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JP3051201B2 - 廃液の精製装置 - Google Patents

廃液の精製装置

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Publication number
JP3051201B2
JP3051201B2 JP3133733A JP13373391A JP3051201B2 JP 3051201 B2 JP3051201 B2 JP 3051201B2 JP 3133733 A JP3133733 A JP 3133733A JP 13373391 A JP13373391 A JP 13373391A JP 3051201 B2 JP3051201 B2 JP 3051201B2
Authority
JP
Japan
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waste liquid
filter
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hydrophilic
liquid
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JP3133733A
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English (en)
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JPH04305203A (ja
Inventor
幸彦 長尾
孝 小川
満雅 長谷川
忠男 江口
俊郎 南
幸文 今泉
Original Assignee
東芝セラミックス株式会社
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Filing date
Publication date
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  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は廃液の精製装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】切断機で切断した薄板を洗浄するときに
出る廃液は、疎水性の洗浄液と、水などの親水性の成分
とが混濁したものである。
【0003】従来は、この種の廃液はリザーブ槽へ貯留
して8時間以上静置分離することによって、必要液と不
要液とその中間液とに分離させた後、不要液を取り除
き、残ったリザーブ槽の廃液を、送液ポンプで親水性の
セラミックフィルタのみに通して、再びリザーブ槽へと
戻していた。このような循環を繰り返して廃液を分離精
製していた。すなわち、廃液を親水性のセラミックフィ
ルタのみに通し、親水性の成分を取り出すことによって
濃縮することを精製とみなしていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、静置分離方法
は、廃液の精製に時間がかかり、効率が悪い方法であっ
た。
【0005】また、廃液を貯留するタンクも必要であっ
た。
【0006】また、静置分離方法では、廃液は必要液と
不要液とその中間液とに分離されるが、そのうち中間液
は精製がうまく行かず、精製する効率を大変悪くする大
きな要因となっていた。
【0007】また、従来、静置分離した廃液から抜き取
った不要液は廃棄するに当り、前処理を必要とし、その
処理が困難であった。
【0008】一方、リザーブ槽の廃液を一種類のセラミ
ックフィルタで精製していると、リザーブ槽の廃液中で
は次第に精製したい成分が薄くなって行く。すると、セ
ラミックフィルタから濾過する精製液の量が、循環する
廃液の量に比べて極端に減って来て、精製する効率が大
幅に悪くなる。
【0009】従って、本発明の目的は、高効率で精製で
きる廃液の精製装置を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、疎水性の洗浄
液と親水性の成分を含む廃液を、疎水性のフィルタと親
水性のフィルタとを組合わせて精製する構成にした廃液
の精製装置である。
【0011】
【実施例】本発明装置は次に述べるような諸工程を実施
するものである。
【0012】廃液から抽出したい成分をフィルタを通し
て濾過させる工程を精製工程とし、廃液中の抽出したい
成分の濃度が薄くなったときに、不要成分をフィルタを
通して濾過させる工程を濃縮工程とする。
【0013】本発明では、精製工程と濃縮工程は通常は
交互に行うが、廃液の循環経路を変化させることによっ
て、並行して行うようにすることもできる。また、精製
工程と濃縮工程の廃液の循環経路を別々に設けることも
できるし、同一の循環経路上で精製工程と濃縮工程を連
続して行うこともできる。また、精製工程と濃縮工程を
行う順序も、入れ替え可能である。
【0014】本発明は、このようにリザーブ槽の廃液を
精製する精製工程と、濃縮する濃縮工程とを繰り返しな
がら、廃液を精製する。
【0015】また、廃液の精製工程と濃縮工程は、交互
に行うこともできるし、並行して行うようにすることも
できる。
【0016】廃液を精製するに当り、精製したい成分の
性質によって、疎水性のフィルタで精製工程を行うか、
親水性のフィルタで精製工程を行うかを選択する。精製
したい成分が、水と親和性がなく、撥水性で、水を吸着
したり吸収したりしない成分であれば、疎水性のフィル
タで精製工程を行って、親水性のフィルタで濃縮工程を
行えばよい。精製したい成分が、吸水性で、水を吸着し
たり吸収したりする成分であれば、親水性のフィルタで
精製工程を行って、疎水性のフィルタで濃縮工程を行え
ばよい。
【0017】精製工程と濃縮工程を並行して行う場合に
は、廃液から疎水性のフィルタで疎水性の成分を取り出
しながら、親水性のフィルタで親水性の成分を取り出
す。
【0018】次に、廃液を精製する前述の如き諸工程か
らなる方法を実施するための精製装置を、図1および図
2に沿って説明する。
【0019】リザーブ槽1は廃液2を貯留する容器であ
り、必要に応じて排水弁や蓋、その他の付帯設備を設け
てもよい。廃液2は、配管20を通って、洗浄機などか
ら導かれてリザーブ槽1に貯留される。
【0020】フィルタは疎水性のフィルタ3と親水性の
フィルタ4との二種類を用いる。フィルタはセラミック
フィルタであることが望ましい。材質は磁器質が好まし
い。形状は単孔よりも多孔が好ましい。細孔径は0.1
〜0.2であることが好ましい。
【0021】二種類のフィルタは、精製装置を運転中に
交互に切り換えて使うか、または並行して使える状態に
装着する。
【0022】そのために、リザーブ槽の廃液を、フィル
タを経て再びリザーブ槽へと循環させる送液ポンプ5
と、循環経路6とを設ける。
【0023】廃液を精製するに当り、精製したい成分の
性質によって、疎水性のフィルタで精製工程を行うか、
親水性のフィルタで精製工程を行うかを選択する。精製
したい成分が、水と親和性がなく、撥水性で、水を吸着
したり吸収したりしない成分であれば、疎水性のフィル
タで精製工程を行って、親水性のフィルタで濃縮工程を
行えばよい。精製したい成分が、吸水性で、水を吸着し
たり吸収したりする成分であれば、親水性のフィルタで
精製工程を行って、疎水性のフィルタで濃縮工程を行え
ばよい。
【0024】フィルタの使い分けは以上のとおりである
が、ここでは廃液中の疎水性の成分を精製したい場合、
すなわち疎水性のフィルタで精製工程を行う場合につい
て説明する。
【0025】廃液中の親水性の成分を精製したい場合に
は、以下に説明する実施例1〜4中で、親水性のフィル
タを用いて精製工程を行い、疎水性のフィルタを用いて
濃縮工程を行えばよい。
【0026】実施例1 本発明の実施例1による廃液の精製装置の使用方法を、
図1を参照して説明する。装置の基本的構成は、前記し
た通りである。
【0027】循環経路6には、電磁弁7を設けてある。
電磁弁7によって、疎水性のフィルタ3と親水性のフィ
ルタ4のどちらか一方のみに廃液を通すようにすること
ができ、また、両方のフィルタに並行して廃液を通すよ
うにすることもできる。廃液流量の調節をすることもで
きる。
【0028】フィルタのうち、撥水性成分を取り出す役
目の疎水性のフィルタには、濾過した成分を取り出すた
めの配管8を設けて、濾過した成分を所定の容器へ移せ
るようになっている。この場合は、濾過した成分はスト
ックタンク10に移され、精製液9として貯留されるよ
うになっている。
【0029】また、濾過した成分を必要に応じて配管2
1を通して洗浄機へ導くこともできる。
【0030】また、廃液中の水または水と親和性がある
成分を取り出す役目の親水性のフィルタにも、濾過した
成分を取り出すための配管13を設けて、濾過した成
分、すなわち除去濾液を所定の場所へ移せるようになっ
ている。
【0031】まず、廃液を、疎水性のフィルタ3を通る
ように循環させ、精製工程を行う。廃液を一種類のフィ
ルタで精製していると、リザーブ槽1の廃液2中では次
第に精製したい成分が薄くなって行く。すると、フィル
タから濾過する疎水性の成分の量が、循環する廃液の量
に比べて極端に減って来て、精製する効率が大変悪くな
る。
【0032】そこで、所定の精製効率まで低下したと
き、疎水性のフィルタ3での精製工程を休止して、かわ
りに親水性のフィルタ4を通るように廃液2を循環さ
せ、濃縮工程を行う。すなわち、リザーブ槽1の廃液を
親水性のフィルタ4へ送り、再びリザーブ槽1へ循環さ
せて、フィルタから濾過する親水性の成分を除去する
と、次第に濾過する成分の量が減って来て、リザーブ槽
1の廃液2中では、精製したい成分が濃くなる、つまり
濃縮される。
【0033】所定の濃度まで濃縮したら、親水性のフィ
ルタ4での濃縮工程を休止して、再び疎水性のフィルタ
3で精製工程を行う。
【0034】以後、精製工程と濃縮工程とを繰り返すこ
とによって、精製したい成分を精製することができる。
【0035】実施例2 本発明の実施例2による廃液の精製装置の使用方法を、
図1を参照して説明する。装置の基本的構成は、前記し
た通りである。
【0036】操作にあたっては、廃液2が疎水性のフィ
ルタ3と親水性のフィルタ4の両方を同時に通るように
電磁弁7を調整する。疎水性のフィルタ3を通った廃液
と親水性のフィルタ4を通った廃液とは循環経路を通っ
てリザーブ槽1に戻り、混合され、再び循環する。従っ
て、精製工程と濃縮工程が並行して行われることにな
る。このように廃液2を繰り返し循環させることによっ
て、精製したい成分を精製することができる。
【0037】廃液2中の精製したい成分の濃度などの条
件に対応して、各フィルタごとに廃液の流量などを調節
することもできる。
【0038】実施例3 本発明の実施例3による廃液の精製装置の使用方法を、
図2を参照して説明する。装置の基本的構成は、前記し
た通りである。
【0039】配管経路6には、疎水性のフィルタ3と親
水性のフィルタ4の両方が設けられている。これによっ
て廃液2は2種類のフィルタを連続して通ることにな
る。従って、精製工程と濃縮工程が並行して行われるこ
とになる。廃液の流量や流速を調節するために、循環経
路6の必要箇所に、弁などの付帯設備を設けてもよい。
【0040】フィルタのうち、撥水性成分を取り出す役
目の疎水性のフィルタには、濾過した成分を取り出すた
めの配管8を設けて、濾過した成分を所定の容器へ移せ
るようになっている。この場合は、濾過した成分はスト
ックタンク10に移され、精製液9として貯留されるよ
うになっている。
【0041】また、必要に応じて配管21を通して洗浄
機へ導くこともできる。
【0042】また、廃液中の水または水と親和性がある
成分を取り出す役目の親水性のフィルタにも、濾過した
成分を取り出すための配管13を設けて、濾過した成
分、すなわち除去濾液を所定の場所へ移せるようになっ
ている。
【0043】このように、廃液2を繰り返し循環させる
ことによって精製したい成分を精製することができる。
【0044】実施例4 次に、前述の実施例1〜2に基いて実験した本発明の
廃液精製装置の使用例を具体的に説明する。
【0045】純水で切断機の刃を冷却すると共に切粉を
除去しながらインゴットを切断して得た薄板を疎水性の
洗浄液で洗浄したときに出る廃液は、薄板に付着して来
た親水性の成分、例えば水と、疎水性の洗浄液とが混濁
したものである。
【0046】本発明の廃液の精製装置によって、この廃
液から洗浄液を精製した。
【0047】160リットルのリザーブ槽を設けて、そ
こへ洗浄機から出る廃液を貯留し、必要に応じて分散剤
を添加する。
【0048】疎水性のフィルタは、細孔径が0.1μm
で、廃液流通孔が多孔で、外形が六角の形状をしてお
り、アルミナ質磁器でできたセラミックフィルタを、撥
水性の液体に浸漬して疎水性に処理したものである。親
水性のセラミックフィルタは、細孔径が0.1μmで上
記と同様の形状をした磁器質のセラミックフィルタを、
親水性の液体に浸漬して親水性に処理したものである。
【0049】廃液の循環経路として、リザーブ槽から送
液ポンプを経たのち疎水性のフィルタを経て再びリザー
ブ槽へ戻る経路と、リザーブ槽から送液ポンプを経たの
ち親水性のフィルタを経て再びリザーブ槽へ戻る経路を
設けた。
【0050】疎水性のフィルタへの経路と親水性のフィ
ルタへの経路は電磁弁で交互に切り換えて、または同時
に使えるようにした。
【0051】まず、リザーブ槽の廃液を、送液ポンプを
用いて0.2〜5kg/cmで圧送し、疎水性のフィ
ルタを通るように循環させ、廃液中の洗浄液を精製する
ための精製工程に通した。
【0052】疎水性のフィルタから濾過する洗浄液の量
が、運転始めの1/4〜1/5の量に減ったときに、洗
浄液の精製工程を休止した。
【0053】次に、リザーブ槽に残った廃液を、親水性
のフィルタを通るように循環させ、廃液から親水性の成
分を除去し、廃液を濃縮した。
【0054】親水性のフィルタから濾過する量が始めの
1/2の量に減ったところで濃縮工程を休止した。
【0055】次に、再び疎水性のセラミックフィルタの
精製工程に通した。
【0056】上記の工程を繰り返すことによって、廃液
を精製した。
【0057】
【発明の効果】本発明の廃液の精製装置は静置分離が不
要なため、従来、静置分離に要した時間(8時間以上)
が短縮できて、高効率で精製できるようになった。
【0058】また、本発明は廃液から必要成分だけを取
り出して精製するので、不純物の混入を避けることがで
き、精製精度が格段に良くなった。
【0059】さらに、本発明は不要成分をフィルタで濾
過して取り出すので、不要成分中に他の成分が混入する
のを防ぐことができ、廃棄が安易になった。
【0060】従って、高効率、高精度で精製できる廃液
の精製装置を得ることができた。
【0061】また、静置分離に要していたタンクの容量
の縮小化、省スペース化が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1および2を実施するための廃
液の精製装置の模式図。
【図2】本発明の実施例3を実施するための廃液の精製
装置の模式図。
【符号の説明】
1 リザーブ槽 2 廃液 3 疎水性のフィルタ 4 親水性のフィルタ 5 送液ポンプ 6 循環経路 7 電磁弁 8 配管 9 精製液 10 ストックタンク 11 配管 12 弁 13 配管 20 配管 21 配管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江口 忠男 愛知県刈谷市小垣江町南藤1番地 東芝 セラミックス株式会社刈谷製造所内 (72)発明者 南 俊郎 愛知県刈谷市小垣江町南藤1番地 東芝 セラミックス株式会社刈谷製造所内 (72)発明者 今泉 幸文 愛知県刈谷市小垣江町南藤1番地 東芝 セラミックス株式会社刈谷製造所内 (56)参考文献 特開 昭58−180442(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01D 17/022 501 C02F 1/28

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 疎水性の洗浄液と親水性の成分を含む廃
    液を、疎水性のフィルタと親水性のフィルタとを組合わ
    せて精製する構成にした廃液の精製装置。
JP3133733A 1991-03-29 1991-03-29 廃液の精製装置 Expired - Fee Related JP3051201B2 (ja)

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