JP2883221B2 - 光ファイバ固定用基板の製造法 - Google Patents
光ファイバ固定用基板の製造法Info
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- JP2883221B2 JP2883221B2 JP8584591A JP8584591A JP2883221B2 JP 2883221 B2 JP2883221 B2 JP 2883221B2 JP 8584591 A JP8584591 A JP 8584591A JP 8584591 A JP8584591 A JP 8584591A JP 2883221 B2 JP2883221 B2 JP 2883221B2
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- groove
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は複数の光ファイバを一本
づつＶ溝に固定する形式の光ファイバ固定用基板の製造
法に関するものである。
づつＶ溝に固定する形式の光ファイバ固定用基板の製造
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、１２５μm 程度の直径を有する
光ファイバ固定用基板は、従来から種々のものが知られ
ている。いずれのタイプの基板においても、固定した光
ファイバが軸ずれを起こすと光伝送損失が大きくなるた
め、光ファイバ固定用基板における光ファイバ固定部
は、従来から例えば０．５μm 以下の高い加工精度を要
求されている。図２に、光ファイバ固定部としてＶ溝１
を固定すべき光ファイバ２の数だけ設けてなる光ファイ
バ固定用基板３の斜視図を示すように、光ファイバ２を
固定するＶ溝１は例えば深さ百数十μm の微細なもので
ある。
光ファイバ固定用基板は、従来から種々のものが知られ
ている。いずれのタイプの基板においても、固定した光
ファイバが軸ずれを起こすと光伝送損失が大きくなるた
め、光ファイバ固定用基板における光ファイバ固定部
は、従来から例えば０．５μm 以下の高い加工精度を要
求されている。図２に、光ファイバ固定部としてＶ溝１
を固定すべき光ファイバ２の数だけ設けてなる光ファイ
バ固定用基板３の斜視図を示すように、光ファイバ２を
固定するＶ溝１は例えば深さ百数十μm の微細なもので
ある。
【０００３】このため、上述した形状の光ファイバ固定
用基板３の製造方法としては、高精度を達成することの
できる、アルミナ、ジルコニア、メノー等のセラミック
ス材料を研削加工して光ファイバ固定部をなすＶ溝を加
工する方法、シリコン材料をエッチングしてＶ溝を加工
する方法、樹脂材料をインジェクション成形して丸穴を
形成する方法が従来から一般的に用いられている。
用基板３の製造方法としては、高精度を達成することの
できる、アルミナ、ジルコニア、メノー等のセラミック
ス材料を研削加工して光ファイバ固定部をなすＶ溝を加
工する方法、シリコン材料をエッチングしてＶ溝を加工
する方法、樹脂材料をインジェクション成形して丸穴を
形成する方法が従来から一般的に用いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、シリコ
ン材料を用いる方法や樹脂材料を用いる方法ではより高
精度で微細のＶ溝を形成することができないため、セラ
ミックス材料を研削加工する方法が用いられるようにな
ってきたが、この場合は、セラミックス材料を加工する
プロセスが、素材を焼成して焼結体を得た後、この焼結
体を平面研削して、さらにダイヤモンド砥石によりＶ溝
を加工する必要があり、加工時間が例えば８心の光ファ
イバを同時に固定するための固定基板で５〜10時間程度
かかり問題があるとともに、研削の対象がセラミックス
であるため砥石の摩耗が激しい問題があった。さらに、
加工が難しいのに起因して、一つの光ファイバ固定用基
板で固定できるファイバの数が制限され、超多心の光フ
ァイバを同時に固定できる基板を得ることができない問
題があった。
ン材料を用いる方法や樹脂材料を用いる方法ではより高
精度で微細のＶ溝を形成することができないため、セラ
ミックス材料を研削加工する方法が用いられるようにな
ってきたが、この場合は、セラミックス材料を加工する
プロセスが、素材を焼成して焼結体を得た後、この焼結
体を平面研削して、さらにダイヤモンド砥石によりＶ溝
を加工する必要があり、加工時間が例えば８心の光ファ
イバを同時に固定するための固定基板で５〜10時間程度
かかり問題があるとともに、研削の対象がセラミックス
であるため砥石の摩耗が激しい問題があった。さらに、
加工が難しいのに起因して、一つの光ファイバ固定用基
板で固定できるファイバの数が制限され、超多心の光フ
ァイバを同時に固定できる基板を得ることができない問
題があった。
【０００５】本発明の目的は上述した課題を解消して、
加工時間が短くてすみ、砥石の長寿命化が達成できると
ともに、超多心加工が可能で超多心の光ファイバを同時
に固定することのできる光ファイバ固定用基板の製造法
を提供しようとするものである。
加工時間が短くてすみ、砥石の長寿命化が達成できると
ともに、超多心加工が可能で超多心の光ファイバを同時
に固定することのできる光ファイバ固定用基板の製造法
を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の光ファイバ固定
用基板は、複数の光ファイバを固定するためのＶ溝を有
する光ファイバ固定用基板の製造法において、結晶化ガ
ラスを溶解し、ガラスの軟化点以上の温度において金型
プレスをしてＶ溝を有する基板を形成し、冷却後、結晶
化のための熱処理を行い、その後、Ｖ溝を砥石で仕上げ
加工することを特徴とするものである。
用基板は、複数の光ファイバを固定するためのＶ溝を有
する光ファイバ固定用基板の製造法において、結晶化ガ
ラスを溶解し、ガラスの軟化点以上の温度において金型
プレスをしてＶ溝を有する基板を形成し、冷却後、結晶
化のための熱処理を行い、その後、Ｖ溝を砥石で仕上げ
加工することを特徴とするものである。
【０００７】
【作用】上述した構成において、材料として結晶化ガラ
スを使用し、柔らかい状態で複数のＶ溝に対応したサブ
ミクロン精度の金型により一度プレス加工した後、さら
にダイヤモンド砥石等によるＶ溝の仕上げ加工を行うこ
とにより、光ファイバ固定用の基板を作製しているた
め、砥石を使用した時間のかかる研削加工を少なくで
き、加工時間の短縮化、砥石の長寿命化、および超多心
加工が可能な光ファイバ固定基板の製造法を得ることが
できる。
スを使用し、柔らかい状態で複数のＶ溝に対応したサブ
ミクロン精度の金型により一度プレス加工した後、さら
にダイヤモンド砥石等によるＶ溝の仕上げ加工を行うこ
とにより、光ファイバ固定用の基板を作製しているた
め、砥石を使用した時間のかかる研削加工を少なくで
き、加工時間の短縮化、砥石の長寿命化、および超多心
加工が可能な光ファイバ固定基板の製造法を得ることが
できる。
【０００８】ここで、アルミナ等のセラミックスを使用
せず結晶化ガラス例えばＬｉ2 ＯーＡｌ2 Ｏ3 ーＳｉＯ
2 系の結晶化ガラスを使用するのは、軟化点以上の温度
であればプレス加工によりＶ溝の加工が可能であるとと
もに、その後の結晶化のための熱処理を必要とするもの
のこの熱処理における収縮率は１％程度で、プレス成形
した形状がほばそのまま結晶化のための熱処理後も残る
ためである。また、金型を使用したプレス成形を用いる
のは、近年サブミクロンオーダのＶ溝を有する金型を作
製することができるようになったとともに、一度金型を
作ってしまえば繰り返し使用できるためである。
せず結晶化ガラス例えばＬｉ2 ＯーＡｌ2 Ｏ3 ーＳｉＯ
2 系の結晶化ガラスを使用するのは、軟化点以上の温度
であればプレス加工によりＶ溝の加工が可能であるとと
もに、その後の結晶化のための熱処理を必要とするもの
のこの熱処理における収縮率は１％程度で、プレス成形
した形状がほばそのまま結晶化のための熱処理後も残る
ためである。また、金型を使用したプレス成形を用いる
のは、近年サブミクロンオーダのＶ溝を有する金型を作
製することができるようになったとともに、一度金型を
作ってしまえば繰り返し使用できるためである。
【０００９】
【実施例】図１は本発明の光ファイバ固定用基板の製造
法の流れを説明するためのフローチャートである。図１
に従って本発明の製造法を説明すると、まず例えばＬｉ
2 ＯーＡｌ2 Ｏ3 ーＳｉＯ2 系の結晶化ガラスを１４０
０〜１５００℃の温度に加熱して溶解する。次に、溶解
した結晶化ガラスを少量取り出し、軟化点以上の温度で
ある１０００〜１２００℃の温度で金型によりプレス成
形をしてＶ溝を加工するとともに全体の形状を加工して
形成する。その後、一旦冷却する。次に、結晶核を生成
させ結晶化させるための熱処理を行う。その一例の熱処
理スケジュールは、室温から５０〜２００℃／Ｈｒの昇
温速度で一次結晶化温度（結晶核形成）まで昇温し、一
定時間保持後、さらに５０〜２００℃／Ｈｒの昇温速度
で二次結晶化温度（結晶成長）まで昇温し、一定時間保
持後降温するスケジュールである。最後に、結晶化して
硬化した結晶化ガラスのプレスにより成形したＶ溝を、
ダイヤモンド砥石で研削して、最終製品としての光ファ
イバ固定用基板を得ている。
法の流れを説明するためのフローチャートである。図１
に従って本発明の製造法を説明すると、まず例えばＬｉ
2 ＯーＡｌ2 Ｏ3 ーＳｉＯ2 系の結晶化ガラスを１４０
０〜１５００℃の温度に加熱して溶解する。次に、溶解
した結晶化ガラスを少量取り出し、軟化点以上の温度で
ある１０００〜１２００℃の温度で金型によりプレス成
形をしてＶ溝を加工するとともに全体の形状を加工して
形成する。その後、一旦冷却する。次に、結晶核を生成
させ結晶化させるための熱処理を行う。その一例の熱処
理スケジュールは、室温から５０〜２００℃／Ｈｒの昇
温速度で一次結晶化温度（結晶核形成）まで昇温し、一
定時間保持後、さらに５０〜２００℃／Ｈｒの昇温速度
で二次結晶化温度（結晶成長）まで昇温し、一定時間保
持後降温するスケジュールである。最後に、結晶化して
硬化した結晶化ガラスのプレスにより成形したＶ溝を、
ダイヤモンド砥石で研削して、最終製品としての光ファ
イバ固定用基板を得ている。
【００１０】図２は本発明の製造法により得られる光フ
ァイバ固定用基板の一例の構造を示す図である。図２に
示す例では、光ファイバ固定用基板は３は、光ファイバ
２を固定するためのＶ溝１を光ファイバ２の数だけ等間
隔に有するＶ溝基板３ー１と、Ｖ溝１に固定された光フ
ァイバ２を押圧して固定するための光ファイバ押え基板
３ー２とを、接着剤で固定して構成している。Ｖ溝１の
形状は固定すべき光ファイバ２の直径に応じて変わる
が、その一例として直径１２５μmの光ファイバ２を固
定する場合は、Ｖ溝１に光ファイバ２を装着した際光フ
ァイバ２の一部がＶ溝基板３ー１の表面よりも若干突出
した状態となるようにＶ溝加工することが好ましい。上
述した構成は従来の構成と同様であるが、本発明で重要
なのは、Ｖ溝基板３ー１および光ファイバ押え基板３ー
２を構成する材料として、結晶化ガラスを使用する点で
ある。
ァイバ固定用基板の一例の構造を示す図である。図２に
示す例では、光ファイバ固定用基板は３は、光ファイバ
２を固定するためのＶ溝１を光ファイバ２の数だけ等間
隔に有するＶ溝基板３ー１と、Ｖ溝１に固定された光フ
ァイバ２を押圧して固定するための光ファイバ押え基板
３ー２とを、接着剤で固定して構成している。Ｖ溝１の
形状は固定すべき光ファイバ２の直径に応じて変わる
が、その一例として直径１２５μmの光ファイバ２を固
定する場合は、Ｖ溝１に光ファイバ２を装着した際光フ
ァイバ２の一部がＶ溝基板３ー１の表面よりも若干突出
した状態となるようにＶ溝加工することが好ましい。上
述した構成は従来の構成と同様であるが、本発明で重要
なのは、Ｖ溝基板３ー１および光ファイバ押え基板３ー
２を構成する材料として、結晶化ガラスを使用する点で
ある。
【００１１】そのため、本発明の製造法によれば、例え
ば８心の光ファイバを同時に固定するための固定用基板
の加工時間を大幅に短縮することができ、その結果砥石
の長寿命化が達成できるとともに、加工に時間がかから
ない分だけ例えば１００心程度の超多心の光ファイバ固
定用基板を得ることができる。
ば８心の光ファイバを同時に固定するための固定用基板
の加工時間を大幅に短縮することができ、その結果砥石
の長寿命化が達成できるとともに、加工に時間がかから
ない分だけ例えば１００心程度の超多心の光ファイバ固
定用基板を得ることができる。
【００１２】本発明は上述した実施例にのみ限定される
ものではなく、幾多の変形、変更が可能である。例え
ば、上述した実施例では、結晶化ガラスの軟化点以上の
温度でのプレス成形の後一旦室温まで冷却したが、連続
して結晶化のための熱処理を行うこともできる。また、
結晶化ガラスとしてＬｉ2 ＯーＡｌ2 Ｏ3 ーＳｉＯ2 系
の結晶化ガラスの例しか開示しなかったが、その他従来
から公知の結晶化ガラスであればどの様なものでも使用
できることはいうまでもない。
ものではなく、幾多の変形、変更が可能である。例え
ば、上述した実施例では、結晶化ガラスの軟化点以上の
温度でのプレス成形の後一旦室温まで冷却したが、連続
して結晶化のための熱処理を行うこともできる。また、
結晶化ガラスとしてＬｉ2 ＯーＡｌ2 Ｏ3 ーＳｉＯ2 系
の結晶化ガラスの例しか開示しなかったが、その他従来
から公知の結晶化ガラスであればどの様なものでも使用
できることはいうまでもない。
【００１３】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、材料として結晶化ガラスを使用し、柔らかい
状態で複数のＶ溝に対応したサブミクロン精度の金型に
より一度プレス加工した後、さらにダイヤモンド砥石等
によるＶ溝の仕上げ加工を行うことにより、光ファイバ
固定用の基板を作製しているため、砥石を使用した時間
のかかる研削加工を少なくでき、加工時間の短縮化、砥
石の長寿命化、および超多心加工が可能となる。
によれば、材料として結晶化ガラスを使用し、柔らかい
状態で複数のＶ溝に対応したサブミクロン精度の金型に
より一度プレス加工した後、さらにダイヤモンド砥石等
によるＶ溝の仕上げ加工を行うことにより、光ファイバ
固定用の基板を作製しているため、砥石を使用した時間
のかかる研削加工を少なくでき、加工時間の短縮化、砥
石の長寿命化、および超多心加工が可能となる。
【図１】本発明の光ファイバ固定用基板の製造法の流れ
を説明するためのフローチャートである。
を説明するためのフローチャートである。
【図２】本発明の製造法により得られる光ファイバ固定
用基板の一例の構造を示す図である。
用基板の一例の構造を示す図である。
１ Ｖ溝 ２ 光ファイバ ３ー１ Ｖ溝基板 ３ー２ 光ファイバ押え基板
Claims (1)
- 【請求項１】 複数の光ファイバを固定するためのＶ溝
を有する光ファイバ固定用基板の製造法において、結晶
化ガラスを溶解し、ガラスの軟化点以上の温度において
金型プレスをしてＶ溝を有する基板を形成し、冷却後、
結晶化のための熱処理を行い、その後、Ｖ溝を砥石で仕
上げ加工することを特徴とする光ファイバ固定用基板の
製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8584591A JP2883221B2 (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | 光ファイバ固定用基板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8584591A JP2883221B2 (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | 光ファイバ固定用基板の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04296802A JPH04296802A (ja) | 1992-10-21 |
| JP2883221B2 true JP2883221B2 (ja) | 1999-04-19 |
Family
ID=13870207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8584591A Expired - Lifetime JP2883221B2 (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | 光ファイバ固定用基板の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2883221B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06201936A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ファイバアレイ及びその製造方法 |
| JPH09120014A (ja) * | 1995-08-24 | 1997-05-06 | Ngk Insulators Ltd | 光ファイバアレイ |
| EP0860720A4 (en) * | 1995-10-27 | 2000-11-02 | Hoya Corp | OPTICAL FIBER FIXING MEMBER AND MANUFACTURING METHOD |
| WO1999006865A1 (en) * | 1997-07-31 | 1999-02-11 | Hoya Corporation | Optical fiber fixing member, method of manufacturing the optical fiber fixing member, optical fiber array, and method of manufacturing the optical fiber array |
-
1991
- 1991-03-27 JP JP8584591A patent/JP2883221B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04296802A (ja) | 1992-10-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990105 |