JP3042328B2 - 低アミン含有率のジスアゾ顔料の製造方法およびそれにより得られるジスアゾ顔料 - Google Patents
低アミン含有率のジスアゾ顔料の製造方法およびそれにより得られるジスアゾ顔料Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、衛生性に優れたジスア
ゾ顔料の製造方法に関する。
ゾ顔料の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ジスアゾ顔料は、ベンジジン類のテトラ
ゾ溶液とアセトアセトアニリド類を含むカップラー液と
をカップリングさせることにより得られる。テトラゾ成
分は、化学的に不安定で容易に分解や縮合をし、その結
果、ジスアゾ顔料の色材としての品位を著しく劣化させ
る。テトラゾ成分の遊離を防止する目的で、通常、化学
量論的に若干過剰のカップラーを用いてカップリングさ
せている。しかし、この結果として、過剰量分のカップ
ラーが顔料に残留することになる。残留カップラーは、
顔料スラリーの加熱処理や濾過した顔料ケーキの乾燥中
に、一部分解して芳香族アミン類に変化する。顔料が色
材として使用される際、残留するカップラーや芳香族ア
ミン類は、衛生上好ましくないと考えられている。残留
カップラーを低減するために顔料スラリーにアルカリを
添加してアセトアセトアニリド類をカップラー液に溶解
させ、顔料の濾過時に過剰のカップラーを濾液とともに
除去することが行われている。しかし、過剰のアセトア
セトアニリド類は顔料粒子中に吸蔵する傾向があり、こ
のような残留カップラーまでをも除去することは困難で
あった。このため、芳香族アミン類を含まないジスアゾ
顔料への要求が世界的に非常に大きいにもかかわらず、
現在の製品はこの要求に十分答えていると言いがたい。
例えば、上市されているＣ．Ｉ．ピグメントイエロー
８３中の２，５−ジメトキシ−４−クロロアニリン含有
率は、３００ｐｐｍから１０００ｐｐｍの範囲が多く、
中には５０００ｐｐｍ以上のものもあるのが実情であ
る。又、上述したように、テトラゾ成分とカップラー成
分とを化学量論量に近くして反応させれば、残留芳香族
アミンの少ないジスアゾ顔料が得られるが、テトラゾ成
分に由来する分解物が顔料の色相を汚し、顔料品位を著
しく低下させるという問題点があった。
ゾ溶液とアセトアセトアニリド類を含むカップラー液と
をカップリングさせることにより得られる。テトラゾ成
分は、化学的に不安定で容易に分解や縮合をし、その結
果、ジスアゾ顔料の色材としての品位を著しく劣化させ
る。テトラゾ成分の遊離を防止する目的で、通常、化学
量論的に若干過剰のカップラーを用いてカップリングさ
せている。しかし、この結果として、過剰量分のカップ
ラーが顔料に残留することになる。残留カップラーは、
顔料スラリーの加熱処理や濾過した顔料ケーキの乾燥中
に、一部分解して芳香族アミン類に変化する。顔料が色
材として使用される際、残留するカップラーや芳香族ア
ミン類は、衛生上好ましくないと考えられている。残留
カップラーを低減するために顔料スラリーにアルカリを
添加してアセトアセトアニリド類をカップラー液に溶解
させ、顔料の濾過時に過剰のカップラーを濾液とともに
除去することが行われている。しかし、過剰のアセトア
セトアニリド類は顔料粒子中に吸蔵する傾向があり、こ
のような残留カップラーまでをも除去することは困難で
あった。このため、芳香族アミン類を含まないジスアゾ
顔料への要求が世界的に非常に大きいにもかかわらず、
現在の製品はこの要求に十分答えていると言いがたい。
例えば、上市されているＣ．Ｉ．ピグメントイエロー
８３中の２，５−ジメトキシ−４−クロロアニリン含有
率は、３００ｐｐｍから１０００ｐｐｍの範囲が多く、
中には５０００ｐｐｍ以上のものもあるのが実情であ
る。又、上述したように、テトラゾ成分とカップラー成
分とを化学量論量に近くして反応させれば、残留芳香族
アミンの少ないジスアゾ顔料が得られるが、テトラゾ成
分に由来する分解物が顔料の色相を汚し、顔料品位を著
しく低下させるという問題点があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、残留カップ
ラーおよびその分解物、特に、芳香族アミン類を低減さ
せたジスアゾ顔料の製造方法を提供することを目的とし
ている。
ラーおよびその分解物、特に、芳香族アミン類を低減さ
せたジスアゾ顔料の製造方法を提供することを目的とし
ている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、ベンジジン類
のテトラゾ溶液と、該ベンジジン類に対して化学量論的
に過剰のアセトアセトアニリド類を含むカップラー液と
をカップリングさせて得られたジスアゾ顔料スラリー
に、ハロゲンを添加することによって過剰のアセトアセ
トアニリド類を処理することを特徴とする低アミン含有
率のジスアゾ顔料の製造方法に関する。さらに、本発明
は、上記製造方法で得られる芳香族アミン類の含有率が
１００ｐｐｍ以下であるジスアゾ顔料に関する。
のテトラゾ溶液と、該ベンジジン類に対して化学量論的
に過剰のアセトアセトアニリド類を含むカップラー液と
をカップリングさせて得られたジスアゾ顔料スラリー
に、ハロゲンを添加することによって過剰のアセトアセ
トアニリド類を処理することを特徴とする低アミン含有
率のジスアゾ顔料の製造方法に関する。さらに、本発明
は、上記製造方法で得られる芳香族アミン類の含有率が
１００ｐｐｍ以下であるジスアゾ顔料に関する。
【０００５】本発明によれば、初めに、３，３’−ジク
ロロベンジジン、２，２’，５，５’−テトラクロロベ
ンジジン等のテトラゾ成分とアセトアセトアニリド類か
ら選ばれるカップラー成分とをカップリングさせて、ジ
スアゾ顔料のスラリーを得る。アセトアセトアニリド類
の具体例としては、例えば、アセトアセトアニリド、ア
セトアセト−ｏ−トルイジド、アセトアセト−ｍ−キシ
リジド、アセトアセト−ｏ−アニシジド、アセトアセト
−２，５−ジメトキシアニリド、アセトアセト−ｐ−ア
ニシジド、アセトアセト−２，５−ジメトキシ−４−ク
ロロアニリド、アセトアセト−ｏ−クロロアニリド等が
ある。カップリング方法は公知の方法でよい。カップラ
ー成分はテトラゾ成分に対して、化学量論的に１５モル
％までの範囲で過剰量使用することが好ましい。
ロロベンジジン、２，２’，５，５’−テトラクロロベ
ンジジン等のテトラゾ成分とアセトアセトアニリド類か
ら選ばれるカップラー成分とをカップリングさせて、ジ
スアゾ顔料のスラリーを得る。アセトアセトアニリド類
の具体例としては、例えば、アセトアセトアニリド、ア
セトアセト−ｏ−トルイジド、アセトアセト−ｍ−キシ
リジド、アセトアセト−ｏ−アニシジド、アセトアセト
−２，５−ジメトキシアニリド、アセトアセト−ｐ−ア
ニシジド、アセトアセト−２，５−ジメトキシ−４−ク
ロロアニリド、アセトアセト−ｏ−クロロアニリド等が
ある。カップリング方法は公知の方法でよい。カップラ
ー成分はテトラゾ成分に対して、化学量論的に１５モル
％までの範囲で過剰量使用することが好ましい。
【０００６】カップリングさせて得られた顔料スラリー
に、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンを添加して加熱す
る。添加の方法はハロゲンが液状であれば、顔料スラリ
ーにハロゲンを滴下すればよいし、ガス状であれば顔料
スラリー中にガスを導入すればよい。ハロゲンの添加量
は、顔料の０．１〜２０重量％、好ましくは１〜１０重
量％である。加熱温度は特に限定されないが、２５〜１
００℃、好ましくは３０〜９０℃である。加熱時間は３
０分ないし２時間が好ましい。ハロゲンによる処理を終
えた顔料スラリーは、通常の顔料の製造方法に従って、
濾過、水洗、乾燥して製品とする。以下、実施例により
本発明を説明する。実施例中、部、％は重量部、重量％
を表す。
に、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンを添加して加熱す
る。添加の方法はハロゲンが液状であれば、顔料スラリ
ーにハロゲンを滴下すればよいし、ガス状であれば顔料
スラリー中にガスを導入すればよい。ハロゲンの添加量
は、顔料の０．１〜２０重量％、好ましくは１〜１０重
量％である。加熱温度は特に限定されないが、２５〜１
００℃、好ましくは３０〜９０℃である。加熱時間は３
０分ないし２時間が好ましい。ハロゲンによる処理を終
えた顔料スラリーは、通常の顔料の製造方法に従って、
濾過、水洗、乾燥して製品とする。以下、実施例により
本発明を説明する。実施例中、部、％は重量部、重量％
を表す。
【０００７】実施例１ 氷水６００部に３５％塩酸３０部と３，３’−ジクロロ
ベンジジン２５．３部を加え、続いて、亜硝酸ナトリウ
ム１３．８部を加えてテトラゾ化しテトラゾ溶液を得
た。一方、水３００部に水酸化ナトリウム１７部とアセ
トアセト−２，５−ジメトキシ−４−クロロアニリド５
７．０部を３０℃で仕込みカップラーのアルカリ溶液と
した。水６００部に８０％酢酸２２部を加えた後、先の
カップラーのアルカリ溶液を滴下し、カップラーを酸析
して下漬液を調製し、この下漬液にテトラゾ溶液を液面
下から注入してカップリングさせた。得られた顔料スラ
リーに臭素５部を添加後、７０℃に加熱した。６０分放
置後、このスラリーを濾過、水洗および乾燥した。
ベンジジン２５．３部を加え、続いて、亜硝酸ナトリウ
ム１３．８部を加えてテトラゾ化しテトラゾ溶液を得
た。一方、水３００部に水酸化ナトリウム１７部とアセ
トアセト−２，５−ジメトキシ−４−クロロアニリド５
７．０部を３０℃で仕込みカップラーのアルカリ溶液と
した。水６００部に８０％酢酸２２部を加えた後、先の
カップラーのアルカリ溶液を滴下し、カップラーを酸析
して下漬液を調製し、この下漬液にテトラゾ溶液を液面
下から注入してカップリングさせた。得られた顔料スラ
リーに臭素５部を添加後、７０℃に加熱した。６０分放
置後、このスラリーを濾過、水洗および乾燥した。
【０００８】実施例２ 実施例１においてカップリング後の顔料スラリーにヨウ
素８部を添加し９０℃に加熱した。３０分放置後、この
スラリーを濾過、水洗および乾燥した。 実施例３ 実施例１においてカップリング後の顔料スラリーに塩素
ガス２部を２０分かけて吹き込んだ後、３０℃に加熱し
た。９０分放置後、このスラリーを濾過、水洗および乾
燥した。
素８部を添加し９０℃に加熱した。３０分放置後、この
スラリーを濾過、水洗および乾燥した。 実施例３ 実施例１においてカップリング後の顔料スラリーに塩素
ガス２部を２０分かけて吹き込んだ後、３０℃に加熱し
た。９０分放置後、このスラリーを濾過、水洗および乾
燥した。
【０００９】比較例１ 実施例２においてカップリング後の顔料スラリーをヨウ
素を添加しないで７０℃に加熱した。６０分放置後、こ
のスラリーを濾過、水洗および乾燥した。以上の各例で
得られた顔料のテトラヒドロフラン抽出液中に含まれる
アセトアセト−２，５−ジメトキシ−４−クロロアニリ
ドおよび２，５−ジメトキシ−４−クロロアニリンを高
速液体クロマトグラフにより分離、定量し、それらの含
有率を求めた。なお、測定条件は、オクタデシルシラン
系の充填剤を用い、メタノールと水の１：１混合液を溶
離液とし、検出波長は２３５ｎｍである。結果を以下の
実施例および比較例とともに表１に示した。
素を添加しないで７０℃に加熱した。６０分放置後、こ
のスラリーを濾過、水洗および乾燥した。以上の各例で
得られた顔料のテトラヒドロフラン抽出液中に含まれる
アセトアセト−２，５−ジメトキシ−４−クロロアニリ
ドおよび２，５−ジメトキシ−４−クロロアニリンを高
速液体クロマトグラフにより分離、定量し、それらの含
有率を求めた。なお、測定条件は、オクタデシルシラン
系の充填剤を用い、メタノールと水の１：１混合液を溶
離液とし、検出波長は２３５ｎｍである。結果を以下の
実施例および比較例とともに表１に示した。
【００１０】実施例４ ３，３’−ジクロロベンジジン２５．３部を実施例と同
様にしてテトラゾ化してテトラゾ溶液を得た。一方、実
施例のアセトアセト−２，５−ジメトキシ−４−クロロ
アニリド５７．０部の代わりにアセトアセト−ｍ−キシ
リジド４２．２部を使用して下漬液を調製し、この下漬
液にテトラゾ溶液を液面下より注入しカップリングさせ
た。得られた顔料スラリーに臭素１部を添加後、６０℃
に加熱した。６０分放置後、このスラリーを濾過、水洗
および乾燥した。 比較例２ 実施例４においてカップリング後の顔料スラリーに臭素
を添加しないで６０℃に加熱した。６０分放置後、この
スラリーを濾過、水洗および乾燥した。実施例４および
比較例２で得られた顔料中に含まれるアセトアセト−ｍ
−キシリジドおよびｍ−キシリジンの含有率を実施例１
と同様にて高速液体クロマトグラフィーにより測定し、
表１に示した。
様にしてテトラゾ化してテトラゾ溶液を得た。一方、実
施例のアセトアセト−２，５−ジメトキシ−４−クロロ
アニリド５７．０部の代わりにアセトアセト−ｍ−キシ
リジド４２．２部を使用して下漬液を調製し、この下漬
液にテトラゾ溶液を液面下より注入しカップリングさせ
た。得られた顔料スラリーに臭素１部を添加後、６０℃
に加熱した。６０分放置後、このスラリーを濾過、水洗
および乾燥した。 比較例２ 実施例４においてカップリング後の顔料スラリーに臭素
を添加しないで６０℃に加熱した。６０分放置後、この
スラリーを濾過、水洗および乾燥した。実施例４および
比較例２で得られた顔料中に含まれるアセトアセト−ｍ
−キシリジドおよびｍ−キシリジンの含有率を実施例１
と同様にて高速液体クロマトグラフィーにより測定し、
表１に示した。
【００１１】実施例５ ３，３’−ジクロロベンジジン２５．３部を実施例１と
同様にしてテトラゾ化してテトラゾ溶液を得た。一方、
実施例１のアセトアセト−２，５−ジメトキシ−４−ク
ロロアニリド５７．０部の代わりにアセトアセト−ｏ−
トルイジド３９．３部を使用した下漬液を調製し、この
下漬液にテトラゾ溶液を液面下より注入しカップリング
させた。得られた顔料スラリーにヨウ素３部を添加後、
９０℃に加熱した。３０分放置後このスラリーを濾過、
水洗および乾燥した。 比較例３ 実施例４においてカップリング後の顔料スラリーを９０
℃に加熱した。３０分放置後、このスラリーを濾過、水
洗および乾燥した。実施例５および比較例３で得られた
顔料中に含まれるアセトアセト−ｏ−トルイジドおよび
ｏ−トルイジンの含有率を実施例１と同様にして高速液
体クロマトグラフィーにより測定し、表１に示した。
同様にしてテトラゾ化してテトラゾ溶液を得た。一方、
実施例１のアセトアセト−２，５−ジメトキシ−４−ク
ロロアニリド５７．０部の代わりにアセトアセト−ｏ−
トルイジド３９．３部を使用した下漬液を調製し、この
下漬液にテトラゾ溶液を液面下より注入しカップリング
させた。得られた顔料スラリーにヨウ素３部を添加後、
９０℃に加熱した。３０分放置後このスラリーを濾過、
水洗および乾燥した。 比較例３ 実施例４においてカップリング後の顔料スラリーを９０
℃に加熱した。３０分放置後、このスラリーを濾過、水
洗および乾燥した。実施例５および比較例３で得られた
顔料中に含まれるアセトアセト−ｏ−トルイジドおよび
ｏ−トルイジンの含有率を実施例１と同様にして高速液
体クロマトグラフィーにより測定し、表１に示した。
【００１２】
【表１】
【００１３】
【発明の効果】本発明では、顔料スラリーにハロゲンを
添加して残留カップラーを処理によって、残留カップラ
ーおよび芳香族アミン類の含有率を大幅に低減させるこ
とができた。さらに、テトラゾ成分に対してカップラー
成分を過剰に反応させているので、顔料品位も従来のも
のと同等のものが得ることができ、色材としての品位お
よび衛生上の両者の問題を同時に解決することができ
た。
添加して残留カップラーを処理によって、残留カップラ
ーおよび芳香族アミン類の含有率を大幅に低減させるこ
とができた。さらに、テトラゾ成分に対してカップラー
成分を過剰に反応させているので、顔料品位も従来のも
のと同等のものが得ることができ、色材としての品位お
よび衛生上の両者の問題を同時に解決することができ
た。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C09B 67/20 C09B 41/00 ＣＡＰＬＵＳ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＷＰＩＤＳ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】 ベンジジン類のテトラゾ溶液と、該ベン
ジジン類に対して化学量論的に過剰のアセトアセトアニ
リド類を含むカップラー液とをカップリングさせて得ら
れたジスアゾ顔料スラリーに、ハロゲンを添加すること
によって過剰のアセトアセトアニリド類を処理すること
を特徴とする低アミン含有率のジスアゾ顔料の製造方
法。 - 【請求項２】 請求項１の製造方法で得られる芳香族ア
ミン類の含有率が１００ｐｐｍ以下であるジスアゾ顔
料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6256492A JP3042328B2 (ja) | 1993-10-29 | 1994-10-21 | 低アミン含有率のジスアゾ顔料の製造方法およびそれにより得られるジスアゾ顔料 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27137393 | 1993-10-29 | ||
| JP5-271373 | 1993-10-29 | ||
| JP6256492A JP3042328B2 (ja) | 1993-10-29 | 1994-10-21 | 低アミン含有率のジスアゾ顔料の製造方法およびそれにより得られるジスアゾ顔料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07173408A JPH07173408A (ja) | 1995-07-11 |
| JP3042328B2 true JP3042328B2 (ja) | 2000-05-15 |
Family
ID=26542747
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6256492A Expired - Fee Related JP3042328B2 (ja) | 1993-10-29 | 1994-10-21 | 低アミン含有率のジスアゾ顔料の製造方法およびそれにより得られるジスアゾ顔料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3042328B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5958128A (en) * | 1996-02-26 | 1999-09-28 | Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Method of manufacturing a disazo pigment and disazo pigment manufactured thereby |
| US9902857B2 (en) | 2013-12-19 | 2018-02-27 | Dic Corporation | Quinacridone pigment of low amine content and method for producing same |
| EP4172273A4 (en) * | 2020-06-28 | 2024-03-20 | DIC Corporation | DISAZO PIGMENT, PIGMENT COMPOSITION AND PRINTING INK |
-
1994
- 1994-10-21 JP JP6256492A patent/JP3042328B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07173408A (ja) | 1995-07-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |