憶装置 70…キーボード 72…補助記憶装置 74…プリンタ 77…レンズ部 SM…シャドウマスクREFERENCE SIGNS LIST 30 shadow mask inspection device 40 optical measurement device 41 platen 43 glass plate 44 light source 45 mask plate 45 a opening 46 stand support arm 47 camera holding beam 49 CCD camera 50 data processing device 52 Display 52a Display area 54 Image processing device 62 Camera control device 64 Bus line 66 CPU 68 Main storage device 70 Keyboard 72 Auxiliary storage device 74 Printer 77 Lens unit SM Shadow mask

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芝原 亨 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日 本スクリーン製造株式会社 彦根地区事 業所内 (72)発明者 浅井 吉治 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日 本スクリーン製造株式会社 彦根地区事 業所内 (72)発明者 伊東 正邦 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日 本スクリーン製造株式会社 彦根地区事 業所内 (56)参考文献 特開 平2−93313(JP,A) 特開 平7−103912(JP,A) 特開 昭59−159005(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01B 11/30 G01N 21/88 G06T 7/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tohru Shibahara 480-1, Takamiya-cho, Hikone City, Shiga Prefecture Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Hikone District Office (72) Inventor Yoshiharu Asai 480 Takamiyacho, Hikone City, Shiga Prefecture No. 1 Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd., in the Hikone area office (72) Inventor Masakuni Ito 480 Takamiya-cho, Hikone City, Shiga Prefecture No. 1 Dainippon Screen Manufacturing, Ltd. in the Hikone area office (56) References JP-A-2-93313 (JP, A) JP-A-7-103912 (JP, A) JP-A-59-159005 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01B 11 / 30 G01N 21/88 G06T 7/00

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 多数の透孔が概周期的に配列された透孔
板について、透孔の寸法異常に起因した光透過率のムラ
を検査する透孔板の検査方法において、 前記透孔板の一方の主面側から光を照射する照射工程
と、 前記透孔板を他方の主面側から撮像して、該撮像画像の
階調データを求める撮像工程と、 前記階調データを所定のフィルタにより平滑化処理して
平滑化データを求める平滑化工程と、 前記階調データを前記平滑化データで除算して、前記撮
像画像の規格化データを算出する規格化工程と、 前記規格化データに基づいて、検査対象である前記透孔
板の他方の主面を表示する被検査透孔板表示工程と 前記ムラの程度が許容される範囲である良品の透孔板、
又は前記ムラの程度が許容されない範囲である不良品の
透孔板である限度見本についての前記規格化データを準
備する準備工程と、 前記限度見本の規格化データに基づいて、限度見本の前
記他方の主面を表示する限度見本表示工程と、 を含むこ
とを特徴とする透孔板の検査方法。
1. A method of inspecting a perforated plate having a large number of perforated holes arranged in a substantially periodic manner, wherein the perforated plate is inspected for unevenness in light transmittance caused by a dimensional abnormality of the perforated holes. An irradiating step of irradiating light from one of the main surfaces; an imaging step of imaging the perforated plate from the other main surface side to obtain gradation data of the picked-up image; A smoothing process of obtaining smoothed data by performing a smoothing process using a filter; a normalizing process of dividing the gradation data by the smoothed data to calculate standardized data of the captured image; based on the inspection hole plate display step of displaying the other main surface of the through hole plate to be inspected, through hole plate of non-defective range of the degree of the unevenness is permitted,
Or a defective product whose degree of unevenness is in an unacceptable range
Based on the standardized data for the limit sample that is a perforated plate
Before the limit sample, based on the preparation process to be prepared and the standardized data of the limit sample,
And a limit sample display step of displaying the other main surface .
【請求項2】 多数の透孔が概周期的に配列された透孔
板について、透孔の寸法異常に起因した光透過率のムラ
を検査する透孔板の検査装置において、 前記透孔板を支持する支持手段と、 前記支持手段に支持された透孔板の一方の主面側から光
を照射する照射手段と、 前記支持手段により支持された透孔板を他方の主面側か
ら撮像して、該撮像画像の階調データを求める撮像手段
と、 前記階調データを所定のフィルタにより平滑化処理して
平滑化データを求める平滑化手段と、 前記階調データを前記平滑化データで除算して、前記撮
像画像の規格化データを算出する規格化手段と、 前記規格化データに基づいて、検査対象である前記透孔
板の他方の主面を表示する表示手段と 前記ムラの程度が許容される範囲である良品の透孔板、
又は前記ムラの程度が許容されない範囲である不良品の
透孔板である限度見本についての前記規格化データを記
憶する記憶手段とを有し、 前記表示手段は、検査対象である透孔板の他方の主面を
表示すると共に前記限度見本の規格化データに基づい
て、限度見本の前記他方の主面を表示する手段であるこ
を特徴とする透孔板の検査装置。
2. A perforated plate inspection apparatus for inspecting non-uniformity of light transmittance due to a dimensional abnormality of a perforated plate, wherein the perforated plate has a large number of through holes arranged substantially periodically. A radiating means for irradiating light from one main surface side of the perforated plate supported by the supporting means, and an image of the perforated plate supported by the supporting means from the other main surface side An imaging unit that obtains grayscale data of the captured image; a smoothing unit that obtains smoothed data by performing a smoothing process on the grayscale data using a predetermined filter; division to a standardization means for calculating a normalized data of the captured image, on the basis of the normalized data, and display means for displaying the other main surface of the through hole plate to be inspected, the unevenness Good quality perforated plate whose degree is in the acceptable range,
Or a defective product whose degree of unevenness is in an unacceptable range
Record the above standardized data for the limit sample which is a perforated plate.
Storage means for storing the other main surface of the perforated plate to be inspected.
Display and based on the standardized data of the limit sample
Means to display the other major surface of the limit sample.
And a perforated plate inspection apparatus.
【請求項3】 請求項2に記載の透孔板の検査装置にお
いて、 前記平滑化手段が平滑化処理する際の前記所定のフィル
タが、m行n列(m、nは、自然数)のフィルタウィン
ドを有するメディアンフィルタであることを特徴とする
透孔板の検査装置。
3. The inspection apparatus for a perforated plate according to claim 2, wherein the predetermined filter when the smoothing unit performs the smoothing process is a filter of m rows and n columns (m and n are natural numbers). An inspection device for a perforated plate, which is a median filter having a window.
【請求項4】 請求項2に記載の透孔板の検査装置にお
いて、 前記平滑化手段が、 m行1列(mは、自然数)のフィルタウィンドを有する
メディアンフィルタで前記階調データを平滑化処理して
第1平滑化データを求める手段と、 1行n列(nは、自然数)のフィルタウィンドを有する
メディアンフィルタで前記第1平滑化データを平滑化処
理して前記平滑化データを求める手段と、を有すること
を特徴とする透孔板の検査装置。
4. The inspection apparatus for a perforated plate according to claim 2 , wherein the smoothing means smoothes the gradation data with a median filter having a filter window of m rows and 1 column (m is a natural number). Means for processing to obtain first smoothed data; means for obtaining the smoothed data by smoothing the first smoothed data with a median filter having a filter window of one row and n columns (n is a natural number) And an inspection apparatus for a perforated plate.
【請求項5】 請求項2に記載の透孔板の検査装置にお
いて、 前記平滑化手段が、 1行n列(nは、自然数)のフィルタウィンドを有する
メディアンフィルタで前記階調データを平滑化処理して
第2平滑化データを求める手段と、 m行1列(mは、自然数)のフィルタウィンドを有する
メディアンフィルタで前記第2平滑化データを平滑化処
理して前記平滑化データを求める手段と、 を有することを特徴とする透孔板の検査装置。
5. The inspection apparatus for a perforated plate according to claim 2 , wherein the smoothing means smoothes the gradation data with a median filter having a filter window of one row and n columns (n is a natural number). Means for processing to obtain second smoothed data; means for obtaining the smoothed data by smoothing the second smoothed data with a median filter having a filter window of m rows and 1 column (m is a natural number) An inspection device for a perforated plate, comprising:
【請求項6】 請求項3から請求項5いずれかに記載の
透孔板の検査装置において、 前記平滑化手段が透孔板の透孔が形成された範囲である
透孔領域の周辺の階調データであり前記メディアンフィ
ルタのフィルタウィンドを満たさないデータ数の階調デ
ータについて、該フィルタウィンドを満たさないデータ
数の階調データをその大きさの順に並べたときに中央に
くるデータを出力データとするメディアンフィルタを用
いて平滑化処理するものである透孔板の検査装置。
6. The inspection apparatus for a perforated plate according to claim 3 , wherein the smoothing means is a floor around a perforated region in which the perforated plate is formed. For tone data that is tone data and does not satisfy the filter window of the median filter, when the tone data of the number of data that does not satisfy the filter window are arranged in order of their size, the data that comes to the center is output data. An inspection apparatus for a perforated plate which performs a smoothing process using a median filter.
JP18078395A 1995-06-22 1995-06-22 Inspection method and inspection device for perforated plate Expired - Lifetime JP3335503B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18078395A JP3335503B2 (en) 1995-06-22 1995-06-22 Inspection method and inspection device for perforated plate
KR1019960006361A KR100221697B1 (en) 1995-06-22 1996-03-11 Inspection Method and Inspection Device for Through Hole Plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18078395A JP3335503B2 (en) 1995-06-22 1995-06-22 Inspection method and inspection device for perforated plate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH095057A JPH095057A (en) 1997-01-10
JP3335503B2 true JP3335503B2 (en) 2002-10-21

Family

ID=16089258

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18078395A Expired - Lifetime JP3335503B2 (en) 1995-06-22 1995-06-22 Inspection method and inspection device for perforated plate

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP3335503B2 (en)
KR (1) KR100221697B1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4184480B2 (en) * 1998-06-05 2008-11-19 大日本印刷株式会社 Method for inspecting coating material film thickness unevenness
JP4353479B2 (en) * 2004-10-08 2009-10-28 大日本スクリーン製造株式会社 Unevenness inspection apparatus, unevenness inspection method, and program for causing computer to inspect shading unevenness
JP4815796B2 (en) * 2004-12-02 2011-11-16 コニカミノルタエムジー株式会社 Defect inspection equipment
JP2018112515A (en) * 2017-01-13 2018-07-19 日本電産サンキョー株式会社 Panel inspection system

Also Published As

Publication number Publication date
KR970002257A (en) 1997-01-24
KR100221697B1 (en) 1999-09-15
JPH095057A (en) 1997-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100235476B1 (en) Method and apparatus of inspecting surface irregularity of an object
JP3366802B2 (en) Unevenness inspection method and apparatus
JP3335503B2 (en) Inspection method and inspection device for perforated plate
KR100211427B1 (en) Inspection method and inspection device for perforated plate
JP3871963B2 (en) Surface inspection apparatus and surface inspection method
JP2005164565A (en) Defect detection method for flat panel light- related plate element in low and high resolution images
JP3302863B2 (en) Inspection method and inspection device for perforated plate
JP3224620B2 (en) Method for quantifying unevenness of periodic pattern
JPH109836A (en) Method for evaluating surface properties of object, roughness of glass surface and glass mold
JPH11351830A (en) Inspection method for film thickness unevenness of coating material
JPH0933234A (en) Method and apparatus for inspection of through hole
JP3254288B2 (en) Line inspection method
JP2911620B2 (en) Method for quantifying unevenness of periodic pattern
JP2000292311A (en) Method and apparatus for inspecting unevenness of periodic pattern
JPH08159984A (en) Pattern unevenness inspection device
JP3318845B2 (en) Inspection auxiliary equipment
JPH10197453A (en) Device and method for inspecting optical unevenness
US20050117037A1 (en) Image processing method and image processor
JP2000111492A (en) Inspection method for periodic pattern unevenness
CN110993491B (en) Automatic correction method for OED (optical element design) in excimer laser annealing process
JP2001201459A (en) Method and apparatus for inspecting unevenness of periodic pattern
JP2009036580A (en) Method, equipment and program for preparing image for checkup, and method and equipment for checking planar display panel
JP4382210B2 (en) Periodic pattern inspection method and apparatus
JP3878317B2 (en) Method and apparatus for inspecting periodic aperture pattern
JPH042104B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080802

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080802

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090802

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090802

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090802

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100802

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100802

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110802

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110802

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120802

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120802

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120802

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130802

Year of fee payment: 11

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term