JP3121061B2 - アルコキシイミノアセトアミド類製造用中間体の製造法およびそれに用いる中間体 - Google Patents
アルコキシイミノアセトアミド類製造用中間体の製造法およびそれに用いる中間体Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
- C07C59/40—Unsaturated compounds
- C07C59/76—Unsaturated compounds containing keto groups
- C07C59/84—Unsaturated compounds containing keto groups containing six membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
- C07C231/02—Preparation of carboxylic acid amides from carboxylic acids or from esters, anhydrides, or halides thereof by reaction with ammonia or amines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C249/00—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C249/04—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton of oximes
- C07C249/08—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton of oximes by reaction of hydroxylamines with carbonyl compounds
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Epoxy Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、殺菌剤として有用な一
般式(VI):
般式(VI):
【化7】 [式中、Aは、水素、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロ
ゲン化アルケニル基、ハロゲン化アルキニル基、シクロ
アルキル基、シクロアルケニル基または置換されていて
もよいフェニル基もしくはヘテロ環残基、Zは、-CH
2-、-O-、-S-、-CH(OH)-、-CO-、-NR-(ここ
に、Rは水素原子またはアルキル基である)、-CH2C
H2-、-CH=CH-、-CH2O-、-CH2S-、-CH2S
(O)-、-OCH2-、-SCH2-、-S(O)CH2-またはエ
ポキシ、R1およびR2は、同一または異なって、水素原
子、アルキル基またはシクロアルキル基、R3は、アル
キル基またはシクロアルキル基、〜は、E体、Z体また
はE体とZ体の混合物のいずれかの配置を示す]で表さ
れるアルコキシイミノアセトアミド類製造用中間体であ
る一般式(V):
キニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロ
ゲン化アルケニル基、ハロゲン化アルキニル基、シクロ
アルキル基、シクロアルケニル基または置換されていて
もよいフェニル基もしくはヘテロ環残基、Zは、-CH
2-、-O-、-S-、-CH(OH)-、-CO-、-NR-(ここ
に、Rは水素原子またはアルキル基である)、-CH2C
H2-、-CH=CH-、-CH2O-、-CH2S-、-CH2S
(O)-、-OCH2-、-SCH2-、-S(O)CH2-またはエ
ポキシ、R1およびR2は、同一または異なって、水素原
子、アルキル基またはシクロアルキル基、R3は、アル
キル基またはシクロアルキル基、〜は、E体、Z体また
はE体とZ体の混合物のいずれかの配置を示す]で表さ
れるアルコキシイミノアセトアミド類製造用中間体であ
る一般式(V):
【化8】 [式中、A、Z、R1およびR2は前記と同意義]で表さ
れるα−ケトアミドの製造法およびそれに用いる中間体
に関する。
れるα−ケトアミドの製造法およびそれに用いる中間体
に関する。
【0002】
【従来技術および課題】ある種のアルコキシイミノ化合
物は、イネいもち病菌、イネ紋枯病菌、キュウリべと病
菌等に対して優れた殺菌効果を有することで注目されて
おり、その幾つかの化合物およびその製造法がすでに公
知である(特開昭63−23852号、特開昭63−3
0463号)。本発明者らもすでに、前記式(VI)で示
されるアルコキシイミノアセトアミドおよびその製造法
について特許出願した(特願平2−127441号、特
願平2−200696号、特願平2−312519号
等)。なかでも、前記式(V)のα−ケトアミド(EP
−A398692号に記載)は、アルコキシイミノアセ
トアミド(VI)の種々の化合物の共通の製造用中間体と
して重要であり、その効率的製造法が望まれている。
物は、イネいもち病菌、イネ紋枯病菌、キュウリべと病
菌等に対して優れた殺菌効果を有することで注目されて
おり、その幾つかの化合物およびその製造法がすでに公
知である(特開昭63−23852号、特開昭63−3
0463号)。本発明者らもすでに、前記式(VI)で示
されるアルコキシイミノアセトアミドおよびその製造法
について特許出願した(特願平2−127441号、特
願平2−200696号、特願平2−312519号
等)。なかでも、前記式(V)のα−ケトアミド(EP
−A398692号に記載)は、アルコキシイミノアセ
トアミド(VI)の種々の化合物の共通の製造用中間体と
して重要であり、その効率的製造法が望まれている。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、共通中間
体としての前記式(V)のα−ケトアミドの有用性に注
目してその製造法に関し鋭意研究を重ねた結果、該ケト
アミドは、対応するハロゲン化物とMgを反応させて得
られるグリニャール試薬に、オキサリル化合物を反応さ
せ、ついで、得られたα−ケト酸ハライドにアミンを反
応させることにより効率よく得られることを見いだし本
発明を完成した。
体としての前記式(V)のα−ケトアミドの有用性に注
目してその製造法に関し鋭意研究を重ねた結果、該ケト
アミドは、対応するハロゲン化物とMgを反応させて得
られるグリニャール試薬に、オキサリル化合物を反応さ
せ、ついで、得られたα−ケト酸ハライドにアミンを反
応させることにより効率よく得られることを見いだし本
発明を完成した。
【0004】すなわち本発明は、 (1)一般式(III):
【化9】 [式中、AおよびZは前記と同意義、Eはハロゲン原子
を示す]で表されるα−ケト酸ハライドを一般式(I
V): HNR1R2 (IV) [式中、R1およびR2は、同一または異なって、水素原
子、アルキル基またはシクロアルキル基を示す]で表さ
れるアミンと反応させることを特徴とする一般式(V):
を示す]で表されるα−ケト酸ハライドを一般式(I
V): HNR1R2 (IV) [式中、R1およびR2は、同一または異なって、水素原
子、アルキル基またはシクロアルキル基を示す]で表さ
れるアミンと反応させることを特徴とする一般式(V):
【化10】 [式中、R1、R2、AおよびZは前記と同意義]で表さ
れるα−ケトアミドの製造法、 (2)一般式(I):
れるα−ケトアミドの製造法、 (2)一般式(I):
【化11】 [式中、Xはハロゲン原子を示し、AおよびZは前記と
同意義]で表されるハロゲン化物とMgとを反応させて
グリニャール試薬を得、これと一般式(II): (COE)2 (II) [式中、Eはハロゲン原子を示す]で表されるオキサリ
ル化合物とを反応させて一般式(III):
同意義]で表されるハロゲン化物とMgとを反応させて
グリニャール試薬を得、これと一般式(II): (COE)2 (II) [式中、Eはハロゲン原子を示す]で表されるオキサリ
ル化合物とを反応させて一般式(III):
【化12】 [式中、A、EおよびZは、前記と同意義]で表される
α−ケト酸ハライドを得、これと一般式(IV): HNR1R2 (IV) [式中、R1およびR2は前記と同意義]で表されるアミ
ンとを反応させることを特徴とする一般式(V):
α−ケト酸ハライドを得、これと一般式(IV): HNR1R2 (IV) [式中、R1およびR2は前記と同意義]で表されるアミ
ンとを反応させることを特徴とする一般式(V):
【化13】 [式中、R1、R2、AおよびZは前記と同意義]で表さ
れるα−ケトアミドの製造法、および (3)一般式(III'):
れるα−ケトアミドの製造法、および (3)一般式(III'):
【化14】 [式中、AおよびZは前記と同意義]で表されるα−ケ
ト酸ハライドを提供するものである。
ト酸ハライドを提供するものである。
【0005】前記式中、A、R、R1、R2およびR3で
示されるアルキル基としては、炭素数1〜6、好ましく
は1〜4のアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル
等が挙げられる。Aで示されるアルケニル基としては、
炭素数2〜6、好ましくは2〜4のアルケニル基、例え
ば、ビニル、アリル、クロチル等が挙げられる。Aで示
されるアルキニル基としては、炭素数2〜6、好ましく
は2〜4のアルキニル基、例えば、プロパルギル、エチ
ニル、ブチニル等が挙げられる。Aで示されるアルコキ
シ基としては、炭素数1〜6、好ましくは1〜4のアル
コキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ等が挙げられる。A、R1、R2およびR
3で示されるシクロアルキル基としては、例えば、シク
ロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等が挙
げられる。Aで示されるシクロアルケニル基としては、
例えば、シクロペンテニル、シクロヘキセニル等が挙げ
られる。
示されるアルキル基としては、炭素数1〜6、好ましく
は1〜4のアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル
等が挙げられる。Aで示されるアルケニル基としては、
炭素数2〜6、好ましくは2〜4のアルケニル基、例え
ば、ビニル、アリル、クロチル等が挙げられる。Aで示
されるアルキニル基としては、炭素数2〜6、好ましく
は2〜4のアルキニル基、例えば、プロパルギル、エチ
ニル、ブチニル等が挙げられる。Aで示されるアルコキ
シ基としては、炭素数1〜6、好ましくは1〜4のアル
コキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ等が挙げられる。A、R1、R2およびR
3で示されるシクロアルキル基としては、例えば、シク
ロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等が挙
げられる。Aで示されるシクロアルケニル基としては、
例えば、シクロペンテニル、シクロヘキセニル等が挙げ
られる。
【0006】Aで示されるヘテロ環残基におけるヘテロ
環としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、ピラ
ジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾ
ール環、ベンゾオキサゾール環、イソオキサゾール環、
ピラゾール環、イミダゾール環、キノリン環等が挙げら
れる。Aで示されるベンゼン環および前記ヘテロ環残基
は、非置換であってもよいし、前記アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アル
キル基、ハロゲン化アルキニル基、シクロアルキル基、
シクロアルケニル基および置換されていてもよいベンゼ
ン環またはヘテロ環残基から選択される置換基で置換さ
れていてもよい。該置換基は、該環の置換可能ないずれ
の位置で置換されていてもよい。該環が置換されている
場合、置換基は好ましくは、1〜3個であり、これらは
同一であっても異なっていてもよい。EおよびXで示さ
れるハロゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭
素およびヨウ素が挙げられる。「ハロゲン化」とは、少
なくとも1個の前記ハロゲン原子で置換されていること
を意味する。
環としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、ピラ
ジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾ
ール環、ベンゾオキサゾール環、イソオキサゾール環、
ピラゾール環、イミダゾール環、キノリン環等が挙げら
れる。Aで示されるベンゼン環および前記ヘテロ環残基
は、非置換であってもよいし、前記アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アル
キル基、ハロゲン化アルキニル基、シクロアルキル基、
シクロアルケニル基および置換されていてもよいベンゼ
ン環またはヘテロ環残基から選択される置換基で置換さ
れていてもよい。該置換基は、該環の置換可能ないずれ
の位置で置換されていてもよい。該環が置換されている
場合、置換基は好ましくは、1〜3個であり、これらは
同一であっても異なっていてもよい。EおよびXで示さ
れるハロゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭
素およびヨウ素が挙げられる。「ハロゲン化」とは、少
なくとも1個の前記ハロゲン原子で置換されていること
を意味する。
【0007】式(V)で示されるα−ケトアミドは、例
えば、反応式1:
えば、反応式1:
【化15】 [式中、Yは、SまたはO、R4はR3と同意義、他の記
号は前記と同意義]に示す経路に従い製造することがで
きる。まず、ハロゲン化物(I)に、これに対して1〜
4当量、好ましくは2〜3当量のMgを反応させてグリ
ニャール試薬を得る。用いる溶媒としては、乾燥TH
F、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル等のようなエ
ーテル系溶媒が挙げられ、これを単独で使用してもまた
はエーテル系溶媒とトルエン、トリエチルアミン等の他
の溶媒との混合溶媒として使用してもよい。反応温度は
室温〜150℃、好ましくは40〜70℃である。反応
時間は10分〜48時間、好ましくは30〜60分間で
ある。必要ならば、反応の活性化剤としてヨウ素、ジブ
ロムエタン、エチルブロミド等を少量用いてもよい。そ
の量は0.01〜1.0当量、好ましくは0.05〜0.2
当量である。式(III)の化合物への変換においてはま
ず、得られたグリニャール試薬を適当な溶媒に溶解した
オキサリル化合物(II)の溶液中に滴下する。化合物
(II)はグリニャール試薬に対して1〜3当量、好まし
くは1.0〜1.5当量使用する。滴下は−100℃〜5
0℃、好ましくは−70℃〜20℃にて、1〜60分、
好ましくは10〜30分かけて行う。ついで、−100
℃〜50℃、好ましくは−75〜20℃にて、10〜1
20分間、好ましくは30〜60分間反応させる。溶媒
としては、トルエン、ジエチルエーテル、THF等の不
活性溶媒が挙げられる。オキサリル化合物(II)として
は、オキサリルクロリド、オキサリルブロミド等が挙げ
られる。また逆に、得られたグリニャール試薬にオキサ
リル化合物(II)を溶媒で希釈せず、または適当な溶媒
で希釈して滴下し、反応させてもよい。該溶媒および反
応条件は、前記と同一とすることができる。このように
して得られた式(III)の化合物は、単離してもよい
が、分離精製することなく次工程で使用してもよい。
号は前記と同意義]に示す経路に従い製造することがで
きる。まず、ハロゲン化物(I)に、これに対して1〜
4当量、好ましくは2〜3当量のMgを反応させてグリ
ニャール試薬を得る。用いる溶媒としては、乾燥TH
F、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル等のようなエ
ーテル系溶媒が挙げられ、これを単独で使用してもまた
はエーテル系溶媒とトルエン、トリエチルアミン等の他
の溶媒との混合溶媒として使用してもよい。反応温度は
室温〜150℃、好ましくは40〜70℃である。反応
時間は10分〜48時間、好ましくは30〜60分間で
ある。必要ならば、反応の活性化剤としてヨウ素、ジブ
ロムエタン、エチルブロミド等を少量用いてもよい。そ
の量は0.01〜1.0当量、好ましくは0.05〜0.2
当量である。式(III)の化合物への変換においてはま
ず、得られたグリニャール試薬を適当な溶媒に溶解した
オキサリル化合物(II)の溶液中に滴下する。化合物
(II)はグリニャール試薬に対して1〜3当量、好まし
くは1.0〜1.5当量使用する。滴下は−100℃〜5
0℃、好ましくは−70℃〜20℃にて、1〜60分、
好ましくは10〜30分かけて行う。ついで、−100
℃〜50℃、好ましくは−75〜20℃にて、10〜1
20分間、好ましくは30〜60分間反応させる。溶媒
としては、トルエン、ジエチルエーテル、THF等の不
活性溶媒が挙げられる。オキサリル化合物(II)として
は、オキサリルクロリド、オキサリルブロミド等が挙げ
られる。また逆に、得られたグリニャール試薬にオキサ
リル化合物(II)を溶媒で希釈せず、または適当な溶媒
で希釈して滴下し、反応させてもよい。該溶媒および反
応条件は、前記と同一とすることができる。このように
して得られた式(III)の化合物は、単離してもよい
が、分離精製することなく次工程で使用してもよい。
【0008】次に、前記反応式1に示すように、アミン
(IV)を溶媒で希釈せず、または適当な溶媒で希釈して
式(III)の化合物に滴下するか気体で導入する。滴下
または導入は、−75〜50℃、好ましくは−30〜3
0℃にて、1〜60分、好ましくは5〜10分かけて行
う。アミン(IV)は(III)に対して2.0〜10当量、
好ましくは2.0〜4.0当量使用する。ついで−20〜
70℃、好ましくは0〜30℃にて、10〜120分
間、好ましくは30〜60分間反応させてα−ケトアミ
ド(V)を得る。
(IV)を溶媒で希釈せず、または適当な溶媒で希釈して
式(III)の化合物に滴下するか気体で導入する。滴下
または導入は、−75〜50℃、好ましくは−30〜3
0℃にて、1〜60分、好ましくは5〜10分かけて行
う。アミン(IV)は(III)に対して2.0〜10当量、
好ましくは2.0〜4.0当量使用する。ついで−20〜
70℃、好ましくは0〜30℃にて、10〜120分
間、好ましくは30〜60分間反応させてα−ケトアミ
ド(V)を得る。
【0009】また、α−ケトアミド(V)は前記反応式
1に示すように、化合物(VII)を経由して得ることも
できる。すなわち、まず前記のとおり得られたα−ケト
酸ハライド(III)の反応系中に、無水アルコールまた
は無水チオール(VIII)を−75〜50℃、好ましくは
−30〜30℃にて加える。ついで−50〜70℃、好
ましくは0〜30℃にて10〜120分間、好ましく
は、20〜60分間反応させて化合物(VII)を得る。
化合物(VIII)は、(III)に対して1.0〜10.0当
量、好ましくは1.0〜4.0当量使用する。ついで得ら
れた化合物(VII)から化合物(V)への変換は、化合物
(VII)に化合物(IV)を滴下、反応させることにより
行う。化合物(VII)は生成後単離することなく、また
は単離して、THF、メタノール、トルエン等の適当な
溶媒に溶解して使用できる。これに、(VII)対して1.
0〜10.0当量、好ましくは1.0〜4.0当量のアミ
ン(IV)を溶媒で希釈せず、または適当な溶媒で希釈し
て滴下するか気体で導入する。滴下または導入は−20
〜70℃、好ましくは0〜30℃にて、1〜60分、好
ましくは5〜10分かけて行う。ついで−20〜70
℃、好ましくは0〜30℃にて、10〜240分間、好
ましくは20〜60分間反応させてα−ケトアミド
(V)を得る。
1に示すように、化合物(VII)を経由して得ることも
できる。すなわち、まず前記のとおり得られたα−ケト
酸ハライド(III)の反応系中に、無水アルコールまた
は無水チオール(VIII)を−75〜50℃、好ましくは
−30〜30℃にて加える。ついで−50〜70℃、好
ましくは0〜30℃にて10〜120分間、好ましく
は、20〜60分間反応させて化合物(VII)を得る。
化合物(VIII)は、(III)に対して1.0〜10.0当
量、好ましくは1.0〜4.0当量使用する。ついで得ら
れた化合物(VII)から化合物(V)への変換は、化合物
(VII)に化合物(IV)を滴下、反応させることにより
行う。化合物(VII)は生成後単離することなく、また
は単離して、THF、メタノール、トルエン等の適当な
溶媒に溶解して使用できる。これに、(VII)対して1.
0〜10.0当量、好ましくは1.0〜4.0当量のアミ
ン(IV)を溶媒で希釈せず、または適当な溶媒で希釈し
て滴下するか気体で導入する。滴下または導入は−20
〜70℃、好ましくは0〜30℃にて、1〜60分、好
ましくは5〜10分かけて行う。ついで−20〜70
℃、好ましくは0〜30℃にて、10〜240分間、好
ましくは20〜60分間反応させてα−ケトアミド
(V)を得る。
【0010】前記反応式1により得られたα−ケトアミ
ド(V)は、通常の分離精製手段を用いて粗製または精
製した後、以下の反応式2または3に示す方法により化
合物(VI)に導くことができる。 まず、反応式2:
ド(V)は、通常の分離精製手段を用いて粗製または精
製した後、以下の反応式2または3に示す方法により化
合物(VI)に導くことができる。 まず、反応式2:
【化16】 [式中、各記号は前記と同意義]に示すように、α−ケ
トアミド(V)に、アルコキシアミン(IX)を反応させ
てアルコキシム化することにより化合物(VI)を得るこ
とができる。
トアミド(V)に、アルコキシアミン(IX)を反応させ
てアルコキシム化することにより化合物(VI)を得るこ
とができる。
【0011】また、別法として、反応式3:
【化17】 [式中、Lはハロゲン原子または-OSO2OR3を示
し、他の記号は前記と同意義]に示すように、α−ケト
アミド(V)にヒドロキシルアミン塩酸塩を反応させて
オキシム(X)を得、ついで、これにアルキル化剤(X
I)を反応させてアルキル化することにより化合物(V
I)に変換することもできる。α−ケトアミド(V)を製
造中間体として得たオキシム体(X)およびアルコキシ
イミノ体(VI)におけるE/Z比は、従来の製造経路で
あるα−ケトエステル(VII)のオキシム化により得ら
れるオキシム体のE/Z比と比較して、より活性物質で
あるE体の生成比が大きいことが判明した。
し、他の記号は前記と同意義]に示すように、α−ケト
アミド(V)にヒドロキシルアミン塩酸塩を反応させて
オキシム(X)を得、ついで、これにアルキル化剤(X
I)を反応させてアルキル化することにより化合物(V
I)に変換することもできる。α−ケトアミド(V)を製
造中間体として得たオキシム体(X)およびアルコキシ
イミノ体(VI)におけるE/Z比は、従来の製造経路で
あるα−ケトエステル(VII)のオキシム化により得ら
れるオキシム体のE/Z比と比較して、より活性物質で
あるE体の生成比が大きいことが判明した。
【0012】こうして得られた化合物(VI)はさらに、
例えば、反応式4:
例えば、反応式4:
【化18】 [式中、各記号は前記と同意義]に示すように、ベンゼ
ン環等の置換基を修飾することができる。すなわち、
(VIa)のベンゼン環のメチル基は、α,α'−アゾイソ
ブチリロニトリルの存在下、NBS、NCS等のハロゲ
ン化剤でハロゲン化してハロゲン化メチル基とし、化合
物(XII)を得ることができる。得られた化合物(XII)
と、アルコールまたはチオール(XIII)を塩基の存在下
に反応させて化合物(VIb)に変換することができる。
塩基としては、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。化
合物(XIII)としては、置換フェノール、置換チオフェ
ノール、ヒドロキシ置換ピリジン等が挙げられる。ま
た、化合物(XII)のハロゲン化メチル基は、酢酸カリ
ウムと反応させ次に加水分解することによりヒドロキシ
メチル基に変換することができる。得られた化合物(XI
V)にハロゲン化物(XV)を反応させてエーテル体(VI
b)(ここに、Yは酸素である)に変換することができ
る。(XV)としては、置換複素環式クロリド(たとえ
ば、置換クロロピリジン)、置換クロロベンゼン等が挙
げられる。このようにして得られたアルコキシイミノア
セトアミド化合物(VI)は公知の方法により殺菌剤とし
て使用することができる。
ン環等の置換基を修飾することができる。すなわち、
(VIa)のベンゼン環のメチル基は、α,α'−アゾイソ
ブチリロニトリルの存在下、NBS、NCS等のハロゲ
ン化剤でハロゲン化してハロゲン化メチル基とし、化合
物(XII)を得ることができる。得られた化合物(XII)
と、アルコールまたはチオール(XIII)を塩基の存在下
に反応させて化合物(VIb)に変換することができる。
塩基としては、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。化
合物(XIII)としては、置換フェノール、置換チオフェ
ノール、ヒドロキシ置換ピリジン等が挙げられる。ま
た、化合物(XII)のハロゲン化メチル基は、酢酸カリ
ウムと反応させ次に加水分解することによりヒドロキシ
メチル基に変換することができる。得られた化合物(XI
V)にハロゲン化物(XV)を反応させてエーテル体(VI
b)(ここに、Yは酸素である)に変換することができ
る。(XV)としては、置換複素環式クロリド(たとえ
ば、置換クロロピリジン)、置換クロロベンゼン等が挙
げられる。このようにして得られたアルコキシイミノア
セトアミド化合物(VI)は公知の方法により殺菌剤とし
て使用することができる。
【0013】
【実施例】つぎに、実施例および参考例を挙げて本発明
をさらに詳しく説明するが、本発明はこれに限定される
ものではない。 実施例1 N−メチル−2−[2−(ビフェニル−4−イルオキシメ
チル)フェニル]−2−オキソアセトアミドの製造 アルゴン気流下でマグネシウム4.86g(0.2mol)に、
乾燥THF20ミリリットルとジブロモエタン0.2ミ
リリットルを加えた溶液に1−ブロム−2−(ビフェニ
ル−4−イルオキシメチル)ベンゼン33.92g(0.1m
ol)と乾燥THF140ミリリットルの混合液を50〜
60℃で40分間にわたって滴下した。滴下後、65℃
で1時間撹拌したのち乾燥THF90ミリリットルを加
え20℃以下に冷却した。冷却後、オキサリルクロリド
15.23g(0.12mol)と乾燥THF250ミリリット
ルの混合溶液に−50℃以下で15分間にわたって滴下
したのち−75℃で1時間撹拌後、−20℃以下で40
%メチルアミンメタノール溶液46.59g(0.6mol)を
加えて室温で1時間撹拌した。反応後、水1000ミリ
リットル加え、濃塩酸でpH2以下に調整したのち酢酸
エチル600ミリリットルで抽出した。抽出液を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮後、得られた残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/n−ヘ
キサン)で精製を行い、N−メチル−2−[2−(ビフェ
ニル−4−イルオキシメチル)フェニル]−2−オキソア
セトアミド24.52g(収率71.0%)を無色結晶とし
て得た。mp144〜145℃(酢酸エチル/n−ヘキサ
ン)1 H−NMR(CDCl3)δppm:2.78(d,3H,J=5.
9Hz),5.35(s,2H)、6.96〜7.95(m,14
H).
をさらに詳しく説明するが、本発明はこれに限定される
ものではない。 実施例1 N−メチル−2−[2−(ビフェニル−4−イルオキシメ
チル)フェニル]−2−オキソアセトアミドの製造 アルゴン気流下でマグネシウム4.86g(0.2mol)に、
乾燥THF20ミリリットルとジブロモエタン0.2ミ
リリットルを加えた溶液に1−ブロム−2−(ビフェニ
ル−4−イルオキシメチル)ベンゼン33.92g(0.1m
ol)と乾燥THF140ミリリットルの混合液を50〜
60℃で40分間にわたって滴下した。滴下後、65℃
で1時間撹拌したのち乾燥THF90ミリリットルを加
え20℃以下に冷却した。冷却後、オキサリルクロリド
15.23g(0.12mol)と乾燥THF250ミリリット
ルの混合溶液に−50℃以下で15分間にわたって滴下
したのち−75℃で1時間撹拌後、−20℃以下で40
%メチルアミンメタノール溶液46.59g(0.6mol)を
加えて室温で1時間撹拌した。反応後、水1000ミリ
リットル加え、濃塩酸でpH2以下に調整したのち酢酸
エチル600ミリリットルで抽出した。抽出液を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮後、得られた残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/n−ヘ
キサン)で精製を行い、N−メチル−2−[2−(ビフェ
ニル−4−イルオキシメチル)フェニル]−2−オキソア
セトアミド24.52g(収率71.0%)を無色結晶とし
て得た。mp144〜145℃(酢酸エチル/n−ヘキサ
ン)1 H−NMR(CDCl3)δppm:2.78(d,3H,J=5.
9Hz),5.35(s,2H)、6.96〜7.95(m,14
H).
【0014】下式の化合物(V)も前記と同様にして製造
した。
した。
【化19】 [式中、R1は水素原子、R2はメチル基を示し、他の記
号は前記と同意義] A Z 収率(%) mp(℃) 1 H−NMR(CDCl 3 )δppm H CH2 64.1 油状物 2.49(s,3H),2.98(d,3H,J=5.9Hz), 7.06(br,1H),7.26-7.95(m,4H), Ph* O 78.0 94-95 2.87(d,3H,J=4.9Hz),6.63(br,1H), 6.86-7.78(m,9H), 2.5-Me2Ph OCH2 69.9 129-130 2.16(s,3H),2.31(s,3H),2.80 (d,3H,J=4.9Hz),5.29(s,2H), 6.69-7.99(m,8H). 3-BzlOPh O 49.3 油状物 2.87(d,3H,J=4.9Hz),5.03(s,2H), 6.64-7.78(m,13H). * 原料にクロル体を使用
号は前記と同意義] A Z 収率(%) mp(℃) 1 H−NMR(CDCl 3 )δppm H CH2 64.1 油状物 2.49(s,3H),2.98(d,3H,J=5.9Hz), 7.06(br,1H),7.26-7.95(m,4H), Ph* O 78.0 94-95 2.87(d,3H,J=4.9Hz),6.63(br,1H), 6.86-7.78(m,9H), 2.5-Me2Ph OCH2 69.9 129-130 2.16(s,3H),2.31(s,3H),2.80 (d,3H,J=4.9Hz),5.29(s,2H), 6.69-7.99(m,8H). 3-BzlOPh O 49.3 油状物 2.87(d,3H,J=4.9Hz),5.03(s,2H), 6.64-7.78(m,13H). * 原料にクロル体を使用
【0015】実施例2 N−メチル−2−(2−フェノキシフェニル)−2−オ
キソアセトアミドの製造 窒素気流下でマグネシウム1.34g(0.055mol)
に乾燥THF15ミリリットルと臭化エチル0.19ミ
リリットルを加えた溶液に2−クロロジフェニルエーテ
ル10.23g(0.05mol)と乾燥THF20ミリリ
ットルの混合液を還流しながら30分間にわたって滴下
した。滴下後、6時間還流した後、乾燥THF15ミリ
リットルを加え20℃以下に冷却した。冷却後、オキサ
リルクロリド7.62g(0.06mol)と乾燥THF1
00ミリリットルの混合溶液に−10〜0℃で15分間
にわたって滴下したのち、−10〜0℃で撹拌後、メチ
ルアミンガスを導入し、導入後、室温で15分間撹拌し
た。反応後、1N塩酸100ミリリットルを加えトルエ
ン300ミリリットルで抽出した。抽出液を水、飽和食
塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下で濃縮後、得られた残渣を酢酸エチル−ヘキサンよ
り再結晶し、N−メチル−2−(2−フェノキシフェニ
ル)−2−オキソアセトアミド8.07gを無色結晶と
して得た。さらに母液をシリカゲルクロマトグラフィー
(酢酸エチル−ヘキサン)で精製し、目的物1.42g
を得た。合計収量9.49g(収率74%)
キソアセトアミドの製造 窒素気流下でマグネシウム1.34g(0.055mol)
に乾燥THF15ミリリットルと臭化エチル0.19ミ
リリットルを加えた溶液に2−クロロジフェニルエーテ
ル10.23g(0.05mol)と乾燥THF20ミリリ
ットルの混合液を還流しながら30分間にわたって滴下
した。滴下後、6時間還流した後、乾燥THF15ミリ
リットルを加え20℃以下に冷却した。冷却後、オキサ
リルクロリド7.62g(0.06mol)と乾燥THF1
00ミリリットルの混合溶液に−10〜0℃で15分間
にわたって滴下したのち、−10〜0℃で撹拌後、メチ
ルアミンガスを導入し、導入後、室温で15分間撹拌し
た。反応後、1N塩酸100ミリリットルを加えトルエ
ン300ミリリットルで抽出した。抽出液を水、飽和食
塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下で濃縮後、得られた残渣を酢酸エチル−ヘキサンよ
り再結晶し、N−メチル−2−(2−フェノキシフェニ
ル)−2−オキソアセトアミド8.07gを無色結晶と
して得た。さらに母液をシリカゲルクロマトグラフィー
(酢酸エチル−ヘキサン)で精製し、目的物1.42g
を得た。合計収量9.49g(収率74%)
【0016】実施例3 2−(2−メチルフェニル)グリオキシロイルクロリド
の製造 アルゴン気流下でマグネシウム2.43g(0.1mol)
に乾燥THF10ミリリットルとジブロモエタン0.1
ミリリットルを加えた溶液に2−ブロモトルエン8.5
5g(0.05mol)と乾燥THF60ミリリットルの混
合液を50〜60℃で13分間にわたって滴下した。滴
下後、60〜65℃で1時間撹拌したのち乾燥THF3
0ミリリットルを加え20℃以下に冷却した。冷却後、
オキサリルクロリド7.62g(0.06mol)と乾燥エ
ーテル150ミリリットルの混合溶液に−50℃以下で
8分間にわたって滴下したのち−75℃で1時間撹拌
後、室温でアルゴン気流下濾過し、濾液を室温で減圧濃
縮した。析出結晶を再びアルゴン気流下で濾別し、乾燥
エーテルで洗浄した。濾液と洗液を合わせて室温で減圧
留去し、粗製の2−(2−メチルフェニル)グリオキシ
ロイルクロリド8.75g(収率95.8%)を淡褐色油
状物として得た。 IRν max (neat):1795、1696cm-1
の製造 アルゴン気流下でマグネシウム2.43g(0.1mol)
に乾燥THF10ミリリットルとジブロモエタン0.1
ミリリットルを加えた溶液に2−ブロモトルエン8.5
5g(0.05mol)と乾燥THF60ミリリットルの混
合液を50〜60℃で13分間にわたって滴下した。滴
下後、60〜65℃で1時間撹拌したのち乾燥THF3
0ミリリットルを加え20℃以下に冷却した。冷却後、
オキサリルクロリド7.62g(0.06mol)と乾燥エ
ーテル150ミリリットルの混合溶液に−50℃以下で
8分間にわたって滴下したのち−75℃で1時間撹拌
後、室温でアルゴン気流下濾過し、濾液を室温で減圧濃
縮した。析出結晶を再びアルゴン気流下で濾別し、乾燥
エーテルで洗浄した。濾液と洗液を合わせて室温で減圧
留去し、粗製の2−(2−メチルフェニル)グリオキシ
ロイルクロリド8.75g(収率95.8%)を淡褐色油
状物として得た。 IRν max (neat):1795、1696cm-1
【0017】下式の化合物も前記と同様にして製造し
た。
た。
【化20】 [式中、各記号は前記と同意義] A Z 収率(%) IRνmax(neat) ───────────────────────────── Ph O 99.7 1780,1680 2,5-Me2Ph OCH2 99.0 1770,1680 4-Ph-Ph OCH2 99.8 1770,1695 ─────────────────────────────
【0018】実施例4 N-メチル-2-(2-メチルフェニル)-2-オキソアセトア
ミドの製造 粗製の2-(2-メチルフェニル)グリオキシロイルクロリ
ド0.91g(5mmol)を乾燥THF10ミリリットル
に溶解し、−10℃以下で40%メチルアミンメタノー
ル溶液1.55g(20mmol)を加えて室温で1時間撹
拌した。反応後、水100ミリリットルを加え、濃塩酸
でpH2以下に調整した後、酢酸エチル100ミリリッ
トルで抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下で濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー(酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製を行
い、N−メチル−2−(2−メチルフェニル)−2−オ
キソアセトアミド0.45g(収率50.8%)を無色油
状物として得た。1 H-NMR(CDCl3)δ ppm:2.49(s,3
H),2.98(d,3H,J=5.9Hz),7.06
(br,1H),7.26〜7.95(m,4H)
ミドの製造 粗製の2-(2-メチルフェニル)グリオキシロイルクロリ
ド0.91g(5mmol)を乾燥THF10ミリリットル
に溶解し、−10℃以下で40%メチルアミンメタノー
ル溶液1.55g(20mmol)を加えて室温で1時間撹
拌した。反応後、水100ミリリットルを加え、濃塩酸
でpH2以下に調整した後、酢酸エチル100ミリリッ
トルで抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下で濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー(酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製を行
い、N−メチル−2−(2−メチルフェニル)−2−オ
キソアセトアミド0.45g(収率50.8%)を無色油
状物として得た。1 H-NMR(CDCl3)δ ppm:2.49(s,3
H),2.98(d,3H,J=5.9Hz),7.06
(br,1H),7.26〜7.95(m,4H)
【0019】参考例1 N−メチル−2−(2−メチルフェニル)−2−ヒドロキ
シイミノアセトアミドの製造 N−メチル−2−(2−メチルフェニル)−2−オキソア
セトアミド5.31g(0.03mol)にメタノール30ミリ
リットルと塩酸ヒドロキシルアミン4.17g(0.06mo
l)を加え、5時間加熱還流した。反応後、水150ミリ
リットルを加え塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。乾燥後、減圧下で濃縮し、得られた
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/n−
ヘキサン)で精製を行い、N−メチル−2−(2−メチル
フェニル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミドのE体
4.79g(収率83.1%)とZ体0.50g(収率8.7%)
を無色結晶として得た。 E体 mp 160〜161℃(酢酸エチル/n−ヘキサン) 1H−NMR(CDCl3)δppm:2.22(s,3H),2.93(d,3H,J= 4.9Hz),6.69(br,1H),7.11〜7.36 (m,4H). Z体 mp 166〜171℃(酢酸エチル/n−ヘキサン), 1H−NMR(CDCl3)δppm:2.30(s,3H),2.86(d,3H,J= 4.9Hz),5.69(br,1H),7.26〜7.40 (m,4H).
シイミノアセトアミドの製造 N−メチル−2−(2−メチルフェニル)−2−オキソア
セトアミド5.31g(0.03mol)にメタノール30ミリ
リットルと塩酸ヒドロキシルアミン4.17g(0.06mo
l)を加え、5時間加熱還流した。反応後、水150ミリ
リットルを加え塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。乾燥後、減圧下で濃縮し、得られた
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/n−
ヘキサン)で精製を行い、N−メチル−2−(2−メチル
フェニル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミドのE体
4.79g(収率83.1%)とZ体0.50g(収率8.7%)
を無色結晶として得た。 E体 mp 160〜161℃(酢酸エチル/n−ヘキサン) 1H−NMR(CDCl3)δppm:2.22(s,3H),2.93(d,3H,J= 4.9Hz),6.69(br,1H),7.11〜7.36 (m,4H). Z体 mp 166〜171℃(酢酸エチル/n−ヘキサン), 1H−NMR(CDCl3)δppm:2.30(s,3H),2.86(d,3H,J= 4.9Hz),5.69(br,1H),7.26〜7.40 (m,4H).
【0020】下式の化合物(X)も前記と同様にして製
造した。
造した。
【化21】 [式中、R1は水素原子、R2はメチル基を示し、他の記
号は前記と同意義] A Z 溶媒 収率(%) mp(℃) 1 H-NMR(CDCl 3 )δppm 2.5-Me2Ph OCH2 EtOH E 73.4 154-155.5 2.17(s,3H),2.29(s,3H),2.86 (d,3H,J=4.9Hz),4.96(s,2H), 6.64-7.61(m,8H). Z 26.0 139-141 2.15(s,3H),2.31(s,3H), 2.77(d,3H,J=4.9Hz),5.06(s,2H) 5.79(br,1H),6.69-7.68(m,7H) 4-Ph-Ph OCH2 EtOH E 73.4 162-163 2.90(d,3H,J=4.9Hz),5.03(s,2H) 6.65(br,1H),6.95-7.58(m,13H) Z 25.5 173-179 2.81(d,3H,J=4.9Hz),5.13(s,2H) 5.84(br,1H),6.95-7.63(m,13H). Ph O MeOH E 97.8 183-184.5 2.84(d,3H,J=4.9Hz),6.77(br,1H) 6.88-7.37(m,9H).
号は前記と同意義] A Z 溶媒 収率(%) mp(℃) 1 H-NMR(CDCl 3 )δppm 2.5-Me2Ph OCH2 EtOH E 73.4 154-155.5 2.17(s,3H),2.29(s,3H),2.86 (d,3H,J=4.9Hz),4.96(s,2H), 6.64-7.61(m,8H). Z 26.0 139-141 2.15(s,3H),2.31(s,3H), 2.77(d,3H,J=4.9Hz),5.06(s,2H) 5.79(br,1H),6.69-7.68(m,7H) 4-Ph-Ph OCH2 EtOH E 73.4 162-163 2.90(d,3H,J=4.9Hz),5.03(s,2H) 6.65(br,1H),6.95-7.58(m,13H) Z 25.5 173-179 2.81(d,3H,J=4.9Hz),5.13(s,2H) 5.84(br,1H),6.95-7.63(m,13H). Ph O MeOH E 97.8 183-184.5 2.84(d,3H,J=4.9Hz),6.77(br,1H) 6.88-7.37(m,9H).
【0021】参考例2 (E)−2−[2−(ビフェニル−4−イルオキシメチル)
フェニル]−2−メトキシイミノ−N−メチルアセトア
ミドの製造 (E)−2−[2−(ビフェニル−4−イルオキシメチル)
フェニル]−2−ヒドロキシイミノ−N−メチルアセト
アミド9.73g(0.027mol)に、乾燥アセトン100
ミリリットル、炭酸カリウム11.20g(0.081mol)
とジメチル硫酸6.81g(0.054mol)を加えて室温で
一夜撹拌した。撹拌後、不溶物を除去し、減圧下で濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢
酸エチル/n−ヘキサン)で精製を行い、(E)−2−[2
−(ビフェニル−4−イルオキシメチル)フェニル]−2
−メトキシイミノ−N−メチルアセトアミド9.85g
(収率97.4%)を無色結晶として得た。 mp 135.5〜137℃(酢酸エチル/n−ヘキサン)、1 H-NMR(CDCl3)δppm:2.90(d,3H,J=5.9
Hz),3.94(s,3H),4.99(s,2H),6.71(br,1
H),6.94〜7.55(m,13H)
フェニル]−2−メトキシイミノ−N−メチルアセトア
ミドの製造 (E)−2−[2−(ビフェニル−4−イルオキシメチル)
フェニル]−2−ヒドロキシイミノ−N−メチルアセト
アミド9.73g(0.027mol)に、乾燥アセトン100
ミリリットル、炭酸カリウム11.20g(0.081mol)
とジメチル硫酸6.81g(0.054mol)を加えて室温で
一夜撹拌した。撹拌後、不溶物を除去し、減圧下で濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢
酸エチル/n−ヘキサン)で精製を行い、(E)−2−[2
−(ビフェニル−4−イルオキシメチル)フェニル]−2
−メトキシイミノ−N−メチルアセトアミド9.85g
(収率97.4%)を無色結晶として得た。 mp 135.5〜137℃(酢酸エチル/n−ヘキサン)、1 H-NMR(CDCl3)δppm:2.90(d,3H,J=5.9
Hz),3.94(s,3H),4.99(s,2H),6.71(br,1
H),6.94〜7.55(m,13H)
【0022】下式の化合物も前記と同様にして製造し
た。
た。
【化22】 [式中、R1は水素原子、R2およびR3は共にメチル基
を示し、他の記号は前記と同意義] A Z 収率(%) mp(℃) 1 H−NMR(CDCl 3 )δppm H CH2 97.0 85.5-86.5 2.18(s,3H),2.93(d,3H,J=5.9Hz), 3.96(s,3H),6.76(br,1H), 7.08-7.29(m,4H). 2.5-Me2Ph OCH2 93.7 136-137 2.18(s,3H),2.29(s,3H), 2.88(d,3H,J=4.9Hz),3.95(s,3H), 4.92(s,2H),6.62-7.57(m,8H). Ph O 94.7 83-84 2.87(d,3H,J=4.9Hz),3.91(s,3H), 6.63(br,1H),6.88-7.36(m,9H).
を示し、他の記号は前記と同意義] A Z 収率(%) mp(℃) 1 H−NMR(CDCl 3 )δppm H CH2 97.0 85.5-86.5 2.18(s,3H),2.93(d,3H,J=5.9Hz), 3.96(s,3H),6.76(br,1H), 7.08-7.29(m,4H). 2.5-Me2Ph OCH2 93.7 136-137 2.18(s,3H),2.29(s,3H), 2.88(d,3H,J=4.9Hz),3.95(s,3H), 4.92(s,2H),6.62-7.57(m,8H). Ph O 94.7 83-84 2.87(d,3H,J=4.9Hz),3.91(s,3H), 6.63(br,1H),6.88-7.36(m,9H).
【0023】参考例3 2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシ)メチルフェニ
ル]−2−メトキシイミノ−N−メチルアセトアミドの
製造 2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシ)メチルフェニ
ル]−N−メチル−2−オキソアセトアミド0.27g
(0.9mmol)にメタノール2.0ミリリットルと塩酸メト
キシルアミン0.15g(1.8mmol)を加えて4時間加熱
還流した。反応後、水100ミリリットルを加え、塩化
メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
乾燥後、減圧下で濃縮し、得られた残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー(酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製を
行い、2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシ)メチルフ
ェニル]−2−メトキシイミノ−N−メチルアセトアミ
ド0.28g(収率98.9%)をE/Z体の混合物として
得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:3.95(s,1.5H),4.
01(s,1.5H),4.92(s,1H),5.17(s,1H).
ル]−2−メトキシイミノ−N−メチルアセトアミドの
製造 2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシ)メチルフェニ
ル]−N−メチル−2−オキソアセトアミド0.27g
(0.9mmol)にメタノール2.0ミリリットルと塩酸メト
キシルアミン0.15g(1.8mmol)を加えて4時間加熱
還流した。反応後、水100ミリリットルを加え、塩化
メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
乾燥後、減圧下で濃縮し、得られた残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー(酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製を
行い、2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシ)メチルフ
ェニル]−2−メトキシイミノ−N−メチルアセトアミ
ド0.28g(収率98.9%)をE/Z体の混合物として
得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:3.95(s,1.5H),4.
01(s,1.5H),4.92(s,1H),5.17(s,1H).
【0024】参考例4 (E)−2−(2−ブロモメチルフェニル)−2−メトキシ
イミノ−N−メチルアセトアミドの製造 (E)−2−メトキシイミノ−2−(2−メチルフェニル)
−N−メチルアセトアミド2.66g(0.01mol)に四塩
化炭素20ミリリットル、NBS1.96g(0.011mo
l)とα,α'−アゾイソブチリロニトリル0.16g(0.0
01mol)を加えて1時間加熱還流した。反応後、不溶物
を除去し、減圧下で濃縮し、得られた残渣をシリカゲル
クロマトグラフィー(酢酸エチル/トルエン)で精製を行
い、(E)−2−(2−ブロモメチルフェニル)−2−メト
キシイミノ−N−メチルアセトアミド1.08g(収率3
7.7%)を油状物として得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:2.93(d,3H,J=4.
9Hz),3.99(s,3H),4.36(s,2H),6.81(br,
1H),7.15〜7.50(m,4H).
イミノ−N−メチルアセトアミドの製造 (E)−2−メトキシイミノ−2−(2−メチルフェニル)
−N−メチルアセトアミド2.66g(0.01mol)に四塩
化炭素20ミリリットル、NBS1.96g(0.011mo
l)とα,α'−アゾイソブチリロニトリル0.16g(0.0
01mol)を加えて1時間加熱還流した。反応後、不溶物
を除去し、減圧下で濃縮し、得られた残渣をシリカゲル
クロマトグラフィー(酢酸エチル/トルエン)で精製を行
い、(E)−2−(2−ブロモメチルフェニル)−2−メト
キシイミノ−N−メチルアセトアミド1.08g(収率3
7.7%)を油状物として得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:2.93(d,3H,J=4.
9Hz),3.99(s,3H),4.36(s,2H),6.81(br,
1H),7.15〜7.50(m,4H).
【0025】参考例5 (E)−2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシ)メチルフ
ェニル]−2−メトキシイミノ−N−メチルアセトアミ
ドの製造 (E)−2−(2−ブロモメチルフェニル)−2−メトキシ
イミノ−N−メチルアセトアミド0.72g(2.5mmol)
に乾燥DMF5.0ミリリットル、2,5−ジメチルフェ
ノール0.46g(3.75mmol)と炭酸カリウム0.69g
(5.0mmol)を加え室温で4時間撹拌した。撹拌後、水
100ミリリットルを加え、酢酸エチル100ミリリッ
トルで抽出し、水100ミリリットルで水洗したのち無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、減圧下で濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢
酸エチル/n−ヘキサン)で精製を行い、(E)−2−[2
−(2,5−ジメチルフェノキシ)メチルフェニル]−2−
メトキシイミノ−N−メチルアセトアミド0.57g(収
率69.8%)を無色結晶として得た。
ェニル]−2−メトキシイミノ−N−メチルアセトアミ
ドの製造 (E)−2−(2−ブロモメチルフェニル)−2−メトキシ
イミノ−N−メチルアセトアミド0.72g(2.5mmol)
に乾燥DMF5.0ミリリットル、2,5−ジメチルフェ
ノール0.46g(3.75mmol)と炭酸カリウム0.69g
(5.0mmol)を加え室温で4時間撹拌した。撹拌後、水
100ミリリットルを加え、酢酸エチル100ミリリッ
トルで抽出し、水100ミリリットルで水洗したのち無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、減圧下で濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢
酸エチル/n−ヘキサン)で精製を行い、(E)−2−[2
−(2,5−ジメチルフェノキシ)メチルフェニル]−2−
メトキシイミノ−N−メチルアセトアミド0.57g(収
率69.8%)を無色結晶として得た。
【0026】参考例6 2−[2−(ビフェニル−4−イルオキシメチル)フェニ
ル]−2−オキソ酢酸メチルの製造 アルゴン気流下でマグネシウム2.43g(0.1mol)に、
乾燥THF10ミリリットルとジブロムエタン0.1ミ
リリットルを加えた溶液に1−ブロム−2−(ビフェニ
ル−4−イルオキシメチル)ベンゼン16.96g(0.0
5mol)と乾燥THF70ミリリットルの混合液を50〜
60℃で20分間にわたって滴下した。滴下後、65℃
で1時間撹拌したのち乾燥THF20ミリリットルを加
え20℃以下に冷却した。冷却後、オキサリルクロリド
7.61g(0.06mol)と乾燥THF150ミリリットル
の混合溶液に−50℃以下で15分間にわたって滴加し
たのち−75℃で1時間撹拌後、−50℃以下で無水メ
タノール12.82g(0.4mol)加えて室温で1時間撹拌
した。反応後、塩化アンモニウム水溶液500ミリリッ
トル加え、エーテル400ミリリットルで抽出した。抽
出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮
後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢
酸エチル/トルエン)で精製を行い、2−[2−(ビフェ
ニル−4−イルオキシメチル)フェニル]−2−オキソ酢
酸メチル11.79g(収率68.1%)を淡黄色結晶とし
て得た。 mp 106〜107℃ 1H−NMR(CDCl3)δppm:
3.86(s,3H),5.45(s,2H),7.03−7.83
(m,13H)
ル]−2−オキソ酢酸メチルの製造 アルゴン気流下でマグネシウム2.43g(0.1mol)に、
乾燥THF10ミリリットルとジブロムエタン0.1ミ
リリットルを加えた溶液に1−ブロム−2−(ビフェニ
ル−4−イルオキシメチル)ベンゼン16.96g(0.0
5mol)と乾燥THF70ミリリットルの混合液を50〜
60℃で20分間にわたって滴下した。滴下後、65℃
で1時間撹拌したのち乾燥THF20ミリリットルを加
え20℃以下に冷却した。冷却後、オキサリルクロリド
7.61g(0.06mol)と乾燥THF150ミリリットル
の混合溶液に−50℃以下で15分間にわたって滴加し
たのち−75℃で1時間撹拌後、−50℃以下で無水メ
タノール12.82g(0.4mol)加えて室温で1時間撹拌
した。反応後、塩化アンモニウム水溶液500ミリリッ
トル加え、エーテル400ミリリットルで抽出した。抽
出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮
後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢
酸エチル/トルエン)で精製を行い、2−[2−(ビフェ
ニル−4−イルオキシメチル)フェニル]−2−オキソ酢
酸メチル11.79g(収率68.1%)を淡黄色結晶とし
て得た。 mp 106〜107℃ 1H−NMR(CDCl3)δppm:
3.86(s,3H),5.45(s,2H),7.03−7.83
(m,13H)
【0027】参考例7 N−メチル−2−[2−(ビフェニル−4−イルオキシメ
チル)フェニル]−2−オキソアセトアミドの製造 2−[2−(ビフェニル−4−イルオキシメチル)フェニ
ル]−2−オキソ酢酸メチル3.46g(0.01mol)に、
無水メタノール10ミリリットル、乾燥THF10ミリ
リットルと40%メチルアミンメタノール溶液2.33g
(0.03mol)加えて室温で2時間撹拌した。反応後、水
150ミリリットル加え、濃塩酸でpH2以下に調整し
たのち酢酸エチル150ミリリットルで抽出した。抽出
液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮後、
得られた結晶3.42g(収率99.1%)を酢酸エチル/n
−ヘキサンで再結晶して、N−メチル−2−[2−(ビフ
ェニル−4−イルオキシメチル)フェニル]−2−オキソ
アセトアミド2.83g(mp144〜145℃)を無水結晶
として得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:2.78(d,3H,J=5.
9Hz),5.35(s,2H),6.96〜7.95(m,14H).
チル)フェニル]−2−オキソアセトアミドの製造 2−[2−(ビフェニル−4−イルオキシメチル)フェニ
ル]−2−オキソ酢酸メチル3.46g(0.01mol)に、
無水メタノール10ミリリットル、乾燥THF10ミリ
リットルと40%メチルアミンメタノール溶液2.33g
(0.03mol)加えて室温で2時間撹拌した。反応後、水
150ミリリットル加え、濃塩酸でpH2以下に調整し
たのち酢酸エチル150ミリリットルで抽出した。抽出
液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮後、
得られた結晶3.42g(収率99.1%)を酢酸エチル/n
−ヘキサンで再結晶して、N−メチル−2−[2−(ビフ
ェニル−4−イルオキシメチル)フェニル]−2−オキソ
アセトアミド2.83g(mp144〜145℃)を無水結晶
として得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:2.78(d,3H,J=5.
9Hz),5.35(s,2H),6.96〜7.95(m,14H).
【0028】
【発明の効果】本発明によれば、殺菌剤として有用な種
々のアルコキシイミノアセトアミド化合物の共通の製造
用中間体として有用性の高いα−ケトアミド(V)を容
易に得ることができる。
々のアルコキシイミノアセトアミド化合物の共通の製造
用中間体として有用性の高いα−ケトアミド(V)を容
易に得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07C 319/12 C07C 319/12 319/20 319/20 323/62 323/62 C07D 215/12 C07D 215/12 215/20 215/20 215/36 215/36 239/26 239/26 239/34 239/34 239/38 239/38 239/42 239/42 261/08 261/08 261/10 261/10 261/12 261/12 261/14 261/14 263/32 263/32 263/36 263/36 263/46 263/46 263/48 263/48 263/56 263/56 263/58 263/58 277/62 277/62 303/38 303/38 413/04 413/04 // C07C 51/58 C07C 51/58 (56)参考文献 特開 平5−279353(JP,A) 特開 平4−77462(JP,A) 特開 昭61−143344(JP,A) 欧州特許出願公開398692(EP,A 2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 59/84 C07C 59/88 C07C 59/90 C07C 231/02 C07C 235/72 - 235/78 C07C 51/58 CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(III): 【化1】 [式中、Aは、水素、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロ
ゲン化アルケニル基、ハロゲン化アルキニル基、シクロ
アルキル基、シクロアルケニル基、または、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ハロ
ゲン化アルキル基、ハロゲン化アルキニル基、シクロア
ルキル基、シクロアルケニル基およびこれらの基により
置換されていてもよいベンゼン環またはヘテロ環残基か
ら選択される置換基で置換されていてもよいベンゼン環
もしくはヘテロ環残基、Zは、-CH2-、-O-、-S-、-
CH(OH)-、-CO-、-NR-(ここに、Rは水素原子
またはアルキル基である)、-CH2CH2-、-CH=CH
-、-CH2O-、-CH2S-、-CH2S(O)-、-OCH
2-、-SCH2-、-S(O)CH2-またはエポキシ、Eは、
ハロゲン原子を示す]で表されるα−ケト酸ハライドを
一般式(IV): HNR1R2 (IV) [式中、R1およびR2は、同一または異なって、水素原
子、アルキル基またはシクロアルキル基を示す]で表さ
れるアミンと反応させることを特徴とする一般式(V): 【化2】 [式中、R1、R2、AおよびZは前記と同意義]で表さ
れるα−ケトアミドの製造法。 - 【請求項2】 一般式(I): 【化3】 [式中、Xはハロゲン原子を示し、Aは、水素、アルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ハ
ロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルケニル基、ハロゲ
ン化アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニ
ル基、または、アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化
アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基
およびこれらの基により置換されていてもよいベンゼン
環またはヘテロ環残基から選択される置換基で置換され
ていてもよいベンゼン環もしくはヘテロ環残基、Zは 、 -
CH 2 -、-O-、-S-、-CH(OH)-、-CO-、-NR-
(ここに、Rは水素原子またはアルキル基である)、-C
H 2 CH 2 -、-CH=CH-、-CH 2 O-、-CH 2 S-、-C
H 2 S(O)-、-OCH 2 -、-SCH 2 -、-S(O)CH 2 -ま
たはエポキシを示す]で表されるハロゲン化物とMgと
を反応させてグリニャール試薬を得、これと一般式(I
I): (COE)2 (II) [式中、Eはハロゲン原子を示す]で表されるオキサリ
ル化合物とを反応させて一般式(III): 【化4】 [式中、A、EおよびZは、前記と同意義]で表される
α−ケト酸ハライドを得、これと一般式(IV): HNR1R2 (IV) [式中、R 1 およびR 2 は、同一または異なって、水素原
子、アルキル基またはシクロアルキル基を示す]で表さ
れるアミンとを反応させることを特徴とする一般式
(V): 【化5】 [式中、R1、R2、AおよびZは前記と同意義]で表さ
れるα−ケトアミドの製造法。 - 【請求項3】 一般式(III'): 【化6】 [式中、Aは、水素、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロ
ゲン化アルケニル基、ハロゲン化アルキニル基、シクロ
アルキル基、シクロアルケニル基、または、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ハロ
ゲン化アルキル基、ハロゲン化アルキニル基、シクロア
ルキル基、シクロアルケニル基およびこれらの基により
置換されていてもよいベンゼン環またはヘテロ環残基か
ら選択される置換基で置換されていてもよいベンゼン環
もしくはヘテロ環残基、Zは 、 -CH 2 -、-O-、-S-、-
CH(OH)-、-CO-、-NR-(ここに、Rは水素原子
またはアルキル基である)、-CH 2 CH 2 -、-CH=CH
-、-CH 2 O-、-CH 2 S-、-CH 2 S(O)-、-OCH
2 -、-SCH 2 -、-S(O)CH 2 -またはエポキシを示す]
で表されるα−ケト酸ハライド。
Priority Applications (10)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03257513A JP3121061B2 (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | アルコキシイミノアセトアミド類製造用中間体の製造法およびそれに用いる中間体 |
| DK92308905.6T DK0535928T3 (da) | 1991-10-04 | 1992-09-30 | Fremgangsmåde til fremstilling af mellemprodukter til anvendelse i fremstilling af alkoxyiminoacetamider |
| EP92308905A EP0535928B1 (en) | 1991-10-04 | 1992-09-30 | Process for producing intermediates for use in production of alkoxyiminoacetamides |
| US07/953,884 US5387714A (en) | 1991-10-04 | 1992-09-30 | Process of producing intermediates for use in production of alkoxyiminoacetamides and intermediates to be used therein |
| ES92308905T ES2089416T3 (es) | 1991-10-04 | 1992-09-30 | Procedimiento de produccion de intermedios para uso en la produccion de alcoxiiminoacetamidas. |
| AT92308905T ATE137493T1 (de) | 1991-10-04 | 1992-09-30 | Verfahren zur herstellung von zwischenprodukten zur verwendung in der herstellung von alkoxyiminoacetamide |
| DE69210347T DE69210347T2 (de) | 1991-10-04 | 1992-09-30 | Verfahren zur Herstellung von Zwischenprodukten zur Verwendung in der Herstellung von Alkoxyiminoacetamide |
| US08/339,254 US5502252A (en) | 1991-10-04 | 1994-11-10 | Process of producing intermediates for use in production of alkoxyiminoacetamides and intermediates to be used therein |
| US08/578,029 US5693859A (en) | 1991-10-04 | 1995-12-26 | Process of producing intermediates for use in production of alkoxyiminoacetamides and intermediates to be used therein |
| GR960400957T GR3019814T3 (en) | 1991-10-04 | 1996-05-02 | Process for producing intermediates for use in production of alkoxyiminoacetamides |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03257513A JP3121061B2 (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | アルコキシイミノアセトアミド類製造用中間体の製造法およびそれに用いる中間体 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|---|---|
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| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0535928B1 (ja) |
| JP (1) | JP3121061B2 (ja) |
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| JP3121061B2 (ja) * | 1991-10-04 | 2000-12-25 | 塩野義製薬株式会社 | アルコキシイミノアセトアミド類製造用中間体の製造法およびそれに用いる中間体 |
| DE4207607C1 (ja) * | 1992-03-10 | 1993-09-23 | Otto Junker Gmbh, 52152 Simmerath, De | |
| KR100329887B1 (ko) | 1992-11-02 | 2002-11-02 | 시오노기세이야쿠가부시키가이샤 | (e)-알콕시이미노-및하이드록시이미노-아세트아미드화합물의제조방법 및 그의 제조용중간체 |
| DE4311627B4 (de) * | 1993-04-08 | 2005-08-25 | Robert Bosch Gmbh | Kraftstoffeinspritzeinrichtung für Brennkraftmaschinen |
| DE4318917A1 (de) * | 1993-06-07 | 1994-12-08 | Bayer Ag | 2-Oximino-2-phenyl-acetamide |
| AU1280095A (en) * | 1993-12-27 | 1995-07-17 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Bactericidal composition |
| EP0781764B1 (en) * | 1994-09-06 | 2000-04-05 | SHIONOGI & CO., LTD. | Process for producing alkoxyiminoacetamide derivative |
| AU4314596A (en) * | 1994-12-26 | 1996-07-19 | Shionogi & Co., Ltd. | Process for producing 2-(2-hydroxymethylphenyl)acetamide derivative and intermediate for the production thereof |
| JPH093031A (ja) * | 1995-04-17 | 1997-01-07 | Mitsubishi Chem Corp | ヒドロキサム酸誘導体並びにそれを含有する農園芸用殺菌剤 |
| DE69517160T2 (de) * | 1995-06-06 | 2000-11-16 | Agfa-Gevaert N.V., Mortsel | Photographische Materialien |
| CZ163098A3 (cs) * | 1995-11-29 | 1998-08-12 | Novartis Ag | Způsob přípravy derivátů methoxyiminofenylglyoxylové kyseliny |
| DE19645313A1 (de) | 1996-11-04 | 1998-05-07 | Basf Ag | Substituierte 3-Benzylpyrazole |
| AU730346B2 (en) * | 1997-07-03 | 2001-03-08 | Dow Agrosciences Llc | Benzyloxy substituted aromatics and their use as fungicides and insecticides |
| DE19956920A1 (de) * | 1999-11-26 | 2001-05-31 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von 2-(2-Hydrodyphenyl)-2-(alkoxyimino)-N-methyl-acetamid-Derivaten |
| DE10132687A1 (de) * | 2001-07-05 | 2003-01-16 | Bayer Cropscience Ag | Pyrazolylbenzylthioether |
| WO2003062192A1 (en) | 2002-01-17 | 2003-07-31 | Smithkline Beecham Corporation | Cycloalkyl ketoamides derivatives useful as cathepsin k inhibitors |
| US8115029B2 (en) * | 2006-11-02 | 2012-02-14 | University Of Kansas | Cobalt-catalyzed oxidations in volumetrically expanded liquids by compressed gases |
| GB0911000D0 (en) | 2009-06-25 | 2009-08-12 | Givaudan Sa | Compounds |
| EP2545964A1 (en) | 2011-07-13 | 2013-01-16 | Phenex Pharmaceuticals AG | Novel FXR (NR1H4) binding and activity modulating compounds |
| CN105076157A (zh) * | 2012-09-19 | 2015-11-25 | 陕西美邦农药有限公司 | 一种含醚菌胺与三唑类的杀菌组合物 |
| CN104529818A (zh) * | 2014-12-16 | 2015-04-22 | 江苏耕耘化学有限公司 | 制备(e)-2-(2-取代苯基)-2-甲氧亚胺基乙酸衍生物的方法 |
| CN104610091B (zh) * | 2015-02-05 | 2016-09-21 | 北京颖泰嘉和生物科技股份有限公司 | 一种提纯n-甲基苯甲酰甲酰胺粗品的方法 |
| CA3252823A1 (en) | 2016-06-13 | 2025-02-25 | Gilead Sciences, Inc. | Fxr (nr1h4) modulating compounds |
| KR102269305B1 (ko) | 2016-06-13 | 2021-06-25 | 길리애드 사이언시즈, 인코포레이티드 | Fxr (nr1h4) 조정 화합물 |
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|---|---|---|---|---|
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