JP2502571B2 - 変位発生用アクチユエ−タの変位検出装置 - Google Patents
変位発生用アクチユエ−タの変位検出装置Info
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- JP2502571B2 JP2502571B2 JP62054147A JP5414787A JP2502571B2 JP 2502571 B2 JP2502571 B2 JP 2502571B2 JP 62054147 A JP62054147 A JP 62054147A JP 5414787 A JP5414787 A JP 5414787A JP 2502571 B2 JP2502571 B2 JP 2502571B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、変位機構において変位、特に微小変位を発
生させるのに用いられるアクチユエータの変位を検出す
る変位発生用アクチユエータの変位検出装置に関する。
生させるのに用いられるアクチユエータの変位を検出す
る変位発生用アクチユエータの変位検出装置に関する。
〔従来の技術〕 ある物体は高い精度で変位させる装置が、多くの技術
分野において用いられている。特に、半導体製造装置、
高倍率光学装置等においては、μｍ又はサブμｍオーダ
の微細な変位が要求されるので、高精度の変位が必要と
なる。以下、従来の変位装置の一例を図により説明す
る。
分野において用いられている。特に、半導体製造装置、
高倍率光学装置等においては、μｍ又はサブμｍオーダ
の微細な変位が要求されるので、高精度の変位が必要と
なる。以下、従来の変位装置の一例を図により説明す
る。
第２図は従来の変位装置の系統図である。図で、１は
支持台、２は変位対象物体が載置される微動テーブル、
3a,3bは支持台１と微動テーブル２とを連結する板状又
は線状のばねである。ばね3a,3bは互いに平行に配置さ
れている。４は支持台１の垂直部に固定された圧電アク
チユエータであり、多数の圧電素子を積層して構成され
ている。５は圧電アクチユエータ４の自由端に結合され
た連結部であり、微動テーブル２と圧電アクチユエータ
４とを連結する。６は微動テーブル２の先端に取付けら
れたミラーである。
支持台、２は変位対象物体が載置される微動テーブル、
3a,3bは支持台１と微動テーブル２とを連結する板状又
は線状のばねである。ばね3a,3bは互いに平行に配置さ
れている。４は支持台１の垂直部に固定された圧電アク
チユエータであり、多数の圧電素子を積層して構成され
ている。５は圧電アクチユエータ４の自由端に結合され
た連結部であり、微動テーブル２と圧電アクチユエータ
４とを連結する。６は微動テーブル２の先端に取付けら
れたミラーである。
このような変位装置において、圧電アクチユエータ４
に所定の電圧を印加すると、圧電アクチユエータ４はそ
の電圧に応じて図の左方へ伸長する。これにより、微動
テーブル２は連結部５を介して左方に押され、ばね3a,3
bがたわむことにより微動テーブル２は左方に変位す
る。したがつて、その上に載置された変位対象物体を変
位させることができる。圧電アクチユエータ４に印加さ
れた電圧を除くと、微動テーブル２は元の位置に復帰す
る。微動テーブル２の変位量は圧電アクチユエータ４に
印加する電圧により調節することができる。
に所定の電圧を印加すると、圧電アクチユエータ４はそ
の電圧に応じて図の左方へ伸長する。これにより、微動
テーブル２は連結部５を介して左方に押され、ばね3a,3
bがたわむことにより微動テーブル２は左方に変位す
る。したがつて、その上に載置された変位対象物体を変
位させることができる。圧電アクチユエータ４に印加さ
れた電圧を除くと、微動テーブル２は元の位置に復帰す
る。微動テーブル２の変位量は圧電アクチユエータ４に
印加する電圧により調節することができる。
ところで、圧電アクチユエータ４は大きなヒステリシ
スを有するので、電圧と変位量とが常に１対１には対応
せず、変位量の制御が困難である。第３図は上記圧電ア
クチユエータ４のヒステリシス特性を示し、横軸には圧
電アクチユエータ４に印加する電圧Ｖが、又、縦軸には
圧電アクチユエータ４の変位量ｕがとつてある。このよ
うなヒステリシス特性を有する圧電アクチユエータ４を
用いて高精度の変位を得るためには、圧電アクチユエー
タ４又は微動テーブル２の変位量を検出し、これをフイ
ードバツクして圧電アクチユエータ４の印加電圧を制御
する必要がある。第２図には、このような変位検出装置
および制御装置が示されている。以下、これら変位検出
装置および制御装置について説明する。
スを有するので、電圧と変位量とが常に１対１には対応
せず、変位量の制御が困難である。第３図は上記圧電ア
クチユエータ４のヒステリシス特性を示し、横軸には圧
電アクチユエータ４に印加する電圧Ｖが、又、縦軸には
圧電アクチユエータ４の変位量ｕがとつてある。このよ
うなヒステリシス特性を有する圧電アクチユエータ４を
用いて高精度の変位を得るためには、圧電アクチユエー
タ４又は微動テーブル２の変位量を検出し、これをフイ
ードバツクして圧電アクチユエータ４の印加電圧を制御
する必要がある。第２図には、このような変位検出装置
および制御装置が示されている。以下、これら変位検出
装置および制御装置について説明する。
第２図で、７はレーザ測長器であり、このレーザ測長
器７を用いて微動テーブル２の変位量を検出する。８は
レーザ光を出力するレーザヘツドであり、微動テーブル
２の端部のミラー６と対向して設けられる。９はレーザ
光の光路中に介在せしめられた干渉計であり、ビームス
プリツタ9a、λ/4番9b,9cおよび基準ミラー9dより成
る。10は入力する２つのレーザ光L1,L2の位相差を検出
し、その位相差に比例する電気信号を出力する位相差検
出部である。レーザヘツド８、干渉計９および位相差検
出部10によりレーザ測長器７が構成される。11は微動テ
ーブル２の目標変位量を設定する設定器であり、設定さ
れた目標変位量に比例した電気信号u0が出力される。12
は位相差検出部10から出力された変位量に比例する電気
信号ｕと目標変位量u0とに基づいてフイードバツク制御
を行なう制御部である。制御部12の出力電圧Ｖは圧電ア
クチユエータに印加される。
器７を用いて微動テーブル２の変位量を検出する。８は
レーザ光を出力するレーザヘツドであり、微動テーブル
２の端部のミラー６と対向して設けられる。９はレーザ
光の光路中に介在せしめられた干渉計であり、ビームス
プリツタ9a、λ/4番9b,9cおよび基準ミラー9dより成
る。10は入力する２つのレーザ光L1,L2の位相差を検出
し、その位相差に比例する電気信号を出力する位相差検
出部である。レーザヘツド８、干渉計９および位相差検
出部10によりレーザ測長器７が構成される。11は微動テ
ーブル２の目標変位量を設定する設定器であり、設定さ
れた目標変位量に比例した電気信号u0が出力される。12
は位相差検出部10から出力された変位量に比例する電気
信号ｕと目標変位量u0とに基づいてフイードバツク制御
を行なう制御部である。制御部12の出力電圧Ｖは圧電ア
クチユエータに印加される。
次に、上記測長器７および制御部12の動作の概略を説
明する。レーザヘツド８からのレーザ光はビームスプリ
ツタ9aに入力したとき２つの方向に分離される。その一
方は、λ/4板9bを通り基準ミラー9dで反射し、ビームス
プリツタ9aを通つてレーザ光L1となつて外部に出力され
る。又、他方は、λ/4板9cを通りミラー６で反射されビ
ームスプリツタ9aで曲げられ、レーザ光L2となつて外部
に出力される。レーザ光L1の光路は微動テーブル２の変
位の如何にかかわらず固定されている。
明する。レーザヘツド８からのレーザ光はビームスプリ
ツタ9aに入力したとき２つの方向に分離される。その一
方は、λ/4板9bを通り基準ミラー9dで反射し、ビームス
プリツタ9aを通つてレーザ光L1となつて外部に出力され
る。又、他方は、λ/4板9cを通りミラー６で反射されビ
ームスプリツタ9aで曲げられ、レーザ光L2となつて外部
に出力される。レーザ光L1の光路は微動テーブル２の変
位の如何にかかわらず固定されている。
今、設定器11に目標変位量が設定され、信号u0が出力
され、これに応じて圧電アクチユエータ４に電圧が印加
されると、前述のように微動テーブル２が変位する。こ
の変位とともにミラー６も変位するので、レーザ光L1の
光路が変化し、レーザ光L1に対して位相が変化する。こ
のとき、両レーザ光L1,L2の位相差は微動テーブル２の
変位量に比例する。位相差検出部10は当該位相差を検出
し、この位相差に比例した信号ｕ（微動テーブル２の変
位量に比例する信号）を出力する。制御部12ではこの信
号ｕと目標変位量信号u0とを比較し、さきに出力した電
圧に両者の差（u0−ｕ）に比例した電圧（正の電圧又は
負の電圧）を加算する。このフイードバツク制御により
信号u0と信号ｕは一致し、微動テーブル２の変位量は目
標変位量となる。レーザ測長器７の測定精度は極めて高
いので、微動テーブル２を高精度で変位させることがで
きる。
され、これに応じて圧電アクチユエータ４に電圧が印加
されると、前述のように微動テーブル２が変位する。こ
の変位とともにミラー６も変位するので、レーザ光L1の
光路が変化し、レーザ光L1に対して位相が変化する。こ
のとき、両レーザ光L1,L2の位相差は微動テーブル２の
変位量に比例する。位相差検出部10は当該位相差を検出
し、この位相差に比例した信号ｕ（微動テーブル２の変
位量に比例する信号）を出力する。制御部12ではこの信
号ｕと目標変位量信号u0とを比較し、さきに出力した電
圧に両者の差（u0−ｕ）に比例した電圧（正の電圧又は
負の電圧）を加算する。このフイードバツク制御により
信号u0と信号ｕは一致し、微動テーブル２の変位量は目
標変位量となる。レーザ測長器７の測定精度は極めて高
いので、微動テーブル２を高精度で変位させることがで
きる。
上記従来の変位装置はレーザ測長器７を用いることに
より高精度の変位を得ることができる。しかしながら、
変位装置には、第２図に示すものの他に種々の型のもの
があり、レーザ測長器７を変位装置に取付けるには、そ
の変位装置毎にその変位装置の外形、寸法にしたがつて
取付けねばならず、しかも精度の高い取付けが要望され
ていた。このため、その取付けには多大の手間と時間を
要し、かつ、変位装置全体の寸法が大きくなるという欠
点があつた。
より高精度の変位を得ることができる。しかしながら、
変位装置には、第２図に示すものの他に種々の型のもの
があり、レーザ測長器７を変位装置に取付けるには、そ
の変位装置毎にその変位装置の外形、寸法にしたがつて
取付けねばならず、しかも精度の高い取付けが要望され
ていた。このため、その取付けには多大の手間と時間を
要し、かつ、変位装置全体の寸法が大きくなるという欠
点があつた。
本発明の目的は、上記従来技術における課題を解決
し、変位装置の形状、寸法に影響されることなくレーザ
測長器を容易に取り付けることができる変位発生用アク
チユエータの変位検出装置を提供することにある。
し、変位装置の形状、寸法に影響されることなくレーザ
測長器を容易に取り付けることができる変位発生用アク
チユエータの変位検出装置を提供することにある。
上記の目的を達成するため、本発明は、固定部に固定
され、電気的入力により変位を発生する変位発生用アク
チュエータにおいて、この変位発生用アクチュエータを
筒状の中空の圧電アクチュエータで構成するとともに、
当該変位発生用アクチュエータの前記固定部と反対端に
固定された連結部と、前記固定部における前記変位発生
用アクチュエータの中空内の位置に固定された干渉計
と、前記連結部に前記干渉計と対向して備えられた反射
部と、前記変位発生用アクチュエータの外部に配置され
レーザ光を出力するレーザ光発生部と、前記変位発生用
アクチュエータの外部に配置され、前記レーザ光発生部
から前記干渉計へ導入されたレーザ光のうち当該乾燥計
で反射して出力されるレーザ光と前記干渉計へ導入され
たレーザ光のうち前記反射部に反射して出力されるレー
ザ光との間に位相差に比例した信号を出力する検出部と
を設けたことを特徴とする。
され、電気的入力により変位を発生する変位発生用アク
チュエータにおいて、この変位発生用アクチュエータを
筒状の中空の圧電アクチュエータで構成するとともに、
当該変位発生用アクチュエータの前記固定部と反対端に
固定された連結部と、前記固定部における前記変位発生
用アクチュエータの中空内の位置に固定された干渉計
と、前記連結部に前記干渉計と対向して備えられた反射
部と、前記変位発生用アクチュエータの外部に配置され
レーザ光を出力するレーザ光発生部と、前記変位発生用
アクチュエータの外部に配置され、前記レーザ光発生部
から前記干渉計へ導入されたレーザ光のうち当該乾燥計
で反射して出力されるレーザ光と前記干渉計へ導入され
たレーザ光のうち前記反射部に反射して出力されるレー
ザ光との間に位相差に比例した信号を出力する検出部と
を設けたことを特徴とする。
レーザ光発生部から出力されたレーザ光は、第１の光
導体を通つて干渉計に導かれ、干渉計で２方向に分離さ
れる。分離された一方のレーザ光は干渉計から第２の光
導体を通つて検出部に導かれ、又、他方のレーザ光は連
結部に設けられた反射部に反射された後干渉計、第２の
光導体を通つて検出部に導かれる。この状態で、変位発
生用アクチユエータが励起されると連結部が変位し、し
たがつて反射部も変位し、反射部で反射するレーザ光の
光路が変化する。この変化により、検出部に導かれる２
つのレーザ光の間に位相差が生じ、その位相差は前記連
結部の変位に比例する。検出部で当該位相差を検出する
ことにより連結部の変位を検出することができる。
導体を通つて干渉計に導かれ、干渉計で２方向に分離さ
れる。分離された一方のレーザ光は干渉計から第２の光
導体を通つて検出部に導かれ、又、他方のレーザ光は連
結部に設けられた反射部に反射された後干渉計、第２の
光導体を通つて検出部に導かれる。この状態で、変位発
生用アクチユエータが励起されると連結部が変位し、し
たがつて反射部も変位し、反射部で反射するレーザ光の
光路が変化する。この変化により、検出部に導かれる２
つのレーザ光の間に位相差が生じ、その位相差は前記連
結部の変位に比例する。検出部で当該位相差を検出する
ことにより連結部の変位を検出することができる。
以下、本発明を図示の実施例に基づいて説明する。
第１図は本発明の実施例に係る変位発生用アクチユエ
ータの変位検出装置の系統図である。図で、第２図に示
す部分と同一部分には同一符号を付して説明を省略す
る。13は変位装置の支持台に取付けられた固定部であ
り、貫通孔13a,13bが形成されている。固定部13の上面
には第２図に示すものと同様の干渉計９が固定されてい
る。14は積層形の圧電アクチユエータである。この圧電
アクチユエータ14は環状の圧電素子を多数積層して構成
され、したがつて積層された構造は中空構造体となつて
いる。15は圧電アクチユエータ14の上端部分に取り付け
られた連結部であり、微動テーブル、その他の外部機構
が取付けられる。16は連結部15の下面に取付けられたミ
ラーであり、圧電アクチユエータ14の中空部分を介して
干渉計９と対向する位置に配置される。17aはレーザヘ
ツド８と干渉計９の間に連結された光導体であり、固定
部13の貫通孔13aを通つて干渉計９に連結される。光導
体17aは例えば光フアイバーより成り、レーザヘツド８
から出力されたレーザ光を干渉計９に導く、17bは干渉
計９と位相差検出部10との間に連結された光導体であ
り、固定部13の貫通孔13bを通つて外部に導出される。
光導体17bは例えば光フアイバーより成り、干渉計９か
らのレーザ光を位相差検出部10に導く。
ータの変位検出装置の系統図である。図で、第２図に示
す部分と同一部分には同一符号を付して説明を省略す
る。13は変位装置の支持台に取付けられた固定部であ
り、貫通孔13a,13bが形成されている。固定部13の上面
には第２図に示すものと同様の干渉計９が固定されてい
る。14は積層形の圧電アクチユエータである。この圧電
アクチユエータ14は環状の圧電素子を多数積層して構成
され、したがつて積層された構造は中空構造体となつて
いる。15は圧電アクチユエータ14の上端部分に取り付け
られた連結部であり、微動テーブル、その他の外部機構
が取付けられる。16は連結部15の下面に取付けられたミ
ラーであり、圧電アクチユエータ14の中空部分を介して
干渉計９と対向する位置に配置される。17aはレーザヘ
ツド８と干渉計９の間に連結された光導体であり、固定
部13の貫通孔13aを通つて干渉計９に連結される。光導
体17aは例えば光フアイバーより成り、レーザヘツド８
から出力されたレーザ光を干渉計９に導く、17bは干渉
計９と位相差検出部10との間に連結された光導体であ
り、固定部13の貫通孔13bを通つて外部に導出される。
光導体17bは例えば光フアイバーより成り、干渉計９か
らのレーザ光を位相差検出部10に導く。
本実施例の動作は、第２図に示す装置の動作とほぼ同
じである。即ち、レーザヘツド８から出力されたレーザ
光は、光導体17aを通つて干渉計９に導かれる。干渉計
９に入つたレーザ光は２方向に分離され、一方のレーザ
光は基準ミラーに反射され、光導体17bを通つて位相差
検出部10に入力され、他方のレーザ光はミラー16に反射
され、光導体17bを通つて同じく位相差検出部10に入力
される。
じである。即ち、レーザヘツド８から出力されたレーザ
光は、光導体17aを通つて干渉計９に導かれる。干渉計
９に入つたレーザ光は２方向に分離され、一方のレーザ
光は基準ミラーに反射され、光導体17bを通つて位相差
検出部10に入力され、他方のレーザ光はミラー16に反射
され、光導体17bを通つて同じく位相差検出部10に入力
される。
今、設定器11に目標変位量が設定されると、これに応
じた信号u0が出力され、制御部12はこれに応じた電圧を
圧電アクチユエータ14に印加する。このため、圧電アク
チユエータ14は伸長し、連結部15が点線に示すように変
位量ｕだけ変位する。したがつて、連結部15に設けられ
たミラー16も同量ｕだけ変位する。このため、レーザ光
においてミラー16に反射するレーザ光の光路も値ｕだけ
変化し、基準ミラーに反射したレーザ光に対して位相差
を生じ、その位相差は値ｕに比例する。位相差検出部10
は上記２つの反射レーザ光を光導体17bを介して入力
し、それらの位相差を検出し、当該位相差に応じた信号
ｕを出力する。即ち、信号ｕは圧電アクチユエータ14の
変位量に正確に比例する。制御部12では信号ｕと信号u0
との差を演算し、さきに出力されている電圧にこの差に
応じた電圧を加算して圧電アクチユエータ14に印加す
る。このフイードバツク制御により、連結部15の変位は
設定器11に設定された目標変位量に一致する。
じた信号u0が出力され、制御部12はこれに応じた電圧を
圧電アクチユエータ14に印加する。このため、圧電アク
チユエータ14は伸長し、連結部15が点線に示すように変
位量ｕだけ変位する。したがつて、連結部15に設けられ
たミラー16も同量ｕだけ変位する。このため、レーザ光
においてミラー16に反射するレーザ光の光路も値ｕだけ
変化し、基準ミラーに反射したレーザ光に対して位相差
を生じ、その位相差は値ｕに比例する。位相差検出部10
は上記２つの反射レーザ光を光導体17bを介して入力
し、それらの位相差を検出し、当該位相差に応じた信号
ｕを出力する。即ち、信号ｕは圧電アクチユエータ14の
変位量に正確に比例する。制御部12では信号ｕと信号u0
との差を演算し、さきに出力されている電圧にこの差に
応じた電圧を加算して圧電アクチユエータ14に印加す
る。このフイードバツク制御により、連結部15の変位は
設定器11に設定された目標変位量に一致する。
このように、本実施例では、レーザヘツドから干渉計
へのレーザ光の導入、および干渉計から位相差検出部へ
のレーザ光の導出にそれぞれ光導体を用いたので、レー
ザヘツドおよび位相差検出部を、適用対象たる変位装置
の形状、寸法、配置状態等に応じて任意の位置に自由に
設置することができ、これにより、レーザ測長器を、変
位装置の形状、寸法に影響されることなく容易に取り付
けることができることとなり、かつ、レーザヘツドと位
相差検出部の配置位置を考慮することにより変位装置全
体の外形寸法を小さくすることができる。
へのレーザ光の導入、および干渉計から位相差検出部へ
のレーザ光の導出にそれぞれ光導体を用いたので、レー
ザヘツドおよび位相差検出部を、適用対象たる変位装置
の形状、寸法、配置状態等に応じて任意の位置に自由に
設置することができ、これにより、レーザ測長器を、変
位装置の形状、寸法に影響されることなく容易に取り付
けることができることとなり、かつ、レーザヘツドと位
相差検出部の配置位置を考慮することにより変位装置全
体の外形寸法を小さくすることができる。
又、圧電アクチユエータを中空構造体とし、その内部
にミラーと干渉計を取付けるようにしたので、圧電アク
チユエータの製造過程において両者を組込むことがで
き、測長器の取付けがさらに容易であり、かつ、外形寸
法もさらに小さくすることができるのは明らかである。
にミラーと干渉計を取付けるようにしたので、圧電アク
チユエータの製造過程において両者を組込むことがで
き、測長器の取付けがさらに容易であり、かつ、外形寸
法もさらに小さくすることができるのは明らかである。
なお、上記実施例の説明では、固定部を支持台と別に
設ける例について説明したが、支持台を固定部としても
よいのは当然である。さらに、連結部にミラーを取付け
る代りに、連結部に反射面を形成するようにしてもよ
い。さらに又、干渉計としては図示された構成に限るこ
とはなく、種々の型のものを用いることが可能である。
設ける例について説明したが、支持台を固定部としても
よいのは当然である。さらに、連結部にミラーを取付け
る代りに、連結部に反射面を形成するようにしてもよ
い。さらに又、干渉計としては図示された構成に限るこ
とはなく、種々の型のものを用いることが可能である。
以上述べたように、本発明では、レーザ光発生部と干
渉計との間、および干渉計と検出部との間を光導体で連
結し、レーザ光を導くようにしたので、レーザ光発生部
と検出部との設置個所を任意に選択することができ、こ
れにより、レーザ測長器を、変位装置の形状、寸法に影
響されることなく容易に取り付けることができることと
なり、かつ、変位装置全体の外形寸法を小形とすること
ができる。
渉計との間、および干渉計と検出部との間を光導体で連
結し、レーザ光を導くようにしたので、レーザ光発生部
と検出部との設置個所を任意に選択することができ、こ
れにより、レーザ測長器を、変位装置の形状、寸法に影
響されることなく容易に取り付けることができることと
なり、かつ、変位装置全体の外形寸法を小形とすること
ができる。
第１図は本発明の実施例に係る変位発生用アクチュエー
タの変位検出装置の系統図、第２図は従来の変位装置の
系統図、第３図は圧電アクチユエータのヒステリシス特
性図である。 ８……レーザヘツド、９……干渉計、10……位相差検出
部、13……固定部、14……圧電アクチユエータ、15……
連結部、16……ミラー、17a,17b……光導体
タの変位検出装置の系統図、第２図は従来の変位装置の
系統図、第３図は圧電アクチユエータのヒステリシス特
性図である。 ８……レーザヘツド、９……干渉計、10……位相差検出
部、13……固定部、14……圧電アクチユエータ、15……
連結部、16……ミラー、17a,17b……光導体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野 耕三 土浦市神立町650番地 日立建機株式会 社土浦工場内 (56)参考文献 特開 昭54−53772（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−72135（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−208485（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】固定部に固定され、電気的入力により変位
を発生する変位発生用アクチュエータにおいて、この変
位発生用アクチュエータを筒状の中空の圧電アクチュエ
ータで構成するとともに、当該変位発生用アクチュエー
タの前記固定部と反対端に固定された連結部と、前記固
定部における前記変位発生用アクチュエータの中空内の
位置に固定された干渉計と、前記連結部に前記干渉計と
対向して備えられた反射部と、前記変位発生用アクチュ
エータの外部に配置されレーザ光を出力するレーザ光発
生部と、前記変位発生用アクチュエータの外部に配置さ
れ、前記レーザ光発生部から前記干渉計へ導入されたレ
ーザ光のうち当該干渉計で反射して出力されるレーザ光
と前記干渉計へ導入されたレーザ光のうち前記反射部に
反射して出力されるレーザ光との間の位相差に比例した
信号を出力する検出部とを設けたことを特徴とする変位
発生用アクチュエータの変位検出装置。 - 【請求項２】請求項１において、前記圧電アクチュエー
タは、積層型の圧電アクチュエータであることを特徴と
する変位発生用アクチュエータの変位検出装置。 - 【請求項３】請求項１において、前記干渉計へのレーザ
光の導入および前記検出部へのレーザ光の導出は、光導
体を介して行うことを特徴とする変位発生用アクチュエ
ータの変位検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62054147A JP2502571B2 (ja) | 1987-03-11 | 1987-03-11 | 変位発生用アクチユエ−タの変位検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62054147A JP2502571B2 (ja) | 1987-03-11 | 1987-03-11 | 変位発生用アクチユエ−タの変位検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63222204A JPS63222204A (ja) | 1988-09-16 |
| JP2502571B2 true JP2502571B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=12962441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62054147A Expired - Lifetime JP2502571B2 (ja) | 1987-03-11 | 1987-03-11 | 変位発生用アクチユエ−タの変位検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2502571B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10338483B2 (en) | 2016-02-25 | 2019-07-02 | Asml Netherlands B.V. | Actuator system and lithographic apparatus |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7762119B2 (en) * | 2006-11-30 | 2010-07-27 | Corning Incorporated | Method and apparatus for distortion measurement imaging |
| ATE549597T1 (de) | 2007-10-04 | 2012-03-15 | Attocube Systems Ag | Vorrichtung zur positionserfassung |
| CN110044530A (zh) * | 2019-04-12 | 2019-07-23 | 金华职业技术学院 | 一种高精度应力测量方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5453772A (en) * | 1977-10-06 | 1979-04-27 | Mitsubishi Precision Co Ltd | Direct operated actuator |
| JPS5972135A (ja) * | 1982-10-18 | 1984-04-24 | Hitachi Ltd | 超精密ｘｙ移動装置 |
-
1987
- 1987-03-11 JP JP62054147A patent/JP2502571B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10338483B2 (en) | 2016-02-25 | 2019-07-02 | Asml Netherlands B.V. | Actuator system and lithographic apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63222204A (ja) | 1988-09-16 |
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