JP2604561B2 - ウェーハ乾燥装置 - Google Patents
ウェーハ乾燥装置Info
- Publication number
- JP2604561B2 JP2604561B2 JP6322663A JP32266394A JP2604561B2 JP 2604561 B2 JP2604561 B2 JP 2604561B2 JP 6322663 A JP6322663 A JP 6322663A JP 32266394 A JP32266394 A JP 32266394A JP 2604561 B2 JP2604561 B2 JP 2604561B2
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- JP
- Japan
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- rotation
- wafer
- cradle
- turntable
- balancer mechanism
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-
- H10P72/0408—
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
- Y10S134/902—Semiconductor wafer
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板である複数
枚のウェーハを収納箱に収納しこの収納箱をターンテー
ブルで回転させその遠心力でウェーハから水分を飛散さ
せ乾燥するウェーハ乾燥装置に関し、特にターンテーブ
ルのバランサー機構をもつウェーハ乾燥装置に関する。
枚のウェーハを収納箱に収納しこの収納箱をターンテー
ブルで回転させその遠心力でウェーハから水分を飛散さ
せ乾燥するウェーハ乾燥装置に関し、特にターンテーブ
ルのバランサー機構をもつウェーハ乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２（ａ）および（ｂ）は従来のウェー
ハ乾燥装置の一例を示す模式断面図および部分破断斜視
図である。従来、この種のウェーハ乾燥装置は、例え
ば、図２に示すように、複数のウェーハ１６を収納する
収納箱６を収納し回転軸１０を中心に対向し配置され支
持部９を介してターンテーブル８に取付けられる垂直揺
動自在の複数のクレードル２と、これらクレードル２を
包むように囲むとともに下方に排気口７と開口を閉じる
蓋４とを有する乾燥室５と、ターンテーブル８の回転バ
ランスをとるために対向するクレードル２の支持部９を
回転半径方向に移動させ調節するバランサー機構部３と
を備えている。
ハ乾燥装置の一例を示す模式断面図および部分破断斜視
図である。従来、この種のウェーハ乾燥装置は、例え
ば、図２に示すように、複数のウェーハ１６を収納する
収納箱６を収納し回転軸１０を中心に対向し配置され支
持部９を介してターンテーブル８に取付けられる垂直揺
動自在の複数のクレードル２と、これらクレードル２を
包むように囲むとともに下方に排気口７と開口を閉じる
蓋４とを有する乾燥室５と、ターンテーブル８の回転バ
ランスをとるために対向するクレードル２の支持部９を
回転半径方向に移動させ調節するバランサー機構部３と
を備えている。
【０００３】このウェーハ乾燥装置で、ウェーハ１６を
乾燥する場合は、まず、図２（ｂ）のように、ターンテ
ーブル８を停止した状態で、空のクレードル２内にウェ
ーハ１６を収納した収納箱６を入れる。そして、回転軸
１０によりターンテーブル８を高速回転することによ
り、クレードル２が遠心力により支え軸を中心に９０度
旋回し図２（ａ）の状態になる。そして、ウェーハ１６
に付着した水分は遠心力に飛散し乾燥室５の下方の排気
口７より排出される。
乾燥する場合は、まず、図２（ｂ）のように、ターンテ
ーブル８を停止した状態で、空のクレードル２内にウェ
ーハ１６を収納した収納箱６を入れる。そして、回転軸
１０によりターンテーブル８を高速回転することによ
り、クレードル２が遠心力により支え軸を中心に９０度
旋回し図２（ａ）の状態になる。そして、ウェーハ１６
に付着した水分は遠心力に飛散し乾燥室５の下方の排気
口７より排出される。
【０００４】また、このウェーハ乾燥装置は、対向する
収納箱６に収納されるウェーハ１６の枚数が相違した場
合、ターンテーブル８の回転バランスをとるためにバラ
ンサー機構部３が設けられていた。
収納箱６に収納されるウェーハ１６の枚数が相違した場
合、ターンテーブル８の回転バランスをとるためにバラ
ンサー機構部３が設けられていた。
【０００５】このバランサー機構部３は、ターンテーブ
ル８面より突出する支持体の回転軸にはめ込まれる偏心
カム３ａと、この偏心カム３ａの長穴に係止するカム駆
動軸３ｂとを備えており、このカム駆動軸３ｂが上下動
作し偏心カム３ａを回転させることにより、偏心カム３
ａと接触している左右のスライド部が偏心カム３ａに押
され左右にスライドし、そして、スライド部に載置され
た支持部９が回転半径方向に移動しターンテーブル８の
回転バランスがとられていた。
ル８面より突出する支持体の回転軸にはめ込まれる偏心
カム３ａと、この偏心カム３ａの長穴に係止するカム駆
動軸３ｂとを備えており、このカム駆動軸３ｂが上下動
作し偏心カム３ａを回転させることにより、偏心カム３
ａと接触している左右のスライド部が偏心カム３ａに押
され左右にスライドし、そして、スライド部に載置され
た支持部９が回転半径方向に移動しターンテーブル８の
回転バランスがとられていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のウェー
ハ乾燥装置では、ターンテーブルが高速回転中に、バラ
ンサー機構部内の偏心カムがスライド部に接触し、スラ
イド部が摺動部を摺動するので、この摺動部から発塵す
る。また、発塵源であるバランサー機構部がウェーハを
収納する収納箱と同じ乾燥室内にあるため、回転時に
は、塵埃が乾燥室全体に飛散させウェーハ上に付着しウ
ェーハを汚染し洗浄歩留りを著しく低下させるという問
題がある。
ハ乾燥装置では、ターンテーブルが高速回転中に、バラ
ンサー機構部内の偏心カムがスライド部に接触し、スラ
イド部が摺動部を摺動するので、この摺動部から発塵す
る。また、発塵源であるバランサー機構部がウェーハを
収納する収納箱と同じ乾燥室内にあるため、回転時に
は、塵埃が乾燥室全体に飛散させウェーハ上に付着しウ
ェーハを汚染し洗浄歩留りを著しく低下させるという問
題がある。
【０００７】このような塵埃が付着することを防止する
手段をもつウェーハ乾燥装置の一例として、特開昭６０
一１５４６２４号公報に開示されている。このウェーハ
乾燥装置はバランサー機構部をもたにない装置であっ
て、ロータの内周部にウェーハ収納箱を均等に配置し、
ロータを高速回転させウェーハの水切りを行なってい
る。そして、ロータを回転させる回転駆動部を包み乾燥
室と分離する回転駆動室を設け、この回転駆動室の排気
口から回転駆動室の空間部を排気し回転駆動室を乾燥室
に対し負圧状態にし塵埃が乾燥室に侵入しないようにし
ている。
手段をもつウェーハ乾燥装置の一例として、特開昭６０
一１５４６２４号公報に開示されている。このウェーハ
乾燥装置はバランサー機構部をもたにない装置であっ
て、ロータの内周部にウェーハ収納箱を均等に配置し、
ロータを高速回転させウェーハの水切りを行なってい
る。そして、ロータを回転させる回転駆動部を包み乾燥
室と分離する回転駆動室を設け、この回転駆動室の排気
口から回転駆動室の空間部を排気し回転駆動室を乾燥室
に対し負圧状態にし塵埃が乾燥室に侵入しないようにし
ている。
【０００８】しかしながら、このウェーハ乾燥装置は、
乾燥室に対し回転駆動室を負圧にしているので、排水部
に流れ込むだけではなく回転軸導入部にパーティクルが
混入した洗浄水が入り込み、回転機構に錆を発生した
り、回転軸と導入部の間にパーティクルがつまりロータ
が回転不能となり長期間の運転ができなくなる。また、
負圧にするために排水部と接続する排気装置が必要とな
り設備コストが高価となる欠点がある。
乾燥室に対し回転駆動室を負圧にしているので、排水部
に流れ込むだけではなく回転軸導入部にパーティクルが
混入した洗浄水が入り込み、回転機構に錆を発生した
り、回転軸と導入部の間にパーティクルがつまりロータ
が回転不能となり長期間の運転ができなくなる。また、
負圧にするために排水部と接続する排気装置が必要とな
り設備コストが高価となる欠点がある。
【０００９】従って、本発明の目的は、バランサー機構
部からの塵埃の乾燥室への防止を行なうとともに可動部
に水分やパーテイクルが侵入することなく長期間運転で
きるウェーハ乾燥装置を提供することである。
部からの塵埃の乾燥室への防止を行なうとともに可動部
に水分やパーテイクルが侵入することなく長期間運転で
きるウェーハ乾燥装置を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、複数の
ウェーハを収納する収納箱を収納し水平回転中心に対向
し配置され支持部材に垂直揺動自在に取付けられる複数
のクレードルと、これらクレードルを前記支持部材を介
して取付け水平回転させるターンテーブルと、前記クレ
ードルを包むように囲む乾燥室と、前記ターンテーブル
の回転バランスをとるために前記クレードルを支持する
前記支持部材を回転半径方向に移動させ調節するバラン
サー機構部とを備えるウェーハ乾燥装置において、前記
支持部材のそれぞれに取付けられ前記水平回転中心近傍
で互に重ね合せ前記バランサー機構部を覆うように構成
されるとともに外周縁部が前記乾燥室の側壁まで伸びか
つ該外周縁部に複数の羽根が並べ取付けられた円盤状の
遮蔽板と、この遮蔽板で仕切られ前記バランサー機構部
を包む空間部を形成する仕切板を有するとともに前記遮
蔽板の回転による前記羽根のポンプ作用で前記乾燥室内
から空気を吸引し前記仕切板の外壁を経由し外部へ排出
する排出口をもつ隔離室とを備えるウェーハ乾燥装置で
ある。
ウェーハを収納する収納箱を収納し水平回転中心に対向
し配置され支持部材に垂直揺動自在に取付けられる複数
のクレードルと、これらクレードルを前記支持部材を介
して取付け水平回転させるターンテーブルと、前記クレ
ードルを包むように囲む乾燥室と、前記ターンテーブル
の回転バランスをとるために前記クレードルを支持する
前記支持部材を回転半径方向に移動させ調節するバラン
サー機構部とを備えるウェーハ乾燥装置において、前記
支持部材のそれぞれに取付けられ前記水平回転中心近傍
で互に重ね合せ前記バランサー機構部を覆うように構成
されるとともに外周縁部が前記乾燥室の側壁まで伸びか
つ該外周縁部に複数の羽根が並べ取付けられた円盤状の
遮蔽板と、この遮蔽板で仕切られ前記バランサー機構部
を包む空間部を形成する仕切板を有するとともに前記遮
蔽板の回転による前記羽根のポンプ作用で前記乾燥室内
から空気を吸引し前記仕切板の外壁を経由し外部へ排出
する排出口をもつ隔離室とを備えるウェーハ乾燥装置で
ある。
【００１１】
【実施例】本発明について図面を参照して説明する。
【００１２】図１（ａ）および（ｂ）は本発明のウェー
ハ乾燥装置の一実施例を示す模式断面図および遮蔽板の
部分平面図である。このウェーハ乾燥装置は、図１に示
すように、支持部９のそれぞれに取付けられ回転軸１０
の中心近傍で互に重ね合せバランサー機構部３を覆うよ
うに構成されるとともに外周縁部が乾燥室５ａの側壁ま
で伸びかつ外周縁部に複数の羽根１１が並べ取付けられ
た円盤状の遮蔽板１と、この遮蔽板１で仕切られバラン
サー機構部３を包む空間部５ｃを形成する仕切板１２を
有するとともに遮蔽板１の回転による羽根１１のポンプ
作用で乾燥室５ａ内から空気を吸引し仕切板１２の外壁
を経由し外部へ排出する排出口７ａをもつ隔離室５ｂと
を備えている。
ハ乾燥装置の一実施例を示す模式断面図および遮蔽板の
部分平面図である。このウェーハ乾燥装置は、図１に示
すように、支持部９のそれぞれに取付けられ回転軸１０
の中心近傍で互に重ね合せバランサー機構部３を覆うよ
うに構成されるとともに外周縁部が乾燥室５ａの側壁ま
で伸びかつ外周縁部に複数の羽根１１が並べ取付けられ
た円盤状の遮蔽板１と、この遮蔽板１で仕切られバラン
サー機構部３を包む空間部５ｃを形成する仕切板１２を
有するとともに遮蔽板１の回転による羽根１１のポンプ
作用で乾燥室５ａ内から空気を吸引し仕切板１２の外壁
を経由し外部へ排出する排出口７ａをもつ隔離室５ｂと
を備えている。
【００１３】また、従来例と同じように、このウェーハ
乾燥装置は、複数のウェーハ１６を収納する収納箱６を
収納し水平回転中心に対向し配置され支持部９に垂直揺
動自在に取付けられる複数のクレードル２と、これらク
レードル２を支持部９を介して取付け水平回転させるタ
ーンテーブル８と、クレードル２を包むように囲む蓋４
をもつ乾燥室５ａと、ターンテーブル８の回転バランス
をとるためにクレードルを支持する支持部９を回転半径
方向に移動させ調節するバランサー機構部３とを有して
いる。
乾燥装置は、複数のウェーハ１６を収納する収納箱６を
収納し水平回転中心に対向し配置され支持部９に垂直揺
動自在に取付けられる複数のクレードル２と、これらク
レードル２を支持部９を介して取付け水平回転させるタ
ーンテーブル８と、クレードル２を包むように囲む蓋４
をもつ乾燥室５ａと、ターンテーブル８の回転バランス
をとるためにクレードルを支持する支持部９を回転半径
方向に移動させ調節するバランサー機構部３とを有して
いる。
【００１４】クレードル２がこの図面では二つであるの
で、遮蔽板１は二枚の半円状の板で構成され、それぞれ
の支持部９の下部とバランサー機構部３のスライダー部
とに連結されている。また、ターンテーブル８の回転バ
ランスをとるために、支持部９が移動したときバランサ
ー機構部３が露呈しないようにそれぞれの遮蔽板部材は
回転中心近傍で互に重なり合うように構成されている。
さらに、遮蔽板１の外周縁部には複数の羽根１１が並べ
取付けられその羽根１１の先端は乾燥室５ａの膨らんだ
壁の近くまで伸びている。そして、この乾燥室５ａの膨
らんだ部分がケーシングとなり羽根１１とともに一種の
送風ファンとなっている。
で、遮蔽板１は二枚の半円状の板で構成され、それぞれ
の支持部９の下部とバランサー機構部３のスライダー部
とに連結されている。また、ターンテーブル８の回転バ
ランスをとるために、支持部９が移動したときバランサ
ー機構部３が露呈しないようにそれぞれの遮蔽板部材は
回転中心近傍で互に重なり合うように構成されている。
さらに、遮蔽板１の外周縁部には複数の羽根１１が並べ
取付けられその羽根１１の先端は乾燥室５ａの膨らんだ
壁の近くまで伸びている。そして、この乾燥室５ａの膨
らんだ部分がケーシングとなり羽根１１とともに一種の
送風ファンとなっている。
【００１５】バランサー機構部３を包む空間部５ｃは仕
切板１２で囲まれ、遮蔽板１の羽根１１によるポンプ作
用で乾燥室５ａから吸引される水を含む空気が空間部５
ｃに侵入しないように仕切板１２はターンテーブル８に
干渉しない程度まで先端を延しかつその先端は折り返さ
れている。
切板１２で囲まれ、遮蔽板１の羽根１１によるポンプ作
用で乾燥室５ａから吸引される水を含む空気が空間部５
ｃに侵入しないように仕切板１２はターンテーブル８に
干渉しない程度まで先端を延しかつその先端は折り返さ
れている。
【００１６】隔離室５ｂは乾燥室５ａの膨らんだ部分か
ら繋がる外壁を含む部屋で構成され、下部の外壁は外側
に膨らみ溝１４を形成している。また、この溝１４の他
方の壁は、回転軸１０のシール１３を保持する部分に繋
がる傾斜部１５に連なっている。さらに溝１４はなだら
から傾斜をもって排出口７ａに連なっている。
ら繋がる外壁を含む部屋で構成され、下部の外壁は外側
に膨らみ溝１４を形成している。また、この溝１４の他
方の壁は、回転軸１０のシール１３を保持する部分に繋
がる傾斜部１５に連なっている。さらに溝１４はなだら
から傾斜をもって排出口７ａに連なっている。
【００１７】次に、このウェーハ乾燥装置によるパーテ
ィクルと水文を含む空気が排出される動作について説明
する。まず、ターンテーブル８の回転によりその遠心力
でウェーハ１６から飛散したパーティクルを含む水分は
乾燥室５ａの内壁に向って飛ばされる。そして、矢印に
示すように、ターンテーブル８の回転に伴ない遮蔽板１
が回転し、羽根１１のポンプ作用により飛散した水分は
乾燥室内の空気に伴なって隔離室５ｂに吸引される。隔
離室５ｂに導入された水分およびパーティクルを含む空
気は、溝１４に到達し水分とパーティクルは溝１４の壁
に付着し空気の流れによって排出口７ａより排出され
る。
ィクルと水文を含む空気が排出される動作について説明
する。まず、ターンテーブル８の回転によりその遠心力
でウェーハ１６から飛散したパーティクルを含む水分は
乾燥室５ａの内壁に向って飛ばされる。そして、矢印に
示すように、ターンテーブル８の回転に伴ない遮蔽板１
が回転し、羽根１１のポンプ作用により飛散した水分は
乾燥室内の空気に伴なって隔離室５ｂに吸引される。隔
離室５ｂに導入された水分およびパーティクルを含む空
気は、溝１４に到達し水分とパーティクルは溝１４の壁
に付着し空気の流れによって排出口７ａより排出され
る。
【００１８】ちなみに、従来のウェーハ乾燥装置と比較
したところ、ウェーハ１６に付着するパーティクル数が
１／１０以下にすることができた。また、可動部である
バランサー機構部３には水分やパーティクルの侵入する
ことがなく長期間運転することができた。
したところ、ウェーハ１６に付着するパーティクル数が
１／１０以下にすることができた。また、可動部である
バランサー機構部３には水分やパーティクルの侵入する
ことがなく長期間運転することができた。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、可動部で
あるバランサー機構部を乾燥室に露呈することなく遮蔽
しく乾燥室から空気を吸引するポンプ機能をもつ遮蔽板
と、吸引した水やパーティクルを含む空気がバランサー
機構部に侵入しないように仕切板とを設けることによっ
て、ウェーハにパーティクルを再付着することなく歩留
り低下を防止する効果がある。また、可動部に水分やパ
ーティクルが侵入することがないので、可動部のかじり
や錆の発生がなくなり長期間の運転が可能となった。
あるバランサー機構部を乾燥室に露呈することなく遮蔽
しく乾燥室から空気を吸引するポンプ機能をもつ遮蔽板
と、吸引した水やパーティクルを含む空気がバランサー
機構部に侵入しないように仕切板とを設けることによっ
て、ウェーハにパーティクルを再付着することなく歩留
り低下を防止する効果がある。また、可動部に水分やパ
ーティクルが侵入することがないので、可動部のかじり
や錆の発生がなくなり長期間の運転が可能となった。
【図１】本発明のウェーハ乾燥装置の一実施例を示す模
式断面図および遮蔽板の部分平面図である。
式断面図および遮蔽板の部分平面図である。
【図２】従来のウェーハ乾燥装置の一例を示す模式断面
図および部分破断斜視図である。
図および部分破断斜視図である。
１ 遮蔽板 ２ クレードル ３ バランサー機構部 ３ａ 偏心カム ３ｂ 偏心カム駆動軸 ４ 蓋 ５，５ａ 乾燥室 ５ｂ 隔離室 ５ｃ 空間部 ６ 収納箱 ７ 排気口 ７ａ 排出口 ８ ターンテーブル ９ 支持部 １０ 回転軸 １１ 羽根 １２ 仕切板 １３ シール １４ 溝 １５ 傾斜部
Claims (1)
- 【請求項１】 複数のウェーハを収納する収納箱を収納
し水平回転中心に対向し配置され支持部材に垂直揺動自
在に取付けられる複数のクレードルと、これらクレード
ルを前記支持部材を介して取付け水平回転させるターン
テーブルと、前記クレードルを包むように囲む乾燥室
と、前記ターンテーブルの回転バランスをとるために前
記クレードルを支持する前記支持部材を回転半径方向に
移動させ調節するバランサー機構部とを備えるウェーハ
乾燥装置において、前記支持部材のそれぞれに取付けら
れ前記水平回転中心近傍で互に重ね合せ前記バランサー
機構部を覆うように構成されるとともに外周縁部が前記
乾燥室の側壁まで伸びかつ該外周縁部に複数の羽根が並
べ取付けられた円盤状の遮蔽板と、この遮蔽板で仕切ら
れ前記バランサー機構部を包む空間部を形成する仕切板
を有するとともに前記遮蔽板の回転による前記羽根のポ
ンプ作用で前記乾燥室内から空気を吸引し前記仕切板の
外壁を経由し外部へ排出する排出口をもつ隔離室とを備
えることを特徴とするウェーハ乾燥装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6322663A JP2604561B2 (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | ウェーハ乾燥装置 |
| US08/569,723 US5667535A (en) | 1994-12-26 | 1995-12-08 | Wafer drying apparatus with balancing mechanism for turntable therein |
| TW084113510A TW313671B (ja) | 1994-12-26 | 1995-12-18 | |
| KR1019950054988A KR0178376B1 (ko) | 1994-12-26 | 1995-12-22 | 턴테이블용 균형 기구부를 갖춘 웨이퍼 건조 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6322663A JP2604561B2 (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | ウェーハ乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08181099A JPH08181099A (ja) | 1996-07-12 |
| JP2604561B2 true JP2604561B2 (ja) | 1997-04-30 |
Family
ID=18146217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6322663A Expired - Fee Related JP2604561B2 (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | ウェーハ乾燥装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5667535A (ja) |
| JP (1) | JP2604561B2 (ja) |
| KR (1) | KR0178376B1 (ja) |
| TW (1) | TW313671B (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3556043B2 (ja) * | 1996-03-19 | 2004-08-18 | 株式会社荏原製作所 | 基板乾燥装置 |
| JP3624054B2 (ja) * | 1996-06-18 | 2005-02-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置および処理方法 |
| US6633550B1 (en) * | 1997-02-20 | 2003-10-14 | Telefonaktiebolaget Lm Ericsson (Publ) | Radio transceiver on a chip |
| US5974681A (en) * | 1997-09-10 | 1999-11-02 | Speedfam-Ipec Corp. | Apparatus for spin drying a workpiece |
| US6543461B2 (en) * | 1999-02-11 | 2003-04-08 | Nova Measuring Instruments Ltd. | Buffer system for a wafer handling system field of the invention |
| KR100360402B1 (ko) * | 2000-03-22 | 2002-11-13 | 삼성전자 주식회사 | 회전성 분사노즐을 구비하는 웨이퍼 건조 장치 및 이를이용한 웨이퍼 건조 방법 |
| US6528955B1 (en) | 2000-03-30 | 2003-03-04 | Q2100, Inc. | Ballast system for a fluorescent lamp |
| CN101730924B (zh) * | 2007-06-26 | 2013-02-13 | Afco有限公司 | 用于硅基电路的干燥设备及方法 |
| CN114027525B (zh) * | 2021-11-25 | 2022-10-28 | 爱可道生物科技有限公司 | 一种翻转式带有平铺结构的朝鲜蓟叶片用沥干设备 |
| CN114485108B (zh) * | 2021-12-31 | 2023-09-05 | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 | 一种基于自动配重的多晶圆旋转干燥系统及干燥方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60154624A (ja) * | 1984-01-25 | 1985-08-14 | Hitachi Ltd | ウエ−ハ乾燥装置 |
| US4777732A (en) * | 1986-06-12 | 1988-10-18 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Wafer centrifugal drying apparatus |
| JPH069501Y2 (ja) * | 1988-09-27 | 1994-03-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板の回転乾燥装置 |
| KR950007111Y1 (ko) * | 1992-08-31 | 1995-08-28 | 김주용 | 반도체 웨이퍼 건조장치 |
-
1994
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