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JP3033455B2 - Electroless nickel plating of aluminum - Google Patents

Electroless nickel plating of aluminum

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Publication number
JP3033455B2
JP3033455B2 JP6317629A JP31762994A JP3033455B2 JP 3033455 B2 JP3033455 B2 JP 3033455B2 JP 6317629 A JP6317629 A JP 6317629A JP 31762994 A JP31762994 A JP 31762994A JP 3033455 B2 JP3033455 B2 JP 3033455B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
zinc
electroless nickel
nickel plating
aluminum
zinc substitution
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP6317629A
Other languages
Japanese (ja)
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Inventor
冨士夫 松井
昌弘 斉藤
友二 下村
秀幸 高見
郁雄 中山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
C Uyemura and Co Ltd
Original Assignee
C Uyemura and Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by C Uyemura and Co Ltd filed Critical C Uyemura and Co Ltd
Priority to JP6317629A priority Critical patent/JP3033455B2/en
Publication of JPH08158060A publication Critical patent/JPH08158060A/en
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Publication of JP3033455B2 publication Critical patent/JP3033455B2/en
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、特に磁気ディスク用ア
ルミニウム又はアルミニウム合金基板に対する無電解ニ
ッケルめっきに対し有効に採用することができるアルミ
ニウムの無電解ニッケルめっき方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for electroless nickel plating of aluminum which can be effectively employed particularly for electroless nickel plating on aluminum or aluminum alloy substrates for magnetic disks.

【0002】[0002]

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】従
来、ハードディスクの製造において、アルミニウム又は
アルミニウム合金基板(Al又はAl合金基板)に下地
めっきとして次亜リン酸又はその塩を還元剤とする無電
解ニッケルめっき皮膜(以下、無電解Ni−P皮膜又は
単にNi−P皮膜という)を形成することが行われてお
り、かかるNi−P皮膜の形成工程としては、Al又は
Al合金基板を機械加工した後、下記工程 (1)脱脂 (2)水洗 (3)エッチング (4)水洗 (5)硝酸水溶液中への浸漬 (6)水洗 (7)亜鉛置換 (8)水洗 (9)次亜リン酸又はその塩を還元剤とする無電解ニッ
ケルめっきを採用しているのが通常である。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the production of a hard disk, an electroless process using hypophosphorous acid or a salt thereof as a reducing agent as a base plating on an aluminum or aluminum alloy substrate (Al or Al alloy substrate). A nickel plating film (hereinafter, referred to as an electroless Ni-P film or simply a Ni-P film) is formed. As a process of forming the Ni-P film, an Al or Al alloy substrate is machined. Thereafter, the following steps (1) degreasing (2) washing with water (3) etching (4) washing with water (5) immersion in an aqueous nitric acid solution (6) washing with water (7) zinc replacement (8) washing with water (9) hypophosphorous acid or Usually, electroless nickel plating using the salt as a reducing agent is employed.

【0003】このようにしてNi−P皮膜を形成した後
は、その表面を鏡面研磨し、磁性皮膜を形成し、次いで
適宜な保護膜を形成し、更に必要によっては潤滑層を形
成して、ハードディスク(磁気ディスク)を得るもので
ある。
After forming the Ni-P film in this manner, the surface is mirror-polished to form a magnetic film, then an appropriate protective film is formed, and if necessary, a lubricating layer is formed. A hard disk (magnetic disk) is obtained.

【0004】この場合、特にハードディスクの製造にお
いては亜鉛置換処理を2回繰り返して施すことが行われ
ており、この場合の(5)以下の工程は下記の通りであ
る。
[0004] In this case, particularly in the production of a hard disk, the zinc substitution treatment is repeatedly performed twice, and in this case, the steps after (5) are as follows.

【0005】 (5)−1 第1硝酸水溶液中への浸漬 (6)−1 水洗 (7)−1 第1亜鉛置換 (8)−1 水洗 (5)−2 第2硝酸水溶液中への浸漬 (6)−2 水洗 (7)−2 第2亜鉛置換 (8)−2 水洗 (9) 無電解ニッケルめっき この二重亜鉛置換法の工程の一例はASTM B−25
3−87“アルミニウム合金へのめっき前処理のための
標準化ガイド”の中の第6節置換析出/ストライク処理
に記述されている。そこで推奨される亜鉛置換処理時間
は、第1亜鉛置換45秒、第2亜鉛置換30秒であり
(6.4.1項)、第2亜鉛置換処理時間が短いのが特
徴である。これは亜鉛置換処理液は高アルカリでAl又
はAl合金に対して腐食性が強く、必要以上に浸漬時間
を長くすることを嫌うためである。
(5) -1 Immersion in primary nitric acid aqueous solution (6) -1 Rinsing in water (7) -1 First zinc substitution (8) -1 Rinsing in water (5) -2 Immersion in secondary nitric acid aqueous solution (6) -2 Rinse (7) -2 Second zinc substitution (8) -2 Rinse (9) Electroless nickel plating One example of the process of this double zinc substitution method is ASTM B-25.
3-87, "Standardization Guide for Pretreatment of Plating on Aluminum Alloys", section 6, displacement deposition / strike processing. Therefore, the recommended zinc substitution treatment time is 45 seconds for the first zinc substitution and 30 seconds for the second zinc substitution (Section 6.4.1), and is characterized in that the second zinc substitution treatment time is short. This is because the zinc-substituted treatment solution is highly alkaline and highly corrosive to Al or Al alloy, and does not want to prolong the immersion time more than necessary.

【0006】ところで、以上のようにAl又はAl合金
基板を亜鉛置換処理(ジンケート処理)した後、無電解
ニッケルめっきを行った場合、無電解ニッケルめっき液
の老化によってNi−P皮膜にブリスター(膨れ)が発
生する。このようにブリスターが発生した場合はそれ迄
使用していた無電解ニッケルめっき液を廃棄し、新しい
めっき液と交換してめっきを行う必要があり、新しい無
電解ニッケルめっき液に代えた場合は最早ブリスターは
生じない。
Incidentally, when the Al or Al alloy substrate is zinc-substituted (zincate treatment) and then subjected to electroless nickel plating, the Ni-P film is blistered (blistered) due to aging of the electroless nickel plating solution. ) Occurs. If blisters occur like this, it is necessary to discard the previously used electroless nickel plating solution and replace it with a new plating solution to perform plating. No blisters occur.

【0007】次亜リン酸又はその塩を還元剤とする無電
解ニッケルめっき液は、水溶性ニッケル塩とその錯化剤
と還元剤である次亜リン酸/塩を主成分とするものであ
り、めっきの進行につれて液中のニッケルイオン及び還
元剤は消費されてその濃度が低下すると共に、pHが低
下していく。このため、水溶性ニッケル塩(ニッケルイ
オン)及び還元剤を補給し、pH調整を行ってめっきを
続けていくことが一般に行われている手法であるが、め
っきの進行につれて、還元剤の次亜リン酸/塩は亜リン
酸/塩に酸化されるので、めっき液中には亜リン酸/塩
が蓄積、増加していき、一定量以上にめっき液中の亜リ
ン酸/塩が蓄積した場合は、Ni−P皮膜の特性が低下
したり、めっき速度が低下するため、このめっき液を廃
棄して、新しいめっき液に交換しなければならない。通
常、この無電解ニッケルめっき液の寿命(めっき液の廃
棄、交換時期)は、最初のめっき液中のニッケルイオン
濃度に対し、その約6〜7倍量のニッケルイオンに相当
する補給を行った時期とされている(以下、これを無電
解ニッケルめっき液の寿命は約6〜7MTOであると表
現する)。即ち、通常の無電解ニッケルめっき液は、6
〜7MTO後に廃棄し、新液と交換しているものであ
る。
An electroless nickel plating solution containing hypophosphorous acid or a salt thereof as a reducing agent is mainly composed of a water-soluble nickel salt, a complexing agent thereof, and a hypophosphorous acid / salt as a reducing agent. As the plating proceeds, the nickel ions and the reducing agent in the solution are consumed and their concentrations decrease, and the pH decreases. For this reason, it is a general practice to replenish the water-soluble nickel salt (nickel ion) and the reducing agent, adjust the pH, and continue the plating. Since phosphoric acid / salt is oxidized to phosphorous acid / salt, phosphorous acid / salt accumulates and increases in the plating solution, and phosphorous acid / salt in the plating solution accumulates in a certain amount or more. In such a case, the characteristics of the Ni-P film are reduced or the plating rate is reduced. Therefore, the plating solution must be discarded and replaced with a new plating solution. Normally, the life of the electroless nickel plating solution (the time of disposal and replacement of the plating solution) is approximately 6 to 7 times the replenishment equivalent to the nickel ion concentration in the initial plating solution. (Hereinafter, this is expressed as the life of the electroless nickel plating solution is about 6 to 7 MTO). That is, the usual electroless nickel plating solution is 6
It is discarded after MT7 MTO and replaced with a new solution.

【0008】ところが、上記磁気ディスクの二重亜鉛置
換後の無電解ニッケルめっきの場合は、約3MTOの使
用でNi−P皮膜にブリスターが発生し、このため通常
の無電解ニッケルめっき液の約半分の寿命でめっき液を
廃棄し、新しいめっき液と交換しなければならないのが
現状であった。これは、二重亜鉛置換法により前処理さ
れたAl又はAl合金が無電解ニッケルめっきされる
時、Al又はAl合金に付着された亜鉛がめっき液中に
溶出し、この亜鉛イオンが不純物として作用し、めっき
液を駄目にするものと考えられていたが、いずれにして
もこのようにAl又はAl合金基板を亜鉛置換処理して
無電解ニッケルめっきを施す場合、無電解ニッケルめっ
き液の通常の寿命に比べて極端に無電解ニッケルめっき
液の寿命が短かくなるため、この点の改善が望まれてい
た。
However, in the case of electroless nickel plating after double zinc substitution of the magnetic disk, blisters are generated in the Ni-P film by using about 3MTO, and therefore, about half of ordinary electroless nickel plating solution. At present, the plating solution must be discarded at the end of its life and replaced with a new plating solution. This is because when Al or Al alloy pre-treated by the double zinc substitution method is electroless nickel plated, zinc attached to Al or Al alloy elutes into the plating solution, and this zinc ion acts as an impurity. It was thought that the plating solution would be spoiled, but in any case, when the Al or Al alloy substrate was subjected to the zinc substitution treatment and the electroless nickel plating was performed, Since the life of the electroless nickel plating solution becomes extremely shorter than the life, improvement of this point has been desired.

【0009】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
無電解ニッケルめっき液の寿命を伸ばすことができるア
ルミニウムの無電解ニッケルめっき方法を提供すること
を目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances,
An object of the present invention is to provide a method for electroless nickel plating of aluminum which can extend the life of an electroless nickel plating solution.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、上
記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、Al又は
Al合金素材を上記二重亜鉛置換法により前処理した
後、無電解ニッケルめっきを行うこと、この場合第1亜
鉛置換処理時間よりも第2亜鉛置換処理時間を長くとる
ことにより、無電解ニッケルめっき液の寿命を顕著に延
長し得ることを知見した。即ち、従来一般的には、第1
亜鉛置換処理時間は30〜50秒、第2亜鉛置換処理時
間は10〜30秒の範囲であり、第2亜鉛置換処理時間
を第1亜鉛置換処理時間より短時間で処理していたもの
である。ところが、特に第1亜鉛置換処理時間を1〜4
0秒、第2亜鉛置換処理時間を30〜100秒の範囲と
し、上記したように第2亜鉛置換処理を第1亜鉛置換処
理より長く行った場合、意外にも従来法では約3MTO
であった無電解ニッケルめっき液の寿命が約6MTO以
上に伸び、2倍以上の寿命を確保し得ることを知見した
ものである。
The present inventors have made intensive studies to achieve the above object, and as a result, after pre-treating Al or an Al alloy material by the above-mentioned double zinc substitution method, electroless nickel was obtained. It has been found that by performing plating, in which case the second zinc substitution treatment time is longer than the first zinc substitution treatment time, the life of the electroless nickel plating solution can be significantly extended. That is, conventionally, generally, the first
The zinc replacement time is in the range of 30 to 50 seconds, the second zinc replacement time is in the range of 10 to 30 seconds, and the second zinc replacement time is shorter than the first zinc replacement time. . However, in particular, the first zinc substitution treatment time is 1 to 4
0 second, the second zinc substitution time is in the range of 30 to 100 seconds, and when the second zinc substitution treatment is performed longer than the first zinc substitution treatment as described above, the conventional method surprisingly requires about 3 MTO.
It was found that the life of the electroless nickel plating solution was increased to about 6 MTO or more, and the life was doubled or more.

【0011】なお、第2亜鉛置換処理を第1亜鉛置換処
理より長くとることよって無電解ニッケルめっき液を長
寿命化し得る理由は、この事実が従来の無電解ニッケル
めっき液の短寿命の原因が亜鉛不純物にあったとする考
えに変更をせまるかも知れないので、現在不明である。
いずれにしても、亜鉛置換後に無電解ニッケルめっきを
行った場合、無電解ニッケルめっき液の寿命が短くなる
ことは半ば宿命的であると考えられていたものである
が、第2亜鉛置換処理時間を単に第1亜鉛置換処理時間
よりも長くすることで、無電解ニッケルめっき液の寿命
を顕著に延長し得たということは、予想外の新知見であ
る。
The reason why the life of the electroless nickel plating solution can be extended by taking the second zinc substitution treatment longer than that of the first zinc substitution treatment is because of the fact that the conventional electroless nickel plating solution has a short life. It is currently unknown, as it may change the idea that zinc impurities were present.
In any case, when the electroless nickel plating is performed after the zinc substitution, it is considered that the shortening of the life of the electroless nickel plating solution is almost fatal. It is an unexpected new finding that the life of the electroless nickel plating solution could be significantly prolonged simply by making the time longer than the first zinc substitution treatment time.

【0012】以下、本発明につき更に詳しく説明する
と、本発明のアルミニウムの無電解ニッケルめっき方法
は、アルミニウム又はアルミニウム合金素材に水酸化ナ
トリウムを1〜5モル/l、酸化亜鉛を0.1〜0.4
モル/l含有する亜鉛置換液に15〜30℃の温度で浸
漬して第1亜鉛置換処理を施し、次いで酸洗後、水酸化
ナトリウムを1〜5モル/l、酸化亜鉛を0.1〜0.
4モル/l含有する亜鉛置換液に15〜30℃の温度で
浸漬して第2亜鉛置換処理を施したのち、次亜リン酸又
は次亜リン酸塩を還元剤とする無電解ニッケルめっき液
に浸漬して無電解ニッケルめっきを行うアルミニウムの
無電解ニッケルめっき方法において、上記第1亜鉛置換
処理時間を10〜40秒にすると共に、第2亜鉛置換処
理時間を30〜100秒とし、かつ第2亜鉛置換処理時
間を第1亜鉛置換処理時間より5秒以上長時間にするこ
とを特徴とするものである。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail. In the method of electroless nickel plating of aluminum according to the present invention, 1 to 5 mol / l of sodium hydroxide and 0.1 to 0 mol of zinc oxide are added to aluminum or an aluminum alloy material. .4
The zinc-substituted solution containing mol / l is immersed at a temperature of 15 to 30 ° C. to perform a first zinc-substitution treatment, and then, after pickling, 1 to 5 mol / l of sodium hydroxide and 0.1 to 0.1 mol of zinc oxide. 0.
Electroless nickel plating solution using hypophosphorous acid or hypophosphite as a reducing agent after dipping in a zinc substitution solution containing 4 mol / l at a temperature of 15 to 30 ° C. to perform a second zinc substitution treatment In the method of electroless nickel plating of aluminum, wherein the first zinc substitution time is 10 to 40 seconds, the second zinc substitution time is 30 to 100 seconds, and The method is characterized in that the zinc replacement treatment time is longer than the first zinc replacement treatment time by 5 seconds or more.

【0013】この工程を詳述すると、本発明は、 (1)脱脂 (2)水洗 (3)エッチング (4)水洗 (5)−1 第1硝酸水溶液中への浸漬 (6)−1 水洗 (7)−1 第1亜鉛置換 (8)−1 水洗 (5)−2 第2硝酸水溶液中への浸漬 (6)−2 水洗 (7)−2 第2亜鉛置換 (8)−2 水洗 (9) 無電解ニッケルめっき の工程にてAl又はAl合金を処理するに際し、(7)
−1の第1亜鉛置換処理時間よりも(7)−2の第2亜
鉛置換処理時間を長くするものである。
The present invention is described in detail in the following. (1) Degreasing (2) Rinsing with water (3) Etching (4) Rinsing with water (5) -1 Immersion in primary nitric acid aqueous solution (6) -1 Rinsing with water 7) -1 First zinc substitution (8) -1 Rinse (5) -2 Immersion in a second nitric acid aqueous solution (6) -2 Rinse (7) -2 Second zinc substitution (8) -2 Rinse (9) ) When treating Al or Al alloy in the process of electroless nickel plating, (7)
The second zinc substitution treatment time of (7) -2 is longer than the first zinc substitution treatment time of -1.

【0014】この場合、本発明の方法は、特に磁気ディ
スクの製造に好適に採用され、Al、Al合金としては
磁気ディスク用に従来から用いられているAl、Al合
金素材を使用することができる。
In this case, the method of the present invention is suitably employed particularly for the manufacture of a magnetic disk, and Al and Al alloy materials conventionally used for magnetic disks can be used as Al and Al alloy. .

【0015】ここで、(1),(3),(5)−1,2
及び(9)の工程は常法によって行うことができる。
Here, (1), (3), (5) -1, 2
Steps (9) and (9) can be performed by a conventional method.

【0016】例えば、(1)の脱脂としては通常のアル
ミニウム用アルカリ性脱脂液を用いた浸漬又は電解脱脂
を採用することができ、(3)のエッチング処理として
は、アルカリ性又は酸性水溶液を用いるもので、1〜1
0重量%程度の水酸化アルカリ或いは1〜20容量%程
度の酸水溶液、例えば硫酸・リン酸混合水溶液を使用
し、60〜75℃で1〜15分浸漬処理する方法を採用
することができ、(5)の硝酸水溶液による浸漬処理
は、濃硝酸200〜700ml/lの硝酸水溶液を使用
し、15〜35℃で30秒〜2分浸漬処理する方法を採
用することができる。硝酸水溶液には、必要に応じてフ
ッ酸等を混合してもよい。なお、第1及び第2硝酸水溶
液中への浸漬は同じ条件とすることができる。
For example, as the degreasing of (1), immersion or electrolytic degreasing using a normal alkaline degreasing solution for aluminum can be adopted, and as the etching treatment of (3), an alkaline or acidic aqueous solution is used. , 1-1
A method of immersion treatment at 60 to 75 ° C. for 1 to 15 minutes using an alkali hydroxide solution of about 0% by weight or an aqueous acid solution of about 1 to 20% by volume, for example, a mixed aqueous solution of sulfuric acid and phosphoric acid, can be adopted. As the immersion treatment with the aqueous nitric acid solution (5), a method of using a concentrated aqueous nitric acid solution of 200 to 700 ml / l and immersing at 15 to 35 ° C. for 30 seconds to 2 minutes can be adopted. Hydrofluoric acid or the like may be mixed with the nitric acid aqueous solution as needed. The immersion in the first and second nitric acid aqueous solutions can be performed under the same conditions.

【0017】また、亜鉛置換処理において、亜鉛置換液
としては従来から用いられている組成のものをそのまま
使用することができ、亜鉛置換液には金属分として亜鉛
を含む以外に更に鉄、ニッケル、銅等の金属塩を含んで
いても差し支えない。具体的には、亜鉛置換液として
は、水酸化ナトリウムを1〜5モル/l、より好ましく
は2.5〜4モル/l、更に好ましくは3〜3.8モル
/lとし、酸化亜鉛を0.1〜0.4モル/l、より好
ましくは0.15〜0.35モル/l、更に好ましくは
0.2〜0.3モル/lとし、必要に応じ可溶性の鉄、
ニッケル、銅塩の1種又は2種以上を4〜10ミリモル
/l、酒石酸ナトリウム等の錯化剤を0.02〜0.3
モル/l含有するものを使用することができる。この場
合、第1亜鉛置換液と第2亜鉛置換液とは通常同じ組成
のものが用いられるが、勿論異なる組成のものでもよ
い。
In the zinc replacement treatment, a zinc replacement solution having a conventionally used composition can be used as it is. In addition to zinc containing a metal component, the zinc replacement solution further contains iron, nickel, and the like. A metal salt such as copper may be contained. Specifically, as the zinc-substituted solution, sodium hydroxide is used at 1 to 5 mol / l, more preferably 2.5 to 4 mol / l, and still more preferably 3 to 3.8 mol / l. 0.1 to 0.4 mol / l, more preferably 0.15 to 0.35 mol / l, and still more preferably 0.2 to 0.3 mol / l;
One or two or more of nickel and copper salts are used in an amount of 4 to 10 mmol / l, and a complexing agent such as sodium tartrate is used in an amount of 0.02 to 0.3
Those containing mol / l can be used. In this case, the first zinc-substituted liquid and the second zinc-substituted liquid usually have the same composition, but may of course have different compositions.

【0018】上記亜鉛置換の条件も、処理時間を除けば
通常と同じ条件でよく、例えば処理温度は15〜30℃
であり、より好適には20〜23℃で行われる。
The conditions for the zinc substitution may be the same as usual except for the processing time.
And more preferably at 20 to 23 ° C.

【0019】而して、本発明においては、上記第1亜鉛
置換処理よりも第2亜鉛置換処理をより長時間行うもの
である。この場合、第1亜鉛置換処理時間は10〜40
秒、更に好ましくは15〜25秒とし、第2亜鉛置換処
理を30〜100秒、より好ましくは35〜60秒、更
に好ましくは35〜50秒とすることが好ましい。ま
た、第2亜鉛置換処理の時間は、第1亜鉛置換処理の時
間より5秒以上、更に好ましくは10秒以上長いことが
好ましい。
Thus, in the present invention, the second zinc substitution treatment is performed for a longer time than the first zinc substitution treatment. In this case, the first zinc substitution treatment time is 10 to 40.
Second, more preferably 15 to 25 seconds, and the second zinc substitution treatment is preferably 30 to 100 seconds, more preferably 35 to 60 seconds, and still more preferably 35 to 50 seconds. Further, the time of the second zinc substitution treatment is preferably at least 5 seconds, more preferably at least 10 seconds longer than the time of the first zinc substitution treatment.

【0020】更に、無電解ニッケルめっきも水溶性ニッ
ケル塩(Niとして通常4〜7g/l)、有機酸塩やア
ンモニウム塩、アミン等のニッケルの錯化剤(通常20
〜80g/l)を含有し、次亜リン酸又は次亜リン酸ナ
トリウム等の次亜リン酸塩(通常20〜40g/l)を
還元剤として用いた公知のめっき浴、めっき条件を採用
して行うことができる。この場合、めっき浴は酸性浴で
もアルカリ性浴でもよく、例えばpH4〜10のものが
使用し得る。なお、ハードディスクの製造においては、
pH4〜6の酸性無電解ニッケルめっき浴を用いて、リ
ン含量9〜13%(重量%、以下同様)のNi−P皮膜
を5〜30μm程度形成することが好ましい。
Further, the electroless nickel plating is also carried out with a nickel complexing agent (usually 20 g / l) such as a water-soluble nickel salt (usually 4 to 7 g / l as Ni), an organic acid salt, an ammonium salt and an amine.
-80 g / l) and a known plating bath and plating conditions using a hypophosphite such as hypophosphorous acid or sodium hypophosphite (usually 20 to 40 g / l) as a reducing agent. Can be done. In this case, the plating bath may be an acidic bath or an alkaline bath, for example, those having a pH of 4 to 10 can be used. In the production of hard disks,
It is preferable to form a Ni-P film having a phosphorus content of 9 to 13% (% by weight, the same applies hereinafter) by using an acidic electroless nickel plating bath having a pH of 4 to 6 to a thickness of about 5 to 30 μm.

【0021】この無電解ニッケルめっき液は、上述した
ようにめっきの進行につれてニッケルイオン、次亜リン
酸/塩濃度が低下し、pHも下がるので、適宜ニッケル
イオン、次亜リン酸/塩を適宜補給し、めっきを継続し
ていくが、本発明においては、第2亜鉛置換処理時間を
第1亜鉛置換処理時間より長くしたことにより、従来は
約3MTOであっためっき寿命をその倍以上の6MTO
以上に伸ばすことができ、通常の無電解ニッケルめっき
液の寿命とほぼ同等レベルにすることができたものであ
る。
As described above, the concentration of nickel ions and hypophosphorous acid / salt decreases with the progress of plating, and the pH of the electroless nickel plating solution also decreases. In the present invention, the second zinc replacement treatment time is made longer than the first zinc replacement treatment time, so that the plating life, which was about 3 MTO conventionally, is more than doubled to 6 MTO.
The length can be extended as described above, and the life can be almost equal to the life of a normal electroless nickel plating solution.

【0022】[0022]

【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

【0023】〔実施例、比較例〕無電解ニッケルめっき
液として、下記組成のものを6.5MTO使用し、各成
分及びpHを下記組成の通り調整したものを使用し、下
記条件で表1に示す種々のアルミニウム板に対し、下記
工程で無電解ニッケルめっきを施した(試料数5個)。
得られたNi−P皮膜に対するブリスター(膨れ)の発
生の結果を表1に示す。
[Examples and Comparative Examples] As an electroless nickel plating solution, the one having the following composition was used in 6.5 MTO, and each component and pH were adjusted according to the following composition. The various aluminum plates shown were subjected to electroless nickel plating in the following steps (5 samples).
Table 1 shows the results of the generation of blisters (swelling) on the obtained Ni-P coating.

【0024】無電解ニッケルめっき液 硫酸ニッケル 0.1 モル/l りんご酸ナトリウム 0.2 〃 酢酸ナトリウム 0.2 〃 次亜リン酸ナトリウム 0.2 〃 硝酸鉛 1.0 ppm pH 4.7めっき工程 (1)脱脂:50℃、5分 炭酸ナトリウム 0.2 モル/l リン酸ナトリウム 0.05 〃 ホウ酸ナトリウム 0.2 〃 界面活性剤 5 g/l pH 9.0 (2)水洗:室温、30秒 (3)エッチング:70℃、2分 硫酸 1 モル/l リン酸 0.5 〃 (4)水洗:室温、30秒 (5)−1 第1硝酸水溶液浸漬:25℃、30秒 濃硝酸 500 ml/l (6)−1 水洗:室温、30秒 (7)−1 第1亜鉛置換:20℃、時間は表1に示す
通り 水酸化ナトリウム 3.0 モル/l 酸化亜鉛 0.25 〃 塩化第2鉄 0.007〃 酒石酸ナトリウム 0.1 〃 硝酸ナトリウム 0.01 〃 (8)−1 水洗:室温、30秒 (5)−2 第2硝酸水溶液浸漬:25℃、60秒 (5)−1と同組成 (6)−2 水洗:室温、30秒 (7)−2 第2亜鉛置換:20℃、時間は表1に示す
通り (7)−1と同組成 (8)−2 水洗:室温、30秒 (9)無電解ニッケルめっき:90℃、90分、浴比約
1dm2 /l
Electroless nickel plating solution Nickel sulfate 0.1 mol / l Sodium malate 0.2 ナ ト リ ウ ム Sodium acetate 0.2 ナ ト リ ウ ム Sodium hypophosphite 0.2 鉛 Lead nitrate 1.0 ppm pH 4.7 Plating step (1) Degreasing: 50 ° C., 5 minutes Sodium carbonate 0.2 mol / l Sodium phosphate 0.05 {sodium borate 0.2} Surfactant 5 g / l pH 9.0 (2) Rinsing: room temperature, 30 seconds (3) Etching: 70 ° C., 2 minutes Sulfuric acid 1 mol / l phosphoric acid 0.5〃 (4) Washing: room temperature, 30 seconds (5) -1 Immersion of first nitric acid aqueous solution: 25 ° C., 30 seconds concentrated nitric acid 500 ml / l (6) -1 Washing: room temperature, 30 seconds (7) -1 First zinc substitution: 20 ° C., time is as shown in Table 1, sodium hydroxide 3.0 mol / l zinc oxide 0.25% Ferric chloride 0.007〃 tartar Sodium 0.1 ナ ト リ ウ ム Sodium nitrate 0.01 〃 (8) -1 Rinse with water: room temperature, 30 seconds (5) -2 Immersion in secondary nitric acid aqueous solution: 25 ° C., 60 seconds Same composition as (5) -1 (6)- 2 Rinsing: room temperature, 30 seconds (7) -2 Secondary zinc substitution: 20 ° C., time is the same as (7) -1 as shown in Table 1. (8) -2 Rinsing: room temperature, 30 seconds (9) None Electrolytic nickel plating: 90 ° C, 90 minutes, bath ratio about 1 dm 2 / l

【0025】[0025]

【表1】 [Table 1]

【0026】表1の結果より、第2亜鉛置換処理の時間
を第1亜鉛置換処理の時間より長くすること、特に第1
亜鉛置換処理を15秒〜30秒程度、第2亜鉛置換処理
はそれより長くて30秒以上とすることが好適であるこ
とが認められた。
From the results shown in Table 1, it can be seen that the time for the second zinc substitution treatment is longer than the time for the first zinc substitution treatment, especially the first zinc substitution treatment.
It has been found that the zinc substitution treatment is preferably performed for about 15 seconds to 30 seconds, and the second zinc substitution treatment is preferably performed for a longer time period of 30 seconds or more.

【0027】なお、市販の無電解ニッケルめっき液を使
用した場合も同等の結果が得られた。また、得られたN
i−P皮膜を290℃、2時間熱処理した後で磁化量の
測定をした結果は、いずれの場合の値も2ガウス以下で
あった。しかしながら、第2亜鉛置換処理を60秒を越
えて行った場合、熱処理後の磁化量が増大するので、磁
気ディスクの製造にあっては60秒以下の処理とするこ
とが有効であると認められた。
Similar results were obtained when a commercially available electroless nickel plating solution was used. In addition, the obtained N
As a result of measuring the amount of magnetization after heat treating the i-P film at 290 ° C. for 2 hours, the value in each case was 2 Gauss or less. However, if the second zinc substitution treatment is performed for more than 60 seconds, the amount of magnetization after the heat treatment increases, so that it is recognized that it is effective to perform the treatment for 60 seconds or less in the manufacture of a magnetic disk. Was.

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明によれば、従来磁気ディスク業界
では無電解ニッケルめっき液を約3MTOにて廃棄して
いたが、前処理工程の亜鉛置換処理の時間を変更するこ
とによって、6MTO以上まで使用できるようになっ
た。このため、めっき液の廃棄に要する費用ばかりか廃
棄作業のために設備を休止することによる機会損失を大
幅に削減することができる。また、産業廃棄物の少量化
にも役立つ。
According to the present invention, the electroless nickel plating solution was conventionally discarded at about 3 MTO in the magnetic disk industry, but by changing the time of the zinc substitution treatment in the pretreatment step, it can be reduced to 6 MTO or more. Now available. For this reason, it is possible to significantly reduce not only the cost required for discarding the plating solution but also the opportunity loss caused by stopping the equipment for the discarding operation. It also helps to reduce the amount of industrial waste.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高見 秀幸 大阪府枚方市出口1丁目5番1号 上村 工業株式会社 中央研究所内 (72)発明者 中山 郁雄 大阪府枚方市出口1丁目5番1号 上村 工業株式会社 中央研究所内 (56)参考文献 特開 昭54−84835(JP,A) 特開 昭62−7873(JP,A) 特開 昭63−259082(JP,A) 特開 昭63−293170(JP,A) 特開 平3−10085(JP,A) 特開 平4−36474(JP,A) 特開 平5−51756(JP,A) 特開 平5−230664(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23C 18/31 - 18/52 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hideyuki Takami 1-5-1 Exit, Hirakata City, Osaka Prefecture Uemura Industry Co., Ltd. Central Research Laboratory (72) Inventor Ikuo Nakayama 1-5-1 Exit, Hirakata City, Osaka Prefecture Uemura Industrial Co., Ltd. Central Research Laboratory (56) References JP-A-54-84835 (JP, A) JP-A-62-7873 (JP, A) JP-A-63-259082 (JP, A) JP-A-63-63 293170 (JP, A) JP-A-3-10085 (JP, A) JP-A-4-36474 (JP, A) JP-A-5-51756 (JP, A) JP-A-5-230664 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C23C 18/31-18/52

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 アルミニウム又はアルミニウム合金素材
に水酸化ナトリウムを1〜5モル/l、酸化亜鉛を0.
1〜0.4モル/l含有する亜鉛置換液に15〜30℃
の温度で浸漬して第1亜鉛置換処理を施し、次いで酸洗
後、水酸化ナトリウムを1〜5モル/l、酸化亜鉛を
0.1〜0.4モル/l含有する亜鉛置換液に15〜3
0℃の温度で浸漬して第2亜鉛置換処理を施したのち、
次亜リン酸又は次亜リン酸塩を還元剤とする無電解ニッ
ケルめっき液に浸漬して無電解ニッケルめっきを行うア
ルミニウムの無電解ニッケルめっき方法において、上記
第1亜鉛置換処理時間を10〜40秒にすると共に、第
2亜鉛置換処理時間を30〜100秒とし、かつ第2亜
鉛置換処理時間を第1亜鉛置換処理時間より5秒以上長
時間にすることを特徴とするアルミニウムの無電解ニッ
ケルめっき方法。
1. An aluminum or aluminum alloy material containing 1 to 5 mol / l of sodium hydroxide and 0.1 to 0.5 mol of zinc oxide.
15 to 30 ° C in a zinc-substituted solution containing 1 to 0.4 mol / l
The first zinc substitution treatment is carried out by immersion at a temperature of 5 ° C., followed by pickling, followed by 15 minutes in a zinc substitution liquid containing 1 to 5 mol / l of sodium hydroxide and 0.1 to 0.4 mol / l of zinc oxide. ~ 3
After immersion at a temperature of 0 ° C. to perform the second zinc substitution treatment,
In the electroless nickel plating method for aluminum in which electroless nickel plating is performed by immersion in an electroless nickel plating solution using hypophosphorous acid or hypophosphite as a reducing agent, the first zinc substitution treatment time is 10 to 40. Electroless nickel of aluminum, wherein the second zinc substitution treatment time is set to 30 to 100 seconds and the second zinc substitution treatment time is set to 5 seconds or more longer than the first zinc substitution treatment time. Plating method.
【請求項2】 アルミニウム又はアルミニウム合金素材
が、磁気ディスク製造用のアルミニウム又はアルミニウ
ム合金基板である請求項1記載の方法。
2. The method according to claim 1, wherein the aluminum or aluminum alloy material is an aluminum or aluminum alloy substrate for manufacturing a magnetic disk.
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