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JP2692411B2 - 高周波による食品の解凍および食品の低温加熱方法 - Google Patents

高周波による食品の解凍および食品の低温加熱方法

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JP2692411B2
JP2692411B2 JP3094012A JP9401291A JP2692411B2 JP 2692411 B2 JP2692411 B2 JP 2692411B2 JP 3094012 A JP3094012 A JP 3094012A JP 9401291 A JP9401291 A JP 9401291A JP 2692411 B2 JP2692411 B2 JP 2692411B2
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JP
Japan
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food
irradiation
high frequency
time
heating
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JP3094012A
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章子 森
和夫 山下
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Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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  • General Preparation And Processing Of Foods (AREA)
  • Freezing, Cooling And Drying Of Foods (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高周波で冷凍食品の解
凍や真空低温調理の加熱などを行なう方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、冷凍食品の解凍は自然解凍、冷蔵
凍あるいは高周波解凍などの方法が用いられてい
た。このうち高周波解凍は短時間で解凍ができることが
知られている。しかし高周波解凍は高周波の分布ムラに
よる解凍ムラや、食品の形状により食品の一部が先に解
凍されると氷と水との誘電体損失の違いにより解凍され
た部分に高周波が集中しその部分がさらに加熱され、煮
えてしまうことがあった。この問題を解決するために例
えば特公平2−11229号公報などに示されるように
食品の加熱状況に応じて高周波の出力を3段階に区分
し、各区分毎に高周波出力を設定し食品の種類や量など
により各区分に時間を計算し解凍する方法が行なわれる
ようになってきた。
【0003】一方、真空低温調理法は最近開発された方
法で、食材を真空パックしこの状態で火入れ(加熱)処
理を行なう方法で、野菜や果樹類は85〜95℃で、肉
類は58〜68℃の温度で長時間かけて調理し食べる
か、調理後低温で保存し食べるとき再加熱して食べるか
する方法である。この調理方法は低温で調理するため食
材の風味が生かされかつ保存が可能なため急速に普及し
つつある方法である。しかし、この調理方法では調理時
あるいは再加熱時の保温制御が難しく、高周波加熱では
温度分布が大きくなり不適当といわれてきた。そのため
真空低温調理の加熱は温水または蒸気オーブンの温度を
調節しながら行なわれてきた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ような方法では後述の課題があった。
【0005】すなわち、解凍を行なう場合、前記のごと
く3段階で高周波を照射することにより煮えの問題はほ
とんど解決されるが、この方法でも食品の種類や重量な
どにより高周波出力と時間とをうまく設定できず温度分
布が大きくなり煮えてしまうという課題があった。これ
は現在解凍器に用いられている高周波の出力が図5に示
すようになっているからである。すなわち、高、中、低
の3段階に出力が分かれていても各段階での照射時の照
射強度すなわち高周波の単位時間あたりの照射出力は同
じである。異なるのは照射時間又は照射時間と休止時間
との間隔が異なるだけである。図5で各段階の所用時間
0における高周波の照射強度はすべて同じw0であるが
照射時間および照射停止時間は各段階ごとで異なってい
る。このため、ある箇所がある一定時間照射された直後
ではその箇所の受けるエネルギー量は高、中、低で差は
ない。したがって、照射を受けた部分は熱伝導、対流、
輻射による熱放散以外はその部分の温度上昇となる。ミ
クロ的に見るとその部分の温度上昇は高くこの温度で食
品の構成要素の一部が変化してしまうからだと考えられ
る。
【0006】また、真空低温調理物の加熱を湯煎または
蒸気オーブンで行なうと、加熱は外部より行なわれるの
で所定の温度に達するのに時間がかかる。このため高周
波加熱することが考えられるが真空低温調理のようにい
ろいろの食材より成る調理物を高周波照射すると、食材
により高周波をよく吸収するものやそうでないものが含
まれているため温度上昇が異なり、調理物内に大きな温
度分布ができ、なかなか実用に供せられないという課題
があった。
【0007】本発明は前記課題を解決し、温度分布の生
じにくい高周波加熱法を提供しようとするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明は高周波の照射と停止とを繰り返して食品を
加熱する方法において、3±0.75秒の時間範囲内で
高周波の照射を行ない解凍や加熱を行なう方法である。
【0009】
【作用】本発明は、前記方法により温度分布を小さくす
ることができる。
【0010】すなわち、食品に高周波を照射すると照射
された部分は加熱され温度が上昇する。3±0.75秒
照射するとその部分の温度は上昇するが、この程度の照
射時間では部分の温度にそれほど差は生ぜず次の照射停
止時間の間の熱拡散により温度差はほとんど無くなる。
このような状態の繰り返しにより大きな温度差をつくる
ことなく食品の解凍または加熱をすることができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の一実施例を添付図面にもとず
いて説明する。
【0012】実施例 1 通常、冷凍食品を解凍する場合図1のように大きな3つ
の段階がある。すなわち、第1段階は温度がー5℃以下
の段階、第2段階は温度がー5〜0℃の範囲の段階、第
3段階は温度が0℃以上の段階である。
【0013】第1段階の温度ー5℃以下では冷凍食品の
誘電損失が少なく高周波の通り易い状態である。すなわ
ち、高周波の吸収も少なく、かつ高周波半減深度(高周
波が初期の強度の半分になるまでに物体中を進んだ距
離)も大きいため被解凍物の表面と中央とではあまり温
度差が発生しない。そのため、この段階では解凍を速く
するため高出力を照射する。第2段階の温度範囲は最大
氷結晶生成帯であり、水から氷への相転移に必要な約8
0カロリー/グラムの熱量を必要とするため、解凍中一
番エネルギー消費の多い段階である。被解凍物の表面と
中央とで温度差が発生しやすく、表面が融解すると前記
理由により表面温度はますますあがり氷の融解により生
じた水分が食品中にとどまることができず、外部へうま
味成分と一緒に流失する危険がある。したがって、温度
差が生じないように第1段階より出力をおとし時間をか
けて解凍する。第3段階では解凍がほぼ終了し水の比熱
で温度上昇する段階で誘電損失も大きく高周波の吸収も
大きいので、第2段階よりもさらに出力をさげる。
【0014】前記3段階で解凍するわけであるが、本発
明において解凍にあたって高周波の照射時間を各段階と
も3秒を基準としている点である。出力の高低は照射停
止時間の長短よりきめる。基準時間3秒は実験的に得ら
れた数であるが、これは被解凍物に高周波を照射した
場合、前記理由により被照射の温度上昇が煮えなどを起
こさない時間であり、次の照射停止時間の間に熱が拡散
し温度が均一になりやすい時間のためと考えられる。た
だし、食品の種類・形状・量などにより若干基準時間が
変わる。この時間は実験的には3秒の±20%、すなわ
ち±0.75秒位である。これよりも長時間、すなわち
3.75秒よりも長い時間になると表面の温度分布およ
び内部との温度差がおおきくなった。また、2.15秒
より短い時間になると解凍時間が長くなり高周波解凍の
利点が少なくなる。
【0015】以下実施例を示す。上下に高周波の給電口
を有する出力500Wの高周波加熱装置に冷凍食品を挿
入し高周波照射により解凍をな行なった。図2はその時
の表面温度と中央部温度との時間変化を示したものであ
る。解凍方法は高周波出力を第1〜第3段階の3段階に
わけた。本発明の特徴は各段階毎の高周波照射時間が定
格出力で3秒照射した後、一定時間照射を停止しさらに
次に3秒間照射と一定時間照射を停止するというように
照射時間3秒と照射停止時間とを繰り返して加熱する方
法である。すなわち、図2に示す各段階での照射時間t
1を3秒としたことである。各段階の出力はその段階の
照射時間の合計すなわち3×照射回数をその段階に要し
た時間で除したものである。第1段階、第2段階、第3
段階の順に照射停止時間が長くなるので、前記順に単位
時間あたりの出力は低下したことになる。ただし図2に
おいては各段階で同一段階内での照射時間は一定にして
あるが、これは必ずしも一定でなくてよい。また、各段
階の間に照射停止時間を設けているがこれは表面温度と
中央ぶ温度との差を小さくするために設けたものであ
り、冷凍食品の量や形により必ずしも設ける必要がな
い。前記条件は食品の種類や量などにより実験的にもと
めた係数を高周波加熱装置にインプットする事により容
易にプログラミングすることができる。
【0016】実施例 2 真空低温調理は一般にチルドで保存され、食べるときに
約60℃まで昇温する。高周波加熱の場合食材は表面と
内部とが同時に加熱されるため量によって若干異なるが
所用時間は数10秒から数分程度であり、湯煎または蒸
気オーブンで再加熱した場合に比し1/5〜1/10の
時間で再加熱することができる。
【0017】図3に高周波加熱装置のブロック図を示
す。被加熱物を挿入する加熱室1の上下に給電口2、3
を設け、高周波発生装置4で発生した高周波を被加熱物
の上下より照射する。操作部は解凍、低温調理などの
調理の種類と食品の量などの加熱条件を選択するキーボ
ードよりなり、これらを設定すとこの設定にしたがい制
御部が高周波発生装置4の出力を制御する。
【0018】図4は上下に高周波の給電口を有する出力
500Wの高周波加熱装置に真空低温調理食品を挿入し
高周波照射により加熱を行なった場合の照射の仕方と表
面温度と中央部の温度との関係を示す。本発明の特徴と
するところは、最初は照射停止時間の短いいわゆる高出
力で照射し食材の温度を上げた後照射停止時間をとり表
面と内部との温度の均一を図り、さらに照射停止時間の
長いいわゆる低出力で照射し食材を所定の温度にしたこ
とと、照射時間t1をいずれも3秒を基準としたことで
ある。
【0019】これは食材の温度が0℃以上であるため高
周波の吸収がよく、かつ高周波半減深度が短いため高周
波が照射された部分と非照射部分とでは温度差が大きく
なり易く特にある部分が長く照射されるとその部分の温
度が上がり軟化し形くずれがおこったり、食材の風味が
低下したりするためである。照射時間3秒は吸収する熱
と放散する熱との平衡がよく前記形崩れや部分的に温度
が上がりすぎない時間である。ただしこの時間は食品の
種類・形状・量などにより若干基準時間が変わる。この
時間は実験的には3秒の±20%、すなわち±0.75
秒位である。これよりも長時間、すなわち3.75秒よ
りも長い時間になると表面の温度分布および内部との温
度差がおおきくなった。また、2.15秒より短い時間
になると加熱時間が長くなり高周波加熱の利点が小さく
なる。
【0020】また、高出力と低出力との間に照射停止時
間を設けたのは前記のように表面と内部との温度差を小
さくするためであり食材の形状や量によっては必ずしも
設ける必要がない。
【0021】
【発明の効果】以上のように、本発明の高周波による食
品の解凍および食品の低温加熱方法によれば、次の効果
が得られる。
【0022】(1)一回の高周波の照射時間を3±0.
75秒としているため、表面と中央部との温度差が小さ
いことは勿論のこと、うま味成分であるドリップ流失量
が少なく過加熱による部分的な煮えなどが生じることな
く解凍を行なうことができる。
【0023】(2)一回の高周波の照射時間を3±0.
75秒としているため、表面と中央部との温度差が小さ
いことは勿論のこと、過加熱による形くずれが起こるこ
となく加熱する事ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】加熱時間と冷凍食品の温度との関係を示す図
【図2】本発明の高周波照射方法の一例による解凍時の
温度変化特性図
【図3】高周波加熱装置のブロック図
【図4】本発明の高周波照射方法の一例による加熱時食
品の温度変化特性図
【図5】従来の高周波照射方法の一例を示す図

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】高周波の照射と停止とを繰り返して食品を
    解凍する場合、3±0.75秒の時間範囲内で高周波の
    照射を行なう高周波による食品の解凍方法。
  2. 【請求項2】−5℃以下の第1段階、−5〜0℃の範囲
    の第2段階および0℃以上の3段階からなる解凍方法に
    おいて各段階での停止時間が異なる請求項1記載の高周
    波による食品の凍方法。
  3. 【請求項3】高周波の照射と停止とを繰り返して食品を
    加熱する場合、3±0.75秒の時間範囲内で高周波の
    照射を行なう高周波による食品の低温加熱方法。
  4. 【請求項4】真空包装された食品を加熱室に収納し、前
    記食品に高周波エネルギーを照射して前記食品100℃
    以下の温度に加熱する食品の加熱方法において高周波エ
    ネルギー照射と停止とを繰り返して食品を加熱する場
    合、3±0.75秒の時間範囲で高周波エネルギーの照
    射を行なう高周波による食品の低温加熱方法。
  5. 【請求項5】高周波エネルギーの照射と停止とを繰り返
    して食品を加熱する食品の加熱方法において、加熱の初
    期段階と最終段階とでは高周波エネルギーの停止時間が
    異なることを特徴とする請求項4記載の高周波による食
    品の低温加熱方法。
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