JP2566085B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Description
し、特に、高容量のデータ記録用の磁気ディスクに適し
た磁気記録媒体に関するものである。
可能であること、信号の電子化が容易であり周辺電子機
器との組み合わせによるシステムの構築が可能であるこ
と、信号の修正も簡単にできること等の他の記録方式に
はない優れた特長を有することから、ビデオ、オーディ
オ、コンピューター用途等を始めとして様々な分野で幅
広く利用されてきた。そして、機器の小型化、記録再生
信号の高品位化、記録の長時間化、記録容量の増大等の
要求に対応するために、記録媒体に対しては記録密度の
より一層の向上が常に望まれてきた。
性の改良、磁性層中における磁性体粒子の分散性や充填
度の向上等の方策が試みられてきた。
軽減して出力を高めるために、磁性層の厚さを1.0μ
m以下に薄くする手段が、磁気記録媒体の高密度化及び
高容量化の手段として有効である。特に、磁性層の薄層
化は、ビデオ用途にあっては、ハイビジョン対応のVT
R用のビデオテープとして、また、近年のパソコンの普
及、アプリケーション・ソフトの高度化、処理情報の増
大の動向から10Mバイト以上の高容量化が強く要求さ
れるようになってきたフロッピーディスク等のディジタ
ル記録用の磁気記録ディスクにおいても磁気ヘッドの挟
トラック化に合わせて磁気記録媒体を高容量化する上
で、出力の向上と共に重ね書き特性の改良の面でも重要
となっている。即ち、通常、フロッピーディスク等のコ
ンピューター用途の磁気記録媒体においては、記録波長
の異なる記録信号の重ね書き(オーバーライト)が必要
であるが、従来は、周波数で2倍の関係にある2種類の
信号、1f及び2f信号のオーバーライトができれば良
かったが、最近強く要望されている10Mバイト以上の
高容量の磁気記録ディスクに対しては、記録波長が短く
なっただけではなく、RLL信号などの周波数比3:8
の領域にある複数の信号のオーバーライトが要求されて
いる。記録波長が短く、記録周波数の差が大きい信号を
使用した場合、記録波長の短い信号を記録波長が長い信
号の上に重ね書き(オーバーライト)をうまく行うため
には、特開昭58−122623号公報、特開昭61−
74137号公報等に開示されてるように、単に磁性層
の磁気特性を向上させるだけでは限界があった。
の磁性層では、先に記録されているより長い波長の記録
信号の上により短い記録信号を重ね書きしても磁力線が
磁性層の深いところまで達しないために、先に記録され
たより長い波長の信号が消去できないのである。
は剥離し易くなり、剥離した磁性層が新たなドロップ・
アウトの発生要因となるのでこの問題にも対処する必要
がある。磁性層の剥離の問題は、非磁性支持体との間に
非磁性層を形成しても免れることはできなかった。特に
この磁性層の剥離の問題は、層を形成する際の塗布方法
を下層が乾燥してから上層を塗布するいわゆる逐次重層
塗布の場合に顕著であった。
1315号公報等に開示されている非磁性支持体上に塗
布された非磁性層が湿潤状態にあるうちに磁性層用塗布
液を塗布するウェット・オン・ウェット塗布方式で塗布
すると磁性層の剥離の問題はかなり軽減される。
剤を余り多く含有させると磁性層が薄いために強磁性粉
末の充填度がもともと低いので電磁変換特性が高くでき
ず、結果的に高密度、高容量の磁気記録媒体が得られ難
かった。
は、多数提案されている。例えば、モース硬度が高い粒
子を磁性層中に研磨剤として添加した磁気記録媒体が特
開昭57−179945号公報、特開昭62−9212
7号公報、特公昭58−45088号公報に、また、粒
子サイズとモース硬度を特定した粒子を研磨剤として磁
性層に添加した磁気記録媒体が特公昭49−39402
号公報、特公昭55−15771号公報、特開昭57−
162129号公報に記載されている。
性層が比較的厚いことを前提とした技術であり、厚さが
1μm以下の比較的薄い磁性層に適用すると磁性層の表
面性が低下したり、また、前記のウェット・オン・ウェ
ット方式で磁性層を塗布すると研磨剤の効果が充分に生
かされないという問題があった。
としては、特開昭62−89223号公報に、モース硬
度が6以上で磁性層の厚さの0.4乃至0.65倍の平
均粒子径を有する研磨剤を添加した磁気ディスクが記載
されている。
オン・ウェット方式で磁性層を形成する場合には、研磨
剤が有効に機能しないという問題があった。
末が磁気特性が優れている強磁性金属もしくは六方晶系
フェライトになると低下する傾向にあった。
の普及にともなって、その使用環境条件が著しく広くな
るとともに大きな問題になってきた。即ち、8ミリビデ
オなどのビデオカメラ用途ではあらゆる環境条件下にあ
る戸外で使用されることが多く、また、コンピューター
用途のフロッピーディスクなどの磁気記録ディスクで
は、環境条件もさることながら長時間使用されることが
多くなってきている。また、フロッピーディスクなどで
は媒体をカートリッジやジャケットに装填して使用され
るが、カートリッジやジャケットの内側に設けられた不
織布からなるライナーと磁性層が接触するのでそれに対
する耐久性も必要となる。
化、高容量化にとって磁性層を1μm以下に薄くするこ
とが有効であるが、それに伴う磁性層の耐久性の低下に
対処するための有効な手段はいまだ提案されていない。
従来技術の問題点に鑑みなされたものであり、電磁変換
特性が良好でかつ走行耐久性に優れる高密度記録・高容
量の磁気記録媒体を提供することであり、特に、高記録
密度での重ね書き特性に優れ、記録容量が大きい磁気記
録ディスクに好適な磁気記録媒体を提供することであ
る。
磁性支持体上に非磁性粉末及び結合剤樹脂を主体とする
非磁性層及び強磁性粉末及び結合剤樹脂を主体とする磁
性層が、この順で形成されている磁気記録媒体におい
て、該磁性層の厚さは1.0μm以下であり、前記磁性
層は、前記非磁性支持体上に前記非磁性層用塗布液を塗
布して、その塗布層が湿潤状態にあるうちに、その上に
前記磁性層用塗布液を塗布することにより形成されたも
のであり、さらに前記磁性層中にモース硬度6以上でか
つ前記磁性層の厚さよりも平均粒子径が大きい研磨剤を
含有することを特徴とする磁気記録媒体により達成する
ことができる。
支持体上に少なくとも非磁性層及び磁性層がこの順で形
成されており、前記磁性層は1μmと薄いので、厚み損
失などによる出力の低下が少なくすることができ、且つ
コンピューター用途の磁気記録ディスクにおいて記録波
長を短くするときに問題となる重ね書き特性も良好であ
るので高密度記録媒体として、さらに高容量の磁気記録
ディスクとして好適な媒体である。また磁性層の下層に
非磁性層を形成することにより、磁性層を単独で非磁性
支持体上に形成する場合よりも磁性層の厚さなどの均一
性が優れている。
磁性層の厚さよりも平均粒子径が大きい研磨剤を含有さ
せることにより、磁性層が1μmと薄くなると問題とな
る耐久性の低下が改良された磁気記録媒体とすることが
できるのである。
液がまだ湿潤状態にあるうちに、磁性層の塗布液をその
非磁性層用塗布層の上に塗布して製造されるので、厚さ
が均一な磁性層が得られ且つ磁性層の厚さが薄いと問題
となる密着性が改良されている。
は、磁性層中に含有させる研磨剤の平均粒子径が磁性層
の厚さよりも大きくとも、非磁性層用塗布層が湿潤状態
にあるうちに磁性層用塗布液がその上に塗布されるので
非磁性層の方にも磁性層中の研磨剤粒子の一部が入り込
むので、磁性層の表面に研磨剤粒子が突出することによ
る磁性層の表面性の低下がなく、それでいて磁性層表面
に研磨剤粒子が存在するので良好な電磁変換特性であっ
て、耐久性も優れた磁気記録媒体を得ることができる。
1μm以下であり、好ましくは0.05乃至0.8μm
以下、更に好ましくは0.1乃至0.5μm以下であ
る。
たり、重ね書き特性も低下するので好ましくない。ま
た、磁性層の厚さが薄くなると均一な厚さの磁性層が得
られなくなり、また出力も低下するので好ましくない。
ス硬度が6以上であって磁性層の厚さよりもその平均粒
子径が大きい研磨剤を含有させる。即ち、本発明の磁気
記録媒体の磁性層に含有している研磨剤のモース硬度は
6以上であり平均粒子径は磁性層の厚さよりも大きい。
有する研磨剤の平均粒子径は、磁性層の厚さよりも大き
く、特に、磁性層の厚さの1.1倍以上であることが好
ましい。
れる研磨剤の平均粒子径は、磁性層の厚さより大きいこ
とが必要であるが、0.05乃至3μm、好ましくは
0.2乃至1.5μmである。
の厚さよりも小さくなると磁気記録媒体の耐久性が低下
し、また、耐久性を保つためにより多くの研磨剤を含有
させることが必要となり、電磁変換特性の高い磁気記録
媒体を得ることが難しくなる。
有される研磨剤の含有量についてはつぎの如くである。
おける磁性層の厚さよりも平均粒子径が大きい研磨剤の
含有量は、強磁性粉末に対して1乃至20重量%であ
り、望ましくは3乃至18重量%である。
が低下し、強磁性粉末の充填度が低下するので磁気記録
媒体の電磁変換特性が低下し、また余り少ないと磁気記
録媒体の耐久性が低下するので望ましくない。
る研磨剤としては、従来から公知の種々の研磨剤を使用
することができる。
層の厚さよりも平均粒子径が大きい研磨剤としては、例
えば、α−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、炭
化ケイ素、酸化セリウム、α−酸化鉄、窒化珪素、チタ
ンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、
溶融アルミナ、炭化珪素、酸化クロム(Cr2 O3 )、
コランダム、人造コランダム、ダイアモンド、人造ダイ
アモンド、ザクロ石、エメリー(主成分:コランダムと
磁鉄鉱)等が挙げられる。
の間における摩擦係数の変動を軽減して、いわゆるステ
ィック・スリップに対しても安定な特性の磁気記録媒体
を得ることができる。
社製、AKP−10、AKPー12、AKP−15、2
0、AKP−30,AKP−50、AKP−1520、
AKP−1500、日本化学工業社製、G5,G7,S
−1、酸化クロムK、上村工業社製UB40B、不二見
研磨剤社製WA8000、WA10000、戸田工業社
製TF180などが上げられる。
合について詳細に説明する。
る方法に特に限定はなく、磁性層の他の成分と共に添加
しても良いし、研磨剤をあらかじめ結合剤樹脂で分散処
理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。
強磁性粉末は、酸化鉄系強磁性粉末、強磁性金属粉末も
しくは板状六方晶系フェライト粉末等が使用できる。中
でも、高密度記録用の磁気記録媒体に適した、粒子サイ
ズの小さい強磁性金属粉末やバリウムフェライトを強磁
性粉末とする場合、磁性層の耐久性が問題となることが
多かったが、本発明の磁気記録媒体ではその問題がかな
り改良されている。
粒子サイズは、望ましくは比表面積は30乃至60m2
/gであってX線回折法から求められる結晶子サイズが
100乃至300A(オングストローム)である。比表
面積が余り小さいと高密度記録に充分に対応できなくな
り、又余り大きくても分散が充分に行えずに平滑な面の
磁性層が形成できずこれまた高密度記録に対応できなく
なるので好ましくない。
合、比表面積は25乃至50m2/gであって、板状比
が2乃至6、粒子長が0.02乃至1.0μmである。
強磁性金属粉末と同じ理由からその粒子サイズが大きす
ぎても小さすぎても高密度記録が難しくなる。
含むことが必要であり、具体的には、Fe,Fe−C
o,Fe−Ni又はFe−Ni−Coを主体とした金属
単体あるいは合金である。本発明の磁気記録媒体を高記
録密度化するために、前記のように粒子サイズが小さい
ことが必要であると同時に磁気特性としては、飽和磁化
は少なくとも110emu/g以上、望ましくは120
emu/g以上である。又抗磁力としては、800Oe
(エルステッド)以上、望ましくは900Oe以上であ
る。そして、その粒子の軸比は5以上あることが望まし
い。更に特性を改良するために、組成中にB,C,A
l,Si、P等の非金属が添加されることもある。通
常、前記金属粉末の粒子表面は、化学的に安定させるた
めに酸化物の層が形成されている。
板状でその平板面に垂直な方向に磁化容易軸がある強磁
性体であって、バリウムフェライト、ストロンチウムフ
ェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライト、ある
いはそれらのコバルト置換体等があり、中でも特にバリ
ウムフェライトのコバルト置換体、ストロンチウムフェ
ライトのコバルト置換体が好ましい。更に必要に応じて
その特性を改良するためにIn,Zn,Ge,Nb,V
等の元素を添加してもよい。本発明の磁気記録媒体を高
記録密度化するために、前記板状六方晶フェライト粉末
の粒子サイズは前記のように小さいことが必要であると
同時に磁気特性としては、飽和磁化は少なくとも50e
mu/g以上、望ましくは53emu/g以上である。
又抗磁力としては、500Oe以上、600Oe以上で
あることが望ましい。六方晶系フェライトは、長波長記
録の場合は出力は他の磁性粒子に比較して低めではある
が高周波帯域の記録波長が1.0μm以下の短波長記録
となると、他の磁性粒子よりもむしろ高出力が期待でき
るという特徴がある。更に、磁気記録ディスクのような
円盤状磁気記録媒体にあっては、円周方向の出力が均一
で変動がないことが望まれ、そのためには面内配向度比
ができるだけ高いことが必要となる。六方晶系フェライ
トを磁性粒子として使用すると0.9以上もの高い配向
度比が実現できる。
末の磁気特性は、VSM−PI(東英工業製)を用い最
大印加磁場10kOeとした。また比表面積の測定はカ
ンターソーブ(米国、カンタークロム社製)を用いたB
ET法によるものである。250℃、30分間窒素雰囲
気で脱水後BET一点法(分圧0.30)で測定した値
である。
2重量%とするのが好ましい。含水率は結合剤樹脂の種
類によって最適化するのが好ましい。強磁性粉末のpH
も用いる結合剤樹脂との組み合わせにより最適化するの
が好ましい。その範囲は4乃至12であるが好ましくは
5乃至10である。
樹脂は、磁性層であっても非磁性層であっても本質的に
区別なく使用することができる。結合剤樹脂としては従
来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこ
れらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガ
ラス転移温度が−100℃乃至150℃、数平均分子量
が1000乃至200000、好ましくは10000乃
至100000、重合度が約50乃至1000程度のも
のである。
ル、酢酸ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アク
リル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリ
ロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、ス
チレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビ
ニルアセタ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として
含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴ
ム系樹脂がある。
てはフェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アク
リル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹
脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイ
ソシアネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリ
オ−ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートの混合物等があげられる。
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を第一層、または第
二層に使用することも可能である。これらの例とその製
造方法については特開昭62−256219号公報に詳
細に記載されている。
るが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル
酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ−
ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合
体、ニトロセルロース、中から選ばれる少なくとも1種
とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソ
シアネ−トを組み合わせたものがあげられる。ポリウレ
タン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエ−
テルポリウレタン、ポリエ−テルポリエステルポリウレ
タン、ポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリエステルポ
リカ−ボネ−トポリウレタン、ポリカプロラクトンポリ
ウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示したす
べての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得
るためには必要に応じ、COOM,SO3M、OSO
3M、P=O(OM)3、O−P=O(OM)2、(以上
につきMは水素原子、またはアルカリ金属塩基)、O
H、NR2、N+R3(Rは炭化水素基)エポキシ基、S
H、CN、などから選ばれる少なくともひとつ以上の極
性基を共重合または付加反応で導入したものををもちい
ることが好ましい。このような極性基の量は10-1乃至
10-8モル/gであり、好ましくは10-2乃至10-6モル/
gである。
的な例としてはユニオンカ−バイト社製 VAGH、V
YHH、VMCH、VAGF、VAGD,VROH,V
YES,VYNC,VMCC,XYHL,XYSG,P
KHH,PKHJ,PKHC,PKFE,日信化学工業
社製、MPR−TA、MPR−TA5,MPR−TA
L,MPR−TSN,MPR−TMF,MPR−TS、
MPR−TM、電気化学社製1000W、DX80,D
X81,DX82,DX83、日本ゼオン社製MR11
0、MR100、400X110A、日本ポリウレタン
社製ニッポランN2301、N2302、N2304、
大日本インキ社製パンデックスT−5105、T−R3
080、T−5201、バ−ノックD−400、D−2
10−80、クリスボン6109,7209,東洋紡社
製バイロンUR8200,UR8300、UR860
0、RV530,RV280、大日精化社製、ダイフェ
ラミン4020,5020,5100,5300,90
20,9022,7020,三菱化成社製、MX500
4,三洋化成社製、サンプレンSP−150,旭化成社
製、サランF310,F210などがあげられる。
および非磁性粉体に対し、5乃至50重量%の範囲、好
ましくは10乃至30重量%の範囲で用いられる。塩化
ビニル系樹脂を用いる場合は5乃至100重量%、ポリ
ウレタン樹脂合を用いる場合は2乃至50重量%、ポリ
イソシアネ−トは2乃至100重量%の範囲でこれらを
組み合わせて用いるのが好ましい。
合はガラス転移温度が−50℃乃至100℃、破断伸び
が100乃至2000%、破断応力は0.05乃至10
kg/cm2、降伏点は0.05乃至10kg/cm2が
好ましい。
ては、トリレンジイソシアネ−ト、4−4’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシア
ネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−
1,5−ジイソシアネ−ト、o−トルイジンジイソシア
ネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメ
タントリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、
これらのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成
物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポ
リイソシアネ−ト等を使用することができる。これらの
イソシアネート類の市販されている商品名としては、日
本ポリウレタン社製、コロネートL、コロネ−トHL,
コロネ−ト2030、コロネ−ト2031、ミリオネ−
トMRミリオネ−トMTL、武田薬品社製、タケネ−ト
D−102,タケネ−トD−110N、タケネ−トD−
200、タケネ−トD−202、住友バイエル社製、デ
スモジュ−ルL,デスモジュ−ルIL、デスモジュ−ル
Nデスモジュ−ルHL,等がありこれらを単独または硬
化反応性の差を利用して2つもしくはそれ以上の組合せ
で第1層、第2層とももちいることができる。
のほか、潤滑剤、帯電防止剤、分散剤、可塑剤、防黴剤
等が添加できる。
は、ジアルキルポリシロキサン(アルキルは炭素数1乃
至5個)、ジアルコキシポリシロキサン(アルコキシは
炭素数1乃至4個)、モノアルキルモノアルコキシポリ
シロキサン(アルキルは炭素数1乃至5個、アルコキシ
は炭素数1乃至4個)、フェニルポリシロキサン、フロ
ロアルキルポリシロキサン(アルキルは炭素数1乃至5
個)などのシリコンオイル;グラファイト等の導電性微
粉末;二硫化モリブデン、二硫化タングステンなどの無
機粉末あ;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン塩化ビニル共重合体、ポリテトラフルオロエチレン等
のプラスチック微粉末;α−オレフィン重合物;常温で
液状の不飽和脂肪族炭化水素(n−オレフィン二重結合
が末端の炭素に結合した化合物、炭素数約20);炭素
数12乃至20個の一塩基性脂肪酸と炭素数3乃至12
個の1価のアルコールから成る脂肪酸エステル類、フル
オロカーボン類等が使用できる。
としてはエタノール、ブタノール、フェノール、ベンジ
ルアルコール、2−メチルブチルアルコール、2−ヘキ
シルデシルアルコール、プロピレングリコールモノブチ
ルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、s−ブチルアルコー
ル等の系モノアルコール類、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、ネオペンチルグリコール、グリセリ
ン、ソルビタン誘導体等の多価アルコールが挙げられ
る。
酸、オクタン酸、2−エチルヘキサン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン
酸、アラキン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン
酸、エライジン酸、パルミトレイン酸等の脂肪族カルボ
ン酸またはこれらの混合物が挙げられる。
ステアレート、sec−ブチルステアレート、イソプロ
ピルステアレート、ブチルオレエート、アミルステアレ
ート、3−メチルブチルステアレート、2−エチルヘキ
シルステアレート、2−ヘキシルデシルステアレート、
ブチルパルミテート、2−エチルヘキシルミリステー
ト、ブチルステアレートとブチルパルミテートの混合
物、ブトキシエチルステアレート、2−ブトキシ−1−
プロピルステアレート、ジプロピレングリコールモノブ
チルエーテルをステアリン酸でエステル化したもの、ジ
エチレングリコールジパルミテート、ヘキサメチレンジ
オールをミリスチン酸でエステル化してジオールとした
もの、グリセリンのオレエート等の種々のエステル化合
物を挙げることができる。
るときしばしば生ずる脂肪酸エステルの加水分解を軽減
するために、原料の脂肪酸及びアルコールの分岐/直
鎖、シス/トランス等の異性構造、分岐位置を選択する
ことがなされる。
して0.2乃至20重量部の範囲で添加される。
することもできる。即ち、シリコンオイル、グラファイ
ト、二硫化モリブデン、窒化ほう素、弗化黒鉛、フッ素
アルコール、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキ
ル燐酸エステル、二硫化タングステン等である。
ができ、その添加量は全非磁性粉末100重量部に対し
て0.2乃至20重量部の範囲で添加される。潤滑剤を
非磁性層中に添加することにより、磁性層中に不足する
部分を補うことができる。特に、この効果は、磁性層が
1μm以下と薄い場合に磁性層が保持できる潤滑剤の量
に限界があるので特に有効である。
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に磁性体と混合する場
合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場
合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、
塗布直前に添加する場合などがある。
る分散剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレ
ン酸、ステアロール酸等の炭素数12乃至18個の脂肪
酸(R1 COOH、R1 は炭素数11乃至17個のアル
キルまたはアルケニル基);前記の脂肪酸のアルカリ金
属(Li、Na、K等)またはアルカリ土類金属(M
g、Ca、Ba)からなる金属石鹸;前記の脂肪酸エス
テルの弗素を含有した化合物;前記脂肪酸のアミド;ポ
リアルキレンオキサイドアルキルリン酸エステル;レシ
チン;トリアルキルポリオレフィンオキシ第四級アンモ
ニウム塩(アルキルは炭素数1乃至5個、オレフィンは
エチレン、プロピレンなど);等が使用される。この他
に炭素数12以上の高級アルコール、及びこれらの他に
硫酸エステル等も使用可能である。これらの分散剤は結
合剤樹脂100重量部に対して0.5乃至20重量部の
範囲で添加される。
着物を防止するためにカーボンブラックやグラファイ
ト、金属粉等を帯電防止剤として添加してもよい。
の1乃至20重量%含有される。帯電防止剤の量が余り
多くなると強磁性粉末の充填度を低下させるので好まし
くない。
性粉末と結合剤樹脂を主体とする層である。非磁性粉末
と結合剤樹脂の比率は、重量比で100:10乃至10
0:50であることが望ましい。
望ましくは0.5乃至5μmである。非磁性層の厚さが
余り薄いと、均一な厚さの磁性層が得られなくなり、ま
た余り厚いと磁気ヘッドとの当たりが劣化するので好ま
しくない。
に限定されることはなく、従来から公知の各種の非磁性
粉末が使用できる。中でも、前述した磁性層中に含有す
ることのできる帯電防止剤を非磁性層中に含有させるこ
と磁性層が薄いだけに本発明の磁気記録媒体の帯電性を
弱めドロップ・アウトの原因となる付着物の防止に有効
である。
ては、カーボンブラックが望ましく、ゴム用ファ−ネ
ス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチレンブ
ラック、等を用いることができる。比表面積は5乃至5
00m2/g、DBP吸油量は10乃至1500ml/
100g(カーボンブラックのDBP吸油量は、カーボ
ンブラック粉末にジブチルフタレートを少しづつ加え、
練り合わせながらカーボンブラックの状態を観察し、ば
らばらに分散した状態から一つの塊をなす点を見いだし
その時のジブチルフタレートの添加量(ml)をDBP
吸油量とした。)、粒子径は5mμ乃至300mμ、P
Hは2乃至10、含水率は0.1乃至10重量%、タッ
プ密度は0.1乃至1g/CC、が好ましい。本発明に用
いられるカ−ボンブラックの具体的な例としてはキャボ
ット社製、BLACKPEARLS2000、130
0、1000、900、800,700、VULCAN
XC−72、旭カ−ボン社製、#80、#60,#5
5、#50、#35、三菱化成工業社製、#3950
B、#2400B、#2300、#900,#1000
#30,#40、#10B、コロンビアカ−ボン社製、
CONDUCTEX SC、RAVEN 150、5
0,40,15、ライオンアグゾ社製ケッチェンブラッ
クEC、ケッチェンブラックECDJ−500、ケッチ
ェンブラックECDJ−600などが挙などがあげられ
る。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、
樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラフ
ァイト化したものを使用してもかまわない。また、カ−
ボンブラックを塗布分散液に添加する前にあらかじめ結
合剤で分散してもかまわない。
場合は強磁性粉末に対する量は0.1乃至30重量%で
あることが好ましい。さらに非磁性層には全非磁性粉末
に対し3乃至20重量%含有させることが好ましい。カ
−ボンブラックは磁性層・非磁性層の帯電防止、摩擦係
数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、こ
れらは用いるカ−ボンブラックにより異なる。従って本
発明に使用されるこれらのカ−ボンブラックは、その種
類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、
pHなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い
分けることはもちろん可能である。使用できるカーボン
ブラックは例えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブ
ラック協会編を参考にすることができる。
は、その他、前記の磁性層中に含有させる研磨剤などを
使用することができる。
乃至2μmが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異
なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末で
も粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもでき
る。タップ密度は0.3乃至2g/cc、含水率は0.
1乃至5重量%、pHは2乃至11、比表面積は1乃至
30m2/gが好ましい。本発明に用いられる非磁性粉
末の形状は針状、球状、サイコロ状のいずれでも良い。
本発明に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、
住友化学社製、AKP−20、AKP−30,AKP−
50、HIT−50、日本化学工業社製、G5,G7,
S−1、戸田工業社製、TF−100,TF−120,
TF−140、石原産業社製TT055シリーズ、ET
300W、チタン工業社製STT30などがあげられ
る。
用のものと本質的に変わるところはなく同じものが使用
できる。
共に混合し、混練分散機で分散処理して均一な塗布液を
作成する。
各素材は、必ずしも100%純粋ではなく、主成分以外
に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物 等の
不純分がふくまれてもかまわない。これらの不純分は3
0重量%以下が好ましく、さらに好ましくは10重量%
以下である。
たはその一部は、塗布液を製造するどの工程で添加して
もかまわない、例えば、混練工程前に磁性体と混合する
場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程で添加する
場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場
合、塗布直前に添加する場合などがある。
比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イ
ソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ
−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブ
チルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシク
ロヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エ
チル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメ
チルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキ
サン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、N,
N−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも100%純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は30重量%以下が好ましく、さら
に好ましくは10重量%以下である。本発明で用いる有
機溶媒は必要ならば磁性層と非磁性層でその種類、量を
変えてもかまわない。
をもちい表面性を向上させる、下層の非磁性層塗布液に
表面張力の高い溶媒(シクロヘキサノン、ジオキサンな
ど)を用い塗布の安定性をあげ、下層の非磁性層塗布液
には溶解性パラメ−タの高い溶媒を用い充填度を上げる
などがその例としてあげられるがこれらの例に限られた
ものではないことは無論である。
布液を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工
程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混
合工程からなる。個々の工程はそれぞれ2段階以上に分
かれていてもかまわない。本発明に使用する磁性体粒
子、結合剤樹脂、研磨剤、非磁性粒子、帯電防止剤、潤
滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程のどの段階で添
加してもかまわない。 また、個々の原料を2つ以上の
工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウ
レタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のため
の混合工程で分割して投入してもよい。
公知の製造技術を一部の工程としてを用いることができ
ることは勿論であるが、混練工程では連続ニ−ダや加圧
ニ−ダなど強い混練力をもつものを使用することによ
り、本発明の磁気記録ディスクの残留磁束密度(Br)
を高くすることができる。連続ニ−ダまたは加圧ニ−ダ
を用いる場合は磁性体粒子と結合剤樹脂のすべてまたは
その一部(ただし全結合剤樹脂の30重量%以上である
ことが望ましい)および磁性粒子100重量部に対し1
5乃至500重量部の範囲で混練処理される。これらの
混練処理の詳細については特開平1−106388号公
報、特開平1−79274号公報に記載されている。本
発明では、特開昭62−212933号公報に開示され
ているような同時重層塗布方式を用いることによりより
効率的に生産することができるる。
性層及び磁性層の塗布方法は、非磁性支持体上に塗布さ
れた非磁性層用塗布層がまだ湿潤状態にあるうちに、磁
性層用塗布液をその上に塗布するいわゆるウェット・オ
ン・ウェット方式の塗布方法を採用するのが好ましい。
この塗布方式を採用することにより、非磁性層に対する
磁性層の密着性を高めることができ、本発明のように磁
性層の厚さが1.0μmと非常に薄くとも磁性層の剥れ
がなく、ドロップ・アウトが生じにくい走行耐久性の優
れた磁気記録ディスクを得ることができる。更に、薄く
ても厚さの均一性の高い磁性層を得ることができる。非
磁性層の塗布液を塗布、乾燥して非磁性層を形成してか
らその上に磁性層を塗布する方式では、磁性層が極めて
薄いためか、非磁性層と磁性層との密着性が充分でなく
非磁性支持体上に形成された層として、2層が一体的な
構造になり難いのである。
的な方法としては、 (1)磁性塗料で一般的に用いられるグラビア塗布、ロー
ル塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置に
よりまず下層を塗布し、その層がまだ湿潤状態にあるう
ちに、例えば、特公平1−46186号公報、特開昭6
0−238179合公報及び特開平2−265672号
公報に開示されている非磁性支持体加圧型エクストルー
ジョン塗布装置により上層を塗布する方法、 (2) 特開昭63−88080号公報、特開平2−17
971号公報及び特開平2−265672号公報に開示
されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵した塗
布ヘッドにより、下層の塗布液及び上層の塗布液をほぼ
同時に塗布する方法、 (3)特開平2−174965号公報に開示されているバ
ックアップロール付きエクストルージョン塗布装置によ
り、上層及び下層をほぼ同時に塗布する方法、等が挙げ
られる。
防止するために、例えば、特開昭62−95174号公
報及び特開平1−236968号公報に開示されている
ような方法により、塗布ヘッド内部の塗布液に剪断力を
付与することが望ましい。
で留意すべきこととして、塗布液の粘弾性特性(チクソ
トロピック性)がある。即ち、上層と下層の塗布液の粘
弾特性の差が大きいと塗布した際に、上層塗布層と下層
塗布層との界面で液の混じり合いが起こり、本発明のよ
うに上層の磁性層の厚さが非常に薄い場合、磁性層の表
面性が低下するなどの問題を引き起こし易い。
ためには、まず、上層と下層の分散粒子を同一にするこ
とが効果的であるが、本発明の場合は、それができない
ので、磁性層の塗布液中で磁性粒子が磁性により形成さ
れるストラクチャー構造がもたらす構造粘性と合わせる
ために、下層の非磁性層塗布液の非磁性粒子としてカー
ボンブラックのように構造粘性を形成し易い粒子を使用
することが望ましい。そのために本発明において、吸油
量が大きく且つ粒子サイズの小さいカーボンブラックを
使用することが有効であるが、同時にカーボンブラック
以外の粒子サイズの小さい非磁性粒子を使用することも
有効である。例えば、1μm以下の酸化チタン、酸化ア
ルミ等の粒子では、適度な凝集により粒子の構造粘性を
有した塗布液となり易い。
支持体はポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナ
フタレート、等のポリエステル類、ポリオレフィン類、
セルロ−ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリア
ミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォ
ン、などの公知のフィルムが使用できる。これらの支持
体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接
着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっても良い。
00μm、望ましくは20乃至85μmである。
非磁性層との間に密着性向上のためのポリエステル樹脂
等からなる下塗り層を設けてもかまわない。これらの厚
みは、通常、0.01乃至2μm、望ましくは、0.0
5乃至0.5μmである。
層は、非磁性支持体の片面もしくは両面に設けられる。
非磁性支持体の表面粗さは、中心線平均表面粗さ(R
a)(カットオフ値0.25mm)で0.03μm以
下、好ましくは0.02μm以下、さらに好ましくは
0.01μmμ以下のものを使用するのが望ましい。ま
た、これらの非磁性支持体は単に前記中心線平均表面粗
さが小さいだけではなく、1μm以上の粗大突起がない
ことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて非
磁性支持体に添加されるフィラ−の大きさと量により自
由にコントロ−ルされるものである。これらのフィラ−
の一例としては、Ca、Si、Tiなどの酸化物や炭酸
塩の他、アクリル系などの有機樹脂微粉末があげられ
る。本発明に用いられる非磁性支持体のウエブ走行方向
のF−5値は好ましくは5乃至50kg/mm2、ウエ
ブ幅方向のF−5値は好ましくは3乃至30kg/mm
2であり、ウエブ長い手方向のF−5値がウエブ幅方向
のF−5値より高いのが一般的であるが、特に幅方向の
強度を高くする必要があるときはその限りでない。
および幅方向の100℃30分での熱収縮率は好ましく
は3%以下、さらに望ましくは1.5%以下、80℃3
0分での熱収縮率は好ましくは1%以下、さらに望まし
くは0.5%以下である。破断強度は両方向とも5乃至
100kg/mm2、弾性率は100乃至2000kg
/mm2が望ましい。
形処理で使用するカレンダロ−ルとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロ−ルを使用する。また、金属ロ−ル同
志で加圧成形処理することもできる。加圧成形の処理温
度は、望ましくは70℃以上、さらに望ましくは80℃
以上である。線圧力は望ましくは200kg/cm、さ
らに好ましくは300kg/cm以上である。
有抵抗は望ましくは105乃至5×109オ−ム/sq、
磁性層の0.5%伸びでの弾性率はウエブ塗布方向、幅
方向とも望ましくは100乃至2000kg/mm2、
破断強度は望ましくは1乃至30kg/cm2、磁気記
録媒体の弾性率はウエブ塗布方向、幅方向とも望ましく
は100乃至1500kg/mm2、残留のびは望まし
くは0.5%以下、100℃以下のあらゆる温度での熱
収縮率は望ましくは1%以下、さらに望ましくは0.5
%以下、最も望ましくは0.1%以下である。
100mg/m2以下、さらに望ましくは10mg/m2
以下であり、磁性層に含まれる残留溶媒が非磁性層に含
まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。
とも望ましくは30容量%以下、さらに望ましくは10
容量%以下である。非磁性層の空隙率が磁性層の空隙率
より大きいほうが好ましいが非磁性層の空隙率が5%以
上であれば小さくてもかまはない。
を有するが、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物
理特性を変えることができるのは容易に推定されること
である。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を
向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低く
して磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどであ
る。
により、高密度の磁気記録が可能であり、特に、コンピ
ューター情報を保存・読み出しに使用されるディジタル
データ記録媒体に必須の重ね書き特性が、例えば、最短
記録波長が1.5μm以下であるような高密度記録にな
っても低下せず且つ走行耐久性も低下しないという利点
を有する。
及びその製造方法によってもたらされる前記の特徴によ
るものであり、特に、非磁性支持体上に形成する層の前
記構成及びその層の前記塗布方法に起因している。
はなく、トラック密度が高くなった場合にも本発明の磁
気記録ディスクを使用することにより、信号のクロスト
ークが少なく、ピークシフトの分離性に優れた記録がで
きる。そのため、記録トラック幅が50μm以下、トラ
ック密度14トラック/mm以上の条件で、最短記録波
長が1.5μm以下の記録をしても重ね書き適性に優
れ、走行耐久性も良好な記録・再生が可能である。
較例によって、具体的に説明する。尚、「部」とあるの
はすべて「重量部」のことである。
物のそれぞれを連続ニ−ダで混練したのち、サンドミル
をもちいて分散させた。得られた分散液にポリイソシア
ネ−トを非磁性層の塗布液には10部、磁性層の塗布液
には12部を加え、さらにそれぞれに酢酸ブチル40部
を加え,1μmの平均孔径を有するフィルタ-を用いて濾過
し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれ
ぞれ調整した。得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の非
磁性層の厚さが2μmになるように、その上に磁性層用
塗布液を、磁性層の乾燥後の厚さが0.45μmになる
ように、厚さ62μmで中心線表面粗さが0.01μm
のポリエチレンテレフタレ−ト支持体上に同時重層塗布
をおこない、両層がまだ湿潤状態にあるうちに周波数5
0Hz、磁場強度200ガウスまた周波数50Hz、1
20ガウスの2つの磁場強度交流磁場発生装置の中を通
過されランダム配向処理をおこない乾燥後、7段のカレ
ンダで温度90℃、線圧300kg/cmにて処理を行
い、3.5吋に打ち抜き表面研磨処理施した後、ライナ
ーが内側に設置済の3.5吋カートリッジに入れ、所定
の機構部品を付加し、3.5吋フロッピーディスクの試
料を作成した。
下のものに変更した他は実施例1と同一の条件で3.5
吋フロッピーディスクの試料を作成した。 αーアルミナ(住友化学社製 AKP−10) 10部 平均粒子サイズ1.0μm、比表面積 2.1m2/g
μmになるようにさらにその直後にその上に上層磁性層
乾燥厚さが0.2μmになるように塗布した以外は、実
施例1と同一の条件で3.5吋フロッピーディスクの試
料を作成した。
加量を以下のように変更した以外は、実施例1と同一の
条件で3.5吋フロッピーディスクの試料を作成した。 α−アルミナ(住友化学社製AKP−15) 3部 平均粒子サイズ0.7μm、比表面積 3.1m2/g
加量を以下のように変更した以外は、3.5吋フロッピ
ーディスクの試料を作成した。 α−アルミナ(住友化学社製AKP−15) 18部 平均粒子サイズ0.7μm、比表面積 3.1m2/g
下のように変更した以外は、実施例1と同一の条件で
3.5吋フロッピーディスクの試料を作成した。 α−アルミナ(住友化学社製 HITー50) 10部 平均粒子サイズ0.25μm、比表面積 8.5m2/g
下のものに変更した以外は、実施例1と同一の条件で
3.5吋フロッピーディスクの試料を作成した。 α−アルミナ(住友化学社製HITー100) 10部 平均粒子サイズ0.06μm、比表面積 26m2/g
去した以外は実施例1と同一の条件で3.5吋フロッピ
ーディスクの試料を作成した。
の厚さが2μmになるように塗布後、実施例1の条件
で、乾燥、カレンダー処理を行った。その後、その非磁
性層の上に磁性層を乾燥後の厚さが0.45μmになる
ように塗布し、磁性層の塗布層が湿潤状態のあるうちに
実施例1と同一の条件でランダム配向、乾燥、カレンダ
ー処理を3.5吋フロッピーディスクの試料を作成し
た。
になるようにした以外は、実施例1と同一の条件で3.
5吋フロッピーディスクの試料を作成した。
実施例1と同一の条件で塗布した以外は、実施例1と同
一の条件で3.5吋フロッピーディスクの試料を作成し
た。
ッピーディスクの試料を以下の測定条件で評価した。
Oeの磁場をかけ測定し、試料を10度おきに0度乃至
360度まで磁場を回転させ角型比を求め、その角型比
の最小値を最大値で除した値を算出し配向度とした。
型を用いギャップ長0.45μmのメタルインギャップ
ヘッド用い、それぞれ記録周波数625kHzで半径2
4.6mmの位置において記録した後ヘッド増幅機の再
生出力をテクトロニクス社製オシロスコープ7633型
で測定した。 実施例1の出力を100として相対値で
示した。
の1周における最大値Vmaxと最小値Vminを ((Vma
x−Vmin)/(Vmax+Vmin))×100(重量%)の
式に代入して求めた。
の位置で、交流消磁済みサンプルに312.5kHz記
録しアドバンテスト社製TR4171型スペクトラムア
ナライザで312.5kHz成分の出力O1(dB)を
測定した後直ちに1MHzを重ね書きしその時の31
2.5kHz成分の出力O2(dB)から重ね書き O
2−O1(dB)を求めた。
31型を用い、記録周波数625kHzで全240トラ
ックに記録した後半径が中心から37.25mmの位置
において以下のフローを1サイクルとするサーモサイク
ル試験を実施した。このサ−モ条件下において、パス回
数で2500万回まで走行させたときの走行状態をもっ
て、走行耐久性を評価した。 [サーモサイクルフロー] (25℃ 50%RH条件下に1時間保持)→(2時間
昇温)→ (60℃ 20%RH条件下に7時間保持)
→(2時間降温)→(25℃ 50%RH条件下に1時
間保持)→(2時間降温)→(5℃ 50%RH条件下
に7時間保持)→(昇温2時間)→(25℃ 50%R
H条件下に1時間保持)→以後繰り返し(中心線平均表
面粗さ(Ra))三次元表面粗さ計(小坂研究所製)を
用いカットオフ値0.25mmで測定した。 以上の評
価方法で得られた実施例、比較例のそれぞれの特性値の
評価結果を以下の表1に示した。
モジュレーション、オーバーライトの各電磁変換特性に
おいて優れた特性を示し、サイクル耐久性においても安
定した結果を示している。
の研磨剤を使用した比較例1乃至比較3は、耐久性にお
いてヘッド貼り付きで停止あるいは、磁性層の削れが発
生した。また、同時重層塗布でない比較例4は表面粗さ
がやや大きく、再生出力が幾らか低いものの耐久性が良
好であった。。非磁性層を設けなかった比較例6の磁気
記録媒体は表面性が劣化し、再生出力が大幅低下、サイ
クル耐久性も不十分な結果となった。
なオバーライト特性が得られていない。通常、デジタル
記録媒体においてはー30dB以下のオバーライト特性
が必要とされる。さらには走行耐久性も実施例に比較し
て劣った(比較例5)。
記のダイヤモンド粉末変更した以外は、実施例1と同一
の条件で3.5吋フロッピーディスクの試料を作成し
た。 ダイヤモンド粉末 1部 (平均粒子サイズ 0.3μm、モース硬度 10)
2をα−Fe2O3(戸田工業製TF−100):平均粒
子径0.34μm、BET法の非表面積 11m2/g
pH 5.6に変えた以外は、実施例1と同一の条件
で3.5吋のフロッピーディスクのサンプルを作成し
た。
均粒子径が0.6μmのものを使用した以外は実施例1
と同一の条件で3.5吋のフロッピーディスクのサンプ
ルを作成した。
となるように塗布した以外は、実施例6と同一の条件で
3.5吋のフロッピーディスクのサンプルを作成した。
になるようにした以外は、実施例6と同一の条件で3.
5吋のフロッピーディスクの試料を作成した。
実施例6と同一の条件で塗布した以外は、実施例6と同
一の条件で3.5吋フロッピーディスクの試料を作成し
た。実施例6〜実施例9及び比較例7及び比較例8の評
価結果を以下の表2に示す。
にその上に磁性層用塗布塗布層を形成した非磁性層及び
1μm以下の磁性層が非磁性支持体上にこの順で形成さ
れている磁気記録媒体において、磁性層中にモース硬度
6以上でかつ前記磁性層の厚さよりも平均粒子径が大き
い研磨剤を含有させるかもしくはモース硬度9以上であ
る研磨剤を含有させることにより、電磁変換特性及び重
ね書き特性が共に優れ且つ走行耐久性にも優れた特に高
容量磁気記録ディスクに最適な磁気記録媒体を得ること
ができる。
Claims (6)
- 【請求項1】 非磁性支持体上に非磁性粉末及び結合剤
樹脂を主体とする非磁性層及び強磁性粉末及び結合剤樹
脂を主体とする磁性層がこの順に形成されている磁気記
録媒体において、該磁性層の厚さは1.0μm以下であ
り、前記磁性層中にモース硬度6以上でかつ前記磁性層
の厚さよりも平均粒子径が大きい研磨剤を含有すること
を特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】 前記強磁性粉末が強磁性金属粉末もしく
は強磁性六方晶系フェライト粉末であることを特徴とす
る請求項1に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項3】 前記磁性層中における前記強磁性粉末の
粒子の配向度比が0.85以上であって、形状がディス
クであることを特徴とする請求項1または2に記載の磁
気記録媒体。 - 【請求項4】 前記磁性層中に含有される研磨剤の平均
粒子径は0.05乃至3μmであることを特徴とする請
求項1〜3のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項5】 前記磁気記録媒体がデータ記録用の磁気
ディスク用であることを特徴とする請求項1〜4のいず
れか1項に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項6】 非磁性粉末を結合剤中に分散させた下層
非磁性層用塗布液と、強磁性粉末とモース硬度6以上で
かつ乾燥後の磁性層の厚さよりも平均粒子径が大きい研
磨剤を結合剤中に分散させた磁性層用塗布液をそれぞれ
調製し、非磁性支持体上に前記非磁性層用塗布液を塗布
して得られた下層非磁性層が湿潤状態のうちに下層非磁
性層の塗布と同時又は逐次に、前記磁性層の乾燥厚みが
1μm以下となるように前記磁性層用塗布液を塗布する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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| JP4006574A JP2566085B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4006574A JP2566085B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | 磁気記録媒体 |
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|---|---|
| JPH05197946A JPH05197946A (ja) | 1993-08-06 |
| JP2566085B2 true JP2566085B2 (ja) | 1996-12-25 |
Family
ID=11642106
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP4006574A Expired - Fee Related JP2566085B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | 磁気記録媒体 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2566085B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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-
1992
- 1992-01-17 JP JP4006574A patent/JP2566085B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6372302B1 (en) | 1999-09-10 | 2002-04-16 | Tdk Corporation | Process for producing a magnetic recording medium |
| US6821602B2 (en) | 1999-09-10 | 2004-11-23 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium and process for producing the same |
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| JPH05197946A (ja) | 1993-08-06 |
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