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JP2738080B2 - Plating solution bath equipment - Google Patents

Plating solution bath equipment

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Publication number
JP2738080B2
JP2738080B2 JP28577189A JP28577189A JP2738080B2 JP 2738080 B2 JP2738080 B2 JP 2738080B2 JP 28577189 A JP28577189 A JP 28577189A JP 28577189 A JP28577189 A JP 28577189A JP 2738080 B2 JP2738080 B2 JP 2738080B2
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JP
Japan
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plating
bath
plating solution
pipe
film
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Application number
JP28577189A
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Japanese (ja)
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JPH03146698A (en
Inventor
茂 庄司
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Yamaha Corp
Original Assignee
Yamaha Corp
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Publication date
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Publication of JPH03146698A publication Critical patent/JPH03146698A/en
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Publication of JP2738080B2 publication Critical patent/JP2738080B2/en
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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  • Thin Magnetic Films (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、薄膜磁気ヘッドの磁気コアに用いられる
合金メッキ膜等を形成するためのメッキ液建浴装置に関
し、建浴作業を合理化して変質し易いメッキ浴を迅速に
作成し、製品の特性の均一化、メッキ膜表面の平滑化を
実現し、かつメッキ液の寿命を伸ばし、コストダウンを
実現したものである。
The present invention relates to a plating bath construction apparatus for forming an alloy plating film or the like used for a magnetic core of a thin film magnetic head, and streamlines the construction bath operation. A plating bath that easily deteriorates is quickly formed, the characteristics of the product are made uniform, the surface of the plating film is smoothed, the life of the plating solution is extended, and the cost is reduced.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

薄膜磁気ヘッドは、第3図に示すように、基板10上に
下部保護層12を付けたものに下層コア14を形成し、その
上にギャップ層16を介してコイル導体20を収容した絶縁
層18を形成し、その上に上層コア22を形成し、さらにそ
の上にヘッドの保護と安定化を兼ねた保護層24を形成し
て作られている。
As shown in FIG. 3, the thin-film magnetic head has an insulating layer in which a lower core 14 is formed on a substrate 10 having a lower protective layer 12 attached thereto, and a coil conductor 20 is accommodated on the lower core 14 via a gap layer 16. 18 is formed, an upper core 22 is formed thereon, and a protective layer 24 for protecting and stabilizing the head is further formed thereon.

この薄膜磁気ヘッドにおいて、磁気コア14,22は合金
メッキ膜で作られている。このメッキ膜は、磁気特性と
して、再生効率のために磁性膜の透磁率が高いこと、高
抗磁力媒体への書き込み能力を良くするために飽和磁束
密度BSが大きいこと、再生時のコアの着磁ノイズが出
にくい様に、磁性膜の保持力HCが小さいことが望まれ
る。
In this thin-film magnetic head, the magnetic cores 14, 22 are made of an alloy plating film. The magnetic properties of this plated film are that the magnetic film has a high magnetic permeability for reproduction efficiency, the saturation magnetic flux density BS is large for improving the writing ability on a high coercive force medium, and the core adheres during reproduction. It is desired that the coercive force HC of the magnetic film is small so that magnetic noise is hardly generated.

このような条件を満足するものとして例えば鉄、ニッ
ケルの2元合金(パーマロイ)が使用される。
For example, a binary alloy of iron and nickel (permalloy) is used to satisfy such conditions.

また、メッキ膜は表面が荒れていると異方性が乱れ
て、磁気特性が悪化し、またメッキ膜上に形成する保護
膜に異常や密着の悪化を生じさせるので、メッキ膜表面
は平滑であることが望まれる。
In addition, if the surface of the plating film is rough, the anisotropy is disturbed, the magnetic properties are deteriorated, and the protection film formed on the plating film causes abnormalities and poor adhesion, so that the plating film surface is smooth. It is desirable.

所望の磁気特性のメッキ膜を得るにはメッキ浴中のメ
ッキ薬品の濃度が正確に制御されていることが必要であ
る。また、平滑なメッキ膜表面を得るためにはメッキ浴
中の不純物が少ないことが必要である。
In order to obtain a plating film having desired magnetic properties, it is necessary that the concentration of a plating chemical in a plating bath be accurately controlled. Further, in order to obtain a smooth plating film surface, it is necessary that impurities in the plating bath be small.

メッキ浴の建浴工程は、一般にメッキ薬品を純水中に
溶解し、このメッキ液中に含まれる有機不純物を活性炭
により吸着除去し、さらにメッキ液中に含まれる固形不
純物や建浴中に発生した不溶不純物(Fe2+→Fe3+)等を
フィルタ除去することにより行なわれる。
In the bathing process of the plating bath, generally, the plating chemicals are dissolved in pure water, the organic impurities contained in the plating solution are absorbed and removed by activated carbon, and the solid impurities contained in the plating solution and generated in the bath. The removal is performed by filtering out insoluble impurities (Fe 2+ → Fe 3+ ) and the like.

従来においては、これら各工程がそれぞれ分離独立し
た装置による不連続のバッチ処理で行なわれ、1つの工
程を終了した液は容器に入れて次の工程の装置まで移送
されていた。
Conventionally, each of these steps is performed in a discontinuous batch process by a separate and independent apparatus, and a liquid after one step is placed in a container and transferred to the apparatus of the next step.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

薄膜磁気ヘッドに使用される鉄を含む合金メッキで
は、メッキ浴中のFe2+イオンが酸化して不溶性の3価の
水酸化鉄として析出し易く、これがメッキ液中の不純物
となって、メッキ膜表面を荒らす原因となる。また、Fe
2+イオンの酸化によりメッキに有効な浴中の鉄イオン濃
度が減少し、メッキ浴中の合金金属イオンの組成比の変
化により、製品のメッキ膜組成に大きな変化を生じ、所
望の磁気特性が得られなくなる。このため、メッキ浴の
建浴はできるだけ短時間で行なわれることが要求され
る。
In alloy plating containing iron used in thin-film magnetic heads, Fe 2+ ions in the plating bath are easily oxidized and precipitated as insoluble trivalent iron hydroxide, which becomes impurities in the plating solution and causes plating. It causes the film surface to be rough. Also, Fe
Oxidation of 2+ ions reduces the iron ion concentration in the bath effective for plating, and changes in the composition ratio of alloy metal ions in the plating bath cause a large change in the plating film composition of the product, resulting in the desired magnetic properties. No longer available. For this reason, it is required that the bath for the plating bath be performed in as short a time as possible.

ところが、前記従来のバッチ処理による建浴では短時
間で建浴することができなかった。このため、製品の特
性の均一化が難しく、またメッキ膜表面を平滑化するの
が難しかった。また、建浴に長時間を要するため、不溶
性水酸化鉄が増え、メッキ液として使用できる寿命が短
かった。また、建浴に長時間を要するため、その間に様
々な条件の変動等によりメッキ液の初期濃度を所定値に
保つことが難しい。このため、従来においては、まちま
ちの濃度で作成されたものの中から最適な濃度のメッキ
浴を選んで使用していたため、他は廃棄せねばならず、
コストの増大要因になっていた。
However, it was not possible to build a bath in a short time with the above-described conventional bath processing by batch processing. Therefore, it is difficult to make the characteristics of the product uniform and it is difficult to smooth the surface of the plating film. In addition, since the building bath requires a long time, the amount of insoluble iron hydroxide increases, and the life that can be used as a plating solution is short. In addition, since it takes a long time to build the bath, it is difficult to keep the initial concentration of the plating solution at a predetermined value due to fluctuations in various conditions during that time. For this reason, in the past, since the plating bath with the optimum concentration was selected from those prepared at various concentrations and used, the others had to be discarded,
This was a cost increase factor.

この発明は、前記従来の技術における欠点を解決し
て、建浴作業を合理化して、変質し易いメッキ浴を迅速
に作成できるようにして、製品の特性の均一化およびメ
ッキ膜表面の平滑化を実現し、かつメッキ液の寿命を伸
ばし、コストダウンを実現したメッキ建浴装置を提供し
ようとするものである。
The present invention solves the drawbacks of the prior art, rationalizes the construction bath work, enables quick creation of a plating bath that is easily deteriorated, and makes the characteristics of the product uniform and the surface of the plating film smooth. It is an object of the present invention to provide a plating bath apparatus which realizes the above-mentioned conditions, prolongs the life of the plating solution, and realizes cost reduction.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

この発明は、活性炭を収容する耐蝕性ザル状容器を着
脱自在に収容するメッキ薬品溶解槽と、このメッキ薬品
溶解槽から配管を通してポンプにてメッキ液が送り込ま
れる吸引濾過装置と、この吸引濾過装置にて濾過された
メッキ液が配管を通して供給されるレシーバとを具備し
てなるものである。
The present invention relates to a plating chemical dissolving tank for removably containing a corrosion-resistant colander-like container for accommodating activated carbon, a suction filtering device in which a plating solution is sent from the plating chemical dissolving tank through a pipe by a pump, and a suction filtering device. And a receiver through which the plating solution filtered through is supplied through a pipe.

〔作 用〕(Operation)

この発明によれば、メッキ薬品溶解槽にてメッキ薬品
を溶解してメッキ液を作り、次にこのメッキ薬品溶解槽
中の耐蝕性ザル状容器に活性炭を収容して有機不純物を
除去し、この有機不純物除去後のメッキ液を配管を通し
てポンプにて吸引濾過装置に送り込んで固形不純物を除
去し、この濾過後のメッキ液を配管を通してレシーバに
供給する。
According to the present invention, a plating solution is prepared by dissolving a plating agent in a plating agent dissolving tank, and then activated carbon is contained in a corrosion-resistant colander-shaped container in the plating agent dissolving tank to remove organic impurities. The plating solution from which the organic impurities have been removed is sent through a pipe to a suction filtration device by a pump to remove solid impurities, and the filtered plating solution is supplied to the receiver through the pipe.

これによれば、メッキ薬品の溶解、有機不純物の除
去、吸引濾過が連続して行なわれるのでメッキ浴の建浴
を短時間かつ一定の条件、履歴で行なうことができる。
したがって、建浴中のメッキ浴中の金属イオン成分の酸
化を最少限にとどめることができ、製品の特性の均一化
およびメッキ膜表面の平滑化が実現される。また、短時
間で建浴できるので、メッキ液の初期濃度を所定値に保
ちやすく、メッキ液の管理が容易になり、メッキの最適
使用条件をフルに活用することができ、メッキ液の寿命
が延びる。また、従来のように所定の初期濃度にないも
のを廃棄する必要がないのでコストダウンを図ることが
できる。
According to this, since the dissolution of the plating chemical, the removal of the organic impurities, and the suction filtration are successively performed, the plating bath can be constructed in a short time under a constant condition and history.
Therefore, the oxidation of the metal ion component in the plating bath in the building bath can be minimized, and the characteristics of the product can be made uniform and the surface of the plating film can be smoothed. Also, since the bath can be built in a short time, it is easy to maintain the initial concentration of the plating solution at a predetermined value, it is easy to manage the plating solution, and it is possible to make full use of the optimal use conditions of plating, and to extend the life of the plating solution. Extend. In addition, since it is not necessary to discard those not having a predetermined initial concentration as in the related art, the cost can be reduced.

〔実施例〕〔Example〕

この発明の一実施例を第1図に示す。建浴槽(メッキ
薬品溶解槽)30は耐蝕金属製の円筒状容器で構成され、
上方が開口されている。建浴槽30内にはヒータ32が設置
されている。また、上方から撹拌羽34が自在に挿入され
て、撹拌モータ36の駆動によりメッキ液38を撹拌するよ
うにされている。
One embodiment of the present invention is shown in FIG. The construction bath (plating chemical dissolution tank) 30 is composed of a cylindrical container made of corrosion-resistant metal,
The upper part is open. A heater 32 is installed in the built bathtub 30. In addition, a stirring blade 34 is freely inserted from above to stir the plating solution 38 by driving a stirring motor 36.

建浴槽30内に例えば第2図に示すような活性炭収容用
耐蝕金網製ザル状容器25が着脱自在に収容される。この
ザル状容器25が支えステー26と円バンド27で枠を構成
し、底面および周面にステンレス等の金網28を取り付け
て建浴槽30よりもやや小さい円筒状に構成されている。
円バンド27には撹拌した時に建浴槽30内で動かないよう
にするための固定金具29と取っ手31(使用時はじゃまに
ならないように横にたおれる)が取り付けられている。
このザル状容器25には例えば粒径4mm程度の粒状活性炭
(金網のメッシュはこの粒のメッシュより2〜3倍大き
い)が収容される。なお、粉末状の活性炭を使用する
と、活性炭の使用量は、1/3〜1/5で済むが、吸引濾過の
フィルタの目ずまりが激しく、濾過操作に時間がかか
る。これに対し、大粒の活性炭をサル状容器25の金網で
取り除くことにより、フィルタにかかる活性炭粒子は減
少し、濾過時間も短縮される。
A corrugated container 25 made of a corrosion-resistant wire mesh for accommodating activated carbon, for example, as shown in FIG. The colander-shaped container 25 forms a frame with a support stay 26 and a circular band 27, and a metal mesh 28 made of stainless steel or the like is attached to the bottom surface and the peripheral surface to form a cylindrical shape slightly smaller than the building bathtub 30.
The circular band 27 is provided with a fixing bracket 29 and a handle 31 (which can be laid down so as not to be obstructed at the time of use) so as not to move in the bathtub 30 when stirred.
The colander container 25 contains, for example, granular activated carbon having a particle size of about 4 mm (a wire mesh is 2-3 times larger than the mesh of the particles). When powdered activated carbon is used, the amount of activated carbon used can be reduced to 1/3 to 1/5, but the filter for suction filtration is severely clogged and the filtration operation takes time. On the other hand, by removing the large activated carbon with the wire mesh of the monkey-like container 25, the activated carbon particles applied to the filter are reduced, and the filtration time is also reduced.

建浴槽30の底面には、配管40が取り付けられ、配管42
の下端部は建浴槽ドレインコック42を介して濾過液ドレ
イン44に導かれている。また、配管42は建浴槽ドレイン
コック42から配管46、送液ポンプ48、配管50を通ってス
トップコック52が取り付けられた排出口54に導かれてい
る。
A pipe 40 is attached to the bottom of the building bathtub 30 and a pipe 42 is provided.
Is led to a filtrate drain 44 via a construction tub drain cock 42. In addition, the pipe 42 is guided from the construction bath drain cock 42 through a pipe 46, a liquid feed pump 48, and a pipe 50 to an outlet 54 to which a stop cock 52 is attached.

排出口54の下方には吸引濾過装置56が設置されてい
る。吸引濾過装置の出口はマニホールド58に接続されて
いる。マニホールド58の出口には配管60が接続され、こ
の配管60は濾液ドレインコック62を介して配管64に接続
され、配管64は後端部が濾液ドレイン65に導かれ、前端
部がコック66を介してレシーバフラスコ68内に導かれて
いる。レシーバフラスコ68内の上部空間はコック70を介
して真空吸引配管72に接続され、配管72は三方コック74
を介して配管76に接続され、配管76の下端部は吸引瓶78
内に導かれている。吸引瓶78内は配管80を介して吸引ポ
ンプ82に接続されている。
A suction filtration device 56 is provided below the outlet 54. The outlet of the suction filtration device is connected to the manifold 58. A pipe 60 is connected to the outlet of the manifold 58, and the pipe 60 is connected to a pipe 64 via a filtrate drain cock 62. The pipe 64 has a rear end guided to a filtrate drain 65 and a front end connected via a cock 66. Into the receiver flask 68. The upper space in the receiver flask 68 is connected to a vacuum suction pipe 72 via a cock 70, and the pipe 72 is connected to a three-way cock 74.
The lower end of the pipe 76 is connected to a suction bottle 78
Guided inside. The inside of the suction bottle 78 is connected to a suction pump 82 via a pipe 80.

レシーバフラスコ68の底面には配管84が接続され、こ
の配管84は給液ドレインコック86を介して給液ドレイン
88に導かれている。また、配管84は給液ドレインコック
86を介して配管90に接続され、給液ポンプ92、配管94を
介してメッキ装置貯蔵タンクへ導かれる。
A pipe 84 is connected to the bottom surface of the receiver flask 68, and the pipe 84 is connected to a liquid supply drain cock 86 via a liquid supply drain cock.
Guided to 88. Also, the pipe 84 is a liquid supply drain cock.
It is connected to a pipe 90 via 86, and is led to a plating apparatus storage tank via a liquid supply pump 92 and a pipe 94.

次に、この第1図のメッキ液建浴装置の使用例につい
て説明する。ここでは、薄膜磁気ヘッド用パーマロイメ
ッキとして磁歪0の81wt%ニッケル−パーマロイメッキ
用のメッキ液を作るものとする。81ニッケル組成とする
ことにより、メッキ膜の透磁率はμ=3000以上、また保
磁力もHC=0.1以下が容易に実現できる。
Next, an example of using the plating solution bath apparatus of FIG. 1 will be described. Here, a plating solution for 81 wt% nickel-permalloy plating with zero magnetostriction is prepared as permalloy plating for a thin film magnetic head. By using the 81 nickel composition, the magnetic permeability of the plating film can be easily realized at μ = 3000 or more, and the coercive force can be easily achieved at HC = 0.1 or less.

第1表はこのような81パーマロイメッキ膜を作成する
ためのメッキ浴の一例を示す。
Table 1 shows an example of a plating bath for producing such an 81 permalloy plating film.

ニッケルイオン(Ni2+)と鉄イオン(Fe2+)の浴中濃
度とメッキ膜中成分の関係には、次の様な化学量論的平
衡が成り立つ(部分平衡の原理によりニッケルイオンと
鉄イオンの電解析出、溶解に平衡の条件を当てはめるも
のとする。)。
The relationship between the bath concentration of nickel ion (Ni 2+ ) and iron ion (Fe 2+ ) and the components in the plating film has the following stoichiometric equilibrium (nickel ion and iron are based on the principle of partial equilibrium). Equilibrium conditions shall be applied to electrolytic deposition and dissolution of ions.)

ここで、αは平衡常数であり、この場合にαが1より
大きいときは、分子は成分が析出しやすい、即ち、ニッ
ケルが析出し易いことを現している(αが1より小さい
時は、逆に鉄が析出し易いことを表している。)。
Here, α is an equilibrium constant. In this case, when α is larger than 1, the molecule indicates that components are easily precipitated, that is, nickel is easily precipitated (when α is smaller than 1, Conversely, this indicates that iron is easily precipitated.)

この式で、第1表のメッキ浴組成におけるαを求める
と、αは、0.123となり、この浴はかなり鉄が析出し易
い浴であることがわかる。この様に、鉄が析出し易い浴
中では、鉄イオンの変化が非常に敏感にメッキ膜中に表
れてくる。そのため、鉄イオン濃度管理が大事になって
くる。しかし、2価の鉄イオンは酸化しやすいため、メ
ッキに有効なメッキ液中の2価イオン濃度は変動しやす
い。特に、液温が50℃を越えると急激に鉄2価イオンの
酸化がすすむ。従って、浴作成に長時間を要するとメッ
キ浴中の鉄イオン濃度は、所定の濃度からはるかにずれ
てしまっていて、メッキ膜組成の変動に基づく磁気特性
の劣化が起こる。
When α in the plating bath composition shown in Table 1 is obtained from this equation, α is 0.123, which indicates that this bath is a bath in which iron is easily deposited. As described above, in a bath in which iron easily precipitates, a change in iron ions appears very sensitively in the plating film. Therefore, iron ion concentration control becomes important. However, since divalent iron ions are easily oxidized, the concentration of divalent ions in the plating solution that is effective for plating tends to fluctuate. In particular, when the liquid temperature exceeds 50 ° C., oxidation of iron divalent ions proceeds rapidly. Therefore, if it takes a long time to prepare the bath, the iron ion concentration in the plating bath is far from the predetermined concentration, and the magnetic properties are deteriorated due to the fluctuation of the plating film composition.

実験によれば、薄膜ヘッド用磁性膜としては、安定し
た特性を維持するために、79〜83%−Niに維持する必要
がある。この時の鉄イオンの許容濃度は、前記第1式か
ら FeSO4・7H2O=9.68g/〜9.75g/の範囲に収める必要
がある。
According to an experiment, it is necessary to maintain the magnetic film for a thin film head at 79 to 83% -Ni in order to maintain stable characteristics. Allowable concentration of iron ions at this time, it is necessary to fit from the first equation to FeSO 4 · 7H 2 O = 9.68g / ~9.75g / range.

溶解温度を40〜50℃に維持したとき、FeSO4・7H2Oの
酸化は、0.1〜0.2g//hr程度ですすむ。従って、所定
の鉄イオン濃度の範囲に収めるには、1ないし2時間程
度で建浴を終了することが望ましい。なお、濾過工程を
終了したメッキ液は、適切な還元剤で鉄酸化を抑えるこ
とができる。従って、建浴時の鉄酸化が最もメッキ浴酸
化によるメッキ液のバラツキを与える要因であると考え
られる。
When the melting temperature is maintained at 40 to 50 ° C., the oxidation of FeSO 4 .7H 2 O can be performed at about 0.1 to 0.2 g // hr. Therefore, it is desirable to finish the construction bath in about 1 to 2 hours in order to keep the iron ion concentration within the predetermined range. The plating solution after the filtration step can suppress iron oxidation with a suitable reducing agent. Therefore, it is considered that iron oxidation at the time of building bath is the factor which gives the most variation in plating solution due to oxidation of plating bath.

メッキ浴の建浴手順を説明する。 The procedure for establishing the plating bath will be described.

1) 建浴槽30に約20の純水を入れ、ヒータ32で加熱
して温度を上げる(ザル状容器25および撹拌羽34も予め
入れておく)。
1) Pour about 20 pure water into the building bath 30 and heat it with the heater 32 to raise the temperature (the colander 25 and the stirring blades 34 are also put in advance).

2) メッキ薬品のうち、活性炭に吸着しない無機塩薬
品(NiSO4・6H2O,NiCl2・6H2O,H3BO3)を活性炭と共に
加熱した純水中に入れて、撹拌羽34を回して溶解する。
2) Of the plating chemicals, putting inorganic salt chemicals that do not adsorb to activated carbon (NiSO 4 · 6H 2 O, NiCl 2 · 6H 2 O, the H 3 BO 3) in pure water heated with active carbon, the stirring blade 34 Turn to dissolve.

3) 無機塩薬品が完全に溶解した後も、50〜60℃で30
分以上活性炭を撹拌し、メッキ薬品中(特に硫酸ニッケ
ル中)に含まれる有機不純物を吸着する。
3) After the inorganic salt chemicals are completely dissolved, keep the temperature at 50-60 ° C for 30 minutes.
The activated carbon is stirred for more than one minute to adsorb organic impurities contained in the plating chemical (particularly in nickel sulfate).

4) 粒状活性炭をザル状容器25と一緒に引き上げる。
このとき薬品溶解中に一部破砕した粉状の活性炭が初期
投入量の1/20〜1/30程度残る。
4) Pull up the granular activated carbon together with the colander 25.
At this time, the powdered activated carbon partially crushed during the chemical dissolution remains about 1/20 to 1/30 of the initial charge.

5) 液温を45℃以下にしてからFeSO4・7H2Oを投入し
(50℃以上では酸化速度が急激に上昇するため)、一緒
に酸化防止用にアスコルビン酸を投入し、撹拌する。
5) After the temperature of the solution has been lowered to 45 ° C. or lower, FeSO 4 .7H 2 O is added (at 50 ° C. or higher, the oxidation rate sharply increases). Ascorbic acid is also added to prevent oxidation, followed by stirring.

6) 薬品が完全に溶解したら、建浴槽ドレインコック
42、ストップコック52を開き、送液ポンプ48を駆動し
て、溶液を建浴槽30→配管40→コック42→配管46→送液
ポンプ48→配管50→ストップコップ52→排出口54→吸引
濾過装置56へと送給する。
6) When the chemicals have completely dissolved, drain the cock
42, Open the stop cock 52, drive the liquid feed pump 48, and put the solution in the bathtub 30 → pipe 40 → cock 42 → pipe 46 → liquid feed pump 48 → pipe 50 → stop cup 52 → discharge port 54 → suction filtration. Feed to device 56.

7) 吸引ポンプ82を動かし、三方コック74、レシーバ
フラスコ68のコック66,70を吸引側にセットし、給液ド
レインコック86をストップにして、吸引濾過装置56に供
給された溶液を濾過して、固形不純物(粉体状活性炭、
メッキ薬品中に含まれた不溶固形物、建浴中に発生した
水酸化鉄固形物等)を除去する。このときも撹拌は行な
われている。
7) By operating the suction pump 82, the three-way cock 74 and the cocks 66 and 70 of the receiver flask 68 are set on the suction side, the supply drain cock 86 is stopped, and the solution supplied to the suction filtration device 56 is filtered. , Solid impurities (powdered activated carbon,
Insoluble solids contained in plating chemicals, iron hydroxide solids generated in a building bath, etc.) are removed. At this time, stirring is performed.

建浴槽30の粉体状活性炭は、建浴槽30の撹拌によって
ほぼ均一に分散している。従って、この溶液を吸引濾過
装置56へポンプ48で直接送ることによって、活性炭を沈
澱させずに吸引濾過装置56に導くことができる(従来の
バッチ処理のように入れ替え等によってこの溶液を移動
させた場合、静止時に粉体状活性炭は、沈澱したり、淀
みにより装置内にこびりついたりして、装置の洗浄に大
きな手間がかかる。)。
The powdered activated carbon in the building tub 30 is substantially uniformly dispersed by the stirring of the building tub 30. Therefore, by sending this solution directly to the suction filtration device 56 by the pump 48, the activated carbon can be guided to the suction filtration device 56 without precipitating (this solution was moved by replacement or the like as in a conventional batch process). In this case, the powdered activated carbon precipitates during standing still or sticks in the apparatus due to stagnation, which takes a great deal of time to clean the apparatus.)

なお、アスコルビン酸の一部は粉体状活性炭に一部吸
着されるが、ザル状容器25で取り除かれた活性炭に比べ
るとわずかであり、濾過してもアスコルビン酸の減少量
は10%以下である(アスコルビン酸濃度は、0.5wt%〜
1.0wt%の範囲にあれば、メッキ条件、メッキ組成等に
なんら影響はない。)。
Although a part of ascorbic acid is adsorbed on the powdered activated carbon, the amount of ascorbic acid is small compared to the activated carbon removed in the colander vessel 25. Yes (ascorbic acid concentration is 0.5wt% ~
If it is in the range of 1.0 wt%, there is no influence on plating conditions, plating composition, and the like. ).

8) 濾過された溶液はレシーバフラスコ68に滞留す
る。
8) The filtered solution stays in the receiver flask 68.

9) 建浴槽30内の溶液を全て濾過し終ったら、三方コ
ック74を開き、レシーバフラスコ68内を大気圧に戻し、
給液ドレインコック84を吸液ポンプ92側に開き、給液ポ
ンプ92を動かして、溶液をメッキ装置の貯蔵タンクに移
す、これですぐにメッキ作業に入ることができる。
9) When all the solutions in the building bath 30 have been filtered, the three-way cock 74 is opened, and the inside of the receiver flask 68 is returned to the atmospheric pressure.
The liquid supply drain cock 84 is opened to the liquid suction pump 92 side, and the liquid supply pump 92 is moved to transfer the solution to the storage tank of the plating apparatus, so that the plating operation can be started immediately.

なお、サッカリン酸ソーダとドデシル硫酸ソーダは活
性炭によって吸着されるので、レシーバフラスコ68また
は貯蔵タンクにおいてメッキ液に添加する。
Since sodium saccharinate and sodium dodecyl sulfate are adsorbed by activated carbon, they are added to the plating solution in the receiver flask 68 or the storage tank.

10) 溶液の移送が終了したら、すぐに装置の洗浄を行
なう。洗浄は、コック42,52,62,66,86をすべて吸引側に
セットし、建浴槽30内に純水をホースで供給してよく洗
い、同時に送液ポンプ48、給液ポンプ92を動かし、系内
を洗浄して系内に残っているメッキ液を洗い出す。
10) Immediately after the transfer of the solution, wash the equipment. For cleaning, set all cocks 42, 52, 62, 66, 86 on the suction side, supply pure water into the construction bath 30 with a hose, wash well, and at the same time, operate the liquid supply pump 48 and the liquid supply pump 92, The inside of the system is washed to remove the plating solution remaining in the system.

11) 系内が純水で十分置き換わったなら、純水の供給
を停止して、各ドレインコック42,62,86をドレイン44,6
5,88側にそれぞれ開き、系内の最終ドレインを排出す
る。
11) When the inside of the system has been sufficiently replaced with pure water, stop the supply of pure water and drain each drain cock 42, 62, 86 to drain 44, 6
Open to the 5,88 side, and drain the final drain in the system.

以上説明した第1図の装置を使用することにより、薄
膜磁気ヘッド用磁性合金メッキ液の作成が大幅にスピー
ドアップされた。実験によれば、建浴開始から洗浄終了
まで従来のバッチ処理では7時間15分かかっていたもの
が、第1図の装置では1時間55分で済んだ。
By using the apparatus shown in FIG. 1 described above, the speed of preparing a magnetic alloy plating solution for a thin film magnetic head was greatly increased. According to the experiment, the conventional batch processing took 7 hours and 15 minutes from the start of the bath to the end of the washing, but the apparatus of FIG. 1 took 1 hour and 55 minutes.

また、短時間でかつ一定の条件、履歴で作成されるの
で、合金中の酸化変質成分(鉄2価イオン)の変動も抑
えられてメッキ液の初期濃度が所定値に保たれ、メッキ
液の管理が容易になり、メッキの最適使用条件をフルに
活用できた(浴温47から40度まで徐々に下げていくこと
により、ほぼ同じ特性、概観を有する安定したメッキ膜
を作製可能である。)。その結果、メッキ液の寿命が延
び、従来のバッチ式で建浴したものに比べて2〜3倍も
多くのメッキ処理枚数をとることができた。
In addition, since it is created in a short time under a constant condition and history, fluctuations of oxidatively altered components (iron divalent ions) in the alloy are suppressed, the initial concentration of the plating solution is maintained at a predetermined value, and the plating solution Management became easy, and the optimal use conditions for plating were fully utilized (by gradually lowering the bath temperature from 47 to 40 degrees C., a stable plated film having almost the same characteristics and appearance can be produced. ). As a result, the life of the plating solution was prolonged, and the number of plating treatments could be increased by a factor of two to three times as compared with the conventional bath bath.

また、メッキの初期濃度を所定値に保つことができる
ので、浴の加熱時間、使用経歴等によって鉄イオンの減
少量を予め測定しておき、鉄イオンが、所定の枚数を経
過するに従って、鉄イオンが消耗されるとして追加して
いく、あるいは、鉄イオンが析出しやすくなる条件にも
っていく等の手法で近似的に膜組成を一定に保つことが
でき、精度も出易い。
In addition, since the initial concentration of plating can be maintained at a predetermined value, the amount of decrease in iron ions is measured in advance according to the heating time of the bath, the history of use, and the like. The film composition can be kept approximately constant by a technique such as adding ions as they are consumed, or by bringing the conditions under which iron ions are easily precipitated, and the accuracy is easily obtained.

また、洗浄も各工程を個別に洗浄する必要はなく、建
浴と同じ系路に純水を流しておけばよいので非常に容易
となり、洗浄時間も短縮化された。
In addition, it is not necessary to wash each step individually, and pure water may be flowed in the same system as the building bath. This is very easy, and the washing time is shortened.

〔変更例〕[Modification example]

前記実施例ではこの発明を薄膜ヘッドの磁気コア形成
用メッキ液を作る場合について説明したが、この発明は
他の用途のメッキ液の作成にも使用することができる。
In the above embodiment, the present invention has been described in connection with the case where a plating solution for forming a magnetic core of a thin film head is prepared. However, the present invention can also be used for preparing a plating solution for other uses.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように、この発明によれば、メッキ薬品
の溶解、有機不純物の除去、吸引濾過が連続して行なわ
れるのでメッキ浴の建浴を短時間かつ一定の条件、経歴
で行なうことができる。したがって、建浴中のメッキ浴
中の金属イオン成分の酸化を最少限にとどめることがで
き、製品の特性の均一化およびメッキ膜表面の平滑化が
実現される。また、短時間で建浴できるので、メッキ液
の初期濃度を所定値に保ちやすく、メッキ液の管理が容
易になり、メッキの最適使用条件をフルに活用すること
ができ、メッキ液の寿命が延びる。また、従来のように
所定の初期濃度にないものを廃棄する必要がないのでコ
ストダウンを図ることができる。また、使用後のの洗浄
も容易である。
As described above, according to the present invention, the dissolution of the plating chemical, the removal of the organic impurities, and the suction filtration are continuously performed, so that the plating bath can be constructed in a short time under a constant condition and history. . Therefore, the oxidation of the metal ion component in the plating bath in the building bath can be minimized, and the characteristics of the product can be made uniform and the surface of the plating film can be smoothed. Also, since the bath can be built in a short time, it is easy to maintain the initial concentration of the plating solution at a predetermined value, it is easy to manage the plating solution, and it is possible to make full use of the optimal use conditions of plating, and to extend the life of the plating solution. Extend. In addition, since it is not necessary to discard those not having a predetermined initial concentration as in the related art, the cost can be reduced. Further, cleaning after use is also easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、この発明の一実施例を示す系統図である。 第2図は、耐蝕性ザル状容器の一例を示す斜視図であ
る。 第3図は、薄膜磁気ヘッドの構成を示す断面図である。 25……耐蝕金網製ザル状容器、30……建浴槽(メッキ薬
品溶解槽)、40,46,50,60,64,90,94……配管、56……吸
引濾過装置、68……レシーバフラスコ(レシーバ)。
FIG. 1 is a system diagram showing one embodiment of the present invention. FIG. 2 is a perspective view showing an example of a corrosion-resistant colander-shaped container. FIG. 3 is a sectional view showing the configuration of the thin-film magnetic head. 25: Corrosion-resistant wire mesh container, 30: Construction bath (plating chemical dissolution tank), 40, 46, 50, 60, 64, 90, 94 ... Piping, 56: Suction filtration device, 68: Receiver Flask (receiver).

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】活性炭を収容する耐蝕性ザル状容器を着脱
自在に収容するメッキ薬品溶解槽と、 このメッキ薬品溶解槽から配管を通してポンプにてメッ
キ液が送り込まれる吸引濾過装置と、 この吸引濾過装置にて濾過されたメッキ液が配管を通し
て供給されるレシーバと を具備してなるメッキ液建浴装置。
1. A plating chemical dissolving tank for removably containing a corrosion-resistant colander-like container for accommodating activated carbon, a suction filtration device in which a plating solution is sent from the plating chemical dissolving tank through a pipe by a pump, And a receiver for supplying a plating solution filtered by the apparatus through a pipe.
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