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JP2025166034A - 蓋部材、パッケージ及びガラス基板 - Google Patents

蓋部材、パッケージ及びガラス基板

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Publication number
JP2025166034A
JP2025166034A JP2025129309A JP2025129309A JP2025166034A JP 2025166034 A JP2025166034 A JP 2025166034A JP 2025129309 A JP2025129309 A JP 2025129309A JP 2025129309 A JP2025129309 A JP 2025129309A JP 2025166034 A JP2025166034 A JP 2025166034A
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JP2025129309A
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亮太 間嶌
隆史 西宮
景 寺田
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Nippon Electric Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Electric Glass Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Glass Co Ltd filed Critical Nippon Electric Glass Co Ltd
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10HINORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
    • H10H20/00Individual inorganic light-emitting semiconductor devices having potential barriers, e.g. light-emitting diodes [LED]
    • H10H20/80Constructional details
    • H10H20/85Packages
    • H10H20/852Encapsulations
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    • HELECTRICITY
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  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)

Abstract

【課題】発光素子を含むパッケージに用いられるガラス製の蓋部材の透過率の向上と強度の確保とを両立させる。
【解決手段】蓋部材4は、板状の枠部7と、枠部7から突出する突出部8とを備える。突出部8は、基部10と、頂部12とを備える。頂部12の厚さは、基部10の厚さよりも薄い。
【選択図】図2

Description

本発明は、パッケージ用の蓋部材、及び蓋部材を有するパッケージ並びに蓋部材を形成するためのガラス基板に関する。
例えば特許文献1には、発光素子(LED素子)が実装される基体(基板)と、発光素子を覆うように基体に固定されるドーム状の蓋部材(透光性カバー)と、基体と蓋部材とを接合する接着材とを備えるパッケージが開示されている。このパッケージでは、蓋部材をドーム状に構成することで、蓋部材と基体との間に発光素子を収容する空間を確保している。
特開2011-66169号公報
従来のパッケージにおいて、蓋部材の透過率を高めるためには、その厚さを可能な限り薄くすることが好ましい。しかしながら、蓋部材の厚さが薄すぎると、その強度が低下し、破損するおそれがある。
そこで本発明は、蓋部材の透過率の向上と強度の確保とを両立させることを技術的課題とする。
本発明は上記の課題を解決するためのものであり、発光素子を含むパッケージに用いられるガラス製の蓋部材であって、板状の枠部と、前記枠部から突出する突出部とを備え、前記突出部は、基部と、頂部とを備え、前記頂部の厚さは、前記基部の厚さよりも薄いことを特徴とする。
かかる構成によれば、蓋部材の突出部における頂部の厚さを基部の厚さよりも薄くすることで、この突出部の透過率を高めることが可能となる。加えて、突出部の基部の厚さは、頂部の厚さよりも厚くなることから、この基部における強度を頂部よりも高めることができる。したがって、蓋部材の透過率の向上と強度の確保とを両立させることが可能となる。
上記の蓋部材において、前記頂部の厚さ(Tmin)と、前記基部の厚さ(Tmax)との比(Tmin/Tmax)は、0.08以上0.9以下であることが好ましい。前記比(Tmin/Tmax)の値が、0.9より大きくなると、前記頂部における透過率が小さくなり、0.08より小さくなると、前記頂部におけるガラスの強度を担保できなくなる。従って、蓋部材の透過率の向上と頂部の強度の確保とを両立させることができなくなる。
本発明に係る蓋部材において、前記突出部は、内面及び外面を有し、前記内面の表面粗さRaは、1nm以下であることが好ましい。前記内面の表面粗さRaの上限を1nm以下に規定することで、パッケージ内部の発光素子が発光する光が、ガラス内表面で乱反射することを抑制することが可能になり、透過率の低減を抑制することができる。また、前記外面の表面粗さRaは、1nm以下であることが好ましい。前記外面の表面粗さRaの上限を前記のように規定することにより、パッケージ内部の発光素子が発光する光が、ガラス外表面で乱反射することを抑制することが可能になり、透過率の低減を抑制することができる。なお、前記内面と前記外面の表面粗さRaは、0.01nm以上あれば、パッケージ内部の発光素子が発光する光が、ガラス内表面や外表面での乱反射が透過率に影響する虞はなくなるため、これ未満の表面粗さは、ガラス表面の加工の面からコストがかかるため、必ずしも必要ではない。
本発明に係る蓋部材は、前記基部と前記枠部とを連結する湾曲形状の連結部を備えてもよい。これにより、蓋部材における突出部の基部と枠部との間の部分の強度を可及的に高めることができる。
前記連結部は、前記基部と前記枠部とを繋ぐ第一曲面及び第二曲面を有し、前記第一曲面の曲率半径は、0.5mm以上5mm以下であり、前記第二曲面の曲率半径は、0.5mm以上5mm以下であることが好ましい。
前記枠部は、第一主面及び第二主面を有し、前記第一主面に、金属層が形成されることが好ましい。蓋部材に接合材を形成する際に、この金属層を使用することで、接合材が金属層に良好になじみ、結果として、蓋部材と基体を接合することができる。
前記枠部の前記第一主面と、前記金属層との間に、緩衝膜が形成されてもよい。この緩衝膜を使用することで、蓋部材と基体を接合した状態において、蓋部材と接合材の熱膨張係数の差により、蓋部材内部に発生する残留応力を緩和することができ、前記残留応力に起因する蓋部材の破損を抑制できる。
前記金属層において前記緩衝膜と接触する部位とは反対側の部位に、接合部が形成されてもよい。接合部を介在させることで、蓋部材と基体を気密に接合することができる。
本発明に係るパッケージは、発光素子を支持する基体と、上記の蓋部材とを備えることで、蓋部材の透過率の向上と強度の確保とを両立させることが可能となる。
本発明は上記の課題を解決するためのものであり、発光素子を含むパッケージに用いられ蓋部材を製造するためのガラス基板であって、板状の枠部と、前記枠部から突出する複数の突出部とを備え、前記突出部は、基部と、頂部とを備え、前記頂部の厚さは、前記基部の厚さよりも薄いことを特徴とする。
かかる構成によれば、突出部における頂部の厚さを基部の厚さよりも薄くすることで、この突出部の透過率を高めることが可能となる。加えて、突出部の基部の厚さは、頂部の厚さよりも厚くなることから、この基部における強度を頂部よりも高めることができる。したがって、このガラス基板から製造される蓋部材の透過率の向上と強度の確保とを両立させることが可能となる。
本発明によれば、蓋部材の透過率の向上と強度の確保とを両立させることができる。
パッケージの斜視図である。 パッケージの断面図である。 基体の断面図である。 基体の平面図である。 蓋部材の断面図である 蓋部材の底面図である。 パッケージの製造方法の準備工程を示す断面図である。 パッケージの製造方法の準備工程を示す断面図である。 パッケージの製造方法の接合工程を示す断面図である。 パッケージの製造方法の接合工程を示す断面図である。 パッケージ用の蓋部材を製造するためのガラス基板を示す断面図である。 蓋部材の他の例を示す断面図である。 蓋部材の他の例を示す平面図である。 蓋部材の他の例を示す平面図である。 パッケージの製造方法の準備工程における他の例を示す断面図である。 パッケージの他の例を示す断面図である。 パッケージの他の例を示す断面図である。 パッケージの破壊強度試験機を示す側面図である。
以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照しながら説明する。図1乃至図17は、本発明に係る蓋部材、パッケージ及びガラス基板の一実施形態を示す。
図1及び図2に示すように、パッケージ1は、基体2と、基体2に支持される発光素子3と、基体2及び発光素子3を覆う蓋部材4と、基体2と蓋部材4とを気密に接合する封止部5と、を備える。
図3及び図4は、蓋部材4が接合される前の基体2を示す。基体2は、発光素子3を支持する第一主面2aと、第一主面2aの反対側に位置する第二主面2bと、第一主面2aに形成される金属層6とを有する。
基体2の材質としては、例えば、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素等のセラミックス、これらセラミックスとガラス粉末が混合焼結されて成るガラスセラミックス、Fe-Ni-Co合金、Cu-W合金、Kovar(登録商標)等の合金等が挙げられる。
図4に示すように、金属層6は、発光素子3を囲む枠形状を有する。金属層6は、四角形状とされているが、この形状に限定されるものではない。金属層6は、例えば発光素子3を囲むように、円形状に構成されてもよい。
金属層6は、第一主面2a側から順に下地層、中間層、及び表層の三層を含む。下地層に用いられる金属としては、例えば、Cr、Ta、W、Ti、Mo、Ni、Pt等が挙げられる。中間層に用いられる金属としては、例えば、Ni、Pt、Pd等が挙げられる。表層に用いられる金属としては、例えば、Au、Sn、Ag、Ni、Pt等が挙げられる。金属層6に用いられる金属は、単体であってもよいし、合金であってもよい。
金属層6を基体2の第一主面2aに形成する方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンアシスト又はイオンプレーティングを用いた真空蒸着法、及びCVD法等の成膜法が挙げられる。
発光素子3は、基体2の第一主面2aに固定されている。本実施形態において、発光素子3として紫外線照射用LEDを用いたパッケージ1を例示するが、本発明に係る発光素子3は本実施形態に限定されるものではなく、赤外線LEDや可視光LEDを採用することができる。
図5及び図6は、基体2に接合される前の蓋部材4を示す。蓋部材4は、板ガラスの一部を成形することによって製造される。蓋部材4に使用されるガラスは、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラス、石英ガラス、結晶化ガラスが好ましい。無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラスであれば、高い透過率と、成型時における高い加工性の両立が可能になる。また、石英ガラスであれば、成型時の加工性を維持しつつ、紫外域において、顕著に高い透過率を有することが可能になる。また、結晶化ガラスであれば、高い透過率と高い破壊強度の両立が可能になる。
ガラスが、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラス、又は無アルカリガラスの場合、ガラス組成として、質量%で、SiO2:50~75%、Al23:1~25%、B23:0~30%、Li2O+Na2O+K2O:0~20%、MgO+CaO+SrO+BaO:0~20%を含有することが好ましい。ガラスの組成が上記の組成範囲内であれば、これらのガラス系に該当する。
結晶化ガラスの場合、ガラス組成として、質量%で、SiO2:60~80%、Al23:3~30%、Li2O+Na2O+K2O:1~20%、MgO+CaO+SrO+BaO:5~20%を含有し、β石英固溶体又はβスポジュメンがガラス内部から結晶として析出している低熱膨張結晶化ガラスであることが好ましい。ここで、低熱膨張とは、30~300℃の温度範囲において、熱膨張係数の値が、-10×10-7~20×10-7/℃であることを指す。
図2及び図5に示すように、蓋部材4は、板状の枠部7と、枠部7から突出するドーム状の突出部8と、枠部7と突出部8とを連結する連結部9と、を備える。
枠部7は、例えば一定の厚さを有するが、この態様に限定されない。枠部7の厚さは、例えば0.2mm以上2mm以下である。枠部7は、第一主面7aと、第一主面7aの反対側に位置する第二主面7bとを有する。第一主面7aの表面粗さ(算術平均粗さ)Raは、好ましくは1nm以下、より好ましくは0.5nm以下、更に好ましくは0.3nm以下である。第二主面7bの表面粗さRaは、好ましくは1nm以下、より好ましくは0.5nm以下、更に好ましくは0.3nm以下である。
突出部8は、基体2の第一主面2aとともに発光素子3の収容空間を形成するためのものである。突出部8は、枠部7の中央位置に形成されているが、この態様に限定されない。突出部8は、凹状の曲面として構成される内面8aと、凸状に曲面として構成される外面8bとを有する。また、突出部8は、基部10と、中途部11と、頂部12と、を備える。基部10は、連結部9と一体に構成されている。中途部11は、基部10と頂部12との間に位置する。なお、基部10とは、頂部12に対して法線(以下「第一線」という)L1を描き、この第一線L1と、枠部7の第二主面7bに沿うように描かれた直線(以下「第二線」という)L2との交点Pから、第二線L2に対して5°の角度を為す直線(以下「第三線」という)L3を描いたとき、この第三線L3が突出部8と交わる部分である。
突出部8(基部10)の外径Dは、例えば2mm以上150mm以下である。突出部8の高さH(枠部7の第二主面7bから頂部12までの距離)は、例えば0.5mm以上80mm以下である。図5に示すように、突出部8の厚さは、基部10から頂部12に向かうにつれて徐々に薄くなっている。このため、頂部12の厚さTminは、基部10の厚さTmaxよりも薄い。
基部10の厚さTmaxは、例えば0.19mm以上1.9mm以下である。頂部12の厚さTminは、例えば0.15mm以上1.0mm以下である。基部10の厚さTmaxと頂部12の厚さTminとの比Tmin/Tmaxは、好ましくは0.08以上0.9以下、より好ましくは0.1以上0.8以下、更に好ましくは0.2以上0.5以下である。
内面8a及び外面8bは、基部10から頂部12にわたって連続的な曲面として構成される。内面8aの表面粗さRaは、1nm以下であることが好ましく、より好ましくは0.5nm以下、更に好ましくは0.3nm以下である。外面8bの表面粗さRaは、1nm以下であることが好ましく、より好ましくは0.5nm以下、更に好ましくは0.3nm以下である。
図2及び図5に示すように、連結部9は、基部10と枠部7とを連結するために、湾曲形状を有する。連結部9は、枠部7の第一主面7aと突出部8の内面8aとを繋ぐ第一曲面9aと、突出部8の外面8bと枠部7の第二主面7bとを繋ぐ第二曲面9bとを有する。
第一曲面9aの曲率半径は、第二曲面9bの曲率半径よりも大きい。第一曲面9aの曲率半径は、0.5mm以上5mm以下であることが好ましく、より好ましくは1mm以上4mm以下である。第二曲面9bの曲率半径は、0.5mm以上5mm以下であることが好ましく、より好ましくは1mm以上4mm以下である。第一曲面9aの表面粗さRaは、好ましくは1nm以下、より好ましくは0.5nm以下、更に好ましくは0.3nm以下である。第二曲面9bの表面粗さRaは、好ましくは1nm以下、より好ましくは0.5nm以下、更に好ましくは0.3nm以下である。
図2、図5及び図6に示すように、枠部7の第一主面7aには、緩衝膜13と、金属層14と、接合部15とが形成されている。蓋部材4は、平板状の枠部7を有していることにより、第一主面7a上に、緩衝膜13、金属層14、接合部15を形成するための領域(面積)を大きく確保することができる。また、蓋部材4は、平板状の枠部7を有していることにより、パッケージ1を製造する工程において、把持具等によって、その光学特性に影響を与える突出部8や基部10に触れることなく、枠部7を把持することができる。これにより、パッケージ1の製造工程におけるハンドリング性が向上し、パッケージ1の製造効率を高めることができる。
緩衝膜13は、基体2と蓋部材4とを接合部15によって接合する際に、蓋部材4の枠部7に発生する応力を緩和するためのものである。緩衝膜13は、酸化膜により構成される。
緩衝膜13を構成する酸化物のヤング率は、好ましくは250GPa以下、より好ましくは200GPa以下、更に好ましくは150GPa以下、特に好ましくは100GPa以下である。このように上限を規定すれば、緩衝膜13の緩衝性を高めることができ、接合部15と蓋部材4(枠部7)の熱膨張係数の違いに起因する応力を緩和する効果を得られる。なお、枠部7の熱膨張係数は、接合部15の熱膨張係数よりも小さい。また、枠部7の熱膨張係数は、基体2の熱膨張係数よりも小さい。
図5及び図6に示すように、緩衝膜13は、蓋部材4における枠部7の第一主面7aに形成されている。図6に示すように、緩衝膜13は、枠形状を有する。緩衝膜13は、四角形状に構成されるが、この形状に限定されず、円形状その他の形状であってもよい。緩衝膜13は、例えば第一の膜としての酸化シリコン膜(SiO2)と、第二の膜としての酸化ハフニウム膜(HfO2)とを交互に含む多層膜構造を有する。緩衝膜13の材質は、本実施形態に限定されない。
緩衝膜13の厚さは、好ましくは0.1μm以上1μm以下であり、より好ましくは0.2μm以上0.8μm以下である。このように下限を規定すれば、緩衝膜13の緩衝性を更に高めることができ、接合部15と蓋部材4(枠部7)の熱膨張係数の違いに起因する応力を緩和する効果を得られる。また、このように上限を規定すれば、緩衝膜13の製造コストを下げることができる。
発光素子3が紫外線照射用LEDである場合、緩衝膜13は、紫外線の反射を防止する反射防止膜としても機能する。すなわち、緩衝膜13は、低屈折率層(本実施形態においては酸化シリコン膜)と、高屈折率層(本実施形態においては酸化ハフニウム膜)とを交互に積層してなる多層構造を有する。緩衝膜13の紫外線(波長280nm)の透過率は、90%以上であることが好ましい。
図5及び図6に示すように、金属層14は、緩衝膜13に重なるように形成されている。図6に示すように、金属層14は、基体2の金属層6の形状に対応するように、四角形の枠形状を有する。金属層14の形状は本実施形態に限定されない。金属層14は、円形状その他の各種枠形状を有してもよい。金属層14は、緩衝膜13側から順に、下地層、中間層、及び表層の三層を含む。なお、金属層14の幅を緩衝膜13の幅より狭くすることで、接合部15と蓋部材4の熱膨張係数の差による応力の影響を低減できる。
下地層に用いられる金属としては、例えば、Cr、Ta、W、Ti、Mo、Ni、Pt等が挙げられる。下地層にCrが用いられる場合、下地層のヤング率は、279GPaである。中間層に用いられる金属としては、例えば、Ni、Pt、Pd等が挙げられる。表層に用いられる金属としては、例えば、Au、Sn、Ag、Ni、Pt等が挙げられる。金属層14に用いられる金属は、単体であってもよいし、合金であってもよい。
図5及び図6に示すように、接合部15は、金属層14に重なるように層状に構成される。図5に示すように、接合部15は、金属層14において緩衝膜13と接触している部位とは反対側の部位に接触している。図6に示すように、接合部15は、緩衝膜13及び金属層14の形状に対応するように、四角形の枠形状を有する。接合部15の形状は本実施形態に限定されず、円形その他の各種枠形状であってもよい。
接合部15は、金属系接合材により構成される。金属系接合材としては、半田材やろう材として市販されるものを用いることができる。金属系接合材としては、例えば、Au-Sn合金、Pb-Sn合金、Au-Ge合金、Sn-Ni合金等が挙げられる。なお、接合部15の幅を緩衝膜13の幅より狭くすることで、接合部15と蓋部材4の熱膨張係数の差による応力の影響を低減できる。本実施形態では、金属系接合材としてAu-Sn合金が使用される場合について説明する。
例えば、スクリーン印刷法を用いて枠部7の第一主面7aに接合部15を形成する場合には、第一主面7aが平坦面状に構成されることから、この第一主面7aに形成される接合部15の幅や位置の自由度を高めることができる。
封止部5は、基体2の金属層6と蓋部材4の金属層14とを接合部15で一体に接合することにより形成される。
次に、パッケージ1の製造方法について説明する。本方法は、基体2及び蓋部材4を用意する準備工程と、基体2と蓋部材4とを接合する接合工程と、を備える。
準備工程では、基体2の第一主面2aに金属層6を形成した後に、この第一主面2aに発光素子3を搭載する。
また、準備工程では、板ガラスに突出部8を成形することによって蓋部材4を製造した後に、枠部7の第一主面7a側に緩衝膜13、金属層14及び接合部15を形成する。
以下、蓋部材4に突出部8を形成する方法(蓋部材4の製造方法)について図7及び図8を参照しながら説明する。
図7は、蓋部材4の製造装置を示す。製造装置16は、板ガラスGSを支持する支持台17と、支持台17に支持した板ガラスGSに重ねて配置されるマスク部材18と、蓋部材4の突出部8を成形するために板ガラスGSの一部を熱変形させる加熱源19と、を備える。さらに、製造装置16は、支持台17とマスク部材18とを互いに接近させる方向に押圧する押圧部材20と、板ガラスGSの一部に外力を加えるための外力発生装置21とを備える。
支持台17は、板ガラスGSを支持する支持部17aと、支持部17aに囲まれる開口を有するとともに板ガラスGSの一部の熱変形を許容する空間部17bと、を有する。支持台17の支持部17aは、板ガラスGSの主面を支持する支持面を有する。本実施形態の開口は、円形状の開口縁E1を有するが、例えば、三角形状、四角形状等の多角形状、楕円形状等の形状の開口縁を有していてもよい。
なお、支持台17の空間部17bは、貫通孔により形成されてもよいし、内底部を有する凹部により形成されてもよい。支持台17の空間部17bは、蓋部材4の突出部8の全体を非接触の状態で成形可能に構成されている。支持台17を構成する材料としては、例えば、金属、セラミックス等が挙げられる。
上記の構成に限らず、蓋部材4の形状を精度良く成形するために、空間部17bに、板ガラスGSを受ける下受け治具を設けてもよい。下受け治具は、金属やセラミックスから構成される。前述のように、蓋部材4の突出部8の全体を非接触の状態で成形することが好ましいが、板ガラスGSと接触する下受け治具の面の品位を高める(表面粗さ、面うねりを小さくする)ことで、下受け治具を使用した場合であっても、蓋部材4を精度良く成形することができる。
図7に示すように、マスク部材18は、貫通孔18aを有する。本実施形態のマスク部材18の貫通孔18aは、円形状の内周縁E2を有しているが、例えば、三角形状、四角形状等の多角形状、楕円形状等の形状の内周縁を有していてもよい。
支持台17及びマスク部材18は、支持台17の開口縁E1よりも内側に、マスク部材18における貫通孔18aの内周縁E2の少なくとも一部が配置されるように構成されている。具体的には、支持台17及びマスク部材18は、支持台17の開口縁E1よりも内側に、マスク部材18の貫通孔18aにおける内周縁E2の全体が配置されるように構成されている。
支持台17の開口部の開口面積を100%とした場合、マスク部材18の貫通孔18aの断面積は、95%以下であることが好ましく、より好ましくは80%である。マスク部材18における貫通孔18aの内周縁E2の少なくとも一部は、支持台17の開口縁E1よりも1mm以上内側となるように配置されることが好ましく、3mm以上内側となるように配置されることがより好ましい。
マスク部材18は、600℃において1[W/(m・K)]以下の熱伝導率を有する材料から構成されることが好ましい。マスク部材18を構成する材料としては、例えば、セラミックスが好適である。マスク部材18の厚さは、1mm以上であることが好ましい。本実施形態のマスク部材18は、板ガラスGSの外周縁の全体を覆う外形を有している。
加熱源19は、マスク部材18側から板ガラスGSを加熱するように配置されている。本実施形態の加熱源19は、板ガラスGSに向けて火炎FLを噴射するバーナーである。バーナーを用いることで、板ガラスGSを比較的速やかに軟化させることができる。なお、加熱源19の加熱方式は、例えば、抵抗加熱であってもよいし、レーザー加熱であってもよい。また、加熱源19は、異なる加熱方式の加熱源を組み合わせて構成してもよい。
押圧部材20は、例えば、マスク部材18を支持台17に向けて押圧する。押圧部材20を押圧する押圧機構としては、例えば、流体シリンダ、直動アクチュエータ等が挙げられる。なお、押圧部材20は、固定されたマスク部材18に対して支持台17を押圧するように構成することもできる。
外力発生装置21としては、例えば、排気装置を用いることができる。排気装置は、支持台17の空間部17b内に存在する気体を排出することで、支持台17の空間部17b内を負圧にする。これにより、板ガラスGSの一部が支持台17の空間部17b内に吸引されることで、板ガラスGSの一部の熱変形を促進することができる。排気装置としては、例えば、ベンチュリー機構を用いたポンプが好適である。
なお、外力発生装置21は、排気装置に限らず、マスク部材18側から板ガラスGSの一部に向けて高圧ガスを噴射する高圧ガス発生装置であってもよい。これにより、板ガラスGSの一部が支持台17の空間部17bに向けて加圧されることで、板ガラスGSの一部の熱変形を促進することができる。また、ポンプと高圧ガス発生装置とを併用して、板ガラスGSの一部の熱変形を促進してもよい。
上記構成の製造装置16による蓋部材4の製造方法は、板ガラスGSの一部を熱変形させる成形工程を備える。
図7及び図8に示すように、成形工程では、まず支持台17に支持した板ガラスGSにマスク部材18を重ねて配置する。この場合において、支持台17及びマスク部材18は、支持台17の開口縁E1よりも内側に、マスク部材18の貫通孔18aにおける内周縁E2の少なくとも一部が配置される。その後、押圧部材20は、支持台17とマスク部材18とを互いに接近させる方向に押圧する。これにより、支持台17とマスク部材18との間で挟まれた板ガラスGSの位置ずれを抑えることができる。
次に、成形工程では、加熱源19によりマスク部材18側から板ガラスGSを加熱する。これにより、板ガラスGSの一部が熱変形することで、突出部8が成形される。
上記の成形工程では、支持台17の開口縁E1を、マスク部材18で覆うことができる。これにより、蓋部材4における連結部9を、マスク部材18の貫通孔18aの内周縁E2に沿った板ガラスGSの熱変形により形成することができる。すなわち、蓋部材4の連結部9は、支持台17に接触することなく成形される。この成形工程により、枠部7、突出部8及び連結部9を有する蓋部材4が形成される。
なお、蓋部材4に突出部8を形成する方法(蓋部材4の製造方法)は、上記以外にも、凹部を有する金属製やセラミックス製の型の上に板ガラスGSを載せ、前記凹部と嵌合する凸部を有する金属製やセラミックス製の型を用いて、板ガラスGSを加熱プレスする方法を採用することができる。この加熱プレスにおける加熱温度は、好ましくは板ガラスGSの屈伏点以上であり、より好ましくは板ガラスGSの軟化点以上である。
成形工程が終了すると、枠部7の第一主面7aに対して緩衝膜13、金属層14及び接合部15がこの順に形成される。
まず、枠部7の第一主面7aに対し、酸化シリコン膜と酸化ハフニウム膜とが交互に積層形成されることにより、緩衝膜13が形成される。緩衝膜13を形成する方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンアシスト又はイオンプレーティングを用いた真空蒸着法、及びCVD法の成膜法が挙げられる。
次に、緩衝膜13に重なるように、金属層14が形成される。金属層14を形成する方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンアシスト又はイオンプレーティングを用いた真空蒸着法、及びCVD法の成膜法が挙げられる。
その後、金属層14に重なるように、接合部15が形成される。接合部15は、例えばペースト状の金属系接合材を金属層14に重ねるように塗布する工程を有する(塗布工程)。塗布工程の具体例としては、マスクを用いた印刷法(スクリーン印刷法)、ディスペンサを用いた塗布法等が挙げられる。
接合部15は、上記の方法に限らず、例えば、予め所定の枠形状に形成した金属系接合材の成形体を、枠部7の第一主面7aの金属層14に重なるように配置してもよい。
接合部15に係る金属系接合材が枠部7の第一主面7aに塗布されると、この金属系接合材を第一主面7aの金属層14に固定するための熱処理工程が実行される。熱処理工程は、加熱工程と、冷却工程とを備える。
加熱工程では、蓋部材4をリフロー炉等の加熱装置を用いて加熱することで、金属系接合材を溶融させることができる。加熱工程は、例えば、炉内に窒素を充填した状態で実施してもよい。加熱工程において、蓋部材4は、300℃以上の温度に加熱される。
冷却工程において、枠部7の第一主面7a上で溶融した金属系接合材は、冷却されることで固化する。冷却工程は、150℃以上300℃以下の温度範囲、2分間以上30分間以下の時間の条件で温度を維持する徐冷を含むことが好ましい。冷却工程において、枠部7と接合部15との熱膨張係数の差により、蓋部材4に応力が発生するが、緩衝膜13は、この応力を緩和することができる。
図9に示すように、接合工程では、蓋部材4が基体2に重ねられる。具体的には、蓋部材4の枠部7の第一主面7aを基体2に対向させ、接合部15を基体2の第一主面2aに形成されている金属層6に接触させる。
次に、図10に示すように、蓋部材4の枠部7に押圧部材22を載置する。押圧部材22は、錘23と、錘23を支持する支持部材24とを有する。錘23及び支持部材24としては、例えば金属製又はセラミック製のものが使用される。
支持部材24は、錘23を支持する第一支持部24aと、第一支持部24aを支持する第二支持部24bとを有する。
第一支持部24aは、錘23が載置される支持面(上面)を有する。第二支持部24bは、複数の棒状部材を含む。第二支持部24bは、第一支持部24aの下面から下方に突出している。
第二支持部24bは、蓋部材4の枠部7に接触する接触部25を有する。接触部25は、尖端状に構成される。接触部25は、枠部7の緩衝膜13の位置に対応するように、枠部7の第二主面7bに接触する。
押圧部材22は、複数の第二支持部24bの各接触部25が枠部7に接触することで、蓋部材4上で自立した状態でこの蓋部材4を押圧する。押圧部材22によって蓋部材4を押圧することで、蓋部材4の枠部7に形成されている接合部15と、基体2の第一主面2aに形成されている金属層6とを密着させることができる。
その後、金属層6と接合部15とを圧接させた状態で加熱する(加熱工程)。これにより、接合部15の金属系接合材が溶融した状態となる。なお、この加熱工程において、第二支持部24bの尖端状の接触部25が蓋部材4の枠部7に接触することから、接触部25と枠部7との接触面積を可及的に小さくすることができる。これにより、枠部7から押圧部材22の第二支持部24bへの熱伝達を最小限に抑えることができる。
その後、溶融した金属系接合材を冷却することにより固化させる(冷却工程)。冷却工程において、基体2と蓋部材4の枠部7との熱膨張係数の差に起因して、枠部7に応力が発生することとなる。この場合において、緩衝膜13は、この応力を緩和するように変形する。これにより、枠部7の破損を低減することができる。
冷却工程が終了すると、接合部15が基体2の金属層6と蓋部材4の金属層14とを一体に接合してなる封止部5が形成される。以上により、気密性が保たれたパッケージ1が完成する。
図11は、蓋部材4を製造するためのガラス基板の例を示す。ガラス基板Gは、枠部7と、枠部7から突出する複数の突出部8とを備える。各突出部8は、上記の実施形態における蓋部材4の突出部8と同じ構成を有する。各突出部8は、上記の製造装置16によって大型の板ガラスGSの複数箇所を熱変形させることによって形成される。このガラス基板Gを切断線CLに沿って切断すれば、突出部8及び枠部7を有する複数の蓋部材を効率よく製造できる。
図12は、蓋部材の他の例を示す。この例において、蓋部材4は、枠部7と、枠部7から突出する複数の突出部8と、枠部7の第一主面7aに形成される緩衝膜13、金属層14及び接合部15と、を備える。蓋部材4の各構成要素は、上記の実施形態における蓋部材4と同じ構成を有する。この蓋部材4は、基体2に複数の発光素子3が搭載される場合に、各発光素子3を複数の突出部8及び各緩衝膜13等によって個別に封止することができる。
図13及び図14は、蓋部材の他の例を示す平面図である。この例において、蓋部材4は、複行複列に配された複数の突出部8を有する。図13に示す蓋部材4は、平面視円形状に構成される複数の突出部8を有する。一方、図14に示す蓋部材4は、平面視四角形状に構成される複数の突出部8を有する。なお、複行複列に配された複数の突出部8を有する蓋部材4については、隣り合う突出部8同士の間の平滑面に、スクライブ線を入れ、このスクライブ線に沿って蓋部材4を割断し、或いは、ブレードダイシング方式やレーザアブレーション方式でダイシングすることで、複数の蓋部材を得ることができ、また、任意の形状の蓋部材を得ることができる。
図15は、蓋部材の製造方法(パッケージの製造方法における準備工程)における他の例を示す。この例では、緩衝膜13及び金属層14が形成されたガラス基板Gに接合部15を形成する工程を示す。具体的には、スクリーン印刷法により接合部15を形成する際に、ガラス基板Gを支持装置26に固定する場合について説明する。
支持装置26は、ガラス基板Gを支持する支持板27と、支持板27を支持する吸引台29とを備える。
支持板27は、吸引台29に対して着脱自在に構成される。支持板27は、ガラス基板Gの突出部8及び連結部9を挿入することが可能な開口部28を有する。支持板27は、ガラス基板Gの突出部8を下方に向けた状態で、突出部8及び連結部9を開口部28に挿入することで、突出部8及び連結部9に接触することなく、ガラス基板Gの枠部7のみを支持することができる。
吸引台29は、支持板27を支持する支持部30と、ガラス基板Gを支持板27に固定するための吸引口31とを備える。支持部30は、支持板27の周縁部を支持する支持面30aを有する。
吸引台29は、支持部30に支持された支持板27と吸引口31との間に、空間部29aを有する。吸引口31は、図示しないポンプ等の吸引装置(排気装置)に接続されている。
吸引台29は、ガラス基板Gが載置された支持板27を支持部30によって支持した状態で、空間部29a内に存在する気体を吸引口31から排出することで、空間部29a内を負圧にする。これにより、ガラス基板Gは、支持板27の開口部28を介して空間部29a側に吸引されることで、支持板27に固定される。その後、スクリーン印刷法により、ガラス基板Gの金属層14に重なるように、接合部15に係るペースト状の金属系接合材が塗布される。
上記のように支持装置26によってガラス基板Gを支持することで、接合部15を精度良く形成することが可能となる。
図16は、パッケージの他の例を示す。この例におけるパッケージ1は、複数の発光素子3が搭載された基体2と、図12に例示した蓋部材4とを備える。この蓋部材4は、基体2に搭載された各発光素子3を、複数の突出部8及び封止部5によって個別に封止している。
図17は、パッケージの他の例を示す。この例におけるパッケージ1は、蓋部材4の構成が図1及び図2の例と異なる。蓋部材4は、その内面(枠部7の第一主面7a、突出部8の内面8a及び連結部9の第一曲面9a)及び外面(枠部7の第二主面7b、突出部8の外面8b及び連結部9の第二曲面9b)の全面を被覆する反射防止膜32a,32bを有する。反射防止膜32a,32bは、蓋部材4の内面を被覆する第一反射防止膜32aと、蓋部材4の外面を被覆する第二反射防止膜32bとを含む。
各反射防止膜32a,32bは、スパッタリング法、真空蒸着法等の成膜法、又はスプレーコート法などの種々の方法により形成される。
各反射防止膜32a,32は、例えば第一の膜としての酸化シリコン膜(SiO2)と、第二の膜としての酸化ハフニウム膜(HfO2)とを交互に含む多層膜構造を有する。各反射防止膜32a,32bの厚さは、好ましくは0.1μm以上1μm以下であり、より好ましくは0.2μm以上0.8μm以下である。
第一反射防止膜32aの一部は、枠部7と接合部15との熱膨張係数の違いに起因する応力を緩和するための緩衝膜13として機能する。換言すると、第一反射防止膜32aは、図1及び図2で例示したパッケージ1における緩衝膜13を一体に有する膜である。
本例のパッケージ1では、蓋部材4の内面及び外面に形成された各反射防止膜32a,32bによって、発光素子3における光の取出し効率を可及的に向上させることができる。
以上説明した本実施形態に係るパッケージ1(蓋部材4)及びガラス基板Gによれば、蓋部材4の突出部8における頂部12の厚さTminを基部10の厚さTmaxよりも薄くすることで、その透過率を高めることが可能となる。さらに、突出部8における基部10の厚さTmaxを頂部12の厚さTminよりも厚くすることで、この突出部8における蓋部材4の強度を高めることが可能となる。したがって、本発明によれば、蓋部材4の透過率の向上と強度の確保とを両立させることが可能となる。
上記に加え、本実施形態に係る蓋部材4では、湾曲形状を有する連結部9によって枠部7と突出部8とを連結することで、この連結部9における蓋部材4の強度を高めることが可能となる。また、蓋部材4の突出部8は、製造装置16の支持台17及びマスク部材18のいずれにも接触することなく成形されるため、内面8a及び外面8bの表面粗さRaを可及的に小さくすることが可能である。同様に、蓋部材4の連結部9についても、非接触の成形により、その第一曲面9a及び第二曲面9bの表面粗さRaを可及的に小さくすることが可能となる。このため、蓋部材4を透過率が高く、かつ損傷し難いものとすることができる。
なお、本発明は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、上記した作用効果に限定されるものでもない。本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
以下、本発明に係る実施例について説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
本発明者は、本発明に係る蓋部材の効果を確認するため、突出部の外径50mm、突出部の高さ25mmの形状を有する実施例1及び比較例1、2に係る蓋部材と、突出部の外径10mm、突出部の高さ5mmの形状を有する実施例2及び比較例3、4に係る蓋部材を作製し、各例における試験を行った。なお、試験に用いたガラスは全て、質量%表記で、SiO2 70%、B23 20%、Al23 5%、CaO 1%、BaO 1%、Na2O 2%、K2O 1%のホウケイ酸ガラスであった。
実施例1~3に係る蓋部材は、上記実施形態の製造方法によって製造されており、突出部における頂部の厚さが基部の厚さより薄く構成された。一方、比較例1~4に係る蓋部材は、ガラス基板を加熱し、プレス成形することで、基部から頂部までの厚さが一定となる突出部を有した。具体的には、比較例1の蓋部材に係る突出部の厚さは、実施例1の蓋部材に係る突出部の基部の厚さと同じであった。また、比較例2の蓋部材に係る突出部の厚さは、実施例1の蓋部材に係る突出部の頂部の厚さと同じであった。比較例3の蓋部材に係る突出部の厚さは、実施例2の蓋部材に係る突出部の基部の厚さと同じであった。また、比較例4の蓋部材に係る突出部の厚さは、実施例2の蓋部材に係る突出部の頂部の厚さと同じであった。
実施例1~3及び比較例1~4について、分光光度計を用い、蓋部材の頂部における波長250nmの光の透過率を測定した。また、破壊強度試験機を用い、実施例1、2及び比較例1~4の蓋部材の基部の破壊強度を測定した。
図18に破壊強度試験機の概要を示す。破壊強度試験機33は、蓋部材4を支持する支持台35と、蓋部材4の基部10を押圧する押圧部材34とを有する。破壊強度試験では、蓋部材4を支持台35によって支持した状態で、押圧部材34によって蓋部材4における突出部8の基部10を押圧し、その破壊強度(押圧部材34の押圧力)を測定した。各例において、20個の蓋部材を用いて破壊強度試験を行い、その平均値が、基準値(実施例1及び比較例1、2の場合は50MPa、実施例2及び比較例3、4の場合は3MPa)以上のものを「良」、基準値未満のものを「不良」とした。
実施例1~3及び比較例1~4における蓋部材の要部の寸法及び試験結果を表1に示す。なお、表1において、破壊強度の評価結果は、良を「○」、不良を「×」で示している。
表1に示すように、実施例1に係るパッケージの蓋部材は、比較例1に係るパッケージの蓋部材よりも透過率が高く、比較例2のパッケージの蓋部材と比較して強度に優れていた。また、実施例2に係るパッケージの蓋部材は、比較例3に係るパッケージの蓋部材よりも透過率が高く、比較例4のパッケージの蓋部材と比較して強度に優れていた。また、実施例3に係るパッケージの蓋部材は、高い透過率を示した。以上の結果から、本発明によって、透過率の向上と強度の確保を両立するパッケージを実現することが可能となることが示された。
1 パッケージ
3 発光素子
4 蓋部材
7 枠部
7a 第一主面
7b 第二主面
8 突出部
8a 内面
8b 外面
9 連結部
9a 第一曲面
9b 第二曲面
10 基部
12 頂部
13 緩衝膜
14 金属層
15 接合部
G ガラス基板
Tmax 突出部の基部の厚さ
Tmin 突出部の頂部の厚さ

Claims (11)

  1. 発光素子を含むパッケージに用いられるガラス製の蓋部材であって、
    板状の枠部と、前記枠部から突出する突出部とを備え、
    前記突出部は、基部と、頂部とを備え、
    前記頂部の厚さは、前記基部の厚さよりも薄いことを特徴とする蓋部材。
  2. 前記頂部の厚さ(Tmin)と、前記基部の厚さ(Tmax)との比(Tmin/Tmax)は、0.08以上0.9以下である請求項1に記載の蓋部材。
  3. 前記突出部は、内面及び外面を有し、
    前記内面の表面粗さRaは、1nm以下である請求項1又は2に記載の蓋部材。
  4. 前記突出部は、内面及び外面を有し、
    前記外面の表面粗さRaは、1nm以下である請求項1から3のいずれか一項に記載の蓋部材。
  5. 前記基部と前記枠部とを連結する湾曲形状の連結部を備える請求項1から4のいずれか一項に記載の蓋部材。
  6. 前記連結部は、前記基部と前記枠部とを繋ぐ第一曲面及び第二曲面を有し、
    前記第一曲面の曲率半径は、0.5mm以上5mm以下であり、
    前記第二曲面の曲率半径は、0.5mm以上5mm以下である請求項5に記載の蓋部材。
  7. 前記枠部は、第一主面及び第二主面を有し、
    前記第一主面に、金属層が形成されている請求項1から6のいずれか一項に記載の蓋部材。
  8. 前記枠部の前記第一主面と、前記金属層との間に、緩衝膜が形成されている請求項7に記載の蓋部材。
  9. 前記金属層において前記緩衝膜と接触する部位とは反対側の部位に、接合部が形成されている請求項8に記載の蓋部材。
  10. 発光素子を支持する基体と、請求項1から9のいずれか一項に記載の蓋部材と、を備えることを特徴とするパッケージ。
  11. 発光素子を含むパッケージに用いられ蓋部材を製造するためのガラス基板であって、
    板状の枠部と、前記枠部から突出する複数の突出部とを備え、
    前記突出部は、基部と、頂部とを備え、
    前記頂部の厚さは、前記基部の厚さよりも薄いことを特徴とするガラス基板。
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