JP3060091B2 - Overcoat composition for optical disc - Google Patents
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Landscapes
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は光ディスク用オーバ
ーコート組成物に関する。さらに詳しくは、紫外線等の
光照射により高速に硬化し、記録媒体との密着性、硬
度、耐久性等に優れた硬化塗膜を形成する、プロペニル
エーテル末端基化合物を含む光カチオン硬化型オーバー
コート組成物に関する。The present invention relates to an overcoat composition for an optical disc. More specifically, a cationic photocurable overcoat containing a propenyl ether terminal group compound that cures rapidly by irradiation with light such as ultraviolet light and forms a cured coating film with excellent adhesion to recording media, hardness, and durability. Composition.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、コンパクトディスク記録媒体など
の光ディスクの記録膜のためにオーバーコート剤が塗布
されている。該オーバーコート剤としては、不飽和ポリ
エステル、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタ
ン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレー
トなどの光ラジカル硬化型オーバーコート剤(例えば特
開昭63−96036号公報)が知られている。しか
し、光ラジカル重合型の硬化は一般に体積収縮が起こ
り、記録媒体面に対するの密着性が低下し易く、さら
に、アクリル系組成物は特有の臭気を有し、作業環境の
汚染や皮膚刺激性が高いという問題点がある。さらに、
UV硬化に際して空気(酸素)が介在するとラジカル硬
化反応が阻害されるため、不活性ガス雰囲気中でUV照
射を行う必要があり、装置の面でも制約があった。この
ようなラジカル硬化型の問題点を改善するものとして、
エポキシ系の光カチオン硬化性樹脂があるが、該樹脂は
光反応性が低いため、硬化時に多大のUVエネルギーを
必要とする。そのため、高UVエネルギー照射装置を必
要としたり、照射時間が長くかかるという欠点があっ
た。このような光カチオン硬化性樹脂の反応性の低さを
向上させる方法として、脂環式エポキシ化合物をベース
レジンまたは希釈剤として用いる方法が提案されている
(特開平5−186755号公報など)。2. Description of the Related Art Conventionally, an overcoat agent has been applied to a recording film of an optical disc such as a compact disc recording medium. As the overcoating agent, a radical photocurable overcoating agent such as unsaturated polyester, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate (for example, JP-A-63-96036) is known. Have been. However, photo-radical polymerization-type curing generally causes volume shrinkage, and the adhesion to the recording medium surface tends to decrease.Furthermore, the acrylic composition has a peculiar odor, which causes contamination of the working environment and skin irritation. There is a problem that it is expensive. further,
The presence of air (oxygen) during the UV curing hinders the radical curing reaction, so that it is necessary to perform UV irradiation in an inert gas atmosphere, which also imposes restrictions on the apparatus. In order to improve the problem of such radical curing type,
Although there is an epoxy-based cationic photocurable resin, the resin requires a large amount of UV energy during curing due to low photoreactivity. Therefore, there are drawbacks that a high UV energy irradiation device is required and irradiation time is long. As a method of improving the low reactivity of such a photocationic curable resin, a method of using an alicyclic epoxy compound as a base resin or a diluent has been proposed (Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-186755).
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記脂
環式エポキシ化合物を用いた光カチオン硬化型の反応速
度も、従来の光ラジカル硬化性樹脂に比べると遅く、し
かも工業的に入手できる脂環式エポキシ化合物の種類は
限られており、実用性能を満足できるものを得るのは困
難であった。本発明は、有機溶剤、刺激性のモノマー、
オリゴマーなどを含まず、UV等の活性エネルギー線を
照射することにより高速に硬化し、ディスク基材に対す
るの密着性、耐久性、硬度等にすぐれ硬化物を与える光
ディスク用オーバーコート組成物を提供することを目的
とする。本発明のオーバーコート組成物は、従来技術に
おける種々の問題点、すなわち作業者に対する有害性、
環境汚染、臭気問題、硬化速度、塗膜物性等を大幅に改
善するものである。However, the reaction rate of the photo-cation-curing type using the alicyclic epoxy compound is slower than that of the conventional photo-radical curable resin, and moreover, the alicyclic type is commercially available. The types of epoxy compounds are limited, and it has been difficult to obtain epoxy compounds satisfying practical performance. The present invention relates to an organic solvent, an irritating monomer,
Provided is an overcoat composition for an optical disc that does not contain an oligomer or the like, cures at high speed by irradiating active energy rays such as UV, and gives a cured product having excellent adhesion to a disc substrate, durability, and hardness. The purpose is to: The overcoat composition of the present invention has various problems in the prior art, i.e., harm to workers,
It greatly improves environmental pollution, odor problems, curing speed, coating film properties, and the like.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決する光ディスクオーバーコート剤について鋭意
検討を重ねた結果、本発明に到達した。すなわち本発明
の光ディスク用オーバーコート組成物の特徴は、一般式
(1)で表されるプロペニルエーテル末端基を有する
(ポリ)エーテルオリゴマー、プロペニルエーテル末端
基を有するポリエステルオリゴマー、プロペニルエーテ
ル末端基を有するウレタンオリゴマーおよび一般式
(6)、一般式(6’)または一般式(7)で表される
プロペニルエーテル末端基を有するモノマーの群から選
ばれる分子内に少なくとも2個のプロペニルエーテル末
端基を有する化合物(A)の1種以上、並びに光カチオ
ン重合開始剤(B)を必須成分とする点にある。Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies on an optical disk overcoat agent which solves the above-mentioned problems, and as a result, have reached the present invention. That is, the overcoat composition for an optical disc according to the present invention is characterized by a (poly) ether oligomer having a propenyl ether terminal group represented by the general formula (1), a polyester oligomer having a propenyl ether terminal group, and having a propenyl ether terminal group. It has at least two propenyl ether terminal groups in a molecule selected from the group consisting of urethane oligomers and monomers having propenyl ether terminal groups represented by the general formula (6), (6 ′) or (7). One or more compounds (A) and the cationic photopolymerization initiator (B) are essential components.
【0005】[0005]
【化10】 X1[−O−(AO)m−R1]n (1) {式中、nは3〜200の整数であり、n個のmは0〜
200の整数であり、mの少なくとも1個は1以上であ
る。n個のR1の少なくとも2個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。Aは炭素数2〜12のアルキレン、アリー
レン、アラルキレンまたはシクロアルキレン基であり、
mが2以上の場合のAは同一でも異なっていてもよく、
(AO)m部分はランダム付加でもブロック付加でもよ
い。X1は多価アルコール残基である。}X 1 [—O— (AO) m—R 1 ] n (1) In the formula, n is an integer of 3 to 200;
An integer of 200, and at least one of m is 1 or more. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. A is an alkylene having 2 to 12 carbon atoms, arylene, aralkylene or cycloalkylene group,
When m is 2 or more, A may be the same or different,
The (AO) m portion may be random addition or block addition. X 1 is a polyhydric alcohol residue. }
【化11】 X1[−O−R1]n (6) {式中、nは2〜200の整数であり、X1は、ポリグ
リセリン(グリセリンの2〜18量体)の残基である。
n個のR1の少なくとも2個はプロペニル基であり、残
りはアルキル、アシルまたはアリール基でもよい。}X 1 [—OR 1 ] n (6) wherein n is an integer of 2 to 200, and X 1 is a residue of polyglycerin (2 to 18-mer of glycerin). is there.
At least two of the n R 1 are propenyl groups, and the rest may be alkyl, acyl or aryl groups. }
【化12】 X1[−O−R1]n (6’) {式中、nは2〜200の整数であり、X1は、トリメ
チロールアルカンの2〜3量体の残基である。n個のR
1の少なくとも2個はプロペニル基であり、残りは水素
原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。}X 1 [—O—R 1 ] n (6 ′) wherein n is an integer of 2 to 200, and X 1 is a residue of a 2- to 3-trimer of trimethylolalkane. . n R
At least two of 1 are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【化13】 Y1[−CO−X2O−R1]n (7) ‖ O {式中、nは2〜200の整数、X2は、HOX2OHで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Y1は多価カルボン酸残基である。n個のR1の少な
くとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシルまたはアリール基でもよい。}Embedded image Y 1 [—CO—X 2 O—R 1 ] n (7) ‖ In the formula, n is an integer of 2 to 200, and X 2 is a residue of any one of alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol and polycarbonate diol represented by HOX 2 OH, Y 1 is a polyvalent carboxylic acid residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】本発明の(A)として、特に好ま
しくはプロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリ
ゴマーである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As (A) of the present invention, a urethane oligomer having a propenyl ether terminal group is particularly preferred.
【0007】該一般式(1)において、Aは炭素数1〜
12のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシ
クロアルキレン基よりなる群から選ばれる2価の基であ
り、使用しうるアルキレン基の例には、メチレン、エチ
レン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレ
ン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウ
ンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。アリーレン基
の例にはフェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェ
ナントリレン等が挙げられる。アラルキレンの例には、
ベンジレン、1−フェニチレン、2−フェニチレン、3
−フェニルプロピレン、2−フェニルプロピレン、1−
フェニルプロピレンなどが挙げられる。シクロアルキレ
ン基の例には、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、
シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙げられる。
これらのうち好ましくは、エチレン基およびプロピレン
基である。アルキレン基の炭素数が12を越えるもので
は後述する光カチオン重合開始剤(B)の溶解性が悪く
なる。In the general formula (1), A represents a group having 1 to 1 carbon atoms.
12 alkylene, arylene, aralkylene and divalent groups selected from the group consisting of cycloalkylene groups, examples of alkylene groups that can be used include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, heptylene, Octylene, nonylene, decylene, undecylene, dodecylene and the like can be mentioned. Examples of the arylene group include phenylene, naphthylene, anthrylene, phenanthrylene and the like. Examples of aralkylene include:
Benzylene, 1-phenylene, 2-phenylene, 3
-Phenylpropylene, 2-phenylpropylene, 1-
Phenylpropylene and the like. Examples of cycloalkylene groups include cyclopentylene, cyclohexylene,
Cycloheptylene, cyclooctylene and the like can be mentioned.
Of these, an ethylene group and a propylene group are preferred. If the alkylene group has more than 12 carbon atoms, the solubility of the cationic photopolymerization initiator (B) described later will be poor.
【0008】X1は多価アルコール残基であり、該多価
アルコールとしては、グリセリン、ポリグリセリン(グ
リセリンの2〜18量体、例えばジグリセリン、トリグ
リセリン、テトラグリセリン等)、グリシドールの開環
重合物(重合度が2〜5000である化合物)、トリメ
チロールアルカン(トリメチロールエタン、トリメチロ
ールプロパン、トリメチロールブタン等)およびこれら
の2〜3量体、モノペンタエリスリトール、ジペンタエ
リスリトール、1,3,5−ペンタエリスリトール、ソ
ルビトール、ソルビタンソルビタングリセリン縮合物等
が挙げられる。これらのうち特に好ましいものはグリセ
リン、ポリグリセリン、ならびにトリメチロールアルカ
ンおよびその2〜3量体である。X 1 is a polyhydric alcohol residue. Examples of the polyhydric alcohol include glycerin, polyglycerin (2 to 18-mer of glycerin, such as diglycerin, triglycerin, tetraglycerin, etc.) and glycidol ring opening. Polymers (compounds having a degree of polymerization of 2 to 5000), trimethylolalkanes (trimethylolethane, trimethylolpropane, trimethylolbutane and the like) and their dimers and trimers, monopentaerythritol, dipentaerythritol, 3,5-pentaerythritol, sorbitol, sorbitan sorbitan glycerin condensate, and the like. Of these, particularly preferred are glycerin, polyglycerin, and trimethylolalkane and its dimers and trimers.
【0009】該一般式(1)において、n個のmは通常
0〜200の整数であり、mの少なくとも1個は通常1
以上、好ましくは1〜80、特に好ましくは1〜5の整
数である。mが200を超えると粘度が高くなり(B)
の溶解が困難になる。In the general formula (1), n m is usually an integer of 0 to 200, and at least one of m is usually 1
The above is preferably an integer of 1 to 80, particularly preferably 1 to 5. When m exceeds 200, the viscosity increases (B).
Becomes difficult to dissolve.
【0010】また、nは通常2〜200、好ましくは3
〜100、特に好ましくは3〜5の整数である。nが2
00を超えると、粘度が高くなり開始剤(B)の溶解が
困難になる。n個のR1の少なくとも2個はプロペニル
基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはア
リール基でもよい。N is usually 2 to 200, preferably 3
To 100, particularly preferably an integer of 3 to 5. n is 2
If it exceeds 00, the viscosity increases and the dissolution of the initiator (B) becomes difficult. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups.
【0011】本発明におけるプロペニルエーテル末端基
を有するポリエステルオリゴマーとしては、下記一般式
(2)、(3)または(4)で表される化合物が挙げら
れる。The polyester oligomer having a propenyl ether terminal group in the present invention includes a compound represented by the following general formula (2), (3) or (4).
【0012】 {式中、mは1〜200の整数、nは2〜200の整数
であり、X2、X3はそれぞれHOX2OH、HOX3OH
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
あり、Y1は多価カルボン酸残基であり、Y2は2価カル
ボン酸残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又
はアリール基でもよい。}[0012] In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, and X 2 and X 3 are HOX 2 OH and HOX 3 OH, respectively.
Represented by an alkylene diol, arylene diol,
Polyether diol, a residue of any of the diols of the polyurethane diols or polycarbonate diols, Y 1 is a polyvalent carboxylic acid residue, Y 2 is a divalent carboxylic acid residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【0013】該一般式(2)におけるX2は、HOX2O
Hで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオー
ル、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまた
はポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残
基である。X 2 in the general formula (2) is HOX 2 O
H is a residue of any of diols of alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol and polycarbonate diol.
【0014】HOX2OHで表されるアルキレンジオー
ルの具体例としては、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタン
ジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナン
ジオール、ネオペンチルグリコール、1.4−シクロヘ
キサンジオールなどがあげらる。これらのうち好ましく
は、エチレングリコールおよびプロピレングリコールで
ある。Specific examples of the alkylene diol represented by HOX 2 OH include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, and 1,9-nonane. Diol, neopentyl glycol, 1.4-cyclohexanediol and the like. Of these, ethylene glycol and propylene glycol are preferred.
【0015】HOX2OHで表されるアリーレンジオー
ルの具体例としては、カテコール、ビス(2−ヒドロキ
シフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)
メタン、ビスフェノールAなどが挙げられる。これらの
うち好ましくは、ビスフェノールAである。Specific examples of arylene diols represented by HOX 2 OH include catechol, bis (2-hydroxyphenyl) methane, bis (4-hydroxyphenyl)
Examples include methane and bisphenol A. Of these, bisphenol A is preferred.
【0016】HOX2OHで表されるポリエーテルジオ
ールの具体例としては、ポリ(オキシエチレン)ジオー
ル、ポリ(オキシプロピレン)ジオール、ポリ(オキシ
テトラメチレン)ジオール、ビスフェノールAのエチレ
ンオキサイド付加物、ビスフェノールAのプロピレンオ
キサイド付加物などが挙げられる。これらのうち好まし
くは、ポリ(オキシエチレン)ジオールおよびポリ(オ
キシプロピレン)ジオールである。Specific examples of the polyether diol represented by HOX 2 OH include poly (oxyethylene) diol, poly (oxypropylene) diol, poly (oxytetramethylene) diol, ethylene oxide adduct of bisphenol A, bisphenol And propylene oxide adduct of A. Of these, poly (oxyethylene) diol and poly (oxypropylene) diol are preferred.
【0017】上記ポリエーテルジオールの重合度は通常
1〜200、好ましくは2〜100、特に好ましくは3
〜20である。The degree of polymerization of the above polyether diol is usually from 1 to 200, preferably from 2 to 100, particularly preferably from 3 to 3.
-20.
【0018】HOX2OHで表されるポリウレタンジオ
ールの例としては、下記の(i)と(ii)との反応生
成物が挙げられる。 (i) H(OX5)m−OH で表されるジオール (ただし、mは1〜200の整数、X5は炭素数2〜1
2のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシク
ロアルキレンの基よりなる群から選ばれる2価の基であ
る。) (ii) OCN−Z3−NCO で表されるジイソシ
アネート (ただし、Z3はアルキレン、アリーレン、アラルキレ
ンおよびシクロアルキレンの基からなる群から選ばれる
2価の基である。)Examples of the polyurethane diol represented by HOX 2 OH include reaction products of the following (i) and (ii). (I) H (OX 5) diol represented by m-OH (provided that, m is an integer of 1 to 200, X 5 is a carbon number 2 to 1
And 2 divalent groups selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene and cycloalkylene groups. ) (Ii) a diisocyanate represented by OCN-Z 3 -NCO (However, Z 3 is a divalent group selected from the group consisting alkylene, arylene, a group aralkylene and cycloalkylene.)
【0019】上記(i)のジオールにおいて、mは通常
1〜200、好ましくは3〜20の整数である。In the above diol (i), m is an integer of usually 1 to 200, preferably 3 to 20.
【0020】上記(i)のジオールにおいて、X5は炭
素数2〜12のアルキレン、アリーレン、アラルキレン
およびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる2
価の基であり、使用しうるアルキレン基の例には、メチ
レン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、
へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシ
レン、ウンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。アリ
ーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、アントリレ
ン、フェナントリレン等が挙げられる。アルアルキレン
の例には、ベンジレン、1−フェニチレン、2−フェニ
チレン、3−フェニルプロピレン、2−フェニルプロピ
レン、1−フェニルプロピレンなどが挙げられる。シク
ロアルキレン基の例には、シクロペンチレン、シクロヘ
キシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙
げられる。これらのうち特に好ましくは、エチレン基お
よびプロピレン基である。アルキレン基の炭素数が12
を越えると重合開始剤(B)の溶解性が悪くなる。In the diol of the above (i), X 5 is 2 selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene and cycloalkylene groups having 2 to 12 carbon atoms.
Examples of the alkylene group that is a valent group and may be used include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene,
Hexylene, heptylene, octylene, nonylene, decylene, undecylene, dodecylene and the like can be mentioned. Examples of the arylene group include phenylene, naphthylene, anthrylene, phenanthrylene and the like. Examples of aralkylene include benzylene, 1-phenylene, 2-phenylene, 3-phenylpropylene, 2-phenylpropylene, 1-phenylpropylene, and the like. Examples of cycloalkylene groups include cyclopentylene, cyclohexylene, cycloheptylene, cyclooctylene and the like. Of these, particularly preferred are an ethylene group and a propylene group. When the carbon number of the alkylene group is 12
If the ratio exceeds the above range, the solubility of the polymerization initiator (B) becomes poor.
【0021】上記(ii)のジイソシアネートの例とし
ては、トルエンジイソシアネート(TDI)、p−およ
びm−フェニレンジイソシアネート、1,4−テトラメ
チレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイ
ソシアネート(HDI)、2,2,4−トリメチルヘキ
サメチレンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサン
ジイソシアネート、4,4’−ジシクロヘキシルメタン
ジイソシアネート(水添MDI)、4,4’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート(MDI)、3,3’−ジメ
チル−4、4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、
1,5−テトラヒドロナフタリンジイソシアネート、ナ
フタリン−1,5’−ジイソシアネート、ビス(2−メ
チル−3−イソシアナトフェニル)メタン、4,4’−
ジフェニルプロパンジイソシアネート、テトラメチルキ
シレンジイソシアネート(TMXDI)、イソホロンジ
イソシアネート(IPDI)などが挙げられる。これら
のうち好ましいものは、TDI、MDI、IPDI、T
MXDI、水添MDIおよびHDIである。Examples of the diisocyanate (ii) include toluene diisocyanate (TDI), p- and m-phenylene diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate (HDI), 2,2 4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI), 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 3,3'-dimethyl-4,4 '-Diphenylmethane diisocyanate,
1,5-tetrahydronaphthalene diisocyanate, naphthalene-1,5'-diisocyanate, bis (2-methyl-3-isocyanatophenyl) methane, 4,4'-
Examples include diphenylpropane diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate (TMXDI), and isophorone diisocyanate (IPDI). Preferred of these are TDI, MDI, IPDI, TDI
MXDI, hydrogenated MDI and HDI.
【0022】HOX2OHで表されるポリカーボネート
ジオールの例としては下記の一般式で表される化合物が
挙げられる。 (ただし、mは1〜200の整数であり、X6は炭素数
2〜12のアルキレン、アリーレン、アラルキレン、お
よびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる2価
の基である。)Examples of the polycarbonate diol represented by HOX 2 OH include compounds represented by the following general formula. (However, m is an integer of 1 to 200, and X 6 is a divalent group selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene, and cycloalkylene having 2 to 12 carbon atoms.)
【0023】上記一般式におけるmは通常1〜200、
好ましくは3〜20の整数である。M in the above general formula is usually from 1 to 200,
Preferably it is an integer of 3 to 20.
【0024】上記一般式におけるX6は炭素数2〜12
のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロ
アルキレンの基よりなる群から選ばれる2価の基であ
り、使用しうるアルキレン基の例には、メチレン、エチ
レン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレ
ン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウ
ンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。アリーレン基
の例にはフェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェ
ナントリレン等が挙げられる。アルアルキレンの例に
は、ベンジレン、1−フェニチレン、2−フェニチレ
ン、3−フェニルプロピレン、2−フェニルプロピレ
ン、1−フェニルプロピレンなどが挙げられる。シクロ
アルキレン基の例には、シクロペンチレン、シクロヘキ
シレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙げ
られる。これらのうち好ましくはエチレン基およびプロ
ピレン基である。X 6 in the above general formula has 2 to 12 carbon atoms.
Alkylene, arylene, aralkylene and a divalent group selected from the group consisting of cycloalkylene, examples of alkylene groups that can be used include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, heptylene, Octylene, nonylene, decylene, undecylene, dodecylene and the like can be mentioned. Examples of the arylene group include phenylene, naphthylene, anthrylene, phenanthrylene and the like. Examples of aralkylene include benzylene, 1-phenylene, 2-phenylene, 3-phenylpropylene, 2-phenylpropylene, 1-phenylpropylene, and the like. Examples of cycloalkylene groups include cyclopentylene, cyclohexylene, cycloheptylene, cyclooctylene and the like. Of these, an ethylene group and a propylene group are preferred.
【0025】前記一般式(2)におけるX3としては、
該式(2)のX2として例示したものと同一のものが挙
げられ、X2とX3とは同一であっても異なっていてもよ
い。X 3 in the general formula (2) is:
The same as those exemplified as X 2 in the formula (2) can be mentioned, and X 2 and X 3 may be the same or different.
【0026】一般式(2)におけるY1は2価以上の多
価カルボン酸残基であり、Y2は2価カルボン酸残基で
ある。該2価カルボン酸としては、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、
グルタル酸、アジピン酸等が挙げられる。3価以上多価
カルボン酸としてはトリメリット酸、ピリメリット酸等
が挙げられる。これらのうちY1、Y2ともにイソフタル
酸、テレフタル酸およびアジピン酸から選ばれる1種以
上であることが好ましい。In the general formula (2), Y 1 is a divalent or higher polyvalent carboxylic acid residue, and Y 2 is a divalent carboxylic acid residue. Examples of the dicarboxylic acid include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid,
Glutaric acid, adipic acid and the like can be mentioned. Examples of the trivalent or higher polycarboxylic acid include trimellitic acid and pyrimellitic acid. Among them, both Y 1 and Y 2 are preferably at least one member selected from isophthalic acid, terephthalic acid and adipic acid.
【0027】一般式(2)において、mは通常1〜20
0、好ましくは1〜80、特に好ましくは1〜20の整
数である。mが200を越えると粘度が高くなり重合開
始剤(B)の溶解が困難になる。In the general formula (2), m is usually from 1 to 20.
It is an integer of 0, preferably 1 to 80, particularly preferably 1 to 20. If m exceeds 200, the viscosity becomes high and the dissolution of the polymerization initiator (B) becomes difficult.
【0028】一般式(2)おいて、nは通常2〜20
0、好ましくは3〜100、特に好ましくは3〜20の
整数である。nが200を越えると、粘度が高くなり開
始剤(B)の溶解が困難になる。また、n個のR1の少
なくとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、
アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。In the general formula (2), n is usually 2 to 20.
It is an integer of 0, preferably 3 to 100, particularly preferably 3 to 20. When n exceeds 200, the viscosity becomes high and the dissolution of the initiator (B) becomes difficult. Further, at least two of the n R 1 groups are a propenyl group, and the rest are hydrogen atoms,
It may be an alkyl, acyl or aryl group.
【0029】次に下記一般式(3)で表されるポリエス
テルオリゴマーについて説明する。 {式中、mは1〜200の整数、nは2〜200の整数
であり、X2はアルキレンまたはアリーレン基であり、
X1は多価アルコール残基である。n個のR1の少なくと
も2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。}Next, the polyester oligomer represented by the following general formula (3) will be described. 中 wherein, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, X 2 is an alkylene or an arylene group,
X 1 is a polyhydric alcohol residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【0030】該一般式(3)におけるX1は、前記一般
式(1)で示されたものと同一のものが挙げられ、
X2、mおよびnは、それぞれ前記一般式(2)で示さ
れたものと同一のものが挙げられる。X 1 in the general formula (3) is the same as that represented by the general formula (1).
X 2 , m and n are the same as those represented by the general formula (2).
【0031】次に下記一般式(4)で表されるポリエス
テルオリゴマーについて説明する。 {式中、mは1〜200、nは2〜200の整数であ
り、X2、X3はそれぞれ、HOX2OH、HOX3OHで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、X1は多価アルコール残基である。n個のR1の少な
くとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシル又はアリール基でもよい。}Next, the polyester oligomer represented by the following general formula (4) will be described. In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, and X 2 and X 3 are an alkylene diol, an arylene diol, a polyether diol, a polyurethane represented by HOX 2 OH and HOX 3 OH, respectively. X 1 is a residue of a diol of either diol or polycarbonate diol, and X 1 is a polyhydric alcohol residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【0032】該一般式(4)におけるX1は、前記一般
式(1)で示されたものと同一のものが挙げられ、
X2、X3、mおよびnは、それぞれ前記一般式(2)で
示されたものと同一のものが挙げられる。X2とX3は同
一であっても異なっていてもよい。X 1 in the general formula (4) is the same as that represented by the general formula (1).
X 2 , X 3 , m and n are the same as those represented by the general formula (2). X 2 and X 3 may be the same or different.
【0033】本発明における(A)におけるプロペニル
エーテル末端基を有するウレタンオリゴマーは下記一般
式(5)で表される化合物である。 {式中、mは0〜200、nは2〜200の整数であ
り、Q1は−OX2O−または−N(R2)−X4−N(R
2)−で表される基であり、Q2は−OX2O−で表され
る基である。X2は、HOX2OHで表されるアルキルジ
オール、アリールジオール、ポリ エーテルジオール、
ポリエステルジオールまたはポリカーボネートジオール
のいずれかのジオールの残基である。−N(R2)−X4
−N(R2)−は、HN(R2)−X4−N(R2)Hで表
されるジアミン残基であり、X4は炭素数2〜12のア
ルキレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアル
キレン基であり、R2は炭素数2〜12のアルキル、ア
リール、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Z
1は多価イソシアネート残基であり、Z2は2価イソシア
ネート残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。}The urethane oligomer having a propenyl ether terminal group in (A) in the present invention is a compound represented by the following general formula (5). {Wherein, m is 0 to 200, n is an integer of 2 to 200, Q 1 is -OX 2 O-or -N (R 2) -X 4 -N (R
2 )-and Q 2 is a group represented by -OX 2 O-. X 2 is an alkyl diol, aryl diol, polyether diol represented by HOX 2 OH,
It is a residue of a diol of either polyester diol or polycarbonate diol. -N (R 2) -X 4
—N (R 2 ) — is a diamine residue represented by HN (R 2 ) —X 4 —N (R 2 ) H, and X 4 is alkylene, arylene, aralkylene or cycloalkyl having 2 to 12 carbon atoms. An alkylene group, and R 2 is an alkyl, aryl, aralkyl or cycloalkyl group having 2 to 12 carbon atoms. Z
1 is a polyvalent isocyanate residue, and Z 2 is a divalent isocyanate residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【0034】該一般式(5)において、Z2における2
価イソシアネートとしては前記式(ii)で挙げられた
ものと同一のものが挙げられる。Z1における多価イソ
シアネートとしては上記2価イソシアネートの他にリジ
ンエステルトリイソシアネート、ジイソシアネートの変
性体(イソシアヌレート3量体、ビューレット3量体、
トリメチロールプロパンアダクト体など)、トリフェニ
ルメタントリイソシアネート、ポリフェニルメタンポリ
イソシアネート等が挙げられる。In the general formula (5), 2 in Z 2
Examples of the multivalent isocyanate include the same ones as those described in the above formula (ii). As the polyvalent isocyanate for Z 1, in addition to the above-mentioned divalent isocyanate, lysine ester triisocyanate, modified isocyanate (isocyanurate trimer, buret trimer,
Trimethylolpropane adduct), triphenylmethane triisocyanate, polyphenylmethane polyisocyanate and the like.
【0035】一般式(5)において、Q1は−OX2O−
または−N(R2)−X4−N(R2)−で表される基で
あり、Q2は−OX2O−で表される基である。X2はH
OX2OHで表されるアルキレンジオール、アリ−レン
ジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオー
ルまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオー
ルの残基であり、X2は前記一般式(2)におけるX2と
同一のものが挙げられる。In the general formula (5), Q 1 is —OX 2 O—
Or -N (R 2) -X 4 -N (R 2) - in a group represented, Q 2 is a group represented by -OX 2 O-. X 2 is H
Alkylene diol represented by OX 2 OH, ant - diol, polyether diol, a residue of any of the diol polyester diols or polycarbonate diols, X 2 is the same as X 2 in the general formula (2) Things.
【0036】上記HOX2OHがポリエステルジオール
の場合、下記の(iii)と(iv)との反応生成物が
挙げられる。 (iii) H(OX7)m−OH で表されるジオー
ル (式中、mは1〜200の整数、X7は炭素数2〜12
のアルキレン、アリーレン、アラルキレン、およびシク
ロアルキレンの基よりなる群から選ばれる2価の基であ
る。) (iv) HOOC−Y3−COOH で表されるジカ
ルボン酸 (式中、Y3はアルキレン、アリーレン、アラルキレン
およびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる2
価の基である。)When the HOX 2 OH is a polyester diol, the following reaction products of (iii) and (iv) can be mentioned. (Iii) a diol represented by H (OX 7 ) m-OH (where m is an integer of 1 to 200, and X 7 is a carbon number of 2 to 12)
Is a divalent group selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene, and cycloalkylene groups. (Iv) dicarboxylic acid represented by HOOC-Y 3 —COOH (wherein Y 3 is selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene and cycloalkylene)
Is a valence group. )
【0037】上記(iii)のジオールにおいて、mは
通常1〜200、好ましくは3〜20の整数である。In the diol (iii), m is an integer of usually 1 to 200, preferably 3 to 20.
【0038】上記(iii)のジオールにおいて、X7
は炭素数2〜12のアルキレン、アリーレン、アラルキ
レンおよびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれ
る2価の基であり、使用しうるアルキレン基の例には、
メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレ
ン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、
デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。
アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、アント
リレン、フェナントリレン等が挙げられる。アルアルキ
レンの例には、ベンジレン、1−フェニチレン、2−フ
ェニチレン、3−フェニルプロピレン、2−フェニルプ
ロピレン、1−フェニルプロピレンなどが挙げられる。
シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレン、シク
ロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等
が挙げられる。これらのうち好ましくは、エチレン基お
よびプロピレン基である。アルキレン基がの炭素数が1
2を越えると重合開始剤(B)の溶解性が悪くなる。In the diol of the above (iii), X 7
Is a divalent group selected from the group consisting of alkylene having 2 to 12 carbon atoms, arylene, aralkylene and cycloalkylene, and examples of the alkylene group that can be used include:
Methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, heptylene, octylene, nonylene,
Decylene, undecylene, dodecylene and the like can be mentioned.
Examples of the arylene group include phenylene, naphthylene, anthrylene, phenanthrylene and the like. Examples of aralkylene include benzylene, 1-phenylene, 2-phenylene, 3-phenylpropylene, 2-phenylpropylene, 1-phenylpropylene, and the like.
Examples of cycloalkylene groups include cyclopentylene, cyclohexylene, cycloheptylene, cyclooctylene and the like. Of these, an ethylene group and a propylene group are preferred. The alkylene group has 1 carbon atom
If it exceeds 2, the solubility of the polymerization initiator (B) becomes poor.
【0039】上記(iv)のジカルボン酸の例として
は、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、シュウ
酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ポ
リカルボン酸等が挙げられる。これらのうち好ましいも
のはイソフタル酸、テレフタル酸およびアジピン酸であ
る。X4は、前記一般式(2)におけるX2と同一のもの
が挙げられ、R2は前記一般式(1)中のAで示された
ものと同一のものが挙げられ、mおよびnは前記一般式
(2)で示されたものと同一のものが挙げられる。Examples of the dicarboxylic acid (iv) include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, polycarboxylic acid and the like. Preferred among these are isophthalic acid, terephthalic acid and adipic acid. X 4 is the same as X 2 in the general formula (2), R 2 is the same as A shown in the general formula (1), and m and n are The same as those represented by the general formula (2) can be mentioned.
【0040】本発明の(A)におけるプロペニルエーテ
ル末端基を有するモノマーは下記一般式(6)または一
般式(7)で表される化合物である。 X1[−O−R1]n (6) {式中、nは2〜200の整数であり、X1は多価アル
コール残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。}The monomer having a propenyl ether terminal group in (A) of the present invention is a compound represented by the following general formula (6) or (7). X 1 [—O—R 1 ] n (6) In the formula, n is an integer of 2 to 200, and X 1 is a polyhydric alcohol residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【0041】該一般式(6)において、nは通常2〜2
00、好ましくは2〜6の整数である。nが200を超
えると粘度が高くハンドリングが悪くなる。X1は前記
一般式(1)で示したものと同一のものが挙げられる。In the general formula (6), n is usually 2 to 2
00, preferably an integer of 2 to 6. If n exceeds 200, the viscosity is high and the handling becomes poor. X 1 is the same as that shown in the general formula (1).
【0042】 {式中、nは2〜200の整数、X2はHOX2OHで表
されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリ
エーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカ
ーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Y1は多価カルボン酸残基である。n個のR1の少な
くとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシルまたはアリール基でもよい。} 該一般式(7)において、nは通常2〜200、好まし
くは2〜6の整数である。nが200を超えると粘度が
高くハンドリングが悪くなる。Y1およびX2は前記一般
式(2)で示されたものと同一のものが挙げられる。[0042] In the formula, n is an integer of 2 to 200, X 2 is a residue of any one of alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol and polycarbonate diol represented by HOX 2 OH, and Y 1 Is a polyvalent carboxylic acid residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups.に お い て In the general formula (7), n is an integer of usually 2 to 200, preferably 2 to 6. If n exceeds 200, the viscosity is high and the handling becomes poor. Y 1 and X 2 are the same as those represented by the general formula (2).
【0043】本発明において使用される光カチオン重合
開始剤(B)としては、公知の光カチオン重合開始剤が
使用できる。該(B)の具体例としては、トリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェ
ニルスルホニウムホスフェート、p−(フェニルチオ)
フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチ
モネート、p−(フェニルチオ)フェニルジフェニルス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4−クロルフ
ェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、4−クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアンチモネート、ビス[4−ジフェニル−ス
ルフォニオ)フェニル]スルフィド−ビス−ヘキサフル
オロフォスフェート、ビス[4−ジフェニル−スルフォ
ニオ)フェニル]スルフィド‐ビス‐ヘキサフルオロア
ンチモネート、(2、4−シクロペンタジエン−1−イ
ル)[(1−メチルエチル)ベンゼン]−Fe−ヘキサ
フルオロホスフェート等を挙げることができる。これら
は市場より容易に入手することができる。市販品の例と
しては、旭電化(株)製の「SP−150」、「SP−
170」;チバ・ガイギー社製の「イルガキュアー26
1」;ユニオンカーバイド社製の「UVR−697
4」、「UVR−6990」等を挙げることができる。As the cationic photopolymerization initiator (B) used in the present invention, known cationic photopolymerization initiators can be used. Specific examples of (B) include triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium phosphate, p- (phenylthio)
Phenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, p- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-chlorophenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-chlorophenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, bis [4-diphenyl-sulfonio) phenyl Sulfide-bis-hexafluorophosphate, bis [4-diphenyl-sulfonio) phenyl] sulfide-bis-hexafluoroantimonate, (2,4-cyclopentadien-1-yl) [(1-methylethyl) benzene] -Fe-hexafluorophosphate and the like. These are readily available from the market. Examples of commercially available products include “SP-150” and “SP-150” manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.
170 ";" Irgacure 26 "manufactured by Ciba Geigy
"UVR-697" manufactured by Union Carbide
4 "," UVR-6990 "and the like.
【0044】本発明において組成物の粘度を調節する目
的で必要により反応性希釈剤(C)を使用できる。In the present invention, a reactive diluent (C) can be used if necessary for the purpose of adjusting the viscosity of the composition.
【0045】該(C)としては、下記一般式(8)で表
される化合物が挙げられる。 CH3−CH=CH−O−X2−O−R3 (8) {式中、X2は、HOX2OHで表されるアルキレンジオ
ール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基であり、R3は炭素数が2〜
12のアルキル、アリール、アラルキルまたはシクロア
ルキル基、または水素原子である。}As the compound (C), a compound represented by the following general formula (8) can be mentioned. CH 3 —CH = CH—O—X 2 —O—R 3 (8) wherein X 2 is an alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol or polycarbonate diol represented by HOX 2 OH R 3 is a residue of any diol, and R 3 has 2 to 2 carbon atoms.
It is a 12 alkyl, aryl, aralkyl or cycloalkyl group, or a hydrogen atom. }
【0046】上記一般式(8)におけるX2は、前記一
般式(2)で示されたものと同一のものが挙げられ、R
3は炭素数が2〜12のアルキル、アリール、アラルキ
ルまたはシクロアルキル基、または水素原子である。X 2 in the above general formula (8) is the same as that represented by the above general formula (2).
3 is an alkyl, aryl, aralkyl or cycloalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, or a hydrogen atom.
【0047】本発明において(A):(B)の使用割合
は重量比で通常(95〜99.9):(0.01〜
5)、好ましくは(96〜98):(2〜4)である。
(B)の比率が0.05未満では十分な重合開始効果が
得られず、5を越えて使用しても硬化速度の更なる向上
効果はなく不経済である。In the present invention, the weight ratio of (A) :( B) is usually (95-99.9) :( 0.01-
5), preferably (96-98): (2-4).
If the ratio of (B) is less than 0.05, a sufficient effect of initiating polymerization cannot be obtained, and if it exceeds 5, the effect of further improving the curing speed is uneconomical.
【0048】また、反応性希釈剤(C)を用いる場合の
該(C)の量は、(A)と(B)の合計重量に対して通
常5〜60重量%、好ましくは10〜30重量%であ
る。該(C)の量が60重量%を越えると、硬化速度が
低下する。When the reactive diluent (C) is used, the amount of (C) is usually 5 to 60% by weight, preferably 10 to 30% by weight, based on the total weight of (A) and (B). %. If the amount of (C) exceeds 60% by weight, the curing speed will decrease.
【0049】本発明の組成物には必要により公知の光ラ
ジカル重合性組成物(D)を含有させることができる。
該(D)の量は、本発明の組成物100重量部あたり、
通常0〜100重量部、好ましくは0〜40重量部であ
る。If necessary, the composition of the present invention may contain a known photo-radical polymerizable composition (D).
The amount of (D) is per 100 parts by weight of the composition of the present invention,
It is usually 0 to 100 parts by weight, preferably 0 to 40 parts by weight.
【0050】本発明の組成物には、更に必要に応じて、
公知のエポキシ樹脂(ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、テトラブロモビ
スフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ
樹脂等)、着色剤、充填剤、非反応樹脂、レベリング
剤、帯電防止剤、溶剤、その他各種添加剤等を含有させ
ることができる。The composition of the present invention may further comprise, if necessary,
Known epoxy resins (bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, tetrabromobisphenol A epoxy resin, novolak epoxy resin, etc.), coloring agents, fillers, non-reactive resins, leveling agents, antistatic agents, solvents And various other additives.
【0051】本発明の組成物からなる光ディスク用光カ
チオン硬化型オーバーコート剤は、光ディスクの記録膜
の上に塗布後、UV等の光エネルギーを照射することに
より高速に硬化し、密着性、耐久性等に優れた皮膜を形
成する。また、光硬化に際して従来の光ラジカル硬化型
のように空気中の酸素による硬化阻害を受けることがな
く、さらに硬化時の収縮がほとんどないので被覆時の反
りが極めて小さい。The optical cation-curable overcoat agent for an optical disk comprising the composition of the present invention is applied onto a recording film of an optical disk, and then is cured at high speed by irradiating light energy such as UV, thereby obtaining adhesion and durability. Forms a film with excellent properties. In addition, unlike the conventional photo-radical curing type, the photocuring does not suffer from curing inhibition due to oxygen in the air, and furthermore, there is almost no shrinkage at the time of curing, so that warpage at the time of coating is extremely small.
【0052】光ディスク記録膜上への塗布方法について
は特に限定はなく、公知の方法(スピンコーターなど)
を用いることができる。また、使用できる光としては高
圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、低圧水銀ランプ
等から放出されるUVなどを挙げることができる。The method of coating on the optical disk recording film is not particularly limited, and a known method (such as a spin coater)
Can be used. Examples of light that can be used include UV emitted from a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a low-pressure mercury lamp, and the like.
【0053】[0053]
【実施例】以下、実施例を以て本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、配
合組成欄の数値は重量部である。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. The numerical values in the composition column are parts by weight.
【0054】実施例1〜6、比較例1〜3 表1に示した配合処方で調製したオーバーコート剤を、
ポリカーボネート基板にスパッタリングにより記録膜を
設けた光ディスクの上に、スピンコーターで塗布し、下
記評価方法および評価基準にしたがい、光反応性および
硬化膜の耐湿性の評価をおこなった。得られた評価結果
を表1に示す。 光反応性:オーバーコート塗布面に、高圧水銀灯でUV
を所定量照射して硬化性を観察した。硬化性は、一定エ
ネルギー量のUVを照射後の被覆面を綿棒でこすり、未
硬化物の綿への付着の程度により評価した。 耐湿性 :900mJ/cm2のUVを照射して得た硬
化膜を有する光ディスクを、70℃・90%RHの雰囲
気中に1000時間放置し、硬化膜の異常の有無を評価
した。 Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 The overcoat agents prepared according to the formulations shown in Table 1 were
The coating was applied by a spin coater onto an optical disk having a recording film provided on a polycarbonate substrate by sputtering, and the photoreactivity and moisture resistance of the cured film were evaluated according to the following evaluation methods and evaluation criteria. Table 1 shows the obtained evaluation results. Photoreactivity: UV on high pressure mercury lamp on overcoat coated surface
Was irradiated in a predetermined amount, and the curability was observed. The curability was evaluated by rubbing the coated surface with a cotton swab after irradiation with a certain amount of UV, and the degree of adhesion of the uncured material to cotton. Moisture resistance: An optical disk having a cured film obtained by irradiating UV light at 900 mJ / cm 2 was left in an atmosphere of 70 ° C. and 90% RH for 1000 hours to evaluate whether or not the cured film was abnormal.
【0055】[0055]
【表1】 [Table 1]
【0056】表1に示した配合に用いた化合物は以下の
通りである。なお、CH3−CH=CH−基(プロペニ
ル基)はPrと略す。 プロペニルエーテル末端基化合物(1): Pr−O−(CH2CH2O)12−Pr プロペニルエーテル末端基化合物(2): (Y:テレフタル酸残基) プロペニルエーテル末端基化合物(3): (X:トリエチレングリコール残基) (Z:4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート残
基) プロペニルエーテル末端基化合物(4): (X:トリエチレングリコール残基) プロペニルエーテル末端基化合物(5): R[O−(CH2CH2O)12−Pr]3 (R:グリセリン残基) プロペニルエーテル末端基化合物(6): (X1:トリエチレングリレリン残基) (Y:テレフタル酸残基) (X2:次式のポリウレタンジオールの残基) (Z:4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート残
基) アクリレート末端基化合物(7): エポキシ末端基化合物(8):「エピコート828」
(油化シェル社製、ビスフェノール型エポキシ樹脂) 脂環式エポキシ末端基化合物(9):「ERL−422
1」(ユニオンカーバイド社製、脂環式エポキシ樹脂) 反応性希釈剤(10):Pr−O−CH2CH2−OH 反応性希釈剤(11):2−ヒドロキエチルアクリレー
ト 反応性希釈剤(12):「BRL−4206」(ユニオ
ンカーバイド社製、脂環式エポキシ樹脂希釈剤) 光カチオン重合触媒(13):「UVR−6974」
{p−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウ
ムヘキサフルオロアンチモネートとビス[4−(ジフェ
ニルスルフォニオ)フェニル]スルフィドビスヘキサフ
ルオロアンチモネートの混合物の50%エチレンカーボ
ネート溶液、ユニオンカーバイド社製} 光ラジカル重合触媒(14):「イルガキュアー18
4」(チバガイギー社製)The compounds used in the formulations shown in Table 1 are as follows. The CH 3 —CH = CH— group (propenyl group) is abbreviated as Pr. Propenyl ether end groups Compound (1): Pr-O- ( CH 2 CH 2 O) 12 -Pr propenyl ether end groups of compound (2): (Y: Terephthalic acid residue) Propenyl ether terminal group compound (3): (X: triethylene glycol residue) (Z: 4,4'-diphenylmethane diisocyanate residue) Propenyl ether terminal group compound (4): (X: triethylene glycol residue) Propenyl ether terminal group compound (5): R [O- (CH 2 CH 2 O) 12 -Pr] 3 (R: glycerin residue) propenyl ether terminal group compound (6): (X 1 : triethylene glycerin residue) (Y: terephthalic acid residue) (X 2 : polyurethane diol residue of the following formula) (Z: 4,4′-diphenylmethane diisocyanate residue) Acrylate terminal compound (7): Epoxy terminal compound (8): "Epicoat 828"
(Bisphenol type epoxy resin manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) Alicyclic epoxy terminal group compound (9): "ERL-422
1 "(manufactured by Union Carbide Corporation, alicyclic epoxy resins) reactive diluent (10): Pr-O- CH 2 CH 2 -OH reactive diluent (11): 2-hydroxyethyl acrylate reactive diluent ( 12): "BRL-4206" (manufactured by Union Carbide Co., Ltd., alicyclic epoxy resin diluent) Photocationic polymerization catalyst (13): "UVR-6974"
<< 50% ethylene carbonate solution of a mixture of p- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate and bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bishexafluoroantimonate, manufactured by Union Carbide Co., Ltd. (14): “Irgacure 18
4 "(made by Ciba-Geigy)
【0057】[0057]
【発明の効果】本発明のプロペニルエーテル末端基を有
する化合物を含む光カチオン硬化型の光ディスク用オー
バーコート組成物は、従来のラジカル重合型のアクリレ
ート系のものよりも硬化性が良く、ディスク基板との密
着性および耐湿性の優れた硬化塗膜を形成する。また、
従来公知のエポキシ系UVカチオン硬化型樹脂を用いた
ものに比べても高速硬化性である。上記効果を奏するこ
とから、本発明の光カチオン硬化型組成物は、特に光デ
ィスクの記録膜を保護するためのオーバーコート剤とし
て極めて有用である。The photocationically curable overcoat composition for optical discs containing the compound having a propenyl ether terminal group of the present invention has better curability than conventional radical polymerizable acrylate-based ones, and can be used with a disc substrate. To form a cured coating film having excellent adhesion and moisture resistance. Also,
Higher-speed curability than that of a conventionally known epoxy-based UV cation-curable resin. Due to the above effects, the cationic photocurable composition of the present invention is extremely useful as an overcoat agent for protecting a recording film of an optical disk.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 米国特許5334772(US,A) “J.Macromol.Sci., Pure Appl.Chem.”, 1994年,A31(12),p.1927−1941 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09D 4/00 C08F 299/06 C09D 167/07 C09D 175/16 G11B 7/24 CA(STN) CAOLD(STN) REGISTRY(STN)────────────────────────────────────────────────── (5) References US Pat. No. 5,334,772 (US, A) “J. Macromol. Sci., Pure Appl. Chem.”, 1994, A31 (12), p. 1927-1941 (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C09D 4/00 C08F 299/06 C09D 167/07 C09D 175/16 G11B 7/24 CA (STN) CAOLD (STN) REGISTRY (STN )
Claims (8)
テル末端基を有する(ポリ)エーテルオリゴマー、プロ
ペニルエーテル末端基を有するポリエステルオリゴマ
ー、プロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴ
マーおよび一般式(6)、一般式(6’)または一般式
(7)で表されるプロペニルエーテル末端基を有するモ
ノマーの群から選ばれる分子内に少なくとも2個のプロ
ペニルエーテル末端基を有する化合物(A)の1種以
上、並びに光カチオン重合開始剤(B)を必須成分とす
ることを特徴とする光ディスク用オーバーコート組成
物。 【化1】 X1[−O−(AO)m−R1]n (1) {式中、nは3〜200の整数であり、n個のmは0〜
200の整数であり、mの少なくとも1個は1以上であ
る。n個のR1の少なくとも2個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。Aは炭素数2〜12のアルキレン、アリー
レン、アラルキレンまたはシクロアルキレン基であり、
mが2以上の場合のAは同一でも異なっていてもよく、
(AO)m部分はランダム付加でもブロック付加でもよ
い。X1は多価アルコール残基である。} 【化2】 X1[−O−R1]n (6) {式中、nは2〜200の整数であり、X1は、ポリグ
リセリン(グリセリンの2〜18量体)の残基である。
n個のR1の少なくとも2個はプロペニル基であり、残
りはアルキル、アシルまたはアリール基でもよい。} 【化3】 X1[−O−R1]n (6’) {式中、nは2〜200の整数であり、X1は、トリメ
チロールアルカンの2〜3量体の残基である。n個のR
1の少なくとも2個はプロペニル基であり、残りは水素
原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。} 【化4】 Y1[−CO−X2O−R1]n (7) ‖ O {式中、nは2〜200の整数、X2は、HOX2OHで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Y1は多価カルボン酸残基である。n個のR1の少な
くとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシルまたはアリール基でもよい。}1. A (poly) ether oligomer having a propenyl ether terminal group, a polyester oligomer having a propenyl ether terminal group, a urethane oligomer having a propenyl ether terminal group represented by the general formula (1), and a compound represented by the general formula (6): At least one compound (A) having at least two propenyl ether terminal groups in a molecule selected from the group of monomers having a propenyl ether terminal group represented by the general formula (6 ′) or (7), An overcoat composition for an optical disk, comprising a cationic photopolymerization initiator (B) as an essential component. X 1 [—O— (AO) m—R 1 ] n (1) In the formula, n is an integer of 3 to 200, and n m is 0 to
An integer of 200, and at least one of m is 1 or more. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. A is an alkylene having 2 to 12 carbon atoms, arylene, aralkylene or cycloalkylene group,
When m is 2 or more, A may be the same or different,
The (AO) m portion may be random addition or block addition. X 1 is a polyhydric alcohol residue. X 1 [—OR 1 ] n (6) wherein n is an integer of 2 to 200, and X 1 is a residue of polyglycerin (2 to 18 mer of glycerin) It is.
At least two of the n R 1 are propenyl groups, and the rest may be alkyl, acyl or aryl groups. X 1 [—O—R 1 ] n (6 ′) wherein n is an integer of 2 to 200, and X 1 is a residue of a trimer of trimethylolalkane. is there. n R
At least two of 1 are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. } Embedded image Y 1 [—CO—X 2 O—R 1 ] n (7) ‖ In the formula, n is an integer of 2 to 200, and X 2 is a residue of any one of alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol and polycarbonate diol represented by HOX 2 OH, Y 1 is a polyvalent carboxylic acid residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
エステルオリゴマーが下記一般式(2)、一般式(3)
または一般式は(4)で表されるオリゴマーである請求
項1記載の組成物。 【化5】 Y1[−CO−(X2O−CY2C−O)m−X3O−R1]n (2) ‖ ‖ ‖ O O O {式中、mは1〜200の整数、nは2〜200の整数
であり、X2、X3はそれぞれHOX2OH、HOX3OH
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
あり、Y1は多価カルボン酸残基であり、Y2は2価カル
ボン酸残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。} 【化6】 X1[−O−(CX2O)m−R1]n (3) ‖ O {式中、mは1〜200の整数、nは2〜200の整数
であり、X2はアルキレンまたはアリーレン基であり、
X1は多価アルコール残基である。n個のR1の少なくと
も2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。} 【化7】 X1[−(OX2OC)m−OX3O−R1]n (4) ‖ O {式中、mは1〜200、nは2〜200の整数であ
り、X2、X3はそれぞれ、HOX2OH、HOX3OHで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、X1は多価アルコール残基である。n個のR1の少な
くとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシル又はアリール基でもよい。}2. A polyester oligomer having a propenyl ether terminal group is represented by the following general formula (2) or (3):
Alternatively, the composition according to claim 1, wherein the general formula is an oligomer represented by formula (4). Embedded image Y 1 [—CO— (X 2 O—CY 2 C—O) m—X 3 O—R 1 ] n (2) ‖ ‖ ‖ O O O {In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, and X 2 and X 3 are HOX 2 OH and HOX 3 OH, respectively.
Represented by an alkylene diol, arylene diol,
Polyether diol, a residue of any of the diols of the polyurethane diols or polycarbonate diols, Y 1 is a polyvalent carboxylic acid residue, Y 2 is a divalent carboxylic acid residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. } Embedded image X 1 [—O— (CX 2 O) m—R 1 ] n (3) ‖ In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, X 2 is an alkylene or an arylene group,
X 1 is a polyhydric alcohol residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. } Embedded image X 1 [-(OX 2 OC) m-OX 3 O-R 1 ] n (4) ‖ In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, and X 2 and X 3 are respectively HOX 2 OH, alkylene diol represented by HOX 3 OH, arylene diol, polyether diol, X 1 is a residue of a diol of either polyurethane diol or polycarbonate diol, and X 1 is a polyhydric alcohol residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
タンオリゴマーが下記一般式(5)で表されるオリゴマ
ーである請求項1記載の組成物。 【化8】 Z1[−N−C−(Q1−C−NZ2N−C)m−Q2−R1]n (5) | ‖ ‖ | | ‖ H O O H H O {式中、mは0〜200、nは2〜200の整数であ
り、Q1は−OX2O−または−N(R2)−X4−N(R
2)−で表される基であり、Q2は−OX2O−で表され
る基である。X2は、HOX2OHで表されるアルキルジ
オール、アリールジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リエステルジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基である。−N(R2)−X4−
N(R2)−はHN(R2)−X4−N(R2)Hで表され
るジアミン残基であり、X4は炭素数2〜12のアルキ
レン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキレ
ン基であり、R2は炭素数2〜12のアルキル、アリー
ル、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Z1は
多価イソシアネート残基であり、Z2は2価イソシアネ
ート残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロペ
ニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまた
はアリール基でもよい。}3. The composition according to claim 1, wherein the urethane oligomer having a propenyl ether terminal group is an oligomer represented by the following general formula (5). Embedded image Z 1 [-NC- (Q 1 -C-NZ 2 NC) m-Q 2 -R 1 ] n (5) | ‖ | | | ‖ H O O H During H O {wherein, m is 0 to 200, n is an integer of 2 to 200, Q 1 is -OX 2 O-or -N (R 2) -X 4 -N (R
2 )-and Q 2 is a group represented by -OX 2 O-. X 2 is a residue of any one of alkyl diol, aryl diol, polyether diol, polyester diol and polycarbonate diol represented by HOX 2 OH. -N (R 2) -X 4 -
N (R 2 ) — is a diamine residue represented by HN (R 2 ) —X 4 —N (R 2 ) H, and X 4 is an alkylene, arylene, aralkylene or cycloalkylene group having 2 to 12 carbon atoms. R 2 is an alkyl, aryl, aralkyl or cycloalkyl group having 2 to 12 carbon atoms Z 1 is a polyvalent isocyanate residue, and Z 2 is a divalent isocyanate residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
9.9):(0.01〜5)である請求項1〜3のいず
れか記載の組成物。4. The weight ratio of (A) :( B) is (95-9)
9.9): The composition according to any one of claims 1 to 3, which is (0.01 to 5).
なり、(C)の含量が、(A)と(B)の合計重量に対
して5〜60重量%である請求項1〜4のいずれか記載
の組成物。5. The method according to claim 1, further comprising a reactive diluent (C), wherein the content of (C) is 5 to 60% by weight based on the total weight of (A) and (B). 5. The composition according to any of 4.
応性希釈剤である請求項5記載の組成物。 【化9】 CH3−CH=CH−O−X2−O−R3 (8) {式中、X2は、HOX2OHで表されるアルキレンジオ
ール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基であり、R3は炭素数が2〜
12のアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキ
ル基または水素原子である。}6. The composition according to claim 5, wherein (C) is a reactive diluent represented by the following general formula (8). CH 3 —CH = CH—O—X 2 —O—R 3 (8) wherein X 2 is an alkylene diol, arylene diol, polyether diol, or polyurethane diol represented by HOX 2 OH Or a residue of any diol of polycarbonate diol, wherein R 3 has 2 to 2 carbon atoms.
12 alkyl, aryl, aralkyl, cycloalkyl groups or hydrogen atoms. }
に、さらにエポキシ樹脂を含有させてなる光ディスク用
オーバーコート組成物。7. An overcoat composition for an optical disk, wherein the composition according to claim 1 further comprises an epoxy resin.
記録塗膜上に塗布・硬化させてなる光ディスク。8. An optical disk obtained by applying and curing the composition according to claim 1 on a recording coating film.
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Citations (1)
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1995
- 1995-11-20 JP JP7326392A patent/JP3060091B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US5334772A (en) | 1989-10-04 | 1994-08-02 | Isp Investments Inc. | Polyalk-1-enyl ethers |
Non-Patent Citations (1)
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|---|
| "J.Macromol.Sci.,Pure Appl.Chem.",1994年,A31(12),p.1927−1941 |
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