JP3297281B2 - 多機能性バックミラー - Google Patents
多機能性バックミラーInfo
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Landscapes
- Rear-View Mirror Devices That Are Mounted On The Exterior Of The Vehicle (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、車両用バックミラ
ーに関し、特に広い視野と防眩機能、光反射機能、表示
機能を併せもつ多機能性バックミラーに関する。
ーに関し、特に広い視野と防眩機能、光反射機能、表示
機能を併せもつ多機能性バックミラーに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にバックミラーは、側方より接近す
る後方追越し車両がバックミラーの視野から消失したの
ち、当該車両等が視野の周辺に突然出現するという視野
消失区域の問題を解消させるために広い後方視界の確保
が必要であり、また、夜間走行時に、後方車両の前照灯
による運転者の受ける眩惑を防止することが必要であ
る。
る後方追越し車両がバックミラーの視野から消失したの
ち、当該車両等が視野の周辺に突然出現するという視野
消失区域の問題を解消させるために広い後方視界の確保
が必要であり、また、夜間走行時に、後方車両の前照灯
による運転者の受ける眩惑を防止することが必要であ
る。
【０００３】後方視界を確保するために、比較的大きな
曲率半径の凸面鏡が使用するように定められているが、
視野消失区域の問題は避けられられない。そこで、特開
昭６３−３０６９４７号公報では、その第３頁左下欄１
〜９行に、湾曲状態の異なる２つの領域をもつ鏡面を用
いたものを開示している。すなわち、図１１に斜視図を
示すように、鏡面の大部分を占める曲率半径の大きい主
鏡面領域５１ａと、小さな曲率半径を持つ補助鏡面領域
５１ｂとよりなるドアミラー５０が提案されているが、
鏡面の曲率半径の異なる箇所が不明で、運転者が距離感
を誤り事故を起こしやすい。また、最近、図１２の正面
図に示すようなバックミラーが本願発明者により提案さ
れている（特開平６ー１８３８６７号）。この特願にお
けるバックミラー５２は、球面状の主鏡面領域（定曲率
凸面）５２ａと、いわゆる非球面状の補助鏡面領域５２
ｂ（徐々に曲率半径を大きくさせた徐変Ｒ面）とより構
成され、両者の間の分割線５３をブラスター加工で刻印
し運転者には確実に視認できるようにし、上記運転者の
距離感の誤認を防止している。
曲率半径の凸面鏡が使用するように定められているが、
視野消失区域の問題は避けられられない。そこで、特開
昭６３−３０６９４７号公報では、その第３頁左下欄１
〜９行に、湾曲状態の異なる２つの領域をもつ鏡面を用
いたものを開示している。すなわち、図１１に斜視図を
示すように、鏡面の大部分を占める曲率半径の大きい主
鏡面領域５１ａと、小さな曲率半径を持つ補助鏡面領域
５１ｂとよりなるドアミラー５０が提案されているが、
鏡面の曲率半径の異なる箇所が不明で、運転者が距離感
を誤り事故を起こしやすい。また、最近、図１２の正面
図に示すようなバックミラーが本願発明者により提案さ
れている（特開平６ー１８３８６７号）。この特願にお
けるバックミラー５２は、球面状の主鏡面領域（定曲率
凸面）５２ａと、いわゆる非球面状の補助鏡面領域５２
ｂ（徐々に曲率半径を大きくさせた徐変Ｒ面）とより構
成され、両者の間の分割線５３をブラスター加工で刻印
し運転者には確実に視認できるようにし、上記運転者の
距離感の誤認を防止している。
【０００４】一方、夜間走行に対しては、反射率可変の
エレクトロクロミックミラーが用いられる。このエレク
トロクロミックミラーは透明基板、透明電極、エレクト
ロクロミック（ＥＣ）層、反射膜兼電極膜、絶縁封止膜
または絶縁性封止基板を積層してなるもので、後方光及
び周囲光の状況により所定の電圧を印加して前記ＥＣ層
を反応させて入射光の透過率を調整する。しかし、防眩
のためＥＣ層を制御して透過率を下げれば後方光の眩し
さは防げるが、周囲光も同様に押さえられ、運転者の後
方視野に対する視認が不確実になることがある。
エレクトロクロミックミラーが用いられる。このエレク
トロクロミックミラーは透明基板、透明電極、エレクト
ロクロミック（ＥＣ）層、反射膜兼電極膜、絶縁封止膜
または絶縁性封止基板を積層してなるもので、後方光及
び周囲光の状況により所定の電圧を印加して前記ＥＣ層
を反応させて入射光の透過率を調整する。しかし、防眩
のためＥＣ層を制御して透過率を下げれば後方光の眩し
さは防げるが、周囲光も同様に押さえられ、運転者の後
方視野に対する視認が不確実になることがある。
【０００５】上記要求事項の対策として、特開昭６３ー
３０６９４７号公報により図１３、図１４に示すような
ミラー装置が提案されている。すなわち、このものは、
入射光に対する反射手段をもつ鏡面で曲率の異なる複数
面からなる第１の面５５と、その前面に配設されたＥＣ
層５４を持つ第２の面５６と、第２の面５６の前に置か
れたガラス製保護板５７とよりなる。このＥＣ層５４
は、透明状態から反射状態に制御可能に構成され、非防
眩の正常運転時にはＥＣ層５４を反射状態とし入射光５
８は図１３に示すようにＥＣ層５４により内側へ反射さ
れる。防眩時には図１４に示すようにＥＣ層５４を透明
状態とし入射光５９は第１の面５５に達し外側方向に反
射される。
３０６９４７号公報により図１３、図１４に示すような
ミラー装置が提案されている。すなわち、このものは、
入射光に対する反射手段をもつ鏡面で曲率の異なる複数
面からなる第１の面５５と、その前面に配設されたＥＣ
層５４を持つ第２の面５６と、第２の面５６の前に置か
れたガラス製保護板５７とよりなる。このＥＣ層５４
は、透明状態から反射状態に制御可能に構成され、非防
眩の正常運転時にはＥＣ層５４を反射状態とし入射光５
８は図１３に示すようにＥＣ層５４により内側へ反射さ
れる。防眩時には図１４に示すようにＥＣ層５４を透明
状態とし入射光５９は第１の面５５に達し外側方向に反
射される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のもので
は、第１面５５を使用する場合は鏡面である第１面の曲
率が異なる箇所が不明瞭であるため、運転者が距離感を
誤って事故を起こしやすい。また、第２の面５６の前面
のＥＣ層で入射光を反射させる場合に、ＥＣ層の透過率
が０％にならないため、第１の面による像と第２の面に
よる像とが重なり（二重像になり）運転上危険を伴うと
いう問題がある。本発明の目的は、広い視界と防眩機能
をもつバックミラーを提供することにある。別の目的
は、防眩機能と光乱反射機能または表示機能を併せもつ
多機能のバックミラーを提供することにある。更に別の
目的は、運転者が距離感を誤り事故を起こすことのない
バックミラーを提供することにある。
は、第１面５５を使用する場合は鏡面である第１面の曲
率が異なる箇所が不明瞭であるため、運転者が距離感を
誤って事故を起こしやすい。また、第２の面５６の前面
のＥＣ層で入射光を反射させる場合に、ＥＣ層の透過率
が０％にならないため、第１の面による像と第２の面に
よる像とが重なり（二重像になり）運転上危険を伴うと
いう問題がある。本発明の目的は、広い視界と防眩機能
をもつバックミラーを提供することにある。別の目的
は、防眩機能と光乱反射機能または表示機能を併せもつ
多機能のバックミラーを提供することにある。更に別の
目的は、運転者が距離感を誤り事故を起こすことのない
バックミラーを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明多機能性バックミラーは、湾曲状態の異なる
複数の鏡面領域をもつ透明基板と、透明基板の裏面側
に、順次積層された透明電極膜、オプトエレクトロニッ
ク層、光反射膜兼電極膜及び絶縁性封止膜または絶縁性
封止基板とからなり；前記透明電極膜には鏡面を前記領
域に分ける分割線が形成され、該分割線の内の少なくと
もある部分は鏡面領域の境界線を兼ね、他のある部分は
非境界線となっており、分割線の境界線を兼ねる部分は
オプトエレクトロニック層と光反射膜兼電極膜が積層さ
れずに直接絶縁性封止層が塗布または積層され；さら
に、前記各鏡面領域の上部に別々のクリップ電極を挟着
し、両鏡面領域の下部に共通のクリップ電極を挟着した
ことを特徴とする。
め、本発明多機能性バックミラーは、湾曲状態の異なる
複数の鏡面領域をもつ透明基板と、透明基板の裏面側
に、順次積層された透明電極膜、オプトエレクトロニッ
ク層、光反射膜兼電極膜及び絶縁性封止膜または絶縁性
封止基板とからなり；前記透明電極膜には鏡面を前記領
域に分ける分割線が形成され、該分割線の内の少なくと
もある部分は鏡面領域の境界線を兼ね、他のある部分は
非境界線となっており、分割線の境界線を兼ねる部分は
オプトエレクトロニック層と光反射膜兼電極膜が積層さ
れずに直接絶縁性封止層が塗布または積層され；さら
に、前記各鏡面領域の上部に別々のクリップ電極を挟着
し、両鏡面領域の下部に共通のクリップ電極を挟着した
ことを特徴とする。
【０００８】また、本発明は、曲率半径の大きな定曲率
凸面の主鏡面領域と徐々に曲率半径を減小させた徐変曲
率凸面の補助鏡面領域とをもつ透明基板と；透明基板の
裏面側に順次配置した透明電極膜、オプトエレクトロニ
ック層、光反射膜兼電極膜及び絶縁性封止膜または絶縁
性封止基板と；前記透明電極膜、電気化学反応層、光反
射膜に所定の電圧を印加するクリップ電極とを有し；前
記透明電極膜には鏡面を前記領域に分ける分割線が形成
され、該分割線の内の少なくともある部分は鏡面領域の
境界線を兼ね、他のある部分は非境界線となっており、
分割線の境界線を兼ねる部分はオプトエレクトロニック
層と光反射膜兼電極膜が積層されずに直接絶縁性封止性
封止層が塗布または積層され；さらに、主鏡面領域と補
助鏡面領域の上部に別々のクリップ電極を挟着し、両鏡
面領域の下部に共通のクリップ電極を挟着したことを特
徴とする。さらに、前記オプトエレクトロニック層が、
エレクトロクロミック層またはエレクトロルミネッセン
ス層であり、エレクトロクロミック層が前記主鏡面領域
の透明電極膜上に配設され、エレクトロルミネッセンス
層が補助鏡面領域の透明電 極膜上に配設されている。ま
た、オプトエレクトロニック層が、エレクトロクロミッ
ク層または透明強誘電性薄膜層であり、エレクトロクロ
ミック層が前記主鏡面領域の透明電極膜上に配設され、
透明強誘電性薄膜層が補助鏡面領域の透明電極膜上に配
設されていることを特徴とする。
凸面の主鏡面領域と徐々に曲率半径を減小させた徐変曲
率凸面の補助鏡面領域とをもつ透明基板と；透明基板の
裏面側に順次配置した透明電極膜、オプトエレクトロニ
ック層、光反射膜兼電極膜及び絶縁性封止膜または絶縁
性封止基板と；前記透明電極膜、電気化学反応層、光反
射膜に所定の電圧を印加するクリップ電極とを有し；前
記透明電極膜には鏡面を前記領域に分ける分割線が形成
され、該分割線の内の少なくともある部分は鏡面領域の
境界線を兼ね、他のある部分は非境界線となっており、
分割線の境界線を兼ねる部分はオプトエレクトロニック
層と光反射膜兼電極膜が積層されずに直接絶縁性封止性
封止層が塗布または積層され；さらに、主鏡面領域と補
助鏡面領域の上部に別々のクリップ電極を挟着し、両鏡
面領域の下部に共通のクリップ電極を挟着したことを特
徴とする。さらに、前記オプトエレクトロニック層が、
エレクトロクロミック層またはエレクトロルミネッセン
ス層であり、エレクトロクロミック層が前記主鏡面領域
の透明電極膜上に配設され、エレクトロルミネッセンス
層が補助鏡面領域の透明電 極膜上に配設されている。ま
た、オプトエレクトロニック層が、エレクトロクロミッ
ク層または透明強誘電性薄膜層であり、エレクトロクロ
ミック層が前記主鏡面領域の透明電極膜上に配設され、
透明強誘電性薄膜層が補助鏡面領域の透明電極膜上に配
設されていることを特徴とする。
【０００９】
【作用】透明電極膜に形成させた分割線は、周りの領域
面と反射率が異なるため、分割線をはっきり視認でき、
各鏡面領域毎に独立したエレクトロクロミック（ＥＣ）
層、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）層または透明強
誘電性膜層を付与することができ、また、ドライバーに
とり眩しさを感ずるある鏡面領域だけを低反射率状態と
して、ドライバーの個人差や交通状況に応じて適宜低反
射率状態とする鏡面領域を選択対処することができる。
分割された透明電極の複数領域の一部に、強誘電性薄膜
を配設したものでは、所定領域における入射光の散乱に
より、光乱反射板としての機能をもたせることができ
る。分割された透明電極の領域の一部にＥＬ層を配設す
る場合は、ＥＣ層のみの場合より安全運転上必要な表示
機能を付与することができる。
面と反射率が異なるため、分割線をはっきり視認でき、
各鏡面領域毎に独立したエレクトロクロミック（ＥＣ）
層、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）層または透明強
誘電性膜層を付与することができ、また、ドライバーに
とり眩しさを感ずるある鏡面領域だけを低反射率状態と
して、ドライバーの個人差や交通状況に応じて適宜低反
射率状態とする鏡面領域を選択対処することができる。
分割された透明電極の複数領域の一部に、強誘電性薄膜
を配設したものでは、所定領域における入射光の散乱に
より、光乱反射板としての機能をもたせることができ
る。分割された透明電極の領域の一部にＥＬ層を配設す
る場合は、ＥＣ層のみの場合より安全運転上必要な表示
機能を付与することができる。
【００１０】
【実施例】図１に示すように、バックミラー組立体３０
は、車両外板に固着したベース３１に折畳み可能にミラ
ーボデー３２がマウントされて、ミラーボデー３２内に
は、鏡１０を保持したミラーホルダー３３が鏡反射角を
調節自在に取付けられている。鏡１０は、ガラス、プラ
スチック板のごとき透明基板１０の裏面にエレクトロク
ロミック構成要素を積層して作られる。透明基板１０
は、光の入射方向に対し一定曲率で凸に湾曲する主鏡面
領域１１と曲率半径が徐々に変化する非球面ないし徐変
曲率凸面である補助鏡面領域１２とをもつ。透明基板２
０の裏面（凹面）には、例えばＩＴＯ(インジウムチン
オキサイド)膜である概ね0.2μｍ厚み（以下各膜厚は概
ねの数値）の透明電極（陰極膜）２１、イリジウムス
ズ、五酸化タンタル、三酸化タングステンのごとき1.5
μｍ厚みの酸化（又は還元）発色性エレクトロクロミッ
ク（ＥＣ）層２２、アルミニューム、クロムなどの0.1
μｍ厚みの反射膜兼電極膜（陽極）２３を真空蒸着、イ
オンプレーティング法等により順次積層したのちエポキ
シ樹脂、窒化珪素のごとき0.1〜1.0μｍ厚みの絶縁性封
止層２４を塗布または積層する。
は、車両外板に固着したベース３１に折畳み可能にミラ
ーボデー３２がマウントされて、ミラーボデー３２内に
は、鏡１０を保持したミラーホルダー３３が鏡反射角を
調節自在に取付けられている。鏡１０は、ガラス、プラ
スチック板のごとき透明基板１０の裏面にエレクトロク
ロミック構成要素を積層して作られる。透明基板１０
は、光の入射方向に対し一定曲率で凸に湾曲する主鏡面
領域１１と曲率半径が徐々に変化する非球面ないし徐変
曲率凸面である補助鏡面領域１２とをもつ。透明基板２
０の裏面（凹面）には、例えばＩＴＯ(インジウムチン
オキサイド)膜である概ね0.2μｍ厚み（以下各膜厚は概
ねの数値）の透明電極（陰極膜）２１、イリジウムス
ズ、五酸化タンタル、三酸化タングステンのごとき1.5
μｍ厚みの酸化（又は還元）発色性エレクトロクロミッ
ク（ＥＣ）層２２、アルミニューム、クロムなどの0.1
μｍ厚みの反射膜兼電極膜（陽極）２３を真空蒸着、イ
オンプレーティング法等により順次積層したのちエポキ
シ樹脂、窒化珪素のごとき0.1〜1.0μｍ厚みの絶縁性封
止層２４を塗布または積層する。
【００１１】図１のＡ―Ａ線における拡大断面図である
図２に示すように、鏡の上部に陰陽膜への電圧印加用の
クリップ電極１３ｃ、１３ｄを挟みつけ、下部にクリッ
プ電極１３ｂを挟みつける。各電極は外部電極（図示省
略）に接続する。透明基板２０の裏面に形成された透明
電極膜２１は、カッティングにより３つの領域に分割さ
れている。すなわち、水平分割線１５の途中から上方に
向け垂直分割線１６を立てて倒立Ｔ字形の分割線１４を
設ける。この分割線は線幅0.5〜２ｍｍで、垂直分割線
１６は鏡面１０の定曲率凸面である主鏡面領域１１と徐
変曲率凸面である補助鏡面領域１２との間の境界に位置
するように設けられ、水平分割線１５及び水平分割線よ
り下部の領域１０ａはミラーホルダー３３の下縁３３ａ
によってカバーされている。カッティングによって形成
された分割線部分は、図２に示すように、透明電極膜の
上のＥＣ層２２の一部が充填されている。
図２に示すように、鏡の上部に陰陽膜への電圧印加用の
クリップ電極１３ｃ、１３ｄを挟みつけ、下部にクリッ
プ電極１３ｂを挟みつける。各電極は外部電極（図示省
略）に接続する。透明基板２０の裏面に形成された透明
電極膜２１は、カッティングにより３つの領域に分割さ
れている。すなわち、水平分割線１５の途中から上方に
向け垂直分割線１６を立てて倒立Ｔ字形の分割線１４を
設ける。この分割線は線幅0.5〜２ｍｍで、垂直分割線
１６は鏡面１０の定曲率凸面である主鏡面領域１１と徐
変曲率凸面である補助鏡面領域１２との間の境界に位置
するように設けられ、水平分割線１５及び水平分割線よ
り下部の領域１０ａはミラーホルダー３３の下縁３３ａ
によってカバーされている。カッティングによって形成
された分割線部分は、図２に示すように、透明電極膜の
上のＥＣ層２２の一部が充填されている。
【００１２】上記ＥＣミラーを使用すると、主鏡面領域
１１と補助鏡面領域１２のＥＣ層への印加電圧の印加の
態様により所定の透過率をもたせることができる。この
とき、ミラー分割線１４の部位は反射率の変化が起こら
ず、また、ＩＴＯ膜のカッティングの結果、周りの面と
の反射率が異なるため、主鏡面領域１１と補助鏡面領域
１２との境界がはっきり視認できて運転者が距離感を誤
まることがない。なお、水平分割線１５及び水平分割線
より下部の領域１０ａはミラーホルダー３３の下縁３３
ａに隠されて外部からみえることはない（図１）。
１１と補助鏡面領域１２のＥＣ層への印加電圧の印加の
態様により所定の透過率をもたせることができる。この
とき、ミラー分割線１４の部位は反射率の変化が起こら
ず、また、ＩＴＯ膜のカッティングの結果、周りの面と
の反射率が異なるため、主鏡面領域１１と補助鏡面領域
１２との境界がはっきり視認できて運転者が距離感を誤
まることがない。なお、水平分割線１５及び水平分割線
より下部の領域１０ａはミラーホルダー３３の下縁３３
ａに隠されて外部からみえることはない（図１）。
【００１３】図１は主鏡面領域１１と補助鏡面領域１２
とで個別に反射率制御ができるようにしたバックミラー
を示す。この例の鏡１０は、前と同様、透明基板２０の
裏面（凹面）の透明電極（陰極膜）２１をカッティング
により３つの領域に分割され、垂直分割線１６が主鏡面
領域１１と補助鏡面領域１２との間の境界に位置するよ
うに設けられている。上記分割線をマスキングして、分
割された領域１１、１２にエレクトロクロミック（Ｅ
Ｃ）層２２、２２と、反射膜兼電極膜（陽極）２３、２
３とをそれぞれ積層したのち、マスキングを取り外して
前記膜２３、２３及び分割線の線幅部分にわたり絶縁性
封止層２４を塗布または積層して作られる（図３参
照）。
とで個別に反射率制御ができるようにしたバックミラー
を示す。この例の鏡１０は、前と同様、透明基板２０の
裏面（凹面）の透明電極（陰極膜）２１をカッティング
により３つの領域に分割され、垂直分割線１６が主鏡面
領域１１と補助鏡面領域１２との間の境界に位置するよ
うに設けられている。上記分割線をマスキングして、分
割された領域１１、１２にエレクトロクロミック（Ｅ
Ｃ）層２２、２２と、反射膜兼電極膜（陽極）２３、２
３とをそれぞれ積層したのち、マスキングを取り外して
前記膜２３、２３及び分割線の線幅部分にわたり絶縁性
封止層２４を塗布または積層して作られる（図３参
照）。
【００１４】鏡の主鏡面領域１１の上部にクリップ電極
１３ｃ、補助鏡面領域１２の上部にクリップ電極１３ｄ
をそれぞれ挟着するとともに、主・補助領域の下部に共
通のクリップ電極１３ｂを挟着する（図１）。前の実施
例と同じく、倒立Ｔ字形の分割線１４の垂直分割線１６
は鏡面１０の定曲率凸面である主鏡面領域１１と徐変曲
率凸面である補助鏡面領域１２との間の境界に位置する
ように設けられ、水平分割線１５はミラーホルダー３３
の下縁３３ａにカバーされる高さ位置に形成されてい
る。上記ＥＣミラーは、主鏡面領域１１と補助鏡面領域
１２のＥＣ層への電圧印加の態様によりそれぞれ異なる
透過率をあらわす、すなわち各鏡面領域毎に独立したＥ
Ｃ機能を発揮させることができる。このとき、ミラー分
割線１４の部位は反射率の変化が起こらず、また、ＩＴ
Ｏ膜のカッティングの結果、周りの面との反射率が異な
るため、主鏡面領域１１と補助鏡面領域１２との境界が
はっきり視認できて運転者が距離感を誤まることがな
い。なお、この場合も水平分割線１５はミラーホルダー
３３の下縁３３ａに隠されて外部からみえることはな
い。
１３ｃ、補助鏡面領域１２の上部にクリップ電極１３ｄ
をそれぞれ挟着するとともに、主・補助領域の下部に共
通のクリップ電極１３ｂを挟着する（図１）。前の実施
例と同じく、倒立Ｔ字形の分割線１４の垂直分割線１６
は鏡面１０の定曲率凸面である主鏡面領域１１と徐変曲
率凸面である補助鏡面領域１２との間の境界に位置する
ように設けられ、水平分割線１５はミラーホルダー３３
の下縁３３ａにカバーされる高さ位置に形成されてい
る。上記ＥＣミラーは、主鏡面領域１１と補助鏡面領域
１２のＥＣ層への電圧印加の態様によりそれぞれ異なる
透過率をあらわす、すなわち各鏡面領域毎に独立したＥ
Ｃ機能を発揮させることができる。このとき、ミラー分
割線１４の部位は反射率の変化が起こらず、また、ＩＴ
Ｏ膜のカッティングの結果、周りの面との反射率が異な
るため、主鏡面領域１１と補助鏡面領域１２との境界が
はっきり視認できて運転者が距離感を誤まることがな
い。なお、この場合も水平分割線１５はミラーホルダー
３３の下縁３３ａに隠されて外部からみえることはな
い。
【００１５】図４は補助鏡面領域に透明強誘電性薄膜を
備えたバックミラーの実施態様を示す正面図である。こ
の実施態様は主鏡面領域１１に防眩機能、補助鏡面領域
１２ａに光散乱の機能をもたせたものである。鏡１０
は、前のものと同じく、ＩＴＯ膜で形成された透明電極
（陰極膜）２１を倒立Ｔ字形の分割線１４の垂直分割線
１６が、主鏡面領域１１と補助鏡面領域１２との間の境
界に位置するように設けられている。上記分割線をマス
キングして、分割された主鏡面領域１１にＥＣ層２２、
補助鏡面領域１２にＰＺＴ（ＰｂＺｒ1-XＴｉXＯ3）、
ＰｂＴｉＯ3のごとき透明強誘電性薄膜２５をそれぞれ
形成する。更にＥＣ層２２及び透明強誘電性薄膜２５の
上に反射膜兼電極膜（陽極）２３、２３をそれぞれ真空
蒸着、イオンプレーティング法等により順次積層したの
ち、前記線幅部分のマスキングを取り外して前記膜２
３、２３及び全分割線１５、１６の線幅にわたり絶縁性
封止層２４を塗布または積層する（図６参照）。
備えたバックミラーの実施態様を示す正面図である。こ
の実施態様は主鏡面領域１１に防眩機能、補助鏡面領域
１２ａに光散乱の機能をもたせたものである。鏡１０
は、前のものと同じく、ＩＴＯ膜で形成された透明電極
（陰極膜）２１を倒立Ｔ字形の分割線１４の垂直分割線
１６が、主鏡面領域１１と補助鏡面領域１２との間の境
界に位置するように設けられている。上記分割線をマス
キングして、分割された主鏡面領域１１にＥＣ層２２、
補助鏡面領域１２にＰＺＴ（ＰｂＺｒ1-XＴｉXＯ3）、
ＰｂＴｉＯ3のごとき透明強誘電性薄膜２５をそれぞれ
形成する。更にＥＣ層２２及び透明強誘電性薄膜２５の
上に反射膜兼電極膜（陽極）２３、２３をそれぞれ真空
蒸着、イオンプレーティング法等により順次積層したの
ち、前記線幅部分のマスキングを取り外して前記膜２
３、２３及び全分割線１５、１６の線幅にわたり絶縁性
封止層２４を塗布または積層する（図６参照）。
【００１６】鏡の主鏡面領域１１の上部にクリップ電極
１３ｃ、補助鏡面領域１２の上部にクリップ電極１３ｄ
を挟着するとともに、主・補助領域の下部に共通のクリ
ップ電極１３ｅを挟着する（図４、５）。前の実施例と
同じく、垂直分割線１６は鏡面１０の主鏡面領域１１と
補助鏡面領域１２との間の境界に位置するように設けら
れ、水平分割線１５はミラーホルダー３３の下縁３３ａ
にカバーされる高さ位置に形成されている。上記ＥＣミ
ラーは、ＥＣ層２２及び透明強誘電性薄膜２５への印加
電圧の印加の態様により主鏡面領域１１側にはＥＣ機能
を持たせ、補助鏡面領域１２側には透明強誘電性薄膜２
５への電圧印加により光散乱効果を誘起させ、光乱反射
の機能を付与させることができる。このときも、ミラー
分割線１４の部位は反射率の変化が起こらず、主鏡面領
域１１と補助鏡面領域１２との境界がはっきり視認でき
て運転者が距離感を誤まることがない。なお、図４のＡ
一Ａ線における断面は図２と同様である。
１３ｃ、補助鏡面領域１２の上部にクリップ電極１３ｄ
を挟着するとともに、主・補助領域の下部に共通のクリ
ップ電極１３ｅを挟着する（図４、５）。前の実施例と
同じく、垂直分割線１６は鏡面１０の主鏡面領域１１と
補助鏡面領域１２との間の境界に位置するように設けら
れ、水平分割線１５はミラーホルダー３３の下縁３３ａ
にカバーされる高さ位置に形成されている。上記ＥＣミ
ラーは、ＥＣ層２２及び透明強誘電性薄膜２５への印加
電圧の印加の態様により主鏡面領域１１側にはＥＣ機能
を持たせ、補助鏡面領域１２側には透明強誘電性薄膜２
５への電圧印加により光散乱効果を誘起させ、光乱反射
の機能を付与させることができる。このときも、ミラー
分割線１４の部位は反射率の変化が起こらず、主鏡面領
域１１と補助鏡面領域１２との境界がはっきり視認でき
て運転者が距離感を誤まることがない。なお、図４のＡ
一Ａ線における断面は図２と同様である。
【００１７】図７は補助鏡面領域にエレクトロルミネッ
センス（ＥＬ）層を形成させたバックミラーの実施態様
の正面図を示す。この実施例は主鏡面領域に防眩機能、
補助鏡面領域１２に表示機能をもたせたたものである。
鏡１０は、前のものと同じく、ＩＴＯ膜で形成された透
明電極（陰極膜）２１を倒立Ｔ字形の分割線１４の垂直
分割線１６が、主鏡面領域１１と補助鏡面領域１２ｂと
の間の境界に位置するように設けられている。上記分割
線をマスキングして、分割された主鏡面領域１１にＥＣ
層２２、補助鏡面領域１２ｂにＥＬ層２６を形成させ
る。更にＥＣ層２２及びＥＬ層２６の上に反射膜兼電極
膜（陽極）２３、２３を真空蒸着、イオンプレーティン
グ法等によりそれぞれ積層したのち、前記線幅部分のマ
スキングを取り外して前記膜２３、２３及び全分割線１
５、１６の線幅にわたり絶縁性封止層２４を塗布または
積層する（図９参照）。前の実施例と同じく、クリップ
電極１３ｃ、クリップ電極１３ｄ及びクリップ電極１３
ｅが用いられ（図８、９）、倒立Ｔ字形の分割線１４の
垂直分割線１６は鏡面１０の定曲率凸面である主鏡面領
域１１と徐変曲率凸面である補助鏡面領域１２との間の
境界に位置するように設けられている。
センス（ＥＬ）層を形成させたバックミラーの実施態様
の正面図を示す。この実施例は主鏡面領域に防眩機能、
補助鏡面領域１２に表示機能をもたせたたものである。
鏡１０は、前のものと同じく、ＩＴＯ膜で形成された透
明電極（陰極膜）２１を倒立Ｔ字形の分割線１４の垂直
分割線１６が、主鏡面領域１１と補助鏡面領域１２ｂと
の間の境界に位置するように設けられている。上記分割
線をマスキングして、分割された主鏡面領域１１にＥＣ
層２２、補助鏡面領域１２ｂにＥＬ層２６を形成させ
る。更にＥＣ層２２及びＥＬ層２６の上に反射膜兼電極
膜（陽極）２３、２３を真空蒸着、イオンプレーティン
グ法等によりそれぞれ積層したのち、前記線幅部分のマ
スキングを取り外して前記膜２３、２３及び全分割線１
５、１６の線幅にわたり絶縁性封止層２４を塗布または
積層する（図９参照）。前の実施例と同じく、クリップ
電極１３ｃ、クリップ電極１３ｄ及びクリップ電極１３
ｅが用いられ（図８、９）、倒立Ｔ字形の分割線１４の
垂直分割線１６は鏡面１０の定曲率凸面である主鏡面領
域１１と徐変曲率凸面である補助鏡面領域１２との間の
境界に位置するように設けられている。
【００１８】このＥＣミラーは、主鏡面領域１１のＥＣ
層への電圧の印加によりＥＣ機能を持たせ、鏡面領域１
２ｂへの電圧印加により発光させて表示機能を発現させ
る。すなわち各鏡面領域毎に独立したＥＣ機能を発揮さ
せる。このときも、ミラー分割線１５、１６の部位は反
射率の変化が起こらず、また主鏡面領域１１と補助鏡面
領域１２との境界がはっきり視認できて運転者が距離感
を誤まることがない。なお、前記ＥＬ層が可視光に対
し、不透明の場合は、透明電極のミラー表面側を反射面
とすればよい。また、図７のＡ一Ａ線における断面は実
施例１の第２図と同様である。
層への電圧の印加によりＥＣ機能を持たせ、鏡面領域１
２ｂへの電圧印加により発光させて表示機能を発現させ
る。すなわち各鏡面領域毎に独立したＥＣ機能を発揮さ
せる。このときも、ミラー分割線１５、１６の部位は反
射率の変化が起こらず、また主鏡面領域１１と補助鏡面
領域１２との境界がはっきり視認できて運転者が距離感
を誤まることがない。なお、前記ＥＬ層が可視光に対
し、不透明の場合は、透明電極のミラー表面側を反射面
とすればよい。また、図７のＡ一Ａ線における断面は実
施例１の第２図と同様である。
【００１９】図１０は別の実施例を示す。この場合は透
明電極膜に十字形の分割線１４を入れて鏡面を４つの領
域１１ａ、１１ｂ、１２ｃ、１２ｄに分割し、クリップ
電極１３ｃ、１３ｄ、１３ｆ、１３ｇで個別に外部へ接
続する。十字形の縦線で主領域と補助領域とを分け、領
域１１ａ、１１ｂをＥＣ層とし、領域１２ｃ，１２ｄを
透明強誘電性薄膜層またはＥＬ層とすることにより、Ｅ
Ｃ機能と光散乱もしくは表示機能とを複合させた機能を
もたせることができる。なお、十字形の水平分割線及び
水平分割線との交点以下の縦線部分が外観上あらわれな
いようにミラーホルダーの下縁によってカバーされる。
明電極膜に十字形の分割線１４を入れて鏡面を４つの領
域１１ａ、１１ｂ、１２ｃ、１２ｄに分割し、クリップ
電極１３ｃ、１３ｄ、１３ｆ、１３ｇで個別に外部へ接
続する。十字形の縦線で主領域と補助領域とを分け、領
域１１ａ、１１ｂをＥＣ層とし、領域１２ｃ，１２ｄを
透明強誘電性薄膜層またはＥＬ層とすることにより、Ｅ
Ｃ機能と光散乱もしくは表示機能とを複合させた機能を
もたせることができる。なお、十字形の水平分割線及び
水平分割線との交点以下の縦線部分が外観上あらわれな
いようにミラーホルダーの下縁によってカバーされる。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、ＥＣミラー製作のさい
従来より行なっている透明電極膜のカッティングにより
分割線の刻印を行なうようにしたため、作業の効率が向
上する。分割線を有するため、運転者に取り視認し易く
誤認防止に役立つとともに後方視界の妨げにもならず安
全運転ができる。ＥＣ層による反射率制御が鏡面領域毎
に独立して行なえるようにしたため、眩しい鏡面領域で
の反射率の低下で防眩効果を上げることができ、ミラー
全面が暗くならず安全性が向上する。また、通常使用し
ない鏡面領域は低反射状態にして置くことができ、運転
者の個人差や交通状況に対応できる。ＥＬ層による発光
効果を利用する場合には方向指示器や車幅灯などの表示
機能として使用することができる。
従来より行なっている透明電極膜のカッティングにより
分割線の刻印を行なうようにしたため、作業の効率が向
上する。分割線を有するため、運転者に取り視認し易く
誤認防止に役立つとともに後方視界の妨げにもならず安
全運転ができる。ＥＣ層による反射率制御が鏡面領域毎
に独立して行なえるようにしたため、眩しい鏡面領域で
の反射率の低下で防眩効果を上げることができ、ミラー
全面が暗くならず安全性が向上する。また、通常使用し
ない鏡面領域は低反射状態にして置くことができ、運転
者の個人差や交通状況に対応できる。ＥＬ層による発光
効果を利用する場合には方向指示器や車幅灯などの表示
機能として使用することができる。
【図１】 この発明の実施態様のバックミラーを示す正
面図である。
面図である。
【図２】 図１のＡ一Ａ線における拡大縦断面図であ
る。
る。
【図３】 図１のＢ一Ｂ線における拡大横断面図であ
る。
る。
【図４】 主鏡面領域と補助鏡面領域にＥＣ層、補助鏡
面領域に透明強誘電性薄膜を形成させたバックミラーの
実施態様を示すもので、ミラーボデー及びミラーホルダ
ーの図示を省略した状態の正面図である。
面領域に透明強誘電性薄膜を形成させたバックミラーの
実施態様を示すもので、ミラーボデー及びミラーホルダ
ーの図示を省略した状態の正面図である。
【図５】 図４のＣ一Ｃ線における拡大縦断面図であ
る。
る。
【図６】 図４のＤ一Ｄ線における拡大横断面図であ
る。
る。
【図７】 主鏡面領域と補助鏡面領域にＥＣ層、補助鏡
面領域にエレクトロルミネッセンス層を形成させたバッ
クミラーの実施態様を示す正面図である。
面領域にエレクトロルミネッセンス層を形成させたバッ
クミラーの実施態様を示す正面図である。
【図８】 図７のＥ一Ｅ線における拡大縦断面図であ
る。
る。
【図９】 図７のＦ−Ｆ線における拡大横断面図であ
る。
る。
【図１０】 鏡面を４つの領域に分けた例を示す正面図
である。
である。
【図１１】 曲率半径の異なる領域をもつ従来のバック
ミラーを示す斜視図。
ミラーを示す斜視図。
【図１２】 従来の別のバックミラーを示す正面図であ
る。
る。
【図１３】 従来の更に別のバックミラーにおいて、非
防眩状態を示す断面図である。
防眩状態を示す断面図である。
【図１４】 図１３のバックミラーの防眩状態を示す断
面図である。
面図である。
１０ 鏡面 １０ａ 鏡面下部領域 １１ 主鏡面領域 １２ 補助鏡面領域１３ｂ 、１３ｃ、１３ｄ、１３ｅ、１３ｆ、１３ｇ ク
リップ電極 １４、１５、１６ 領域境界線 ２０ 透明基板 ２１ 透明電極 ２２ ＥＣ層 ２３ 反射膜兼電極膜 ２４ 絶縁性封止膜 ２５ 透明強誘電性薄膜 ２６ ＥＬ層
リップ電極 １４、１５、１６ 領域境界線 ２０ 透明基板 ２１ 透明電極 ２２ ＥＣ層 ２３ 反射膜兼電極膜 ２４ 絶縁性封止膜 ２５ 透明強誘電性薄膜 ２６ ＥＬ層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B60R 1/04 B60R 1/06 B60R 1/12
Claims (4)
- 【請求項１】 湾曲状態の異なる複数の鏡面領域をもつ
透明基板と、透明基板の裏面側に、順次積層された透明
電極膜、オプトエレクトロニック層、光反射膜兼電極膜
及び絶縁性封止膜または絶縁性封止基板とからなり、 前記透明電極膜には鏡面を前記領域に分ける分割線が形
成され、該分割線の内の少なくともある部分は鏡面領域
の境界線を兼ね、他のある部分は非境界線となってお
り、分割線の境界線を兼ねる部分はオプトエレクトロニ
ック層と光反射膜兼電極膜が積層されずに直接絶縁性封
止層が塗布または積層され、 さらに、前記各鏡面領域の上部に別々のクリップ電極を
挟着し、両鏡面領域の下部に共通のクリップ電極を挟着
した、 ことを特徴とする多機能性バックミラー。 - 【請求項２】 曲率半径の大きな定曲率凸面の主鏡面領
域と徐々に曲率半径を減小させた徐変曲率凸面の補助鏡
面領域とをもつ透明基板と、 透明基板の裏面側に順次配置した透明電極膜、オプトエ
レクトロニック層、光反射膜兼電極膜及び絶縁性封止膜
または絶縁性封止基板と、 前記透明電極膜、電気化学反応層、光反射膜に所定の電
圧を印加するクリップ電極とを有し、 前記透明電極膜には鏡面を前記領域に分ける分割線が形
成され、該分割線の内の少なくともある部分は鏡面領域
の境界線を兼ね、他のある部分は非境界線となってお
り、分割線の境界線を兼ねる部分はオプトエレクトロニ
ック層と光反射膜兼電極膜が積層されずに直接絶縁性封
止層が塗布または積層され、 さらに、主鏡面領域と補助鏡面領域の上部に別々のクリ
ップ電極を挟着し、両鏡面領域の下部に共通のクリップ
電極を挟着したことを特徴とする多機能性 バックミラ
ー。 - 【請求項３】 オプトエレクトロニック層が、エレクト
ロクロミック層またはエレクトロルミネッセンス層であ
り；エレクトロクロミック層が前記主鏡面領域の透明電
極膜上に配設され、エレクトロルミネッセンス層が補助
鏡面領域の透明電極膜上に配設されている請求項２に記
載の多機能性バックミラー。 - 【請求項４】 オプトエレクトロニック層が、エレクト
ロクロミック層または透明強誘電性薄膜層であり；エレ
クトロクロミック層が前記主鏡面領域の透明電極膜上に
配設され、透明強誘電性薄膜層が補助鏡面領域の透明電
極膜上に配設されている請求項２に記載の多機能性バッ
クミラー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34851895A JP3297281B2 (ja) | 1995-01-17 | 1995-12-20 | 多機能性バックミラー |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2090295 | 1995-01-17 | ||
| JP7-20902 | 1995-01-17 | ||
| JP34851895A JP3297281B2 (ja) | 1995-01-17 | 1995-12-20 | 多機能性バックミラー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08253076A JPH08253076A (ja) | 1996-10-01 |
| JP3297281B2 true JP3297281B2 (ja) | 2002-07-02 |
Family
ID=26357903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34851895A Expired - Fee Related JP3297281B2 (ja) | 1995-01-17 | 1995-12-20 | 多機能性バックミラー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3297281B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11342790A (ja) | 1998-06-01 | 1999-12-14 | Tokai Rika Co Ltd | 視野拡大ミラー |
| JP2002110454A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-12 | Kyocera Corp | 薄膜電子部品および薄膜電子部品の実装方法 |
| JP5924949B2 (ja) * | 2012-01-17 | 2016-05-25 | サカエ理研工業株式会社 | ミラー装置 |
| JP5875873B2 (ja) * | 2012-01-17 | 2016-03-02 | サカエ理研工業株式会社 | ミラー装置 |
| US20130222877A1 (en) | 2012-02-28 | 2013-08-29 | Sage Electrochromics, Inc. | Multi-zone electrochromic devices |
| EP2965149B1 (en) * | 2013-03-08 | 2023-06-28 | Sage Electrochromics, Inc. | Electrochromic device with multiple independently controllable zones and internal busbars |
| KR101595974B1 (ko) * | 2015-02-02 | 2016-02-22 | 한밭대학교 산학협력단 | 자동변색 기능을 갖는 사각지대 감지 사이드미러 |
| JP6793855B2 (ja) | 2016-12-22 | 2020-12-02 | セイジ・エレクトロクロミクス，インコーポレイテッド | 連続勾配透過状態を維持するように構成されたエレクトロクロミックデバイスを含む装置 |
| CN115723675B (zh) * | 2021-09-01 | 2025-11-04 | 光羿智能科技(苏州)有限公司 | 一种防眩目后视镜镜片、电致变色元件及防眩目后视镜 |
-
1995
- 1995-12-20 JP JP34851895A patent/JP3297281B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08253076A (ja) | 1996-10-01 |
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Legal Events
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