JP3282585B2 - メッキ装置及びメッキ方法 - Google Patents
メッキ装置及びメッキ方法Info
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Description
ッキ方法に関し、例えば、積層コンデンサなどのチップ
型電子部品素子の外表面に外部電極層としてのメッキ膜
を形成するのに好適に用いられるメッキ装置及びメッキ
方法に関する。
ク電子部品においては、セラミック焼結体の外表面に外
部電極が形成されている。この種の外部電極をメッキ法
により形成する場合、導電ペーストの塗布・焼付けによ
り形成された下地電極上にさらに半田付け性を高めるこ
と等を目的としてメッキ膜を形成することがある。この
ような場合、多数のチップ型電子部品素子の外表面に効
率良くメッキ膜を形成するために、従来、種々のメッキ
装置が提案されている。
で示す。メッキ装置51では、容器52内にバスケット
53が配置されている。容器52は、バスケット53内
から排出されたメッキ液54を回収するために設けられ
ている。
する。メッシュ壁53bは、底板53aの外周縁から上
方に延びるように設けられており、かつメッシュにより
構成されている。メッシュ壁53bの上方には、陰極リ
ング53cが固定されている。陰極リング53cとメッ
シュ壁53bとにより外周壁が構成されている。バスケ
ット53内には、メッキ液54が貯留されている。
ケット53の中心において、下方部分がメッキ液54に
浸漬されるように配置されている。メッキに際しては、
バスケット53内に、多数のチップ型電子部品素子56
が投入される。チップ型電子部品素子56は、その両端
面に外部電極56a,56bが形成されている構造を有
し、このメッキ装置51により、外部電極56a,56
b上にメッキ膜が形成される。
4内にチップ型電子部品素子56を投入し、バスケット
53を陽極の周りに回転させる。その結果、遠心力によ
り、チップ型電子部品素子56が外周壁側に移動され、
陰極リング53cに接触され、それによってメッキ膜が
チップ型電子部品素子56の外部電極56a,56b上
に形成される。
ら外側に流出し、容器52内に移動する。そのため、排
出されたメッキ液を再度補充する必要がある。そこで、
容器52の排出口52aから排出されたメッキ液を、図
示しないポンプを用いて該ポンプの出力側に接続された
供給管57からバスケット53内に補充する。
は、バスケット53の回転駆動により、遠心力によって
メッキ液54が容器52に排出される。従って、ポンプ
を用い、メッキ液をバスケット53内に補充しなければ
ならず、ポンプなどのメッキ液を補充するための機構が
必要であり、装置が複雑となっていた。
必要があり、操作が煩雑であった。さらに、メッキを行
っている間、メッキ液54のバスケット53からの排出
及び補充が繰り返されるため、バスケット53内におい
てメッキ液54の液面を一定に制御することが非常に困
難であった。
め、陽極55の有効面積、すなわちメッキ液54に浸漬
している部分の面積が変化しがちであった。そのため、
バスケット53内におけるメッキ液54の組成が経時に
より変動し、形成されるメッキ膜の品質がばらつくとい
う問題があった。
子部品素子56が存在する場合、このチップ型電子部品
素子には遠心力が作用しない。従って、チップ型電子部
品素子56が陽極55の下端とバスケット53の底板5
3aとの間に配置されたまま外周側に移動しないことが
ある。このような場合、外周壁に接触しなかったチップ
型電子部品56にはメッキ膜が形成されないことにな
る。すなわち、多数のチップ型電子部品素子をバスケッ
ト53内に投入し、メッキを施したとしても、取り出さ
れたチップ型電子部品素子56の中には、メッキ膜が形
成されていないものが少なからず存在した。
を解消し、構造及び操作を簡略化することができ、一定
の品質のメッキ膜を確実に形成することができ、しかも
多数のワークに対してメッキ膜を効率良くかつ確実に形
成し得るメッキ装置及びメッキ方法を提供することにあ
る。
係るメッキ装置は、メッキ液が貯留されているメッキ槽
と、前記メッキ槽内においてメッキ液に埋没されるよう
に配置されており、かつメッキ槽内底面に固定された陽
極と、前記陽極が挿通される貫通孔を有し、かつ前記陽
極を中心として回転されるように陽極に軸支されたバス
ケットとを備え、前記バスケットが、リング状底部と、
該底部の外周縁から上方に延ばされた外周壁と、前記貫
通孔の内周面を構成するために底部の内周縁から上方に
延ばされた内周壁とを有し、前記内周壁及び外周壁の少
なくとも一部がメッキ液を流通させるように多孔性部材
もしくはメッシュにより構成されており、前記バスケッ
トの外周壁の少なくとも内周面に配置された陰極リング
と、前記バスケットを陽極の周りに回転するために、バ
スケットに連結された回転駆動手段とを備えることを特
徴とする。
外周壁内周面の中間高さ位置よりも上方において前記陰
極リングが配置されており、該陰極リングの下端縁より
も下方においてメッキ液がバスケット内からバスケット
外に流出し得るように構成されている。
状の金属からなり、メッキ槽底面に立設されている。請
求項4に記載の発明は、請求項1〜3のいずれかに記載
のメッキ装置を用いたメッキ方法であって、前記バスケ
ット内に複数のワークを投入する工程と、前記バスケッ
トをメッキ液内で陽極の周りに回転駆動し、ワークを陰
極リングに接触させると共に、メッキ液をバスケット内
からバスケット外へ移動させることによりワークの外表
面にメッキ膜を形成する工程とを備えることを特徴とす
る。
て、チップ型電子部品素子が用いられ、該チップ型電子
部品素子の外表面にメッキ膜を形成することにより外部
電極層が形成される。
メッキ装置を説明するための略図的断面図である。
液3が貯留されている。メッキ槽2の内底面2aには、
中央に陽極4が固定されている。陽極4は、上端4aが
メッキ液3の液面よりも下方に位置するように、すなわ
ち陽極4はメッキ液3に埋没するように配置されてい
る。陽極4は、本実施例では円柱状の部材からなり、内
底面2a上に立設されている。
の金属材料により構成することができる。陽極4の中間
高さ位置には、バスケット5が陽極4の周りに回転し得
るように軸支されている。このバスケット5を陽極4の
周りに回転自在に軸支する工程については、特に図示は
しないが、例えば、陽極4の外周側面に陽極4よりも外
径の大きなリング状ストッパを固定し、該ストッパの上
面にバスケット5が支持されるように構成することがで
きる。好ましくは、ベアリング等を有する軸受をバスケ
ット5の後述の貫通孔の内周面に固定し、バスケット5
の陽極4の周りの回転を円滑化してもよい。
に、中央に貫通孔5aを有する略ドーナツ状の形状を有
する。より詳細には、バスケット5は、リング状底部5
bと、底部5bの外周縁から上方に延ばされた外周壁5
cと、貫通孔5aの内周面を構成するために底部5aの
内周縁から上方に延ばされた内周壁5dとを有する。貫
通孔5aの径は、上記陽極4の外径とほぼ同等とされて
おり、従って、バスケット5が陽極4の周りに円滑に回
転し得るように構成されている。
金属メッシュにより構成されており、それによってメッ
キ液が陽極4の外表面とバスケット5内とで自由に流通
し得るように構成されている。内周壁5dは、メッシュ
に代えて、多孔部材により構成されていてもよい。さら
に、内周壁5dは、孔を有しない通常の部材で構成され
ていてもよい。その場合であっても、メッキ液3は、バ
スケット5外において陽極4に接触されており、さらに
貫通孔5aの径が陽極4の径よりも大きい場合には、貫
通孔5aの内周面と陽極4の外周面との間にメッキ液3
が入り込み、メッキ液3が確実に陽極4に接触される。
ら上方に延びるメッシュ壁5eと、メッシュ壁5eの上
方に連ねられた環状壁5fとを有する。メッシュ壁5e
は、バスケット5内のメッキ液3を流通し得るように構
成されている。メッシュ壁5eについては、多孔性部材
により構成されていてもよい。
グ7が固定されている。陰極リング7は、メッキ膜を構
成する金属に応じた適宜の金属により構成されている。
陰極リング7は、本実施例では、環状壁5fの上端には
至らないように配置されているが、陰極リング7は、環
状壁5fの内周面の全面を覆うように貼り付けてもよ
い。
ト5は、上述したように陽極4に軸支されており、陽極
4の周りに回転自在とされている。また、特に図示はし
ないが、バスケット5の外周壁には、バスケット5を回
転駆動するための連結機構が連結されており、該連結機
構が略図的に示す回転駆動源としてのモータMに連結さ
れている。すなわち、モータMを回転駆動することによ
り、バスケット5が陽極4の周りに回転し得るように構
成されている。
については、モータの回転軸とベルトにより回転駆動力
を伝達し得るように連結されたプーリーを配置し、該プ
ーリーの回転力を、バスケット5の外周壁5cの外面に
圧接されたローラーに伝えることによりバスケット5を
回転駆動する構造、あるいはバスケット5の外周面に圧
接された回転ローラーと共に回転し得るように歯車を設
け、該歯車をモータの回転軸に取り付けられた歯車と少
なくとも1つの歯車を介して連結し、モータMの回転駆
動力をバスケット5に伝達する構造など、従来の回転駆
動力を伝達し得る適宜の連結機構を採用することができ
る。
ッキ方法を具体的に説明することにより、本発明の作用
効果を明らかにする。本実施例では、上記バスケット5
内に投入されるワークとして、図2に示すチップ型電子
部品素子11が用いられる。チップ型電子部品素子11
は、積層コンデンサを構成するものであり、セラミック
焼結体12の内部にセラミック層を介して重なるように
内部電極13a〜13dが配置されている。内部電極1
3a,13cは、端面12aに引き出されており、内部
電極13b,13dは端面12bに引き出されている。
端面12a,12bを覆うように、それぞれ、外部電極
14,15が形成されている。外部電極14,15は、
Agペーストの塗布・焼付け等により形成されている。
に、外部電極14,15の半田食われを防止するための
Niメッキ層を形成する。メッキに際しては、まず、メ
ッキ槽2内にメッキ液3としてワット浴等のニッケルメ
ッキ浴を貯留する。この場合、メッキ液3の液面が陽極
4の上端4aよりも上方に位置するようにメッキ液3を
貯留する。すなわち、陽極4はメッキ液3内に埋没され
ている。従って、陽極4のメッキ液3との接触面積、す
なわち有効面積は変動しない。
子部品素子11を投入し、バスケット5を図示の矢印で
示すように、陽極4の周りに回転駆動させる。この回転
駆動については、陽極4の周りに上方から見て時計回り
に回転させてもよく、あるいは反時計回りに回転させて
もよい。好ましくは、陰極リング7へのメッキ膜の付着
やチップ部品と陰極の付着を防止するためには、時計方
向への回転と、反時計方向への回転とを交互に繰り返す
ことが望ましい。
することにより、遠心力によりチップ型電子部品素子1
1は外周壁5c側に移動し、陰極リング7に接触する。
そのため、電子部品素子11の外部電極14,15上に
Niメッキ膜が形成される。
にメッキ液3に埋没しているため、陽極4の有効面積は
変動しない。従って、一定の品質のメッキ膜を確実に電
子部品素子11の外部電極14,15上に形成すること
ができる。しかも、バスケット5及び陽極4がメッキ液
3に埋没しているため、メッキ液3がバスケット5内か
ら外周壁5cのメッシュ壁5eを介してバスケット5外
に排出したとしても、メッキ液3を補充する必要はな
い。従って、メッキ液3の液面を一定に制御する煩雑な
作業を省略することができると共に、従来必要であった
ポンプ等のメッキ液を補充するための煩雑な機構も必要
としない。
周壁5dの外側に配置されているため、全てのチップ型
電子部品素子11が回転による遠心力を受ける。そのた
め、全てのチップ型電子部品素子11が外周壁5d側に
移動され、投入されたチップ型電子部品素子11の全て
に対して確実にメッキ膜を形成することができる。
Niメッキ膜を形成することができる。さらに、メッキ
液3及び陰極リング7がSnメッキ膜を形成するように
構成されていることを除いては上記メッキ装置1と同様
に構成された第2のメッキ装置にチップ型電子部品素子
11を投入することにより、Niメッキ膜上にSnのメ
ッキ膜を形成することができる。このようにして、半田
食われ防止層としてのNiメッキ膜を外部電極14,1
5に形成した後に、半田付け性を高めるためのSnメッ
キ層を効率良く形成することができる。
1として、積層コンデンサを例示したが、積層コンデン
サ以外のチップ型電子部品素子の外部電極上にメッキ膜
を形成する用途に広く用いることができる。また、チッ
プ型電子部品素子の外部電極上にメッキ膜を形成する用
途だけでなく、外部電極自体を直接素子表面上に上記メ
ッキ方法により形成してもよい。
さな多数のワークにメッキ膜を形成する用途に用いるこ
とができるものであるため、チップ型電子部品素子に限
らず、比較的小さなワークの外表面にメッキ膜を形成す
る用途に広く用いることができ、例えば、ボール状部品
や金属端子部品などにメッキ膜を形成するのに好適に用
いることができる。
属により構成されていたが、棒状の陽極4は、金属以外
の絶縁性材料からなる棒状体の表面に陽極を構成する金
属膜を積層したものや貼り合わせたもので構成してもよ
い。
では、バスケット及び陽極がメッキ液に埋没されている
ため、メッキに際しての陽極の有効面積が変動し難い。
従って、ワークの外表面に一定の品質のメッキ膜を確実
に形成することができる。
ト外とで流通し得るように構成されているが、陽極及び
バスケットがメッキ液に埋没されており、メッキ液はメ
ッキ槽外には排出されない。従って、メッキ液を補充す
る必要がないので、ポンプなどのメッキ液を補充するた
めの煩雑な機構を省略することができると共に、メッキ
液の液面をコントロールするための煩雑な作業を省略す
ることができる。
通孔が形成されており、ワークはバスケットの内周壁と
外周壁との間のリング状底部上に配置されるので、バス
ケットを回転させた場合、全てのワークに遠心力が作用
する。従って、全てのワークを外周壁側に移動させるこ
とができるので、全てのワークをほぼ確実に陰極リング
に接触させることができ、これらのワークにメッキ膜を
確実に形成することができる。
ことにより、煩雑なメッキ液の液面調整作業を要するこ
となく、多数のワークの外表面に、一定品質のメッキ膜
を確実かつ容易に、しかも効率良く形成することが可能
となる。
は、陰極リングが外周壁内周面の中間高さ位置よりも上
方に貼り付けられており、リング状陰極の下端縁よりも
下方においてメッキ液がバスケット内からバスケット外
に流出する。また、外周壁のの内周面に上記陰極リング
を貼り付けるだけでよいため、陰極としての機能及びメ
ッキ液をバスケット外へ流出させる機能を有する外周壁
を比較的簡単な構成で実現することができる。
金属からなり、該陽極がメッキ槽の底面に立設されてい
る。従って、単に棒状の金属をメッキ槽の底面上に固定
するだけで、陽極を容易に構成することができる。
は、請求項1〜3のいずれかに記載のメッキ装置を用
い、バスケット内に複数のワークを投入し、バスケット
を陽極の周りに回転駆動し、ワークを陰極リングに接触
させると共に、メッキ液をバスケット内からバスケット
外へ移動させるだけで、ワークの外表面に確実に一定品
質のメッキ膜を効率良く形成することができる。しか
も、上述したように、メッキ液の液面を調整する作業を
必要としないため、メッキ膜形成に際しての作業管理を
簡略化することができる。
チップ型電子部品素子が用いられ、該チップ型電子部品
素子の外表面にメッキ膜を形成することにより外部電極
層が形成される。この場合、チップ型電子部品素子は、
バスケット内においてバスケットの回転駆動により外周
壁側に確実に移動され、陰極リングに接触する。従っ
て、多数のチップ型電子部品素子の外表面に、上記のよ
うにして一定品質のメッキ膜を確実にかつ容易に形成す
ることができる。
ための略図的断面図。
クとしてのチップ型電子部品素子を示す縦断面図。
バスケットを説明するための斜視図。
的断面図。
Claims (5)
- 【請求項1】 メッキ液が貯留されているメッキ槽と、 前記メッキ槽内においてメッキ液に埋没されるように配
置されており、かつメッキ槽内底面に固定された陽極
と、 前記陽極が挿通される貫通孔を有し、かつ前記陽極を中
心として回転されるように陽極に軸支されたバスケット
とを備え、 前記バスケットが、リング状底部と、該底部の外周縁か
ら上方に延ばされた外周壁と、前記貫通孔の内周面を構
成するために底部の内周縁から上方に延ばされた内周壁
とを有し、前記内周壁及び外周壁の少なくとも一部がメ
ッキ液を流通させるように多孔性部材もしくはメッシュ
により構成されており、 前記バスケットの外周壁の少なくとも内周面に配置され
た陰極リングと、 前記バスケットを陽極の周りに回転するために、バスケ
ットに連結された回転駆動手段とを備えることを特徴と
する、メッキ装置。 - 【請求項2】 前記バスケットの外周壁内周面の中間高
さ位置よりも上方において前記陰極リングが配置されて
おり、該陰極リングの下端縁よりも下方においてメッキ
液がバスケット内からバスケット外に流出し得るように
構成されている、請求項1に記載のメッキ装置。 - 【請求項3】 前記陽極が棒状の金属からなり、メッキ
槽底面に立設されている、請求項1または2に記載のメ
ッキ装置。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載のメッキ
装置を用いたメッキ方法であって、 前記バスケット内に複数のワークを投入する工程と、 前記バスケットをメッキ液内で陽極の周りに回転駆動
し、ワークを陰極リングに接触させると共に、メッキ液
をバスケット内からバスケット外へ移動させることによ
りワークの外表面にメッキ膜を形成する工程とを備える
ことを特徴とする、メッキ方法。 - 【請求項5】 前記ワークとして、チップ型電子部品素
子を用い、該チップ型電子部品素子の外表面にメッキ膜
を形成することにより外部電極層を形成する、請求項4
に記載のメッキ方法。
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| JP15324198A JP3282585B2 (ja) | 1998-06-02 | 1998-06-02 | メッキ装置及びメッキ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP15324198A JP3282585B2 (ja) | 1998-06-02 | 1998-06-02 | メッキ装置及びメッキ方法 |
Publications (2)
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ID=15558153
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| JP15324198A Expired - Lifetime JP3282585B2 (ja) | 1998-06-02 | 1998-06-02 | メッキ装置及びメッキ方法 |
Country Status (1)
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Families Citing this family (4)
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1998
- 1998-06-02 JP JP15324198A patent/JP3282585B2/ja not_active Expired - Lifetime
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