JP2567811B2 - 走査型露光装置 - Google Patents
走査型露光装置Info
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- JP2567811B2 JP2567811B2 JP6040376A JP4037694A JP2567811B2 JP 2567811 B2 JP2567811 B2 JP 2567811B2 JP 6040376 A JP6040376 A JP 6040376A JP 4037694 A JP4037694 A JP 4037694A JP 2567811 B2 JP2567811 B2 JP 2567811B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- optical system
- wafer
- mask
- transfer optical
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工程で使用
する走査型露光装置に関するものである。
する走査型露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体集積回路等を製造のための転写工
程では、マスクのパターンをウエハーに転写する前に、
マスクとウエハーを正確に整合することが要求される。
程では、マスクのパターンをウエハーに転写する前に、
マスクとウエハーを正確に整合することが要求される。
【０００３】マスクとウエハーを整合するための方法と
しては、例えば図１(a) に示すアライメントマーク１を
マスクに設け、図１(b) に示すアライメントマーク２を
ウエハーに設けると共に、アライメントマーク１、２を
図１(c) に示すように、つまりアライメントマーク１の
間にアライメントマーク２が等間隔で位置するようにマ
スクとウエハーを相対移動して、マスクとウエハーを整
合する方法が知られている。
しては、例えば図１(a) に示すアライメントマーク１を
マスクに設け、図１(b) に示すアライメントマーク２を
ウエハーに設けると共に、アライメントマーク１、２を
図１(c) に示すように、つまりアライメントマーク１の
間にアライメントマーク２が等間隔で位置するようにマ
スクとウエハーを相対移動して、マスクとウエハーを整
合する方法が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
このような方法では、転写倍率や転写歪等による転写誤
差を補正することが困難である。また、光電測定装置で
マスクとウエハーのそれぞれに設けられているマークが
実際に位置合わせされたことが検出されるまで、マスク
とウエハーの間に介在されている結像対物レンズやウエ
ハーを、結像対物レンズの光軸方向に移動させることに
より所望の調整を行うことが、例えば特公昭４９−２２
５８７号公報で知られている。しかし、この方法は光電
測定装置で各マークを常に検出しながら、結像対物レン
ズやウエハーを光軸方向に移動させることが必要となる
ため、光電測定装置の測定処理動作と、結像対物レンズ
やウエハーを光軸方向に移動させる際の移動動作の間
で、常に一方が他方に干渉するので、調整を行うことが
困難となる。
このような方法では、転写倍率や転写歪等による転写誤
差を補正することが困難である。また、光電測定装置で
マスクとウエハーのそれぞれに設けられているマークが
実際に位置合わせされたことが検出されるまで、マスク
とウエハーの間に介在されている結像対物レンズやウエ
ハーを、結像対物レンズの光軸方向に移動させることに
より所望の調整を行うことが、例えば特公昭４９−２２
５８７号公報で知られている。しかし、この方法は光電
測定装置で各マークを常に検出しながら、結像対物レン
ズやウエハーを光軸方向に移動させることが必要となる
ため、光電測定装置の測定処理動作と、結像対物レンズ
やウエハーを光軸方向に移動させる際の移動動作の間
で、常に一方が他方に干渉するので、調整を行うことが
困難となる。
【０００５】本発明の目的は、マウスとウエハとの迅速
で正確な位置合わせを可能にした走査型露光装置を提供
することにある。
で正確な位置合わせを可能にした走査型露光装置を提供
することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の第１発明に係る走査型露光装置は、転写光学系に対し
てマスクとウエハーを走査することにより、前記転写光
学系を介して前記マスクのパターンを前記ウエハー上に
転写する走査型露光装置において、前記転写光学系に対
する前記走査方向の傾きを検出し、該傾きを補正する位
置合わせ手段を有することを特徴とする。
の第１発明に係る走査型露光装置は、転写光学系に対し
てマスクとウエハーを走査することにより、前記転写光
学系を介して前記マスクのパターンを前記ウエハー上に
転写する走査型露光装置において、前記転写光学系に対
する前記走査方向の傾きを検出し、該傾きを補正する位
置合わせ手段を有することを特徴とする。
【０００７】また第２発明に係る走査型露光装置は、走
査露光を行うための転写光学系と、該転写光学系を介し
てマスク側のアライメントマークとウエハー側のアライ
メントマークを光電検出して両者間の位置誤差を検出す
る光電検出器と、前記マスクとウエハーを前記転写光学
系に対して走査する走査機構を有し、走査方向に沿って
複数の前記マスク側アライメントマークと前記ウエハー
側アライメントマークをそれぞれ設け、前記走査機構に
よって前記マスクとウエハーを前記転写光学系に対して
走査することにより、前記マスク側アライメントマーク
と前記ウエハー側アライメントマークの各組の位置誤差
を前記光電検出器により順次に検出し、検出された各組
ごとの位置誤差を用いて前記走査方向の前記転写光学系
に対する傾きを求めることを特徴とする。
査露光を行うための転写光学系と、該転写光学系を介し
てマスク側のアライメントマークとウエハー側のアライ
メントマークを光電検出して両者間の位置誤差を検出す
る光電検出器と、前記マスクとウエハーを前記転写光学
系に対して走査する走査機構を有し、走査方向に沿って
複数の前記マスク側アライメントマークと前記ウエハー
側アライメントマークをそれぞれ設け、前記走査機構に
よって前記マスクとウエハーを前記転写光学系に対して
走査することにより、前記マスク側アライメントマーク
と前記ウエハー側アライメントマークの各組の位置誤差
を前記光電検出器により順次に検出し、検出された各組
ごとの位置誤差を用いて前記走査方向の前記転写光学系
に対する傾きを求めることを特徴とする。
【０００８】
【作用】上述の構成を有する本発明に係る走査型露光装
置は、位置合わせ手段によりマスクとウエハーの走査方
向の傾きを検出し、この傾きを補正する。
置は、位置合わせ手段によりマスクとウエハーの走査方
向の傾きを検出し、この傾きを補正する。
【０００９】また、第２発明に係る走査型露光装置は、
走査によりマスクアライメントマークとウエハーアライ
メントマークの位置誤差を検出し、この位置誤差を基に
転写光学系に対する傾きを求める。
走査によりマスクアライメントマークとウエハーアライ
メントマークの位置誤差を検出し、この位置誤差を基に
転写光学系に対する傾きを求める。
【００１０】
【実施例】図２は本発明の光学的な構成図であり、レー
ザ光源１０から発せられるレーザ光Ｌの光路に沿って、
順次にコンデンサレンズ１１、レーザ光を走査するため
のポリゴン鏡１２、ｆ・θ特性レンズ１３、ハーフミラ
ー１４、対物レンズ１５、複数個所に正確なアライメン
トマーク１を有する標準マスク１６、転写光学系１７、
複数個所に正確なアライメントマーク２を有する標準ウ
エハー１８が配列されている。また、マスク１６等から
の反射光の一部はハーフミラー１４で側方に反射され、
この反射光の光路に沿ってコンデンサレンズ１９、光電
変換素子２０が配置され、光電変換素子２０の出力によ
り所定の演算式に基づいて測定量を演算し制御信号を出
力する演算処理回路２１を介して、転写光学系１７の倍
率調整を実施する調整駆動機構２２に接続されている。
標準マスク１６と標準ウエハー１８は、調整に際して転
写装置に取り付けられるものであり、実際の転写時には
他のマスク、ウエハーに交換される。
ザ光源１０から発せられるレーザ光Ｌの光路に沿って、
順次にコンデンサレンズ１１、レーザ光を走査するため
のポリゴン鏡１２、ｆ・θ特性レンズ１３、ハーフミラ
ー１４、対物レンズ１５、複数個所に正確なアライメン
トマーク１を有する標準マスク１６、転写光学系１７、
複数個所に正確なアライメントマーク２を有する標準ウ
エハー１８が配列されている。また、マスク１６等から
の反射光の一部はハーフミラー１４で側方に反射され、
この反射光の光路に沿ってコンデンサレンズ１９、光電
変換素子２０が配置され、光電変換素子２０の出力によ
り所定の演算式に基づいて測定量を演算し制御信号を出
力する演算処理回路２１を介して、転写光学系１７の倍
率調整を実施する調整駆動機構２２に接続されている。
標準マスク１６と標準ウエハー１８は、調整に際して転
写装置に取り付けられるものであり、実際の転写時には
他のマスク、ウエハーに交換される。
【００１１】レーザ光源１０から発せられたレーザ光Ｌ
はポリゴン鏡１２によって走査され、ハーフミラー１４
を通過し標準マスク１６等に向かう。標準マスク１６の
アライメントマーク１と標準ウエハー１８のアライメン
トマーク２とは転写光学系１７を介してレーザ光Ｌによ
って走査され、アライメントマーク１、２を走査したレ
ーザ光Ｌは再びハーフミラー１４に達し、ここで一部は
光電変換素子２０の方向に反射される。このとき、標準
マスク１６のアライメントマーク１と標準ウエハー１８
のアライメントマーク２とは、例えば図３(a) に示すよ
うに位置している。即ち、標準マスク１６のアライメン
トマーク１ａ、１ｂの間に標準ウエハー１８のアライメ
ントマーク２ａが存在し、アライメントマ−ク１ｃ、１
ｄの間にアライメントマーク２ｂが位置している。そし
て、レーザ光Ｌは左から右に方向Ａに沿って走査され
る。光電変換素子２０は図３(a) のＡ上のレーザ光Ｌが
アライメントマーク１、２と交差する個所でパルス状の
出力を検出し、図３(b) に示すような出力電圧波形が得
られる。Ｗ1 、Ｗ2 、…、Ｗ5 はパルス信号の間隔であ
り、この時間々隔Ｗ1 、Ｗ2 、…、Ｗ5 を測定すること
により整合ずれが求められる。
はポリゴン鏡１２によって走査され、ハーフミラー１４
を通過し標準マスク１６等に向かう。標準マスク１６の
アライメントマーク１と標準ウエハー１８のアライメン
トマーク２とは転写光学系１７を介してレーザ光Ｌによ
って走査され、アライメントマーク１、２を走査したレ
ーザ光Ｌは再びハーフミラー１４に達し、ここで一部は
光電変換素子２０の方向に反射される。このとき、標準
マスク１６のアライメントマーク１と標準ウエハー１８
のアライメントマーク２とは、例えば図３(a) に示すよ
うに位置している。即ち、標準マスク１６のアライメン
トマーク１ａ、１ｂの間に標準ウエハー１８のアライメ
ントマーク２ａが存在し、アライメントマ−ク１ｃ、１
ｄの間にアライメントマーク２ｂが位置している。そし
て、レーザ光Ｌは左から右に方向Ａに沿って走査され
る。光電変換素子２０は図３(a) のＡ上のレーザ光Ｌが
アライメントマーク１、２と交差する個所でパルス状の
出力を検出し、図３(b) に示すような出力電圧波形が得
られる。Ｗ1 、Ｗ2 、…、Ｗ5 はパルス信号の間隔であ
り、この時間々隔Ｗ1 、Ｗ2 、…、Ｗ5 を測定すること
により整合ずれが求められる。
【００１２】即ち、図３(a) のｘ方向のずれをΔｘ、ｙ
方向のずれをΔｙとすると、 Δｘ＝（Ｗ1 −Ｗ2 ＋Ｗ4 −Ｗ5 ）／４ …(1) Δｙ＝（−Ｗ1 ＋Ｗ2 ＋Ｗ4 −Ｗ5 ）／４ …(2) となる。整合された状態では、Ｗ1 ＝Ｗ2 ＝Ｗ4 ＝Ｗ5
であるから、Δｘ、Δｙは共に零となる。
方向のずれをΔｙとすると、 Δｘ＝（Ｗ1 −Ｗ2 ＋Ｗ4 −Ｗ5 ）／４ …(1) Δｙ＝（−Ｗ1 ＋Ｗ2 ＋Ｗ4 −Ｗ5 ）／４ …(2) となる。整合された状態では、Ｗ1 ＝Ｗ2 ＝Ｗ4 ＝Ｗ5
であるから、Δｘ、Δｙは共に零となる。
【００１３】図４に示すような標準マスク１６、標準ウ
エハー１８におけるｘ方向に距離Ｃだけ離れた２個所の
アライメントマーク１、２をそれぞれ測定し、整合ずれ
量を(1) 、(2) 式で求め、その量のR1を（ΔXR1 ，ΔYR
1 ）、L1を（ΔXL1 ，ΔYL1）とすると、ｘ方向に関す
る倍率Mxは次式で与えられる。 Mx＝（１／Ｃ）・{(Ｃ＋ΔXL1 −ΔXR1 )2＋（ΔYL1 −ΔYR1 )2}1/2…(3)
エハー１８におけるｘ方向に距離Ｃだけ離れた２個所の
アライメントマーク１、２をそれぞれ測定し、整合ずれ
量を(1) 、(2) 式で求め、その量のR1を（ΔXR1 ，ΔYR
1 ）、L1を（ΔXL1 ，ΔYL1）とすると、ｘ方向に関す
る倍率Mxは次式で与えられる。 Mx＝（１／Ｃ）・{(Ｃ＋ΔXL1 −ΔXR1 )2＋（ΔYL1 −ΔYR1 )2}1/2…(3)
【００１４】また、ｙ方向に距離Ｄだけ離れた２個所の
アライメントマーク１、２を測定し、整合ずれ量R2を
（ΔXR2 ，ΔYR2 ）、L2を（ΔXL2 ，ΔYL2 ）とする
と、ｙ方向に関する倍率Myは次式となる。 My＝（１／Ｄ）・{(ΔXL1 −ΔXL2 )2＋（Ｄ＋ΔYL1 −ΔYL2 )2}1/2…(4)
アライメントマーク１、２を測定し、整合ずれ量R2を
（ΔXR2 ，ΔYR2 ）、L2を（ΔXL2 ，ΔYL2 ）とする
と、ｙ方向に関する倍率Myは次式となる。 My＝（１／Ｄ）・{(ΔXL1 −ΔXL2 )2＋（Ｄ＋ΔYL1 −ΔYL2 )2}1/2…(4)
【００１５】これらの演算は演算処理回路２１で行わ
れ、(3) 、(4) 式で求めた倍率Mx、Myに基づいて調整駆
動機構２２により、転写光学系１７の倍率を自動調整す
る。かくすることにより、倍率に伴う転写誤差をなくす
ことが可能となるが、現実にはこれらの操作を数回試み
て、確認をとりながら調整を実施することが好適であ
る。
れ、(3) 、(4) 式で求めた倍率Mx、Myに基づいて調整駆
動機構２２により、転写光学系１７の倍率を自動調整す
る。かくすることにより、倍率に伴う転写誤差をなくす
ことが可能となるが、現実にはこれらの操作を数回試み
て、確認をとりながら調整を実施することが好適であ
る。
【００１６】次に本発明の一実施例について説明する
と、図５は転写光学系として反射投影型を用いた転写装
置の光学的な構造図であり、図２と同一の符号は同一の
部材を示している。標準マスク１６とウエハー１８とは
キャリッジ３０により連結されており、これらの間には
転写光学系１７が介在されている。この転写光学系１７
は台形ミラー３１、凹面ミラー３２、凸面ミラー３３か
ら成り、調整駆動機構３４により標準マスク１６、標準
ウエハー１８の面と平行に回転し得るようになってい
る。台形ミラー３１の反射面３１ａ、３１ｂに対向して
凹面ミラー３２が配置され、更に台形ミラー３１と凹面
ミラー３２との間には凸面ミラー３３が凹面ミラー３２
側を見るように配置されている。ｆ・θレンズ１３とハ
ーフミラー１４との間には分割プリズム３５が挿入さ
れ、レーザ光Ｌを２分割してｘ方向に距離Ｃだけ離れた
２個所において、同時にアライメントマーク１、２の測
定を行う。対物レンズ１５、コンデンサレンズ１９、光
電変換素子２０は２系列設けられ、光電変換素子２０、
２０の出力は演算処理回路２１に送られ、更に演算処理
回路２１の出力は調整駆動機構３４及びキャリッジ３０
を矢印Ｂ方向に移動するキャリッジ駆動機構３６に送信
されている。
と、図５は転写光学系として反射投影型を用いた転写装
置の光学的な構造図であり、図２と同一の符号は同一の
部材を示している。標準マスク１６とウエハー１８とは
キャリッジ３０により連結されており、これらの間には
転写光学系１７が介在されている。この転写光学系１７
は台形ミラー３１、凹面ミラー３２、凸面ミラー３３か
ら成り、調整駆動機構３４により標準マスク１６、標準
ウエハー１８の面と平行に回転し得るようになってい
る。台形ミラー３１の反射面３１ａ、３１ｂに対向して
凹面ミラー３２が配置され、更に台形ミラー３１と凹面
ミラー３２との間には凸面ミラー３３が凹面ミラー３２
側を見るように配置されている。ｆ・θレンズ１３とハ
ーフミラー１４との間には分割プリズム３５が挿入さ
れ、レーザ光Ｌを２分割してｘ方向に距離Ｃだけ離れた
２個所において、同時にアライメントマーク１、２の測
定を行う。対物レンズ１５、コンデンサレンズ１９、光
電変換素子２０は２系列設けられ、光電変換素子２０、
２０の出力は演算処理回路２１に送られ、更に演算処理
回路２１の出力は調整駆動機構３４及びキャリッジ３０
を矢印Ｂ方向に移動するキャリッジ駆動機構３６に送信
されている。
【００１７】従って、レーザ光源１０から発しポリゴン
鏡１２によって走査され、分割プリズム３５で分割され
たレーザ光Ｌのそれぞれは、ハーフミラー１４、対物レ
ンズ１５、標準マスク１６を経由して台形ミラー３１の
一方の反射面３１ａに入射して、凹面ミラー３２、凸面
ミラー３３、凹面ミラー３２、台形ミラー３１の他の反
射面３１ｂと反射を繰り返しながら進行し、標準ウエハ
ー１８に到達する。そして、標準マスク１６と標準ウエ
ハー１８のアライメントマーク１、２の情報を含んだレ
ーザ光Ｌは元の光路を戻り、ハーフミラー１４により光
電変換素子２０に送出される。この光路は前述したよう
に２系列存在し、２個の光電変換素子２０、２０の出力
が同時に演算処理回路２１に入力することになる。
鏡１２によって走査され、分割プリズム３５で分割され
たレーザ光Ｌのそれぞれは、ハーフミラー１４、対物レ
ンズ１５、標準マスク１６を経由して台形ミラー３１の
一方の反射面３１ａに入射して、凹面ミラー３２、凸面
ミラー３３、凹面ミラー３２、台形ミラー３１の他の反
射面３１ｂと反射を繰り返しながら進行し、標準ウエハ
ー１８に到達する。そして、標準マスク１６と標準ウエ
ハー１８のアライメントマーク１、２の情報を含んだレ
ーザ光Ｌは元の光路を戻り、ハーフミラー１４により光
電変換素子２０に送出される。この光路は前述したよう
に２系列存在し、２個の光電変換素子２０、２０の出力
が同時に演算処理回路２１に入力することになる。
【００１８】図６の例では転写光学系１７の水平面内の
軸ｘ' 、軸ｙ' とキャリッジ３０の走査方向Ｂである軸
ｙと軸ｘの関係を示している。この場合に転写光学系１
７の軸ｘ' 、軸ｙ' と走査軸ｘ、ｙとのなす角度θによ
る像面歪が発生している。図６において、１０ｍｍおき
に描かれている矢印３７は転写歪みの方向と大きさを示
している。このとき、図７(a) に示すようなＬ字のパタ
ーン３８は、転写光学系１７の像として、図７(b) に示
すようにウエハー上で左右に像反転をし、なおかつｙ軸
方向に２θだけ傾くことになる。
軸ｘ' 、軸ｙ' とキャリッジ３０の走査方向Ｂである軸
ｙと軸ｘの関係を示している。この場合に転写光学系１
７の軸ｘ' 、軸ｙ' と走査軸ｘ、ｙとのなす角度θによ
る像面歪が発生している。図６において、１０ｍｍおき
に描かれている矢印３７は転写歪みの方向と大きさを示
している。このとき、図７(a) に示すようなＬ字のパタ
ーン３８は、転写光学系１７の像として、図７(b) に示
すようにウエハー上で左右に像反転をし、なおかつｙ軸
方向に２θだけ傾くことになる。
【００１９】ｘ方向の２組のアライメントマーク１、２
が２個の対物レンズ１５の光軸に位置するようにする
と、光電変換素子２０、２０と演算処理回路２１とによ
って整合状態が検出され、左側の整合ずれ量ΔXL1 、Δ
YL1 、右側のずれ量ΔXR1 、ΔYR1 が求められる。続い
て、演算処理回路２１の指令によりキャリッジ駆動機構
３６を介してキャリッジ３０を矢印Ｂ方向に距離Ｄだけ
移動し、別のアライメントマーク１、２の整合状態を測
定し、同様にそのずれ量ΔXL2 、ΔYL2 、ΔXR2、ΔYR2
を得る。ここで、標準マスク１６、標準ウエハー１８
のｘ方向に距離Ｃだけ離れたアライメントマーク１、２
の左右間のずれ角θx は近似的に次式で表される。 θx ＝（１／２Ｃ）・（ΔYL1 −ΔYR1 ＋ΔYL2 −ΔYR2 ） …(5)
が２個の対物レンズ１５の光軸に位置するようにする
と、光電変換素子２０、２０と演算処理回路２１とによ
って整合状態が検出され、左側の整合ずれ量ΔXL1 、Δ
YL1 、右側のずれ量ΔXR1 、ΔYR1 が求められる。続い
て、演算処理回路２１の指令によりキャリッジ駆動機構
３６を介してキャリッジ３０を矢印Ｂ方向に距離Ｄだけ
移動し、別のアライメントマーク１、２の整合状態を測
定し、同様にそのずれ量ΔXL2 、ΔYL2 、ΔXR2、ΔYR2
を得る。ここで、標準マスク１６、標準ウエハー１８
のｘ方向に距離Ｃだけ離れたアライメントマーク１、２
の左右間のずれ角θx は近似的に次式で表される。 θx ＝（１／２Ｃ）・（ΔYL1 −ΔYR1 ＋ΔYL2 −ΔYR2 ） …(5)
【００２０】また、ｙ方向に距離Ｄだけ離れたアライメ
ントマーク１、２の上下間のずれ角θy は近似的に次式
で表される。 θy ＝（１／２Ｄ）・（ΔXR1 ＋ΔXL1 −ΔXR2 −ΔXL2 ） …(6)
ントマーク１、２の上下間のずれ角θy は近似的に次式
で表される。 θy ＝（１／２Ｄ）・（ΔXR1 ＋ΔXL1 −ΔXR2 −ΔXL2 ） …(6)
【００２１】これらの計算は演算処理回路２１でなさ
れ、このずれ角を減少するように調整駆動機構３４を介
して転写光学系１７を回動し、転写歪み誤差を解消する
ことができる。この駆動すべき角度は、 θ＝（θy −θx ）／２ …(7) であり、θx はミスアライメントで光軸と走査軸が水平
面内で平行になっていない成分である。
れ、このずれ角を減少するように調整駆動機構３４を介
して転写光学系１７を回動し、転写歪み誤差を解消する
ことができる。この駆動すべき角度は、 θ＝（θy −θx ）／２ …(7) であり、θx はミスアライメントで光軸と走査軸が水平
面内で平行になっていない成分である。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る走査型
露光装置は、マスクとウエハーの正確な位置合わせを行
う。
露光装置は、マスクとウエハーの正確な位置合わせを行
う。
【図１】マスクとウエハーの整合状態を説明するための
説明図である。
説明図である。
【図２】光学的構成図である。
【図３】アライメントマークに対する光電変換素子の出
力特性図である。
力特性図である。
【図４】マスクとウエハーのアライメントマークの整合
状態を示す平面図である。
状態を示す平面図である。
【図５】光学的構成図である。
【図６】転写歪の説明図である。
【図７】転写歪の説明図である。
１、２ アライメントマーク １０ レーザ光源 １２ ポリゴン鏡 １６ 標準マスク １７ 転写光学系 １８ 標準ウエハー ２０ 光電変換素子 ２１ 演算処理回路 ２２、３４、３６ 駆動機構 ３０ キャリッジ ３４ 調整機動機構
Claims (10)
- 【請求項１】 転写光学系に対してマスクとウエハーを
走査することにより、前記転写光学系を介して前記マス
クのパターンを前記ウエハー上に転写する走査型露光装
置において、前記転写光学系に対する前記走査方向の傾
きを検出し、該傾きを補正する位置合わせ手段を有する
ことを特徴とする走査型露光装置。 - 【請求項２】 前記位置合わせ手段は前記ウエハー上の
位置合わせマークを用いて前記傾きを検出する請求項１
に記載の走査型露光装置。 - 【請求項３】 前記位置合わせ手段は前記マスク上の位
置合わせマークを用いて前記傾きを検出する請求項１に
記載の走査型露光装置。 - 【請求項４】 前記位置合わせマークは前記走査方向に
並んだ複数のマークを含む請求項２又は請求項３に記載
の走査型露光装置。 - 【請求項５】 前記位置合わせマークは前記走査方向と
は異なる方向に並んだ複数のマークを含む請求項２又は
請求項３に記載の走査型露光装置。 - 【請求項６】 前記位置合わせ手段は前記傾きを小さく
するために前記転写光学系を動かす手段を備えた請求項
１に記載の走査型露光装置。 - 【請求項７】 前記位置合わせ手段は前記転写光学系の
光軸に対する前記走査方向のずれを検出する請求項１に
記載の走査型露光装置。 - 【請求項８】 走査露光を行うための転写光学系と、該
転写光学系を介してマスク側のアライメントマークとウ
エハー側のアライメントマークを光電検出して両者間の
位置誤差を検出する光電検出器と、前記マスクとウエハ
ーを前記転写光学系に対して走査する走査機構を有し、
走査方向に沿って複数の前記マスク側アライメントマー
クと前記ウエハー側アライメントマークをそれぞれ設
け、前記走査機構によって前記マスクとウエハーを前記
転写光学系に対して走査することにより、前記マスク側
アライメントマークと前記ウエハー側アライメントマー
クの各組の位置誤差を前記光電検出器により順次に検出
し、検出された各組ごとの位置誤差を用いて前記走査方
向の前記転写光学系に対する傾きを求めることを特徴と
する走査型露光装置。 - 【請求項９】 前記転写光学系を前記走査機構のキャリ
ッジに相対的に回転することにより前記傾きを補正する
請求項８に記載の走査型露光装置。 - 【請求項１０】 前記転写光学系はミラーレンズを有す
る請求項９に記載の走査型露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6040376A JP2567811B2 (ja) | 1994-02-14 | 1994-02-14 | 走査型露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6040376A JP2567811B2 (ja) | 1994-02-14 | 1994-02-14 | 走査型露光装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2209592A Division JPH03101215A (ja) | 1990-08-07 | 1990-08-07 | 転写誤差調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07302742A JPH07302742A (ja) | 1995-11-14 |
| JP2567811B2 true JP2567811B2 (ja) | 1996-12-25 |
Family
ID=12578936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6040376A Expired - Lifetime JP2567811B2 (ja) | 1994-02-14 | 1994-02-14 | 走査型露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2567811B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4068947A (en) * | 1973-03-09 | 1978-01-17 | The Perkin-Elmer Corporation | Optical projection and scanning apparatus |
| DE2410924A1 (de) * | 1973-03-09 | 1974-09-26 | Perkin Elmer Corp | Vorrichtung zur fotografischen belichtung einer oberflaeche |
| JPS5453867A (en) * | 1977-10-06 | 1979-04-27 | Canon Inc | Printing device |
| JPS57184901A (en) * | 1981-05-09 | 1982-11-13 | Hitachi Ltd | Correcting device for degree of straight of straight travelling table |
-
1994
- 1994-02-14 JP JP6040376A patent/JP2567811B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07302742A (ja) | 1995-11-14 |
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