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JP2025119568A - Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film and liquid crystal element - Google Patents

Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film and liquid crystal element

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Publication number
JP2025119568A
JP2025119568A JP2024191891A JP2024191891A JP2025119568A JP 2025119568 A JP2025119568 A JP 2025119568A JP 2024191891 A JP2024191891 A JP 2024191891A JP 2024191891 A JP2024191891 A JP 2024191891A JP 2025119568 A JP2025119568 A JP 2025119568A
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JP
Japan
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liquid crystal
group
carbon atoms
polymer
crystal alignment
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Pending
Application number
JP2024191891A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
一聖 鈴木
Kazumasa Suzuki
嘉崇 村上
Yoshitaka Murakami
政博 登
Masahiro Nobori
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JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
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Filing date
Publication date
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  • Liquid Crystal (AREA)
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Abstract

To provide a liquid crystal alignment agent capable of achieving a liquid crystal device excellent in reliability and impurity resistance while difficult to cause a deposition of a polymer at idling while applying an inkjet coating.SOLUTION: A liquid crystal alignment agent includes a polymer (P) including a structural unit derived from a diamine expressed by formula (1) and being at least one kind selected from a group including a polyamic acid, a polyamic acid ester and a polyimide. In formula (1), R1 and R2 are a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms. However, at least one of R1 and R2 is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms. R3 and R4 are a hydrogen atom or a monovalent group having a nitrogen-containing heterocycle structure. However, at least one of R3 and R4 is a monovalent group having a nitrogen-containing heterocycle structure.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子に関する。 The present invention relates to a liquid crystal alignment agent, a liquid crystal alignment film, and a liquid crystal device.

液晶素子は、液晶層中の液晶分子を一定の方向に配向させる機能を有する液晶配向膜を備えている。液晶配向膜は、一般に、重合体成分が有機溶媒に溶解されてなる液晶配向剤を基板表面に塗布し、好ましくは加熱することによって基板上に形成される。 Liquid crystal elements are equipped with a liquid crystal alignment film that functions to align the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer in a specific direction. Liquid crystal alignment films are generally formed on substrates by applying a liquid crystal alignment agent, which is made by dissolving a polymer component in an organic solvent, to the substrate surface and then preferably heating the applied material.

近年、大画面で高精細な液晶テレビが主体となり、またスマートフォンやタブレットPC等といった小型の表示端末の普及が進み、液晶素子に対する高品質化の要求は従来よりも高まっている。また、液晶素子には、使用に伴う劣化の少なく、信頼性が高いことが求められている。これに対し、従来、ピリジン環等の窒素含有芳香族複素環を重合体の側鎖に導入可能なジアミンを用い、当該ジアミンに由来する構造単位を含む重合体を液晶配向剤に含有させることが提案されている(特許文献1参照)。 In recent years, large-screen, high-definition LCD televisions have become mainstream, and small display devices such as smartphones and tablet PCs have become increasingly popular, resulting in greater demand for higher quality liquid crystal elements. Liquid crystal elements are also required to be highly reliable and to withstand little degradation during use. To address this, it has been proposed to use a diamine that can introduce a nitrogen-containing aromatic heterocycle, such as a pyridine ring, into the side chain of a polymer, and to incorporate a polymer containing structural units derived from this diamine into a liquid crystal aligning agent (see Patent Document 1).

近年、液晶テレビの普及が進んでおり、いわゆる「第8世代」や「第10世代」と呼ばれる大型ラインも稼動している。大型ラインを使用して基板を大型化するメリットとしては、基板一枚から複数枚のパネルが取れるため、工程時間を削減でき、コストを低減できることや、液晶表示素子自体の大型化に対応できる点が挙げられる。その反面、基板の大型化により、液晶配向剤の印刷の均一性を大面積にわたって確保することが困難であるというデメリットがある。これに対し、液晶配向膜の形成にインクジェット塗布法を利用する検討がなされている。 LCD televisions have become increasingly popular in recent years, and large-scale lines known as "8th generation" and "10th generation" are now in operation. The advantages of using large lines to produce larger substrates include the ability to produce multiple panels from a single substrate, which reduces processing time and costs, and allows for larger LCD display elements. However, the disadvantage is that larger substrates make it difficult to ensure uniform printing of liquid crystal alignment agents over a large area. To address this issue, the use of inkjet coating methods to form liquid crystal alignment films is being considered.

インクジェット塗布法のメリットとしては、均一な塗布を期待できることのほか、例えば、印刷にあたって使用される液晶配向剤が現実に塗布される液量と実質的に等しいため、液晶配向剤の使用量削減を期待できることが挙げられる。また、印刷版を使用しないため、その交換や洗浄が不要になるなど、メンテナンスにかかる時間、労力及びコストを低減できることや、多様なパネルサイズに対応できる柔軟性を有することが挙げられる。 The advantages of the inkjet coating method include the possibility of uniform application, as well as the potential for a reduction in the amount of liquid crystal alignment agent used, since the amount of liquid used during printing is essentially the same as the amount actually applied. Furthermore, because no printing plates are used, there is no need to replace or clean them, reducing the time, effort, and cost required for maintenance, and the flexibility to accommodate a variety of panel sizes.

特開2015-026052号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-026052

液晶素子の性能(電圧保持率や膜透過率等)は、液晶素子中の不純物の影響を受けやすい。例えば、液晶分子と接する液晶配向膜中に不純物が存在し、その不純物が液晶中に溶出した場合、液晶素子の性能低下を招き、素子の信頼性が低下するおそれがある。 The performance of liquid crystal elements (such as voltage holding ratio and film transmittance) is easily affected by impurities within the element. For example, if impurities are present in the liquid crystal alignment film that comes into contact with the liquid crystal molecules and dissolve into the liquid crystal, this can lead to a decrease in the performance of the liquid crystal element and reduce the reliability of the element.

また、4Kや8Kといった高精細な液晶パネルには絶縁膜が設けられることが多い。絶縁膜が設けられた液晶パネルでは、絶縁膜からのイオン性不純物が液晶配向膜を介して液晶中に溶出することがある。イオン性不純物が液晶中に溶出した場合、電圧保持率が低下するなど、液晶素子の品質が低下することが懸念される。そのため、液晶配向膜には、素子内に生じた不純物が液晶中に侵入することを抑制し、不純物に起因する電圧保持率の低下を抑止する性能(以下、「不純物耐性」ともいう)に優れることが求められる。 In addition, high-definition liquid crystal panels such as 4K and 8K often have an insulating film. In liquid crystal panels with an insulating film, ionic impurities from the insulating film can leach into the liquid crystal through the liquid crystal alignment film. If ionic impurities leach into the liquid crystal, there is concern that the quality of the liquid crystal element will deteriorate, such as by reducing the voltage holding ratio. For this reason, liquid crystal alignment films are required to have excellent performance (hereinafter referred to as "impurity resistance") that prevents impurities generated within the element from penetrating into the liquid crystal and prevents a decrease in the voltage holding ratio caused by impurities.

さらに、特許文献1のように、窒素含有芳香族複素環を液晶配向膜中に導入することによって液晶素子の性能を改善しようとした場合、重合体成分が有する官能基(例えばカルボキシ基)と窒素含有芳香族複素環との相互作用によって溶解性の低下を引き起こすことが考えられる。そのため、インクジェット塗布により基板上に液晶配向膜を形成する場合、インクジェット塗布装置のアイドリング中にインクジェットヘッド部分に液晶配向剤中の重合体成分が析出しやすくなることが懸念される。また、ヘッド部分に重合体成分の析出が生じた場合、インクジェットの詰まりが生じて塗布性が低下したり、析出物によって膜の表面均一性が低下したりすることが懸念される。 Furthermore, when attempting to improve the performance of liquid crystal devices by introducing a nitrogen-containing aromatic heterocycle into a liquid crystal alignment film, as in Patent Document 1, it is thought that a decrease in solubility may occur due to interactions between the functional groups (e.g., carboxy groups) of the polymer component and the nitrogen-containing aromatic heterocycle. Therefore, when forming a liquid crystal alignment film on a substrate by inkjet coating, there is a concern that the polymer component in the liquid crystal alignment agent may be more likely to precipitate in the inkjet head portion while the inkjet coating device is idling. Furthermore, if the polymer component precipitates in the head portion, there is a concern that the inkjet may become clogged, reducing coating performance, or that the precipitates may reduce the surface uniformity of the film.

本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、インクジェット塗布時のアイドリング中に重合体の析出が生じにくく、かつ信頼性及び不純物耐性に優れた液晶素子を得ることができる液晶配向剤を提供することを一つの目的とする。 The present invention was developed in consideration of the above-mentioned problems, and one of its objectives is to provide a liquid crystal alignment agent that is less likely to cause polymer precipitation during idling during inkjet coating and that can produce liquid crystal devices with excellent reliability and impurity resistance.

本発明によれば、一つの態様において、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも1種であって、下記式(1)で表されるジアミンに由来する構造単位を含む重合体(P)を含有する液晶配向剤が提供される。
(式(1)中、R及びRは、互いに独立して、水素原子又は炭素数1~6の1価の有機基である。ただし、R及びRの少なくとも一方は、炭素数1~6の1価の有機基である。R及びRは、互いに独立して、水素原子又は含窒素複素環構造を有する1価の基である。ただし、R及びRの少なくとも一方は、含窒素複素環構造を有する1価の基である。)
According to one aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal aligning agent containing a polymer (P) which is at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, and polyimide and which contains a structural unit derived from a diamine represented by the following formula (1):
(In formula (1), R1 and R2 are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, provided that at least one of R1 and R2 is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms. R3 and R4 are each independently a hydrogen atom or a monovalent group having a nitrogen-containing heterocyclic structure, provided that at least one of R3 and R4 is a monovalent group having a nitrogen-containing heterocyclic structure.)

本発明によれば、他の一つの態様において、上記〔1〕の液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜が提供される。また、本発明によれば、他の一つの態様において、上記〔2〕の液晶配向膜を備える液晶素子が提供される。 In another aspect, the present invention provides a liquid crystal alignment film formed using the liquid crystal alignment agent described above in [1]. In another aspect, the present invention provides a liquid crystal element including the liquid crystal alignment film described above in [2].

本発明によれば、他の一つの態様において、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル又はポリイミドであって、上記式(1)で表されるジアミンに由来する構造単位を含む、重合体が提供される。また、本発明によれば、他の一つの態様において、上記式(1)で表されるジアミンが提供される。 In another aspect, the present invention provides a polymer that is a polyamic acid, a polyamic acid ester, or a polyimide and includes structural units derived from the diamine represented by formula (1) above. In another aspect, the present invention provides a diamine represented by formula (1) above.

本発明の液晶配向剤によれば、インクジェット塗布時のアイドリング中にインクジェットヘッド部分に重合体の析出が生じることを抑制することができる。また、本発明の液晶配向剤によれば、信頼性及び不純物耐性に優れた液晶素子を得ることができる。 The liquid crystal aligning agent of the present invention can prevent polymer precipitation from occurring in the inkjet head during idling during inkjet coating. Furthermore, the liquid crystal aligning agent of the present invention can provide liquid crystal devices with excellent reliability and impurity resistance.

実施例及び比較例で使用した透明電極膜の電極パターンを示す図。FIG. 2 is a diagram showing an electrode pattern of a transparent electrode film used in Examples and Comparative Examples.

以下、本開示の態様に関連する事項について詳細に説明する。 The following provides a detailed explanation of matters related to aspects of this disclosure.

ここで、本明細書において、「~」を用いて記載された数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味である。「構造単位」とは、主鎖構造を主として構成する単位であって、少なくとも主鎖構造中に2個以上含まれる単位をいう。構造単位は、典型的には、1つの単量体を基に構成される繰り返し単位である。なお、構造単位は、反応性基を有する繰り返し単位に対し、当該反応性基と反応し得る官能基を有する化合物を反応させることによって得られるものであってもよい。 In this specification, numerical ranges indicated using "to" include the numerical values before and after "to" as the lower and upper limits. A "structural unit" refers to a unit that primarily constitutes the main chain structure, and at least two or more of which are contained in the main chain structure. A structural unit is typically a repeating unit composed of a single monomer. Note that a structural unit may be obtained by reacting a repeating unit having a reactive group with a compound having a functional group capable of reacting with the reactive group.

本明細書において「炭化水素基」とは、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基を含む意味である。「鎖状炭化水素基」とは、環状構造を含まず、鎖状構造のみで構成された直鎖状炭化水素基及び分岐状炭化水素基を意味する。ただし、飽和でも不飽和でもよい。「脂環式炭化水素基」とは、環構造としては脂環式炭化水素の構造のみを含み、芳香環構造を含まない炭化水素基を意味する。ただし、脂環式炭化水素の構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造を有するものも含む。「芳香族炭化水素基」とは、環構造として芳香環構造を含む炭化水素基を意味する。ただし、芳香環構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造や脂環式炭化水素の構造を含んでいてもよい。「有機基」とは、炭素を含む化合物(すなわち有機化合物)から任意の水素原子を取り除いてなる原子団をいう。 As used herein, the term "hydrocarbon group" includes chain hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups, and aromatic hydrocarbon groups. A "chain hydrocarbon group" refers to a linear hydrocarbon group or a branched hydrocarbon group that does not contain a cyclic structure and is composed solely of a chain structure. However, it may be saturated or unsaturated. An "alicyclic hydrocarbon group" refers to a hydrocarbon group that contains only an alicyclic hydrocarbon structure as a ring structure and does not contain an aromatic ring structure. However, it does not necessarily have to be composed solely of an alicyclic hydrocarbon structure, and it may also contain a chain structure as part of its structure. An "aromatic hydrocarbon group" refers to a hydrocarbon group that contains an aromatic ring structure as a ring structure. However, it does not necessarily have to be composed solely of an aromatic ring structure, and it may contain a chain structure or an alicyclic hydrocarbon structure as part of its structure. An "organic group" refers to an atomic group formed by removing any hydrogen atom from a carbon-containing compound (i.e., an organic compound).

重合体の「主鎖」とは、重合体のうち最も長い原子の連鎖からなる「幹」の部分をいう。この「幹」の部分が環構造を含むことは許容される。例えば、「特定構造を主鎖に有する」とは、その特定構造が主鎖の一部分を構成することをいう。「側鎖」とは、重合体の「幹」の部分から分岐した部分をいう。 The "main chain" of a polymer refers to the "trunk" portion of the polymer, which is made up of the longest chain of atoms. It is permissible for this "trunk" portion to contain a ring structure. For example, "having a specific structure in the main chain" means that the specific structure constitutes part of the main chain. A "side chain" refers to a portion branching off from the "trunk" portion of the polymer.

≪液晶配向剤≫
本開示の液晶配向剤は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも1種であって、下記式(1)で表されるジアミン(以下、「特定ジアミン」ともいう。)に由来する構造単位を含む重合体(P)を含有する。
(式(1)中、R及びRは、互いに独立して、水素原子又は炭素数1~6の1価の有機基である。ただし、R及びRの少なくとも一方は、炭素数1~6の1価の有機基である。R及びRは、互いに独立して、水素原子又は含窒素複素環構造を有する1価の基である。ただし、R及びRの少なくとも一方は、含窒素複素環構造を有する1価の基である。)
<Liquid crystal alignment agent>
The liquid crystal aligning agent of the present disclosure contains a polymer (P) which is at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, and polyimide, and which contains a structural unit derived from a diamine represented by the following formula (1) (hereinafter also referred to as a “specific diamine”):
(In formula (1), R1 and R2 are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, provided that at least one of R1 and R2 is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms. R3 and R4 are each independently a hydrogen atom or a monovalent group having a nitrogen-containing heterocyclic structure, provided that at least one of R3 and R4 is a monovalent group having a nitrogen-containing heterocyclic structure.)

以下、本開示の液晶配向剤に含まれる重合体(P)、及び必要に応じて任意に配合される成分について詳しく説明する。なお、各成分については、特に言及しない限り、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The polymer (P) contained in the liquid crystal aligning agent of the present disclosure and the optional components that are blended as needed are described in detail below. Unless otherwise specified, each component may be used alone or in combination of two or more.

<重合体(P)>
重合体(P)は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル又はポリイミドを主骨格とする重合体であり、特定ジアミンに由来する構造単位を含む。上記式(1)において、R又はRで表される炭素数1~6の1価の有機基としては、炭素数1~6の1価の炭化水素基、1価の炭化水素基における任意のメチレン基が-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR10-、-NR10-CO-、-CO-NR10-、-O-CO-NR10-、-NR10-CO-O-又は-NR10-CO-NR11-等のヘテロ原子含有基により置き換えられた炭素数1~6の基(これを「基R」とする。)、1価の炭化水素基又は基Rにおける任意の水素原子が置換基に置き換えられた炭素数1~6の基等が挙げられる。ここで、R10及びR11は、互いに独立して、水素原子又は1価の炭化水素基である。
<Polymer (P)>
The polymer (P) is a polymer having a polyamic acid, polyamic acid ester, or polyimide as a main skeleton, and contains a structural unit derived from a specific diamine. In the above formula (1), examples of the monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms represented by R1 or R2 include monovalent hydrocarbon groups having 1 to 6 carbon atoms, groups having 1 to 6 carbon atoms in which any methylene group in a monovalent hydrocarbon group has been replaced by a heteroatom-containing group such as -O-, -S-, -CO-, -COO- , -OCO-, -NR10- , -NR10 -CO-, -CO- NR10- , -O-CO- NR10- , -NR10 -CO-O-, or -NR10-CO- NR11- (hereinafter referred to as "group R a "), and groups having 1 to 6 carbon atoms in which any hydrogen atom in a monovalent hydrocarbon group or group R a has been replaced by a substituent. Here, R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group.

炭素数1~6の1価の炭化水素基としては、炭素数1~6の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数2~6の直鎖状又は分岐状のアルケニル基、炭素数2~6の直鎖状又は分岐状のアルキニル基、炭素数3~6の1価の脂環式炭化水素基、及びフェニル基が挙げられる。 Examples of monovalent hydrocarbon groups having 1 to 6 carbon atoms include linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, linear or branched alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms, linear or branched alkynyl groups having 2 to 6 carbon atoms, monovalent alicyclic hydrocarbon groups having 3 to 6 carbon atoms, and phenyl groups.

炭素数1~6のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、sec-ペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられる。炭素数2~6の直鎖状又は分岐状のアルケニル基としては、エテニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基等が挙げられる。炭素数2~6の直鎖状又は分岐状のアルキニル基としては、エチニル基、1-プロピニル基、2-プロピニル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基等が挙げられる。 Specific examples of alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, sec-pentyl, tert-pentyl, n-hexyl, and isohexyl. Examples of linear or branched alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms include ethenyl, 1-propenyl, 2-propenyl, 1-butenyl, and 2-butenyl. Examples of linear or branched alkynyl groups having 2 to 6 carbon atoms include ethynyl, 1-propynyl, 2-propynyl, 1-butynyl, and 2-butynyl.

炭素数3~6の1価の脂環式炭化水素基としては、環構造として、炭素数3~6の飽和又は不飽和の脂環式単環炭化水素構造を有する基が挙げられる。脂環式炭化水素基が有する環の具体例としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロペンテン、シクロヘキセン等が挙げられる。 Examples of monovalent alicyclic hydrocarbon groups having 3 to 6 carbon atoms include groups having a saturated or unsaturated alicyclic monocyclic hydrocarbon structure having 3 to 6 carbon atoms as the ring structure. Specific examples of rings in alicyclic hydrocarbon groups include cyclopentane, cyclohexane, cyclopentene, and cyclohexene.

又はRで表される基が置換基を有する場合、当該置換基としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、-NR1213(ただし、R12及びR13は、互いに独立して、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基)等が挙げられる。R12及びR13がアルキル基である場合の具体例としては、R又はRが炭素数1~6のアルキル基である場合の具体例として示した基と同様の基が挙げられる。 When the group represented by R1 or R2 has a substituent, examples of the substituent include a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc.), a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, -NR 12 R 13 (wherein R 12 and R 13 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), etc. Specific examples when R 12 and R 13 are alkyl groups include the same groups as the specific examples when R 1 or R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

又はRで表される炭素数1~6の1価の有機基は、重合体(P)を合成する際の反応性(すなわち重合性)を高く維持しつつ、インクジェット塗布によって基板上に液晶配向膜を形成する際に、インクジェット塗布装置のアイドリング中にヘッド部分において液晶配向剤中の重合体が析出することを抑制する効果が高い点、並びに液晶素子の信頼性及び不純物耐性を優れたものとすることができる点で、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基、フェニル基、-COR又は-NR(ただし、R、R及びRは、互いに独立して炭素数1~3のアルキル基である。以下同じ。)であることが好ましい。また、重合性及び入手容易性の観点から、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基又はフェニル基がより好ましく、メチル基、エチル基又はメトキシ基が更に好ましく、メチル基がより更に好ましい。 The monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms represented by R1 or R2 is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group, -COR5 or -NR6R7 (wherein R5, R6 and R7 are each independently an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms; the same applies hereinafter) in terms of maintaining high reactivity (i.e., polymerizability) when synthesizing the polymer (P), being highly effective in suppressing precipitation of the polymer in the liquid crystal alignment agent at the head portion during idling of the inkjet coating device when forming a liquid crystal alignment film on a substrate by inkjet coating, and being able to provide excellent reliability and impurity resistance of the liquid crystal element. Furthermore, from the viewpoints of polymerizability and ease of availability, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms or a phenyl group is more preferred, a methyl group, an ethyl group or a methoxy group is even more preferred, and a methyl group is even more preferred.

なお、以下では、インクジェット塗布により液晶配向剤を基板上に塗布して液晶配向膜を形成する際に、インクジェット塗布装置のアイドリング中にヘッド部分における重合体の析出を抑制する液晶配向剤の特性を「インクジェット塗布時のアイドリング耐性」、又は単に「アイドリング耐性」ともいう。 In the following, when a liquid crystal alignment agent is applied to a substrate by inkjet coating to form a liquid crystal alignment film, the property of the liquid crystal alignment agent that suppresses polymer deposition in the head portion while the inkjet coating device is idling is also referred to as "idling resistance during inkjet coating" or simply "idling resistance."

及びRのうち一方又は両方は、炭素数1~6の1価の有機基である。すなわち、R及びRの組み合わせとしては、Rが炭素数1~6の1価の有機基であって、Rが水素原子の場合;Rが水素原子であって、Rが炭素数1~6の1価の有機基の場合;R及びRが共に炭素数1~6の1価の有機基の場合;が挙げられる。塩基成分(より具体的には、含窒素複素環)を重合体側鎖に導入した場合にも重合体が析出しにくく、これによりインクジェット塗布時のアイドリング耐性により優れた液晶配向剤を得ることができる点で、Rは炭素数1~6の1価の有機基であることが好ましい。この場合、Rは、水素原子及び炭素数1~6の1価の有機基のいずれでもよいが、特定ジアミンに由来する構造単位の導入による効果と、特定ジアミンの合成容易性とのバランスの観点から、Rは水素原子が好ましい。 One or both of R1 and R2 are monovalent organic groups having 1 to 6 carbon atoms. That is, combinations of R1 and R2 include a case where R1 is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms and R2 is a hydrogen atom; a case where R1 is a hydrogen atom and R2 is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms; and a case where R1 and R2 are both monovalent organic groups having 1 to 6 carbon atoms. R1 is preferably a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms because this makes it difficult for the polymer to precipitate even when a base component (more specifically, a nitrogen-containing heterocycle ) is introduced into the polymer side chain, thereby enabling the production of a liquid crystal aligning agent with superior idling resistance during inkjet coating. In this case, R2 may be either a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, but from the viewpoint of balancing the effect of introducing a structural unit derived from the specific diamine and the ease of synthesis of the specific diamine, R2 is preferably a hydrogen atom.

特定ジアミン単位の導入による、インクジェット塗布時のアイドリング耐性と、液晶素子の信頼性及び不純物耐性の改善効果をより高くできる点で、R及びRの少なくとも一方は、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基、フェニル基、-COR又は-NRであることが好ましく、Rが、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基、フェニル基、-COR又は-NRであって、Rが水素原子であることがより好ましい。また、重合性及び化合物の入手容易性の観点から、Rが水素原子である場合、Rは、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基又はフェニル基がより好ましく、メチル基、エチル基又はメトキシ基が更に好ましい。 In view of the introduction of the specific diamine unit enabling a higher effect of improving idling resistance during inkjet coating and the reliability and impurity resistance of liquid crystal elements, at least one of R 1 and R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group, -COR 5 or -NR 6 R 7 , and more preferably R 1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group, -COR 5 or -NR 6 R 7 , and R 2 is a hydrogen atom. Furthermore, in view of polymerizability and ease of compound availability, when R 2 is a hydrogen atom, R 1 is more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms or a phenyl group, and even more preferably a methyl group, an ethyl group or a methoxy group.

又はRで表される、含窒素複素環構造を有する1価の基(以下、「1価の複素環構造含有基」ともいう。)において、含窒素複素環構造が有する含窒素複素環は、環を構成するヘテロ原子として窒素原子のみを有していてもよく、窒素原子以外のヘテロ原子(例えば、酸素原子、硫黄原子)を更に有していてもよい。また、含窒素複素環は、芳香環であってもよく、非芳香環であってもよい。 In the monovalent group having a nitrogen-containing heterocyclic structure represented by R3 or R4 (hereinafter also referred to as a "monovalent heterocyclic structure-containing group"), the nitrogen-containing heterocyclic ring of the nitrogen-containing heterocyclic structure may have only a nitrogen atom as a heteroatom constituting the ring, or may further have a heteroatom other than a nitrogen atom (for example, an oxygen atom or a sulfur atom). In addition, the nitrogen-containing heterocycle may be an aromatic ring or a non-aromatic ring.

芳香環の具体例としては、ピロール、インドール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、アザトロピリデン、プリン、ベンゾ[d]オキサゾール、ベンゾ[d]チアゾール、下記式:
で表される環等が挙げられる。
Specific examples of the aromatic ring include pyrrole, indole, imidazole, benzimidazole, oxazole, thiazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, quinoline, isoquinoline, carbazole, azatropylidene, purine, benzo[d]oxazole, benzo[d]thiazole, and compounds represented by the following formula:
Examples include rings represented by the following formula:

非芳香環構造の具体例としては、エチレンイミン環構造、ピロリジン環構造、ピペリジン環構造、ピペラジン環構造、ヘキサメチレンイミン環構造、3-ピロリン環構造、2-ピロリン環構造、2-イミダゾリン環構造、インドリン環構造、2-ピラゾリン環構造、スクシンイミド環構造等が挙げられる。 Specific examples of non-aromatic ring structures include an ethyleneimine ring structure, a pyrrolidine ring structure, a piperidine ring structure, a piperazine ring structure, a hexamethyleneimine ring structure, a 3-pyrroline ring structure, a 2-pyrroline ring structure, a 2-imidazoline ring structure, an indoline ring structure, a 2-pyrazoline ring structure, and a succinimide ring structure.

含窒素複素環構造は、含窒素複素環を1個のみ有していてもよく、2個以上有していてもよい。含窒素複素環構造が2個以上の含窒素複素環を有する場合、それら2個以上の含窒素複素環は、環同士が単結合で連結されていてもよく、2価の連結基(例えば、-NR12-や、-NR12-R13-NR12-(ただし、R12は水素原子、炭素数1~3のアルキル基又はtert-ブトキシカルボニル基であり、R13は炭素数1~3のアルカンジイル基))を介して連結されていてもよい。 The nitrogen-containing heterocyclic structure may have only one nitrogen-containing heterocycle, or may have two or more nitrogen-containing heterocycles. When the nitrogen-containing heterocyclic structure has two or more nitrogen-containing heterocycles, the two or more nitrogen-containing heterocycles may be linked to each other by a single bond, or may be linked via a divalent linking group (for example, —NR 12 — or —NR 12 —R 13 —NR 12 — (wherein R 12 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a tert-butoxycarbonyl group, and R 13 is an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms)).

1価の複素環構造含有基中の含窒素複素環は置換基を有していてもよい。当該置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、-NR1314(ただし、R13及びR14は、互いに独立して、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基)、炭素数1~10の1価の炭化水素基等が挙げられる。 The nitrogen-containing heterocycle in the monovalent heterocyclic structure-containing group may have a substituent, such as a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, —NR 13 R 14 (wherein R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.

液晶素子の信頼性及び不純物耐性の改善効果をより高くできる点で、R又はRで表される1価の複素環構造含有基は、含窒素芳香族複素環を有することが好ましい。液晶素子の信頼性及び不純物耐性をより優れたものとすることができる点で、含窒素芳香族複素環構造は、ピロール、インドール、ベンズイミダゾール、オキサゾール、チアゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、イソキノリン、アザトロピリデン及びプリンよりなる群から選択される少なくとも1種の環を有することが好ましく、ピリジン、ベンズイミダゾール、トリアゾール及びプリンよりなる群から選択される少なくとも1種の環を有することがより好ましく、ピリジン及びベンズイミダゾールの少なくともいずれかを有することが更に好ましい。 In order to further improve the reliability and impurity resistance of the liquid crystal device, the monovalent heterocyclic structure-containing group represented by R3 or R4 preferably has a nitrogen-containing aromatic heterocycle. In order to further improve the reliability and impurity resistance of the liquid crystal device, the nitrogen-containing aromatic heterocyclic structure preferably has at least one ring selected from the group consisting of pyrrole, indole, benzimidazole, oxazole, thiazole, triazole, pyridine, pyrimidine, quinoline, isoquinoline, azatropylidene, and purine, more preferably has at least one ring selected from the group consisting of pyridine, benzimidazole, triazole, and purine, and even more preferably has at least one of pyridine and benzimidazole.

1価の複素環構造含有基としては、具体的には、下記式(2)で表される基が挙げられる。
(式(2)中、Xは単結合又は(n+1)価の連結基である。Yは、Xに対して含窒素複素環で結合する1価の基である。nは1又は2である。ただし、Xが単結合の場合、nは1である。)
Specific examples of the monovalent heterocyclic structure-containing group include groups represented by the following formula (2).
(In formula (2), X1 is a single bond or an (n+1)-valent linking group. Y1 is a monovalent group bonded to X1 via a nitrogen-containing heterocycle. n is 1 or 2. However, when X1 is a single bond, n is 1.)

上記式(2)において、Yで表される1価の基としては、置換又は無置換の含窒素複素環から1個の水素原子を取り除いた基;置換又は無置換の含窒素複素環の2個以上(好ましくは2個)が単結合又は2価の連結基により結合され、かついずれか1個の含窒素複素環から1個の水素原子を取り除いた基;が挙げられる。含窒素複素環としては、上記で例示した環が挙げられる。含窒素複素環は、含窒素芳香族複素環が好ましい。 In the above formula (2), examples of the monovalent group represented by Y1 include a group in which one hydrogen atom has been removed from a substituted or unsubstituted nitrogen-containing heterocycle; and a group in which two or more (preferably two) substituted or unsubstituted nitrogen-containing heterocycles are bonded by a single bond or a divalent linking group, and one hydrogen atom has been removed from any one of the nitrogen-containing heterocycles. Examples of the nitrogen-containing heterocycle include the rings exemplified above. The nitrogen-containing heterocycle is preferably a nitrogen-containing aromatic heterocycle.

で表される1価の基の具体例としては、例えば、下記式で表される部分構造が挙げられる。
(式中、「*」は結合手を表す。)
Specific examples of the monovalent group represented by Y 1 include partial structures represented by the following formulas.
(In the formula, "*" represents a bond.)

で表される(n+1)価の連結基としては、nが1の場合(すなわち、Xが2価の連結基である場合)の具体例として、例えば、-O-、-CO-、*-CO-O-、*-O-CO-、-NH-、*-CO-NH-、*-NH-CO-、*-(CH-O-、*-O-(CH-、*-(CH-CO-、*-CO-(CH-、*-(CH-NH-、*-NH-(CH-、*-(CH-CO-NH-、*-CO-NH-(CH-、*-CO-NH-R14-O-、*-O-R14-CO-NH-、炭素数1~10のアルカンジイル基、フェニル基、又はこれらの基の2つ以上が結合した基(ただし、rは1~3の整数である。R14は炭素数1~10の2価の炭化水素基である。「*」は上記式(1)中のベンゼン環との結合手を表す。)が挙げられる。
nが2の場合(すなわち、Xが3価の連結基である場合)の具体例としては、*-N<、*-CO-N<、*-(CH-CO-N<、*-O-R14-CO-N<等が挙げられる。
Specific examples of the (n+1)-valent linking group represented by X 1 when n is 1 (that is, when X 1 is a divalent linking group) include, for example, -O-, -CO-, *-CO-O-, *-O-CO-, -NH-, *-CO-NH-, *-NH-CO-, *-(CH 2 ) r -O-, *-O-(CH 2 ) r -, *-(CH 2 ) r -CO-, *-CO-(CH 2 ) r -, *-(CH 2 ) r -NH-, *-NH-(CH 2 ) r -, *-(CH 2 ) r -CO-NH-, *-CO-NH-(CH 2 ) r -, *-CO-NH-R 14 -O-, *-O-R 14 -CO-NH-, an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group, or a group in which two or more of these groups are bonded (wherein r is an integer of 1 to 3, R is a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and "*" represents a bond to the benzene ring in the above formula (1)).
Specific examples when n is 2 (that is, when X 1 is a trivalent linking group) include *-N<, *-CO-N<, *-(CH 2 ) r -CO-N<, *-O-R 14 -CO-N<, and the like.

及びRのうち一方又は両方は、1価の複素環構造含有基である。特定ジアミンに由来する構造単位の導入による効果と、特定ジアミンの合成容易性とのバランスの観点から、R及びRのうち一方が1価の複素環構造含有基であり、他方は水素原子であることが好ましい。 One or both of R3 and R4 are monovalent heterocyclic structure-containing groups. From the viewpoint of the balance between the effect of introducing a structural unit derived from the specific diamine and the ease of synthesis of the specific diamine, it is preferred that one of R3 and R4 is a monovalent heterocyclic structure-containing group and the other is a hydrogen atom.

特定ジアミンの好ましい具体例としては、下記式(1-A)で表される化合物及び下記式(1-B)で表される化合物が挙げられる。
(上記式(1-A)及び式(1-B)中、Rは上記式(1)と同義である。X、Y及びnは、上記式(2)と同義である。)
Preferable specific examples of the specific diamine include a compound represented by the following formula (1-A) and a compound represented by the following formula (1-B).
(In the above formulas (1-A) and (1-B), R 1 has the same meaning as in the above formula (1). X 1 , Y 1 and n have the same meaning as in the above formula (2).)

特定ジアミンの具体例としては、例えば、下記式(1-1)~式(1-28)のそれぞれで表される化合物が挙げられる。
Specific examples of the specific diamine include compounds represented by the following formulas (1-1) to (1-28).

重合体(P)における特定ジアミンに由来する構造単位の含有割合は、重合体(P)に含まれるジアミン化合物に由来する構造単位の全量に対して、2モル%以上が好ましく、5モル%以上がより好ましい。また、特定ジアミンに由来する構造単位の含有割合は、重合体(P)に含まれるジアミン化合物に由来する構造単位の全量に対して、70モル%以下が好ましく、60モル%以下がより好ましく、50モル%以下が更に好ましい。特定ジアミンに由来する構造単位の含有割合を上記範囲とすることにより、重合性を確保しつつ、液晶配向剤におけるインクジェット塗布時のアイドリング耐性、並びに液晶素子の信頼性及び不純物耐性を優れたものとすることができる。 The content of structural units derived from specific diamines in polymer (P) is preferably 2 mol% or more, and more preferably 5 mol% or more, based on the total amount of structural units derived from diamine compounds contained in polymer (P). Furthermore, the content of structural units derived from specific diamines is preferably 70 mol% or less, more preferably 60 mol% or less, and even more preferably 50 mol% or less, based on the total amount of structural units derived from diamine compounds contained in polymer (P). By keeping the content of structural units derived from specific diamines within the above range, polymerizability can be ensured while the liquid crystal aligning agent exhibits excellent idling resistance during inkjet coating, as well as excellent reliability and impurity resistance of the liquid crystal device.

〔特定ジアミンの合成〕
特定ジアミンは、有機化学の定法を適宜組み合わせることによって合成することができる。特定ジアミンの合成方法の一例としては、まず、目的とするジアミンにおける1級アミノ基に代えてニトロ基を有するジニトロ中間体を合成し、次いで、得られたジニトロ中間体のニトロ基を適当な還元系を用いてアミノ化する方法が挙げられる。
[Synthesis of specific diamine]
The specific diamine can be synthesized by appropriately combining standard methods in organic chemistry. One example of a method for synthesizing the specific diamine is to first synthesize a dinitro intermediate having a nitro group instead of the primary amino group in the target diamine, and then aminated by using an appropriate reduction system.

ジニトロ中間体を合成する方法は、目的とするジアミンの分子構造に応じて適宜選択することができる。例えば、上記式(1-A)又は式(1-B)で表される化合物は、ジニトロフェニル基のベンゼン環にR及び第1の反応性基(例えば、カルボキシ基、水酸基、ハロカルボニル基等)が結合した第1化合物と、第1の反応性基と反応し得る第2の反応性基及びYを有する第2化合物とを反応させることにより得ることができる。ジニトロ中間体の還元反応は、好ましくは有機溶媒中、例えばパラジウム炭素、白金炭素、亜鉛、鉄、スズ、ニッケル等の触媒を用いて実施することができる。ここで使用する有機溶媒としては、例えば、酢酸エチル、トルエン、テトラヒドロフラン、アルコール系等が挙げられる。ただし、特定ジアミンの合成方法は上記に限定されるものではない。 The method for synthesizing the dinitro intermediate can be appropriately selected depending on the molecular structure of the target diamine. For example, the compound represented by the above formula (1-A) or formula (1-B) can be obtained by reacting a first compound having R1 and a first reactive group (e.g., a carboxy group, a hydroxyl group, a halocarbonyl group, etc.) bonded to the benzene ring of a dinitrophenyl group with a second compound having a second reactive group capable of reacting with the first reactive group and Y1 . The reduction reaction of the dinitro intermediate can be preferably carried out in an organic solvent using a catalyst such as palladium carbon, platinum carbon, zinc, iron, tin, or nickel. Examples of organic solvents used here include ethyl acetate, toluene, tetrahydrofuran, and alcohols. However, the method for synthesizing the specific diamine is not limited to the above.

〔重合体(P)の合成〕
重合体(P)の合成方法は特に限定されない。重合体(P)は、例えば、テトラカルボン酸誘導体とジアミン化合物との重縮合により得ることができる。なお、テトラカルボン酸誘導体は、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジハロゲン化物及びテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物を含む。以下、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドのそれぞれについて説明する。
[Synthesis of Polymer (P)]
The synthesis method of the polymer (P) is not particularly limited. The polymer (P) can be obtained, for example, by polycondensation of a tetracarboxylic acid derivative and a diamine compound. The tetracarboxylic acid derivative includes tetracarboxylic acid dianhydrides, tetracarboxylic acid dihalides, and tetracarboxylic acid diester dihalides. The polyamic acid, polyamic acid ester, and polyimide will be described below.

(ポリアミック酸)
重合体(P)がポリアミック酸である場合、当該ポリアミック酸(以下、「ポリアミック酸(P)」ともいう。)は、テトラカルボン酸二無水物と、特定ジアミンを含むジアミン化合物とを反応(重縮合反応)させることによって得ることができる。
(Polyamic acid)
When the polymer (P) is a polyamic acid, the polyamic acid (hereinafter also referred to as "polyamic acid (P)") can be obtained by reacting (polycondensation reaction) a tetracarboxylic dianhydride with a diamine compound containing a specific diamine.

・テトラカルボン酸二無水物
ポリアミック酸(P)の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、鎖状テトラカルボン酸二無水物及び脂環式テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
Tetracarboxylic acid dianhydride Examples of the tetracarboxylic acid dianhydride used in the synthesis of the polyamic acid (P) include aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides and aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides. Examples of the aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride include linear tetracarboxylic acid dianhydrides and alicyclic tetracarboxylic acid dianhydrides.

テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、鎖状テトラカルボン酸二無水物として、例えば1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物、エチレンジアミン四酢酸二無水物等を;
脂環式テトラカルボン酸二無水物として、例えば1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、5-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル)-3a,4,5,9b-テトラヒドロナフト[1,2-c]フラン-1,3-ジオン、5-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル)-8-メチル-3a,4,5,9b-テトラヒドロナフト[1,2-c]フラン-1,3-ジオン、3-オキサビシクロ[3.2.1]オクタン-2,4-ジオン-6-スピロ-3’-(テトラヒドロフラン-2’,5’-ジオン)、5-(2,5-ジオキソテトラヒドロ-3-フラニル)-3-メチル-3-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物、3,5,6-トリカルボキシ-2-カルボキシメチルノルボルナン-2:3,5:6-二無水物、ビシクロ[3.3.0]オクタン-2,4,6,8-テトラカルボン酸2:4,6:8-二無水物、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3,5,6-テトラカルボン酸2:3,5:6-二無水物、4,9-ジオキサトリシクロ[5.3.1.02,6]ウンデカン-3,5,8,10-テトラオン、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等を;
芳香族テトラカルボン酸二無水物として、例えばピロメリット酸二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、p-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル無水物)、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、1,3-プロピレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4’-ビフタル酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、4,4’-カルボニルジフタル酸無水物等を;それぞれ挙げることができるほか、特開2010-97188号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。
Specific examples of the tetracarboxylic acid dianhydride include chain tetracarboxylic acid dianhydrides such as 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid dianhydride and ethylenediaminetetraacetic acid dianhydride;
Examples of alicyclic tetracarboxylic dianhydrides include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride, 5-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-3a,4,5,9b-tetrahydronaphtho[1,2-c]furan-1,3-dione, 5-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-8-methyl-3a,4,5,9b-tetrahydronaphtho[1,2-c]furan-1,3-dione, 3-oxabicyclo[3 2.1]octane-2,4-dione-6-spiro-3'-(tetrahydrofuran-2',5'-dione), 5-(2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl)-3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 3,5,6-tricarboxy-2-carboxymethylnorbornane-2:3,5:6-dianhydride, bicyclo[3.3.0]octane-2,4,6,8-tetracarboxylic acid 2:4,6:8-dianhydride, bicyclo[2.2.1]heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid 2:3,5:6-dianhydride, 4,9-dioxatricyclo[5.3.1.0]octane-2,4,6,8-tetracarboxylic acid 2:3,5:6-dianhydride 2,6 ]undecane-3,5,8,10-tetraone, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2.2]oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, etc.;
Examples of aromatic tetracarboxylic dianhydrides include pyromellitic dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, p-phenylene bis(trimellitic acid monoester anhydride), ethylene glycol bis(anhydrotrimellitate), 1,3-propylene glycol bis(anhydrotrimellitate), 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 4,4'-biphthalic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, and 4,4'-carbonyldiphthalic anhydride; and in addition, the tetracarboxylic dianhydrides described in JP-A-2010-97188 can be used.

テトラカルボン酸二無水物は、良好な電圧保持特性を示す液晶配向膜を得ることができる点で、脂肪族テトラカルボン酸二無水物を含むことが好ましく、脂環式テトラカルボン酸二無水物を含むことがより好ましい。具体的には、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、2,4,6,8-テトラカルボキシビシクロ[3.3.0]オクタン-2:4,6:8-二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物及びシクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物よりなる群から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。 The tetracarboxylic acid dianhydride preferably includes an aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride, and more preferably an alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride, since this allows for the production of a liquid crystal alignment film with good voltage retention characteristics. Specifically, it is preferable for the tetracarboxylic acid dianhydride to include at least one selected from the group consisting of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 2,4,6,8-tetracarboxybicyclo[3.3.0]octane-2:4,6:8-dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride, and cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride.

ポリアミック酸(P)の合成に際し、脂環式テトラカルボン酸二無水物の使用量は、ポリアミック酸(P)を構成するテトラカルボン酸二無水物の全量に対して、20モル%以上であることが好ましく、30モル%以上であることがより好ましく、50モル%以上であることが更に好ましい。 When synthesizing polyamic acid (P), the amount of alicyclic tetracarboxylic dianhydride used is preferably 20 mol % or more, more preferably 30 mol % or more, and even more preferably 50 mol % or more, based on the total amount of tetracarboxylic dianhydride constituting polyamic acid (P).

・ジアミン化合物
ポリアミック酸(P)の合成に際し、ジアミン化合物としては特定ジアミンのみを使用してもよい。また、特定ジアミンと、特定ジアミンとは異なるジアミン(以下、「その他のジアミン」ともいう。)とを併用してもよい。その他のジアミンとしては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサン等が挙げられる。脂肪族ジアミンとしては、鎖状ジアミン及び脂環式ジアミンが挙げられる。
Diamine Compound When synthesizing the polyamic acid (P), only the specific diamine may be used as the diamine compound. Alternatively, the specific diamine may be used in combination with a diamine other than the specific diamine (hereinafter also referred to as "other diamine"). Examples of other diamines include aliphatic diamines, aromatic diamines, and diaminoorganosiloxanes. Examples of aliphatic diamines include linear diamines and alicyclic diamines.

その他のジアミンの具体例としては、鎖状ジアミンとして、メタキシリレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等を;脂環式ジアミンとして、1,4-ジアミノシクロヘキサン、4,4’-メチレンビス(シクロヘキシルアミン)等を;ジアミノオルガノシロキサンとして、1,3-ビス(3-アミノプロピル)-テトラメチルジシロキサン等を、それぞれ挙げることができる。 Specific examples of other diamines include chain diamines such as metaxylylenediamine and hexamethylenediamine; alicyclic diamines such as 1,4-diaminocyclohexane and 4,4'-methylenebis(cyclohexylamine); and diaminoorganosiloxanes such as 1,3-bis(3-aminopropyl)-tetramethyldisiloxane.

芳香族ジアミンの具体例としては、p-フェニレンジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルエタン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4-アミノフェニル-4-アミノベンゾエート、4,4’-ジアミノアゾベンゼン、3,5-ジアミノ安息香酸、1,5-ビス(4-アミノフェノキシ)ペンタン、1,2-ビス(4-アミノフェノキシ)エタン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)プロパン、1,6-ビス(4-アミノフェノキシ)ヘキサン、ビス[2-(4-アミノフェニル)エチル]ヘキサン二酸、1,4-ビス-(4-アミノフェニル)-ピペラジン、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’-(フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’-[4,4’-プロパン-1,3-ジイルビス(ピペリジン-1,4-ジイル)]ジアニリン、4,4’-ジアミノベンズアニリド、4,4’-ジアミノスチルベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェニル)-ピペラジン、ビス[2-(4-アミノフェニル)エチル]ヘキサン二酸、4,4’-ジアミノジフェネチルウレア、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル等の主鎖型ジアミン;
ドデカノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ-2,5-ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ-2,5-ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ-3,5-ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ-3,5-ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ-2,4-ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ-2,4-ジアミノベンゼン、3,5-ジアミノ安息香酸コレスタニル、3,5-ジアミノ安息香酸コレステニル、3,5-ジアミノ安息香酸ラノスタニル、3,6-ビス(4-アミノベンゾイルオキシ)コレスタン、3,6-ビス(4-アミノフェノキシ)コレスタン、4-(4’-トリフルオロメトキシベンゾイロキシ)シクロヘキシル-3,5-ジアミノベンゾエート、1,1-ビス(4-((アミノフェニル)メチル)フェニル)-4-ブチルシクロヘキサン、3,5-ジアミノ安息香酸=5ξ-コレスタン-3-イル、下記式(E-1)
(式(E-1)中、XI及びXIIは、それぞれ独立して、単結合、-O-、*-COO-又は*-OCO-(ただし、「*」はジアミノフェニル基側との結合手を示す。)である。Rは、炭素数1~3のアルカンジイル基である。RIIは、単結合又は炭素数1~3のアルカンジイル基である。RIIIは、炭素数1~20のアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、又はフルオロアルコキシ基である。aは0又は1である。bは0~3の整数である。cは0~2の整数である。dは0又は1である。ただし、1≦a+b+c≦3である。)
で表される化合物等の側鎖型ジアミン等が挙げられる。
Specific examples of aromatic diamines include p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylethane, 4,4'-diaminodiphenylether, 4-aminophenyl-4-aminobenzoate, 4,4'-diaminoazobenzene, 3,5-diaminobenzoic acid, 1,5-bis(4-aminophenoxy)pentane, 1,2-bis(4-aminophenoxy)ethane, 1,3-bis(4-aminophenoxy)propane, 1,6-bis(4-aminophenoxy)hexane, bis[2-(4-aminophenyl)ethyl]hexanedioic acid, 1,4-bis-(4-aminophenyl)-piperazine, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2 -bis(4-aminophenyl)hexafluoropropane, 4,4'-(phenylenediisopropylidene)bisaniline, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 4,4'-[4,4'-propane-1,3-diylbis(piperidine-1,4-diyl)]dianiline, 4,4'-diaminobenzanilide, 4,4'-diaminostilbene, 1, Main chain diamines such as 4-bis(4-aminophenyl)-piperazine, bis[2-(4-aminophenyl)ethyl]hexanedioic acid, 4,4'-diaminodiphenethyl urea, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis(4-aminophenyl)hexafluoropropane, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, and 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl;
Dodecanoxy-2,4-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,4-diaminobenzene, hexadecanoxy-2,4-diaminobenzene, octadecanoxy-2,4-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,5-diaminobenzene, octadecanoxy-2,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene, cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene, 3,5-di Cholestanyl aminobenzoate, cholestenyl 3,5-diaminobenzoate, lanostannyl 3,5-diaminobenzoate, 3,6-bis(4-aminobenzoyloxy)cholestane, 3,6-bis(4-aminophenoxy)cholestane, 4-(4'-trifluoromethoxybenzoyloxy)cyclohexyl-3,5-diaminobenzoate, 1,1-bis(4-((aminophenyl)methyl)phenyl)-4-butylcyclohexane, 3,5-diaminobenzoic acid=5ξ-cholestan-3-yl, compounds represented by the following formula (E-1):
(In formula (E-1), X I and X II each independently represent a single bond, —O—, *-COO—, or *-OCO— (wherein “*” represents a bond to the diaminophenyl group). R I represents an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms. R II represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms. R III represents an alkyl group, alkoxy group, fluoroalkyl group, or fluoroalkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. a represents 0 or 1. b represents an integer of 0 to 3. c represents an integer of 0 to 2. d represents 0 or 1, provided that 1≦a+b+c≦3.)
and side chain diamines such as compounds represented by the following formula:

式(E-1)で表される化合物としては、例えば下記式(E-1-1)~式(E-1-4)のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。
Examples of the compound represented by formula (E-1) include compounds represented by the following formulas (E-1-1) to (E-1-4).

ジアミノオルガノシロキサンの具体例としては、1,3-ビス(3-アミノプロピル)-テトラメチルジシロキサン等が挙げられる。また、その他のジアミンとしては、上記のほか、特開2010-97188号公報に記載のジアミン化合物を用いることができる。 Specific examples of diaminoorganosiloxanes include 1,3-bis(3-aminopropyl)-tetramethyldisiloxane. In addition to the above, other diamines that can be used include the diamine compounds described in JP-A-2010-97188.

ポリアミック酸(P)は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを、必要に応じて分子量調整剤とともに反応させることにより得ることができる。ポリアミック酸(P)の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との使用割合は、ジアミン化合物のアミノ基1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.2~2当量となる割合が好ましい。 Polyamic acid (P) can be obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a diamine compound, optionally with a molecular weight modifier. The ratio of the tetracarboxylic dianhydride and diamine compound used in the synthesis reaction of polyamic acid (P) is preferably such that 0.2 to 2 equivalents of acid anhydride groups in the tetracarboxylic dianhydride are used per equivalent of amino groups in the diamine compound.

分子量調整剤としては、例えば、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸等の酸一無水物、アニリン、シクロヘキシルアミン、n-ブチルアミン等のモノアミン化合物、フェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等のモノイソシアネート化合物等を挙げることができる。分子量調整剤の使用割合は、使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の合計100質量部に対して、20質量部以下とすることが好ましい。 Examples of molecular weight modifiers include acid monoanhydrides such as maleic anhydride, phthalic anhydride, and itaconic anhydride; monoamine compounds such as aniline, cyclohexylamine, and n-butylamine; and monoisocyanate compounds such as phenyl isocyanate and naphthyl isocyanate. The proportion of molecular weight modifier used is preferably 20 parts by mass or less per 100 parts by mass of the total of the tetracarboxylic dianhydride and diamine compounds used.

ポリアミック酸(P)の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。このときの反応温度は-20℃~150℃が好ましく、反応時間は0.1~24時間が好ましい。 The synthesis reaction of polyamic acid (P) is preferably carried out in an organic solvent. The reaction temperature is preferably -20°C to 150°C, and the reaction time is preferably 0.1 to 24 hours.

反応に使用する有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノール系溶媒、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素等が挙げられる。特に好ましい有機溶媒は、N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド、m-クレゾール、キシレノール及びハロゲン化フェノールよりなる群から選択される1種以上を溶媒として使用するか、あるいはこれらの1種以上と、他の有機溶媒(例えばブチルセロソルブ、ジエチレングリコールジエチルエーテル等)との混合物を使用することが好ましい。有機溶媒の使用量(a)は、テトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計量(b)が、反応溶液の全量(a+b)に対して、0.1~50質量%になる量とすることが好ましい。 Examples of organic solvents used in the reaction include aprotic polar solvents, phenolic solvents, alcohols, ketones, esters, ethers, halogenated hydrocarbons, and hydrocarbons. Particularly preferred organic solvents include one or more selected from the group consisting of N-methyl-2-pyrrolidone, N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethylurea, hexamethylphosphortriamide, m-cresol, xylenol, and halogenated phenols. Alternatively, a mixture of one or more of these with another organic solvent (e.g., butyl cellosolve, diethylene glycol diethyl ether, etc.) is preferred. The amount of organic solvent (a) used is preferably an amount such that the combined amount (b) of tetracarboxylic dianhydride and diamine is 0.1 to 50% by mass relative to the total amount (a + b) of the reaction solution.

以上のようにして、ポリアミック酸(P)を溶解してなる反応溶液が得られる。この反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸(P)を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリアミック酸(P)を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリアミック酸(P)を脱水閉環してポリイミドとする場合には、上記反応溶液をそのまま脱水閉環反応に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸(P)を単離したうえで脱水閉環反応に供してもよく、又は単離したポリアミック酸(P)を精製したうえで脱水閉環反応に供してもよい。ポリアミック酸(P)の単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。 In this manner, a reaction solution containing dissolved polyamic acid (P) is obtained. This reaction solution may be used directly to prepare a liquid crystal aligning agent, or the polyamic acid (P) contained in the reaction solution may be isolated and then used to prepare a liquid crystal aligning agent, or the isolated polyamic acid (P) may be purified and then used to prepare a liquid crystal aligning agent. When polyamic acid (P) is to be dehydrated and cyclized to form a polyimide, the reaction solution may be used directly to the dehydration and cyclization reaction, or the polyamic acid (P) contained in the reaction solution may be isolated and then used to prepare a dehydration and cyclization reaction, or the isolated polyamic acid (P) may be purified and then used to prepare a dehydration and cyclization reaction. Isolation and purification of polyamic acid (P) can be performed according to known methods.

(ポリアミック酸エステル)
重合体(P)としてのポリアミック酸エステル(以下、「ポリアミック酸エステル(P)」ともいう。)は、例えば、〔I〕上記合成反応により得られたポリアミック酸(P)とエステル化剤とを反応させる方法、〔II〕テトラカルボン酸ジエステルとジアミン化合物とを反応させる方法、〔III〕テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物とジアミン化合物とを反応させる方法、等によって得ることができる。
(Polyamic acid ester)
The polyamic acid ester as the polymer (P) (hereinafter also referred to as "polyamic acid ester (P)") can be obtained, for example, by [I] a method of reacting the polyamic acid (P) obtained by the above synthesis reaction with an esterifying agent, [II] a method of reacting a tetracarboxylic acid diester with a diamine compound, or [III] a method of reacting a tetracarboxylic acid diester dihalide with a diamine compound.

なお、本明細書において「テトラカルボン酸ジエステル」とは、テトラカルボン酸が有する4個のカルボキシ基のうち2個がエステル化され、残りの2個がカルボキシ基である化合物を意味する。「テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物」とは、テトラカルボン酸が有する4個のカルボキシ基のうち2個がエステル化され、残りの2個がハロゲン化された化合物を意味する。 In this specification, "tetracarboxylic acid diester" refers to a compound in which two of the four carboxy groups in a tetracarboxylic acid are esterified and the remaining two are carboxy groups. "Tetracarboxylic acid diester dihalide" refers to a compound in which two of the four carboxy groups in a tetracarboxylic acid are esterified and the remaining two are halogenated.

方法〔I〕で使用するエステル化剤としては、水酸基含有化合物、アセタール系化合物、ハロゲン化物、エポキシ基含有化合物等が挙げられる。これらの具体例としては、水酸基含有化合物として、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、フェノール、クレゾール等のフェノール類等を;アセタール系化合物として、N,N-ジメチルホルムアミドジエチルアセタール、N,N-ジエチルホルムアミドジエチルアセタール等を;ハロゲン化物として、臭化メチル、臭化エチル、臭化ステアリル、塩化メチル、塩化ステアリル、1,1,1-トリフルオロ-2-ヨードエタン等を;エポキシ基含有化合物として、プロピレンオキシド等を、それぞれ挙げることができる。 Esterifying agents used in method [I] include hydroxyl group-containing compounds, acetal compounds, halides, epoxy group-containing compounds, etc. Specific examples of these include: hydroxyl group-containing compounds such as alcohols (e.g., methanol, ethanol, and propanol), and phenols (e.g., phenol and cresol); acetal compounds such as N,N-dimethylformamide diethyl acetal and N,N-diethylformamide diethyl acetal; halides such as methyl bromide, ethyl bromide, stearyl bromide, methyl chloride, stearyl chloride, and 1,1,1-trifluoro-2-iodoethane; and epoxy group-containing compounds such as propylene oxide.

方法〔II〕で使用するテトラカルボン酸ジエステルは、例えばポリアミック酸(P)の合成の説明において例示したテトラカルボン酸二無水物を、メタノールやエタノール等のアルコール類を用いて開環することにより得ることができる。なお、方法[II]で使用するテトラカルボン酸誘導体はテトラカルボン酸ジエステルのみであってもよいが、テトラカルボン酸二無水物を併用してもよい。 The tetracarboxylic acid diester used in method [II] can be obtained, for example, by ring-opening the tetracarboxylic acid dianhydride exemplified in the description of the synthesis of polyamic acid (P) using an alcohol such as methanol or ethanol. The tetracarboxylic acid derivative used in method [II] may be a tetracarboxylic acid diester alone, or may be used in combination with a tetracarboxylic acid dianhydride.

方法〔III〕で使用するテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物は、例えば、上記の如くして得たテトラカルボン酸ジエステルを、塩化チオニル等の適当な塩素化剤と反応させることにより得ることができる。なお、方法〔III〕で使用するテトラカルボン酸誘導体はテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物のみであってもよいが、テトラカルボン酸二無水物を併用してもよい。 The tetracarboxylic acid diester dihalide used in method [III] can be obtained, for example, by reacting the tetracarboxylic acid diester obtained as described above with a suitable chlorinating agent such as thionyl chloride. The tetracarboxylic acid derivative used in method [III] may be a tetracarboxylic acid diester dihalide alone, or may be used in combination with a tetracarboxylic acid dianhydride.

液晶配向剤に含有させるポリアミック酸エステル(P)は、アミック酸エステル構造のみを有していてもよく、アミック酸構造とアミック酸エステル構造とが併存する部分エステル化物であってもよい。ポリアミック酸エステル(P)を溶解してなる反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸エステル(P)を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリアミック酸エステル(P)を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリアミック酸エステル(P)の単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。 The polyamic acid ester (P) contained in the liquid crystal aligning agent may have only an amic acid ester structure, or may be a partially esterified product in which an amic acid structure and an amic acid ester structure coexist. The reaction solution in which the polyamic acid ester (P) is dissolved may be used directly to prepare the liquid crystal aligning agent, or the polyamic acid ester (P) contained in the reaction solution may be isolated and then used to prepare the liquid crystal aligning agent, or the isolated polyamic acid ester (P) may be purified and then used to prepare the liquid crystal aligning agent. The polyamic acid ester (P) can be isolated and purified according to known methods.

(ポリイミド)
重合体(P)としてのポリイミド(以下、「ポリイミド(P)」ともいう。)は、例えば、上記の如くして合成されたポリアミック酸(P)を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。
(Polyimide)
The polyimide as the polymer (P) (hereinafter also referred to as "polyimide (P)") can be obtained, for example, by dehydrating and ring-closing the polyamic acid (P) synthesized as described above to form an imidized product.

ポリイミド(P)は、その前駆体であるポリアミック酸(P)が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造とが併存する部分イミド化物であってもよい。ポリイミド(P)は、そのイミド化率が20%以上であることが好ましく、30~99%であることがより好ましい。このイミド化率は、ポリイミド(P)のアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。ここで、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。 Polyimide (P) may be a fully imidized product in which all of the amic acid structures contained in its precursor polyamic acid (P) have been dehydrated and cyclized, or a partially imidized product in which only a portion of the amic acid structures have been dehydrated and cyclized, resulting in both amic acid structures and imide ring structures. The polyimide (P) preferably has an imidization rate of 20% or more, and more preferably 30 to 99%. This imidization rate is the ratio, expressed as a percentage, of the number of imide ring structures to the total number of amic acid structures and imide ring structures in the polyimide (P). Some of the imide rings may be isoimide rings.

ポリアミック酸(P)の脱水閉環は、好ましくはポリアミック酸(P)を加熱する方法により、又はポリアミック酸(P)を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行われる。 The dehydration and ring-closure of polyamic acid (P) is preferably carried out by heating polyamic acid (P), or by dissolving polyamic acid (P) in an organic solvent, adding a dehydrating agent and a dehydration and ring-closure catalyst to the solution, and heating as necessary.

ポリアミック酸(P)の溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加する方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸(P)のアミック酸構造の1モルに対して0.01~20モルとすることが好ましい。脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン、1-メチルピペリジン等の3級アミンを用いることができる。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤1モルに対して0.01~10モルとすることが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸(P)の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは0~180℃であり、より好ましくは10~150℃である。反応時間は、好ましくは1.0~120時間であり、より好ましくは2.0~30時間である。 In the method of adding a dehydrating agent and a dehydration ring-closing catalyst to a solution of polyamic acid (P), the dehydrating agent can be an acid anhydride such as acetic anhydride, propionic anhydride, or trifluoroacetic anhydride. The amount of dehydrating agent used is preferably 0.01 to 20 moles per mole of the amic acid structure of polyamic acid (P). The dehydration ring-closing catalyst can be, for example, a tertiary amine such as pyridine, collidine, lutidine, triethylamine, or 1-methylpiperidine. The amount of dehydration ring-closing catalyst used is preferably 0.01 to 10 moles per mole of the dehydrating agent used. Examples of organic solvents used in the dehydration ring-closing reaction include the organic solvents exemplified for use in synthesizing polyamic acid (P). The reaction temperature for the dehydration ring-closing reaction is preferably 0 to 180°C, more preferably 10 to 150°C. The reaction time is preferably 1.0 to 120 hours, more preferably 2.0 to 30 hours.

このようにしてポリイミド(P)を含有する反応溶液が得られる。この反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミド(P)を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリイミド(P)を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。これらの精製操作は公知の方法に従って行うことができる。その他、ポリイミド(P)は、ポリアミック酸エステル(P)のイミド化によって得ることもできる。 In this way, a reaction solution containing polyimide (P) is obtained. This reaction solution may be used directly to prepare a liquid crystal aligning agent, or the dehydrating agent and dehydration ring-closing catalyst may be removed from the reaction solution before use in the preparation of a liquid crystal aligning agent. The polyimide (P) may be isolated and then used in the preparation of a liquid crystal aligning agent, or the isolated polyimide (P) may be purified and then used in the preparation of a liquid crystal aligning agent. These purification operations can be performed according to known methods. Alternatively, polyimide (P) can also be obtained by imidizing polyamic acid ester (P).

以上のようにして得られる重合体(P)は、これを濃度15質量%の溶液としたときに、20~1,800mPa・sの溶液粘度を持つものであることが好ましく、50~1,500mPa・sの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。なお、重合体(P)の溶液粘度(mPa・s)は、重合体(P)の良溶媒(例えば、γ-ブチロラクトン、N-メチル-2-ピロリドン等)を用いて調製した濃度15質量%の重合体溶液につき、E型回転粘度計を用いて25℃において測定した値である。 The polymer (P) obtained in this manner preferably has a solution viscosity of 20 to 1,800 mPa·s when made into a 15% by mass solution, and more preferably 50 to 1,500 mPa·s. The solution viscosity (mPa·s) of polymer (P) is the value measured at 25°C using an E-type rotational viscometer for a 15% by mass polymer solution prepared using a good solvent for polymer (P) (e.g., γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, etc.).

重合体(P)のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは1,000~500,000であり、より好ましくは2,000~300,000である。また、重合体(P)につき、Mwと、GPCにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)との比で表される分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは8以下であり、より好ましくは7以下である。重合体(P)のMw及びMw/Mnが上記範囲にあることで、液晶素子の良好な液晶配向性を確保することができる。 The polystyrene-equivalent weight-average molecular weight (Mw) of polymer (P) measured by gel permeation chromatography (GPC) is preferably 1,000 to 500,000, and more preferably 2,000 to 300,000. Furthermore, the molecular weight distribution (Mw/Mn) of polymer (P), expressed as the ratio of Mw to the polystyrene-equivalent number-average molecular weight (Mn) measured by GPC, is preferably 8 or less, and more preferably 7 or less. Having Mw and Mw/Mn of polymer (P) within the above ranges ensures good liquid crystal alignment in liquid crystal devices.

液晶配向剤における重合体(P)の含有量は、液晶配向剤に含まれる固形分の全量(すなわち、液晶配向剤の溶剤以外の成分の合計質量)に対して、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、20質量%以上が更に好ましい。 The content of polymer (P) in the liquid crystal aligning agent is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and even more preferably 20% by mass or more, based on the total amount of solids contained in the liquid crystal aligning agent (i.e., the total mass of the components of the liquid crystal aligning agent other than the solvent).

[その他の成分]
本開示の液晶配向剤は、重合体(P)以外の成分(以下、「その他の成分」ともいう。)を更に含有してもよい。その他の成分としては、重合体(P)とは異なる重合体(以下、「重合体(Q)」ともいう。)、架橋剤、溶剤等が挙げられる。
[Other ingredients]
The liquid crystal aligning agent of the present disclosure may further contain components other than the polymer (P) (hereinafter also referred to as "other components"). Examples of the other components include a polymer different from the polymer (P) (hereinafter also referred to as "polymer (Q)"), a crosslinking agent, a solvent, etc.

・重合体(Q)
重合体(Q)は、上記式(1)で表される部分構造を有するジアミンに由来する構造単位を有しない重合体である。重合体(Q)の主骨格は特に限定されない。重合体(Q)としては、例えば、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン、ポリエステル、ポリエナミン、ポリウレア、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリベンゾオキサゾール、セルロース誘導体、ポリアセタール、付加重合体等が挙げられる。付加重合体としては、例えば、(メタ)アクリル系重合体、スチレン系重合体、マレイミド系重合体、(メタ)アクリル-スチレン系共重合体、(メタ)アクリル-マレイミド系共重合体、(メタ)アクリル-スチレン-マレイミド系共重合体、及びスチレン-マレイミド系共重合体等が挙げられる。
Polymer (Q)
The polymer (Q) is a polymer that does not have a structural unit derived from a diamine having a partial structure represented by the above formula (1). The main skeleton of the polymer (Q) is not particularly limited. Examples of the polymer (Q) include polyamic acid, polyamic acid ester, polyimide, polyorganosiloxane, polyester, polyenamine, polyurea, polyamide, polyamideimide, polybenzoxazole precursor, polybenzoxazole, cellulose derivative, polyacetal, and addition polymer. Examples of the addition polymer include (meth)acrylic polymers, styrene polymers, maleimide polymers, (meth)acrylic-styrene copolymers, (meth)acrylic-maleimide copolymers, (meth)acrylic-styrene-maleimide copolymers, and styrene-maleimide copolymers.

重合体(P)と併用した場合に良好な液晶配向性を示す点で、重合体(Q)はこれらの中でも、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン及び付加重合体よりなる群から選択される少なくとも1種が好ましい。 Of these, polymer (Q) is preferably at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, polyimide, polyorganosiloxane, and addition polymer, since it exhibits good liquid crystal alignment properties when used in combination with polymer (P).

重合体(Q)を液晶配向剤に含有させる場合、重合体(Q)の含有量は、重合体(P)と重合体(Q)との合計量に対して、1質量%以上が好ましく、2質量%以上がより好ましく、5質量%以上が更に好ましい。また、重合体(Q)の含有量は、重合体(P)と重合体(Q)との合計量に対して、95質量%以下が好ましく、90質量%以下がより好ましく、80質量%以下が更に好ましい。 When polymer (Q) is contained in the liquid crystal aligning agent, the content of polymer (Q) is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more, based on the total amount of polymer (P) and polymer (Q). Furthermore, the content of polymer (Q) is preferably 95% by mass or less, more preferably 90% by mass or less, and even more preferably 80% by mass or less, based on the total amount of polymer (P) and polymer (Q).

液晶配向剤を用いて形成した有機膜に対し光配向法を用いて液晶配向能を付与する場合、重合体(P)及び重合体(Q)の少なくとも一部を、光配向性基を有する重合体とするとよい。光配向性基は、光照射による光異性化反応、光二量化反応、光フリース転位反応又は光分解反応等の光反応によって膜に異方性を付与可能な官能基をいう。 When imparting liquid crystal alignment ability to an organic film formed using a liquid crystal alignment agent using a photoalignment method, it is preferable that at least a portion of polymer (P) and polymer (Q) be polymers having photoalignment groups. A photoalignment group is a functional group that can impart anisotropy to a film through a photoreaction such as a photoisomerization reaction, photodimerization reaction, photo-Fries rearrangement reaction, or photodecomposition reaction due to light irradiation.

光配向性基の具体例としては、例えば、アゾベンゼン又はその誘導体を基本骨格として含むアゾベンゼン含有基、桂皮酸又はその誘導体(桂皮酸構造)を基本骨格として含む桂皮酸構造含有基、カルコン又はその誘導体を基本骨格として含むカルコン含有基、ベンゾフェノン又はその誘導体を基本骨格として含むベンゾフェノン含有基、クマリン又はその誘導体を基本骨格として含むクマリン含有基、シクロブタン又はその誘導体を基本骨格として含むシクロブタン含有構造、スチルベン又はその誘導体を基本骨格とするスチルベン含有基、フェニルベンゾエート又はその誘導体を基本骨格として含むフェニルベンゾエート含有基等が挙げられる。これらのうち、光配向性基は、アゾベンゼン含有基、桂皮酸構造含有基、カルコン含有基、スチルベン含有基、シクロブタン含有構造、及びフェニルベンゾエート含有基よりなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、光に対する感度が高い点、及び重合体中に導入しやすい点で、桂皮酸構造含有基又はシクロブタン含有構造が好ましい。 Specific examples of photoalignable groups include azobenzene-containing groups containing azobenzene or a derivative thereof as the basic skeleton; cinnamic acid structure-containing groups containing cinnamic acid or a derivative thereof (cinnamic acid structure) as the basic skeleton; chalcone-containing groups containing chalcone or a derivative thereof as the basic skeleton; benzophenone-containing groups containing benzophenone or a derivative thereof as the basic skeleton; coumarin-containing groups containing coumarin or a derivative thereof as the basic skeleton; cyclobutane-containing groups containing cyclobutane or a derivative thereof as the basic skeleton; stilbene-containing groups containing stilbene or a derivative thereof as the basic skeleton; and phenylbenzoate-containing groups containing phenylbenzoate or a derivative thereof as the basic skeleton. Of these, the photoalignable group is preferably at least one selected from the group consisting of azobenzene-containing groups, cinnamic acid structure-containing groups, chalcone-containing groups, stilbene-containing groups, cyclobutane-containing structures, and phenylbenzoate-containing groups. Cinnamic acid structure-containing groups and cyclobutane-containing structures are preferred due to their high photosensitivity and ease of incorporation into polymers.

光配向性基を有する重合体の合成方法は特に限定されない。光配向性基を有する重合体は、例えば、(1)光配向性基を有するモノマーを用いた重合により得る方法;(2)第1官能基(例えばエポキシ基)を側鎖に有する重合体を合成し、当該合成により得られた第1官能基含有重合体と、第1官能基と結合を形成する第2官能基(例えばカルボキシ基)及び光配向性基を有する反応性化合物とを反応させる方法;等により得ることができる。 There are no particular limitations on the method for synthesizing a polymer having a photoalignment group. A polymer having a photoalignment group can be obtained, for example, by (1) polymerization using a monomer having a photoalignment group; or (2) synthesis of a polymer having a first functional group (e.g., an epoxy group) on its side chain, followed by reaction of the resulting first functional group-containing polymer with a reactive compound having a photoalignment group and a second functional group (e.g., a carboxy group) that forms a bond with the first functional group.

・架橋剤
本開示の液晶配向剤は、架橋剤を含有することが好ましい。本開示の液晶配向剤に架橋剤を更に含有させることにより、液晶配向膜の膜密度をより高くでき、液晶配向膜に由来する不純物の発生を抑制する効果を更に高めることができる。また、素子内での不純物の発生が抑制されることにより、液晶中への不純物の侵入を極力低減することができる。
Crosslinking Agent The liquid crystal aligning agent of the present disclosure preferably contains a crosslinking agent. By further containing a crosslinking agent in the liquid crystal aligning agent of the present disclosure, the film density of the liquid crystal alignment film can be increased, and the effect of suppressing the generation of impurities originating from the liquid crystal alignment film can be further enhanced. Furthermore, by suppressing the generation of impurities in the element, the intrusion of impurities into the liquid crystal can be minimized.

架橋剤としては、重合体(P)との反応性又は架橋剤同士の反応性が高い点で、-OYで表される基(ただし、Yは水素原子、炭素数1~3のアルキル基又は1価の脱離性基である。)、アミノ基、保護されたアミノ基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、-Si(OR21(R223-kで表される基(ただし、R21及びR22は、互いに独立して炭素数1~10の1価の炭化水素基であり、kは1~3の整数であり、kが2又は3の場合、複数のR21は同一又は異なり、kが1の場合、複数のR22は同一又は異なる。)、オキシラニル基、オキセタニル基、及び重合性炭素-炭素二重結合基よりなる群から選択される少なくとも1種の基(以下、「特定架橋性基」ともいう)を有する化合物を好ましく使用することができる。 As the crosslinking agent, in terms of high reactivity with the polymer (P) or high reactivity between crosslinking agents, compounds having at least one group selected from the group consisting of a group represented by -OY2 (wherein Y2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a monovalent leaving group), an amino group, a protected amino group, a mercapto group, a protected mercapto group, a group represented by -Si( OR21 ) k ( R22 ) 3-k (wherein R21 and R22 are each independently a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, k is an integer from 1 to 3, and when k is 2 or 3, multiple R21s are the same or different, and when k is 1, multiple R22s are the same or different), an oxiranyl group, an oxetanyl group, and a polymerizable carbon-carbon double bond group (hereinafter also referred to as a "specific crosslinkable group") can be preferably used.

で表される1価の脱離性基としては、熱又は光により脱離して水素原子に置き換わる基であることが好ましい。Yで表される脱離性基の具体例としては、炭素数7以下のアルキル基、ベンジル基、p-メトキシベンジル基等のエーテル系脱離性基;メトキシメチル基、エトキシエチル基、2-テトラヒドロピラニル基等のアセタール系脱離性基;アセチル基、ベンゾイル基等のアシル系脱離性基;アリル基、メタリル基等のアリル系脱離性基;トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基等のシリルエーテル系脱離性基が挙げられる。脱離しやすさと保存安定性との両立を図る観点から、Yで表される脱離性基は、これらのうち、エーテル系脱離性基、アセタール系脱離性基及びアセチル基が好ましく、炭素数4~7のアルキル基、2-テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、1-エトキシエチル又はアセチル基がより好ましく、2-テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、1-エトキシエチル又はアセチル基がより好ましい。また、Yは、上記のうち、水素原子、炭素数7以下のアルキル基、アセチル基、2-テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基又は1-エトキシエチル基が特に好ましい。 The monovalent leaving group represented by Y2 is preferably a group that is eliminated by heat or light and replaced with a hydrogen atom. Specific examples of the leaving group represented by Y2 include ether-based leaving groups such as alkyl groups having 7 or less carbon atoms, benzyl groups, and p-methoxybenzyl groups; acetal-based leaving groups such as methoxymethyl groups, ethoxyethyl groups, and 2-tetrahydropyranyl groups; acyl-based leaving groups such as acetyl groups and benzoyl groups; allyl-based leaving groups such as allyl groups and methallyl groups; and silyl ether-based leaving groups such as trimethylsilyl groups, triethylsilyl groups, and tert-butyldimethylsilyl groups. From the viewpoint of achieving both ease of leaving and storage stability, the leaving group represented by Y2 is preferably an ether-based leaving group, an acetal-based leaving group, or an acetyl group, more preferably an alkyl group having 4 to 7 carbon atoms, a 2-tetrahydropyranyl group, a methoxymethyl group, a 1-ethoxyethyl group, or an acetyl group, and even more preferably a 2-tetrahydropyranyl group, a methoxymethyl group, a 1-ethoxyethyl group, or an acetyl group. Furthermore, Y2 is particularly preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 7 or less carbon atoms, an acetyl group, a 2-tetrahydropyranyl group, a methoxymethyl group, or a 1-ethoxyethyl group, among the above.

重合体(P)(特にベンゼン環部位)との反応性が高い点で、-OYで表される基は炭素原子に結合していることが好ましく、アルカンジイル基に結合していることがより好ましく、メチロール基又はヒドロキシアルキルアミド基の一部を構成する基であることが更に好ましい。 In terms of high reactivity with the polymer (P) (particularly the benzene ring moiety), the group represented by -OY2 is preferably bonded to a carbon atom, more preferably bonded to an alkanediyl group, and further preferably a group constituting a part of a methylol group or a hydroxyalkylamide group.

保護されたアミノ基において、窒素原子に結合する脱離性基としては、例えば、カルバメート系脱離性基、アミド系脱離性基、イミド系脱離性基、スルホンアミド系脱離性基等が挙げられる。これらのうち、熱による脱離性が高い点で、カルバメート系脱離性基が好ましい。その具体例としては、tert-ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、1,1-ジメチル-2-ハロエチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、2-(トリメチルシリル)エトキシカルボニル基、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル基(F-moc基)等が挙げられる。熱による脱離性に優れ、かつ脱保護した部分の膜中の残存量を少なくできる点で、これらの中でも特に、tert-ブトキシカルボニル基(Boc基)が好ましい。
保護されたメルカプト基において、硫黄原子に結合する脱離性基としては、Yとして例示した基と同様の基が挙げられる。
In the protected amino group, examples of the leaving group bonded to the nitrogen atom include carbamate-based leaving groups, amide-based leaving groups, imide-based leaving groups, and sulfonamide-based leaving groups. Of these, carbamate-based leaving groups are preferred because of their high thermal releasability. Specific examples include tert-butoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, 1,1-dimethyl-2-haloethyloxycarbonyl, allyloxycarbonyl, 2-(trimethylsilyl)ethoxycarbonyl, and 9-fluorenylmethyloxycarbonyl (F-moc) groups. Of these, the tert-butoxycarbonyl (Boc) group is particularly preferred because of its excellent thermal releasability and the ability to reduce the amount of deprotected moieties remaining in the film.
In the protected mercapto group, examples of the leaving group bonded to the sulfur atom include the same groups as those exemplified as Y2 .

架橋剤が有する特定架橋性基がアミノ基又は保護されたアミノ基である場合、架橋剤は鎖式化合物であることが好ましい。なお、架橋剤が、保護されたアミノ基として、1級アミノ基が保護された基を有する場合、当該保護されたアミノ基は、1級アミノ基における2個の水素原子のうち一方のみが脱離性基に置き換えられた基であってもよく、2個の水素原子が共に脱離性基に置き換えられた基であってもよい。 When the specific crosslinkable group possessed by the crosslinking agent is an amino group or a protected amino group, the crosslinking agent is preferably a chain compound. Furthermore, when the crosslinking agent has a protected primary amino group as the protected amino group, the protected amino group may be a primary amino group in which only one of the two hydrogen atoms has been replaced with a leaving group, or a group in which both hydrogen atoms have been replaced with leaving groups.

-Si(OR21(R223-kで表される基において、R21又はR22で表される炭素数1~10の1価の炭化水素基としては、炭素数1~10の1価の鎖状炭化水素基、炭素数3~10の1価の脂環式炭化水素基、炭素数6~10の1価の芳香族炭化水素基が挙げられる。光反応性の観点から、R21は、炭素数1~10のアルキル基が好ましく、炭素数1~3のアルキル基がより好ましく、メチル基又はエチル基が更に好ましい。R22は、炭素数1~10のアルキル基又は置換若しくは無置換のフェニル基が好ましく、メチル基、エチル基又はフェニル基がより好ましい。
kは、架橋反応性を高くする観点から、2又は3が好ましく、3がより好ましい。
In the group represented by —Si(OR 21 ) k (R 22 ) 3-k , examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 21 or R 22 include a monovalent chain hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, and a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms. From the viewpoint of photoreactivity, R 21 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and even more preferably a methyl group or an ethyl group. R 22 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a substituted or unsubstituted phenyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group.
From the viewpoint of increasing the crosslinking reactivity, k is preferably 2 or 3, and more preferably 3.

架橋剤が重合性炭素-炭素二重結合基を有する場合、重合性炭素-炭素二重結合基は、架橋反応性が高く、かつ電気特性により優れた液晶配向膜を得ることができる点で、下記式(g1-1)~式(g1-10)で表される基に含まれる不飽和結合であることが好ましい。
(式(g1-1)~式(g1-10)中、「*」は結合手を表す。)
When the crosslinking agent has a polymerizable carbon-carbon double bond group, the polymerizable carbon-carbon double bond group is preferably an unsaturated bond contained in a group represented by any of the following formulae (g1-1) to (g1-10), in that it has high crosslinking reactivity and can provide a liquid crystal alignment film with more excellent electrical properties.
(In formulas (g1-1) to (g1-10), "*" represents a bond.)

架橋剤が重合性炭素-炭素二重結合基を有する場合、架橋剤は、上記式(g1-1)~式(g1-7)で表される基を有することが好ましい。これらのうち、架橋反応性が高い点及び官能基の導入しやすさの点で、上記式(g1-1)~式(g1-4)で表される基を有することがより好ましい。 When the crosslinking agent has a polymerizable carbon-carbon double bond group, it preferably has a group represented by formula (g1-1) to formula (g1-7) above. Of these, it is more preferable that the crosslinking agent has a group represented by formula (g1-1) to formula (g1-4) above, in terms of high crosslinking reactivity and ease of introducing functional groups.

架橋剤が有する特定架橋性基の数は特に限定されない。重合体(P)と架橋剤との架橋反応性を高め、膜密度がより高い液晶配向膜を得る観点から、架橋剤が1分子内に有する特定架橋性基の数は、2個以上が好ましく、2~10個がより好ましい。架橋剤は、重合体とは異なる化合物(非重合体)であることが好ましい。架橋剤の分子量は、例えば1,200以下であり、好ましくは1,000以下、より好ましくは800以下である。 The number of specific crosslinkable groups possessed by the crosslinking agent is not particularly limited. From the viewpoint of increasing the crosslinking reactivity between the polymer (P) and the crosslinking agent and obtaining a liquid crystal alignment film with higher film density, the number of specific crosslinkable groups possessed by the crosslinking agent per molecule is preferably 2 or more, and more preferably 2 to 10. The crosslinking agent is preferably a compound different from the polymer (non-polymer). The molecular weight of the crosslinking agent is, for example, 1,200 or less, preferably 1,000 or less, and more preferably 800 or less.

架橋剤の具体例としては、-OYで表される基を有する化合物として、下記式(5A-1)~(5A-34)のそれぞれで表される化合物等を;
メルカプト基又は保護されたメルカプト基を有する化合物として、下記式(5B-1)~(5B-6)のそれぞれで表される化合物等を;
アミノ基又は保護されたアミノ基を有する化合物として、下記式(5C-1)~(5C-13)のそれぞれで表される化合物等を;
-Si(OR21(R223-rで表される基を有する化合物として、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3-(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等を;
オキシラニル基又はオキセタニル基を有する化合物として、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、2,2-ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシリレンジアミン、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、N,N-ジグリシジル-ベンジルアミン、N,N-ジグリシジル-アミノメチルシクロヘキサン、N,N-ジグリシジル-シクロヘキシルアミン、ペンタエリスリトールテトラアリルエーテルの過酸化水素によるエポキシ化反応生成物、-Si(OR21(R223-rで表される基を有する化合物として例示したもののうちオキシラニル基を有する化合物等を;
重合性炭素-炭素二重結合基を有する化合物として、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、下記式(5D-1)~(5D-7)のそれぞれで表される化合物等を;挙げることができる。
Specific examples of the crosslinking agent include compounds having a group represented by —OY2 , such as compounds represented by the following formulas (5A-1) to (5A-34):
As the compound having a mercapto group or a protected mercapto group, compounds represented by the following formulas (5B-1) to (5B-6) are mentioned:
As the compound having an amino group or a protected amino group, compounds represented by the following formulae (5C-1) to (5C-13) may be used:
Examples of compounds having a group represented by —Si(OR 21 ) r (R 22 ) 3-r include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane, 3-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-(meth)acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-(meth)acryloxypropylmethyldiethoxysilane, and vinyltriethoxysilane;
Examples of compounds having an oxiranyl group or an oxetanyl group include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, triglycidyl isocyanurate, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-oxy Silylenediamine, 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane, N,N,N',N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, N,N,N',N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, N,N-diglycidyl-benzylamine, N,N-diglycidyl-aminomethylcyclohexane, N,N-diglycidyl-cyclohexylamine, epoxidation reaction products of pentaerythritol tetraallyl ether with hydrogen peroxide, compounds having an oxiranyl group among those exemplified as compounds having a group represented by —Si(OR 21 ) r (R 22 ) 3-r , etc.;
Examples of the compound having a polymerizable carbon-carbon double bond group include ethylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and compounds represented by the following formulas (5D-1) to (5D-7).

架橋剤は、重合体(P)との架橋反応性の観点から、上記の中でも、-OYで表される基を有する化合物、アミノ基又は保護されたアミノ基を有する化合物、メルカプト基又は保護されたメルカプト基を有する化合物、オキシラニル基、オキセタニル基、及び重合性炭素-炭素二重結合基を有する化合物よりなる群から選択される少なくとも1種が好ましく、-OYで表される基を有する化合物、アミノ基を有する化合物、保護されたアミノ基を有する化合物、オキシラニル基を有する化合物、及びオキセタニル基を有する化合物よりなる群から選択される少なくとも1種がより好ましい。 From the viewpoint of crosslinking reactivity with the polymer (P), the crosslinking agent is preferably at least one selected from the group consisting of a compound having a group represented by -OY2 , a compound having an amino group or a protected amino group, a compound having a mercapto group or a protected mercapto group, an oxiranyl group, an oxetanyl group, and a compound having a polymerizable carbon-carbon double bond group, and more preferably at least one selected from the group consisting of a compound having a group represented by -OY2 , a compound having an amino group, a compound having a protected amino group, a compound having an oxiranyl group, and a compound having an oxetanyl group.

本開示の液晶配向剤に架橋剤を含有させる場合、架橋剤の含有量は、液晶配向膜の膜密度を高め、液晶配向膜の耐久性を高める観点から、液晶配向剤に含まれる重合体成分の全量(すなわち、重合体(P)と重合体(Q)との合計量)100質量部に対して、0.5質量部以上が好ましい。上記の観点から、架橋剤の含有量は、重合体成分の全量100質量部に対して、1質量部以上がより好ましく、2質量部以上が更に好ましい。また、液晶配向性及び電気特性が良好な液晶素子を得る観点、並びに液晶配向剤の保存安定性を良好にする観点から、架橋剤の含有量は、重合体成分の全量100質量部に対して、30質量部以下が好ましく、20質量部以下がより好ましく、10質量部以下が更に好ましい。 When a crosslinking agent is contained in the liquid crystal aligning agent of the present disclosure, the content of the crosslinking agent is preferably 0.5 parts by mass or more relative to 100 parts by mass of the total amount of polymer components contained in the liquid crystal aligning agent (i.e., the total amount of polymer (P) and polymer (Q)) from the viewpoints of increasing the film density of the liquid crystal alignment film and improving the durability of the liquid crystal alignment film. From the above viewpoints, the content of the crosslinking agent is more preferably 1 part by mass or more, and even more preferably 2 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the total amount of polymer components. Furthermore, from the viewpoints of obtaining a liquid crystal element with good liquid crystal alignment properties and electrical properties, and improving the storage stability of the liquid crystal aligning agent, the content of the crosslinking agent is preferably 30 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or less, and even more preferably 10 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the total amount of polymer components.

・溶剤
本開示の液晶配向剤は、重合体(P)及び必要に応じて使用される成分が、好ましくは適当な溶媒中に分散又は溶解してなる液状の組成物として調製される。
Solvent The liquid crystal aligning agent of the present disclosure is preferably prepared as a liquid composition in which the polymer (P) and components used as needed are dispersed or dissolved in a suitable solvent.

使用する有機溶媒としては、例えばN-メチル-2-ピロリドン、γ-ブチロラクトン、γ-ブチロラクタム、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ-ト、エチルエトキシプロピオネ-ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール-n-プロピルエーテル、エチレングリコール-i-プロピルエーテル、エチレングリコール-n-ブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等を挙げることができる。 Examples of the organic solvent used include N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-butyrolactam, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, ethylene glycol monomethyl ether, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol-i-propyl ether, ethylene glycol-n-butyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diisobutyl ketone, isoamyl propionate, isoamyl isobutyrate, diisopentyl ether, ethylene carbonate, and propylene carbonate.

その他の成分としては上記のほか、例えば酸化防止剤、金属キレート化合物、硬化促進剤、界面活性剤、充填剤、分散剤、光増感剤、酸発生剤、塩基発生剤及びラジカル発生剤等が挙げられる。これら各成分の配合割合は、本開示の効果を損なわない範囲で、各化合物に応じて適宜選択することができる。 Other components include, in addition to those mentioned above, antioxidants, metal chelate compounds, curing accelerators, surfactants, fillers, dispersants, photosensitizers, acid generators, base generators, and radical generators. The blending ratio of each of these components can be selected appropriately depending on the compound, as long as it does not impair the effects of the present disclosure.

液晶配向剤における固形分濃度(液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合)は、粘性、揮発性等を考慮して適宜に選択されるが、好ましくは1~10質量%の範囲である。すなわち、液晶配向剤は、後述するように基板表面に塗布され、好ましくは加熱されることにより、液晶配向膜である塗膜又は液晶配向膜となる塗膜が形成される。このとき、固形分濃度が1質量%以上である場合には、塗膜の膜厚を十分に確保でき、良好な液晶配向膜が得られやすい傾向がある。固形分濃度が10質量%以下である場合には、塗膜の膜厚が過大となりすぎず、また液晶配向剤の粘性の増大を抑制でき、塗布性を良好にできる傾向がある。 The solids concentration in the liquid crystal aligning agent (the proportion of the total mass of the liquid crystal aligning agent's components other than the solvent to the total mass of the liquid crystal aligning agent) is selected appropriately taking into consideration viscosity, volatility, etc., but is preferably in the range of 1 to 10% by mass. That is, the liquid crystal aligning agent is applied to the substrate surface as described below, and preferably heated to form a coating film that is a liquid crystal alignment film or a coating film that will become a liquid crystal alignment film. In this case, if the solids concentration is 1% by mass or more, the coating film can be sufficiently thick, and a good liquid crystal alignment film tends to be easily obtained. If the solids concentration is 10% by mass or less, the coating film thickness does not become too large, and an increase in the viscosity of the liquid crystal aligning agent can be suppressed, tending to improve applicability.

特に好ましい固形分濃度の範囲は、液晶配向剤の用途や、基板に液晶配向剤を塗布する際に用いる方法によって異なる。例えば液晶表示素子用の液晶配向剤について、スピンナー法により基板に塗布する場合には、固形分濃度(液晶配向剤中の溶媒以外の全成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合)が1.5~4.5質量%の範囲であることが特に好ましい。印刷法による場合には、固形分濃度を3~9質量%の範囲とし、それにより溶液粘度を12~50mPa・sの範囲とすることが特に好ましい。インクジェット法による場合には、固形分濃度を1~5質量%の範囲とし、それにより、溶液粘度を3~15mPa・sの範囲とすることが特に好ましい。液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは10~50℃であり、より好ましくは20~30℃である。また、位相差フィルム用の液晶配向剤については、液晶配向剤の塗布性及び形成される塗膜の膜厚を適度にする観点から、液晶配向剤の固形分濃度が0.2~10質量%の範囲であることが好ましく、3~10質量%の範囲であることがより好ましい。 The particularly preferred solid content range varies depending on the application of the liquid crystal alignment agent and the method used to apply the agent to a substrate. For example, when applying a liquid crystal alignment agent for a liquid crystal display device to a substrate using a spinner method, a solid content range (the ratio of the total mass of all components in the liquid crystal alignment agent other than the solvent to the total mass of the liquid crystal alignment agent) of 1.5 to 4.5 mass% is particularly preferred. When using a printing method, a solid content range of 3 to 9 mass% is particularly preferred, thereby resulting in a solution viscosity of 12 to 50 mPa·s. When using an inkjet method, a solid content range of 1 to 5 mass% is particularly preferred, thereby resulting in a solution viscosity of 3 to 15 mPa·s. The temperature when preparing the liquid crystal alignment agent is preferably 10 to 50°C, more preferably 20 to 30°C. Furthermore, with regard to liquid crystal aligning agents for retardation films, from the viewpoint of ensuring the coatability of the liquid crystal aligning agent and the appropriate thickness of the coating film formed, the solids concentration of the liquid crystal aligning agent is preferably in the range of 0.2 to 10% by mass, and more preferably in the range of 3 to 10% by mass.

なお、重合体(P)を含有する液晶配向剤とすることにより、液晶配向剤のインクジェット塗布時のアイドリング耐性を改善でき、しかも信頼性及び不純物耐性に優れた液晶素子を得ることができた理由は定かではないが、例えば以下のことが推察される。まず、液晶素子の信頼性及び不純物耐性に関して、含窒素複素環(塩基成分)を重合体の側鎖に導入することにより、重合体(P)が有するアミック酸部位の解重合反応が抑制され、その結果、液晶配向膜の耐久性が向上し、配向膜由来の不純物の発生を抑制できたとともに、配向膜由来の不純物の発生が抑制されたことで、液晶層への不純物の侵入を抑制できたことが考えられる。また、重合体(P)が含窒素複素環を側鎖に有することにより、絶縁膜等に由来する不純物が液晶配向膜で吸着され、膜中に留めることができたことで、不純物が液晶層に混入することを抑制する効果が高められたと考えられる。その結果、不純物の発生に起因する液晶素子の信頼性の低下及び電圧保持率の低下を十分に抑制できたと考えられる。 While it is unclear why using a liquid crystal alignment agent containing polymer (P) improves idling resistance during inkjet coating and also results in liquid crystal elements with excellent reliability and impurity resistance, the following is speculated. First, with regard to the reliability and impurity resistance of liquid crystal elements, introducing a nitrogen-containing heterocycle (base component) into the side chain of the polymer suppresses the depolymerization reaction of the amic acid moiety in polymer (P). As a result, it is thought that the durability of the liquid crystal alignment film is improved and the generation of impurities from the alignment film is suppressed. Furthermore, the suppression of the generation of impurities from the alignment film also suppresses the intrusion of impurities into the liquid crystal layer. Furthermore, because polymer (P) has a nitrogen-containing heterocycle in the side chain, impurities from the insulating film and other materials are adsorbed by the liquid crystal alignment film and retained within the film, which is thought to enhance the effect of suppressing impurities from entering the liquid crystal layer. As a result, it is thought that the deterioration of the reliability and voltage holding ratio of liquid crystal elements due to the generation of impurities was sufficiently suppressed.

その一方で、重合体の側鎖に含窒素複素環を導入すると、酸塩基相互作用による分子間の疑似架橋が起こりやすくなり、液晶配向剤中の重合体成分が析出しやすくなる結果、インクジェット塗布時のアイドリング耐性が低下することが考えらえる。この点、重合体(P)に導入されている、含窒素複素環を有するジアミンに由来する構造単位は、上記式(1)中のR及びRのうち少なくとも一方に炭素数1~6の1価の有機基を有することから、主鎖骨格の回転自由度(換言すると、分子鎖の運動性)が低下したと考えられる。これにより、酸塩基相互作用による分子間の疑似架橋が生じにくくなり、その結果、アイドリング中にも乾燥・吸湿しにくい液晶配向剤を得ることができたものと考えられる。ただし、上記推測は、本開示を限定するものではない。 On the other hand, when a nitrogen-containing heterocycle is introduced into the side chain of the polymer, intermolecular pseudo-crosslinking due to acid-base interactions is more likely to occur, making the polymer component in the liquid crystal aligning agent more likely to precipitate, which is thought to result in reduced idling resistance during inkjet coating. In this regard, the structural unit derived from a diamine having a nitrogen-containing heterocycle introduced into the polymer (P) has a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms in at least one of R 1 and R 2 in the above formula (1), which is thought to reduce the degree of rotational freedom of the main chain skeleton (in other words, the mobility of the molecular chain). This makes it less likely for intermolecular pseudo-crosslinking due to acid-base interactions to occur, and as a result, it is thought that a liquid crystal aligning agent that is less likely to dry out or absorb moisture even during idling can be obtained. However, the above speculation does not limit the present disclosure.

≪液晶配向膜及び液晶素子≫
本開示の液晶配向膜は、上記のように調製された液晶配向剤により形成される。また、本開示の液晶素子は、上記で説明した液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜を有する。液晶素子における液晶の動作モードは特に限定されず、例えば、TN型、STN型、VA型(VA-MVA型、VA-PVA型等を含む)、IPS(In-Plane Switching)型、FFS(Fringe Field Switching)型、OCB(Optically Compensated Bend)型、PSA型(Polymer Sustained Alignment)等の種々のモードに適用することができる。液晶素子は、例えば以下の工程1~工程3を含む方法により製造することができる。工程1は、所望の動作モードによって使用基板が異なる。工程2及び工程3は各動作モード共通である。
<Liquid crystal alignment film and liquid crystal element>
The liquid crystal alignment film of the present disclosure is formed using the liquid crystal alignment agent prepared as described above. Furthermore, the liquid crystal element of the present disclosure has a liquid crystal alignment film formed using the liquid crystal alignment agent described above. The operation mode of the liquid crystal in the liquid crystal element is not particularly limited, and various modes, such as TN type, STN type, VA type (including VA-MVA type, VA-PVA type, etc.), IPS (In-Plane Switching) type, FFS (Fringe Field Switching) type, OCB (Optically Compensated Bend) type, and PSA (Polymer Sustained Alignment) type, can be applied. The liquid crystal element can be manufactured, for example, by a method including the following steps 1 to 3. In step 1, the substrate used varies depending on the desired operation mode. Steps 2 and 3 are common to all operation modes.

<工程1:塗膜の形成>
先ず、基板上に液晶配向剤を塗布し、好ましくは塗布面を加熱することにより基板上に塗膜を形成する。基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラス等のガラス;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ(脂環式オレフィン)等の樹脂からなる透明基板を用いることができる。TN型、STN型又はVA型の液晶素子を製造する場合には、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板2枚を用いる。一方、IPS型又はFFS型の液晶素子を製造する場合には、櫛歯型にパターニングされた電極が設けられている基板と、電極が設けられていない対向基板とを用いる。透明導電膜としては、酸化スズ(SnO)からなるNESA膜(米国PPG社登録商標)、酸化インジウム-酸化スズ(In-SnO)からなるITO膜等を用いることができる。基板への液晶配向剤の塗布は、基板面上に、好ましくはオフセット印刷法、フレキソ印刷法、スピンコート法、ロールコーター法又はインクジェット印刷法により行う。本開示の液晶配向剤は、インクジェット塗布時のアイドリング耐性に優れていることから、インクジェット塗布用の液晶配向剤として好適である。
<Step 1: Formation of coating film>
First, a liquid crystal alignment agent is applied to a substrate, and the coated surface is preferably heated to form a coating film on the substrate. Examples of substrates that can be used include glass such as float glass and soda glass; and transparent substrates made of resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, polycarbonate, and poly(alicyclic olefin). When manufacturing TN-type, STN-type, or VA-type liquid crystal devices, two substrates each having a patterned transparent conductive film are used. On the other hand, when manufacturing IPS-type or FFS-type liquid crystal devices, one substrate has a comb-shaped patterned electrode and one counter substrate has no electrode. Examples of transparent conductive films that can be used include a NESA film (registered trademark of PPG, USA) made of tin oxide (SnO 2 ), an ITO film made of indium oxide-tin oxide (In 2 O 3 -SnO 2 ), and the like. The liquid crystal aligning agent is applied to the substrate surface preferably by offset printing, flexographic printing, spin coating, roll coating, or inkjet printing. The liquid crystal aligning agent of the present disclosure has excellent idling resistance during inkjet coating, and is therefore suitable as a liquid crystal aligning agent for inkjet coating.

液晶配向剤を塗布した後、塗布した液晶配向剤の液垂れ防止などの目的で、好ましくは予備加熱(プレベーク)が実施される。プレベーク温度は、好ましくは30~200℃であり、プレベーク時間は、好ましくは0.25~10分である。その後、塗布した液晶配向剤中の溶剤を除去すること等を目的として焼成(ポストベーク)工程が実施される。このときの焼成温度(ポストベーク温度)は、好ましくは80~250℃であり、より好ましくは80~200℃である。ポストベーク時間は、好ましくは5~200分である。このようにして形成される膜の厚みは、好ましくは0.001~1μmである。 After the liquid crystal alignment agent is applied, preheating (pre-baking) is preferably performed to prevent dripping of the applied liquid crystal alignment agent. The pre-baking temperature is preferably 30 to 200°C, and the pre-baking time is preferably 0.25 to 10 minutes. A baking (post-baking) step is then performed to remove the solvent from the applied liquid crystal alignment agent. The baking temperature (post-baking temperature) at this time is preferably 80 to 250°C, more preferably 80 to 200°C. The post-baking time is preferably 5 to 200 minutes. The thickness of the film formed in this manner is preferably 0.001 to 1 μm.

<工程2:配向処理>
TN型、STN型、IPS型又はFFS型の液晶素子を製造する場合、上記工程1で形成した塗膜に液晶配向能を付与する処理(配向処理)を実施する。これにより、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向膜となる。配向処理としては、基板上に形成した塗膜を例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦るラビング処理や、基板上に形成した塗膜に光照射を行って塗膜に液晶配向能を付与する光配向処理等を用いることができる。一方、垂直配向(VA)型の液晶素子を製造する場合には、上記工程1で形成した塗膜をそのまま液晶配向膜として使用することができる。また、液晶配向能を更に高めるために、該塗膜に対し配向処理を施してもよい。垂直配向型の液晶素子に好適な液晶配向膜はPSA型の液晶素子にも好適である。
<Step 2: Alignment Treatment>
When producing a TN-type, STN-type, IPS-type, or FFS-type liquid crystal device, the coating film formed in step 1 is subjected to a treatment (alignment treatment) to impart liquid crystal alignment ability. This imparts the alignment ability of liquid crystal molecules to the coating film, resulting in a liquid crystal alignment film. Examples of alignment treatments that can be used include a rubbing treatment in which the coating film formed on the substrate is rubbed in a certain direction with a roll wrapped with a cloth made of fibers such as nylon, rayon, or cotton, and a photoalignment treatment in which the coating film formed on the substrate is irradiated with light to impart liquid crystal alignment ability to the coating film. On the other hand, when producing a vertical alignment (VA)-type liquid crystal device, the coating film formed in step 1 can be used as is as a liquid crystal alignment film. Furthermore, the coating film may be subjected to an alignment treatment to further enhance the liquid crystal alignment ability. Liquid crystal alignment films suitable for vertical alignment-type liquid crystal devices are also suitable for PSA-type liquid crystal devices.

光配向処理において、光照射は、ポストベーク工程後の塗膜に対して照射する方法、プレベーク工程後であってポストベーク工程前の塗膜に対して照射する方法、プレベーク工程及びポストベーク工程の少なくともいずれかにおいて塗膜の加熱中に塗膜に対して照射する方法、等により行うことができる。塗膜に照射する放射線としては、例えば150~800nmの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができる。好ましくは、200~400nmの波長の光を含む紫外線である。放射線が偏光である場合、直線偏光であっても部分偏光であってもよい。用いる放射線が直線偏光又は部分偏光である場合には、照射は基板面に垂直の方向から行ってもよく、斜め方向から行ってもよく、又はこれらを組み合わせて行ってもよい。非偏光の放射線の場合の照射方向は斜め方向とする。 In the photo-alignment treatment, light irradiation can be performed by irradiating the coating film after the post-bake step, irradiating the coating film after the pre-bake step but before the post-bake step, or irradiating the coating film while it is being heated in at least one of the pre-bake and post-bake steps. The radiation irradiated to the coating film can be, for example, ultraviolet light and visible light containing light with a wavelength of 150 to 800 nm. Preferably, ultraviolet light contains light with a wavelength of 200 to 400 nm. When the radiation is polarized, it may be linearly polarized or partially polarized. When the radiation used is linearly polarized or partially polarized, irradiation may be performed perpendicular to the substrate surface, obliquely, or a combination of these. When using unpolarized radiation, the irradiation direction is oblique.

使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマレーザー等が挙げられる。基板面に対する放射線の照射量は、好ましくは400~50,000J/mであり、より好ましくは1,000~20,000J/mである。配向能付与のための光照射後において、基板表面を例えば水、有機溶媒(例えば、メタノール、イソプロピルアルコール、1-メトキシ-2-プロパノールアセテート、ブチルセロソルブ、乳酸エチル等)又はこれらの混合物を用いて洗浄する処理や、基板を加熱する処理を行ってもよい。 Examples of light sources used include low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, deuterium lamps, metal halide lamps, argon resonance lamps, xenon lamps, and excimer lasers. The radiation dose on the substrate surface is preferably 400 to 50,000 J/ m2 , and more preferably 1,000 to 20,000 J/ m2 . After light irradiation to impart alignment ability, the substrate surface may be washed with, for example, water, an organic solvent (e.g., methanol, isopropyl alcohol, 1-methoxy-2-propanol acetate, butyl cellosolve, ethyl lactate, etc.), or a mixture thereof, or the substrate may be heated.

<工程3:液晶セルの構築>
上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を2枚準備し、2枚の基板間に液晶配向膜に隣接して液晶が配置されるように液晶セルを製造する。液晶セルを製造するには、例えば、液晶配向膜が対向するように間隙を介して2枚の基板を対向配置し、2枚の基板の周辺部をシール剤により貼り合わせ、基板表面とシール剤で囲まれたセルギャップ内に液晶を注入充填し注入孔を封止する方法;ODF方式による方法;等が挙げられる。シール剤としては、硬化剤及びスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂等を用いることができる。液晶としては、ネマチック液晶及びスメクチック液晶を挙げることができ、中でもネマチック液晶が好ましい。PSAモードでは、2枚の基板間に液晶と共に光重合性化合物を配置することにより液晶セルを構築し、液晶セルの構築後に、一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する処理を行う。
<Step 3: Construction of liquid crystal cell>
Two substrates each having a liquid crystal alignment film formed thereon are prepared as described above, and a liquid crystal cell is fabricated between the two substrates, with the liquid crystal disposed adjacent to the liquid crystal alignment film. Examples of methods for fabricating a liquid crystal cell include: placing two substrates facing each other with a gap between them so that the liquid crystal alignment films face each other; bonding the peripheries of the two substrates together with a sealant; injecting liquid crystal into the cell gap surrounded by the substrate surfaces and the sealant; and sealing the injection hole; and an ODF method. Examples of sealants that can be used include epoxy resins containing a curing agent and aluminum oxide spheres as spacers. Examples of liquid crystals include nematic liquid crystals and smectic liquid crystals, with nematic liquid crystals being preferred. In the PSA mode, a liquid crystal cell is constructed by disposing a photopolymerizable compound together with the liquid crystal between two substrates. After the liquid crystal cell is constructed, the liquid crystal cell is irradiated with light while a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates.

PSA型の液晶素子を製造する場合、以下の〔1〕~〔3〕の工程を含む方法により液晶素子を製造することができる。
〔1〕本開示の液晶配向剤を、導電膜を有する一対の基板のそれぞれの導電膜上に塗布して塗膜を形成する工程。
〔2〕液晶配向剤を塗布した一対の基板を、液晶層を挟んで塗膜が対向するように配置して液晶セルを構築する工程。
〔3〕導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する工程。
When a PSA type liquid crystal element is manufactured, the liquid crystal element can be manufactured by a method including the following steps [1] to [3].
[1] A step of applying the liquid crystal aligning agent of the present disclosure onto each conductive film of a pair of substrates having a conductive film to form a coating film.
[2] A step of constructing a liquid crystal cell by arranging a pair of substrates coated with a liquid crystal alignment agent so that the coating films face each other with a liquid crystal layer sandwiched therebetween.
[3] A step of irradiating the liquid crystal cell with light while a voltage is applied between the conductive films.

具体的には、まず、導電膜を有する一対の基板間に、液晶と共に光重合性化合物を注入又は滴下する点以外は上記工程1~工程3と同様にして液晶セルを構築する。光重合性化合物としては、従来公知の化合物を用いることができる。好ましくは、多官能性(メタ)アクリル化合物である。 Specifically, a liquid crystal cell is constructed in the same manner as steps 1 to 3 above, except that a photopolymerizable compound is injected or dropped along with the liquid crystal between a pair of substrates having a conductive film. Any conventionally known compound can be used as the photopolymerizable compound. A polyfunctional (meth)acrylic compound is preferred.

液晶セルの構築後、一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する(〔3〕の工程)。ここで印加する電圧は、例えば5~50Vの直流又は交流とすることができる。照射する光としては、例えば150~800nmの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができる。これらのうち、300~400nmの波長の光を含む紫外線が好ましい。照射光の光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマレーザーなどを使用することができる。光の照射量としては、好ましくは1,000~200,000J/mであり、より好ましくは1,000~100,000J/mである。 After the liquid crystal cell is constructed, the liquid crystal cell is irradiated with light while a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates (step [3]). The voltage applied here can be, for example, 5 to 50 V DC or AC. The light to be irradiated can be, for example, ultraviolet light containing light with a wavelength of 150 to 800 nm and visible light. Of these, ultraviolet light containing light with a wavelength of 300 to 400 nm is preferred. The light source for the irradiation light can be, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a metal halide lamp, an argon resonance lamp, a xenon lamp, or an excimer laser. The light irradiation dose is preferably 1,000 to 200,000 J/ , and more preferably 1,000 to 100,000 J/ .

各モードの液晶セルにつき、続いて、必要に応じて、液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせ、液晶素子とする。偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「H膜」と称される偏光フィルムを酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板又はH膜そのものからなる偏光板が挙げられる。 For each mode of liquid crystal cell, a polarizing plate is then attached to the outer surface of the liquid crystal cell as needed to create a liquid crystal element. Examples of polarizing plates include polarizing plates in which a polarizing film called an "H film," made by stretching and aligning polyvinyl alcohol and absorbing iodine, is sandwiched between cellulose acetate protective films, or polarizing plates made of the H film itself.

本開示の液晶素子は種々の用途に有効に適用することができる。具体的には、例えば、時計、携帯型ゲーム機、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、PDA、デジタルカメラ、携帯電話機、スマートフォン、各種モニター、液晶テレビ、インフォメーションディスプレイ等の各種表示装置や、調光フィルム、位相差フィルム等に適用することができる。 The liquid crystal element of the present disclosure can be effectively applied to a variety of applications. Specifically, it can be used in various display devices such as watches, portable game consoles, word processors, notebook computers, car navigation systems, camcorders, PDAs, digital cameras, mobile phones, smartphones, various monitors, LCD televisions, and information displays, as well as in light control films and retardation films.

以上説明した本開示は、以下の〔1〕~〔10〕の態様を含む。
〔1〕 ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも1種であって、上記式(1)で表されるジアミンに由来する構造単位を含む重合体(P)を含有する、液晶配向剤。
〔2〕 上記式(1)中のRが、炭素数1~6の1価の有機基である、〔1〕に記載の液晶配向剤。
〔3〕 上記式(1)中のR及びRの少なくとも一方が、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基、フェニル基、-COR又は-NR(ただし、R、R及びRは、互いに独立して炭素数1~3のアルキル基である。)である、〔1〕又は〔2〕に記載の液晶配向剤。
〔4〕 上記式(1)中のRが、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基、フェニル基、-COR又は-NR(ただし、R、R及びRは、互いに独立して炭素数1~3のアルキル基である。)であり、上記式(1)中のRが水素原子である、〔1〕~〔3〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
〔5〕 前記含窒素複素環構造を有する1価の基は、含窒素芳香族複素環を有する、〔1〕~〔4〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
〔6〕 架橋剤を更に含有する、〔1〕~〔5〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
〔7〕 〔1〕~〔6〕のいずれかに記載の液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜。
〔8〕 〔7〕に記載の液晶配向膜を備える液晶素子。
〔9〕 ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル又はポリイミドであって、上記式(1)で表されるジアミンに由来する構造単位を含む、重合体。
〔10〕 上記式(1)で表されるジアミン。
The present disclosure described above includes the following aspects [1] to [10].
[1] A liquid crystal aligning agent comprising a polymer (P) which is at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, and polyimide and which contains a structural unit derived from a diamine represented by the above formula (1).
[2] The liquid crystal aligning agent according to [1], wherein R 1 in the formula (1) is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms.
[3] The liquid crystal aligning agent according to [1] or [2], wherein at least one of R 1 and R 2 in the formula (1) is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group, -COR 5 or -NR 6 R 7 (wherein R 5 , R 6 and R 7 are each independently an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms).
[4] The liquid crystal aligning agent according to any one of [1] to [3], wherein R 1 in the above formula (1) is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group, -COR 5 or -NR 6 R 7 (wherein R 5 , R 6 and R 7 are each independently an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms), and R 2 in the above formula (1) is a hydrogen atom.
[5] The liquid crystal aligning agent according to any one of [1] to [4], wherein the monovalent group having a nitrogen-containing heterocyclic structure has a nitrogen-containing aromatic heterocyclic ring.
[6] The liquid crystal aligning agent according to any one of [1] to [5], further comprising a crosslinking agent.
[7] A liquid crystal alignment film formed using the liquid crystal aligning agent according to any one of [1] to [6].
[8] A liquid crystal element comprising the liquid crystal alignment film according to [7].
[9] A polymer which is a polyamic acid, a polyamic acid ester, or a polyimide and contains a structural unit derived from a diamine represented by the above formula (1).
[10] A diamine represented by the above formula (1).

以下、実施例により具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 The following provides a more detailed explanation using examples, but the present invention is not limited to these examples.

以下の例において、重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、ポリイミドのイミド化率、及びポリオルガノシロキサンのエポキシ当量は以下の方法により測定した。
<重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)>
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、下記条件でMw及びMnを測定した。分子量分布(Mw/Mn)は、得られたMw及びMnより算出した。
装置:昭和電工(株)の「GPC-101」
GPCカラム:(株)島津ジーエルシー製の「GPC-KF-801」、「GPC-KF-802」、「GPC-KF-803」及び「GPC-KF-804」を結合
移動相:テトラヒドロフラン(THF)
カラム温度:40℃
流速:1.0mL/分
試料濃度:1.0質量%
試料注入量:100μL
検出器:示差屈折計
標準物質:単分散ポリスチレン
<ポリイミドのイミド化率>
ポリイミドの溶液を純水に投入し、得られた沈殿を室温で十分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温でH-NMR測定を行った。得られたH-NMRスペクトルから、下記数式(1)によりイミド化率[%]を求めた。
イミド化率[%]=(1-(β/(β×α)))×100 …(1)
(数式(1)中、βは化学シフト10ppm付近に現れるNH基のプロトン由来のピーク面積であり、βはその他のプロトン由来のピーク面積であり、αは重合体の前駆体(ポリアミック酸)におけるNH基のプロトン1個に対するその他のプロトンの個数割合である。)
In the following examples, the weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn), imidization ratio of polyimide, and epoxy equivalent of polyorganosiloxane were measured by the following methods.
<Weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn)>
Mw and Mn were measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions. The molecular weight distribution (Mw/Mn) was calculated from the obtained Mw and Mn.
Apparatus: Showa Denko "GPC-101"
GPC column: Shimadzu GLC's "GPC-KF-801", "GPC-KF-802", "GPC-KF-803" and "GPC-KF-804" combined Mobile phase: Tetrahydrofuran (THF)
Column temperature: 40°C
Flow rate: 1.0 mL/min Sample concentration: 1.0% by mass
Sample injection volume: 100 μL
Detector: Differential refractometer Standard material: Monodisperse polystyrene <imidization rate of polyimide>
The polyimide solution was poured into pure water, and the resulting precipitate was thoroughly dried under reduced pressure at room temperature. The precipitate was then dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide and subjected to 1H -NMR measurement at room temperature using tetramethylsilane as a reference substance. The imidization rate [%] was calculated from the obtained 1H -NMR spectrum using the following formula (1).
Imidization rate [%] = (1 - (β 1 / (β 2 × α))) × 100 (1)
(In formula (1), β1 is the peak area derived from the proton of the NH group appearing at a chemical shift of around 10 ppm, β2 is the peak area derived from other protons, and α is the ratio of the number of other protons to one proton of the NH group in the polymer precursor (polyamic acid).)

<ポリオルガノシロキサンのエポキシ当量>
JIS C2105の「塩酸-メチルエチルケトン法」に準じて測定した。
<Epoxy equivalent of polyorganosiloxane>
Measurement was performed in accordance with the "hydrochloric acid - methyl ethyl ketone method" of JIS C2105.

下記の例で使用した化合物の略称を以下に示す。なお、以下では便宜上、「式(X)で表される化合物」を単に「化合物(X)」と示すことがある。実施例、比較例中の「部」及び「%」は、特に断らない限り質量基準である。 The abbreviations for the compounds used in the following examples are shown below. For convenience, "compound represented by formula (X)" may be referred to simply as "compound (X)." In the examples and comparative examples, "parts" and "%" are by mass unless otherwise specified.

・テトラカルボン酸二無水物
・Tetracarboxylic acid dianhydride

・ジアミン化合物
・Diamine compounds

・シロキサンモノマー及びカルボン酸
Siloxane monomer and carboxylic acid

・重合性炭素-炭素不飽和結合を有するモノマー
Monomers with polymerizable carbon-carbon unsaturated bonds

・添加剤
・Additives

<重合体の合成>
1.ポリアミック酸の合成
[合成例1]
テトラカルボン酸二無水物として化合物(CA-2)70モル部及び化合物(CA-1)30モル部、並びにジアミン化合物として化合物(DA-1)30モル部、化合物(DB-2)20モル部、化合物(DB-4)20モル部、及び化合物(DB-8)30モル部をN-メチル-2-ピロリドン(NMP)に溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸(これを重合体(PAA-1)とする。)を20質量%含有する溶液を得た。
<Synthesis of Polymer>
1. Synthesis of polyamic acid [Synthesis Example 1]
70 parts by mole of compound (CA-2) and 30 parts by mole of compound (CA-1) as tetracarboxylic dianhydrides, and 30 parts by mole of compound (DA-1), 20 parts by mole of compound (DB-2), 20 parts by mole of compound (DB-4), and 30 parts by mole of compound (DB-8) as diamine compounds were dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), and the mixture was reacted at 60°C for 6 hours to obtain a solution containing 20% by mass of polyamic acid (referred to as polymer (PAA-1)).

[合成例2~19]
使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の種類及び量を表1に記載のとおり変更した以外は合成例1と同様の操作を行い、ポリアミック酸(これらを重合体(PAA-2)~(PAA-19)とする。)を得た。なお、表1中、テトラカルボン酸二無水物の数値は、ポリアミック酸の合成に使用したテトラカルボン酸二無水物の全量100モル部に対する各化合物の割合(モル比)を表す。ジアミン化合物の数値は、ポリアミック酸の合成に使用したジアミン化合物の全量100モル部に対する各化合物の割合(モル比)を表す。
[Synthesis Examples 2 to 19]
Polyamic acids (referred to as polymers (PAA-2) to (PAA-19)) were obtained by the same procedure as in Synthesis Example 1, except that the types and amounts of the tetracarboxylic dianhydrides and diamine compounds used were changed as shown in Table 1. In Table 1, the numerical values for the tetracarboxylic dianhydrides represent the ratio (molar ratio) of each compound relative to 100 parts by mole of the total amount of the tetracarboxylic dianhydrides used in the synthesis of the polyamic acid. The numerical values for the diamine compounds represent the ratio (molar ratio) of each compound relative to 100 parts by mole of the total amount of the diamine compounds used in the synthesis of the polyamic acid.

2.ポリイミドの合成
[合成例20]
テトラカルボン酸二無水物として化合物(CA-2)100モル部、並びにジアミン化合物として化合物(DA-1)30モル部、化合物(DB-2)20モル部、化合物(DB-4)20モル部、及び化合物(DB-8)30モル部をNMPに溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸を20質量%含有する溶液を得た。次いで、得られたポリアミック酸溶液にNMPを追加してポリアミック酸濃度10質量%の溶液とし、ピリジン及び無水酢酸を添加して80℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなNMPで溶媒置換することにより、イミド化率約62%のポリイミド(これを重合体(PI-1)とする。)を15質量%含有する溶液を得た。
2. Synthesis of polyimide [Synthesis Example 20]
100 parts by mole of compound (CA-2) as a tetracarboxylic dianhydride, and 30 parts by mole of compound (DA-1), 20 parts by mole of compound (DB-2), 20 parts by mole of compound (DB-4), and 30 parts by mole of compound (DB-8) as diamine compounds were dissolved in NMP and reacted at 60°C for 6 hours to obtain a solution containing 20% by mass of polyamic acid. Next, NMP was added to the obtained polyamic acid solution to obtain a solution with a polyamic acid concentration of 10% by mass, and pyridine and acetic anhydride were added, followed by a dehydration ring-closing reaction at 80°C for 4 hours. After the dehydration ring-closing reaction, the solvent in the system was replaced with fresh NMP to obtain a solution containing 15% by mass of polyimide (referred to as polymer (PI-1)) with an imidization rate of approximately 62%.

[合成例21~28]
使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の種類及び量を表1に記載のとおり変更した以外は合成例20と同様の操作を行い、ポリイミド(これらを重合体(PI-2)~(PI-9)とする。)を得た。
[Synthesis Examples 21 to 28]
Polyimides (referred to as polymers (PI-2) to (PI-9)) were obtained in the same manner as in Synthesis Example 20, except that the types and amounts of the tetracarboxylic dianhydrides and diamine compounds used were changed as shown in Table 1.

3.ポリオルガノシロキサンの合成
[合成例29]
撹拌機、温度計、滴下漏斗及び還流冷却管を備えた反応容器に、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(上記式(S-1)で表される化合物)100.0g、メチルイソブチルケトン500g及びトリエチルアミン10.0gを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水100gを滴下漏斗より30分かけて滴下した後、還流下で撹拌しつつ、80℃で6時間反応を行った。反応終了後、有機層を取り出し、0.2質量%硝酸アンモニウム水溶液により、洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒及び水を留去することにより、エポキシ基を含有するポリオルガノシロキサン(ESSQ-1)を粘稠な透明液体として得た。
ポリオルガノシロキサン(ESSQ-1)について、H-NMR分析を行ったところ、化学シフト(δ)=3.2ppm付近にエポキシ基に基づくピークが観察され、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。得られたポリオルガノシロキサン(ESSQ-1)の重量平均分子量Mwは3,500、エポキシ当量は180g/モルであった。
200mLの三口フラスコに、ポリオルガノシロキサン(ESSQ-1)を10.0g、溶媒としてメチルイソブチルケトン30.28g、変性成分(カルボン酸)として上記式(S-2)で表される化合物及び上記式(S-3)で表される化合物を、ポリオルガノシロキサン(ESSQ-1)が有するエポキシ基の全量に対して、それぞれ20モル%及び10モル%に相当する量、及び触媒としてUCAT 18X(商品名、サンアプロ(株)製)0.10gを仕込み、100℃で48時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを加えて得た溶液を3回水洗し、硫酸マグネシウムを用いて有機層を乾燥した後、溶剤を留去することにより、配向性基を含有するポリオルガノシロキサン(これを重合体(PSQ-1)とする。)を得た。得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は8,000であった。
3. Synthesis of polyorganosiloxane [Synthesis Example 29]
A reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel, and reflux condenser was charged with 100.0 g of 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane (a compound represented by the above formula (S-1)), 500 g of methyl isobutyl ketone, and 10.0 g of triethylamine, and mixed at room temperature. Next, 100 g of deionized water was added dropwise from the dropping funnel over 30 minutes, and then the mixture was stirred under reflux at 80 ° C. for 6 hours. After completion of the reaction, the organic layer was removed and washed with a 0.2% by mass aqueous ammonium nitrate solution until the water after washing was neutral. The solvent and water were then distilled off under reduced pressure to obtain an epoxy group-containing polyorganosiloxane (ESSQ-1) as a viscous, transparent liquid.
When polyorganosiloxane (ESSQ-1) was analyzed by 1H -NMR, a peak due to the epoxy group was observed at a chemical shift (δ) of approximately 3.2 ppm, confirming that no side reactions of the epoxy group occurred during the reaction. The weight-average molecular weight Mw of the resulting polyorganosiloxane (ESSQ-1) was 3,500, and the epoxy equivalent was 180 g/mol.
In a 200 mL three-neck flask, 10.0 g of polyorganosiloxane (ESSQ-1), 30.28 g of methyl isobutyl ketone as a solvent, the compound represented by the above formula (S-2) and the compound represented by the above formula (S-3) as modified components (carboxylic acids), the total amount of epoxy groups in polyorganosiloxane (ESSQ-1) was equivalent to 20 mol% and 10 mol%, respectively, and 0.10 g of UCAT 18X (trade name, manufactured by San-Apro Co., Ltd.) was charged as a catalyst and the reaction was carried out under stirring at 100 ° C. for 48 hours. After completion of the reaction, ethyl acetate was added to the reaction mixture, and the resulting solution was washed three times with water, the organic layer was dried using magnesium sulfate, and the solvent was then distilled off to obtain a polyorganosiloxane containing an orienting group (this is referred to as polymer (PSQ-1)). The weight average molecular weight (Mw) of the resulting polymer was 8,000.

4.スチレン-マレイミド系共重合体の合成
[合成例30]
窒素下、100mL二口フラスコに、重合性炭素-炭素不飽和結合を有するモノマーとして、化合物(MA-2)18.7ミリモル、化合物(MA-4)18.7ミリモル、化合物(MA-6)10.6ミリモル、及び化合物(MA-7)5.3ミリモル、ラジカル重合開始剤として2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)0.98g、並びに溶媒としてN-メチル-2-ピロリドン(NMP)50mLを加え、70℃で6時間重合した。メタノールに再沈殿した後、沈殿物を濾過し、室温で8時間真空乾燥することによりスチレン-マレイミド系共重合体(これを重合体(MI-1)とする。)を得た。GPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量(Mw)は35,000、分子量分布(Mw/Mn)は2であった。
4. Synthesis of styrene-maleimide copolymer [Synthesis Example 30]
Under nitrogen, a 100 mL two-neck flask was charged with 18.7 mmol of compound (MA-2), 18.7 mmol of compound (MA-4), 10.6 mmol of compound (MA-6), and 5.3 mmol of compound (MA-7) as monomers having a polymerizable carbon-carbon unsaturated bond, 0.98 g of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as a radical polymerization initiator, and 50 mL of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) as a solvent, and the mixture was polymerized at 70°C for 6 hours. After reprecipitation in methanol, the precipitate was filtered and dried in vacuum at room temperature for 8 hours to obtain a styrene-maleimide copolymer (referred to as polymer (MI-1)). The weight average molecular weight (Mw) measured in terms of polystyrene by GPC was 35,000, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 2.

[合成例31]
使用する重合モノマーの種類及び量を表2に記載のとおり変更した以外は合成例30と同様の操作を行い、スチレン-マレイミド系共重合体(これを重合体(MI-2)とする。)を得た。
[Synthesis Example 31]
A styrene-maleimide copolymer (referred to as polymer (MI-2)) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 30, except that the types and amounts of the polymerization monomers used were changed as shown in Table 2.

<評価>
<液晶配向剤の調製及び評価>
[実施例1:PSA型液晶表示素子]
1.液晶配向剤の調製
合成例1で得た重合体(PAA-1)100質量部を含む溶液をNMP、γ-ブチルラクトン(GBL)、エチレングリコールモノブチルエーテル(BC)、ダイアセトンアルコール(DAA)、及びジエチレングリコールジエチルエーテル(DEDG)により希釈し、化合物(AD-3)7質量部を加え、溶剤組成がNMP:GBL:BC:DAA:DEDG=30:30:20:10:10(質量比)、固形分濃度が4.0質量%の溶液とした。この溶液を孔径0.2μmのフィルターで濾過することにより液晶配向剤(AL-1)を調製した。
<Evaluation>
<Preparation and Evaluation of Liquid Crystal Alignment Agent>
[Example 1: PSA type liquid crystal display element]
1. Preparation of Liquid Crystal Alignment Agent A solution containing 100 parts by mass of the polymer (PAA-1) obtained in Synthesis Example 1 was diluted with NMP, γ-butyrolactone (GBL), ethylene glycol monobutyl ether (BC), diacetone alcohol (DAA), and diethylene glycol diethyl ether (DEDG), and 7 parts by mass of compound (AD-3) was added to obtain a solution with a solvent composition of NMP:GBL:BC:DAA:DEDG=30:30:20:10:10 (mass ratio) and a solids concentration of 4.0% by mass. This solution was filtered through a filter with a pore size of 0.2 μm to prepare a liquid crystal alignment agent (AL-1).

2.液晶組成物の調製
ネマチック液晶(メルク社製のネガ型液晶、MLC-6608)10gに対し、下記式(L-1)で表される光重合性化合物を0.3質量%添加して混合することにより液晶組成物LC1を得た。
2. Preparation of Liquid Crystal Composition Liquid crystal composition LC1 was obtained by adding 0.3% by mass of a photopolymerizable compound represented by the following formula (L-1) to 10 g of a nematic liquid crystal (negative liquid crystal manufactured by Merck, MLC-6608) and mixing them.

3.PSA型液晶セルの作製
上記で調製した液晶配向剤(AL-1)を、図1に示したようなスリット状にパターニングされ、複数の領域に区画されたITO電極をそれぞれ有するガラス基板2枚の各電極面上に、液晶配向膜印刷機(日本写真印刷(株)製)を用いて塗布した。次いで、80℃のホットプレート上で1分間加熱(プレベーク)して溶媒を除去した後、150℃のホットプレート上で10分間加熱(ポストベーク)して、平均膜厚0.06μmの塗膜を形成した。
この塗膜につき、超純水中で1分間、超音波洗浄を行った後、100℃クリーンオーブン中で10分間乾燥することにより、液晶配向膜となる塗膜を有する基板を得た。この操作を繰り返し、塗膜を有する基板を一対(2枚)得た。なお、使用した電極のパターンは、PSAモードにおける電極パターンと同種のパターンである。
次いで、上記一対の基板の塗膜を有するそれぞれの外縁に、直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、塗膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化した。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、上記で調製した液晶組成物LC1を充填した後、アクリル系光硬化接着剤で液晶注入口を封止した。その後、得られた液晶セルの導電膜間に電圧を印加した状態で、100,000J/mの照射量にて光照射した。
3. Preparation of PSA-type liquid crystal cell The liquid crystal aligning agent (AL-1) prepared above was applied to each electrode surface of two glass substrates each having an ITO electrode patterned into a slit shape and partitioned into multiple regions as shown in Figure 1, using a liquid crystal alignment film printer (manufactured by Nissha Printing Co., Ltd.). Next, the substrate was heated (pre-baked) on a hot plate at 80°C for 1 minute to remove the solvent, and then heated (post-baked) on a hot plate at 150°C for 10 minutes to form a coating film with an average film thickness of 0.06 μm.
This coating film was subjected to ultrasonic cleaning in ultrapure water for 1 minute, and then dried in a clean oven at 100°C for 10 minutes to obtain a substrate having a coating film that would become a liquid crystal alignment film. This procedure was repeated to obtain a pair (two substrates) having a coating film. The electrode pattern used was the same type as the electrode pattern in the PSA mode.
Next, an epoxy resin adhesive containing 5.5 μm diameter aluminum oxide spheres was applied to the outer edges of each of the coated substrates, and the substrates were then placed together with the coated surfaces facing each other and pressed together, allowing the adhesive to cure. The liquid crystal composition LC1 prepared above was then filled between the pair of substrates through the liquid crystal injection port, which was then sealed with an acrylic photocurable adhesive. The resulting liquid crystal cell was then exposed to light at a dose of 100,000 J/ while a voltage was applied between the conductive films.

4.信頼性の評価
上記3.で製造した液晶セル(光照射後の液晶セル)を用いて、液晶素子の信頼性を評価した。評価は以下のようにして行った。
まず、上記の液晶セルに、5Vの電圧を60マイクロ秒の印加時間、167ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から167ミリ秒後の電圧保持率(VHR1)を測定した。次いで、液晶セルを、LEDランプ照射下の80℃オーブン中で200時間静置した後、室温中に静置して室温まで自然冷却した。冷却後、液晶セルに5Vの電圧を60マイクロ秒の印加時間、167ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から167ミリ秒後の電圧保持率(VHR2)を測定した。なお、測定装置は東陽テクニカ社製「VHR-1」を使用した。このときのVHRの変化率(ΔVHR)を下記数式(I)により算出した。
ΔVHR[%]=(VHR1-VHR2)/(VHR1)×100 …(I)
上記により算出したΔVHRによって、液晶素子の信頼性を評価した。評価は、ΔVHRが1.0%未満であった場合を信頼性「非常に良好(◎)」、1.0%以上2.5%未満であった場合を信頼性「良好(○)」、2.5%以上であった場合を信頼性「不良(×)」とした。その結果、この実施例では、ΔVHR=0.8%であり、信頼性「非常に良好(◎)」であった。
4. Evaluation of Reliability The reliability of the liquid crystal element was evaluated using the liquid crystal cell (liquid crystal cell after light irradiation) produced in the above 3. The evaluation was performed as follows.
First, a voltage of 5 V was applied to the liquid crystal cell for 60 microseconds over a span of 167 milliseconds, and the voltage holding ratio (VHR1) was measured 167 milliseconds after the application was stopped. The liquid crystal cell was then placed in an 80°C oven under LED lamp irradiation for 200 hours, and then allowed to cool naturally to room temperature. After cooling, a voltage of 5 V was applied to the liquid crystal cell for 60 microseconds over a span of 167 milliseconds, and the voltage holding ratio (VHR2) was measured 167 milliseconds after the application was stopped. The measurement device used was a "VHR-1" manufactured by Toyo Corporation. The rate of change in VHR (ΔVHR) at this time was calculated using the following formula (I):
ΔVHR[%]=(VHR1-VHR2)/(VHR1)×100...(I)
The reliability of the liquid crystal element was evaluated based on the ΔVHR calculated as above. The evaluation was as follows: if ΔVHR was less than 1.0%, the reliability was "very good (◎)", if it was 1.0% or more and less than 2.5%, the reliability was "good (○)", and if it was 2.5% or more, the reliability was "poor (×)". As a result, in this example, ΔVHR = 0.8%, and the reliability was "very good (◎)".

5.インクジェット(IJ)塗布時のアイドリング耐性
1ドットあたりの吐出量が50pLとなるように調整された計256個の吐出孔を有するヘッドを搭載したインクジェット装置(芝浦メカトロニクス社製)を用いて、以下のようにしてアイドリング耐性試験を行った。
まず、液晶配向剤(AL-1)をインクジェット装置に充填し、256個の全ての吐出孔から問題なく液晶配向剤(AL-1)を吐出できるようにした状態でダミー吐出を行った。その後、ヘッドをそのままの状態で一定時間放置した。ヘッドの放置後に液滴が濡れ拡がらないように撥水表面処理が行われた基板に対して吐出試験を行い、正常に吐出された液滴の個数を目視で数えた。全吐出孔数に対して90%以上の液滴が正常に吐出された場合に、ヘッドの放置時間に対するアイドリング耐性を合格とし、それ以外の場合に不合格とした。ヘッドを放置してから3時間後に試験を開始し、以降3時間おきに、アイドリング耐性が不合格となるまで実施した。アイドリング耐性に合格した時間が15時間以上の場合をアイドリング耐性「良好(○)」、9時間以上15時間未満の場合をアイドリング耐性「可(△)」、9時間未満であった場合をアイドリング耐性「不良(×)」とした。その結果、この実施例では、アイドリング耐性「良好(○)」であった。
5. Idling Resistance During Inkjet (IJ) Coating An idling resistance test was carried out as follows using an inkjet device (manufactured by Shibaura Mechatronics Corporation) equipped with a head having a total of 256 ejection holes adjusted so that the ejection amount per dot was 50 pL.
First, the liquid crystal alignment agent (AL-1) was filled into the inkjet device, and dummy ejection was performed in a state where the liquid crystal alignment agent (AL-1) could be ejected without any problems from all 256 ejection holes. The head was then left as is for a certain period of time. An ejection test was performed on a substrate that had been subjected to a water-repellent surface treatment to prevent droplets from wetting and spreading after the head was left standing, and the number of droplets that were ejected normally was counted visually. If 90% or more of the droplets were ejected normally out of the total number of ejection holes, the idling resistance of the head was judged to pass; otherwise, it was judged to fail. The test was started three hours after the head was left standing, and was continued every three hours thereafter until the idling resistance failed. If the idling resistance time passed the test for 15 hours or more, the idling resistance was judged to be "good (○)," if it was 9 hours or more but less than 15 hours, the idling resistance was judged to be "fair (△)," and if it was less than 9 hours, the idling resistance was judged to be "poor (×)." As a result, in this example, the idling resistance was judged to be "good (○)."

6.不純物耐性
(1)絶縁膜形成用組成物の調製
冷却管と撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)7質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200質量部、メタクリル酸15質量部、グリシジルメタクリレート30質量部、スチレン20質量部、2-ヒドロキシエチルアクリレート5質量部、及びイソボルニルアクリルレート30質量部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに撹拌を始めた。反応溶液を62℃まで上昇させた後、この温度を5時間維持して、アクリル系共重合体(R-1)を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液をヘキサン900質量部に滴下してアクリル系共重合体(R-1)を沈殿させた。沈殿したアクリル系共重合体(R-1)を分離し、プロピレングリコールモノメチルエチルアセテート150質量部を入れ、40℃まで加熱、減圧蒸留して、アクリル系共重合体(R-1)を含む重合体溶液を得た。得られたアクリル系共重合体(R-1)を含む重合体溶液の固形分濃度は30質量%であり、GPC分析の結果、未反応モノマーと重合開始剤の面積が2.3%であり、重量平均分子量(Mw)は12,800であった。
アクリル系共重合体(R-1)100質量部(固形分)に相当する量に対して、感光剤として4,4’-[1-[4-[1-[4-ヒドロキシフェニル]-1-メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール(1.0モル)と1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリド(2.0モル)との縮合物25質量部、重合性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物(日本化薬社製の「KAYARAD DPHA」)5質量部、造膜助剤として2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオールモノイソブチレート(協和発酵キリン社製の「キョーワノールM」)10質量部、レベリング剤としてSH28PA(東レダウコーニング社製)を混合し、固形分濃度が18質量%となるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルを混合したものに溶解させた後、孔径0.2μmのメンブランフィルタで濾過して、絶縁膜形成用組成物(RD-1)を調製した。
6. Impurity Resistance (1) Preparation of Insulating Film-Forming Composition A flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 7 parts by weight of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 200 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate, 15 parts by weight of methacrylic acid, 30 parts by weight of glycidyl methacrylate, 20 parts by weight of styrene, 5 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, and 30 parts by weight of isobornyl acrylate. After purging with nitrogen, gentle stirring was initiated. The reaction solution was heated to 62°C and maintained at this temperature for 5 hours to obtain a polymer solution containing acrylic copolymer (R-1). The resulting polymer solution was added dropwise to 900 parts by weight of hexane to precipitate the acrylic copolymer (R-1). The precipitated acrylic copolymer (R-1) was separated, and 150 parts by weight of propylene glycol monomethyl ethyl acetate was added. The mixture was heated to 40°C and distilled under reduced pressure to obtain a polymer solution containing acrylic copolymer (R-1). The solids concentration of the obtained polymer solution containing the acrylic copolymer (R-1) was 30% by mass, and as a result of GPC analysis, the area of unreacted monomer and polymerization initiator was 2.3%, and the weight average molecular weight (Mw) was 12,800.
For an amount equivalent to 100 parts by mass (solid content) of the acrylic copolymer (R-1), 25 parts by mass of a condensate of 4,4'-[1-[4-[1-[4-hydroxyphenyl]-1-methylethyl]phenyl]ethylidene]bisphenol (1.0 mol) and 1,2-naphthoquinone diazide-5-sulfonic acid chloride (2.0 mol) was used as a photosensitizer, and a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate ("KAYARAD" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was used as a polymerizable compound. A mixture of 5 parts by mass of 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate (Kyowanol M manufactured by Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd.) as a film-forming aid, 10 parts by mass of SH28PA (manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.) as a leveling agent, and diethylene glycol ethyl methyl ether was added to the mixture to give a solids concentration of 18% by mass. The mixture was then dissolved and filtered through a membrane filter with a pore size of 0.2 μm to prepare a composition for forming an insulating film (RD-1).

(2)絶縁膜を備える基板の作製
絶縁膜形成用組成物(RD-1)をガラス基板上にスピンコータで塗布した後、ホットプレート上で90℃にて2分間プレベークした。次いで、プロキシミティ露光機(キヤノン社の「MA-1200」(ghi線混合))を用いて300mJ/cmの光を基板全面に照射した後、オーブンにて230℃で30分間加熱(ポストベーク)して硬化させ、ガラス基板上に膜厚3μmの絶縁膜を形成した。
(2) Preparation of a substrate with an insulating film The insulating film-forming composition (RD-1) was applied to a glass substrate using a spin coater, and then pre-baked on a hot plate at 90°C for 2 minutes. Next, the entire substrate was irradiated with light at 300 mJ/ cm2 using a proximity exposure machine (Canon's "MA-1200" (ghi-ray mixed)), and then heated (post-baked) in an oven at 230°C for 30 minutes to harden, forming an insulating film with a film thickness of 3 μm on the glass substrate.

(3)不純物耐性評価用の液晶セルの製造
櫛歯型にパターニングされたITO電極が設けられている基板における電極形成面と、絶縁膜を備える基板における絶縁膜形成面のそれぞれに、液晶配向剤(AL-1)をスピンナーにより塗布し、80℃のホットプレートで1分間加熱(プレベーク)を行った。その後、庫内を窒素置換したオーブン中、230℃で1時間加熱(ポストベーク)して、膜厚0.1μmの液晶配向膜を有する基板を一対(2枚)作成した。
絶縁膜を備える基板における液晶配向膜を有する面の外周に、直径3.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した後、一対の基板の液晶配向膜面を対向させて圧着し、150℃で1時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、液晶注入口より基板間の間隙に液晶組成物LC1を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを130℃で加熱してから室温まで徐冷し、液晶セルを製造した。なお、基板の作製が簡便であることから、不純物耐性評価用の液晶セルについてはIPS型液晶セル用の電極基板を用いて作製した。
(3) Production of liquid crystal cell for impurity tolerance evaluation A liquid crystal alignment agent (AL-1) was applied to each of the electrode formation surface of a substrate provided with comb-tooth-patterned ITO electrodes and the insulating film formation surface of a substrate provided with an insulating film, using a spinner, and heated (pre-baked) on a hot plate at 80°C for 1 minute. Thereafter, the substrate was heated (post-baked) at 230°C for 1 hour in an oven whose interior had been replaced with nitrogen, to produce a pair (two substrates) each having a liquid crystal alignment film with a film thickness of 0.1 μm.
An epoxy resin adhesive containing 3.5 μm diameter aluminum oxide spheres was applied by screen printing to the outer periphery of the surface of the insulating substrate bearing the liquid crystal alignment film. The pair of substrates were then pressed together with the liquid crystal alignment film surfaces facing each other, and the adhesive was thermally cured at 150°C for 1 hour. Next, liquid crystal composition LC1 was filled into the gap between the substrates through the liquid crystal injection port, which was then sealed with an epoxy adhesive. Furthermore, to eliminate flow alignment during liquid crystal injection, the sample was heated to 130°C and then slowly cooled to room temperature to produce a liquid crystal cell. Because substrate preparation is simple, the liquid crystal cells used to evaluate impurity tolerance were prepared using electrode substrates for IPS-type liquid crystal cells.

(4)不純物耐性の評価
上記6.(3)で製造した不純物耐性評価用の液晶セルを60℃のオーブンに静置した後、東陽テクニカ社製VHR測定装置「VHR-1」を用いて、1V、1670ミリ秒の条件で電圧保持率(VHR)を測定した。VHRが60%よりも高い場合に「良好(○)」、60%以下45%以上の場合に「可(△)」、45%未満の場合に「不良(×)」とした。その結果、この実施例の電気特性は「良好(○)」の評価であった。
(4) Evaluation of Impurity Resistance The liquid crystal cell for evaluating impurity resistance manufactured in 6.(3) above was placed in an oven at 60°C, and then the voltage holding ratio (VHR) was measured under conditions of 1 V and 1670 milliseconds using a VHR measuring device "VHR-1" manufactured by Toyo Corporation. A VHR of more than 60% was rated "good (○)", a VHR of 60% or less and 45% or more was rated "fair (△)", and a VHR of less than 45% was rated "poor (×)". As a result, the electrical characteristics of this example were rated "good (○)".

[実施例2~4、6~11、13~23及び比較例1~10]
液晶配向剤の組成を表3のとおりに変更した以外は実施例1と同様の操作を行い、液晶配向剤(AL-2)~(AL-4)、(AL-6)~(AL-11)、(AL-13)~(AL-23)、(AR-1)~(AR-10)をそれぞれ調製した。また、得られた液晶配向剤を用いて、実施例1と同様にして液晶セルを製造し、各種評価を行った。それらの結果を表3に示す。表3中、質量比欄の数値は、液晶配向剤の調製に使用した重合体成分の全量100質量部に対する、各化合物(重合体、添加剤)の固形分での配合割合(質量部)を表す。信頼性(ΔVHR)の欄に括弧内に記載した数値は、上記数式(I)により算出したΔVHRの値を示す。
[Examples 2 to 4, 6 to 11, 13 to 23 and Comparative Examples 1 to 10]
The same operation as in Example 1 was performed except that the composition of the liquid crystal alignment agent was changed as shown in Table 3. Liquid crystal alignment agents (AL-2) to (AL-4), (AL-6) to (AL-11), (AL-13) to (AL-23), and (AR-1) to (AR-10) were prepared. Furthermore, using the obtained liquid crystal alignment agent, liquid crystal cells were produced in the same manner as in Example 1, and various evaluations were performed. The results are shown in Table 3. In Table 3, the values in the mass ratio column represent the blending ratio (parts by mass) of the solid content of each compound (polymer, additive) relative to 100 parts by mass of the total amount of the polymer components used in the preparation of the liquid crystal alignment agent. The values in parentheses in the reliability (ΔVHR) column represent the value of ΔVHR calculated by the above formula (I).

[実施例5:光VA型液晶表示素子]
1.液晶配向剤の調製
液晶配向剤の組成を表3のとおりに変更した以外は実施例1と同様の操作を行い、液晶配向剤(AL-5)を調製した。
2.評価
実施例1において、液晶セルの作製に用いた基板をITO膜からなる透明電極付きガラス基板とした点、液晶配向剤(AL-5)を用いた点、ポストベーク後の塗膜表面にHg-Xeランプ及びグランテーラープリズムを用いて313nmの輝線を含む偏光紫外線1,000J/mを、基板法線から40°傾いた方向から照射して液晶配向能を付与した点、及び、液晶組成物LC1に代えてネガ型液晶(メルク社製、MLC-6608)を用いた点以外は、実施例1と同様の操作を行うことにより光VA型の液晶セルを作製し、実施例1と同様にして信頼性の評価を行った。また、液晶配向剤(AL-5)を用いて、実施例1と同様にしてアイドリング耐性及び不純物耐性の評価を行った。なお、不純物耐性の評価では、ITO膜からなる透明電極付きの一対のガラス基板に代えて、実施例1と同様の基板(IPS型液晶セル用の電極基板及び絶縁膜を備える基板)を用いた以外は光VA型の液晶セルを作製したときと同様の操作を行うことにより不純物耐性評価用の液晶セルを作製し、実施例1と同様の操作により不純物耐性の評価を行った。評価結果を表3に示す。
[Example 5: Optical VA type liquid crystal display element]
1. Preparation of Liquid Crystal Alignment Agent The same operation as in Example 1 was carried out except that the composition of the liquid crystal alignment agent was changed as shown in Table 3, to prepare a liquid crystal alignment agent (AL-5).
2. Evaluation In Example 1, the substrate used to prepare the liquid crystal cell was a glass substrate with a transparent electrode made of an ITO film, a liquid crystal alignment agent (AL-5) was used, and the post-baked coating surface was irradiated with 1,000 J/ of polarized ultraviolet light containing a 313 nm emission line using an Hg-Xe lamp and a Glan-Taylor prism from a direction tilted 40° from the substrate normal to impart liquid crystal alignment ability, and a negative liquid crystal (MLC-6608, manufactured by Merck) was used instead of liquid crystal composition LC1. An optical VA-type liquid crystal cell was prepared by the same operation as in Example 1, and reliability was evaluated in the same manner as in Example 1. In addition, using the liquid crystal alignment agent (AL-5), idling resistance and impurity resistance were evaluated in the same manner as in Example 1. In the evaluation of impurity resistance, a liquid crystal cell for evaluating impurity resistance was prepared by the same operation as when preparing the optical VA-type liquid crystal cell, except that the same substrates as in Example 1 (substrates having an electrode substrate and an insulating film for an IPS-type liquid crystal cell) were used instead of the pair of glass substrates with transparent electrodes made of ITO films, and the impurity resistance was evaluated by the same operation as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 3.

[実施例12]
液晶配向剤の組成を表3のとおりに変更した以外は実施例1と同様の操作を行い、液晶配向剤(AL-12)を調製した。また、得られた液晶配向剤(AL-12)を用いて、実施例5と同様にして各種評価を行った。それらの結果を表3に示す。
[Example 12]
A liquid crystal aligning agent (AL-12) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition of the liquid crystal aligning agent was changed as shown in Table 3. In addition, various evaluations were carried out in the same manner as in Example 5 using the obtained liquid crystal aligning agent (AL-12). The results are shown in Table 3.

[実施例24:光水平型液晶表示素子]
1.液晶配向剤の調製
液晶配向剤の組成を表3のとおりに変更した以外は実施例1と同様の操作を行い、液晶配向剤(AL-24)を調製した。
[Example 24: Optical horizontal type liquid crystal display element]
1. Preparation of Liquid Crystal Alignment Agent The same operation as in Example 1 was carried out except that the composition of the liquid crystal alignment agent was changed as shown in Table 3, to prepare a liquid crystal alignment agent (AL-24).

2.光水平型液晶セルの作製
ITO膜からなる透明電極付きガラス基板一対(2枚)の各透明電極面上に、上記で調製した液晶配向剤(AL-24)を、スピンナーにより塗布し、80℃のホットプレートで1分間加熱(プレベーク)した。その後、庫内を窒素置換した230℃のオーブンで30分間加熱(ポストベーク)を行い、平均膜厚0.1μmの塗膜を形成した。得られた塗膜に対し、Hg-Xeランプを用いて、直線偏光された254nmの輝線を含む紫外線1,000J/mを基板法線方向から照射して光配向処理を施した。なお、この照射量は、波長254nm基準で計測される光量計を用いて計測した値である。次いで、光配向処理が施された塗膜を、230℃のクリーンオーブンで30分加熱して熱処理を行い、液晶配向膜を形成した。
次に、液晶配向膜を形成した一対の基板のうちの一方の基板につき、液晶配向膜を有する面の外縁に、直径3.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した。その後、光照射時の偏光軸の基板面への投影方向が逆平行となるように基板を重ね合わせて圧着し、150℃で1時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、液晶注入口より一対の基板間にネガ型液晶(メルク社製、MLC-6608)を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを120℃で加熱してから室温まで徐冷し、液晶セルを得た。
2. Preparation of an Optically Directed Liquid Crystal Cell The liquid crystal alignment agent (AL-24) prepared above was applied to each transparent electrode surface of a pair of glass substrates (two substrates) with transparent electrodes made of ITO films using a spinner and heated (pre-baked) on a hot plate at 80°C for 1 minute. This was then heated (post-baked) for 30 minutes in a nitrogen-purged 230°C oven to form a coating film with an average thickness of 0.1 μm. The resulting coating film was subjected to a photo-alignment treatment by irradiating it with 1,000 J/ of linearly polarized ultraviolet light containing a 254 nm emission line from an Hg-Xe lamp in the direction normal to the substrate. The irradiation dose was measured using an actinometer measuring at a wavelength of 254 nm. The photo-aligned coating film was then heat-treated in a clean oven at 230°C for 30 minutes to form a liquid crystal alignment film.
Next, for one of the pair of substrates on which the liquid crystal alignment film was formed, an epoxy resin adhesive containing 3.5 μm diameter aluminum oxide spheres was applied by screen printing to the outer edge of the surface bearing the liquid crystal alignment film. The substrates were then superimposed and pressed together so that the projection directions of the polarization axes on the substrate surfaces during light irradiation were antiparallel, and the adhesive was thermally cured at 150°C for 1 hour. Next, negative liquid crystal (MLC-6608, manufactured by Merck) was injected between the pair of substrates through the liquid crystal injection port, which was then sealed with an epoxy adhesive. Furthermore, to eliminate flow alignment during liquid crystal injection, the substrate was heated at 120°C and then slowly cooled to room temperature to obtain a liquid crystal cell.

3.評価
上記2.で作製した光水平型液晶セルを用い、実施例1と同様にして信頼性の評価を行った。また、液晶配向剤(AL-24)を用いて、実施例1と同様にしてアイドリング耐性及び不純物耐性の評価を行った。なお、不純物耐性の評価では、第1基板及び第2基板からなる一対の基板に代えて、実施例1と同様の基板(IPS型液晶セル用の電極基板及び絶縁膜を備える基板)を用いた以外は光水平型液晶セルを作製したときと同様の操作を行うことにより不純物耐性評価用の液晶セルを作製し、実施例1と同様の操作により不純物耐性の評価を行った。評価結果を表3に示す。
3. Evaluation Reliability was evaluated in the same manner as in Example 1 using the optically-oriented horizontal liquid crystal cell prepared in 2 above. Furthermore, idling resistance and impurity resistance were evaluated in the same manner as in Example 1 using a liquid crystal aligning agent (AL-24). For the evaluation of impurity resistance, a liquid crystal cell for evaluating impurity resistance was prepared by the same procedure as in preparing the optically-oriented horizontal liquid crystal cell, except that the same substrates as in Example 1 (substrates comprising an electrode substrate and an insulating film for an IPS-type liquid crystal cell) were used instead of the pair of substrates consisting of the first and second substrates. The impurity resistance was evaluated by the same procedure as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 3.

[実施例25:ラビング水平型液晶表示素子]
1.液晶配向剤の調製
液晶配向剤の組成を表3のとおりに変更した以外は実施例1と同様の操作を行い、液晶配向剤(AL-25)を調製した。
[Example 25: Rubbed horizontal type liquid crystal display element]
1. Preparation of Liquid Crystal Alignment Agent The same operation as in Example 1 was carried out except that the composition of the liquid crystal alignment agent was changed as shown in Table 3, to prepare a liquid crystal alignment agent (AL-25).

2.ラビング水平型液晶セルの作製
ITO膜からなる透明電極付きガラス基板一対(2枚)の各透明電極面上に、上記で調製した液晶配向剤(AL-25)を、スピンナーを用いて塗布し、80℃のホットプレートで1分間加熱(プレベーク)を行った。その後、庫内を窒素置換したオーブン中、230℃で1時間加熱(ポストベーク)して膜厚0.1μmの塗膜を形成した。この塗膜に対し、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数400rpm、ステージ移動速度3cm/秒、毛足押し込み長さ0.1mmでラビング処理を行った。その後、超純水中で1分間超音波洗浄を行い、次いで100℃クリーンオーブン中で10分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する基板を得た。
次いで、上記基板のうちの1枚の液晶配向膜を有する面の外周に直径3.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した後、それぞれの液晶配向膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、150℃で1時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、液晶注入口より基板間の間隙にネガ型液晶(メルク社製、MLC-6608)を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを130℃で加熱してから室温まで徐冷し、液晶セルを得た。
2. Preparation of Rubbed Horizontal Liquid Crystal Cell The liquid crystal alignment agent (AL-25) prepared above was applied to each transparent electrode surface of a pair (two) of glass substrates with transparent electrodes made of ITO films using a spinner and heated (pre-baked) on a hot plate at 80 ° C for 1 minute. The substrate was then heated (post-baked) at 230 ° C for 1 hour in an oven whose interior had been replaced with nitrogen to form a coating film with a thickness of 0.1 μm. This coating film was subjected to a rubbing treatment using a rubbing machine equipped with a roll wrapped around a rayon cloth at a roll rotation speed of 400 rpm, a stage movement speed of 3 cm/sec, and a pile indentation length of 0.1 mm. The substrate was then ultrasonically cleaned in ultrapure water for 1 minute and then dried in a clean oven at 100 ° C for 10 minutes to obtain a substrate with a liquid crystal alignment film.
Next, an epoxy resin adhesive containing 3.5 μm diameter aluminum oxide spheres was applied by screen printing to the outer periphery of the surface of one of the substrates bearing the liquid crystal alignment film, and the substrates were then superimposed with the liquid crystal alignment film surfaces facing each other and pressed together, followed by thermal curing of the adhesive at 150°C for 1 hour. Next, a negative liquid crystal (MLC-6608, manufactured by Merck) was filled into the gap between the substrates through the liquid crystal injection port, which was then sealed with an epoxy adhesive. Furthermore, to eliminate flow alignment during liquid crystal injection, the substrate was heated at 130°C and then slowly cooled to room temperature, yielding a liquid crystal cell.

3.評価
上記2.で作製したラビング水平型液晶セルを用い、実施例1と同様にして信頼性の評価を行った。また、液晶配向剤(AL-25)を用いて、実施例1と同様にしてアイドリング耐性及び不純物耐性の評価を行った。なお、不純物耐性の評価では、ITO膜からなる透明電極付きの一対のガラス基板に代えて、実施例1と同様の基板(IPS型液晶セル用の電極基板及び絶縁膜を備える基板)を用いた以外はラビング水平型液晶セルを作製したときと同様の操作を行うことにより不純物耐性評価用の液晶セルを作製し、実施例1と同様の操作により不純物耐性の評価を行った。評価結果を表3に示す。
3. Evaluation Using the rubbed horizontal liquid crystal cell prepared in 2. above, reliability was evaluated in the same manner as in Example 1. Furthermore, using a liquid crystal aligning agent (AL-25), idling resistance and impurity resistance were evaluated in the same manner as in Example 1. In addition, in the evaluation of impurity resistance, a liquid crystal cell for evaluating impurity resistance was prepared by carrying out the same operations as in the preparation of the rubbed horizontal liquid crystal cell, except that the same substrates as in Example 1 (substrates comprising an electrode substrate and an insulating film for an IPS-type liquid crystal cell) were used instead of the pair of glass substrates with transparent electrodes made of ITO films, and impurity resistance was evaluated by the same operations as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 3.

表3に示すように、実施例1~25では、信頼性、アイドリング耐性及び不純物耐性の各評価がいずれも、「非常に良好(◎)」、「良好(○)」又は「可(△)」の評価であった。また、評価結果に「可(△)」を含む例(実施例8~17、21~23)についても、評価結果が「可(△)」の項目は、3つの項目(信頼性、アイドリング耐性、不純物耐性)のうち1つのみであり、各種特性のバランスが良好であった。
これに対し、比較例1~10では、信頼性、アイドリング耐性及び不純物耐性の各評価のうち1つ以上が「不良(×)」であるか、又は複数の評価で「可(△)」であり、実施例1~25に比べて劣っていた。
As shown in Table 3, in Examples 1 to 25, the reliability, idling resistance, and impurity resistance were all evaluated as "very good (◎),""good(○)," or "fair (△)." Furthermore, even in the examples (Examples 8 to 17 and 21 to 23) where the evaluation result included "fair (△)," only one of the three items (reliability, idling resistance, and impurity resistance) was evaluated as "fair (△)," indicating a good balance of various characteristics.
In contrast, in Comparative Examples 1 to 10, one or more of the evaluations of reliability, idling resistance, and impurity resistance were "poor (×)", or multiple evaluations were "fair (△)", and the samples were inferior to Examples 1 to 25.

Claims (10)

ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも1種であって、下記式(1)で表されるジアミンに由来する構造単位を含む重合体(P)を含有する、液晶配向剤。
(式(1)中、R及びRは、互いに独立して、水素原子又は炭素数1~6の1価の有機基である。ただし、R及びRの少なくとも一方は、炭素数1~6の1価の有機基である。R及びRは、互いに独立して、水素原子又は含窒素複素環構造を有する1価の基である。ただし、R及びRの少なくとも一方は、含窒素複素環構造を有する1価の基である。)
A liquid crystal aligning agent comprising a polymer (P) which is at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, and polyimide and which contains a structural unit derived from a diamine represented by the following formula (1):
(In formula (1), R1 and R2 are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, provided that at least one of R1 and R2 is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms. R3 and R4 are each independently a hydrogen atom or a monovalent group having a nitrogen-containing heterocyclic structure, provided that at least one of R3 and R4 is a monovalent group having a nitrogen-containing heterocyclic structure.)
上記式(1)中のRが、炭素数1~6の1価の有機基である、請求項1に記載の液晶配向剤。 2. The liquid crystal aligning agent according to claim 1, wherein R 1 in the formula (1) is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms. 上記式(1)中のR及びRの少なくとも一方が、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基、フェニル基、-COR又は-NR(ただし、R、R及びRは、互いに独立して炭素数1~3のアルキル基である。)である、請求項1に記載の液晶配向剤。 The liquid crystal aligning agent according to claim 1, wherein at least one of R 1 and R 2 in the above formula (1) is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group, -COR 5 or -NR 6 R 7 (wherein R 5 , R 6 and R 7 are each independently an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms). 上記式(1)中のRが、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基、フェニル基、-COR又は-NR(ただし、R、R及びRは、互いに独立して炭素数1~3のアルキル基である。)であり、
上記式(1)中のRが水素原子である、請求項3に記載の液晶配向剤。
R 1 in the above formula (1) is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group, -COR 5 or -NR 6 R 7 (wherein R 5 , R 6 and R 7 are each independently an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms),
The liquid crystal aligning agent according to claim 3, wherein R2 in the formula (1) is a hydrogen atom.
前記含窒素複素環構造を有する1価の基は、含窒素芳香族複素環を有する、請求項1に記載の液晶配向剤。 The liquid crystal aligning agent according to claim 1, wherein the monovalent group having a nitrogen-containing heterocyclic structure has a nitrogen-containing aromatic heterocyclic ring. 架橋剤を更に含有する、請求項1に記載の液晶配向剤。 The liquid crystal aligning agent according to claim 1, further containing a crosslinking agent. 請求項1~6のいずれか一項に記載の液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜。 A liquid crystal alignment film formed using the liquid crystal alignment agent according to any one of claims 1 to 6. 請求項7に記載の液晶配向膜を備える液晶素子。 A liquid crystal element comprising the liquid crystal alignment film according to claim 7. ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル又はポリイミドであって、下記式(1)で表されるジアミンに由来する構造単位を含む、重合体。
(式(1)中、R及びRは、互いに独立して、水素原子又は炭素数1~6の1価の有機基である。ただし、R及びRの少なくとも一方は、炭素数1~6の1価の有機基である。R及びRは、互いに独立して、水素原子又は含窒素複素環構造を有する1価の基である。ただし、R及びRの少なくとも一方は、含窒素複素環構造を有する1価の基である。)
A polymer which is a polyamic acid, a polyamic acid ester or a polyimide and which contains a structural unit derived from a diamine represented by the following formula (1):
(In formula (1), R1 and R2 are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, provided that at least one of R1 and R2 is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms. R3 and R4 are each independently a hydrogen atom or a monovalent group having a nitrogen-containing heterocyclic structure, provided that at least one of R3 and R4 is a monovalent group having a nitrogen-containing heterocyclic structure.)
下記式(1)で表されるジアミン。
(式(1)中、R及びRは、互いに独立して、水素原子又は炭素数1~6の1価の有機基である。ただし、R及びRの少なくとも一方は、炭素数1~6の1価の有機基である。R及びRは、互いに独立して、水素原子又は含窒素複素環構造を有する1価の基である。ただし、R及びRの少なくとも一方は、含窒素複素環構造を有する1価の基である。)
A diamine represented by the following formula (1):
(In formula (1), R1 and R2 are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, provided that at least one of R1 and R2 is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms. R3 and R4 are each independently a hydrogen atom or a monovalent group having a nitrogen-containing heterocyclic structure, provided that at least one of R3 and R4 is a monovalent group having a nitrogen-containing heterocyclic structure.)
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