JP2955931B1 - 放射線検出素子 - Google Patents
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 28
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims description 5
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 claims abstract description 86
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 58
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 12
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 9
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 5
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/10—Junction-based devices
- H10N60/12—Josephson-effect devices
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
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- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S505/00—Superconductor technology: apparatus, material, process
- Y10S505/825—Apparatus per se, device per se, or process of making or operating same
- Y10S505/848—Radiant energy application
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
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Abstract
において、信号電荷の収集効率を上げ、エネルギー分解
能を向上させる。 【解決手段】 柱状の超伝導体の側面に酸化膜を形成
し、その上に超伝導体薄膜を設け、酸化膜と超伝導体薄
膜が柱状の超伝導体の側面全周を覆うようにして、放射
線によって柱状の超伝導体内に発生した準粒子による信
号電荷の収集効率を向上させる。
Description
波や電子線、α線等の粒子線等の放射線のエネルギース
ペクトルを測定するための放射線検出器に使用する放射
線検出素子に関するものである。
線検出素子は、図3のように基板7上に形成した従来の
第1の超伝導体薄膜8の表面を酸化して1から2nm程
度の非常に薄い酸化膜(図示せず)を形成し、さらにそ
の上に従来の第2の超伝導体薄膜9を設けた構造であ
る。
ン単結晶やサファイア単結晶などが使われている。また
従来の第1の超伝導体薄膜8としてはスズ、鉛、ニオ
ブ、タンタルなどのスパッタ膜あるいは蒸着膜が使われ
ている。従来の第2の超伝導体薄膜9にもスズ、鉛、ニ
オブ、タンタルなどのスパッタ膜あるいは蒸着膜が使わ
れている。
した放射線によって、その内部に準粒子が発生する。準
粒子はこの場合は通常の電子と同じと考えてよく、拡散
によって運動し、その寿命時間内に酸化膜付近に移動す
ればトンネル効果により酸化膜を通過して、従来の第2
の超伝導体薄膜9に信号電荷として収集される。信号電
荷の量は入射した放射線のエネルギーに比例するので、
放射線エネルギーを測定することができる。
の第1の超伝導体薄膜8は基板7上に形成されている。
放射線によって従来の第1の超伝導体薄膜8に発生した
準粒子は、トンネル効果によって酸化膜を通過して従来
の第2の超伝導体薄膜9に信号電荷として収集される
が、従来の第1の超伝導体薄膜8と基板7との界面にお
いて準粒子の損失が起こるため、信号電荷の収集効率が
低い。
て、従来の第1の超伝導体薄膜8中にフォノンを発生さ
せるが、充分なエネルギーを持ったフォノンはさらに準
粒子を発生して信号電荷に寄与することができる。この
フォノンもまた基板7があるとその界面において損失を
起こす。さらに基板7上に形成する従来の第1の超伝導
体薄膜8は多結晶体のため、準粒子が結晶粒界で損失を
起こし、信号電荷の収集効率が低くなる。
る電荷量のばらつきが大きくなるため、エネルギーの測
定値のばらつきが大きくなり、エネルギー分解能が悪化
する。
は、柱状の超伝導体の側面に酸化膜を形成し、その上に
超伝導体薄膜を設け、酸化膜と超伝導体薄膜が柱状の超
伝導体の側面全周を覆う構造、または柱状の超伝導体の
側面に第1の超伝導体薄膜を形成し、第1の超伝導体薄
膜表面を酸化し酸化膜を形成した後、第2の超伝導体薄
膜を設け、第1の超伝導体薄膜と酸化膜と第2の超伝導
体薄膜が柱状の超伝導体の側面全周を覆う構造とした。
とを特徴とする放射線検出素子とした。このような構造
にすることにより、柱状の超伝導体内で放射線によって
発生した準粒子、フォノンの基板との界面での損失がな
くなる。さらに柱状の超伝導体として単結晶体を使用す
ることにより、準粒子が超伝導体内部の粒界で損失を起
こす確率が小さくなる。
例の構造図を示す。円柱状超伝導体1は、直径100μ
m、長さ5mmの円柱状の多結晶アルミニウムよりな
る。アルミニウムは約1K以下の温度では超伝導体であ
り、高純度の材料が得られ、準粒子寿命が長い特徴があ
る。
置くことによって、図示しない酸化膜を円柱状超伝導体
1の全体表面に形成する。そして、さらに円柱状超伝導
体1の酸化膜の上に超伝導体薄膜2として厚さ0.2μ
mのアルミニウム薄膜を全周蒸着した。本実施例ではア
ルミニウムの蒸着領域の長さは先端を含んで長さ500
μmである。アルミニウム薄膜はスパッタリングによっ
て作成することも可能である。スパッタリングでアルミ
ニウム薄膜を形成すれば、円柱状超伝導体1の先端部に
もアルミニウム薄膜が形成される。
に全周に蒸着されていなくても、蒸着されていない面積
が相対的に小さければ電荷の収集効率を充分確保するこ
とができる。放射線はアルミニウム薄膜の蒸着領域の長
さの中央部付近の側面に入射させる。円柱状超伝導体1
の内部で発生した準粒子は、トンネル効果によって超伝
導体薄膜2であるアルミニウム薄膜に収集される。収集
された電荷はリード線3を通して取り出される。
晶アルミニウム薄膜を用いたがスズ、鉛、ニオブ、タン
タルなどの多結晶超伝導体もしくは単結晶超伝導体を用
いてもよく、多結晶アルミニウムに限定されるものでは
ない。 (実施例2)図2に本発明による第2の実施例の構造図
を示す。
500μm、長さ5mmの角柱状超伝導体4を超高真空
中で2300℃に加熱して不純物と表面酸化膜を除去
し、第1の超伝導体薄膜5として厚さ0.2μmのアル
ミニウム薄膜を長さ全体に渡って全周蒸着した後、酸素
雰囲気中で酸化して図示しないアルミニウム酸化膜を形
成する。さらに第2の超伝導体膜6として厚さ0.2μ
mのアルミニウム薄膜を長さ500μmの領域に全周蒸
着する。
ることにより、単結晶タンタルの表面を酸化して形成し
た酸化タンタル膜よりもリーク電流の小さいアルミニウ
ム酸化膜を利用することができるのでリーク電流による
ノイズを小さくできる。一方、アルミニウムは放射線の
吸収係数が小さい欠点がある。角柱状超伝導体4として
放射線吸収係数の大きいタンタルを使用し、第1の超伝
導体薄膜5をアルミニウムとすることにより、検出器の
放射線吸収係数が大きく、リーク電流の小さい放射線検
出素子を得ることができる。
晶タンタルを用いたがスズ、鉛、ニオブ、タンタルなど
の単結晶超伝導体もしくは多結晶超伝導体を用いてもよ
く、単結晶ニオブに限定されるものではない。また、第
2の超伝導体薄膜6としてアルミニウムを用いたがス
ズ、鉛、ニオブ、タンタルなどの超伝導体を用いてもよ
く、アルミニウムに限定されるものではない。
に酸化膜を形成し、その上に超伝導体薄膜を形成し、酸
化膜と超伝導体薄膜が柱状の超伝導体の側面全周を覆う
構造にすることにより、柱状の超伝導体内で放射線によ
って発生した準粒子は基板との界面で損失を起こすこと
がなくなるので、信号電荷の収集効率が向上し信号電荷
の統計的ばらつきが小さくなるため、エネルギー分解能
が向上する。
導体薄膜を形成し、第1の超伝導体薄膜の表面を酸化し
酸化膜を形成した後、第2の超伝導体薄膜を設け、第1
の超伝導体薄膜と酸化膜と第2の超伝導体薄膜が柱状の
超伝導体の側面全周を覆う構造にすることにより,柱状
の超伝導体として放射線吸収係数の大きい超伝導体を使
用し、第1の超伝導体薄膜として、リーク電流の小さい
酸化膜を形成できるので、リーク電流によるノイズを小
さくでき、エネルギー分解能が高く、放射線吸収係数の
大きい検出素子を得ることができる。
用することにより、準粒子が超伝導体内部の粒界で損失
を起こす確率を小さくでき、さらにエネルギー分解能の
高い放射線検出素子を得ることができる。
り、図1(a)は、軸方法の断面図であり、図1(b)
は、図1(a)のA−A'位置の断面図である。
り、図2(a)は、軸方法の断面図であり、図2(b)
は、図2(a)のB−B'位置の断面図である。
面図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 柱状の超伝導体の側面に酸化膜を形成
し、その上に超伝導体薄膜を設け、酸化膜と超伝導体薄
膜が柱状の超伝導体の側面全周を覆うことを特徴とする
放射線検出素子。 - 【請求項2】 柱状の超伝導体の側面に第1の超伝導体
薄膜を形成し、第1の超伝導体薄膜表面を酸化し酸化膜
を形成した後、第2の超伝導体薄膜を設け、第1の超伝
導体薄膜と酸化膜と第2の超伝導体薄膜が柱状の超伝導
体の側面全周を覆うことを特徴とする放射線検出素子。 - 【請求項3】 柱状の超伝導体が単結晶体であることを
特徴とする請求項1または請求項2記載の放射線検出素
子。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10203196A JP2955931B1 (ja) | 1998-07-17 | 1998-07-17 | 放射線検出素子 |
| US09/351,506 US6281497B1 (en) | 1998-07-17 | 1999-07-12 | Radioactive ray detecting device |
| GB9916899A GB2339985B (en) | 1998-07-17 | 1999-07-19 | Radiation detecting device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10203196A JP2955931B1 (ja) | 1998-07-17 | 1998-07-17 | 放射線検出素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2955931B1 true JP2955931B1 (ja) | 1999-10-04 |
| JP2000035481A JP2000035481A (ja) | 2000-02-02 |
Family
ID=16470064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10203196A Expired - Fee Related JP2955931B1 (ja) | 1998-07-17 | 1998-07-17 | 放射線検出素子 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6281497B1 (ja) |
| JP (1) | JP2955931B1 (ja) |
| GB (1) | GB2339985B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4747332B2 (ja) * | 2001-06-27 | 2011-08-17 | 独立行政法人 日本原子力研究開発機構 | 超伝導トンネル接合素子を用いた光子及び放射線及び中性子の検出器、及びイメージ検出器 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL251185A (ja) | 1956-11-30 | |||
| NL242758A (ja) | 1958-09-15 | |||
| NL301041A (ja) | 1962-12-31 | |||
| US4970395A (en) * | 1988-12-23 | 1990-11-13 | Honeywell Inc. | Wavelength tunable infrared detector based upon super-schottky or superconductor-insulator-superconductor structures employing high transition temperature superconductors |
| US5028786A (en) * | 1989-05-04 | 1991-07-02 | The University Of British Columbia | Array for a nuclear radiation and particle detector |
| JP2503091B2 (ja) * | 1990-03-14 | 1996-06-05 | 富士通株式会社 | 超電導光機能素子 |
| US5185527A (en) * | 1990-12-10 | 1993-02-09 | Westinghouse Electric Corp. | Multispectral superconductive quantum detector |
| EP0513557B1 (de) * | 1991-05-17 | 1998-08-05 | Hehrwart Schröder | Supraleitendes Tunnelelement |
| US5338934A (en) | 1992-07-17 | 1994-08-16 | Fujitsu Limited | Radiation detecting device and method for fabricating the same |
| DE4306497C2 (de) * | 1993-03-03 | 1995-01-05 | Hans Dr Lengfellner | Thermoelektrischer Detektor zur Detektion von kontinuierlicher und gepulster Strahlung und Verfahren zur Herstellung |
| US5710437A (en) * | 1993-03-05 | 1998-01-20 | Nippon Steel Corporation | Radiation detecting device using superconducting tunnel junction and method of fabricating the same |
| US5538941A (en) * | 1994-02-28 | 1996-07-23 | University Of Maryland | Superconductor/insulator metal oxide hetero structure for electric field tunable microwave device |
| US5880468A (en) * | 1996-08-26 | 1999-03-09 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | Superconducting transition-edge sensor |
-
1998
- 1998-07-17 JP JP10203196A patent/JP2955931B1/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-07-12 US US09/351,506 patent/US6281497B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-19 GB GB9916899A patent/GB2339985B/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB9916899D0 (en) | 1999-09-22 |
| US6281497B1 (en) | 2001-08-28 |
| GB2339985B (en) | 2002-01-16 |
| JP2000035481A (ja) | 2000-02-02 |
| GB2339985A (en) | 2000-02-09 |
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| JP2635683B2 (ja) | 放射線検出素子 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080723 Year of fee payment: 9 |
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| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080723 Year of fee payment: 9 |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090723 Year of fee payment: 10 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100723 Year of fee payment: 11 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100723 Year of fee payment: 11 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D03 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110723 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110723 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120723 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 14 |
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| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 14 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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