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JP2769645B2 - 感材処理装置 - Google Patents

感材処理装置

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Publication number
JP2769645B2
JP2769645B2 JP2327329A JP32732990A JP2769645B2 JP 2769645 B2 JP2769645 B2 JP 2769645B2 JP 2327329 A JP2327329 A JP 2327329A JP 32732990 A JP32732990 A JP 32732990A JP 2769645 B2 JP2769645 B2 JP 2769645B2
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JP
Japan
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processing
photosensitive material
developer
liquid
roller
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP2327329A
Other languages
English (en)
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JPH04194938A (ja
Inventor
英二 宮坂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2327329A priority Critical patent/JP2769645B2/ja
Priority to DE69120510T priority patent/DE69120510T2/de
Priority to US07/799,394 priority patent/US5349412A/en
Priority to EP91120265A priority patent/EP0488207B1/en
Priority to DK91120265.3T priority patent/DK0488207T3/da
Publication of JPH04194938A publication Critical patent/JPH04194938A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2769645B2 publication Critical patent/JP2769645B2/ja
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    • G03DAPPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
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    • G03D3/08Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material
    • G03D3/13Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material for long films or prints in the shape of strips, e.g. fed by roller assembly
    • G03D3/132Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material for long films or prints in the shape of strips, e.g. fed by roller assembly fed by roller assembly
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    • G03D3/06Liquid supply; Liquid circulation outside tanks
    • GPHYSICS
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    • G03DAPPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D5/00Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected
    • G03D5/06Applicator pads, rollers or strips
    • G03D5/067Rollers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
本発明は、印画紙,ダイレクト製版用の感光紙もしく
はフィルムなどの銀塩タイプの感材を処理する感材処理
装置に関する。
【従来の技術】
従来、軽印刷用の刷版を直接製版する複写カメラで
は、露光した感材を静止現像液により処理していた。こ
うした用途に用いられる感材は、例えば耐水処理を施し
たベース(紙)の表面に、ハレーションを防止する層,
光に感じる銀塩乳剤層,銀などの物理現像核が分散した
ゼラチンを主体とする親水性の層などが形成されてい
る。乳剤層は光の照射を受けてその性質を変えるが、光
を受けた乳剤層では、現像液が作用しても還元した銀の
表面層への拡散は阻害される。一方、光の照射を受けな
かった乳剤層では、ハロゲン化銀が錯化されて表面層に
拡散し、そこで物理現像されて金属銀を析出し、感脂化
される。その後、安定化処理を行なって不感脂化処理を
施せば、金属銀の析出したところだけが親油性を示して
印刷インキが載るので、刷版が得られることになる。 こうした感材は、現像液などの処理液との反応が極め
て短時間に進むため、処理液中で短時間停止しただけで
も、あるいは処理液が波立つだけでも処理にムラができ
ることが知られている。従って、従来、大きな槽に大量
の処理液を満たし、静止現像液中を、波立たないように
感材をゆっくりと搬送する浸漬式現像処理を行なう装置
が用いられていたのである。
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、浸漬式現像を用いた装置では、大量の
処理液を波立たないように処理槽に溜めおくに過ぎない
ため、感材を数多く処理するにつれて処理液が劣化した
り、通常アルカリ性の現像液が酸化することによる現像
性能の変化が避けられず、処理品質が不安定になるとい
う問題があった。 処理(現像)性能を維持するためには、所定数量の感
材の処理が完了する毎に、大量の処理液を廃棄・交換し
なければならず、その作業に長時間を要していた。ま
た、処理液を入れ換える直前と直後では、処理性能が大
きく異なってしまうという問題もあった。 また、処理槽に大量の処理液を貯留するため、装置の
使用開始時に、処理液の温度を処理に適した温度まで昇
温する、いわゆるウォームアップに時間を要するという
問題もあった。ウォームアップの時間を短縮しようとす
れば温度調整用のヒータ等を大電力のものにしなければ
ならない。 本発明は上記問題点を解決し、感材処理品質を維持し
つつ必要な処理液の量の低減を可能にすることを目的と
してなされた。かかる目的を達成する本発明の構成につ
いて以下説明する。
【課題を解決するための手段】
本発明の感材処理装置は、 印画紙,ダイレクト製版用の感光紙もしくはフィルム
などの、銀塩タイプの感材を処理する処理装置であっ
て、 感光されて搬送される前記感材の幅方向に亘って設け
られ、表面が保水性を有するローラと、 該ローラとその幅方向に亘って外周に押し当てられた
部材との間に、前記感材を処理する処理液を所定量供給
して一旦貯留する処理液供給手段と、 前記ローラを回転し、前記貯留された処理液を、ロー
ラの表面に均一に保水させる処理液保水手段と、 前記処理液が表面に保水された前記ローラに、前記感
材を接触・搬送して、該処理液を該感材表面に塗布する
塗布手段と、 前記塗布手段を通過した前記感材の搬送経路に設けら
れ、前記処理液供給手段から供給され、かつ前記塗布手
段による塗布に余剰の処理液を、該搬送される感材が浸
漬可能な量まで貯留する処理槽と を備えたことを要旨とする。
【作用】
上記構成を有する本発明の感材処理装置は、感材処理
用の新たな処理液を、保水性表面を有するローラとその
幅方向に亘って外周に押し当てられた部材との間に、処
理液供給手段により所定量供給して一旦貯留し、処理液
保水手段によるローラの回転を介して、貯留済みの新た
な処理液をローラ表面に均一に保水させる。このローラ
の回転に伴って、塗布手段により、ローラに接触・搬送
される感材表面に、ローラ表面に保水されている処理液
を塗布する。 この結果、感材処理は、ローラ表面に保水され、感材
表面に塗布された新たな処理液により行なわれる。 更に、塗布手段を通過した感材の搬送経路には、処理
液供給手段から供給されつつも塗布手段による塗布に余
剰となった処理液を貯留する処理槽が設けられている。
従って、ローラとその幅方向に亘って外周に押し当てら
れた部材との間に処理液を供給する処理液供給手段は、
この処理槽へも同時に処理液を供給することができる。
しかも、この様にして処理液を貯留した処理槽を感材が
通過するため、塗布手段による処理液の塗布による処理
を引き続いて処理液への浸漬による処理が連続して行な
われる。 なお、本発明の感材処理装置で処理する感材として
は、製版用の銀塩系感光紙や製版用の銀塩系フィルムの
ほか、銀塩系の印画紙も対象となる。
【実施例】
以上説明した本発明の構成・作用を一層明らかにする
ために、以下本発明の感材処理装置の好適な実施例につ
いて説明する。第1図は、感材処理装置の一実施例(第
1実施例)である現像処理装置の構成図、第2図はこの
現像処理装置を組み込んだスリット露光式複写カメラ1
を示す概略構成図である。スリット露光式複写カメラ1
は、原稿を複写して軽印刷用の刷版を作製する装置であ
る。 まず、第2図に従って、スリット露光式複写カメラ1
の全体構成について説明する。図示するように、このス
リット露光式複写カメラ1は、筺体2内に後述する投影
光学系や現像処理装置を組み込んだものであり、筺体2
の上面に設けられたコンソールパネル4と、筺体2の上
面にそって水平方向(図における左右方向)に往復動可
能に構成された原稿ホルダ10と、シート状の感材PMを露
光位置に搬送する感材搬送装置20と、原稿ホルダ10内に
保持された原稿に光を照射すると共に原稿で反射された
光を感材PM上面に投影してこれを露光する投影光学系30
と、露光済みの感材PMの現像および安定化処理を行なう
現像処理装置40と、現像処理装置40から搬出された感材
PMを乾燥させる乾燥ユニット50と、種々のモータや後述
の電磁弁等の駆動制御を司る電子制御装置60とを備え
る。 コンソールパネル4は、露光条件の設定等を行なう各
種設定スイッチや、電源スイッチ,スタートスイッチ等
が設けられており、オペレータにより操作される。コン
ソールパネル4の各スイッチは、電子制御装置60に接続
されている。 原稿ホルダ10は、透明なガラス板で構成される原稿台
11と開閉自在な原稿カバー12とを備えており、原稿は原
稿台11と原稿カバー12との間に下向きに保持される。こ
の原稿ホルダ10は、筺体2に設けられたモータ13によ
り、スプロケット,チェーン,ベルト等の図示しない駆
動系を介して、水平方向に往復駆動され、露光用の照射
光源に対して原稿を搬送する。 感材搬送装置20は、第1の感材ロール21,第2の感材
ロール22の他、第1の感材ロール21からの感材送り出し
専用のローラ対23,第2の感材ロール22からの感材送り
出し専用のローラ対24および各感材ロールからの感材送
り出しに共通して用いる2つのローラ対25,26を備えて
おり、必要に応じてどちらか一方の感材ロール21もしく
は22からシート状の感材PMを送り出す。本実施例では、
感材PMとして、シルバーマスター(製品名:三菱製紙株
式会社製、型式SLM-R2)を用いたが、銀塩系の製版用感
光紙であれば、スーパーマスター(製品名:アグファゲ
バルト社製、型式SPP)なども用いることができる。 第2図は、感材PMが、第1の感材ロール21から3組の
ローラ対23,25,26によって順次その下流に搬送されてい
る状態を示している。第2の感材ロール22の感材PMを用
いる場合には、上記ローラ対23に替わるローラ対24と2
組のローラ対25,26によって、感材PMが第2の感材ロー
ル22から搬送される。 なお、第1の感材ロール21または第2の感材ロール22
からの感材PMの送り出しは、原稿ホルダ10の水平方向移
動に同期して行なわれる。 こうして搬送された感材PMは、2組のローラ対25,26
の間に設定された露光位置にて露光され、この露光位置
における感材PMの裏面側に設けられた切断装置27によ
り、コンソールパネル4を用いて設定された寸法に切断
される。 感材PMを露光する投影光学系30は、原稿ホルダ10内に
保持された原稿の幅方向に亘って光を照射するための光
源31と、原稿からの反射光LBを反射する3つのミラー32
a,32b,32cからなるミラー群32と、露光位置の感材PM上
面に原稿の像を結像させる投影レンズ33と、感材PM上面
に投影される反射光LBの幅を制限するスリット34とを備
える。投影レンズ33とミラー群32を構成するミラー32b,
32cとは、傾斜台35上に取り付けられたミラー支持板36
およびレンズ支持台37にそれぞれ固定されており、この
投影光学系30における投影倍率は値1に設定されてい
る。なお、上記ミラー支持板36およびレンズ支持台37
は、投影倍率のアライメントの際に傾斜台35上でその位
置が調整され、アライメント完了後に傾斜台35に固定さ
れる。 光源31から原稿に向けて照射された光は原稿下面で反
射し、この反射光LBはミラー群32の各ミラーで順次反射
され、投影レンズ33とスリット34とを通過した後、感材
PMの感光面に結像される。従って、搬送されつつある感
材PMの感光面には、原稿の幅方向に亘るスリット状画像
が投影される。感材PMの搬送は、原稿ホルダ10の水平方
向移動に同期しているので、原稿ホルダ10の水平方向の
移動が完了すると、原稿全体の露光が完了する。 なお、ローラ対26の下方側には、感材PMを一様に露光
するため複数個のLED38がライン状に設けられており、
このLED38を駆動して感材PMを照射することにより、縮
小して露光する際に原稿からの反射光LBで露光できない
感材PMの周辺部分を像形成不要部として焼きとばしてい
る。その後、感材PMは切断装置27によって切断される。 現像処理装置40は、投影光学系30の下方に設置されて
おり、導入ローラ41を介して導入される感材PMに対する
現像処理および安定化処理を行なうものである。この現
像処理装置40は、現像液を貯蔵する現像液メインタンク
42と安定化剤を貯蔵する安定化剤メインタンク43が装着
可能で、図示しないモータによりローラ等が一体に駆動
される処理ユニット44として構成され、筺体2内に収納
されている。現像処理装置40の構成の詳細については後
述する。 感材PMの搬送路に沿って現像処理装置40の下流には乾
燥ユニット50が配設されている。この乾燥ユニット50
は、現像処理装置40にて処理された感材PMを張力を掛け
つつ搬送する2組のローラ対51,52と、このローラ対51,
52間に設けられた搬送トレイ53と、この搬送トレイ53に
感材PMの搬送路を挟んで対向する位置に設けられた感材
乾燥用ヒータ54およびファン55と、筺体2の外部に取り
付けられ乾燥された感材PMを収納する外部トレイ56とを
備える。 従って、露光済みの感材PMは、現像処理装置40におけ
る現像・安定化処理を経て感材乾燥用ヒータ54により乾
燥され、筺体2外の外部トレイ56に送り出される。こう
して、原稿からオフセット印刷用の刷版が複製・作製さ
れる。 次に、感材PMへの現像・安定化処理を行なう現像処理
装置40について説明する。現像処理装置40の説明には、
その概略構成を示す第1図の他、斜視図(第3図,第4
図),断面図(第5図)を適宜援用する。 第1図に示すように、この現像処理装置40は、導入ロ
ーラ41から導入された露光済みの感材PMを現像液メイン
タンク42内の現像液を用いて現像する現像部70と、安定
化剤メインタンク43内の安定化剤を用いて現像済みの感
材PMに安定化処理を施しこれを乾燥ユニット50のローラ
対51に送り出す安定化処理部(以下、安定部と呼ぶ)72
とを備える。 現像部70は、現像液の供給系として、現像液メインタ
ンク42の他、この現像液メインタンク42が着脱され当該
メインタンク42から現像液を受けて液面を一定に管理す
る液面管理筒74と、液面管理筒74から導通管76を介して
現像液が流入する現像液シスターンタンク78と、現像液
シスターンタンク78からの現像液の流出用の管路79を開
閉する流入用電磁弁80,81と、各電磁弁の作動に連動し
て現像液を吐出する現像液ノズル82,83とを備えてい
る。この現像液ノズル82には、絞り部(第5図参照)が
組み込まれており、流入用電磁弁80の開弁期間における
現像液ノズル82先端からの現像液吐出量を制限してい
る。現像液ノズル82先端からの現像液の吐出量は、絞り
部に加わる圧力、即ち液面管理筒74における液面の高さ
と絞り部における径とによってほぼ定まる。本実施例で
は、液面の高さを一定に保っているので、流入用電磁弁
80開弁時における現像液の流量は、現像液メインタンク
42内の現像液の多寡にかかわらず一定に保たれる。 現像液シスターンタンク78には、その内部を液流入室
78aおよび液滞留室78bに区分けする仕切板84がタンクの
底から立設されており、液流入室78aには導通管76が開
口されている。一方、液滞留室78bの上面には、底面に
向けて挿入されたヒータ86と、タンク内の液量に応じて
上下動するフロート87を有し現像液シスターンタンク78
内の液量を検出するフロートセンサ88とが設けられてい
る。また、現像液シスターンタンク78の底部に連通され
た管路79の入り口には、流出する現像液からごみ等を除
去するメッシュフィルタ90が設けられている。 従って、現像液メインタンク42から導通管76を介して
流入した冷たい現像液は、まず液流入室78aに流入して
仕切板84上端を越え液滞留室78b上部に流れ込む。液滞
留室78b内の現像液はヒータ86により温められる。ヒー
タ86の通電が、温度検出器により検出された液滞留室78
b内の現像液温度に基づき、電子制御装置によりフィー
ドバック制御されていることも相俟って、液滞留室78b
内の現像液は、所定温度に維持・管理される。所定温度
に維持された現像液は、流入用電磁弁80が開弁すると、
現像液ノズル82から流出する。 次に、感材PMの現像が実際に行なわれる現像処理槽96
まわりの概略構成と働きの概要とについて説明する。現
像部70に感材PMを導入する導入ローラ41の下方には、第
5図矢印X方向に回転して感材PMを送り込む入り口ロー
ラ対92が設けられ、更にその下方には、送り込まれた感
材PMに対し、図中矢印Y方向に回転して感材PMの露光面
に接触し、後述するように現像液を感材PMの露光面に塗
布する現像液塗布ローラ93が配設されている。 この現像液塗布ローラ93の表面はスポンジ質の材質で
形成されており、スポンジ質を構成する気泡は個々に独
立した気泡(単独気泡)とされている。現像液塗布ロー
ラ93には、第4図に示すように、上部から滴下する現像
液を現像液塗布ローラ93との間に一時的に貯留する現像
液一時貯留部100が組み付けられている。現像液一時貯
留部100の構成については、後述する。 現像処理槽96は、断面略U字形であり、第3図に示す
ように、感材PMの幅に応じた幅を有し、現像液の貯留部
95を形成している。この現像処理槽96内には、現像処理
槽96の幅方向に亘って、現像処理槽96の底面に若干の距
離を残した位置に、現像液塗布ローラ93と同様に矢印Y
方向に回転する補助ローラ99が配設されている。従っ
て、現像処理槽96の貯留部95に現像液が貯留されれば、
補助ローラ99の下部に現像液に一部浸漬する。 また、現像処理槽96の底部には、第3図,第5図に示
すように、底部液溜め室101が形成されており、現像処
理槽96の底に開口された複数の連通孔102により、現像
液が流入可能とされている。底部液溜め室101の内部に
は、現像液加熱用の棒状ヒータ103が2本配設されてい
る。底部液溜め室101の中央底部には、管路を開閉する
排出用電磁弁104を介してこの底部液溜め室101と導通し
使用済み現像液を廃液受けトレイ106に排出する現像液
排出管108が連設されている。排出用電磁弁104には、第
1図に示すように、防滴カバー114が設けられ、現像処
理槽96やガイド板110から落下する現像液の付着を防止
している。 現像処理槽96の感材PMの搬出側には、安定部72に向け
て所定の仰角αを有するガイド板110が配置されてい
る。ガイド板110は、感材PMとの接触面積を小さくする
ために波板を用いて形成されており(第3図参照)、安
定部72の絞りローラ対109に向けた現像済み感材PMの進
入経路を形成する。ガイド板110の下面には、自己温度
調整機能を有する加熱用の面状ヒータ112が取着されて
いる。面状ヒータ112は、第3図に示すように、現像処
理槽96側に設けられた取付金具113や図示しない他の金
具により、ガイド板110に一体に固定されている。 現像処理槽96の詳細な構成について説明する。現像処
理槽96の貯留部95は、第3図に示すように、湾曲した周
面板120の両側面に略半月状の側面板122(図において、
向かって左側の側面板は省略されている)を各々接合・
固定することにより形成される。周面板120のガイド板1
10側のおよそ中央には、周面板120を貫通する貫通孔126
が設けられている。現像液が供給されて貯留部95の液量
が増加すると、新たに供給された現像液に相当する量か
ら感材PMの搬出に伴って失われる現像液分を除いた量の
現像液(旧現像液)が周面板120の貫通孔126から外部に
流れ出て、貯留部95の現像液の液面は貫通孔126の高さ
に保持され、現像処理槽96内の現像液の量はバランスす
る。 なお、この貯留部95へは、後述するように、現像液ノ
ズル82から滴下する現像液が現像液塗布ローラ93および
感材PMを介して供給されるほか、第1図に示すように、
この現像液ノズル82と並列に設けられた現像液ノズル83
から直接供給することができる。現像液ノズル83からの
現像液の供給は、貯留部95および底部液溜め室101が空
の状態から、現像処理の実施に備えて必要な量の現像液
を貯留部95および底部液溜め室101に貯留する場合に行
なわれる。 現像液一時貯留部100は、第4図および第5図にその
詳細を示すように、現像液塗布ローラ93の両端面に当該
ローラの回転を許容して当接する2枚の端面板134と、
この端面板134を両端に固定した断面「フ」の字形状の
支持板136とを備える。また、支持板136を構成する上板
136a中央、現像液ノズル82の先端に対応した位置には、
液通過孔138が設けられ、一方、支持板136を構成する背
板136bには、現像液塗布ローラ93に向けて付勢され、こ
のローラ外周に当接するステンレス薄板の板ばね140が
設けられている。 液通過孔138の真下には、上板136aの前端中央からこ
の板ばね140に向けて、液受け板142が連設されている。
液受け板142の先端と板ばね140との間には、僅かな隙間
が設けられている。現像液塗布ローラ93とその両端面に
当接された端面板134とこのローラ外周面に当接された
板ばね140とで囲まれた部位は、現像液塗布ローラ93が
この部位では上方に向けて回転していることも相俟っ
て、現像液ノズル82から滴下する現像液を一時的に溜め
置くことができる。この部位を、液溜まり部143と呼
ぶ。 なお、液受け板142は、現像液を現像液塗布ローラ93
の軸方向に効率良く広げる役割をはたしているが、液受
け板142がなくとも、現像液は液溜まり部143に一旦溜ま
るから、現像液塗布ローラ93の軸方向に広がることに変
わりはない。 現像液ノズル82から滴下する現像液は、第4図および
第5図に示すように、液通過孔138を通過して液受け板1
42に至り、液受け板142の両端や板ばね140との間に形成
された僅かな隙間から板ばね140表面に沿って流れ落ち
る。つまり、現像液塗布ローラ93の軸線方向に沿って広
がりつつ液溜まり部143に至り、ここに一時的に貯留さ
れる。液溜まり部143に貯留された現像液の一部は、現
像液塗布ローラ93表面の単独気泡層における個々の気泡
に保持され、現像液塗布ローラ93の第5図矢印Y方向へ
の回転に伴って汲み出され、現像液塗布ローラ93の回転
に同期して搬送される感材PMの露光面に塗布される。こ
れにより、感材PMの現像処理が開始される。 感材PMの露光面に塗布された現像液は、搬送される感
材PMと共に貯留部95内に至る。なお、現像液塗布ローラ
93の直下には、補助ローラ99に向けて傾斜した滴受け板
145が設置されており、現像液塗布ローラ93の表面か
ら、搬送中の感材PM表面に現像液が滴下して、感材PMに
現像ムラなどを生じるといった問題を回避している。 現像液は、底部液溜め室101にも流れ込んでおり、こ
こに内蔵された2本の棒状ヒータ103により加熱され
る。加熱された現像液は、連通孔102を介して貯留部95
との間で対流する。棒状ヒータ103の通電が、温度検出
器により検出される現像液温度によりフィードバック制
御されていることも相俟って、現像処理槽96内の現像液
は、極めて短時間に昇温され所定の温度に維持される。 感材PMが現像処理槽96の現像液の貯留部95を通過すれ
ば、感材PMの現像処理に伴い、スラッジが現像液中に混
入する。こうしたスラッジは、貯留部95から底部液溜め
室101に流入し、排出用電磁弁104が開弁されると、現像
液と共に、現像液排出管108を介して廃液受けトレイ106
に排出される。 次に感材PMの搬送について説明する。入り口ローラ対
92により送り込まれた露光済みの感材PMは、第5図矢印
Y方向に回転している現像液塗布ローラ93表面には露光
面を接触しつつ貯留部95へと進入する。現像液塗布ロー
ラ93表面に接触する間に、感材PMには、このローラ93表
面のスポンジ質の個々の気泡に保持された新たな現像液
が塗布される。本実施例では、感材PMの搬送と現像液塗
布ローラ93の回転とが同期しているから、感材PMの感光
面が現像液塗布ローラ93との接触により汚損することは
ない。現像液塗布ローラ93を通過した後、感材PMは、貯
留部95に貯留された現像液中に搬入され、周面板120の
内周面にそって現像処理槽96内を通過する。 感材PMは、現像液塗布ローラ93表面に接触すると同時
に、塗布された新たな現像液により現像処理が開始さ
れ、現像処理槽96内を通過する間にも、そこに貯留され
た現像液によって現像処理は継続される。補助ローラ99
と周面板120との間隙を抜けて貯留部95を通過した後、
感材PMは、傾斜したガイド板110上面に沿って安定部72
の入り口に設けられた絞りローラ対109に向けて送り出
される。ガイド板110上の雰囲気は、温度制御機能を有
する面状ヒータ112による加熱によって所定の温度近傍
となっているから、ガイド板110上を搬送されている間
も、感材PM表面に付着している現像液により感材PMの現
像処理は更に継続する。感材PMの現像処理は、最終的に
は、絞りローラ対109に至るまでに完了する。感材PMの
表面に残存する現像液は、絞りローラ対109によって絞
り取られ除去される。 次に、安定化剤による感材PMの安定化系である安定部
72について、第1図を用いて説明する。なお、上記した
現像部70と同一の部材または同一の機能を有する部材に
ついては、その説明を省略し、現像部70における説明に
用いた符号(数値)に補助符号Aを付加して表わすこと
となる。 第1図に示すように、安定部72は、安定化剤の供給系
として、上記現像部70の現像液供給系と同様に、安定化
剤メインタンク43,この安定化剤メインタンク43が着脱
される液面管理筒74A,仕切板84Aを内部に立設した安定
化剤シスターンタンク78A,液面管理筒74Aと安定化剤シ
スターンタンク78Aとを導通する導通管76A,流入用電磁
弁80A,81Aを介装した安定化剤ノズル82A,83A等を備え
る。安定化剤シスターンタンク78A内には、現像液シス
ターンタンク78と同様、フロート87Aを有するフロート
センサ88A,メッシュフィルタ90Aも備えられている。流
入用電磁弁80A,81Aと安定化剤ノズル82A,83Aとを介して
安定化剤シスターンタンク78Aから安定化剤が流出する
と、その分だけ導通管76Aから安定化剤が流入する。 安定部72の他の構成部品について、感材PMの搬送に沿
って簡略に説明する。現像部70のガイド板110の上端に
配置された絞りローラ対109を通過した感材PMは、感材P
Mの搬送路に沿って配置されたガイドカバー144にガイド
されて湾曲しつつその下流に搬送され、絞りローラ対10
9における下側ローラとこのローラ表面に接触して回転
する案内ローラ146との間に挟まれて更にその下流に搬
送される。 こうして搬送された感材PMは、第1図矢印Y方向に回
転している安定化剤塗布ローラ93A表面に現像処理完了
面を接触しつつ安定化処理槽96Aの貯留部95Aへと搬入さ
れる。安定化剤塗布ローラ93Aは、現像液塗布ローラ93
と同様、スポンジ質の表面を備えており、安定化剤一時
貯留部100Aとで形成した安定化剤の液溜まり部143Aから
新たな安定化剤をその回転に伴って汲みだし、感材PMが
安定化剤塗布ローラ93A表面に接触している間に、感材P
Mの現像処理完了面に新たな安定化剤を塗布する。 安定化剤の貯留部95Aを形成する安定化処理槽96Aに
は、現像処理槽96と同様、安定化剤塗布ローラ93A直下
の滴受け板145Aと、補助ローラ99Aと、処理槽底部の底
部液溜め室101Aとが設けられている。防滴カバー114A付
の排出用電磁弁104Aが開弁されたとき、使用済みの安定
化剤は、安定化剤排出管108Aを介して、底部液溜め室10
1Aから廃液受けトレイ106Aに排出される。なお、安定化
剤は温度管理を行なう必要がないことから、底部液溜め
室101Aにヒータは設けられていない。 感材PMの搬送路に沿った安定化処理槽96Aの下流に
は、安定化済み感材PMの進入経路を形成するガイド板11
0Aが安定化処理槽96Aから上方に向けて傾斜して配置さ
れており、ガイド板110Aの上端には、第1図矢印Z方向
に回転して安定化済み感材PMを乾燥ユニット50(第2図
参照)のローラ対51に向けて搬送しつつ感材表面から余
分な安定化剤を絞り取る絞りローラ対109Aが配設されて
いる。なお、安定化剤塗布ローラ93Aおよび各絞りロー
ラ対109,109Aは、既述した現像処理槽96の現像液塗布ロ
ーラ93等の各ローラと共通の駆動源により駆動され、同
期して回転されている。 第1図矢印Z方向に回転している現像および安定化済
みの感材PMを搬送しつつ感材PMの表面から余分な現像液
および安定化剤を絞り取る各絞りローラ対109,109Aは、
図示するように、個々のローラの中心を通る平面がロー
ラの中心を通る鉛直面から図示反時計方向に角度βだけ
傾斜して設けられている。従って、この絞りローラ対10
9,109Aに感材PMが挟み込まれると、絞りローラ対109,10
9A部分での感材PMの搬送方向は、角度βに対応した角度
だけ下向きとなる。この結果、絞られた現像液もしくは
安定化剤は、感材PMの通過中は感材PMと絞りローラ対10
9,109Aとの間に留まり、感材PMの側に垂れてくるといっ
たことがない。 感材PM搬送中、各絞りローラ対109,109Aに留まる現像
液もしくは安定化剤は、感材PMの切断後端面が絞りロー
ラ対109もしくは109Aを通過すると同時に、絞りローラ
対109,109Aにおける下側のローラ表面に伝わって、各絞
りローラ対109,109A下方に配設された右側絞り液収集板
152または左側絞り液収集板154上に落下し、廃液受けト
レイ106A内に流入する。 各絞りローラ対109,109Aには、各々2個のスクレーパ
150が、その先端がローラ外周に当接する位置に設けら
れている。スクレーパ150は、ローラ表面に傷を付けな
いためにおよびスクレーパ150自身の長寿命化を図るた
めに、先端から滑らかに研磨したステンレス板あるいは
先端をプラスチックで覆ったステンレス板等の耐触性お
よび弾性を有する材質で構成されている。スクレーパ15
0の先端を覆うプラスチックとしては、弗素樹脂,ポリ
エステル,塩化ビニル等の処理液に対する耐薬品性と耐
摩耗性とを有する材料を用いることができる。スクレー
パ150により掻き落とされたスラッジや廃液は、右側絞
り液収集板152および左側絞り液収集板154上に落下し、
廃液受けトレイ106Aに回収される。なお、現像部70と安
定部72の各廃液受けトレイ106,106Aには、廃液タンク15
6に至る配管158が設けられており、各トレイ106,106Aに
集められた廃液は、配管158を介して最終的には廃液タ
ンク156に回収される。 以上のように構成された安定部72では、現像部70から
送り込まれる現像済みの感材PMは、絞りローラ対109に
より、付着した現像液を絞り取られて下流に搬送され、
安定化剤塗布ローラ93A表面に接触する間に、当該ロー
ラ表面の個々の気泡に保持された新たな安定化剤を塗布
をされる。そして、塗布された新たな安定化剤により感
材の安定化処理が開始され、感材PMの貯留部95A内の通
過期間とガイド板110A上面にそった搬送期間にわたっ
て、感材の安定化処理は進行し、ガイド板110A上面にそ
った搬送の間に安定化処理が完了する。絞りローラ対10
9Aを通過する際、感材PM上面からは余分な安定化剤が絞
り取られ、その後、感材PMは、ローラ対51によって乾燥
ユニット50に搬送される。 次ん、現像液シスターンタンク78等における温度管理
や現像液塗布ローラ93等の駆動制御等を司る電子制御装
置60について、第6図に示すブロック図を用いて説明す
る。 第6図に示すように、電子制御装置60は、周知のCPU1
62,ROM164,RAM166や複数の自走式タイマカウンタを内蔵
したタイマ168等を中心に算術論理演算回路として構成
され、これらコモンバス170を介して相互に接続された
露光用出力ポート172,現像用入力ポート174,現像用出力
ポート176等の入出力インタフェースを備える。また、
電子制御装置60のコモンバス170には、現像液シスター
ンタンク78内の現像液、延いては現像液ノズル82から滴
下する現像液および現像液塗布ローラ93の回転に伴って
液溜まり部143から汲み出されて感材に塗布される新た
な現像液や底部液溜め室101に連通した貯留部95内の現
像液の温度調整を行なう温度調整回路178と、オペレー
タが各種の設定等を行なうコンソールパネル4とが接続
されている。 露光用出力ポート172には、原稿ホルダ10の駆動用の
モータ13と、感材PMを切断するための切断装置27と、原
稿ホルダ10内の原稿に光を照射するための光源31と、第
1の感材ロール21または第2の感材ロール22から感材PM
を送り出すためのモータ28と、感材PMを一様に露光する
ためのLED38と、安定化済み感材を乾燥するための乾燥
ユニット50とが接続されている。 一方、現像用入力ポート174には、現像液シスターン
タンク78内のフロートセンサ88と安定化剤シスターンタ
ンク78A内のフロートセンサ88Aとが接続されており、現
像用出力ポート176には、処理ユニット44の各ローラを
同期して駆動する駆動モータ180と、現像液ノズル82,83
に設けられた流入用電磁弁80,81と、安定化剤ノズル82
A,83Aに設けられた流入用電磁弁80A,81Aと、現像液排出
管108に設けられた排出用電磁弁104と、安定化剤排出管
108Aに設けられた排出用電磁弁104Aと、ガイド板110の
近傍雰囲気をある程度の温度に加熱するための面状ヒー
タ112とが接続されている。 また、温度調整回路178には、現像液シスターンタン
ク78内に設置されたヒータ86およびこのタンク内の液温
を検出する温度センサ85と、底部液溜め室101内に設置
された2本の棒状ヒータ103およびこの液溜め室101内の
液温を検出する温度センサ103aとが接続されている。こ
の温度調整回路178は、感材塗布現像液(直接的には現
像液シスターンタンク78内の現像液)や貯留部95内の現
像液の液温をそれぞれ所定温度範囲に維持するよう上記
各ヒータを加熱制御し、液温が所定温度範囲内に維持さ
れているか否かを示す信号をCPU162に出力する。 次に、電子制御装置60が実行する処理のうち、本発明
に直接関係する部分について、フローチャートを用いて
説明する。第7図は電源投入時に実行される初期処理ル
ーチンを示すフローチャート、第8図は露光・現像可能
な状態まで制御し現像処理を実行する待機・現像処理ル
ーチンを示すフローチャートである。 本実施例のスリット露光式複写カメラ1に電源が投入
されると、電子制御装置60は、まず第7図に示す初期処
理ルーチンを実行する。この処理は、スリット露光式複
写カメラの使用開始時に一度だけ実行される処理であ
る。 本ルーチンが開始されると、まず排出用電磁弁104,10
4Aを開弁する処理を行ない(ステップS10)、現像処理
槽96および安定化処理槽96A(以下、必要に応じて、両
者をまとめて処理槽96とも呼ぶ)に残存する現像液もし
くは安定化剤(以下、必要に応じて、両者をまとめて処
理液とも呼ぶ)がすべて排出されるのに十分な排出時間
だけ待機する(ステップS20)。処理槽96に貯留される
処理液の量は定まっているから、排出時間を予め設定し
ておくことは容易である。 排出時間待機してから排出用電磁弁104,104Aを閉弁し
た後(ステップS30)、次に流入用電磁弁81,81Aを開弁
する処理を行なう(ステップS40)。流入用電磁弁81,81
Aが開弁すると、現像液シスターンタンク78および安定
化剤シスターンタンク78A内の処理液は、現像液ノズル8
3,安定化剤ノズル83Aを介して流出し始め、処理槽96に
直接供給される。 処理槽96には、処理液が次第に貯留されるから、予め
設定された貯留時間(貯留に要する時間)だけ待機して
から(ステップS60)、流入用電磁弁81,81Aを閉弁する
(ステップS70)。この結果、各処理槽96は、現像と安
定化の処理に十分な量の処理液で満たされる。 こうして処理液の貯留が完了した後、現像液温度調整
開始指示を温度調整回路178に出力する(ステップS9
0)。この指示を受けた温度調整回路178は、温度センサ
85,103aの検出信号を参照しつつ、ヒータ86,103に通電
し、現像液シスターンタンク78および現像処理槽96内の
現像液の温度を所定温度範囲に管理する。この場合、現
像処理槽96内の現像液の温度はおよそ28℃ないし31℃の
範囲に管理されるが、現像液シスターンタンク78内の現
像液の温度は、現像液ノズル82から滴下して液溜まり部
143に一時的に貯留された現像液温度が上記温度範囲
(およそ28℃ないし31℃)となるよう、現像処理槽96内
の現像液温度より若干高い温度に管理されている。な
お、現像液塗布ローラ93や現像液一時貯留部100にヒー
タを組み込んで、液溜まり部143と溜めた現像液を所定
温度範囲に制御するよう構成することも、現像液温度を
正確に管理する上で好適である。 温度調整回路178は、現像液を加熱してこの温度範囲
内に制御すると、温度調整が完了したことを示す信号を
CPU162に出力する。そこで、現像液シスターンタンク78
および現像処理槽96内の現像液の温度が所定の温度範囲
内に維持されているか、即ち温度調整が完了したか否か
を判断し(ステップS100)、この温度調整が完了するま
で待機する。 ここで、温度調整が完了したと判断すると、流入用電
磁弁80,80Aを開弁する処理を行ない(ステップS110)、
引き続いて現像用出力ポート176を介して駆動モータ180
の運転を開始する処理を行なう(ステップS120)。 流入用電磁弁80,80Aが開弁すると、ステップS100にて
既に所定温度とされている処理液が、現像液シスターン
タンク78および安定化剤シスターンタンク78Aから現像
液ノズル82,安定化剤ノズル82Aを介して流出し始めて液
溜まり部143,143Aに至り、駆動モータ180による現像液
塗布ローラ93,安定化剤塗布ローラ93Aの回転により、処
理液は液溜まり部143,143Aから汲み出されて各ローラ表
面に均一に保水されていく。 従って、予め設定された保水時間(保水に要する時
間)だけ待機してから(ステップS130)、流入用電磁弁
80,80Aを閉弁する処理(ステップS140)と駆動モータ18
0を停止して各ローラの回転を停止する処理(ステップS
150)とを行なう。 なお、保水時間中に、ローラ表面における処理液がロ
ーラ表面の許容保水量(気泡に保水される最大量)を越
えた場合には、その越えた量の処理液は、ローラ表面か
ら滴下して処理槽96に流入する。 処理液が各処理槽96に十分貯留され、現像液塗布ロー
ラ93,安定化剤塗布ローラ93Aの表面に均一に保水される
と、処理液の温度調整,貯留、保水等が総て完了したこ
とになるので、CPU162は、コンソールパネル4にウォー
ムアップが完了したことを示す表示を行ない(ステップ
S160)、初期処理を総て完了したとして、次の待機処理
に移行する。 以上説明した初期処理を実行することにより、スリッ
ト露光式複写カメラ1の現像処理装置40は、現像処理槽
96,安定化処理槽96Aに残存していた処理液(現像液およ
び安定化剤)をスラッジ等ともども排出し、新たな処理
液を供給すると共に、現像液の温度を処理に必要な適温
に調整する。 初期処理終了後に実行される待機・現像処理では、第
8図に示すように、まずコンソールパネル4から各種設
定のためのキー入力を行ない(ステップS200)、入力し
たキーに従って各種の設定、例えば原稿の大きさや露光
の度合い等の設定を行なう(ステップS210)。次に、現
像液シスターンタンク78および安定化剤シスターンタン
ク78Aの各フロートセンサ88,88Aの状態を読み込み(ス
テップS220)、フロートセンサ88,88Aがオンであるか否
かの判断を行なう(ステップS230)。フロートセンサ8
8,88Aがオフ、即ち現像液シスターンタンク78もしくは
安定化剤シスターンタンク78Aの液面が低下していれ
ば、現像液もしくは安定化剤メインタンク42,43の補充
の指示を、コンソールパネル4に表示する処理を行なっ
て(ステップS235)、ステップ200から上述した処理を
繰り返す。 一方、フロートセンサ88,88Aが共にオンであれば(ス
テップS230)、続いて現像液の温度は適正か否かの判断
を行ない(ステップS240)、適正であれば更にコンソー
ルパネル4の上の露光の開始を指示するスタートキーが
オンとなったか否かを判別する(ステップS250)。現像
液の温度は、温度調整回路178により調整されており、
初期処理(第7図)が終了すれば適温となっているべき
ものであるが、ヒータ86,103の故障により液温が低下す
ることも有り得るので、ここで再度チェックしているの
である。液温が適正でないかスタートキーがオンとなっ
ていなければ、上述したステップ200から処理を繰り返
す。 スタートキーが押されてオンとなった場合には、露光
・現像処理(ステップS260)を実行した後、「END」に
抜けて本ルーチンを終了する。ここで、露光・現像処理
とは、原稿を載置した原稿ホルダ10の搬送、投影光学系
30による感材PMの露光、原稿ホルダ10の搬送と同期した
感材PMの送り出し、現像処理装置40における現像・安定
化処理、切断装置27による感材PMの切断、面状ヒータ11
2及び乾燥ユニット50による感材PMの乾燥等の処理であ
る。投影光学系30によって露光された感材PMは、現像処
理装置40において、現像液塗布ローラ93表面に接触して
現像液の塗布を受け、直ちに現像が開始される。現像処
理は、感材PMが現像処理槽96を通過して安定部72に至る
まで継続する。現像処理された感材PMは、安定部72を通
過する間に、現像部70と同様の経路をたどって安定化さ
れ、その後乾燥されて、筺体2外の外部トレイ56にオフ
セット印刷用の刷版として送り出される。 以上説明したように、スリット露光式複写カメラ1に
組み込まれた実施例の現像処理装置40によれば、感材処
理用の新たな現像液および安定化剤を、液溜まり部143,
143Aに一時的に貯留し、現像液塗布ローラ93,安定化剤
塗布ローラ93A表面の単独気泡層における個々の気泡に
ローラの幅方向(即ち感材PMの幅方向)に亘って均一に
保水される。保水された処理液は、現像液塗布ローラ9
3,安定化剤塗布ローラ93Aの回転に伴って感材PMの露光
面に均一に塗布されるので、感材PMの現像および安定化
処理はローラ表面に保水された新たな処理液により開始
される。従って、もっとも感度の高い処理の初期におい
て、感材PMは、新たな処理液によって常に処理されるこ
とになる。しかも塗布される処理液が均一であることか
ら、感材PMはその全面において、一定した現像および安
定化の処理を受けることになる。 この結果、多数の感材PMを処理するにつれて貯留され
た処理液の処理性能が劣化したり、通常アルカリ性の現
像液が貯留されている間に酸化したりすることがないの
で、感材PMの処理品質を常に好適に維持することができ
る。しかも、新たな処理液を塗布ローラ93,93Aにより感
材PM表面に直接塗布するので、最も処理感度の高い処理
の開始時に、現像や安定化の処理に必要な処理液を、必
要十分な量だけ正確に感材PMに付与することができ、消
費される処理液量の低減を図ると共に、現像や安定化の
処理を精度良くコントロールすることができる。 また、貯留した大量の処理液を定期的に廃棄・交換す
る必要がないので、処理液中のスラッジを容易に排出で
きる構造と相俟って、メンテナンスの手間を不要とする
ことができる。加えて、装置使用開始時におけるウォー
ムアップ時間の短縮化を図ることができる。 なお、本実施例では、現像液塗布ローラ93,安定化剤
塗布ローラ93Aにより処理液を塗布した後、引き続いて
現像処理槽96,安定化処理槽96A内の処理液で感材PMを処
理するよう構成したので、処理品質のより一層の向上を
図ることができる。 これらの構成を採った結果、各処理槽96,96Aを小型化
でき、現像処理装置40の小型化、延いてはスリット露光
式複写カメラ1の小型化を図ることができる。 更に、装置使用開始時において自動的に各処理槽内の
スラッジを処理液(旧処理液)とともに排出するので、
処理槽底部におけるスラッジのヘドロ化を回避して感材
PMの搬送を阻害するということもないから、感材PMの搬
送が阻害されて現像された感材PM上に現像ムラなどが現
われるといった問題も生じない。 なお、安定化処理槽96Aも、加熱用のヒータが設けら
れていない点を除いて同様な構成であり、処理の効率
化、安定化により処理品質の向上といった効果を奏する
のは勿論である。 次に、こうした第1実施例と異なる構成を備えた第2,
第3実施例について説明する。なお、以下の説明に当た
っては、上記した実施例と同一の部材または同一の機能
を有する部材については、その詳細な説明を省略し、上
記実施例における現像部70の説明に用いた符号(数値)
と同一の符号を使用することにする。 まず、第2実施例について、第9図,第10図を用いて
説明する。この実施例における現像処理装置は、処理液
の液溜まり部143を形成する構成とこの液溜まり部143に
処理液を供給する構成のみ、上述した第1実施例と相違
する。 即ち、第9図,第10図に示すように、第2実施例で
は、入り口ローラ対92の下方には、図中矢印Y方向に回
転しつつ感材PMの露光面に接触する現像液塗布ローラ93
と、このローラとその幅方向に亘って接触して図中W方
向に回転する従動ローラ201とが配設されている。な
お、従動ローラ201はその表面に現像液を残留させない
ような材質、例えばフッソ樹脂等で形成されており、そ
の組み付けに当たっては、現像液塗布ローラ93との接触
箇所からの液漏れを回避するために、現像液塗布ローラ
93に対して所定のニップ圧が掛けられている。 各ローラ93,201の両端には、当該ローラの回転を許容
して当接する2枚の端面受け板203が設けられており、
現像液塗布ローラ93および従動ローラ201とその両端面
に当接された端面受け板203とで、現像液を一時的に溜
め置く液溜まり部143を形成している。 この従動ローラ201の上方には、液溜まり部143に現像
液を供給するための供給部210が配設されている。この
供給部210は、その横手方向の長さが現像液塗布ローラ9
3の長さとほぼ等しく、断面「フ」の字形状の支持板212
とその両端に固定された端面板214とを備える。なお、
支持板212を構成する上板212aは、その中央に穿孔され
た液通過孔138と、液通過孔138の真下に、上板212aの前
端中央から支持板212の背板212bに向けて連設された液
受け板142とを備える。 従って、現像液ノズル82から滴下する現像液は、第1
実施例と同様に、液通過孔138を通過して液受け板142に
至り、背板212b表面に沿ってその横手方向、即ち現像液
塗布ローラ93の軸線方向に沿って広がりつつ液溜まり部
143に至り、ここに一時的に貯留される。このため、ノ
ズルから滴下した新たな現像液は、現像液塗布ローラ93
の回転に伴って、感材PMの露光面に均一に塗布され、感
材PMの現像処理が開始される。 このような構成を備える感材処理装置であっても、処
理品質の維持,使い勝手の向上といった第1実施例と同
様の効果を奏することは勿論である。更に、上記構成に
よれば、現像液塗布ローラ93に対する従動ローラ201の
ニップ圧を調整することにより、両ローラ93,201の接触
面から現像液を所定の割合で漏出させることができ、液
溜まり部143からその下方の現像処理槽96に現像液を必
要に応じて直接供給することができる。従って、現像液
を現像処理槽96に直接供給する流入用電磁弁81および現
像液ノズル83が不要となる。 次に、第3実施例について、第11図を用いて説明す
る。第3実施例としての現像処理装置では、第1実施例
における現像液塗布ローラ93と補助ローラ99を兼用した
構成を採った点で、上述した第1実施例と相違する。 即ち、第11図に示すように、入り口ローラ対92の下方
に配置され感材PMの露光面に接触する現像液塗布ローラ
93は、入り口ローラ対92との位置関係を崩すことなく、
その下部が現像処理槽96内の現像液に一部浸漬する位置
に、補助ローラ99(第5図参照)の機能を兼用する形で
配設されている。この現像液塗布ローラ93と現像液一時
貯留部100の端面板134および板ばね140とで、第1実施
例と同様に、液溜まり部143が形成されている。 従って、現像液ノズル82から滴下する現像液は、第1
実施例と同様に、液通過孔138を通過して液受け板142に
至り、板ばね140表面に沿ってその横手方向、即ち現像
液塗布ローラ93の軸線方向に沿って広がりつつ液溜まり
部143に至り、ここに一時的に貯留される。液溜まり部1
43に貯留された現像液の一部は、現像液塗布ローラ93の
回転に伴って、感材PMの露光面に均一に塗布される。従
って、第1実施例と同様、感材PMの現像処理は開始され
るが、感材PMはその直後に現像処理槽96内の現像液中に
搬入され、一層均一な現像処理を受けることになる。 かかる感材処理装置でも、処理品質,メンテナンス性
の向上といった第1実施例と同様の効果を奏することは
勿論である。更に、上記構成によれば、現像液塗布ロー
ラ93による現像液の塗布後に、感材PMは、直ちに、現像
処理槽96内に進入して現像処理を受けるので、その処理
品質の向上を図ることができる。また、補助ローラ99や
この補助ローラ99と現像液塗布ローラ93との間の滴受け
板145を必要とせず、更に第2実施例と同様流入用電磁
弁8,現像液ノズル83を必要としないので、その構成が簡
単となる。 以上本発明の実施例について説明したが、本発明はこ
うした実施例に何等限定されるものではなく、例えば現
像処理もしくは安定化処理の一方にのみ適用した構成、
処理液を供給・塗布するローラを単独気泡層を有するも
のに替えて粗面研摩ローラや多孔室の軟質プラスチック
のローラとした構成、現像液の供給量をフィードバック
制御する構成、現像処理層などに残留する処理液の交換
を装置の立ち上げ時のみならず所定の面積もしくは回数
の処理が行なわれたときにも実行する構成、処理層を省
略し塗布ローラにより塗布された新たな処理液だけ感材
を処理する構成、あるいは銀塩方式の印画紙や製版用フ
ィルムの現像装置に適用した構成など、本発明の要旨を
逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施し得るこ
とは勿論である。
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明の感材処理装置では、感
材処理用の新たな処理液を、保水性表面を有するローラ
とその幅方向に亘って外周に押し当てられた部材との間
に、所定量供給して一旦貯留し、このローラの回転を介
して、新たな処理液をローラ表面に均一に保水させた
後、保水された新たな処理液を感材表面に塗布する。従
って、ローラ表面に保水された新たな処理液により感材
の処理を行なうことができる。しかも処理液が均一に塗
布されることから、感材はその全面において、一定した
現像および安定化の処理を受けることになる。 この結果、多数の感材を処理するにつれて貯留された
処理液の処理性能が劣化したり、通常アルカリ性の現像
液等が貯留されている間に酸化したりすることがないの
で、感材の処理品質を常に好適に維持することができ
る。しかも、新たな処理液をローラにより感材表面に直
接塗布するので、最も処理感度の高い処理の開始時に、
必要十分な量の処理液を正確に感材に付与することがで
き、消費される処理液量の低減を図ると共に、感材の処
理を精度良くコントロールすることができる。 しかも、処理液供給手段から供給される処理液は、感
材を処理液に浸漬することにより処理する処理槽にも同
時に供給され、この処理槽をも新たな処理液で満たされ
る。従って、ローラにより真新しい処理液を塗布された
感材は、引き続いてこの処理槽を通過するに際して新し
い処理液に浸漬され、塗布および浸漬という2種類の処
理が施される。これにより、感材には塗布および浸漬と
いうそれぞれの処理作用が相互補完的に施されることに
より、感材の処理品質を一層向上させることができる。
しかも、この様に2種の処理を施すための処理液の供給
は、単一の処理液供給手段から行なわれるため、構造が
簡単となり、メンテナンス性に優れ、装置の小型化にも
効果的である。 処理液を大量に貯留する必要がないことから、処理液
の温度を管理する必要がある場合でも、温度管理の短時
間に可能としかつ省電力を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例である現像処理装置の構成
図、 第2図は実施例の現像処理装置を組み込んだスリット露
光式複写カメラ1を示す概略構成図、 第3図は現像処理槽96の要部斜視図、 第4図は現像液塗布ローラ93および現像液一時貯留部10
0の斜視図、 第5図は現像処理槽96における現像液塗布ローラ93や現
像液一時貯留部100等の配置を示す断面図、 第6図は電子制御装置60の構成を示すブロック図、 第7図は電子制御装置60が実行する初期処理ルーチンを
示すフローチャート、 第8図は同じく待機・現像処理ルーチンを示すフローチ
ャート、 第9図は第2実施例における現像液塗布ローラ93周辺の
斜視図、 第10図は同じく第2実施例の現像処理槽96における現像
液塗布ローラ93や現像液の供給部210等の配置を示す断
面図、 第11図は第3実施例の現像処理槽96における現像液塗布
ローラ93や現像液一時貯留部100等の配置を示す断面
図、である。 1……スリット露光式複写カメラ 10……原稿ホルダ、20……感材搬送装置 0……投影光学系、40……現像処理装置 50……乾燥ユニット、60……電子制御装置 70……現像部、72……安定部 78……現像液シスターンタンク 78A……安定化剤シスターンタンク 80,80A,81,81A……流入用電磁弁 82,83……現像液ノズル 82A,83A……安定化剤ノズル 85……温度センサ、86……ヒータ 93……現像液塗布ローラ 93A……安定化剤塗布ローラ 96……現像処理槽、96A……安定化処理槽 100……現像液一時貯留部 100A……安定化剤一時貯留部 103……棒状ヒータ、103a……温度センサ 143,143A……液溜まり部 178……温度調整回路、201……従動ローラ 203……端面受け板、210……供給部 PM……感材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03D 3/00 - 5/06

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】印画紙、ダイレクト製版用の感光紙もしく
    はフィルムなどの、銀塩タイプの感材を処理する処理装
    置であって、 感光されて搬送される前記感材の幅方向に亘って設けら
    れ、表面が保水性を有するローラと、 該ローラとその幅方向に亘って外周に押し当てられた部
    材との間に、前記感材を処理する処理液を所定量供給し
    て一旦貯留する処理液供給手段と、 前記ローラを回転し、前記貯留された処理液を、ローラ
    の表面に均一に保水させる処理液保水手段と、 前記処理液が表面に保水された前記ローラに、前記感材
    を接触・搬送して、該処理液を該感材表面に塗布する塗
    布手段と、 前記塗布手段を通過した前記感材の搬送経路に設けら
    れ、前記処理液供給手段から供給され、かつ前記塗布手
    段による塗布に余剰の処理液を、該搬送される感材が浸
    漬可能な量まで貯留する処理槽と を備えた感材処理装置。
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