[go: up one dir, main page]

JP2961167B2 - Boat and heat treatment apparatus and method using the same - Google Patents

Boat and heat treatment apparatus and method using the same

Info

Publication number
JP2961167B2
JP2961167B2 JP63066846A JP6684688A JP2961167B2 JP 2961167 B2 JP2961167 B2 JP 2961167B2 JP 63066846 A JP63066846 A JP 63066846A JP 6684688 A JP6684688 A JP 6684688A JP 2961167 B2 JP2961167 B2 JP 2961167B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
boat
processed
ring
slit
vertical furnace
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP63066846A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH01239853A (en
Inventor
光一 茨木
靖司 八木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP63066846A priority Critical patent/JP2961167B2/en
Publication of JPH01239853A publication Critical patent/JPH01239853A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2961167B2 publication Critical patent/JP2961167B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、半導体ウエハ等の被処理体を搭載するため
の篭形ボートに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial application field) The present invention relates to a basket-type boat for mounting an object to be processed such as a semiconductor wafer.

(従来の技術) 例えば、半導体ウエハを熱処理炉に搬入して熱処理す
るために使用されるボートは、支持棒を複数本側面板に
固定し、各支持棒にウエハ支持用の溝を形成した石英ボ
ートが一般的である。
(Prior Art) For example, a boat used for carrying a semiconductor wafer into a heat treatment furnace for heat treatment is a quartz having a plurality of support rods fixed to a side plate and a groove for supporting a wafer formed in each support rod. Boats are common.

この種のボートでは、特にLTO(Low Temperature Oxi
dation)の場合に、ウエハに形成される膜厚が均一化し
ないという問題があった。
In this type of boat, especially LTO (Low Temperature Oxi
dation), there is a problem that the film thickness formed on the wafer is not uniform.

そこで、この種のLTOに使用されるボートとして、ガ
スの流れを抑制することを目的とする篭形ボートが使用
されるに至った。
Therefore, as a boat used for this kind of LTO, a cage type boat aimed at suppressing the flow of gas has come to be used.

従来の篭形ボートは、第12図に示すように、ウエハ
(図示せず)を所定ピッチで支持可能な溝(図示せず)
が内部に切られた下側ボート1と、この下側ボート1に
対して開閉自在な上側ボート2とで分割式篭形ボート3
を構成している。そして、上記下側ボート1および上側
ボート2にプロセスガス導入用のスリット4を形成して
いる。
As shown in FIG. 12, a conventional cage type boat has a groove (not shown) capable of supporting a wafer (not shown) at a predetermined pitch.
Is divided into a lower boat 1 and an upper boat 2 which can be opened and closed with respect to the lower boat 1.
Is composed. A slit 4 for introducing a process gas is formed in the lower boat 1 and the upper boat 2.

(発明が解決しようとする問題点) 上述した構成の分割式篭形ボート3によれば、支持棒
に形成した溝によってウエハを配列支持したボートに較
べて、ウエハ間にガスを導入するための前記スリット4
の大きさを所望に設定でき、開口率を少なくすることに
よってガスの流れを抑制することができるので、LTOに
使用した場合でも膜厚の均一性が確保できる。
(Problems to be Solved by the Invention) According to the split-type basket-type boat 3 having the above-described structure, gas is introduced between the wafers as compared with a boat in which the wafers are arranged and supported by the grooves formed in the support rods. The slit 4
Can be set as desired, and the gas flow can be suppressed by reducing the aperture ratio, so that uniformity of the film thickness can be ensured even when used for LTO.

しかし、分割構造であるためにウエハをカセットより
取り出してセットし、あるいはカセットにのせ変える度
に、上側ボート2を開閉する必要があり、特にウエハの
移し換えを自動化するには、そのボート3の開閉動作の
自動化が困難であるため、自動化に不向きであった。
However, the upper boat 2 needs to be opened and closed each time a wafer is taken out of the cassette and set or placed on the cassette because of the divided structure. Since it was difficult to automate the opening and closing operation, it was not suitable for automation.

また、分割式の篭形ボート3は、横型炉で使用する場
合には、自重によって上側ボート2の開放が規制される
が、縦型炉に使用した場合にはこのような保証がなく、
嵌合によってこれを防止しようとしても、幾度かの洗
浄、特にフッ酸等による洗浄では石英自身が消耗するの
で嵌合に不具合を生じ、縦型炉には実質的に対応するこ
とができなかった。
In addition, when the split-type basket-shaped boat 3 is used in a horizontal furnace, the opening of the upper boat 2 is regulated by its own weight, but when used in a vertical furnace, there is no such guarantee.
Even if it was attempted to prevent this by fitting, several washings, especially washing with hydrofluoric acid, etc., consumed quartz itself, causing fitting problems, and it was virtually impossible to respond to vertical furnaces .

そこで、本発明は上述した従来の問題点を解決し、被
処理体に対するプロセスガスの流れを規制してLTOのよ
うな活性ガスを使用する場合でも膜厚を均一化すること
ができ、しかも、被処理体の移し換えの自動化にも対処
でき、縦型炉での使用にも適する篭形ボートを提供する
ことを目的とするものである。
Therefore, the present invention solves the above-mentioned conventional problems, and can regulate the flow of the process gas to the object to be processed, and even when using an active gas such as LTO, the film thickness can be made uniform. It is an object of the present invention to provide a basket-type boat that can deal with automation of transfer of an object to be processed and is suitable for use in a vertical furnace.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段及びその作用) 請求項1に記載の発明に係るボートは、複数の被処理
体を複数のリング状仕切り部材にそれぞれ支持させ、前
記複数の被処理体を複数のリング状仕切り部材により囲
繞して配列支持するボートであって、 前記複数の被処理体の各々をボートに搬入出させるこ
とを許容し、かつ、前記被処理体を処理するプロセスガ
スの導入を許容する、前記複数のリング状仕切り部材間
に形成された複数のスリットと、 少なくとも前記被処理体の搬入出側にて前記複数の被
処理体の配列方向に沿って前記複数のリング状仕切り部
材が切り欠かれて前記複数のスリットと連通し、前記複
数の被処理体の搬入出用治具との干渉を防止する幅狭の
切欠部と、 を有することを特徴とする。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems and Their Functions) The boat according to the invention according to claim 1, wherein a plurality of objects to be processed are supported by a plurality of ring-shaped partition members, respectively. A boat that surrounds and supports an object to be processed by a plurality of ring-shaped partition members, and allows each of the plurality of objects to be carried in and out of the boat, and processes the object. A plurality of slits formed between the plurality of ring-shaped partition members to allow introduction of a process gas, and at least a plurality of the slits are arranged along a direction in which the plurality of processing objects are arranged at least on a loading / unloading side of the processing object. A ring-shaped partition member is cut out, communicates with the plurality of slits, and has a narrow notch portion for preventing interference with the loading / unloading jig for the plurality of objects to be processed. .

請求項1に記載の発明によれば、以下の作用効果を有
する。
According to the first aspect of the present invention, the following operation and effect can be obtained.

(イ)被処理体はスリットを介してボート内に挿入さ
れ、切欠部の空間を利用して搬入出用治具により被処理
体をボートに移載し、ボートのリング状仕切り部材にて
被処理体を支持させる。ここで、切欠部は、被処理体を
ボートに移載する際の搬入出用治具との干渉を防止する
ための逃げ部としての機能と、プロセスガスをボート内
に導入させる機能との双方を有する。また、スリット
も、被処理体の挿入機能と、プロセスガス導入機能との
双方を有する。そして、プロセスガスの導入は、スリッ
ト及び切欠部を介して行われ、その開口率が比較的少な
いので活性なガスの供給量を制限できる。
(A) The object to be processed is inserted into the boat through the slit, the object to be processed is transferred to the boat by the loading / unloading jig using the space of the notch, and the object is processed by the ring-shaped partition member of the boat. The processing object is supported. Here, the notch has both a function as an escape portion for preventing interference with a loading / unloading jig when the object to be processed is transferred to the boat, and a function for introducing a process gas into the boat. Having. The slit also has both a function of inserting the object to be processed and a function of introducing a process gas. The introduction of the process gas is performed through the slit and the notch, and the opening ratio thereof is relatively small, so that the supply amount of the active gas can be limited.

従って、被処理体挿入用のスリットと、干渉防止用の
切欠部との双方を、開口率の少ないガス導入口に兼用し
て、従来の分割式、リング式等によらずに開口率を狭め
たボートが形成できる。このため、被処理体に形成され
る膜厚等の処理の均一化を図りながらも、切欠部及びス
リットにより治具とボートとの干渉を防止して良好な被
処理体移載処理ができ、被処理体移載の自動化にも容易
に対応できる。
Therefore, both the slit for inserting the object to be processed and the notch for preventing interference also serve as a gas inlet having a small opening ratio, and the opening ratio is narrowed without using a conventional split type or ring type. Boat can be formed. For this reason, while achieving uniform processing such as the film thickness formed on the object to be processed, the notch and the slit prevent interference between the jig and the boat, and a favorable object transfer processing can be performed. It can easily cope with automation of transfer of the object.

(ロ)従来の例えば、特開昭58−108735号、特開昭58−
197823号、実願昭59−10840号のマイクロフィルム、実
願昭62−75534号のマイクロフィルム、実願昭62−61823
号のマイクロフィルム等では、被処理体の全周を覆うよ
うに支持板がリング状に形成されている。このため、被
処理体を治具を用いて支持板上に搭載する際には、治具
をスリット内に挿入するのが大変であり、かつ、治具と
支持板とが衝突し、余分な力が加わり被処理体が破損す
る恐れがあった。また、この治具の移動をある程度許容
するためにスリット幅(支持板間距離)を拡大しようと
すると、全体の開口率が広がるため、プロセスガスを規
制することができない。
(B) Conventionally disclosed in, for example, JP-A-58-108735 and JP-A-58-108735.
No. 197823, Microfilm of Japanese Utility Model Application No. 59-10840, Microfilm of Japanese Utility Model Application No. 62-75534, Japanese Utility Model Application No. 62-61823
In the microfilm and the like, a support plate is formed in a ring shape so as to cover the entire circumference of the object to be processed. For this reason, when mounting an object to be processed on a support plate using a jig, it is difficult to insert the jig into the slit, and the jig and the support plate collide with each other. There was a risk that the workpiece was damaged due to the application of force. In addition, if an attempt is made to increase the slit width (distance between support plates) in order to allow the jig to move to some extent, the overall aperture ratio is increased, so that the process gas cannot be regulated.

これに対し本願では、スリット幅が比較的小さい状態
であっても、切欠部により、複数の被処理体の搬入出用
治具とボートとの干渉を防止して、良好な移載処理がで
きる。しかもスリット幅が小さくて済むことから、一定
の高さを有するボートにおいて、できるだけ被処理体を
多く搭載して、一括処理を行うことができ、被処理体の
量産処理を可能としながらも、膜厚の均一化が図れる。
On the other hand, in the present application, even when the slit width is relatively small, the notch portion prevents interference between the loading / unloading jig of a plurality of objects to be processed and the boat, so that good transfer processing can be performed. . In addition, since the slit width is small, a large number of objects can be mounted on a boat with a certain height and batch processing can be performed. The thickness can be made uniform.

(ハ)従来の例えば実願昭61−15694号(実開昭62−128
63号)のマイクロフィルム等では、支持板(リング)が
半円弧状のみしか形成されず、ボートに対する被処理体
の露出部分が大きく、ガス導入量を規制できない。加え
て、半円弧状である為、ローディング時に振動、衝撃等
によりボートより離脱する恐れがあり、安定して支持で
きない。
(C) For example, conventional Japanese Utility Model Application No. 61-15694 (Japanese Utility Model Application Laid-open No. 62-128)
No. 63), the support plate (ring) is formed only in a semicircular arc shape, the exposed portion of the object to be processed to the boat is large, and the gas introduction amount cannot be regulated. In addition, since it has a semi-circular shape, it may be detached from the boat due to vibration, impact, or the like during loading, and cannot be stably supported.

これに対して本願では、切欠部は、上記干渉を防止す
る程度の幅狭のもので形成されるため、ボートに導入さ
れるガス導入量を好適に規制して、膜厚の均一化が図れ
る。また、複数のリング状仕切り部材が複数の被処理体
を囲繞するように形成されるので、ローディング時にも
被処理体を安定して支持できる。
On the other hand, in the present application, the cutout portion is formed with a width narrow enough to prevent the above-described interference, so that the amount of gas introduced into the boat can be appropriately regulated and the film thickness can be made uniform. . Further, since the plurality of ring-shaped partition members are formed so as to surround the plurality of workpieces, the workpieces can be stably supported even during loading.

(ニ)製造段階でスリット及び切欠部の開口率の変更の
みにより、ガス導入量の設定変更が可能となるので、製
造コストの低減、製造工程の簡素化を図りながらも、被
処理体の膜厚が均一となるように形成できるボートを提
供できる。
(D) The gas introduction amount can be changed only by changing the aperture ratio of the slit and the notch at the manufacturing stage, so that the manufacturing cost can be reduced and the manufacturing process can be simplified. A boat that can be formed to have a uniform thickness can be provided.

請求項2に記載の発明に係るボートは、請求項1にお
いて、前記スリット及び前記切欠部の開口率を、前記被
処理体の表面上に形成される膜厚が略均一となるように
設定したことを特徴とする。
In the boat according to the second aspect of the present invention, in the first aspect, the aperture ratio of the slit and the notch is set such that the film thickness formed on the surface of the processing target is substantially uniform. It is characterized by the following.

請求項2に記載の発明によれば、スリット及び切欠部
のいずれか一方又は双方の開口率を調整することで、被
処理体の表面に形成される膜厚が均一となるような開口
率に設定できる。
According to the second aspect of the present invention, by adjusting the aperture ratio of one or both of the slit and the notch, the aperture ratio is adjusted such that the film thickness formed on the surface of the processing target becomes uniform. Can be set.

この場合、切欠部の開口率を調整する場合には、スリ
ットの開口率に拘わらず、被処理体の表面に形成される
膜厚が均一となるような開口率に設定できる。これによ
り、被処理体を数多く搭載するように構成するために
は、自ずからスリットの開口率が狭まるが、搭載数に拘
らず最適な開口率を切欠部の大きさに調整できるので、
被処理体の搭載数を多く形成しながらも開口率を最適に
設定して、被処理体の膜厚を均一にできる。また、スリ
ットの開口率を調整する場合には、切欠部を大きく形成
しなくても、全体の開口率を最適に設定でき、被処理体
の膜厚均一化が図れる。
In this case, when adjusting the aperture ratio of the notch, the aperture ratio can be set such that the film thickness formed on the surface of the object to be processed is uniform regardless of the aperture ratio of the slit. Thus, in order to configure a large number of workpieces to be mounted, the aperture ratio of the slit is naturally reduced, but the optimal aperture ratio can be adjusted to the size of the cutout portion regardless of the number of mounted components.
The aperture ratio is optimally set while forming a large number of objects to be processed, and the film thickness of the object can be made uniform. In addition, when the aperture ratio of the slit is adjusted, the entire aperture ratio can be set optimally without forming a large notch, and the film thickness of the object to be processed can be made uniform.

請求項3に記載の発明に係るボートは、請求項1又は
2において、前記複数のリング状仕切り部材が石英にて
形成され、前記被処理体として半導体ウエハを支持する
ことを特徴とする。
A boat according to a third aspect of the present invention is the boat according to the first or second aspect, wherein the plurality of ring-shaped partition members are formed of quartz, and support a semiconductor wafer as the object to be processed.

請求項3に記載の発明によれば、石英は、耐熱性に優
れ、かつ高温下でのコンタミネーションの放出が少ない
点で半導体ウエハ用のボート材料として最適である。
According to the third aspect of the present invention, quartz is excellent as a boat material for semiconductor wafers because it has excellent heat resistance and emits little contamination at high temperatures.

請求項4に記載の発明に係るボートは、請求項1乃至
3のいずれかにおいて、前記スリットは等間隔ピッチに
て形成されていることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the boat according to any one of the first to third aspects, wherein the slits are formed at an equal pitch.

請求項4に記載の発明によれば、多数枚配列される被
処理体の面間距離が等しくなり、被処理体間の処理の均
一性が確保される。
According to the fourth aspect of the present invention, the distance between the surfaces of the plurality of objects to be processed becomes equal, and the uniformity of the processing among the objects to be processed is ensured.

請求項5に記載の発明に係る熱処理装置は、請求項1
乃至4のいずれかに記載のボートと、前記ボートに対し
て被処理体を挿脱する移載機と、前記ボートに搭載され
た複数枚の前記被処理体を処理する縦型炉と、前記ボー
トを垂直に支持した状態で、前記縦型炉の下方より前記
縦型炉内にロード/アンロードするローダ部と、を有す
ることを特徴とする。
The heat treatment apparatus according to the invention described in claim 5 is a heat treatment apparatus according to claim 1.
The boat according to any one of claims 1 to 4, a transfer machine for inserting and removing an object to and from the boat, a vertical furnace for processing a plurality of the objects to be mounted mounted on the boat, and A loader section for loading / unloading the vertical furnace from below the vertical furnace with the boat supported vertically.

請求項6に記載の発明に係る熱処理方法は、請求項1
乃至4のいずれかに記載のボートに、前記スリットを介
して前記被処理体を挿入し、前記リング状仕切り部材に
て支持させる工程と、前記被処理体が搭載された前記ボ
ートを、プロセスチューブ及び加熱部を備えた縦型炉の
下方領域より、前記プロセスチューブ内にロードして、
処理位置に設定する工程と、前記プロセスチューブ内に
プロセスガスを導入し、かつ、前記加熱部により所定の
プロセス温度に設定し、前記プロセスガスを前記スリッ
トを介して前記ボート内に導いて、前記被処理体を処理
する工程と、を有することを特徴とする。
The heat treatment method according to the invention according to claim 6 is the method according to claim 1.
A step of inserting the object to be processed through the slit into the boat according to any one of (1) to (4), and supporting the object with the ring-shaped partition member; And from the lower region of the vertical furnace with a heating unit, loaded into the process tube,
Setting a process position, introducing a process gas into the process tube, and setting a predetermined process temperature by the heating unit, guiding the process gas into the boat through the slit, And a step of processing the object to be processed.

請求項5及び6では、ボートは、被処理体の出し入れ
の度に開閉動作を伴わないので、縦型炉にも使用でき
る。ボート内にスリットを介して挿入された被処理体は
リング状仕切り部材にて支持され、縦型炉の下方よりプ
ロセスチューブ内にローディングされる。プロセスチュ
ーブ内に導入されるプロセスガスは、スリットを介して
ボート内に導かれ、被処理体の処理が行われる。
According to the fifth and sixth aspects, the boat does not need to be opened and closed each time the object to be processed is put in and out, so that the boat can be used in a vertical furnace. The object to be processed inserted into the boat through the slit is supported by the ring-shaped partition member, and is loaded into the process tube from below the vertical furnace. The process gas introduced into the process tube is guided into the boat through the slit, and the processing of the object is performed.

(実施例) 以下、本発明をLTOに使用される縦型の篭形ボートに
適用した一実施例について、図面を参照して具体的に説
明する。
(Embodiment) An embodiment in which the present invention is applied to a vertical cage type boat used for LTO will be specifically described with reference to the drawings.

この篭形ボート10は、対向して配置される側面板12,1
4と、この側面板12,14間に所定ピッチ例えば3/16インチ
ピッチで配設される略円環状の仕切り部材20と、前記側
面板12,14を所定ピッチ毎に配設支持するための例えば
4本の支持板16とを有している。
This basket-shaped boat 10 has side plates 12, 1
4, a substantially annular partition member 20 disposed between the side plates 12, 14 at a predetermined pitch, for example, at a 3/16 inch pitch, and for arranging and supporting the side plates 12, 14 at a predetermined pitch. For example, it has four support plates 16.

前記側面板12は、プロセスチューブへのボート搬入時
には上側とされ、その面よりボートの長手軸方向に突出
した円筒状の被係止用突起12aを有する。一方、前記側
面板14は、ボート搬入時に下側とされ、同様に円筒状の
被係止用突起14aを有すると共に、この被係止用突起14
の円筒周面より外側に突起したフランジ状突起14bを有
している。これらの突起はいずれも縦型ボートとしての
ボートをチャックするためのものである。
When the boat is carried into the process tube, the side plate 12 is turned to the upper side, and has a cylindrical locking projection 12a protruding from its surface in the longitudinal axis direction of the boat. On the other hand, the side plate 14 is turned to the lower side when the boat is carried in, has a cylindrical locking projection 14a, and also has the locking projection 14a.
Has a flange-like protrusion 14b protruding outward from the peripheral surface of the cylindrical member. Each of these projections is for chucking a boat as a vertical boat.

前記仕切り部材20は、第3図に示うように、略円環状
に形成され、その一部(ボート10を横置きとした場合の
上側の一部)は切欠された切欠部21となっている。この
切欠部21は、ウエハ18をマニュアルにて挿入する場合の
ピンセットの逃げであり、必ずしも必要とするものでは
ない。
As shown in FIG. 3, the partition member 20 is formed in a substantially annular shape, and a part thereof (a part on the upper side when the boat 10 is placed horizontally) is a cutout portion 21 which is cut out. I have. The notch 21 is an escape for tweezers when the wafer 18 is manually inserted, and is not always necessary.

この仕切り部材20は、第2図乃至第5図に示すよう
に、ウエハ18のほぼ全周に沿って形成される円環状のガ
ス規制用リング22と、ウエハ18の外縁のうち例えば180
゜に亘ってこれと当接し、ウエハ18を支持するための段
差部24を形成するための内側リング23とから構成されて
いる。
As shown in FIGS. 2 to 5, the partition member 20 includes an annular gas regulating ring 22 formed substantially along the entire circumference of the wafer 18 and, for example, 180
And an inner ring 23 for forming a step 24 for supporting the wafer 18.

そして、この仕切り部材20は、前記支持板16によって
所定ピッチa例えば3/16インチ(4.7625mm)で複数配設
支持されている。なお、前記仕切り部材20,20の間のス
リット幅bは2mmとなっていて、前記ガス規制用リング2
2の厚さcは2.7625mm,内側リング23厚さdは2mmとなっ
ていて、したがって、段差部24の深さeは0.7625mmとな
っている。
A plurality of the partition members 20 are provided and supported by the support plate 16 at a predetermined pitch a, for example, 3/16 inch (4.7625 mm). Note that the slit width b between the partition members 20, 20 is 2 mm, and the gas regulating ring 2
2 has a thickness c of 2.7625 mm, and the inner ring 23 has a thickness d of 2 mm. Therefore, the depth e of the step portion 24 is 0.7625 mm.

なお、この段差部24にセットされるウエハ18の厚みは
650μm程度である。
The thickness of the wafer 18 set on the step portion 24 is
It is about 650 μm.

また、本実施例で使用されるウエハ18は、6インチウ
エハであり、このためガス規制用リング22の外径fは16
0mm,その内径(すなわち段差部24の外径)gは152mm,内
側リング部材23の内径hは144mmとなっている。
Further, the wafer 18 used in this embodiment is a 6-inch wafer, and therefore, the outer diameter f of the gas regulating ring 22 is 16 inches.
0 mm, the inside diameter (ie, the outside diameter of the step portion 24) g is 152 mm, and the inside diameter h of the inner ring member 23 is 144 mm.

なお、上記各構成部材は、耐熱性が優れ、かつ、高温
下でコンタミネーションの放出が少ない部材、一般的に
は石英で構成されている。
Each of the above-mentioned constituent members is made of a member having excellent heat resistance and emitting less contamination at a high temperature, generally quartz.

次に、上記篭形ボート10を搬入してウエハ18の熱処理
を行なう縦型炉およびローダ装置について、第6図乃至
第8図を参照して説明する。
Next, a vertical furnace and a loader apparatus for carrying out the heat treatment of the wafers 18 by loading the basket-type boat 10 will be described with reference to FIGS.

縦型炉30は、少なくともプロセスチューブ31及びその
周囲にヒータ32を具備し、これを垂直方向に沿って配置
することで構成されている。なお、図示していないが、
このプロセスチューブ31内へのプロセスガス導入のため
に、例えば下端より上端に向かって延在形成されたイン
ジェクターをプロセスチューブ31内に配置し、このイン
ジェクターのウエハ面間に対向する位置よりプロセスガ
スを噴出するようになっている。
The vertical furnace 30 includes at least a process tube 31 and a heater 32 around the process tube 31, and is arranged along a vertical direction. Although not shown,
In order to introduce the process gas into the process tube 31, for example, an injector formed so as to extend from the lower end toward the upper end is arranged in the process tube 31, and the process gas is supplied from a position opposed between the wafer surfaces of the injector. It gushes out.

そして、前記篭形ボート10を前記縦型炉30にロード
し、かつ、縦型炉30内に配置された場合に、炉芯での均
熱温度領域を確保し、また、縦型炉30の下端開口部より
のガス逃げを防止するための保温筒40が設けられてい
る。
And, when the basket-type boat 10 is loaded into the vertical furnace 30, and, when placed in the vertical furnace 30, a soaking temperature range in the furnace core is secured, and the vertical furnace 30 A heat retaining cylinder 40 for preventing gas from escaping from the lower end opening is provided.

この保温筒40は、前記篭形ボート10の下端突起部14a
を挿通する穴部41を有し、この穴部41に前記下端突起14
aを挿通すると共に、前記フランジ状突起14bを係止する
ことで、この保温筒40上で前記篭形ボート10をその自重
によって垂直に支持するようになっている。
The heat retaining cylinder 40 is provided at the lower end projection 14a of the basket type boat 10.
And a hole 41 through which the lower end protrusion 14 is inserted.
The cage-shaped boat 10 is vertically supported by its own weight on the heat retaining cylinder 40 by inserting the a and inserting the flange-shaped protrusion 14b.

次に、前記保温筒40を垂直方向に移動し、かつ、保温
筒40を水平面と平行にスイング移動させるローダ部50に
ついて説明する。
Next, the loader unit 50 that moves the heat retaining cylinder 40 in the vertical direction and swings the heat retaining cylinder 40 in parallel with the horizontal plane will be described.

このローダ部50には、垂直方向に沿って形成されたボ
ールネジ51と、このボールネジ51を回動する第1のモー
タ52と、このボールネジ51に沿って第6図図示A方向に
移動する可動部53と、この可動部53に固定されて、前記
可動部53に対して矢印B方向にスイング可能な支持部材
54とを有している。
The loader unit 50 includes a ball screw 51 formed along the vertical direction, a first motor 52 that rotates the ball screw 51, and a movable unit that moves in the direction A in FIG. 53 and a support member fixed to the movable portion 53 and capable of swinging in the direction of arrow B with respect to the movable portion 53.
54 and has.

次に、前記篭形ボート10をチャックするハンドラー60
について説明する。
Next, a handler 60 for chucking the basket-type boat 10
Will be described.

このハンドラー60は、矢印A方向にそって形成された
ボールネジ61と、このボールネジ61を駆動する第2のモ
ータ62と、前記ボールネジ61に沿って移動し、かつ、矢
印C方向にスイング可能な第1のスイング駆動部63と、
この第1のスイング駆動部63に対して矢印D方向にスイ
ング可能な第2のスイング駆動部64と、この第2のスイ
ング駆動部64に固定されたハンドラー部65とから構成さ
れている。
The handler 60 includes a ball screw 61 formed along the direction of arrow A, a second motor 62 for driving the ball screw 61, and a second motor 62 that moves along the ball screw 61 and can swing in the direction of arrow C. One swing drive unit 63,
It comprises a second swing drive section 64 capable of swinging in the direction of arrow D with respect to the first swing drive section 63, and a handler section 65 fixed to the second swing drive section 64.

前記ハンドラー部65は、第8図に示すように、前記第
2のスイング駆動部64に取り付けられて図示E方向に移
動自在な取り付け部66を有し、この取り付け部66の下端
にはボート載置台67が、上端にはボートクランプアーム
68が設けられている。
As shown in FIG. 8, the handler section 65 has an attachment section 66 attached to the second swing drive section 64 and movable in the direction E in the drawing. The table 67 has a boat clamp arm at the upper end
68 are provided.

前記ボート載置台67は、前記篭形ボート10の下側の側
面板14と当接する突起部67aを石英で構成している。
The boat mounting table 67 has a projection 67a that is in contact with the lower side plate 14 of the basket-shaped boat 10 made of quartz.

また、前記ボートクランプアーム68は、同図の矢印F
方向に開閉自在であって、かつ、前記上側の側面板12よ
り突出した前記突起部12aをクランプするクランプ部68a
を同様に石英で構成している。
In addition, the boat clamp arm 68 is indicated by an arrow F in FIG.
Clamp portion 68a that can be freely opened and closed in the direction and that clamps the protrusion 12a protruding from the upper side plate 12.
Are also made of quartz.

次に、作用について説明する この篭形ボート10の特徴は、ウエハ18の挿入用スリッ
トと、ウエハ18配列後のプロセスガスの導入用スリット
とを共に兼用したことである。すなわち、ウエハ18の挿
入は仕切り部材20の間のスリット25より行ない、前記段
差部24の各ウエハ18を係止させる。このようなウエハ18
は予めカセット(図示せず)内に収容されており、図示
しないウエハ移し換え装置によってウエハ18をカセット
より篭形ボート10に、例えば25枚ずつ一括して移し換え
ることになる。
Next, the operation of the basket type boat 10 is characterized in that the slit for inserting the wafers 18 and the slit for introducing the process gas after the arrangement of the wafers 18 are both used. That is, the insertion of the wafer 18 is performed through the slit 25 between the partition members 20, and each wafer 18 of the step portion 24 is locked. Such a wafer 18
Are stored in a cassette (not shown) in advance, and wafers 18 are transferred collectively from the cassette to the basket-shaped boat 10 by, for example, 25 wafers at a time by a wafer transfer device (not shown).

このウエハ18の移し換えの終了後、ボート搬送装置
(図示せず)によって篭形ボート10を搬送して、ハンド
ラー60にこの篭形ボート10を受け渡すことになる。
After the transfer of the wafers 18 is completed, the basket boat 10 is transported by the boat transport device (not shown), and the basket boat 10 is delivered to the handler 60.

すなわち、篭形ボート10の下端のフランジ状突起14b
をボート載置台67上に載置し、その上端の突起12aをボ
ートクランプアーム68によって挟持することで、ハンド
ラー60によって篭形ボート10を保持することができる。
That is, the flange-like projection 14b at the lower end of the basket-shaped boat 10
Is placed on the boat mounting table 67, and the projection 12a at the upper end thereof is clamped by the boat clamp arm 68, so that the basket 60 can be held by the handler 60.

この後、ハンドラー60の各種駆動部によって篭形ボー
ト10を垂直に立てた状態で縦型炉30の下方に位置させ、
第2のモータ62の駆動によってハンドラー60を上方に移
動することで、篭形ボート10の上端をプロセスチューブ
31内に配置する。
Thereafter, the basket-shaped boat 10 is positioned vertically below the vertical furnace 30 in a state where the basket-shaped boat 10 is erected vertically by various driving units of the handler 60,
By moving the handler 60 upward by driving the second motor 62, the upper end of the basket-shaped boat 10 is moved to the process tube.
Place in 31.

次に、支持部材54上に保温筒40を載置した状態で可動
部53を回動し、篭形ボート10の下方に保温筒40を配置
し、ハンドラー60下降させて、保温筒40の穴部41に篭形
ボート10の下端突起14aを挿入し、かつ、そのフランジ
状突起14bを保温筒40の上面に当接させる。この結果、
篭形ボート10は、保温筒40上に垂直に支持されることが
可能となり、ここでハンドラー60による支持を解除す
る。
Next, the movable part 53 is rotated with the heat insulating cylinder 40 placed on the support member 54, the heat insulating cylinder 40 is arranged below the basket-shaped boat 10, the handler 60 is lowered, and the hole of the heat insulating cylinder 40 is lowered. The lower end projection 14a of the basket-shaped boat 10 is inserted into the portion 41, and the flange-shaped projection 14b is brought into contact with the upper surface of the heat retaining cylinder 40. As a result,
The cage boat 10 can be supported vertically on the heat retaining tube 40, and the support by the handler 60 is released here.

次に、第1のモータ52を駆動し、可動部53を上方に移
動することで、第6図に示すように篭形ボート10をプロ
セスチューブ31の炉芯位置に設定することができる。
Next, by driving the first motor 52 and moving the movable part 53 upward, the basket-shaped boat 10 can be set at the furnace core position of the process tube 31 as shown in FIG.

この後、炉プロセスチューブ31内を不活性ガスでパー
ジして不要なガスを排気し、ヒータ33の制御によりプロ
セス温度(LTOの場合は例えば400℃程度)になったとこ
ろでプロセスガスを導入して熱処理が開始されることに
なる。
Thereafter, the inside of the furnace process tube 31 is purged with an inert gas to exhaust unnecessary gas, and the process gas is introduced when the process temperature (for example, about 400 ° C. in the case of LTO) is reached by controlling the heater 33. The heat treatment will be started.

ここで篭形ボート10に搭載されるウエハ18の周囲は、
略円環状の仕切り部材20の特にガス規制用リング22によ
って覆われているので、ガスがウエハ上に導入されるた
めのスリット25は、第5図のように段差部24に配置され
るウエハ18と、その隣のガス規制用リング22との間に形
成される狭いスリットとなり、このように開口率が少な
いのでウエハ18に対するガスの供給量/時間が少なくな
り、LTOのような活性ガスを用いる場合でも、ウエハ縁
部でのみ反応が促進して中心部での膜厚が薄くなるとい
う問題を解決することができる。
Here, the periphery of the wafer 18 mounted on the basket-shaped boat 10 is
Since the generally annular partition member 20 is covered by the gas regulating ring 22 in particular, the slit 25 for introducing the gas onto the wafer is formed by the wafer 18 disposed on the step portion 24 as shown in FIG. And a narrow slit formed between the gas control ring 22 and the adjacent gas regulating ring 22. Since the aperture ratio is small, the gas supply amount / time to the wafer 18 is reduced, and an active gas such as LTO is used. Even in this case, it is possible to solve the problem that the reaction is promoted only at the edge of the wafer and the film thickness at the center is reduced.

また、上記篭形ボート10の構成によれば、従来の篭形
ボートのように分割されていないので、縦型炉に使用し
た場合でも何等の問題なく使用することができ、このよ
うな構成により縦型炉にも適用することが可能となる。
Further, according to the configuration of the basket-type boat 10, since it is not divided as in the conventional basket-type boat, it can be used without any problem even when used in a vertical furnace. It can be applied to a vertical furnace.

なお、本発明は上記実施例に限定されるものではな
く、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能であ
る。
It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made within the scope of the present invention.

本発明の変形例として、横型炉対応の篭形ボートにつ
いて、第9図以下を参照して説明する。
As a modification of the present invention, a basket type boat compatible with a horizontal furnace will be described with reference to FIG.

この横型炉用篭形ボート70が前記篭形ボート10と相違
する点は、先ず、縦型炉に搬入するための突起12a,14a,
14bが機構上不要であり、その代わりにプロセスチュー
ブ31内等での横置きする場合の便宜として、側面板12,1
4には脚12c,14cが設けられている。
The difference between the basket type boat 70 for a horizontal furnace and the basket type boat 10 is that first, projections 12a, 14a,
14b is unnecessary in the mechanism, and instead, the side plates 12, 1
4 is provided with legs 12c and 14c.

また、横置きの場合にはウエハが垂直に立てられるこ
とになるが、搬送時の安定性等の要請により、このウエ
ハを斜めに傾斜して支持するものが好ましいので、上記
仕切り部材20は垂直方向に対して斜めに傾斜して固定さ
れている。
In the case of horizontal placement, the wafer is set upright. However, it is preferable that the wafer be supported obliquely in accordance with the demand for stability during transfer, and the partition member 20 is vertically set. It is fixed obliquely to the direction.

このような横型炉用篭形ボート70であっても、上記篭
形ボート10と同様に仕切り部材20間のスリットを介して
ウエハを配列支持でき、また、このスリットを利用して
開口率が小さいガス導入口を構成することができ、LTO
のような活性ガスを使用した場合でも均一な膜の形成が
確保できる。なお、横型炉の場合には、第11図に示すよ
うに、例えばプロセスチューブの底面側であって、ボー
ト70の下方にSiH4ガス用のインジェクター72と、O2ガス
用のインジェクター74とを配置している。
Even in such a horizontal furnace basket-type boat 70, wafers can be arranged and supported through slits between the partition members 20, similarly to the basket-type boat 10, and the aperture ratio is small by using the slits. Gas inlet can be configured, LTO
Even when such an active gas is used, a uniform film can be formed. In the case of horizontal furnace, as shown in FIG. 11, for example, a bottom side of the process tube, the injector 72 for the SiH 4 gas under the boat 70, and injectors 74 for O 2 gas Have been placed.

次に、上記の縦型炉用篭形ボート10および横型炉用篭
形ボート70の変形例について言及すれば、先ず、ウエハ
18の支持方式については、上記のような段差部24にウエ
ハを載置するものの他、溝を形成するものでも良く、ま
た、このようなウエハの係止部は上記実施例のように18
0゜にわたって連続して形成するものに限らず、少なく
とも離間して配置され、安定してウエハを係止で切る複
数の係止部として構成するものでも良い。なお、縦型炉
用の場合にはウエハが水平に支持されるものであるの
で、各ウエハ係止部を離して180゜以上の領域に配置す
ることが好ましい。
Next, referring to a modification of the vertical furnace basket-type boat 10 and the horizontal furnace basket-type boat 70, first, the wafer
Regarding the supporting method of 18, the groove may be formed in addition to the method of mounting the wafer on the step portion 24 as described above, and the locking portion of the wafer may be formed as in the above-described embodiment.
It is not limited to the one formed continuously over 0 °, but may be configured as a plurality of locking portions that are arranged at least apart from each other and stably cut the wafer by locking. In the case of a vertical furnace, since the wafer is supported horizontally, it is preferable that the wafer locking portions are separated and arranged in an area of 180 ° or more.

また、上記実施例では、横型炉用篭形ボート70につい
てのみ仕切り部材20を傾斜して配置したが、縦型炉用篭
形ボート10についても同様に形成することができる。こ
のようにした場合の利点としては、縦型炉ではボートを
回転駆動することが可能であるので、傾斜支持の場合に
上記回動に対して安定したウエハの支持が確保でき、よ
り均一な膜厚形成の確保を図ることができる。
Further, in the above embodiment, the partition member 20 is arranged to be inclined only for the horizontal furnace basket-type boat 70, but the vertical furnace basket-type boat 10 can be similarly formed. An advantage of this case is that the boat can be rotationally driven in the vertical furnace, so that in the case of the inclined support, stable wafer support against the rotation can be ensured, and a more uniform film Thickness formation can be ensured.

また、上記実施例では仕切り部材20を完全な円環状と
せずに、一部に切欠部21を形成したが、これはウエハ18
をマニュアル挿入する場合の便宜であり、完全な円環状
とするものが開口率を少なくする面から優れている。但
し、必ずしもウエハの全周を覆う仕切り部材である必要
はなく、開口率が少なくなり膜厚均一を確保する上で十
分な開口率が得られる程度の範囲に仕切り部材20を形成
すれば足りる。
Further, in the above embodiment, the partition member 20 is not formed in a complete annular shape, and the cutout portion 21 is formed in a part thereof.
This is convenient for manual insertion, and a perfect annular shape is superior in reducing the aperture ratio. However, the partition member does not necessarily need to be a partition member that covers the entire circumference of the wafer, and it is sufficient that the partition member 20 is formed in a range where the aperture ratio is small and a sufficient aperture ratio can be obtained to ensure uniform film thickness.

さらに、上記実施例のスリット25は、ウエハ18の挿入
用と、ガス導入口を兼ねるものであるが、このようなス
リット25は、ウエハ挿入側にあっては搭載すべきウエハ
枚数と同じ数だけ必要となるが、その逆側(第1図の実
施例にあっては、切欠部21を有しない180゜の領域)で
は必ずしもそのような要請はなく、少なくともガス導入
のための開口率を狭められるスリットであれば良く、そ
の形状,位置および数については任意に形成することが
できる。
Further, the slits 25 of the above embodiment are used for inserting the wafer 18 and also serving as a gas introduction port, but the number of such slits 25 is the same as the number of wafers to be mounted on the wafer insertion side. Although it is necessary, such a requirement is not always required on the opposite side (in the embodiment of FIG. 1, a region of 180 ° having no notch 21), and at least the aperture ratio for gas introduction is reduced. Any slit may be used as long as the shape, position and number of slits are arbitrary.

[発明の効果] 請求項1の発明によれば、被処理体挿入用のスリット
と、治具との干渉防止用の切欠部との双方が、開口率の
少ないガス導入口に兼用して、スリット及び切欠部によ
り、分割式、リング式等によらずに開口率を狭めたボー
トが形成でき、ガス導入量を好適に規制して被処理体の
膜厚均一化を図りながらも、良好な被処理体移載処理が
できる。
[Effect of the Invention] According to the invention of claim 1, both the slit for inserting the object to be processed and the notch for preventing interference with the jig also serve as a gas inlet having a small aperture ratio. By the slits and cutouts, it is possible to form a boat having a narrower aperture ratio without using a split type, a ring type, etc. Workpiece transfer processing can be performed.

また、スリット幅が小さくて済むことから、被処理体
を多く搭載して一括処理ができ、被処理体の量産処理が
可能となる。
In addition, since the slit width can be small, a large number of workpieces can be mounted and batch processing can be performed, and mass production processing of the workpieces can be performed.

さらに、支持板が半円状のみしか形成されない場合と
異なり、複数の仕切り部材が複数の被処理体を囲繞する
ように形成されるので、製造時にスリットの開口率のみ
の変更により、ボートに導入されるガス導入量を好適に
規制でき、製造コストの低減、製造工程の簡素化が図れ
る。
Further, unlike the case where the support plate is formed only in a semicircular shape, the plurality of partition members are formed so as to surround the plurality of objects to be processed. The amount of gas to be introduced can be appropriately regulated, thereby reducing the manufacturing cost and simplifying the manufacturing process.

請求項2の発明によれば、スリット及び切欠部のいず
れか一方又は双方の開口率を調整することで、被処理体
の表面に形成される膜厚が均一となるような開口率に設
定できる。
According to the second aspect of the invention, by adjusting the aperture ratio of one or both of the slit and the notch, it is possible to set the aperture ratio such that the film thickness formed on the surface of the processing target becomes uniform. .

請求項3の発明によれば、耐熱性が向上し、高温下で
のコンタミネーションの放出を少なくできる。
According to the third aspect of the present invention, the heat resistance is improved, and the release of contamination at a high temperature can be reduced.

請求項4の発明によれば、被処理体の面間距離が等し
くなり、被処理体間の処理の均一性が確保される。
According to the invention of claim 4, the distance between the surfaces of the objects to be processed becomes equal, and the uniformity of the processing between the objects to be processed is ensured.

請求項5及び6では、ボートは、被処理体の出し入れ
の度に開閉動作を伴わないので、縦型炉にも使用でき、
縦型炉の下方よりプロセスチューブ内にローディングし
て、被処理体を処理できる。
According to claims 5 and 6, the boat does not involve opening and closing operations each time the object to be processed is put in and out, so that the boat can be used in a vertical furnace.
The object to be processed can be processed by loading it into the process tube from below the vertical furnace.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、本発明を縦型炉用篭形ボートに適用した一実
施例を説明するための概略斜視図、 第2図は、第1図に示す篭形ボートの概略正面図、 第3図は、第2図矢視A−A′より見た概略説明図、 第4図は、第3図の矢視B−B′拡大断面図、 第5図は、第4図のC部拡大図、 第6図は、縦型炉およびローダ装置の一例を示す概略説
明図、 第7図は、縦型炉,篭形ボートおよび保温筒の概略斜視
図、 第8図は、ハンドラー部の概略斜視図、 第9図は、本発明の変形例である横型炉用篭形ボートの
概略正面図、 第10図は、第9図のボートの概略平面図、 第11図は、第9図のボートの概略側面図、 第12図は、従来の分割式篭形ボートの概略説明図であ
る。 10,70……篭形ボート、 12,14……側面板、 12a,14a,14b……被係止用突起、 12c,14c……脚、 16……支持板、 18……被処理体、 20……仕切り部材、 22……ガス規制用リング、 25……スリット、 30……縦型炉、 60……ハンドラー、 72,74……インジェクター。
FIG. 1 is a schematic perspective view for explaining an embodiment in which the present invention is applied to a vertical furnace basket type boat, FIG. 2 is a schematic front view of the basket type boat shown in FIG. The figure is a schematic explanatory view as viewed from the line AA 'in FIG. 2, FIG. 4 is an enlarged sectional view along the line BB' in FIG. 3, and FIG. 5 is an enlarged view of a portion C in FIG. Fig. 6, Fig. 6 is a schematic explanatory view showing an example of a vertical furnace and a loader device, Fig. 7 is a schematic perspective view of a vertical furnace, a basket-shaped boat and a heat retaining cylinder, and Fig. 8 is a schematic of a handler section. FIG. 9 is a schematic front view of a basket type boat for a horizontal furnace which is a modified example of the present invention, FIG. 10 is a schematic plan view of the boat of FIG. 9, and FIG. FIG. 12 is a schematic side view of a boat, and FIG. 12 is a schematic explanatory view of a conventional split-type basket-type boat. 10,70… Category boat, 12,14… Side plate, 12a, 14a, 14b… Protrusions to be locked, 12c, 14c… Leg, 16… Support plate, 18… 20 ... partition member, 22 ... gas regulating ring, 25 ... slit, 30 ... vertical furnace, 60 ... handler, 72,74 ... injector.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−102225(JP,A) 特開 昭62−229932(JP,A) 特開 昭58−108735(JP,A) 特開 昭58−197823(JP,A) 実開 昭62−128633(JP,U) 実開 昭60−124031(JP,U) 実開 昭63−185223(JP,U) 実開 昭63−170466(JP,U) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-63-102225 (JP, A) JP-A-62-229932 (JP, A) JP-A-58-108735 (JP, A) JP-A-58-108 197823 (JP, A) Actually open 1987-128633 (JP, U) Actually open 60-124031 (JP, U) Actually open 1988-163223 (JP, U) Actually open 1988-170466 (JP, U)

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】複数の被処理体を複数のリング状仕切り部
材にそれぞれ支持させ、前記複数の被処理体を複数のリ
ング状仕切り部材により囲繞して配列支持するボートで
あって、 前記複数の被処理体の各々をボートに搬入出させること
を許容し、かつ、前記被処理体を処理するプロセスガス
の導入を許容する、前記複数のリング状仕切り部材間に
形成された複数のスリットと、 少なくとも前記被処理体の搬入出側にて前記複数の被処
理体の配列方向に沿って前記複数のリング状仕切り部材
が切り欠かれて前記複数のスリットと連通し、前記複数
の被処理体の搬入出用治具との干渉を防止する幅狭の切
欠部と、 を有することを特徴とするボート。
1. A boat in which a plurality of workpieces are respectively supported by a plurality of ring-shaped partition members, and the plurality of workpieces are arranged and supported by being surrounded by a plurality of ring-shaped partition members. A plurality of slits formed between the plurality of ring-shaped partition members, allowing each of the processing objects to be carried in and out of the boat, and allowing the introduction of a process gas for processing the processing object, At least on the loading / unloading side of the object to be processed, the plurality of ring-shaped partition members are cut out along the arrangement direction of the plurality of objects to communicate with the plurality of slits, and the plurality of objects to be processed are A boat having a narrow notch for preventing interference with a loading / unloading jig.
【請求項2】請求項1において、 前記スリット及び前記切欠部の開口率を、前記被処理体
の表面上に形成される膜厚が略均一となるように設定し
たことを特徴とするボート。
2. The boat according to claim 1, wherein the aperture ratio of the slit and the notch is set such that the film thickness formed on the surface of the object to be processed is substantially uniform.
【請求項3】請求項1又は2において、 前記複数のリング状仕切り部材が石英にて形成され、前
記被処理体として半導体ウエハを支持することを特徴と
するボート。
3. The boat according to claim 1, wherein the plurality of ring-shaped partition members are formed of quartz, and support a semiconductor wafer as the object to be processed.
【請求項4】請求項1乃至3のいずれかにおいて、 前記スリットは等間隔ピッチにて形成されていることを
特徴とするボート。
4. The boat according to claim 1, wherein the slits are formed at an equal pitch.
【請求項5】請求項1乃至4のいずれかに記載のボート
と、 前記ボートに対して被処理体を挿脱する移載機と、 前記ボートに搭載された複数枚の前記被処理体を処理す
る縦型炉と、 前記ボートを垂直に支持した状態で、前記縦型炉の下方
より前記縦型炉内にロード/アンロードするローダ部
と、 を有することを特徴とする熱処理装置。
5. The boat according to any one of claims 1 to 4, a transfer machine for inserting and removing an object to and from the boat, and a plurality of the objects mounted on the boat. A heat treatment apparatus comprising: a vertical furnace to be processed; and a loader unit that loads / unloads the boat into the vertical furnace from below the vertical furnace while vertically supporting the boat.
【請求項6】請求項1乃至4のいずれかに記載のボート
に、前記スリットを介して前記被処理体を挿入し、前記
リング状仕切り部材にて支持させる工程と、 前記被処理体が搭載された前記ボートを、プロセスチュ
ーブ及び加熱部を備えた縦型炉の下方領域より、前記プ
ロセスチューブ内にロードして、処理位置に設定する工
程と、 前記プロセスチューブ内にプロセスガスを導入し、か
つ、前記加熱部により所定のプロセス温度に設定し、前
記プロセスガスを前記スリットを介して前記ボート内に
導いて、前記被処理体を処理する工程と、 を有することを特徴とする熱処理方法。
6. A step of inserting the object to be processed into the boat according to any one of claims 1 to 4 through the slit and supporting the object with the ring-shaped partition member, and mounting the object to be processed. Loading the boat into the process tube from the lower region of the vertical furnace equipped with a process tube and a heating unit, setting the processing position, and introducing a process gas into the process tube, And a step of setting the process temperature to a predetermined temperature by the heating unit, guiding the process gas into the boat through the slit, and treating the object to be processed.
JP63066846A 1988-03-18 1988-03-18 Boat and heat treatment apparatus and method using the same Expired - Lifetime JP2961167B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63066846A JP2961167B2 (en) 1988-03-18 1988-03-18 Boat and heat treatment apparatus and method using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63066846A JP2961167B2 (en) 1988-03-18 1988-03-18 Boat and heat treatment apparatus and method using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01239853A JPH01239853A (en) 1989-09-25
JP2961167B2 true JP2961167B2 (en) 1999-10-12

Family

ID=13327617

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63066846A Expired - Lifetime JP2961167B2 (en) 1988-03-18 1988-03-18 Boat and heat treatment apparatus and method using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2961167B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5618351A (en) * 1995-03-03 1997-04-08 Silicon Valley Group, Inc. Thermal processing apparatus and process
US5820683A (en) * 1995-05-26 1998-10-13 Tokyo Electron Limited Object-supporting boat
JP4983063B2 (en) * 2006-03-28 2012-07-25 東京エレクトロン株式会社 Plasma processing equipment

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58108735A (en) * 1981-12-23 1983-06-28 Fujitsu Ltd Basket for vertical type reaction tube
JPH0715138Y2 (en) * 1986-02-07 1995-04-10 信越石英株式会社 Vertical storage jig

Also Published As

Publication number Publication date
JPH01239853A (en) 1989-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5820367A (en) Boat for heat treatment
TWI862579B (en) Wafer boat handling device, vertical batch furnace and method
US5316472A (en) Vertical boat used for heat treatment of semiconductor wafer and vertical heat treatment apparatus
US5556275A (en) Heat treatment apparatus
KR101176238B1 (en) Heating process apparatus, heating process method, and computer readable storage medium
KR100290047B1 (en) Heat Treatment Boat
JPH0645269A (en) Boat for material to be treated and method of transferring the material using the same
US4954684A (en) Vertical type heat-treating apparatus and heat-treating method
US4957781A (en) Processing apparatus
JP2961167B2 (en) Boat and heat treatment apparatus and method using the same
JPH11243133A (en) Holding device for substrate
JP2004022805A (en) Heat treatment device and heat treatment method
JP3490315B2 (en) Development processing method and development processing apparatus
JP2002083859A (en) Substrate treating apparatus and method therefor
JP2004235469A (en) Heat treatment method and heat treatment apparatus
JPH05291166A (en) Boat for matter to be treated having different diameter and transfer of matter to be treated using same
JP3266844B2 (en) Heat treatment equipment
JPH06132390A (en) Wafer boat
CN114400183A (en) Rapid thermal treatment method and device
JP2593660B2 (en) Jig for wafer heat treatment
JP3323168B2 (en) Semiconductor manufacturing equipment
JP4480914B2 (en) Vertical heat treatment equipment
JP3246890B2 (en) Heat treatment equipment
KR102863833B1 (en) Transfer unit and substrate treating apparatus including the same
GB2139744A (en) Apparatus for firing semiconductor elements