JP2984095B2 - ガスセンサの製造方法 - Google Patents
ガスセンサの製造方法Info
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- JP2984095B2 JP2984095B2 JP3175975A JP17597591A JP2984095B2 JP 2984095 B2 JP2984095 B2 JP 2984095B2 JP 3175975 A JP3175975 A JP 3175975A JP 17597591 A JP17597591 A JP 17597591A JP 2984095 B2 JP2984095 B2 JP 2984095B2
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- Japan
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- gas sensor
- thin film
- ceramic substrate
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- platinum
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Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はガスセンサの製造方法
に関し、特に、量産が可能となったガスセンサの製造方
法に関するものである。
に関し、特に、量産が可能となったガスセンサの製造方
法に関するものである。
【0002】
【従来技術および解決しようとする課題】一般に、雰囲
気ガス中に含まれる特定の可燃性ガスを検出または定量
するために用いられるガスセンサは、図13、図14に
示すようなガスセンサが知られている。すなわち、この
ガスセンサは図14に示すように、検出素子43と、温
度補償を行うための検出素子43の温度係数に近い温度
係数を持つ温度補償素子44とがブリッジ回路に組み込
まれたものである。前記検出素子43は図13に示すよ
うに、触媒42を保持する球形状のアルミナ担体41
と、このアルミナ担体41に埋設するとともに、埋設す
る部分がコイル状となった白金線40とからなってい
る。
気ガス中に含まれる特定の可燃性ガスを検出または定量
するために用いられるガスセンサは、図13、図14に
示すようなガスセンサが知られている。すなわち、この
ガスセンサは図14に示すように、検出素子43と、温
度補償を行うための検出素子43の温度係数に近い温度
係数を持つ温度補償素子44とがブリッジ回路に組み込
まれたものである。前記検出素子43は図13に示すよ
うに、触媒42を保持する球形状のアルミナ担体41
と、このアルミナ担体41に埋設するとともに、埋設す
る部分がコイル状となった白金線40とからなってい
る。
【0003】そして、可燃性ガスがアルミナ担体41に
保持された触媒42に作用して反応すると、前記白金線
40の温度が上昇する。また、前記白金線40は温度変
化により電気抵抗が変化するため、この電気抵抗の変化
を測定することにより、可燃性ガスの検出または定量を
行うことができる。
保持された触媒42に作用して反応すると、前記白金線
40の温度が上昇する。また、前記白金線40は温度変
化により電気抵抗が変化するため、この電気抵抗の変化
を測定することにより、可燃性ガスの検出または定量を
行うことができる。
【0004】しかしながら、前記検出素子43は、白金
線40の径が約40μm、アルミナ担体41の直径が約
0.9mmと非常に小さいものであり、量産が困難であ
り、また、前記検出素子43の温度係数に近い温度係数
を持つ温度補償素子44を製造することが困難であると
いう問題点を有していた。
線40の径が約40μm、アルミナ担体41の直径が約
0.9mmと非常に小さいものであり、量産が困難であ
り、また、前記検出素子43の温度係数に近い温度係数
を持つ温度補償素子44を製造することが困難であると
いう問題点を有していた。
【0005】この発明は上記のような従来のもののもつ
問題点を解決したものであって、検出素子および温度補
償素子の量産が可能となるとともに、検出素子の温度係
数に近い温度係数を持つ温度補償素子の製造が容易とな
ったガスセンサの製造方法を提供することを目的とする
ものである。
問題点を解決したものであって、検出素子および温度補
償素子の量産が可能となるとともに、検出素子の温度係
数に近い温度係数を持つ温度補償素子の製造が容易とな
ったガスセンサの製造方法を提供することを目的とする
ものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めにこの発明は、1枚のセラミック基板を複数の同一領
域に区画し、各領域内に白金薄膜パターン部および配線
ターミナル部からなる白金薄膜電極を形成し、前記各白
金薄膜パターン部の上部にセラミック系部材を配設して
焼結し、前記セラミック基板の半分にマスキングを施し
て温度補償素子集合部とし、残り半分の前記各セラミッ
ク系部材の上部に白金族部材をコーティングして検出素
子集合部とし、前記セラミック基板を各領域毎に切断し
て前記温度補償素子集合部より温度補償素子を、また、
前記検出素子集合部より検出素子をそれぞれ形成し、温
度係数の近似する温度補償素子と検出素子との対を選択
してガスセンサを形成するという手段を採用したもので
ある。
めにこの発明は、1枚のセラミック基板を複数の同一領
域に区画し、各領域内に白金薄膜パターン部および配線
ターミナル部からなる白金薄膜電極を形成し、前記各白
金薄膜パターン部の上部にセラミック系部材を配設して
焼結し、前記セラミック基板の半分にマスキングを施し
て温度補償素子集合部とし、残り半分の前記各セラミッ
ク系部材の上部に白金族部材をコーティングして検出素
子集合部とし、前記セラミック基板を各領域毎に切断し
て前記温度補償素子集合部より温度補償素子を、また、
前記検出素子集合部より検出素子をそれぞれ形成し、温
度係数の近似する温度補償素子と検出素子との対を選択
してガスセンサを形成するという手段を採用したもので
ある。
【0007】
【作用】この発明は上記の手段を採用したことにより、
検出素子および温度補償素子を量産することができ、1
枚のセラミック基板で検出素子および温度補償素子を製
造することができるとともに、温度係数の近い検出素子
および温度補償素子を容易に製造することができる。
検出素子および温度補償素子を量産することができ、1
枚のセラミック基板で検出素子および温度補償素子を製
造することができるとともに、温度係数の近い検出素子
および温度補償素子を容易に製造することができる。
【0008】
【実施例】以下、図面に示すこの発明の実施例について
説明する。図1には、この発明によるガスセンサの製造
方法によって製造したガスセンサの一実施例が示されて
いて、このガスセンサ1は、ケース2上面に検出素子3
と温度補償素子4とが対向して配設され、前記両素子
3、4を覆うようにして、防爆メッシュ16が前記ケー
ス2の上部に設けられている。そして、前記検出素子3
および温度補償素子4は、図2に示すように、ブリッジ
回路に接続している。
説明する。図1には、この発明によるガスセンサの製造
方法によって製造したガスセンサの一実施例が示されて
いて、このガスセンサ1は、ケース2上面に検出素子3
と温度補償素子4とが対向して配設され、前記両素子
3、4を覆うようにして、防爆メッシュ16が前記ケー
ス2の上部に設けられている。そして、前記検出素子3
および温度補償素子4は、図2に示すように、ブリッジ
回路に接続している。
【0009】前記検出素子3は図3に示すように、セラ
ミック基板5の上部に白金薄膜パターン部6および配線
ターミナル部7からなる白金薄膜電極8をスパッタリン
グ法または蒸着法等で形成し、前記白金薄膜パターン部
6の上部にアルミナ、シリカアルミナ等からなるセラミ
ック系部材9を印刷して焼結し、このセラミック系部材
9の上部に白金族のPt、Pd、Rh等からなる白金族
部材10をスパッタリング法または蒸着法等でコーティ
ングしたものである。
ミック基板5の上部に白金薄膜パターン部6および配線
ターミナル部7からなる白金薄膜電極8をスパッタリン
グ法または蒸着法等で形成し、前記白金薄膜パターン部
6の上部にアルミナ、シリカアルミナ等からなるセラミ
ック系部材9を印刷して焼結し、このセラミック系部材
9の上部に白金族のPt、Pd、Rh等からなる白金族
部材10をスパッタリング法または蒸着法等でコーティ
ングしたものである。
【0010】また、前記温度補償素子4は図4に示すよ
うに、セラミック基板11の上部に白金薄膜パターン部
12および配線ターミナル部13からなる白金薄膜電極
14をスパッタリング法または蒸着法等で形成し、前記
白金薄膜パターン部12の上部にアルミナ、シリカアル
ミナ等からなるセラミック系部材15を印刷して焼結し
たものである。
うに、セラミック基板11の上部に白金薄膜パターン部
12および配線ターミナル部13からなる白金薄膜電極
14をスパッタリング法または蒸着法等で形成し、前記
白金薄膜パターン部12の上部にアルミナ、シリカアル
ミナ等からなるセラミック系部材15を印刷して焼結し
たものである。
【0011】上記のように構成されたガスセンサ1にお
いて、可燃性ガスは前記検出素子3の白金薄膜電極8の
上部にセラミック系部材9を介して配設された白金族部
材10と作用して反応し、白金薄膜電極8の白金薄膜パ
ターン部6の温度を上昇させる。そして、この白金薄膜
パターン部6の温度が上昇すると、白金薄膜電極8の電
気抵抗が変化し、この変化量を測定することにより、可
燃性ガスの検出または定量を行うことができる。
いて、可燃性ガスは前記検出素子3の白金薄膜電極8の
上部にセラミック系部材9を介して配設された白金族部
材10と作用して反応し、白金薄膜電極8の白金薄膜パ
ターン部6の温度を上昇させる。そして、この白金薄膜
パターン部6の温度が上昇すると、白金薄膜電極8の電
気抵抗が変化し、この変化量を測定することにより、可
燃性ガスの検出または定量を行うことができる。
【0012】また、前記検出素子3および温度補償素子
4が上記のように構成されることによって、検出素子3
および温度補償素子4の量産が容易となり、1枚のセラ
ミック基板から検出素子3および温度補償素子4を製造
することによって、温度係数を揃えることが容易にな
る。
4が上記のように構成されることによって、検出素子3
および温度補償素子4の量産が容易となり、1枚のセラ
ミック基板から検出素子3および温度補償素子4を製造
することによって、温度係数を揃えることが容易にな
る。
【0013】図5〜図10にはこの発明によるガスセン
サの製造方法の実施例が示され、また、図11、図12
にはこの発明によるガスセンサの製造方法によって製造
された検出素子および温度補償素子が示されている。
サの製造方法の実施例が示され、また、図11、図12
にはこの発明によるガスセンサの製造方法によって製造
された検出素子および温度補償素子が示されている。
【0014】このガスセンサの製造方法は、まず、1枚
のセラミック基板21を図5に示すように、複数の同一
領域に区画し、このセラミック基板21の各領域に図6
に示すように、白金薄膜パターン部22および配線ター
ミナル部23からなる白金薄膜電極24をスパッタリン
グ法または蒸着法等によって形成する。
のセラミック基板21を図5に示すように、複数の同一
領域に区画し、このセラミック基板21の各領域に図6
に示すように、白金薄膜パターン部22および配線ター
ミナル部23からなる白金薄膜電極24をスパッタリン
グ法または蒸着法等によって形成する。
【0015】つぎに、前記白金薄膜電極24が形成され
たセラミック基板21の各白金薄膜電極24の配線ター
ミナル部23にマスキングを施し、図7に示すように、
前記各白金薄膜電極24の白金薄膜パターン部22の上
部にアルミナ、シリカアルミナ等から形成されるセラミ
ック系部材25を印刷して焼結する。
たセラミック基板21の各白金薄膜電極24の配線ター
ミナル部23にマスキングを施し、図7に示すように、
前記各白金薄膜電極24の白金薄膜パターン部22の上
部にアルミナ、シリカアルミナ等から形成されるセラミ
ック系部材25を印刷して焼結する。
【0016】さらに、前記白金薄膜電極24の上部にセ
ラミック系部材25が焼結されたセラミック基板21の
半分にマスキングを施し、このマスキングを施した部分
を温度補償素子集合部28とし、マスキングを施してい
ない残り半分のセラミック系部材25の上部に、白金族
のPt、Pd、Rh等からなる白金族部材26をスパッ
タリング法または蒸着法等でコーティングして、検出素
子集合部27とし、図8、図9に示すように、半分が温
度補償素子集合部28であるとともに、残り半分が検出
素子集合部27であるセラミック基板21を形成する。
ラミック系部材25が焼結されたセラミック基板21の
半分にマスキングを施し、このマスキングを施した部分
を温度補償素子集合部28とし、マスキングを施してい
ない残り半分のセラミック系部材25の上部に、白金族
のPt、Pd、Rh等からなる白金族部材26をスパッ
タリング法または蒸着法等でコーティングして、検出素
子集合部27とし、図8、図9に示すように、半分が温
度補償素子集合部28であるとともに、残り半分が検出
素子集合部27であるセラミック基板21を形成する。
【0017】上記のように構成された、半分が温度補償
素子集合部28であるとともに、残り半分が検出素子集
合部27であるセラミック基板21を、図10に示すよ
うに、ヒーター部31の上部に前記白金薄膜電極24が
上方を向いた状態で配設し、前記セラミック基板21の
上方から前記各領域の各白金薄膜電極24の配線ターミ
ナル部23に計測端子29を接触させ、各計測端子29
の配線はコネクタ30でまとめられ、マルチメータに接
続して、前記白金薄膜電極24の電気抵抗値を測定でき
るようにする。そして、ヒーター部31の温度を変化さ
せて、各領域の各白金薄膜電極24の温度係数を測定す
る。
素子集合部28であるとともに、残り半分が検出素子集
合部27であるセラミック基板21を、図10に示すよ
うに、ヒーター部31の上部に前記白金薄膜電極24が
上方を向いた状態で配設し、前記セラミック基板21の
上方から前記各領域の各白金薄膜電極24の配線ターミ
ナル部23に計測端子29を接触させ、各計測端子29
の配線はコネクタ30でまとめられ、マルチメータに接
続して、前記白金薄膜電極24の電気抵抗値を測定でき
るようにする。そして、ヒーター部31の温度を変化さ
せて、各領域の各白金薄膜電極24の温度係数を測定す
る。
【0018】つぎに、半分が温度補償素子集合部28で
あるとともに、残り半分が検出素子集合部27であるセ
ラミック基板21を各領域毎に切断して、温度補償素子
集合部28から図12に示す温度補償素子34を形成
し、検出素子集合部27から図11に示す検出素子33
を形成する。
あるとともに、残り半分が検出素子集合部27であるセ
ラミック基板21を各領域毎に切断して、温度補償素子
集合部28から図12に示す温度補償素子34を形成
し、検出素子集合部27から図11に示す検出素子33
を形成する。
【0019】そして、温度係数の近い検出素子33と温
度補償素子34とを組合せて、ブリッジ回路に組み込む
ことにより、前記したような構成のガスセンサ1が製造
される。
度補償素子34とを組合せて、ブリッジ回路に組み込む
ことにより、前記したような構成のガスセンサ1が製造
される。
【0020】上記のように構成されたガスセンサの製造
方法においては、検出素子33および温度補償素子34
を量産することができる。また、1枚のセラミック基板
から同時に検出素子33および温度補償素子34を製造
することができるとともに、温度係数の近い検出素子3
3および温度補償素子34を容易に製造することができ
る。
方法においては、検出素子33および温度補償素子34
を量産することができる。また、1枚のセラミック基板
から同時に検出素子33および温度補償素子34を製造
することができるとともに、温度係数の近い検出素子3
3および温度補償素子34を容易に製造することができ
る。
【0021】
【発明の効果】この発明は前記のように構成したことに
より、検出素子および温度補償素子を量産することがで
きる。また、1枚のセラミック基板から同時に検出素子
および温度補償素子を製造することができるとともに、
温度係数の近い検出素子および温度補償素子を容易に製
造することができるというすぐれた効果を有するもので
ある。
より、検出素子および温度補償素子を量産することがで
きる。また、1枚のセラミック基板から同時に検出素子
および温度補償素子を製造することができるとともに、
温度係数の近い検出素子および温度補償素子を容易に製
造することができるというすぐれた効果を有するもので
ある。
【図1】この発明によるガスセンサの製造方法によって
製造したガスセンサの実施例を示す概略図である。
製造したガスセンサの実施例を示す概略図である。
【図2】図1に示すもののブリッジ回路を示す概略図で
ある。
ある。
【図3】図1に示すものの検出素子を示す概略図であ
る。
る。
【図4】図1に示すものの温度補償素子を示す概略図で
ある。
ある。
【図5】この発明によるガスセンサの製造方法の実施例
において、セラミック基板の各領域に白金薄膜電極を設
けた状態を示す概略図である。
において、セラミック基板の各領域に白金薄膜電極を設
けた状態を示す概略図である。
【図6】図5の部分拡大概略図である。
【図7】この発明によるガスセンサの製造方法の実施例
において、セラミック基板の各領域に設けられた白金薄
膜電極の上部にセラミック系部材を設けた状態を示す部
分拡大概略図である。
において、セラミック基板の各領域に設けられた白金薄
膜電極の上部にセラミック系部材を設けた状態を示す部
分拡大概略図である。
【図8】この発明によるガスセンサの製造方法の実施例
において、セラミック基板の検出素子集合部と温度補償
素子集合部とを示す概略図である。
において、セラミック基板の検出素子集合部と温度補償
素子集合部とを示す概略図である。
【図9】この発明によるガスセンサの製造方法の実施例
において、セラミック基板の検出素子集合部と温度補償
素子集合部との境界部分を示す部分拡大概略図である。
において、セラミック基板の検出素子集合部と温度補償
素子集合部との境界部分を示す部分拡大概略図である。
【図10】この発明によるガスセンサの製造方法の実施
例において、セラミック基板の検出素子集合部と温度補
償素子集合部との温度係数を計測する装置を示す概略図
である。
例において、セラミック基板の検出素子集合部と温度補
償素子集合部との温度係数を計測する装置を示す概略図
である。
【図11】この発明によるガスセンサの製造方法の実施
例において製造された検出素子を示す概略図である。
例において製造された検出素子を示す概略図である。
【図12】この発明によるガスセンサの製造方法の実施
例において製造された温度補償素子を示す概略図であ
る。
例において製造された温度補償素子を示す概略図であ
る。
【図13】従来のガスセンサにおける検出素子を示す概
略図である。
略図である。
【図14】従来のガスセンサにおけるブリッジ回路を示
す概略図である。 1……ガスセンサ 2……ケース 3、33、43……検出素子 4、34、44……温度補償素子 5、11、21……セラミック基板 6、12、22……白金薄膜パターン部 7、13、23……配線ターミナル部 8、14、24……白金薄膜電極 9、15、25……セラミック系部材 10、26……白金族部材 16……防爆メッシュ 27……検出素子集合部 28……温度補償素子集合部 29……計測端子 30……コネクタ 31……ヒーター部 40……白金線 41……アルミナ担体 42……触媒
す概略図である。 1……ガスセンサ 2……ケース 3、33、43……検出素子 4、34、44……温度補償素子 5、11、21……セラミック基板 6、12、22……白金薄膜パターン部 7、13、23……配線ターミナル部 8、14、24……白金薄膜電極 9、15、25……セラミック系部材 10、26……白金族部材 16……防爆メッシュ 27……検出素子集合部 28……温度補償素子集合部 29……計測端子 30……コネクタ 31……ヒーター部 40……白金線 41……アルミナ担体 42……触媒
Claims (1)
- 【請求項1】 1枚のセラミック基板を複数の同一領域
に区画し、各領域内に白金薄膜パターン部および配線タ
ーミナル部からなる白金薄膜電極を形成し、前記各白金
薄膜パターン部の上部にセラミック系部材を配設して焼
結し、前記セラミック基板の半分にマスキングを施して
温度補償素子集合部とし、残り半分の前記各セラミック
系部材の上部に白金族部材をコーティングして検出素子
集合部とし、前記セラミック基板を各領域毎に切断して
前記温度補償素子集合部より温度補償素子を、また、前
記検出素子集合部より検出素子をそれぞれ形成し、温度
係数の近似する温度補償素子と検出素子との対を選択し
てガスセンサを形成することを特徴とするガスセンサの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3175975A JP2984095B2 (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | ガスセンサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3175975A JP2984095B2 (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | ガスセンサの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04370754A JPH04370754A (ja) | 1992-12-24 |
| JP2984095B2 true JP2984095B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=16005522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3175975A Expired - Lifetime JP2984095B2 (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | ガスセンサの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2984095B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101526494B (zh) | 2009-03-31 | 2012-05-23 | 西安交通大学 | 基于Pt反应电极的气体传感器及温度补偿方法 |
-
1991
- 1991-06-20 JP JP3175975A patent/JP2984095B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04370754A (ja) | 1992-12-24 |
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