JP3070725B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Landscapes
- General Induction Heating (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高周波加熱装置に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の高周波加熱装置を図６を
参照しつつ説明する。この高周波加熱装置は、ワークＷ
を支持する支持部１００と、ワークＷを加熱する高周波
加熱コイル２００と、この高周波加熱コイル２００に高
周波電流を供給するカレントトランス４００と、このカ
レントトランス４００を移動させるトランス移動機構５
００とを有しており、前記トランス移動機構５００は、
高周波加熱コイル２００を加熱位置（ワークＷの加熱す
べき箇所に加熱導体２１０が対向する位置）と退避位置
（支持部１００にワークＷの着脱ができる位置）との間
で移動させるようになっている。また、高周波加熱コイ
ル２００は、給電導体２２０がカレントトランス４００
の接触部４１０に直接固定されている。
参照しつつ説明する。この高周波加熱装置は、ワークＷ
を支持する支持部１００と、ワークＷを加熱する高周波
加熱コイル２００と、この高周波加熱コイル２００に高
周波電流を供給するカレントトランス４００と、このカ
レントトランス４００を移動させるトランス移動機構５
００とを有しており、前記トランス移動機構５００は、
高周波加熱コイル２００を加熱位置（ワークＷの加熱す
べき箇所に加熱導体２１０が対向する位置）と退避位置
（支持部１００にワークＷの着脱ができる位置）との間
で移動させるようになっている。また、高周波加熱コイ
ル２００は、給電導体２２０がカレントトランス４００
の接触部４１０に直接固定されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の高周波加熱装置には以下のような問題点があ
る。まず、トランス移動機構は、カレントトランスとい
う大型の重量物を移動させるものであるため、大型化及
び複雑化する傾向にあり、作業性やメンテナンスの面か
らも問題があった。また、高周波加熱コイルはトランス
移動機構から離れているため、加熱位置の精度が出にく
いとい問題点もあった。
た従来の高周波加熱装置には以下のような問題点があ
る。まず、トランス移動機構は、カレントトランスとい
う大型の重量物を移動させるものであるため、大型化及
び複雑化する傾向にあり、作業性やメンテナンスの面か
らも問題があった。また、高周波加熱コイルはトランス
移動機構から離れているため、加熱位置の精度が出にく
いとい問題点もあった。
【０００４】本発明は上記事情に鑑みて創案されたもの
で、全体を小型化することが可能で、作業性やメンテナ
ンスに優れ、加熱位置を高精度に位置決めすることがで
きる高周波加熱装置を提供することを目的としている。
で、全体を小型化することが可能で、作業性やメンテナ
ンスに優れ、加熱位置を高精度に位置決めすることがで
きる高周波加熱装置を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る高周波加
熱装置は、ワークを支持する支持部と、ワークを加熱す
る高周波加熱コイルと、この高周波加熱コイルを移動さ
せるコイル移動機構と、加熱位置に位置する高周波加熱
コイルの給電導体に接触する接触部を有するカレントト
ランスとを備えており、前記コイル移動機構は、ワーク
を加熱する加熱位置とワークを前記支持部に着脱する退
避位置との間で高周波加熱コイルを移動させるものであ
り、前記給電導体は接触部に直接接触させられるように
なっている。
熱装置は、ワークを支持する支持部と、ワークを加熱す
る高周波加熱コイルと、この高周波加熱コイルを移動さ
せるコイル移動機構と、加熱位置に位置する高周波加熱
コイルの給電導体に接触する接触部を有するカレントト
ランスとを備えており、前記コイル移動機構は、ワーク
を加熱する加熱位置とワークを前記支持部に着脱する退
避位置との間で高周波加熱コイルを移動させるものであ
り、前記給電導体は接触部に直接接触させられるように
なっている。
【０００６】また、請求項２に係る高周波加熱装置は、
複数の箇所を加熱されるワークを支持する支持部と、ワ
ークを加熱する高周波加熱コイルと、この高周波加熱コ
イルを移動させるコイル移動機構と、加熱位置に位置す
る高周波加熱コイルの給電導体に接触する接触部を有す
るカレントトランスと、このカレントトランスを移動さ
せるトランス移動機構とを具備しており、前記コイル移
動機構は、高周波加熱コイルがワークを加熱する複数の
加熱位置とワークを支持部に着脱する退避位置との間で
移動させ、前記トランス移動機構は、接触部が各加熱位
置にある高周波加熱コイルの給電導体に接触させるよう
になっている。
複数の箇所を加熱されるワークを支持する支持部と、ワ
ークを加熱する高周波加熱コイルと、この高周波加熱コ
イルを移動させるコイル移動機構と、加熱位置に位置す
る高周波加熱コイルの給電導体に接触する接触部を有す
るカレントトランスと、このカレントトランスを移動さ
せるトランス移動機構とを具備しており、前記コイル移
動機構は、高周波加熱コイルがワークを加熱する複数の
加熱位置とワークを支持部に着脱する退避位置との間で
移動させ、前記トランス移動機構は、接触部が各加熱位
置にある高周波加熱コイルの給電導体に接触させるよう
になっている。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の形態に係る
高周波加熱装置の高周波加熱コイルが加熱位置にある状
態の概略的側面図、図２は本発明の実施の形態に係る高
周波加熱装置の高周波加熱コイルが退避位置にある状態
の概略的側面図、図３は本発明の実施の形態に係る高周
波加熱装置の高周波加熱コイルが加熱位置にある状態の
概略的平面図である。
高周波加熱装置の高周波加熱コイルが加熱位置にある状
態の概略的側面図、図２は本発明の実施の形態に係る高
周波加熱装置の高周波加熱コイルが退避位置にある状態
の概略的側面図、図３は本発明の実施の形態に係る高周
波加熱装置の高周波加熱コイルが加熱位置にある状態の
概略的平面図である。
【０００８】また、図４は本発明の他の実施の形態に係
る高周波加熱装置の高周波加熱コイルが第１の加熱位置
にある状態の概略的側面図、図５は本発明の他の実施の
形態に係る高周波加熱装置の高周波加熱コイルが第２の
加熱位置にある状態の概略的側面図である。なお、従来
のものと略同一の部品等には同一の符号を付して説明を
行う。
る高周波加熱装置の高周波加熱コイルが第１の加熱位置
にある状態の概略的側面図、図５は本発明の他の実施の
形態に係る高周波加熱装置の高周波加熱コイルが第２の
加熱位置にある状態の概略的側面図である。なお、従来
のものと略同一の部品等には同一の符号を付して説明を
行う。
【０００９】本発明の実施の形態に係る高周波加熱装置
は、図１に示すように、ワークＷを支持する支持部１０
０と、ワークＷを加熱する高周波加熱コイル２００と、
この高周波加熱コイル２００を移動させるコイル移動機
構３００と、加熱位置Ｐ１に位置する高周波加熱コイル
２００の給電導体２２０に接触する接触部４１０を有す
るカレントトランス４００とを備えており、前記コイル
移動機構３００は、ワークＷを加熱する加熱位置Ｐ１と
ワークＷを前記支持部１００に着脱する退避位置Ｐ２と
の間で高周波加熱コイル２００を移動させるものであ
り、前記給電導体２２０は接触部４１０に直接接触させ
られるようになっている。
は、図１に示すように、ワークＷを支持する支持部１０
０と、ワークＷを加熱する高周波加熱コイル２００と、
この高周波加熱コイル２００を移動させるコイル移動機
構３００と、加熱位置Ｐ１に位置する高周波加熱コイル
２００の給電導体２２０に接触する接触部４１０を有す
るカレントトランス４００とを備えており、前記コイル
移動機構３００は、ワークＷを加熱する加熱位置Ｐ１と
ワークＷを前記支持部１００に着脱する退避位置Ｐ２と
の間で高周波加熱コイル２００を移動させるものであ
り、前記給電導体２２０は接触部４１０に直接接触させ
られるようになっている。
【００１０】前記支持部１００は、ワークＷの一端を把
持する把持部１１０と、この把持部１１０と対向してワ
ークＷの他端を支持するワークセンタ１２０と、前記把
持部１１０を回転駆動させる駆動部 (図示省略) とを有
している。この支持部１１０で支持されたワークＷは、
駆動部によって中心軸回りに回転駆動させられることに
なる。
持する把持部１１０と、この把持部１１０と対向してワ
ークＷの他端を支持するワークセンタ１２０と、前記把
持部１１０を回転駆動させる駆動部 (図示省略) とを有
している。この支持部１１０で支持されたワークＷは、
駆動部によって中心軸回りに回転駆動させられることに
なる。
【００１１】高周波加熱コイル２００は、略リング状に
なった加熱導体２１０と、この加熱導体２１０に接続し
て設けられる一対の給電導体２２０とを有している。略
リング状の加熱導体２１０の内側にワークＷが入り込
み、ワークＷの周面と加熱導体２１０の内面とは所定の
間隔を有して対向するようになっている。
なった加熱導体２１０と、この加熱導体２１０に接続し
て設けられる一対の給電導体２２０とを有している。略
リング状の加熱導体２１０の内側にワークＷが入り込
み、ワークＷの周面と加熱導体２１０の内面とは所定の
間隔を有して対向するようになっている。
【００１２】前記コイル移動機構３００は、高周波加熱
コイル２００をワークＷに沿って移動させるものであ
り、ワークセンタ１２０側に設けられている。かかるコ
イル移動機構３００は、油圧或いは空気圧等で駆動され
るシリンダ３１０と、このシリンダ３１０のシャフト３
２０の先端に設けられる連結部材３３０とを有してい
る。
コイル２００をワークＷに沿って移動させるものであ
り、ワークセンタ１２０側に設けられている。かかるコ
イル移動機構３００は、油圧或いは空気圧等で駆動され
るシリンダ３１０と、このシリンダ３１０のシャフト３
２０の先端に設けられる連結部材３３０とを有してい
る。
【００１３】前記シリンダ３１０は、シャフト３２０を
最も伸ばした位置より若干手前側が加熱位置Ｐ１にな
り、シャフト３２０を最も縮めた位置より若干向こう側
が退避位置Ｐ２になるように設定されている。
最も伸ばした位置より若干手前側が加熱位置Ｐ１にな
り、シャフト３２０を最も縮めた位置より若干向こう側
が退避位置Ｐ２になるように設定されている。
【００１４】なお、加熱位置Ｐ１は、ワークＷの所定の
加熱すべき箇所に高周波加熱コイル２００の加熱導体２
１０の内面側が対向する位置であり、退避位置Ｐ２は、
高周波加熱コイル２００の加熱導体２１０の内面側がワ
ークセンタ１２０に対向する位置である。従って、退避
位置Ｐ２では、ワークＷは支持部１００に対して着脱自
在になっている。
加熱すべき箇所に高周波加熱コイル２００の加熱導体２
１０の内面側が対向する位置であり、退避位置Ｐ２は、
高周波加熱コイル２００の加熱導体２１０の内面側がワ
ークセンタ１２０に対向する位置である。従って、退避
位置Ｐ２では、ワークＷは支持部１００に対して着脱自
在になっている。
【００１５】前記連結部材３３０は、前記給電導体２２
０に取り付けられた凹部材３３１と、シャフト３２０の
先端と凹部材３３１とを連結するピン３３２とを有して
いる。前記凹部材３３１は、平面視略凹字形状でかつ側
面視略凹字形状に形成されている。平面方向からみて突
出している箇所には高周波加熱コイル２００の給電導体
２２０が取り付けられ、側面方向からみて凹んでいる部
分にはシャフト３２０の先端が入り込んでピン３３２に
より連結されている。
０に取り付けられた凹部材３３１と、シャフト３２０の
先端と凹部材３３１とを連結するピン３３２とを有して
いる。前記凹部材３３１は、平面視略凹字形状でかつ側
面視略凹字形状に形成されている。平面方向からみて突
出している箇所には高周波加熱コイル２００の給電導体
２２０が取り付けられ、側面方向からみて凹んでいる部
分にはシャフト３２０の先端が入り込んでピン３３２に
より連結されている。
【００１６】なお、連結部材３３０を構成する各部材の
うち、少なくとも凹部材３３１は絶縁性を有し、耐熱性
に優れた材料から構成される。
うち、少なくとも凹部材３３１は絶縁性を有し、耐熱性
に優れた材料から構成される。
【００１７】また、図示はしていないが、このコイル移
動機構３００には、高周波加熱コイル２００が退避位置
Ｐ２と加熱位置Ｐ１との間で真っ直ぐ移動するように、
ガイドが設けられているものとする。
動機構３００には、高周波加熱コイル２００が退避位置
Ｐ２と加熱位置Ｐ１との間で真っ直ぐ移動するように、
ガイドが設けられているものとする。
【００１８】前記カレントトランス４００は、前記給電
導体２２０に対向した一対の接触部４１０が側面から突
出している。この接触部４１０は、平面視略Ｌ字形状で
かつ側面視略逆Ｌ字形状に形成されている。これは、前
記給電導体２２０を接触部４１０に確実に接触させるた
めである。
導体２２０に対向した一対の接触部４１０が側面から突
出している。この接触部４１０は、平面視略Ｌ字形状で
かつ側面視略逆Ｌ字形状に形成されている。これは、前
記給電導体２２０を接触部４１０に確実に接触させるた
めである。
【００１９】また、カレントトランス４００は図示しな
い強固なフレームに取り付けられており、接触部４１０
に給電導体２２０が接触する位置が加熱位置Ｐ１になる
ようにその取付位置が決定されている。
い強固なフレームに取り付けられており、接触部４１０
に給電導体２２０が接触する位置が加熱位置Ｐ１になる
ようにその取付位置が決定されている。
【００２０】次に、上述した高周波加熱装置によるワー
クＷの高周波焼入について説明する。まず、高周波加熱
コイル２００が退避位置Ｐ２にある時にワークＷを支持
部１００に支持させる。高周波加熱コイル２００をコイ
ル移動機構３００により、退避位置Ｐ２から加熱位置Ｐ
１まで移動させる。
クＷの高周波焼入について説明する。まず、高周波加熱
コイル２００が退避位置Ｐ２にある時にワークＷを支持
部１００に支持させる。高周波加熱コイル２００をコイ
ル移動機構３００により、退避位置Ｐ２から加熱位置Ｐ
１まで移動させる。
【００２１】高周波加熱コイル２００が加熱位置Ｐ１に
達すると、図１及び図３に示すように、一対の給電導体
２２０がカレントトランス４００の接触部４１０に直接
接触する。すると、高周波加熱コイル２００には高周波
電流が供給され、ワークＷのうち加熱導体２１０と対向
する部分が誘導加熱される。所定の加熱が完了したなら
ば、図外の冷却ジャケットから冷却液を噴射して高周波
焼入を施す。
達すると、図１及び図３に示すように、一対の給電導体
２２０がカレントトランス４００の接触部４１０に直接
接触する。すると、高周波加熱コイル２００には高周波
電流が供給され、ワークＷのうち加熱導体２１０と対向
する部分が誘導加熱される。所定の加熱が完了したなら
ば、図外の冷却ジャケットから冷却液を噴射して高周波
焼入を施す。
【００２２】高周波焼入が完了したならば、コイル移動
機構３００により高周波加熱コイル２００を加熱位置Ｐ
１から退避位置Ｐ２まで移動させ、ワークＷの交換作業
を行う。
機構３００により高周波加熱コイル２００を加熱位置Ｐ
１から退避位置Ｐ２まで移動させ、ワークＷの交換作業
を行う。
【００２３】次に、本発明の他の実施の形態に係る高周
波加熱装置を図４及び図５を参照しつつ説明する。この
高周波加熱装置が上述したものと相違する点は、上述し
た高周波加熱装置ではワークＷの加熱すべき箇所は１箇
所であったのに対し、これは複数箇所（この実施の形態
では２箇所）である点である。
波加熱装置を図４及び図５を参照しつつ説明する。この
高周波加熱装置が上述したものと相違する点は、上述し
た高周波加熱装置ではワークＷの加熱すべき箇所は１箇
所であったのに対し、これは複数箇所（この実施の形態
では２箇所）である点である。
【００２４】かかる相違のために、この高周波加熱装置
では、カレントトランス４００を移動させるトランス移
動機構５００を追加している。このトランス移動機構５
００は、カレントトランス４００をワークＷに沿って移
動させるガイド５１０と、カレントトランス４００を初
期位置に押し戻そうとするシリンダ５２０とを有してい
る。
では、カレントトランス４００を移動させるトランス移
動機構５００を追加している。このトランス移動機構５
００は、カレントトランス４００をワークＷに沿って移
動させるガイド５１０と、カレントトランス４００を初
期位置に押し戻そうとするシリンダ５２０とを有してい
る。
【００２５】このトランス移動機構５００の初期位置と
は、高周波加熱コイル２００が第１の加熱位置Ｐ１１に
ある場合に、高周波加熱コイル２００の給電導体２２０
がカレントトランス４００の接触部４１０に接触する位
置をいう。すなわち、図４に示される位置である。
は、高周波加熱コイル２００が第１の加熱位置Ｐ１１に
ある場合に、高周波加熱コイル２００の給電導体２２０
がカレントトランス４００の接触部４１０に接触する位
置をいう。すなわち、図４に示される位置である。
【００２６】かかるトランス移動機構５００は、初期位
置から第２の加熱位置Ｐ１２まではコイル移動機構３０
０に従動するが、第２の加熱位置Ｐ１２から初期位置ま
では、シリンダ５２０の力により自動的に初期位置に復
帰するように構成されている。
置から第２の加熱位置Ｐ１２まではコイル移動機構３０
０に従動するが、第２の加熱位置Ｐ１２から初期位置ま
では、シリンダ５２０の力により自動的に初期位置に復
帰するように構成されている。
【００２７】かかる高周波加熱装置によるワークＷの高
周波焼入について説明する。まず、高周波加熱コイル２
００が退避位置Ｐ２にある時にワークＷを支持部１００
に支持させる。次に、高周波加熱コイル２００をコイル
移動機構３００により、退避位置Ｐ２から第１の加熱位
置Ｐ１１まで移動させる。
周波焼入について説明する。まず、高周波加熱コイル２
００が退避位置Ｐ２にある時にワークＷを支持部１００
に支持させる。次に、高周波加熱コイル２００をコイル
移動機構３００により、退避位置Ｐ２から第１の加熱位
置Ｐ１１まで移動させる。
【００２８】高周波加熱コイル２００が第１の加熱位置
Ｐ１１に達すると、高周波加熱コイル２００の給電導体
２２０は、初期位置にあるカレントトランス４００の接
触部４１０に接触し、ワークＷに対する誘導加熱が行わ
れる。
Ｐ１１に達すると、高周波加熱コイル２００の給電導体
２２０は、初期位置にあるカレントトランス４００の接
触部４１０に接触し、ワークＷに対する誘導加熱が行わ
れる。
【００２９】第１の加熱位置Ｐ１１における加熱が完了
したならば、コイル移動機構３００は、高周波加熱コイ
ル２００をさらに第２の加熱位置Ｐ１２へと移動させ
る。この間にすでに加熱された部分には図外の冷却ジャ
ケットから冷却液が噴射されて高周波焼入が施される。
なお、この際、カレントトランス４００の発振を停止さ
せることが望ましい。
したならば、コイル移動機構３００は、高周波加熱コイ
ル２００をさらに第２の加熱位置Ｐ１２へと移動させ
る。この間にすでに加熱された部分には図外の冷却ジャ
ケットから冷却液が噴射されて高周波焼入が施される。
なお、この際、カレントトランス４００の発振を停止さ
せることが望ましい。
【００３０】高周波加熱コイル２００が第２の加熱位置
Ｐ１２に達したならば、カレントトランス４００の発振
を再開し、第２の加熱位置Ｐ１２においてワークＷに誘
導加熱を施す。第２の加熱位置Ｐ１２における誘導加熱
が完了したならば、コイル移動機構３００は高周波加熱
コイル２００を退避位置Ｐ２へと移動させる。これに伴
って、カレントトランス４００は初期位置に自動的に復
帰する。この間にすでに加熱された部分には図外の冷却
ジャケットから冷却液が噴射されて高周波焼入が施され
る。
Ｐ１２に達したならば、カレントトランス４００の発振
を再開し、第２の加熱位置Ｐ１２においてワークＷに誘
導加熱を施す。第２の加熱位置Ｐ１２における誘導加熱
が完了したならば、コイル移動機構３００は高周波加熱
コイル２００を退避位置Ｐ２へと移動させる。これに伴
って、カレントトランス４００は初期位置に自動的に復
帰する。この間にすでに加熱された部分には図外の冷却
ジャケットから冷却液が噴射されて高周波焼入が施され
る。
【００３１】なお、上述した他の実施の形態では、ワー
クＷの２箇所を加熱するようにしたが、３箇所以上を加
熱するようにしてもよいことはいうまでもない。
クＷの２箇所を加熱するようにしたが、３箇所以上を加
熱するようにしてもよいことはいうまでもない。
【００３２】また、トランス移動機構５００が、カレン
トトランス４００を初期位置に復帰させるように説明し
たが、コイル移動機構３００の力によって初期位置に復
帰させるようにしてもよい。この場合には、高周波加熱
コイル２００とカレントトランス４００との間に、第１
の加熱位置Ｐ１１に達した高周波加熱コイル２００とカ
レントトランス４００とを機械的に結合させるととも
に、再び第１の加熱位置に高周波加熱コイル２００が戻
ってきた時に前記結合を解除する周知の結合機構を設け
ておく必要がある。
トトランス４００を初期位置に復帰させるように説明し
たが、コイル移動機構３００の力によって初期位置に復
帰させるようにしてもよい。この場合には、高周波加熱
コイル２００とカレントトランス４００との間に、第１
の加熱位置Ｐ１１に達した高周波加熱コイル２００とカ
レントトランス４００とを機械的に結合させるととも
に、再び第１の加熱位置に高周波加熱コイル２００が戻
ってきた時に前記結合を解除する周知の結合機構を設け
ておく必要がある。
【００３３】請求項１に係る高周波加熱装置は、ワーク
を支持する支持部と、ワークを加熱する高周波加熱コイ
ルと、この高周波加熱コイルを移動させるコイル移動機
構と、加熱位置に位置する高周波加熱コイルの給電導体
に接触する接触部を有するカレントトランスとを備えて
おり、前記コイル移動機構は、ワークを加熱する加熱位
置とワークを前記支持部に着脱する退避位置との間で高
周波加熱コイルを移動させるものであり、前記給電導体
は接触部に直接接触させられるようになっている。
を支持する支持部と、ワークを加熱する高周波加熱コイ
ルと、この高周波加熱コイルを移動させるコイル移動機
構と、加熱位置に位置する高周波加熱コイルの給電導体
に接触する接触部を有するカレントトランスとを備えて
おり、前記コイル移動機構は、ワークを加熱する加熱位
置とワークを前記支持部に着脱する退避位置との間で高
周波加熱コイルを移動させるものであり、前記給電導体
は接触部に直接接触させられるようになっている。
【００３４】この高周波加熱装置によると、カレントト
ランスは固定であり、高周波加熱コイルのみが移動させ
られ、加熱位置に達した高周波加熱コイルの給電導体と
カレントトランスの接触部が接触して高周波加熱コイル
に高周波電流が供給されるので、従来のように大型で重
量物であるカレントトランスを移動させる必要がない。
このため、全体の構成を簡単にすることができるという
効果がある。また、高周波加熱コイルを直接移動させる
ため、その位置決めが正確に行えるので、加熱位置の精
度が高くなるという効果もある。さらに、コイル移動機
構は、カレントトランスと比較すると格段に軽い高周波
加熱コイルを移動させるものであるため、作業性やメン
テナンスも容易になる。
ランスは固定であり、高周波加熱コイルのみが移動させ
られ、加熱位置に達した高周波加熱コイルの給電導体と
カレントトランスの接触部が接触して高周波加熱コイル
に高周波電流が供給されるので、従来のように大型で重
量物であるカレントトランスを移動させる必要がない。
このため、全体の構成を簡単にすることができるという
効果がある。また、高周波加熱コイルを直接移動させる
ため、その位置決めが正確に行えるので、加熱位置の精
度が高くなるという効果もある。さらに、コイル移動機
構は、カレントトランスと比較すると格段に軽い高周波
加熱コイルを移動させるものであるため、作業性やメン
テナンスも容易になる。
【００３５】また、請求項２に係る高周波加熱装置は、
複数の箇所を加熱されるワークを支持する支持部と、ワ
ークを加熱する高周波加熱コイルと、この高周波加熱コ
イルを移動させるコイル移動機構と、加熱位置に位置す
る高周波加熱コイルの給電導体に接触する接触部を有す
るカレントトランスと、このカレントトランスを移動さ
せるトランス移動機構とを備えており、前記コイル移動
機構は、高周波加熱コイルがワークを加熱する複数の加
熱位置とワークを支持部に着脱する退避位置との間で移
動させ、前記トランス移動機構は、接触部が各加熱位置
にある高周波加熱コイルの給電導体に接触させるべく移
動するように構成されている。
複数の箇所を加熱されるワークを支持する支持部と、ワ
ークを加熱する高周波加熱コイルと、この高周波加熱コ
イルを移動させるコイル移動機構と、加熱位置に位置す
る高周波加熱コイルの給電導体に接触する接触部を有す
るカレントトランスと、このカレントトランスを移動さ
せるトランス移動機構とを備えており、前記コイル移動
機構は、高周波加熱コイルがワークを加熱する複数の加
熱位置とワークを支持部に着脱する退避位置との間で移
動させ、前記トランス移動機構は、接触部が各加熱位置
にある高周波加熱コイルの給電導体に接触させるべく移
動するように構成されている。
【００３６】このため、ワークの複数箇所に高周波加熱
を施すことができる。ここで、カレントトランスもトラ
ンス移動機構で移動させるが、従来のようにカレントト
ランスと高周波加熱コイルとは一体ではなく別体になっ
ているため、従来のように、加熱位置の精度が低くなる
という問題点は解消されている。すなわち、従来のもの
であれば、カレントトランスの移動に伴って高周波加熱
コイルが移動させられるのであるが、これでは高周波加
熱コイルはコイル移動機構で、カレントトランスはトラ
ンス移動機構で別々に移動させられるため、加熱位置の
精度の問題は解消するのである。
を施すことができる。ここで、カレントトランスもトラ
ンス移動機構で移動させるが、従来のようにカレントト
ランスと高周波加熱コイルとは一体ではなく別体になっ
ているため、従来のように、加熱位置の精度が低くなる
という問題点は解消されている。すなわち、従来のもの
であれば、カレントトランスの移動に伴って高周波加熱
コイルが移動させられるのであるが、これでは高周波加
熱コイルはコイル移動機構で、カレントトランスはトラ
ンス移動機構で別々に移動させられるため、加熱位置の
精度の問題は解消するのである。
【図１】本発明の実施の形態に係る高周波加熱装置の高
周波加熱コイルが加熱位置にある状態の概略的側面図で
ある。
周波加熱コイルが加熱位置にある状態の概略的側面図で
ある。
【図２】本発明の実施の形態に係る高周波加熱装置の高
周波加熱コイルが退避位置にある状態の概略的側面図で
ある。
周波加熱コイルが退避位置にある状態の概略的側面図で
ある。
【図３】本発明の実施の形態に係る高周波加熱装置の高
周波加熱コイルが加熱位置にある状態の概略的平面図で
ある。
周波加熱コイルが加熱位置にある状態の概略的平面図で
ある。
【図４】本発明の他の実施の形態に係る高周波加熱装置
の高周波加熱コイルが第１の加熱位置にある状態の概略
的側面図である。
の高周波加熱コイルが第１の加熱位置にある状態の概略
的側面図である。
【図５】本発明の他の実施の形態に係る高周波加熱装置
の高周波加熱コイルが第２の加熱位置にある状態の概略
的側面図である。
の高周波加熱コイルが第２の加熱位置にある状態の概略
的側面図である。
【図６】従来のこの種の高周波加熱装置の概略的側面図
である。
である。
１００ 支持部 ２００ 高周波加熱コイル ２１０ 加熱導体 ２２０ 給電導体 ３００ コイル移動機構 ４００ カレントトランス ４１０ 接触部 Ｐ１ 加熱位置 Ｐ２ 退避位置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C21D 1/10 C21D 1/42 H05B 6/10
Claims (2)
- 【請求項１】 ワークを支持する支持部と、ワークを加
熱する高周波加熱コイルと、この高周波加熱コイルを移
動させるコイル移動機構と、加熱位置に位置する高周波
加熱コイルの給電導体に接触する接触部を有するカレン
トトランスとを具備しており、前記コイル移動機構は、
ワークを加熱する加熱位置とワークを前記支持部に着脱
する退避位置との間で高周波加熱コイルを移動させるも
のであり、前記給電導体は接触部に直接接触させられる
ことを特徴とする高周波加熱装置。 - 【請求項２】 複数の箇所を加熱されるワークを支持す
る支持部と、ワークを加熱する高周波加熱コイルと、こ
の高周波加熱コイルを移動させるコイル移動機構と、加
熱位置に位置する高周波加熱コイルの給電導体に接触す
る接触部を有するカレントトランスと、このカレントト
ランスを移動させるトランス移動機構とを具備してお
り、前記コイル移動機構は、高周波加熱コイルがワーク
を加熱する複数の加熱位置とワークを支持部に着脱する
退避位置との間で移動させ、前記トランス移動機構は、
接触部が各加熱位置にある高周波加熱コイルの給電導体
に接触させるべく移動することを特徴とする高周波加熱
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8087436A JP3070725B2 (ja) | 1996-03-14 | 1996-03-14 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8087436A JP3070725B2 (ja) | 1996-03-14 | 1996-03-14 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09249911A JPH09249911A (ja) | 1997-09-22 |
| JP3070725B2 true JP3070725B2 (ja) | 2000-07-31 |
Family
ID=13914825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8087436A Expired - Lifetime JP3070725B2 (ja) | 1996-03-14 | 1996-03-14 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3070725B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008096644A1 (ja) * | 2007-02-08 | 2008-08-14 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | 固定子の加熱方法、及び加熱装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5442458B2 (ja) | 2007-03-21 | 2014-03-12 | フィリップ・モーリス・プロダクツ・ソシエテ・アノニム | 香味強化を改善した多成分フィルタ |
| JP5621047B2 (ja) | 2010-11-23 | 2014-11-05 | シンベンティブ モールディング ソリューソンズ，インク． | 射出成形フロー制御装置および方法 |
-
1996
- 1996-03-14 JP JP8087436A patent/JP3070725B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5442458B2 (ja) | 2007-03-21 | 2014-03-12 | フィリップ・モーリス・プロダクツ・ソシエテ・アノニム | 香味強化を改善した多成分フィルタ |
| JP5621047B2 (ja) | 2010-11-23 | 2014-11-05 | シンベンティブ モールディング ソリューソンズ，インク． | 射出成形フロー制御装置および方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008096644A1 (ja) * | 2007-02-08 | 2008-08-14 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | 固定子の加熱方法、及び加熱装置 |
| CN101627526B (zh) * | 2007-02-08 | 2012-05-30 | 丰田自动车株式会社 | 定子的加热方法及加热装置 |
| US8344298B2 (en) | 2007-02-08 | 2013-01-01 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Process of measuring the temperature of coil end part and the stator core |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09249911A (ja) | 1997-09-22 |
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