JP2990264B2

JP2990264B2 - 新規共沸及び共沸様組成物

Info

Publication number: JP2990264B2
Application number: JP7659098A
Authority: JP
Inventors: 雄司望月; 博志山本; 昌彦安本; 勝己栃木; 章関屋; 猛佐古
Original assignee: Agency of Industrial Science and Technology
Current assignee: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority date: 1998-03-10
Filing date: 1998-03-10
Publication date: 1999-12-13
Anticipated expiration: 2018-03-10
Also published as: JPH11256195A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ビス（２，２，２
−トリフルオロエチル）エーテルとブチルエチルエーテ
ルとの混合物からなる共沸又は共沸様エーテル組成物に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、電子部品，精密機械部品，樹
脂加工部品等の洗浄用溶剤としては、ハロゲン化炭化水
素が最もよく知られており、塩素原子または塩素原子と
フッ素原子が置換した炭化水素群が用いられている。こ
れらのハロゲン化炭化水素は、毒性が少なく、ハロゲン
の置換数が多いと不燃性を示し、また化学的及び熱的に
安定であって、しかもプラスチックやゴムなどの表面を
侵食することなくワックスや油脂類を溶解するという適
度な溶解性を有することから各種の産業分野に広く使用
されている。例えばこれらのハロゲン化炭化水素として
は、トリクロロエチレン，テトラクロロエチレン，１,
１,１−トリクロロエタン等の塩素系炭化水素や１,１,
２−トリクロロ−１,２,２−トリフルオロエタン（フロ
ン１１３）等のフロン系炭化水素が知られており、特に
後者のフロン系炭化水素は、毒性が少なく不燃性で化学
的及び熱的に安定であることから、広範囲な分野で使用
されている。しかし、かかる塩素を含むフロン系炭化水
素や１,１,１−トリクロロエタンは塩素原子を有する
為、成層圏のオゾン層を破壊するという重大な欠点が指
摘され、その生産と使用を停止することが国際的に決め
られている。またトリクロロエチレン及びテトラクロロ
エチレンは、地下水汚染問題がクロ−ズアップされ、そ
の後の環境汚染状況調査結果と慢性毒性等が認められる
との有害性の調査結果に基づき、平成元年より第２種特
定化学物質に政令指定された。このような状況下、かか
る塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素に代わ
る物質の開発強く要望されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、塩素を含む
フロン系炭化水素や塩素系炭化水素が有する洗浄性や低
毒性等の優れた性質を有するとともに、オゾン層破壊の
心配がなく、且つ温室効果の小さい新規な組成物を提供
することをその課題とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成す
るに至った。即ち、本発明によれば、ビス（２，２，２
−トリフルオロエチル）エーテル９０．０〜９９．５ｍ
ｏｌ％と、ブチルエチルエーテル０．５〜１０．０ｍｏ
ｌ％との混合物からなる共沸又は共沸様エーテル組成物
が提供される。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明による共沸及び共沸
様エーテル組成物の具体例を示す。なお、共沸組成物と
は、その蒸気組成と液体組成が同一であり、蒸発、凝縮
を繰り返した後の組成物の組成変化がないものを意味す
る。また、共沸様組成物とは、その蒸気組成と液体組成
がほぼ同一であり、蒸発、凝縮を繰り返した後の組成物
の組成変化が無視できる程度にしか変化しないものを意
味する。本発明による共沸及び共沸様エーテル組成物
は、ビス（２，２，２−トリフルオロエチル）エーテル
９０．０〜９９．５ｍｏｌ％及びブチルエチルエーテル
０．５〜１０．０ｍｏｌ％からなる共沸様組成物、好ま
しくはビス（２，２，２−トリフルオロエチル）エーテ
ル９６．２ｍｏｌ％及びブチルエチルエーテル３．８ｍ
ｏｌ％からなる共沸組成物である。この共沸組成物の沸
点は、大気圧（１０１．３ｋＰａ）で６３．６１℃であ
る。

【０００６】本発明に係る、ビス（２，２，２−トリフ
ルオロエチル）エーテルは既知物質であり、例えばトリ
フルオロエタノールと２，２，２−トリフルオロエチル
パラトルエンスルホネートを反応させることにより容易
に得られる。

【０００７】本発明による組成物は、過酷な条件での使
用に際しては更に各種の安定剤を添加してもよい。安定
剤としては、蒸留操作により同伴留出されるもの或いは
共沸様混合物を形成するものが望ましい。このような安
定剤の具体例としては、ニトロメタン、ニトロエタン等
の脂肪族ニトロ化合物、ニトロベンゼン、ニトロスチレ
ン等の芳香族ニトロ化合物、ジメトキシメタン、１,２
−ジメトキシエタン、１,４−ジオキサン、１,３,５−
トリオキサン等のエーテル類、グリシドール、メチルグ
リシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニ
ルグリシジルエーテル、１,２−ブチレンオキシド、シ
クロヘキセンオキシド、エピクロルヒドリン等のエポキ
シド類、ヘキセン、ヘプテン、ペンタジエン、シクロペ
ンテン、シクロヘキセン等の不飽和炭化水素類、アリル
アルコール、１−ブテン−３−オール等のオレフィン系
アルコール類、３−メチル−１−ブチン−３−オール、
３−メチル−１−ペンチン−３−オール等のアセチレン
系アルコール類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ビニル等のアクリ
ル酸エステル類が挙げられる。また更に相乗的安定化効
果を得る為に、フェノール類、アミン類、ベンゾトリア
ゾール類を併用してもよい。これらの安定剤は、単独で
使用してもよく或いは２種以上組み合わせて使用しても
よい。安定剤の使用量は、安定剤の種類等により異なる
が、共沸様の性質に支障のない程度とする。その使用量
は、通常本発明組成物の０.０１〜１０重量％程度であ
り、０.１〜５重量％程度とすることがより好ましい。

【０００８】また本発明の組成物には、洗浄力、界面作
用等をより一層改善する為に、必要に応じて各種の界面
活性剤を添加することができる。界面活性剤としては、
ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート
等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレン
のソルビットテトラオレエート等のポリオキシエチレン
ソルビット脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンモノ
ラウレート等のポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリオキシエチレンラウリルエーテル等のポリオキ
シエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンノ
ニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキル
フェニルエーテル類、ポリオキシエチレンオレイン酸ア
ミド等のポリオキシエチレンアルキルアミン脂肪酸アミ
ド類等のノニオン系界面活性剤が挙げられ、単独で使用
してもよく或いは２種以上組み合わせて使用してもよ
い。相乗的に洗浄力及び界面作用を改善する目的で、こ
れらのノニオン系界面活性剤に更にカチオン系界面活性
剤またはアニオン系界面活性剤を併用してもよい。界面
活性剤の使用量は、その種類等により異なるが、共沸様
の性質に支障のない程度で、通常本発明組成物の０.１
〜２０重量％程度であり、０.３〜５重量％程度とする
ことがより好ましい。

【０００９】本発明の組成物は、公知の洗浄及び乾燥用
途に広く使用できるが、特にフラックス洗浄剤，洗浄溶
剤，脱脂洗浄剤，水切り乾燥剤として使用でき、従来の
フロン１１３や１,１,１−トリクロロエタンの代替物と
して極めて有用なものである。その具体的な用途として
は、フラックス、グリース、油、ワックス、インキ等の
除去剤、電子部品（プリント基板、液晶表示器、磁気記
録部品、半導体材料等）、電機部品、精密機械部品、樹
脂加工部品、光学レンズ、衣料品等の洗浄剤や水切り乾
燥剤等を挙げることができる。その洗浄方法としては、
浸漬、スプレー、沸騰洗浄、超音波洗浄、蒸気洗浄等或
いはこれらの組み合わせ等の従来から用いられている方
法が採用できる。また本発明の組成物は、従来のフロン
と同様に塗料用溶剤、抽出剤、熱媒体及び発泡剤等の各
種用途にも使用できる。

【００１０】

【実施例】次に、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。実施例気液平衡測定装置を用いてビス（２，２，２−トリフル
オロエチル）エーテルとブチルエチルエーテルとの混合
物の気液平衡組成（ｘ１及びｙ１）及び沸点（ｔ）を測
定した。ビス（２，２，２−トリフルオロエチル）エー
テルとブチルエチルエーテルとの一定組成の混合試料を
試料容器部に入れ、加熱した。そして気相凝縮液の滴下
速度が適正になるように加熱を調整して、安定した沸騰
を40分間以上保った。圧力及び沸点が安定していること
を確かめた後、それらを測定した。また液相及び気相凝
縮液をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにより
サンプリング液の組成分析を行った。前期実験結果を表
１、図１及び図２に示す。前記実験結果から、ビス
（２，２，２−トリフルオロエチル）エーテル９０．０
〜９９．５ｍｏｌ％及びブチルエチルエーテル０．５〜
１０．０ｍｏｌ％の範囲にある本発明の組成物は、共沸
様組成物である。ここでビス（２，２，２−トリフルオ
ロエチル）エーテル９６．２ｍｏｌ％及びブチルエチル
エーテル３．８ｍｏｌ％からなる組成物は共沸組成物で
あり、その沸点は大気圧（１０１．３ｋＰａ）で６３．
６１℃である。

【００１１】

【表１】

【００１２】

【発明の効果】本発明の共沸又は共沸様エーテル組成物
は、洗浄性及び低毒性にすぐれるとともに、オゾン層破
壊の心配がなく、且つ温室効果の小さいものである。本
発明の組成物は、溶剤、洗浄剤を始め、抽出剤、熱媒
体、発泡剤等各種の用途に供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ビス（２，２，２−トリフルオロエチル）エー
テルとブチルエーテルとの混合物についての気液平衡曲
線（ｘ−ｙ）を示す。

【図２】ビス（２，２，２−トリフルオロエチル）エー
テルとブチルエーテルとの混合物についての気液平衡曲
線（ｘ−ｔ）を示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ１１Ｄ 7:28） (72)発明者山本博志東京都文京区本郷２−40−17本郷若井ビル６階財団法人地球環境産業技術研究機構新規冷媒等プロジェクト室内 (72)発明者安本昌彦東京都文京区本郷２−40−17本郷若井ビル６階財団法人地球環境産業技術研究機構新規冷媒等プロジェクト室内 (72)発明者栃木勝己東京都大田区久が原５丁目25番19号 (72)発明者関屋章茨城県つくば市東１丁目１番工業技術院物質工学工業技術研究所内 (72)発明者佐古猛茨城県つくば市東１丁目１番工業技術院物質工学工業技術研究所内審査官鈴木恵理子 (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C11D 7/50 C11D 7/26 - 7/28 C11D 3/20 - 3/24 C11D 3/43 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】ビス（２，２，２−トリフルオロエチ
ル）エーテル９０．０〜９９．５ｍｏｌ％と、ブチルエ
チルエーテル０．５〜１０．０ｍｏｌ％との混合物から
なることを特徴とする共沸又は共沸様エーテル組成物。