JP2025070071A - Upper sub-guide, upper wire guide, lower sub-guide and lower wire guide - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ワイヤ放電加工機に用いられる、上サブガイドおよびそれを備える上ワイヤガイドならびに下サブガイドおよびそれを備える下ワイヤガイドに関する。 The present invention relates to an upper subguide and an upper wire guide equipped with the upper subguide, and a lower subguide and a lower wire guide equipped with the lower subguide, which are used in a wire electric discharge machine.
ワイヤ放電加工機による放電加工にあたっては、まず、被加工物を挟んで設けられる一対のワイヤガイドにワイヤ電極が挿通され、ワイヤ電極が張架される。この作業を結線という。ワイヤガイドは、徐々に繰り出されて走行するワイヤ電極を、案内するとともに位置決めする。張架されたワイヤ電極に対しては、通電子を介して電圧が供給される。以下、被加工物を基準に、ワイヤ電極の走行方向の上流側にあるワイヤガイドを上ワイヤガイド、ワイヤ電極の走行方向の下流側にあるガイドを下ワイヤガイドという。また、ワイヤガイドにおいて、ワイヤ電極を直接的に保持する部材をガイド本体という。一般に、ガイド本体は、ダイヤモンドやサファイア等の耐摩耗性に優れた絶縁体から製造される。 When performing electric discharge machining using a wire electric discharge machine, the wire electrode is first inserted into a pair of wire guides that sandwich the workpiece, and the wire electrode is stretched. This process is called wiring. The wire guides guide and position the wire electrode as it is gradually unwound and travels. A voltage is supplied to the stretched wire electrode via an electric current. Hereinafter, the wire guide on the upstream side of the wire electrode's travel direction, based on the workpiece, will be called the upper wire guide, and the guide on the downstream side of the wire electrode's travel direction will be called the lower wire guide. In addition, the member of the wire guide that directly holds the wire electrode will be called the guide body. In general, the guide body is made of an insulator with excellent wear resistance, such as diamond or sapphire.
ここで、特許文献1に開示されるように、ガイド本体の貫通孔を、ワイヤ電極の直径よりもわずかに大きい孔径を有する保持部と、ワイヤ電極の導入側から保持部に向かって徐々に狭まる略逆円錐形状の導入壁面と、保持部からワイヤ電極の導出側に向かって徐々に広がる略円錐形状の導出壁面と、から構成することが知られている。従来の導入壁面および導出壁面はともにその断面が円形状であるので、ワイヤ電極は、導入壁面のある断面において1点で支持されるとともに、導出壁面のある断面において1点で支持される。
As disclosed in
また、特許文献2に開示されるように、ガイド本体は、上ワイヤガイドおよび下ワイヤガイドにそれぞれ2つずつ設けられてもよい。ワイヤ電極の直径よりもわずかに大きい孔径を有するメインガイドと、メインガイドの孔径よりも大きい孔径を有するサブガイドとでワイヤ電極を案内することで、より安定してワイヤ電極の保持が行える。
As disclosed in
ワイヤ電極の保持の安定性を高め、高精度加工を実現するためには、ガイド本体の孔径を小さくすることが考えられる。しかしながら、ワイヤ電極が挿通しにくくなり結線が失敗しやすくなる上、ワイヤ電極との接触面積が増えることにより断線しやすくなるというデメリットも生じるので、ガイド本体の小径化には限界がある。 In order to improve the stability of the wire electrode retention and achieve high-precision machining, it is possible to reduce the hole diameter of the guide body. However, this would make it more difficult to insert the wire electrode, making connection more likely to fail, and would also have the disadvantage of making the wire more likely to break due to the increased contact area with the wire electrode. Therefore, there is a limit to how small the diameter of the guide body can be.
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、結線率や断線率に大きな悪影響を与えることなく、ワイヤ電極を安定して保持し、振動や位置ずれを抑制できるサブガイドを提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of these circumstances, and aims to provide a subguide that can stably hold a wire electrode and suppress vibration and misalignment without significantly affecting the connection rate or breakage rate.
本発明によれば、ワイヤ放電加工機において、被加工物よりもワイヤ電極の走行方向の上流側に位置し、メインガイドとともにワイヤ電極を案内する上サブガイドであって、上メインガイドの孔径よりも大きい孔径を有する保持部と、ワイヤ電極の導入側から保持部に向かって徐々に狭まる導入壁面と、保持部からワイヤ電極の導出側に向かって徐々に広がる導出壁面と、を有し、導入壁面の少なくとも一部の断面は、多角形形状または多角形形状の各辺を円弧状に内側に湾曲させた形状を有する、上サブガイドが提供される。 According to the present invention, in a wire electric discharge machine, there is provided an upper sub-guide that is located upstream of the workpiece in the traveling direction of the wire electrode and guides the wire electrode together with the main guide, the upper sub-guide having a holding section with a hole diameter larger than the hole diameter of the upper main guide, an introduction wall surface that gradually narrows from the introduction side of the wire electrode toward the holding section, and an outlet wall surface that gradually widens from the holding section toward the outlet side of the wire electrode, and at least a portion of the cross section of the introduction wall surface has a polygonal shape or a shape in which each side of the polygonal shape is curved inwardly in an arc shape.
また、本発明によれば、ワイヤ放電加工機において、被加工物よりもワイヤ電極の走行方向の下流側に位置し、下メインガイドとともにワイヤ電極を案内する下サブガイドであって、下メインガイドの孔径よりも大きい孔径を有する保持部と、ワイヤ電極の導入側から保持部に向かって徐々に狭まる導入壁面と、保持部からワイヤ電極の導出側に向かって徐々に広がる導出壁面と、を有し、導出壁面の少なくとも一部の断面は、多角形形状または多角形形状の各辺を円弧状に内側に湾曲させた形状を有する、下サブガイドが提供される。 The present invention also provides a lower sub-guide for a wire electric discharge machine, which is located downstream of the workpiece in the traveling direction of the wire electrode and guides the wire electrode together with the lower main guide, and which has a holding section with a hole diameter larger than the hole diameter of the lower main guide, an introduction wall surface that gradually narrows from the introduction side of the wire electrode toward the holding section, and an introduction wall surface that gradually widens from the holding section toward the introduction side of the wire electrode, and at least a portion of the cross section of the introduction wall surface has a polygonal shape or a shape in which each side of the polygonal shape is curved inward in an arc shape.
本発明の上サブガイドによれば、ワイヤ電極は導入壁面における多角形形状または多角形形状の各辺を円弧状に内側に湾曲させた形状の2面に沿って案内される。つまり、上サブガイドの導入壁面のある断面においては、ワイヤ電極は2点で支持される。また、本発明の下サブガイドによれば、ワイヤ電極は導出壁面における多角形形状または多角形形状の各辺を円弧状に内側に湾曲させた形状の2面に沿って案内される。つまり、下サブガイドの導出壁面のある断面においては、ワイヤ電極は2点で支持される。これにより、ワイヤ電極が安定して保持されるので、振動や位置ずれの発生が抑制される。ひいては、より高精度の加工が実現できる。 According to the upper subguide of the present invention, the wire electrode is guided along two surfaces of a polygonal shape on the introduction wall surface or a shape in which each side of the polygonal shape is curved inwardly in an arc shape. In other words, in a cross section of the introduction wall surface of the upper subguide, the wire electrode is supported at two points. According to the lower subguide of the present invention, the wire electrode is guided along two surfaces of a polygonal shape on the introduction wall surface or a shape in which each side of the polygonal shape is curved inwardly in an arc shape. In other words, in a cross section of the introduction wall surface of the lower subguide, the wire electrode is supported at two points. This allows the wire electrode to be held stably, suppressing the occurrence of vibration and positional deviation. Ultimately, higher precision machining can be achieved.
以下、図面を用いて本発明の実施形態について説明する。以下に説明される各種変形例は、それぞれ任意に組み合わせて実施することができる。 The following describes an embodiment of the present invention with reference to the drawings. The various modifications described below can be implemented in any combination.
図1および図2は、本実施形態のワイヤ放電加工機の上ガイドユニット1および下ガイドユニット2を示す。上ガイドユニット1と下ガイドユニット2との間には被加工物Wが設置され、ワイヤ電極Eに印加される電圧と逆の極性の電圧が印加される。上ガイドユニット1と下ガイドユニット2との間に張架されたワイヤ電極Eを被加工物Wに対して相対移動させることで、被加工物Wは所望の形状に放電加工される。ワイヤ電極Eと被加工物Wとの間の僅かな隙間である加工間隙には、放電加工中は加工液が供給される。加工液は、純水または油を主成分とする誘電性の流体である。
Figures 1 and 2 show the
上ガイドユニット1は、ハウジング11と、通電子13と、上ワイヤガイド3と、噴流ノズル15と、を備える。ハウジング11は、通電子13および上ワイヤガイド3を内部に収容する。また、ハウジング11の下面には、噴流ノズル15が取り付けられる。通電子13は、上ワイヤガイド3よりも上流側でワイヤ電極Eと接触し、通電子13を介してワイヤ電極に電圧が印加される。通電子13はワイヤ電極Eを押圧するので、上ワイヤガイド3の上流側のワイヤ電極Eは傾斜する。通電子13は、前後退可能に構成され、結線時はワイヤ電極Eの進路の妨げとならないよう後退し、結線完了後に前進してワイヤ電極Eと接触する。上ワイヤガイド3は、挿通されたワイヤ電極Eを案内するとともに位置決めする。噴流ノズル15は、放電加工時、加工間隙に対して加工液を噴出する。また、噴流ノズル15は結線時、下方に加工液を噴出することでワイヤ電極Eを案内する。
The
下ガイドユニット2は、ハウジング21と、噴流ノズル25と、下ワイヤガイド4と、通電子23と、を備える。ハウジング21は、下ワイヤガイド4および通電子23を内部に収容する。また、ハウジング21の上面には、噴流ノズル25が取り付けられる。噴流ノズル25は、放電加工時、加工間隙に対して加工液を噴出する。下ワイヤガイド4は、挿通されたワイヤ電極Eを案内するとともに位置決めする。通電子23は、下ワイヤガイド4よりも下流側でワイヤ電極Eと接触し、通電子13を介してワイヤ電極に電圧が印加される。通電子23はワイヤ電極Eを押圧するので、下ワイヤガイド4の下流側のワイヤ電極Eは傾斜する。通電子23は、前後退可能に構成され、結線時はワイヤ電極Eの進路の妨げとならないよう後退し、結線完了後に前進してワイヤ電極Eと接触する。
The
図3および図4に示されるように、上ワイヤガイド3は、上ガイドホルダ31と、上サブガイド33と、上メインガイド35と、を含む。上ガイドホルダ31は、支持部材337を介して上サブガイド33を収容し、支持部材357を介して上メインガイド35を収容する。上サブガイド33および上メインガイド35は、ワイヤ電極Eを直接的に保持するガイド本体であって、ダイヤモンドやサファイア等の耐摩耗性に優れた絶縁体からなる。支持部材337,357は、セラミック等の絶縁体からなる。
As shown in Figures 3 and 4, the
図3および図4に示されるように、下ワイヤガイド4は、下ガイドホルダ41と、下メインガイド43と、下サブガイド45と、を含む。下ガイドホルダ41は、支持部材437を介して下メインガイド43を収容し、支持部材457を介して下サブガイド45を収容する。下メインガイド43および下サブガイド45は、ワイヤ電極Eを直接的に保持するガイド本体であって、ダイヤモンドやサファイア等の耐摩耗性に優れた絶縁体からなる。支持部材437,457は、セラミック等の絶縁体からなる。
As shown in Figures 3 and 4, the
上ガイドホルダ31は、上サブガイド33と上メインガイド35との間に加工液を供給する側孔311を含んでいてよい。また、下ガイドホルダ41は、下メインガイド43と下サブガイド45との間に加工液を供給する側孔413を含んでいてよい。ワイヤ電極Eは、上ワイヤガイド3および下ワイヤガイド4に対して摺動することで、表面が削り落ちたワイヤ粉が発生することがある。側孔311に加工液を供給することで、上ワイヤガイド3の内部に蓄積したワイヤ粉を上サブガイド33側から排出することができる。また、側孔413に加工液を供給することで、下ワイヤガイド4の内部に蓄積したワイヤ粉を下サブガイド45側から排出することができる。側孔311,413への加工液の供給は、放電加工時常に実施されてよい。
The
図2および図4に示されるように、ワイヤ電極Eの走行方向の上流側から順に、通電子13、上サブガイド33、上メインガイド35、被加工物W、下メインガイド43、下サブガイド45、通電子23の順で配置される。上サブガイド33および上メインガイド35は、被加工物Wよりもワイヤ電極Eの走行方向の上流側に位置し、ワイヤ電極Eを案内する。下メインガイド43および下サブガイド45は、被加工物Wよりもワイヤ電極Eの走行方向の下流側に位置し、ワイヤ電極Eを案内する。
As shown in Figures 2 and 4, the
メインガイドを収容するガイドホルダとサブガイドを収容するガイドホルダは、一体に形成されてもよいし、分離可能に形成されてもよい。本実施形態においては、上サブガイド33および上メインガイド35は、一体に形成された上ガイドホルダ31に収容される。下メインガイド43および下サブガイド45は、それぞれ第1の下ガイドホルダ411および第2の下ガイドホルダ412に収容され、第1の下ガイドホルダ411および第2の下ガイドホルダ412は、下ガイドホルダ41を構成する。図5に示されるように、第1の下ガイドホルダ411および第2の下ガイドホルダ412は分離可能である。もちろん、上サブガイド33および上メインガイド35はそれぞれ別のガイドホルダに収容されてもよいし、下メインガイド43および下サブガイド45は一体に形成されたガイドホルダに収容されてもよい。
The guide holder that houses the main guide and the guide holder that houses the subguide may be integrally formed or separably formed. In this embodiment, the
図示省略されているが、着脱を容易にするため、上ガイドホルダ31および下ガイドホルダ41の一部にはねじ切り加工がなされていてもよい。上ガイドホルダ31の上部には、上ガイドユニット1のハウジング11に螺合する雄ねじが形成されていてよい。第1の下ガイドホルダ411の内部および第2の下ガイドホルダ412の上部には、それぞれ互いに螺合する雌ねじおよび雄ねじが形成されていてよい。第2の下ガイドホルダ412の下部には、下ガイドユニット2のハウジング21に螺合する雄ねじが形成されていてよい。
Although not shown, to facilitate attachment and detachment, parts of the
以下、ガイド本体である、上サブガイド33、上メインガイド35、下メインガイド43および下サブガイド45の構成について詳述する。なお、本明細書において、ガイド本体の断面とは、特段の断りがない限り、ワイヤ電極Eの挿通方向に直交する断面、換言すれば、ワイヤ電極Eが挿通される貫通孔の中心線に直交する断面をいう。
The configuration of the guide body, which consists of the
図6および図7に示されるように、上サブガイド33は、保持部331と、導入壁面333と、導出壁面335と、を有し、保持部331、導入壁面333および導出壁面335は貫通孔を構成する。保持部331は、上メインガイド35の孔径よりも大きい孔径を有する。保持部331の孔径は、上メインガイド35の孔径よりも大きければよいが、例えば約0.4mmである。導入壁面333は、ワイヤ電極Eの導入側から保持部331に向かって徐々に狭まる形状を有する。導出壁面335は、保持部331からワイヤ電極Eの導出側に向かって徐々に広がる略円錐形状を有する。導出壁面335は、円形の断面を有する。
6 and 7, the
図8に示されるように、導入壁面333の少なくとも一部の断面は、多角形形状を有する。多角形形状は、好ましくは正多角形である。また、頂点が少なすぎると、上サブガイド33が大型化する。頂点が多すぎると、内角が大きくなるのでワイヤ電極Eがずれやすくなる。そのため、多角形形状は、特に、正六角形、正七角形、正八角形、正九角形、正十角形のいずれかであることが好ましい。本実施形態の上サブガイド33によれば、通電子13により傾斜したワイヤ電極Eは、導入壁面333における多角形形状の2面に沿って案内されるので、ワイヤ電極Eが安定して保持される。
As shown in FIG. 8, at least a portion of the cross section of the
図9に示されるように、上メインガイド35は、保持部351と、導入壁面353と、導出壁面355と、を有し、保持部351、導入壁面353および導出壁面355は貫通孔を構成する。保持部351は、ワイヤ電極Eの直径よりも僅かに大きい孔径を有する。保持部351の孔径は、ワイヤ電極Eの直径よりも、例えば約5μm以上約20μm以下の範囲で大きい。ワイヤ電極Eの直径に応じて、適切な孔径の上ワイヤガイド3が使用される。導入壁面353は、ワイヤ電極Eの導入側から保持部351に向かって徐々に狭まる略逆円錐形状を有する。導出壁面355は、保持部351からワイヤ電極Eの導出側に向かって徐々に広がる略円錐形状を有する。導入壁面353および導出壁面355は、円形の断面を有する。
9, the upper
図10に示されるように、下メインガイド43は、保持部431と、導入壁面433と、導出壁面435と、を有し、保持部431、導入壁面433および導出壁面435は貫通孔を構成する。保持部431は、ワイヤ電極Eの直径よりも僅かに大きい孔径を有する。保持部431の孔径は、ワイヤ電極Eの直径よりも、例えば約5μm以上約20μm以下の範囲で大きい。ワイヤ電極Eの直径に応じて、適切な孔径の下ワイヤガイド4が使用される。導入壁面433は、ワイヤ電極Eの導入側から保持部431に向かって徐々に狭まる略逆円錐形状を有する。導出壁面435は、保持部431からワイヤ電極Eの導出側に向かって徐々に広がる略円錐形状を有する。導入壁面433および導出壁面435は、円形の断面を有する。
10, the lower
図11および図12に示されるように、下サブガイド45は、保持部451と、導入壁面453と、導出壁面455と、を有し、保持部451、導入壁面453および導出壁面455は貫通孔を構成する。保持部451は、下メインガイド43の孔径よりも大きい孔径を有する。保持部451の孔径は、下メインガイド43の孔径よりも大きければよいが、例えば、約0.6mmである。導入壁面453は、ワイヤ電極Eの導入側から保持部451に向かって徐々に狭まる略逆円錐形状を有する。導出壁面455は、保持部451からワイヤ電極Eの導出側に向かって徐々に広がる形状を有する。導入壁面453は、円形の断面を有する。
11 and 12, the
図13に示されるように、導出壁面455の少なくとも一部の断面は、多角形形状を有する。多角形形状は、好ましくは正多角形である。また、頂点が少なすぎると、下サブガイド45が大型化する。頂点が多すぎると、内角が大きくなるのでワイヤ電極Eがずれやすくなる。そのため、多角形形状は、特に、正六角形、正七角形、正八角形、正九角形、正十角形のいずれかであることが好ましい。本実施形態の下サブガイド45によれば、通電子23により傾斜したワイヤ電極Eは、導出壁面455における多角形形状の2面に沿って案内されるので、ワイヤ電極Eが安定して保持される。
As shown in FIG. 13, at least a portion of the cross section of the lead-out
本発明は、以上に説明した実施形態の構成に限定されず、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で種々の変形または応用が可能である。 The present invention is not limited to the configuration of the embodiment described above, and various modifications and applications are possible without departing from the technical concept of the present invention.
例えば、図14に示されるように、上サブガイド33の導入壁面333の少なくとも一部の断面は、多角形形状に代えて、多角形形状の各辺を円弧状に内側に湾曲させた形状を有していてよい。また、図15に示されるように、下サブガイド45の導出壁面455の少なくとも一部の断面は、多角形形状に代えて、多角形形状の各辺を円弧状に内側に湾曲させた形状を有していてよい。このようにしても、ワイヤ電極Eは、2面に沿って案内されるので、ワイヤ電極Eが安定して保持される。
For example, as shown in FIG. 14, at least a portion of the cross section of the
また、本実施形態における各ガイド本体においては、導出壁面と導出壁面とは直接接しており、保持部は実質的に高さを持たない平面的な円形状の孔である。保持部は円筒状の孔として構成してもよいが、ワイヤ電極Eの断線を防止する観点では、ワイヤ電極Eとの接触面積は極力小さい方が望ましいので、保持部は平面的な孔である方が好ましい。 In addition, in each guide body in this embodiment, the outlet wall surfaces are in direct contact with each other, and the holding portion is a planar circular hole that has virtually no height. The holding portion may be configured as a cylindrical hole, but from the viewpoint of preventing breakage of the wire electrode E, it is desirable for the contact area with the wire electrode E to be as small as possible, so it is preferable for the holding portion to be a planar hole.
3 上ワイヤガイド
31 上ガイドホルダ
311 側孔
33 上サブガイド
331 保持部
333 導入壁面
335 導出壁面
35 上メインガイド
4 下ワイヤガイド
41 下ガイドホルダ
413 側孔
43 下メインガイド
45 下サブガイド
451 保持部
453 導入壁面
455 導出壁面
E ワイヤ電極
W 被加工物
3
本発明によれば、ワイヤ放電加工機において、被加工物よりもワイヤ電極の走行方向の上流側に位置し、上メインガイドとともにワイヤ電極を案内する上サブガイドであって、上メインガイドの孔径よりも大きい孔径を有する保持部と、ワイヤ電極の導入側から保持部に向かって徐々に狭まる導入壁面と、保持部からワイヤ電極の導出側に向かって徐々に広がる導出壁面と、を有し、導入壁面の少なくとも一部の断面は、多角形形状または多角形形状の各辺を円弧状に内側に湾曲させた形状を有する、上サブガイドが提供される。 According to the present invention, in a wire electric discharge machine, an upper sub-guide is provided which is located upstream of the workpiece in the traveling direction of the wire electrode and guides the wire electrode together with the upper main guide, the upper sub-guide having a holding portion having a hole diameter larger than the hole diameter of the upper main guide, an introduction wall surface which gradually narrows from the introduction side of the wire electrode toward the holding portion, and an introduction wall surface which gradually widens from the holding portion toward the introduction side of the wire electrode, and at least a portion of the cross section of the introduction wall surface has a polygonal shape or a shape in which each side of the polygonal shape is curved inward in an arc shape.
下ガイドユニット2は、ハウジング21と、噴流ノズル25と、下ワイヤガイド4と、通電子23と、を備える。ハウジング21は、下ワイヤガイド4および通電子23を内部に収容する。また、ハウジング21の上面には、噴流ノズル25が取り付けられる。噴流ノズル25は、放電加工時、加工間隙に対して加工液を噴出する。下ワイヤガイド4は、挿通されたワイヤ電極Eを案内するとともに位置決めする。通電子23は、下ワイヤガイド4よりも下流側でワイヤ電極Eと接触し、通電子23を介してワイヤ電極に電圧が印加される。通電子23はワイヤ電極Eを押圧するので、下ワイヤガイド4の下流側のワイヤ電極Eは傾斜する。通電子23は、前後退可能に構成され、結線時はワイヤ電極Eの進路の妨げとならないよう後退し、結線完了後に前進してワイヤ電極Eと接触する。
The
また、本実施形態における各ガイド本体においては、導入壁面と導出壁面とは直接接しており、保持部は実質的に高さを持たない平面的な円形状の孔である。保持部は円筒状の孔として構成してもよいが、ワイヤ電極Eの断線を防止する観点では、ワイヤ電極Eとの接触面積は極力小さい方が望ましいので、保持部は平面的な孔である方が好ましい。 In the present embodiment, the introduction wall surface and the exit wall surface of each guide body are in direct contact with each other, and the holding portion is a planar circular hole that has substantially no height. The holding portion may be configured as a cylindrical hole, but from the viewpoint of preventing breakage of the wire electrode E, it is preferable that the contact area with the wire electrode E is as small as possible, and therefore it is preferable that the holding portion is a planar hole.
Claims (8)
前記上メインガイドの孔径よりも大きい孔径を有する保持部と、
前記ワイヤ電極の導入側から前記保持部に向かって徐々に狭まる導入壁面と、
前記保持部から前記ワイヤ電極の導出側に向かって徐々に広がる導出壁面と、を有し、
前記導入壁面の少なくとも一部の断面は、多角形形状または前記多角形形状の各辺を円弧状に内側に湾曲させた形状を有する、上サブガイド。 In a wire electric discharge machine, an upper sub-guide is located upstream of a workpiece in a traveling direction of a wire electrode, and guides the wire electrode together with an upper main guide,
a holding portion having a hole diameter larger than the hole diameter of the upper main guide;
an introduction wall surface that gradually narrows from an introduction side of the wire electrode toward the holding portion;
a lead-out wall surface that gradually widens from the holding portion toward the lead-out side of the wire electrode,
An upper sub-guide, wherein a cross section of at least a portion of the introduction wall surface has a polygonal shape or a shape in which each side of the polygonal shape is curved inwardly in an arc shape.
前記上メインガイドと、
前記上サブガイドおよび前記上メインガイドを収容する上ガイドホルダと、を備える上ワイヤガイド。 An upper sub-guide according to claim 1 ;
The upper main guide;
and an upper guide holder that houses the upper sub-guide and the upper main guide.
前記下メインガイドの孔径よりも大きい孔径を有する保持部と、
前記ワイヤ電極の導入側から前記保持部に向かって徐々に狭まる導入壁面と、
前記保持部から前記ワイヤ電極の導出側に向かって徐々に広がる導出壁面と、を有し、
前記導出壁面の少なくとも一部の断面は、多角形形状または前記多角形形状の各辺を円弧状に内側に湾曲させた形状を有する、下サブガイド。 In a wire electric discharge machine, a lower sub-guide is located downstream of a workpiece in a traveling direction of a wire electrode, and guides the wire electrode together with a lower main guide,
a holding portion having a hole diameter larger than the hole diameter of the lower main guide;
an introduction wall surface that gradually narrows from an introduction side of the wire electrode toward the holding portion;
a lead-out wall surface that gradually widens from the holding portion toward the lead-out side of the wire electrode,
A lower sub-guide, wherein a cross section of at least a portion of the outlet wall surface has a polygonal shape or a shape in which each side of the polygonal shape is curved inwardly in an arc shape.
前記下メインガイドと、
前記下メインガイドおよび前記下サブガイドを収容する下ガイドホルダと、を備える下ワイヤガイド。 A lower sub-guide according to claim 5;
The lower main guide;
a lower guide holder that houses the lower main guide and the lower sub-guide.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023180126A JP7588945B1 (en) | 2023-10-19 | 2023-10-19 | Upper sub-guide, upper wire guide, lower sub-guide and lower wire guide |
| CN202411079383.6A CN119857893A (en) | 2023-10-19 | 2024-08-07 | Upper/lower sub-guide and upper/lower wire guide for wire electric discharge machine |
| TW113129837A TWI880835B (en) | 2023-10-19 | 2024-08-09 | Upper/lower auxiliary guides and upper/lower wire guides of wire discharge processing machines |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023180126A JP7588945B1 (en) | 2023-10-19 | 2023-10-19 | Upper sub-guide, upper wire guide, lower sub-guide and lower wire guide |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP7588945B1 JP7588945B1 (en) | 2024-11-25 |
| JP2025070071A true JP2025070071A (en) | 2025-05-02 |
Family
ID=93587995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023180126A Active JP7588945B1 (en) | 2023-10-19 | 2023-10-19 | Upper sub-guide, upper wire guide, lower sub-guide and lower wire guide |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7588945B1 (en) |
| CN (1) | CN119857893A (en) |
| TW (1) | TWI880835B (en) |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58154024U (en) * | 1982-04-09 | 1983-10-14 | 富士通フアナツク株式会社 | Wire electrode guide for wire cut electrical discharge machining |
| JPS59100528U (en) * | 1982-12-23 | 1984-07-06 | ジヤパツクス株式会社 | Wire electrode guide for wire cut electrical discharge machining |
| JPS62107922A (en) * | 1985-11-07 | 1987-05-19 | Sodeitsuku:Kk | Wire-cut electric discharge machine |
| DE19882485T1 (en) * | 1998-05-28 | 2000-09-07 | Mitsubishi Electric Corp | Wire spark erosion device |
| WO2013187201A1 (en) * | 2012-06-13 | 2013-12-19 | 西部電機株式会社 | Method for welding processed material during wire electric discharge machining |
| TWM513083U (en) * | 2015-06-22 | 2015-12-01 | Ching Hung Machinery & Electric Ind Co Ltd | Upper head extension device for wire-cut EDM |
| JP7695382B2 (en) | 2021-11-02 | 2025-06-18 | ファナック株式会社 | Die guide for wire electric discharge machine |
-
2023
- 2023-10-19 JP JP2023180126A patent/JP7588945B1/en active Active
-
2024
- 2024-08-07 CN CN202411079383.6A patent/CN119857893A/en active Pending
- 2024-08-09 TW TW113129837A patent/TWI880835B/en active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP7588945B1 (en) | 2024-11-25 |
| TW202517381A (en) | 2025-05-01 |
| TWI880835B (en) | 2025-04-11 |
| CN119857893A (en) | 2025-04-22 |
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