JP2550281Y2 - ペリクル用フレーム - Google Patents
ペリクル用フレームInfo
- Publication number
- JP2550281Y2 JP2550281Y2 JP9693691U JP9693691U JP2550281Y2 JP 2550281 Y2 JP2550281 Y2 JP 2550281Y2 JP 9693691 U JP9693691 U JP 9693691U JP 9693691 U JP9693691 U JP 9693691U JP 2550281 Y2 JP2550281 Y2 JP 2550281Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frame
- pellicle
- quartz glass
- present
- pellicle frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】プロジェクションアライナー、ス
テッパ用のフォトマスク、レティクルに用いる防塵用に
使用するペリクルを形成する際のフレームに関するもの
である。
テッパ用のフォトマスク、レティクルに用いる防塵用に
使用するペリクルを形成する際のフレームに関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来からフォトマスクやレティクルなど
の透明基板（以下マスクと記す）の防塵用に光線透過率
の高い薄膜（０．８５μｍ〜１０μｍ程度の透明フィル
ム）を設けたペリクル用のフレームは、金属製やプラス
チック製のフレームが使用されている。例えば、アルミ
ニウム合金やプラスチック製のフレームの四隅を４ｍｍ
〜２０ｍｍ程度コーナーをカットして、ニトロセルロー
スやセロースアセテート等の光線透過率の高い素材を形
成したペリクルとして実開平２−２９０４４号公報で公
開されている。
の透明基板（以下マスクと記す）の防塵用に光線透過率
の高い薄膜（０．８５μｍ〜１０μｍ程度の透明フィル
ム）を設けたペリクル用のフレームは、金属製やプラス
チック製のフレームが使用されている。例えば、アルミ
ニウム合金やプラスチック製のフレームの四隅を４ｍｍ
〜２０ｍｍ程度コーナーをカットして、ニトロセルロー
スやセロースアセテート等の光線透過率の高い素材を形
成したペリクルとして実開平２−２９０４４号公報で公
開されている。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
アルミニウム合金やプラスチックフレームにおいてはマ
スクサイズが２００ｍｍを超える場合に、フレーム加工
時の残留歪み、内部応力を除去できず、フレームの反
り、歪みが生じペリクルの成膜に悪い影響を与えてい
る。又アルミニウム合金やプラスチックフレームは傷が
つき易いため傷の部分にパーティクル（微細なチリやゴ
ミ）が附着し、フレームからのチリやゴミの落下が問題
となっている。そこで本考案は、サイズが大きくなって
もフレームに反りや歪みがなく、露光の際も乱反射を起
こさない無反射性のコーティングを施した、ガラス基材
によるペリクル用のフレームを提供することを目的とす
るものである。
アルミニウム合金やプラスチックフレームにおいてはマ
スクサイズが２００ｍｍを超える場合に、フレーム加工
時の残留歪み、内部応力を除去できず、フレームの反
り、歪みが生じペリクルの成膜に悪い影響を与えてい
る。又アルミニウム合金やプラスチックフレームは傷が
つき易いため傷の部分にパーティクル（微細なチリやゴ
ミ）が附着し、フレームからのチリやゴミの落下が問題
となっている。そこで本考案は、サイズが大きくなって
もフレームに反りや歪みがなく、露光の際も乱反射を起
こさない無反射性のコーティングを施した、ガラス基材
によるペリクル用のフレームを提供することを目的とす
るものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本考案はプロジェクショ
ンアライナー、ステップ用のフォトマスクやレティクル
に用いる光線透過率の高い薄膜を設けたペリクルにおい
て、少なくとも、フレーム内側に、酸化クロムを単層も
しくは複数層に施してなるガラス基材を用いたフレーム
である。
ンアライナー、ステップ用のフォトマスクやレティクル
に用いる光線透過率の高い薄膜を設けたペリクルにおい
て、少なくとも、フレーム内側に、酸化クロムを単層も
しくは複数層に施してなるガラス基材を用いたフレーム
である。
【０００５】本考案を詳細に説明すると、ペリクル用の
フレーム基材として、石英ガラス、低膨張ガラス等が使
用することができるが、例えば、石英ガラスは、熱膨張
率が他に比べ１桁小さく（熱膨張係数、７．５×１０-7
以下）、剛性が高く、歪みによる成膜時の不良発生を防
ぎフレーム品質を向上させるものである。又、マスクを
用いて紫外光による露光の際、光に対しての反射防止用
の加工を施すが、これには、酸化クロムを単層もしくは
複数層（２乃至３層が適当である）に、フレーム内側又
は両面にイオンプレーティング、スパッタリング、真空
蒸着等より適宜選択して無反射性にしたものである。こ
の理由は光が反射すると安定した露光が防げられるため
である。
フレーム基材として、石英ガラス、低膨張ガラス等が使
用することができるが、例えば、石英ガラスは、熱膨張
率が他に比べ１桁小さく（熱膨張係数、７．５×１０-7
以下）、剛性が高く、歪みによる成膜時の不良発生を防
ぎフレーム品質を向上させるものである。又、マスクを
用いて紫外光による露光の際、光に対しての反射防止用
の加工を施すが、これには、酸化クロムを単層もしくは
複数層（２乃至３層が適当である）に、フレーム内側又
は両面にイオンプレーティング、スパッタリング、真空
蒸着等より適宜選択して無反射性にしたものである。こ
の理由は光が反射すると安定した露光が防げられるため
である。
【０００６】
【作用】本考案の石英ガラスによるペリクル用フレーム
によって、ペリクル（厚さ０．８５μｍ〜１０μｍ程
度）の成膜が正確にでき、大きなマスクのために、フレ
ームを大きくしても、フレームに反り、ゆがみが発生し
ないのでウエハーに対しても正確な露光精度が保持する
ことができ、高い精度の微細パターンの再現が可能とな
る。
によって、ペリクル（厚さ０．８５μｍ〜１０μｍ程
度）の成膜が正確にでき、大きなマスクのために、フレ
ームを大きくしても、フレームに反り、ゆがみが発生し
ないのでウエハーに対しても正確な露光精度が保持する
ことができ、高い精度の微細パターンの再現が可能とな
る。
【０００７】
【実施例】本考案を図に基づき実施例を説明する。図１
は本考案の一実施例による石英ガラスを用いたペリクル
用フレームの斜視図である。ペリクル用フレーム（１）
の基材として、石英ガラス、低膨張ガラス等が用いるこ
とが可能であるが、前述したように本考案においては熱
膨張率が小さく、耐久性の高い石英ガラスを使用した。
フレーム（１）の高さは、３ｍｍ〜７ｍｍ程度、厚さは
５ｍｍ〜１０ｍｍ程度がよく、また、フレームの大きさ
はマスクの大きさに合わせて形成する。このフレーム
（１）に厚さ０．８５μｍ〜１０μｍ程度で、光線透過
率９８％以上のニトロセロース又はセルロースアセテー
トをスピンコート法等により成膜してペリクル（２）と
する。図２は一実施例によるマスクのパターン面を内側
にして、上方より紫外光によりペリクルを通してウエハ
ー上に露光、パターニングをしている説明図である。こ
の場合、紫外光線（５）がペリクル用フレーム内で乱反
射等が起きないよう、予め、酸化クロムを単層もしくは
２層乃至３層にイオンプレーティング等により薄膜を形
成しておくことにより安定した精度のよい露光が可能と
なる。
は本考案の一実施例による石英ガラスを用いたペリクル
用フレームの斜視図である。ペリクル用フレーム（１）
の基材として、石英ガラス、低膨張ガラス等が用いるこ
とが可能であるが、前述したように本考案においては熱
膨張率が小さく、耐久性の高い石英ガラスを使用した。
フレーム（１）の高さは、３ｍｍ〜７ｍｍ程度、厚さは
５ｍｍ〜１０ｍｍ程度がよく、また、フレームの大きさ
はマスクの大きさに合わせて形成する。このフレーム
（１）に厚さ０．８５μｍ〜１０μｍ程度で、光線透過
率９８％以上のニトロセロース又はセルロースアセテー
トをスピンコート法等により成膜してペリクル（２）と
する。図２は一実施例によるマスクのパターン面を内側
にして、上方より紫外光によりペリクルを通してウエハ
ー上に露光、パターニングをしている説明図である。こ
の場合、紫外光線（５）がペリクル用フレーム内で乱反
射等が起きないよう、予め、酸化クロムを単層もしくは
２層乃至３層にイオンプレーティング等により薄膜を形
成しておくことにより安定した精度のよい露光が可能と
なる。
【０００８】
【考案の効果】本考案のペリクル用フレームは基材とし
て、石英ガラスを使用することによりフレームが大きく
なっても、反り、歪み、を防止することができるととも
に、傷がつきにくく、フレームからのパーティクル等の
落下の心配がない。又、工程中あるいは使用前に薬品等
による洗浄が可能であり、長時間使用しても変化が少な
いのでペリクルを張りかえることにより再利用ができる
フレームである。
て、石英ガラスを使用することによりフレームが大きく
なっても、反り、歪み、を防止することができるととも
に、傷がつきにくく、フレームからのパーティクル等の
落下の心配がない。又、工程中あるいは使用前に薬品等
による洗浄が可能であり、長時間使用しても変化が少な
いのでペリクルを張りかえることにより再利用ができる
フレームである。
【図１】本考案の一実施例による石英ガラスを用いたペ
リクル用フレームの斜視図である。
リクル用フレームの斜視図である。
【図２】本考案のペリクル用フレームを用いてのウエハ
ーへの露光パターニングを示す一実施例の説明図であ
る。
ーへの露光パターニングを示す一実施例の説明図であ
る。
１ … 石英ガラスによるペリクル用フレーム ２ … ペリクル ３ … マスク ４ … パターン ５ … 紫外光線 ６ … ウエハー
Claims (1)
- 【請求項１】プロジェクションアライナー、ステップ用
のフォトマスクやレティクルに用いる光線透過率の高い
薄膜を設けたペリクルにおいて、少なくともフレーム内
側に、酸化クロムを単層もしくは複数層に施してなるガ
ラス基材を用いたフレーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9693691U JP2550281Y2 (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | ペリクル用フレーム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9693691U JP2550281Y2 (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | ペリクル用フレーム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0545710U JPH0545710U (ja) | 1993-06-18 |
| JP2550281Y2 true JP2550281Y2 (ja) | 1997-10-08 |
Family
ID=14178224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9693691U Expired - Lifetime JP2550281Y2 (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | ペリクル用フレーム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2550281Y2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07248615A (ja) * | 1994-03-09 | 1995-09-26 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 防塵膜 |
| JP3775745B2 (ja) * | 1994-10-07 | 2006-05-17 | 株式会社渡辺商行 | レチクル |
| JP3529062B2 (ja) * | 1994-10-07 | 2004-05-24 | 株式会社渡辺商行 | ペリクル及びレチクル |
| JP2007041489A (ja) | 2004-12-14 | 2007-02-15 | Fujitsu Ten Ltd | 表示装置、枠部材および反射抑制部材 |
| EP3584636A4 (en) * | 2017-02-17 | 2020-12-30 | Mitsui Chemicals, Inc. | PELLICLE, ORIGINAL EXPOSURE PLATE, EXPOSURE DEVICE, AND SEMICONDUCTORIAL COMPONENT MANUFACTURING METHOD |
-
1991
- 1991-11-26 JP JP9693691U patent/JP2550281Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0545710U (ja) | 1993-06-18 |
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