JP2025048130A - Drawing data generating method, drawing data generating device, charged particle beam drawing device, and program - Google Patents
Drawing data generating method, drawing data generating device, charged particle beam drawing device, and program Download PDFInfo
- Publication number
- JP2025048130A JP2025048130A JP2023156947A JP2023156947A JP2025048130A JP 2025048130 A JP2025048130 A JP 2025048130A JP 2023156947 A JP2023156947 A JP 2023156947A JP 2023156947 A JP2023156947 A JP 2023156947A JP 2025048130 A JP2025048130 A JP 2025048130A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vertex
- line segment
- polygon
- drawing data
- point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
本発明の一態様は、描画データ生成方法、描画データ生成装置、荷電粒子ビーム描画装置、及びプログラムに係り、例えば、マルチビーム描画に用いる描画データに定義される多角形を予め決められた基準図形に分割する手法に関する。 One aspect of the present invention relates to a drawing data generation method, a drawing data generation device, a charged particle beam drawing device, and a program, and relates to a method for dividing a polygon defined in drawing data used for multi-beam drawing, for example, into predetermined reference figures.
半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、LSIの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。ここで、電子線(電子ビーム)描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、ウェハ等へ電子線を使って描画することが行われている。 Lithography technology, which is responsible for the advancement of miniaturization of semiconductor devices, is an extremely important process in the semiconductor manufacturing process that is the only one that generates patterns. In recent years, with the increasing integration density of LSIs, the circuit line width required for semiconductor devices has become finer year by year. Here, electron beam (electron beam) drawing technology inherently has excellent resolution, and drawing is performed on wafers, etc. using an electron beam.
例えば、マルチビームを使った描画装置がある。1本の電子ビームで描画する場合に比べて、マルチビームを用いることで一度に多くのビームを照射できるのでスループットを大幅に向上させることができる。かかるマルチビーム方式の描画装置では、例えば、電子銃から放出された電子ビームを複数の穴を持ったマスクに通してマルチビームを形成し、各々、ブランキング制御され、遮蔽されなかった各ビームが光学系で縮小され、偏向器で偏向され試料上の所望の位置へと照射される。 For example, there is a drawing device that uses multiple beams. Compared to drawing with a single electron beam, using multiple beams allows many beams to be irradiated at once, greatly improving throughput. In such a multi-beam drawing device, for example, an electron beam emitted from an electron gun is passed through a mask with multiple holes to form multiple beams, each of which is blanked and each beam that is not blocked is reduced in size by an optical system and deflected by a deflector to be irradiated at the desired position on the sample.
可変成形(VSB)方式に代表されるシングルビーム描画では、例えば、台形、矩形、及び三角形の図形パターンを組み合わせることで所望のパターンを描画していた。このため、描画装置に入力される描画データに定義された各図形パターンの形状検査については、各図形パターンの幅及び高さ等を確認すれば足りた。一方、マルチビーム描画では、ラスター方式で描画されるため、上述した図形の他に、4角形よりも頂点の数が多い多角形を図形データに含めることができる。一方、実際に描画する際、データ処理を複雑化させないように、多角形は、台形、矩形、及び三角形等の予め設定された基準図形に分割され、かかる基準図形の描画データを用いて描画される。 In single-beam drawing, such as the variable beam shaping (VSB) method, a desired pattern is drawn by combining trapezoidal, rectangular, and triangular graphic patterns, for example. For this reason, when inspecting the shape of each graphic pattern defined in the drawing data input to the drawing device, it was sufficient to check the width and height of each graphic pattern. On the other hand, in multi-beam drawing, drawing is performed using a raster method, so in addition to the above-mentioned figures, polygons with more vertices than quadrilaterals can be included in the graphic data. On the other hand, when actually drawing, in order to avoid complicating data processing, polygons are divided into preset reference figures such as trapezoids, rectangles, and triangles, and are drawn using the drawing data of these reference figures.
このため、多角形を基準図形に分割する処理が必要となるが、従来、処理に時間が多くかかってしまうといった問題があった。よって、多角形を基準図形に分割する分割処理に要する時間の短縮が望まれる。 This requires a process to divide the polygon into reference figures, but in the past, this process took a long time. Therefore, it is desirable to reduce the time required for the process to divide the polygon into reference figures.
ここで、多角形の分割処理ではないが、単調多角形に関して、単調方向を判定し、それに応じて図形の塗りつぶし方向を決めるといった技術が開示されている(特許文献1参照)。 Here, although it is not a polygon division process, a technique has been disclosed for determining the monotonic direction of a monotonic polygon and determining the filling direction of the figure accordingly (see Patent Document 1).
本発明の一態様は、多角形を基準図形に分割する分割処理に要する時間の短縮が可能な方法及び装置を提供する。 One aspect of the present invention provides a method and device that can reduce the time required for a division process that divides a polygon into reference shapes.
本発明の一態様の描画データ生成方法は、
記憶装置に記憶された、各頂点の座標が図形を構成する順に定義された凸多角形の描画データを読み出し、凸多角形を第1の方向に引かれた線分に射影して最も離れた2頂点を特定する工程と、
最も離れた2頂点を結ぶ凸多角形を2分する中央線分を形成する工程と、
中央線分を用いて、凸多角形から予め設定された複数の基準図形のいずれかの基準図形を用いた複数の図形を抽出し、描画データを生成する工程と、
を備えたことを特徴とする。
A method for generating drawing data according to one aspect of the present invention includes:
A step of reading out rendering data of a convex polygon, the rendering data being stored in a storage device and defined in an order in which the coordinates of the vertices form a figure, and projecting the convex polygon onto a line segment drawn in a first direction to identify two vertices that are furthest apart;
forming a median segment that bisects a convex polygon connecting the two most distant vertices;
a step of extracting a plurality of figures using any one of a plurality of preset reference figures from the convex polygon by using the central line segment, and generating drawing data;
The present invention is characterized by comprising:
また、第1の方向に対して最も離れた2頂点を除く残りの頂点を順にベース頂点として、ベース頂点毎に、当該ベース頂点から第1の方向に直交する第2の方向と平行な線分を、中央線分まで形成する工程と、
ベース頂点毎に、当該ベース頂点から延びる線分と中央線分との交点の座標を算出する工程と、
をさらに備えると好適である。
a step of forming, for each base vertex, a line segment parallel to a second direction perpendicular to the first direction from the base vertex to a central line segment, the remaining vertices being set in order except for the two vertices furthest from the first direction;
calculating, for each base vertex, coordinates of an intersection between a line segment extending from the base vertex and a center line segment;
It is preferable that the sensor further comprises:
また、第1の方向として、描画データの座標系における+x方向,-x方向,+y方向,-y方向のいずれかが用いられると好適である。 In addition, it is preferable to use one of the +x, -x, +y, and -y directions in the coordinate system of the drawing data as the first direction.
また、抽出される複数の図形は、描画データの座標系におけるx方向若しくはy方向に延びる辺を含むと好適である。 It is also preferable that the multiple shapes to be extracted include sides that extend in the x- or y-direction in the coordinate system of the drawing data.
また、記憶装置には、複数の多角形の描画データが記憶され、
記憶装置から複数の多角形の描画データを読み出し、多角形毎に、当該多角形の形状種別を判定する工程をさらに備え、
判定の結果、当該多角形が凸多角形である場合に、上述した各工程が実施されると好適である。
The storage device also stores rendering data for a plurality of polygons;
The method further comprises the steps of reading out rendering data of a plurality of polygons from the storage device, and determining, for each polygon, a shape type of the polygon;
If the determination result indicates that the polygon is a convex polygon, it is preferable to carry out the above-mentioned steps.
本発明の一態様の描画データ生成装置は、
各頂点の座標が図形を構成する順に定義された凸多角形の描画データを記憶する記憶装置と、
記憶装置に記憶された、各頂点の座標が図形を構成する順に定義された凸多角形の描画データを読み出し、凸多角形を第1の方向に引かれた線分に射影して最も離れた2頂点を特定する特定部と、
最も離れた2頂点を結ぶ凸多角形を2分する中央線分を形成する中央線分形成部と、
中央線分を用いて、凸多角形から予め設定された複数の基準図形のいずれかの基準図形を用いた複数の図形を抽出し、描画データを生成する抽出処理部と、
を備えたことを特徴とする。
A drawing data generating device according to one aspect of the present invention comprises:
a storage device for storing drawing data of a convex polygon in which the coordinates of each vertex are defined in the order that the polygon is formed;
a specifying unit that reads out rendering data of a convex polygon, the coordinates of which are defined in the order that the coordinates of the vertices form a figure, stored in a storage device, and projects the convex polygon onto a line segment drawn in a first direction to specify two vertices that are most distant from each other;
a central line segment forming part that forms a central line segment that bisects a convex polygon connecting the two most distant vertices;
an extraction processing unit that extracts a plurality of figures using any one of a plurality of preset reference figures from the convex polygon by using the central line segment, and generates drawing data;
The present invention is characterized by comprising:
本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画装置は、
各頂点の座標が図形を構成する順に定義された凸多角形の描画データを記憶する記憶装置と、
記憶装置に記憶された、各頂点の座標が図形を構成する順に定義された凸多角形の描画データを読み出し、凸多角形を第1の方向に引かれた線分に射影して最も離れた2頂点を特定する特定部と、
最も離れた2頂点を結ぶ凸多角形を2分する中央線分を形成する中央線分形成部と、
中央線分を用いて、凸多角形から予め設定された複数の基準図形のいずれかの基準図形を用いた複数の図形を抽出し、描画データを生成する抽出処理部と、
荷電粒子ビームを用いて、抽出され、描画データが生成された複数の図形のパターンを試料に描画する描画機構と、
を備えたことを特徴とする。
A charged particle beam drawing apparatus according to one aspect of the present invention comprises:
a storage device for storing drawing data of a convex polygon in which the coordinates of each vertex are defined in the order that the polygon is formed;
a specifying unit that reads out rendering data of a convex polygon, the coordinates of which are defined in the order that the coordinates of the vertices form a figure, stored in a storage device, and projects the convex polygon onto a line segment drawn in a first direction to specify two vertices that are most distant from each other;
a central line segment forming part that forms a central line segment that bisects a convex polygon connecting the two most distant vertices;
an extraction processing unit that extracts a plurality of figures using any one of a plurality of preset reference figures from the convex polygon by using the central line segment, and generates drawing data;
a writing mechanism for writing, on a sample, a pattern of the plurality of figures for which the writing data has been generated, using a charged particle beam;
The present invention is characterized by comprising:
本発明の一態様のコンピュータに実行させるためのプログラムは、
記憶装置に記憶された、各頂点の座標が図形を構成する順に定義された凸多角形の描画データを読み出し、凸多角形を第1の方向に引かれた線分に射影して最も離れた2頂点を特定する機能と、
最も離れた2頂点を結ぶ凸多角形を2分する中央線分を形成する機能と、
中央線分を用いて、凸多角形から予め設定された複数の基準図形のいずれかの基準図形を用いた複数の図形を抽出し、描画データを生成する機能と、
を備えたことを特徴とする。
A program for causing a computer to execute one aspect of the present invention comprises:
a function of reading out rendering data of a convex polygon, the rendering data being stored in a storage device and defined in the order in which the coordinates of each vertex form a figure, and projecting the convex polygon onto a line segment drawn in a first direction to identify the two vertices that are furthest apart;
The function of forming a median segment that bisects a convex polygon connecting the two most distant vertices;
a function of extracting a plurality of figures using any one of a plurality of preset reference figures from a convex polygon by using a central line segment, and generating drawing data;
The present invention is characterized by comprising:
本発明の一態様によれば、多角形を基準図形に分割する分割処理に要する時間の短縮ができる。よって、描画時間を短縮できる。 According to one aspect of the present invention, it is possible to reduce the time required for the division process of dividing a polygon into reference shapes. This reduces the drawing time.
以下、実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の荷電粒子を用いたビームでも構わない。また、実施の形態では、荷電粒子ビームとして、マルチビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、マルチビームに限るものではない。シングルビームであっても構わない。 In the following embodiments, a configuration using an electron beam as an example of a charged particle beam will be described. However, the charged particle beam is not limited to an electron beam, and may be a beam using charged particles such as an ion beam. Furthermore, in the embodiments, a configuration using multiple beams as the charged particle beam will be described. However, the charged particle beam is not limited to multiple beams. It may be a single beam.
実施の形態1.
図1は、実施の形態1における描画装置の構成を示す概念図である。図1において、描画装置100は、描画機構150と制御系回路160を備えている。描画装置100は、荷電粒子ビーム描画装置の一例である。また、描画装置100は、マルチ荷電粒子ビーム描画装置の一例であると共に、マルチ荷電粒子ビーム露光装置の一例である。描画機構150は、電子鏡筒102(電子ビームカラム)と描画室103を備えている。電子鏡筒102内には、電子銃201、照明レンズ202、成形アパーチャアレイ基板203、ブランキングアパーチャアレイ機構204、縮小レンズ205、制限アパーチャ基板206、対物レンズ207、偏向器208、及び偏向器209が配置されている。
FIG. 1 is a conceptual diagram showing the configuration of a drawing apparatus in the first embodiment. In FIG. 1, the
描画室103内には、XYステージ105が配置される。XYステージ105上には、描画時(露光時)には描画対象基板となるマスク等の試料101が配置される。試料101には、半導体装置を製造する際の露光用マスク、或いは、半導体装置が製造される半導体基板(シリコンウェハ)等が含まれる。また、試料101には、レジストが塗布された、まだ何も描画されていないマスクブランクスが含まれる。
An
また、XYステージ105上には、さらに、XYステージ105の位置測定用のミラー210が配置される。
Furthermore, a
制御系回路160は、制御計算機110、メモリ112、偏向制御回路130、デジタル・アナログ変換(DAC)アンプユニット132,134、レンズ制御回路136、ステージ制御機構138、ステージ位置測定器139及び磁気ディスク装置等の記憶装置140,142,144を有している。制御計算機110、メモリ112、偏向制御回路130、レンズ制御回路136、ステージ制御機構138、ステージ位置測定器139及び記憶装置140,142,144は、図示しないバスを介して互いに接続されている。偏向制御回路130には、DACアンプユニット132,134及びブランキングアパーチャアレイ機構204が接続されている。偏向器209は、4極以上の電極により構成され、電極毎にDACアンプ132を介して偏向制御回路130により制御される。偏向器208は、4極以上の電極により構成され、電極毎にDACアンプ134を介して偏向制御回路130により制御される。照明レンズ202、縮小レンズ205、及び対物レンズ207といった例えば電磁レンズ群は、レンズ制御回路136により制御される。
The
例えば、制御計算機110、メモリ112、及び記憶装置140,142,144は、描画データ生成装置の一例を構成する。
For example, the
XYステージ105の位置はステージ制御機構138によって制御される図示しない各軸のモータの駆動によって制御される。ステージ位置測定器139は、ミラー210からの反射光を受光することによって、レーザ干渉法の原理でXYステージ105の位置を測長する。
The position of the
制御計算機110内には、形状判定処理部50、分割処理部80、ショットデータ生成部70、データ加工部72、転送処理部74、及び描画制御部76が配置される。形状判定処理部50、分割処理部80、ショットデータ生成部70、データ加工部72、転送処理部74、及び描画制御部76といった各「~部」は、処理回路を有する。かかる処理回路は、例えば、電気回路、コンピュータ、プロセッサ、回路基板、量子回路、或いは、半導体装置を含む。各「~部」は、共通する処理回路(同じ処理回路)を用いても良いし、或いは異なる処理回路(別々の処理回路)を用いても良い。形状判定処理部50、分割処理部80、ショットデータ生成部70、データ加工部72、転送処理部74、及び描画制御部76に入出力される情報および演算中の情報はメモリ112にその都度格納される。
In the
描画装置100の描画動作は、描画制御部76によって制御される。また、各ショットの照射時間データの偏向制御回路130への転送処理は、転送処理部74によって制御される。
The drawing operation of the
また、描画装置100の外部から、チップパターンを構成する複数の図形パターンの描画データ1(チップデータ)が入力され、記憶装置140に格納される。チップデータには、チップパターンを構成する複数の図形パターンの情報が定義される。具体的には、図形パターン毎に、例えば、各頂点座標の座標列が定義される。複数の図形パターンには、三角形、矩形、及び台形の他に、複数の多角形が含まれる。
In addition, drawing data 1 (chip data) of multiple graphic patterns constituting the chip pattern is input from outside the
ここで、図1では、実施の形態1を説明する上で必要な構成を記載している。描画装置100にとって、通常、必要なその他の構成を備えていても構わない。
Here, FIG. 1 shows the configuration necessary for explaining the first embodiment. The
図2は、実施の形態1における成形アパーチャアレイ基板の構成を示す概念図である。図2において、成形アパーチャアレイ基板203には、縦(y方向)p列×横(x方向)q列(p,q≧2)の穴(開口部)22が所定の配列ピッチでマトリクス状に形成されている。図2の例では、例えば、縦横(x,y方向)に512×512列の穴22が形成される場合を示している。穴22の数は、これに限るものではない。例えば、32×32列の穴22が形成される場合であっても構わない。各穴22は、共に同じ寸法形状の矩形で形成される。或いは、同じ直径の円形であっても構わない。これらの複数の穴22を電子ビーム200の一部がそれぞれ通過することで、マルチビーム20が形成されることになる。言い換えれば、成形アパーチャアレイ基板203は、マルチビーム20を形成し、放出する。成形アパーチャアレイ基板203は、マルチビーム20の放出源の一例となる。
2 is a conceptual diagram showing the configuration of the shaping aperture array substrate in the first embodiment. In FIG. 2, holes (openings) 22 are formed in a matrix of p columns (y direction) x q columns (x direction) (p, q≧2) at a predetermined arrangement pitch in the shaping
図3は、実施の形態1におけるブランキングアパーチャアレイ機構の構成の一例を示す断面図である。ブランキングアパーチャアレイ機構204は、図3に示すように、支持台33上にシリコン等からなる半導体基板を用いたブランキングアパーチャアレイ基板31が配置される。ブランキングアパーチャアレイ基板31の中央部のメンブレン領域330には、図2に示した成形アパーチャアレイ基板203の各穴22に対応する位置にマルチビーム20のそれぞれのビームの通過用の通過孔25(開口部)が開口される。そして、複数の通過孔25のうち対応する通過孔25を挟んで対向する位置に制御電極24と対向電極26の組(ブランカー:ブランキング偏向器)がそれぞれ配置される。また、各通過孔25の近傍のブランキングアパーチャアレイ基板31内部には、各通過孔25用の制御電極24に偏向電圧を印加する制御回路41(ロジック回路)が配置される。各ビーム用の対向電極26は、グランド接続される。
Figure 3 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of the blanking aperture array mechanism in the first embodiment. As shown in Figure 3, the blanking
制御回路41内には、図示しないアンプ(スイッチング回路の一例)が配置される。アンプの一例として、スイッチング回路となるCMOS(Complementary MOS)インバータ回路が配置される。CMOSインバータ回路の入力(IN)には、閾値電圧よりも低くなるL(low)電位(例えばグランド電位)と、閾値電圧以上となるH(high)電位(例えば、1.5V)とのいずれかが制御信号として印加される。実施の形態1では、CMOSインバータ回路の入力(IN)にL電位が印加される状態では、制御回路41に印加されるCMOSインバータ回路の出力(OUT)は正電位(Vdd)となり、対向電極26のグランド電位との電位差による電界により対応ビームを偏向し、制限アパーチャ基板206で遮蔽することでビームOFFになるように制御する。一方、CMOSインバータ回路の入力(IN)にH電位が印加される状態(アクティブ状態)では、CMOSインバータ回路の出力(OUT)はグランド電位となり、対向電極26のグランド電位との電位差が無くなり対応ビームを偏向しないので制限アパーチャ基板206を通過することでビームONになるように制御する。かかる偏向によってブランキング制御される。
An amplifier (an example of a switching circuit) (not shown) is arranged in the
次に、描画機構150の動作の具体例について説明する。電子銃201(放出源)から放出された電子ビーム200は、照明レンズ202によりほぼ垂直に成形アパーチャアレイ基板203全体を照明する。成形アパーチャアレイ基板203には、矩形の複数の穴22(開口部)が形成され、電子ビーム200は、すべての複数の穴22が含まれる領域を照明する。複数の穴22の位置に照射された電子ビーム200の各一部が、かかる成形アパーチャアレイ基板203の複数の穴22をそれぞれ通過することによって、例えば矩形形状のマルチビーム(複数の電子ビーム)20が形成される。かかるマルチビーム20は、ブランキングアパーチャアレイ機構204のそれぞれ対応するブランカー内を通過する。かかるブランカーは、それぞれ、設定された描画時間(照射時間)の間、ビームがON状態になるように個別に通過するビームをブランキング制御する。
Next, a specific example of the operation of the
ブランキングアパーチャアレイ機構204を通過したマルチビーム20は、縮小レンズ205によって、縮小され、制限アパーチャ基板206に形成された中心の穴に向かって進む。ここで、ブランキングアパーチャアレイ機構204のブランカーによって偏向された電子ビームは、制限アパーチャ基板206の中心の穴から位置がはずれ、制限アパーチャ基板206によって遮蔽される。一方、ブランキングアパーチャアレイ機構204のブランカーによって偏向されなかった電子ビームは、図1に示すように制限アパーチャ基板206の中心の穴を通過する。このように、制限アパーチャ基板206は、ブランキングアパーチャアレイ機構204のブランカーによってビームOFFの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する。そして、ビームONになってからビームOFFになるまでに形成された、制限アパーチャ基板206を通過したビームにより、1回分のショットの各ビームが形成される。制限アパーチャ基板206を通過したマルチビーム20は、対物レンズ207により焦点が合わされ、所望の縮小率のパターン像となり、偏向器208及び偏向器209によって、制限アパーチャ基板206を通過したマルチビーム20全体が同方向にまとめて偏向され、各ビームの試料101上のそれぞれの照射位置に照射される。また、例えばXYステージ105が連続移動している時、ビームの照射位置がXYステージ105の移動に追従するように偏向器208によってトラッキング制御が行われる。一度に照射されるマルチビーム20は、理想的には成形アパーチャアレイ基板203の複数の穴22の配列ピッチに上述した所望の縮小率を乗じたピッチで並ぶことになる。
The multi-beam 20 that has passed through the blanking
図4は、実施の形態1における描画データ1の一例を示す図である。図4の例では、5角形の図形パターンiが示されている。iは、複数の図形に振られたインデックスを示す。5角形の図形パターンiは、5つの頂点0,1,2,3,4を順に結ぶことにより構成される。図形パターンiの描画データは、これらの頂点の座標を例えば右回りの順で定義する。
Figure 4 is a diagram showing an example of drawing
図4に示すように、描画データとして定義される複数の図形パターンの中には、4角形よりも頂点数が多い多角形の図形パターンが含まれる。このため、多角形の図形パターンについては、三角形、矩形、及び台形といった予め設定された基準図形のパターンに分割した上で描画処理を行う。そこで、実施の形態1では、記憶装置140に格納される描画データ1として定義される複数の図形パターンデータのうち、多角形の描画データについて多角形を基準図形に分割して、かかる基準図形の描画データ2に生成し直す。
As shown in FIG. 4, the multiple graphic patterns defined as drawing data include polygonal graphic patterns, which have more vertices than a quadrilateral. For this reason, polygonal graphic patterns are divided into preset reference graphic patterns such as triangles, rectangles, and trapezoids before drawing processing. Therefore, in the first embodiment, of the multiple graphic pattern data defined as drawing
図5は、実施の形態1における描画データ生成方法の要部工程を示すフローチャート図である。図5において、実施の形態1における描画データ生成方法は、図形種判定工程(S100)と、一般多角形分割処理工程(S110)と、X単調多角形分割処理工程(S200)と、Y単調多角形分割処理工程(S300)と、凸多角形分割処理工程(S400)、という一連の工程を実施する。図形種判定工程(S100)は、内部工程として、判定工程(S102)と、判定工程(S104)と、を実施する。
Figure 5 is a flow chart showing the main steps of the drawing data generation method in
判定工程(S100)として、形状判定処理部50は、記憶装置140に記憶された複数の図形パターンの描画データ1の中から、多角形の描画データ1を読み出し、多角形毎に、当該多角形の形状種別を判定する。ここでは、まず、判定工程(S102)として、単調多角形かどうかを判定する。単調多角形でなければ、その他の一般多角形と判定する。そして、単調多角形であった場合には、さらに、判定工程(S104)として、形状判定処理部50は、X単調多角形か、Y単調多角形か、或いは凸多角形かを判定する。X単調多角形では、単調な方向として、描画データの座標系におけるx方向が用いられる。Y単調多角形では、単調な方向として、描画データの座標系におけるy方向が用いられる。
In the determination step (S100), the shape determination processing unit 50 reads out the drawing
図6は、実施の形態1におけるX単調多角形の一例を示す図である。X単調多角形は、自己の辺同士による交差(自己交差)が無くかつ図形内にホールパターンを含まない図形で、頂点列の最左点から最右点に至る点列のx成分が単調増加で、かつ最右点から最左点に至る点列のx成分が単調減少である図形を指す。或いは、X単調多角形は、自己の辺同士による交差(自己交差)が無く、図形内にホールパターンが無い図形であって、頂点同士を順につなげることで図形が構成される順に並ぶ各頂点のx方向の変位の符号が正から負、或いは負から正へと反転する回数が2回以下の図形を指す。図6の例では、例えば、左端下部の右隣の頂点から時計回りに-x方向に変位量が小さくなり、左端下部の頂点に到達し、左端上部の頂点に続く。そして、左端上部の頂点から、+x方向に順にx方向の変位量が大きくなり、右端上部の頂点に到達する。そして、右端下部の頂点と続く。そして、右端下部の頂点から-x方向に順にx方向の変位量が小さくなり、左端下部の右隣の頂点に戻る。よって、変位量の符号の反転は、-x方向から+x方向への反転が1回と、+x方向から-x方向への反転が1回と、の合計2回の符号の反転が生じるだけである。また、図6の例の多角形の辺同士の間で自己交差が無く、かつ多角形内にはホールパターンが無い。よって、図6の多角形は、X単調多角形となる。 Figure 6 is a diagram showing an example of an X-monotonic polygon in the first embodiment. An X-monotonic polygon refers to a figure that does not have crossings (self-intersections) between its own sides and does not include a hole pattern within the figure, in which the x-component of the point sequence from the leftmost point to the rightmost point of the vertex sequence increases monotonically, and the x-component of the point sequence from the rightmost point to the leftmost point increases monotonically. Alternatively, an X-monotonic polygon refers to a figure that does not have crossings (self-intersections) between its own sides and does not have a hole pattern within the figure, and in which the sign of the x-direction displacement of each vertex arranged in the order in which the figure is formed by connecting the vertices in order is inverted from positive to negative, or from negative to positive, two or less times. In the example of Figure 6, for example, the displacement amount decreases in the -x direction clockwise from the vertex immediately to the right of the lower left end, reaches the vertex at the lower left end, and continues to the vertex at the upper left end. Then, from the vertex at the upper left end, the displacement amount increases in the +x direction in order, reaching the vertex at the upper right end. Then, it continues to the vertex at the lower right end. Then, the amount of displacement in the x direction decreases from the vertex at the bottom right in the -x direction, returning to the vertex immediately to the right of the bottom left. Therefore, the sign of the displacement is inverted twice in total: once from the -x direction to the +x direction, and once from the +x direction to the -x direction. Furthermore, there are no self-intersections between the sides of the polygon in the example of Figure 6, and there are no hole patterns within the polygon. Therefore, the polygon in Figure 6 is an X-monotonic polygon.
図7は、実施の形態1におけるY単調多角形の一例を示す図である。Y単調多角形は、自己の辺同士による交差(自己交差)が無くかつ図形内にホールパターンを含まない図形で、頂点列の最下点から最上点に至る点列のy成分が単調増加で、かつ最上点から最下点に至る点列のy成分が単調減少である図形を指す。或いは、Y単調多角形は、自己の辺同士による交差(自己交差)が無く、図形内にホールパターンが無い図形であって、頂点同士を順につなげることで図形が構成される順に並ぶ各頂点のy方向の変位の符号が正から負、或いは負から正へと反転する回数が2回以下の図形を指す。図7の例では、例えば、下端右部の上隣の頂点から時計回りに-y方向に変位量が小さくなり、下端右部の頂点に到達し、下端左部の頂点に続く。そして、下端左部の頂点から、+y方向に順にy方向の変位量が大きくなり、上端左部の頂点に到達する。そして、上端右部の頂点と続く。そして、上端右部の頂点から-y方向に順にy方向の変位量が小さくなり、下端右部の上隣の頂点の頂点に戻る。よって、変位量の符号の反転は、-y方向から+y方向への反転が1回と、+y方向から-y方向への反転が1回と、の合計2回の符号の反転が生じるだけである。また、図7の例の多角形の辺同士の間で自己交差が無く、かつ多角形内にはホールパターンが無い。よって、図7の多角形は、Y単調多角形となる。 Figure 7 is a diagram showing an example of a Y-monotonic polygon in the first embodiment. A Y-monotonic polygon refers to a figure that does not have crossings (self-intersections) between its own sides and does not include a hole pattern within the figure, in which the y component of the point sequence from the lowest point of the vertex sequence to the highest point is monotonically increasing, and the y component of the point sequence from the highest point to the lowest point is monotonically decreasing. Alternatively, a Y-monotonic polygon refers to a figure that does not have crossings (self-intersections) between its own sides and does not have a hole pattern within the figure, and in which the sign of the y-direction displacement of each vertex arranged in the order in which the figure is formed by connecting the vertices in order is inverted from positive to negative, or from negative to positive, two or less times. In the example of Figure 7, for example, the displacement amount decreases in the -y direction clockwise from the vertex next to the lower right part, reaches the vertex at the lower right part, and continues to the vertex at the lower left part. Then, from the vertex at the lower left part, the displacement amount in the y direction increases in order in the +y direction until it reaches the vertex at the upper left part. Then, it continues to the vertex at the upper right part. Then, the amount of displacement in the y direction decreases in the -y direction from the vertex at the top right, returning to the vertex next above at the bottom right. Therefore, the sign of the displacement is inverted only twice in total: once from the -y direction to the +y direction, and once from the +y direction to the -y direction. Furthermore, there are no self-intersections between the sides of the polygon in the example of Figure 7, and there are no hole patterns within the polygon. Therefore, the polygon in Figure 7 is a Y-monotonic polygon.
図8は、実施の形態1における凸多角形の一例を示す図である。
凸多角形は、自己の辺同士による交差(自己交差)が無く、図形内にホールパターンが無い図形であって、すべての内角が180度未満の図形を指す。図8の例の多角形の辺同士の間で自己交差が無く、かつ多角形内にはホールパターンが無い。そして、すべての内角が180度未満である。よって、図8の多角形は、凸多角形となる。なお、凸多角形は、xy単調多角形になる。すべての内角が180度未満であってもxy単調でなければ自己交差するからである。
FIG. 8 is a diagram showing an example of a convex polygon according to the first embodiment. In FIG.
A convex polygon refers to a figure in which there are no self-intersections between its own sides, no hole patterns within the figure, and all interior angles are less than 180 degrees. There are no self-intersections between the sides of the polygon in the example of FIG. 8, and there are no hole patterns within the polygon. Also, all interior angles are less than 180 degrees. Therefore, the polygon in FIG. 8 is a convex polygon. Note that a convex polygon is an xy monotonic polygon. This is because even if all interior angles are less than 180 degrees, they will self-intersect if they are not xy monotonic.
図9は、実施の形態1における一般多角形の一例を示す図である。図9の例では、x単調でもなく、y単調でもなく、すべての内角が180度未満でもない。よって、図9の例の多角形は、その他の一般多角形と判定される。また、図9の例では、例えば、ホールパターンが内部に配置される場合を示している。
Figure 9 is a diagram showing an example of a general polygon in
上述した例では、多角形の実際の形状からどの種の多角形かを判定する場合を説明したが、これに限るものではない。描画データ1のフォーマット上に、当該図形が、X単調多角形、Y単調多角形、若しくは凸多角形のいずれかを示す識別子が定義されるように構成しても好適である。かかる場合、形状判定処理部50は、定義された識別子により、当該図形の図形種を判定すればよい。その他の一般多角形の場合の識別子がさらにあっても構わない。無い場合には、頂点数が例えば5つ以上の図形パターンについて、識別子が無い図形パターンをその他の一般多角形と判定すればよい。
In the above example, the type of polygon is determined from the actual shape of the polygon, but this is not limiting. It is also preferable to configure the format of the drawing
図10は、実施の形態1における分割処理部の内部構成の一例を示すブロック図である。図10において、分割処理部80内には、X単調多角形分割処理部52、Y単調多角形分割処理部54、凸多角形分割処理部56、及び一般多角形分割処理部57が配置される。X単調多角形分割処理部52、Y単調多角形分割処理部54、凸多角形分割処理部56、及び一般多角形分割処理部57といった各「~部」は、処理回路を有する。かかる処理回路は、例えば、電気回路、コンピュータ、プロセッサ、回路基板、量子回路、或いは、半導体装置を含む。各「~部」は、共通する処理回路(同じ処理回路)を用いても良いし、或いは異なる処理回路(別々の処理回路)を用いても良い。X単調多角形分割処理部52、Y単調多角形分割処理部54、凸多角形分割処理部56、及び一般多角形分割処理部57に入出力される情報および演算中の情報はメモリ112にその都度格納される。
Figure 10 is a block diagram showing an example of the internal configuration of the division processing unit in the first embodiment. In Figure 10, the
一般多角形分割処理工程(S110)として、一般多角形分割処理部57は、判定の結果、当該多角形が一般多角形であると判定された場合、当該一般多角形を予め設定された複数の基準図形のいずれかの形状で、複数の図形に分割し、この分割された複数の図形について、基準図形の描画データ2を生成する。以下、具体的に説明する。
In the general polygon division processing step (S110), if the general polygon
図11は、実施の形態1における一般多角形分割処理部57の内部構成の一例を示すブロック図である。図11において、一般多角形分割処理部57内には、頂点リスト作成部60、線分リスト作成部61、頂点ソート処理部62、線分ソート処理部63、直線形成部64、交点算出部65、及び図形抽出部66が配置される。頂点リスト作成部60、線分リスト作成部61、頂点ソート処理部62、線分ソート処理部63、直線形成部64、交点算出部65、及び図形抽出部66といった各「~部」は、処理回路を有する。かかる処理回路は、例えば、電気回路、コンピュータ、プロセッサ、回路基板、量子回路、或いは、半導体装置を含む。各「~部」は、共通する処理回路(同じ処理回路)を用いても良いし、或いは異なる処理回路(別々の処理回路)を用いても良い。頂点リスト作成部60、線分リスト作成部61、頂点ソート処理部62、線分ソート処理部63、直線形成部64、交点算出部65、及び図形抽出部66に入出力される情報および演算中の情報はメモリ112にその都度格納される。
Figure 11 is a block diagram showing an example of the internal configuration of the general polygon
図12は、実施の形態1における一般多角形分割処理を説明するための図である。図12の例では、13個の頂点0~12を結ぶことで構成される13角形の内部に4つの頂点13~16を結ぶことで構成されるホールパターンが配置される一般多角形を示している。図12の例では、左端上部の頂点が頂点0となっているが、描画データに定義される各頂点座標の1番目の頂点が必ずしも左端等の位置を示すとは限らない。一方、基準図形への分割処理は、x方向或いはy方向へと1方向に向かって進める。
Figure 12 is a diagram for explaining the general polygon division process in
このため、一般多角形分割処理では、まず、頂点リスト作成部60が、当該一般多角形の頂点リストを作成する。
For this reason, in the general polygon division process, the vertex
図13は、実施の形態1におけるソート処理前後の頂点リストの一例を示す図である。頂点リスト作成部60によって作成された頂点リストは、図13の左側の図に示すように、頂点番号が、描画データに定義された順のまま、頂点0から始まり、頂点1,2,3,・・・,12の順に並ぶ。そして、続けてホールパターンの頂点13,14,15,16の順に並ぶ。ホールパターンは、描画データ上、例えば、反時計回りに定義される。かかる頂点リストは、例えば、x方向に沿って並んでいるわけではない。
Figure 13 shows an example of a vertex list before and after sorting in
そこで、頂点ソート処理部62は、x方向の座標が小さい順に、頂点リストをソート処理する。x座標が同じ頂点はy座標が例えば大きい順に並べる。これにより、図13の右図に示すように、頂点0,頂点11,頂点9,頂点12,・・・,頂点7の順に並び替えられる。
The
そして、線分リスト作成部61は、多角形の辺を示す線分リストを作成する。
Then, the line segment
図14は、実施の形態1におけるソート処理前後の線分リストの一例を示す図である。線分リスト作成部61によって作成された線分リストは、図14の左側の図に示すように、線分番号が、描画データに定義された頂点の順のまま、頂点0と頂点1を結ぶ線分0-1、頂点1と頂点2を結ぶ線分1-2,線分3-2,線分3-4,線分5-4,・・・,線分0-12の順に並ぶ。続けてホールパターンも同様に、線分13-14,線分15-14,・・・,線分13-16の順に並ぶ。各線分の名称は、例えば、線分3-2のように、頂点2、3の2点のうちx方向の座標が小さい頂点3から表示されるように定義すると好適である。かかる線分リストは、例えば、x方向に沿って並んでいるわけではない。
Figure 14 shows an example of a line segment list before and after sorting in the first embodiment. As shown in the left diagram of Figure 14, the line segment list created by the line segment
そこで、線分ソート処理部63は、始点のx方向の座標が小さい順に、線分リストをソート処理する。始点のx座標が同じ線分は、y座標が例えば大きい順に並べる。次に、始点のx座標が同じ複数の線分があれば、終点のx方向の座標が小さい順にソートする。これにより、図14の右図に示すように、線分0-12,線分11-12,線分11-10,線分9-10,線分0-1,・・・,線分6-7の順に並び替えられる。
The line segment
次に、直線形成部64は、ソート後の頂点リストの順に、当該頂点を通るy方向直線を形成する。なお、左端の同じx座標をもつ頂点0,11,9では、y方向直線を延ばしても多角形から分割できる基準図形を構成しないのでy方向直線の形成は不要である。同様に最右端のx座標をもつ頂点7についてもy方向直線を延ばしても多角形から分割できる基準図形を構成しないのでy方向直線の形成は不要である。
Next, the
次に、交点算出部65は、ソート後の頂点リストの順に、当該頂点を通るy方向直線と交差する辺を抽出し、かかる辺との交点の座標を算出する。かかる場合に、ソート処理された線分リストを用いることで、交差する辺(線分)を算出できる。
例えば、同じx座標の頂点12,10から延ばしたy方向直線は、頂点以外では、線分0-1、線分9-8と交差する。よって、y方向直線と線分0-1との交点の座標、及びy方向直線と線分9-8との交点の座標を算出する。
Next, the
For example, a y-direction line extended from
図形抽出部66は、頂点0,12,線分0-1での交点(y方向直線と線分0-1との交点)の3つの交点で囲まれた三角形を抽出し、描画データ2を生成する。同様に、頂点11,12,10の3つの交点で囲まれた三角形を抽出し、描画データ2を生成する。同様に、頂点9,10,線分9-8での交点(y方向直線と線分9-8との交点)の3つの交点で囲まれた三角形を抽出し、描画データ2を生成する。
The
そして、ソート後の頂点リストの次にx座標が大きい頂点について、y方向直線形成処理と交点算出処理と図形抽出処理とを行う。以下、同様に繰り返す。 Then, for the vertex with the next largest x coordinate in the sorted vertex list, y-direction line formation processing, intersection calculation processing, and shape extraction processing are performed. The same process is repeated below.
例えば、頂点1を通るy方向直線は、線分9-8と交差する。よって、y方向直線と線分9-8との交点の座標を算出する。そして、頂点12を通るy方向直線と線分0-1との交点と、頂点12を通るy方向直線と線分9-8との交点と、頂点1と、頂点1を通るy方向直線と線分9-8との交点の4つの交点で囲まれる台形を抽出し、描画データ2を生成する。
For example, the y-direction line passing through
以上の処理の繰り返すことで、一般多角形を複数の基準図形に分割し、一般多角形から複数の基準図形を抽出できる。 By repeating the above process, a general polygon can be divided into multiple base figures, and multiple base figures can be extracted from the general polygon.
従来、多角形の形状種に関わらず、すべての多角形について、上述した一般多角形分割処理を行っていた。しかしながら、かかる一般多角形分割処理では、上述したように、頂点リストの作成とソート処理、及び線分リストの作成とソート処理を行っており、処理に時間がかかっていた。また、y方向直線と交差する線分がどれなのかを線分リストを使って特定する処理が必要であり、この特定処理も処理時間の増大の一因になっていた。また、例えば、頂点15を通るy方向直線のように、複数の線分と交差する場合、複数回の交点算出を行う必要があり、処理時間の増大の他の一因になっていた。
Conventionally, the above-mentioned general polygon division process was performed on all polygons, regardless of the type of polygon shape. However, in this general polygon division process, as described above, the creation and sorting of a vertex list, and the creation and sorting of a line segment list were performed, which took time for processing. In addition, a process was required to identify which line segments intersect with the y-direction line using the line segment list, and this identification process was also a factor in increasing the processing time. Furthermore, when a line intersects with multiple line segments, such as a y-direction line passing through
そこで、実施の形態1では、多角形の形状種別ごとに、基準図形への分割処理の仕方を変更する。実施の形態1では、X単調多角形、Y単調多角形、及び凸多角形について、基準図形への分割処理の仕方を一般多角形分割処理からそれぞれの個別の分割処理へと変更する。 Therefore, in the first embodiment, the method of division into reference figures is changed for each type of polygon shape. In the first embodiment, the method of division into reference figures for X-monotonic polygons, Y-monotonic polygons, and convex polygons is changed from general polygon division processing to individual division processing for each.
X単調多角形分割処理工程(S200)として、X単調多角形分割処理部52は、判定の結果、当該多角形がx方向(第1の方向)に単調なX単調多角形である場合に、X単調多角形を予め設定された複数の基準図形のいずれかの形状で、複数の図形に分割し、この分割された複数の図形について、基準図形の描画データ2を生成する。以下、具体的に説明する。
In the X-monotonic polygon division processing step (S200), if the polygon is determined to be an X-monotonic polygon that is monotonic in the x direction (first direction), the X-monotonic polygon
図15は、実施の形態1におけるX単調多角形分割処理部の内部構成の一例を示すブロック図である。図15において、X単調多角形分割処理部52内には、開始点/最終点特定部170、前点/次点設定部171、座標比較部172、座標比較部173、ベース頂点設定部174、対向頂点設定部175、線分形成部176、交点算出部178、図形抽出部180、図形抽出部181、隣接点特定部182、及び判定部184が配置される。開始点/最終点特定部170、前点/次点設定部171、座標比較部172、座標比較部173、ベース頂点設定部174、対向頂点設定部175、線分形成部176、交点算出部178、図形抽出部180、図形抽出部181、隣接点特定部182、及び判定部184といった各「~部」は、処理回路を有する。かかる処理回路は、例えば、電気回路、コンピュータ、プロセッサ、回路基板、量子回路、或いは、半導体装置を含む。各「~部」は、共通する処理回路(同じ処理回路)を用いても良いし、或いは異なる処理回路(別々の処理回路)を用いても良い。開始点/最終点特定部170、前点/次点設定部171、座標比較部172、座標比較部173、ベース頂点設定部174、対向頂点設定部175、線分形成部176、交点算出部178、図形抽出部180、図形抽出部181、隣接点特定部182、及び判定部184に入出力される情報および演算中の情報はメモリ112にその都度格納される。
Figure 15 is a block diagram showing an example of the internal configuration of the X-monotonic polygon division processing unit in
図16は、実施の形態1におけるX単調多角形分割処理工程の内部工程の一例を示すフローチャート図である。図16において、実施の形態1におけるX単調多角形分割処理工程(S200)は、開始点/最終点特定工程(S201)と、前点/次点設定工程(S202)と、座標比較工程(S204)と、ベース頂点設定工程(S206)と、対向頂点設定工程(S208)と、判定工程(S209)と、線分形成工程(S210)と、交点算出工程(S212)と、図形抽出工程(S214)と、隣接点特定工程(S216)と、座標比較工程(S220)と、最終図形抽出工程(S222)と、いう一連の工程を実施する。 Figure 16 is a flow chart showing an example of the internal steps of the X-monotonic polygon division processing step in the first embodiment. In Figure 16, the X-monotonic polygon division processing step (S200) in the first embodiment performs a series of steps including a start point/final point identification step (S201), a previous point/next point setting step (S202), a coordinate comparison step (S204), a base vertex setting step (S206), an opposing vertex setting step (S208), a judgment step (S209), a line segment formation step (S210), an intersection calculation step (S212), a figure extraction step (S214), an adjacent point identification step (S216), a coordinate comparison step (S220), and a final figure extraction step (S222).
判定工程(S100)における判定の結果、当該多角形がx方向に単調なX単調多角形である場合に、図16の各工程による処理が実施される。 If the result of the determination in the determination step (S100) is that the polygon is an X-monotonic polygon that is monotonic in the x direction, the processing in each step of Figure 16 is carried out.
開始点/最終点特定工程(S201)として、開始点/最終点特定部170は、例えばメモリ112(記憶装置)に記憶された、各頂点の座標が図形を構成する順に定義されたx方向(第1の方向)に単調なX単調多角形の描画データ1を読み出し、X単調多角形におけるx方向の最も手前側の最左点となる頂点と、x方向の最も先側の最右点となる頂点とを特定する。描画データ1に定義された各頂点のx座標の最も小さい頂点を最左点、最も大きい頂点を最右点として特定すればよい。
In the start point/final point identification step (S201), the start point/final
図17は、実施の形態1におけるX単調多角形の分割処理の仕方を説明するための図である。図17の例では、例えば、頂点0~11までの12角形のX単調多角形が示されている。図17の例では、頂点0が最左点となり、頂点7が最右点となる。
Figure 17 is a diagram for explaining how an X-monotonic polygon is divided in
前点/次点設定工程(S202)として、前点/次点設定部171は、x方向の最も手前側の最左点の頂点0を起点にして、描画データ1に定義されたX単調多角形(図形)を構成する各頂点0~11の座標の順において起点に隣り合う1つ前側の頂点11と1つ後側の頂点1とを設定する。ここでは、描画データ1に各図形の頂点が右回りで図形を構成する順で定義される場合を示す。
In the previous point/next point setting step (S202), the previous point/next
座標比較工程(S204)として、座標比較部172は、例えばメモリ112(記憶装置)に記憶された、各頂点の座標0~11が図形を構成する順に定義されたx方向に単調な単調多角形の描画データ1を読み出し、第1回目の比較処理として、X単調多角形におけるx方向の最も手前側の頂点0を起点にして、描画データ1に定義されたX単調多角形を構成する各頂点0~11の座標の順において起点に隣り合う1つ前側の頂点11と1つ後側の頂点1とのx方向の座標を比較する。例えば、最左点となる頂点0の前点となる頂点をP_lower、次点となる頂点をP_upperとする。図17の例では、頂点11が第1回目のP_lowerとなり、頂点1が第1回目のP_upperとなる。そして、P_lowerとP_upperのx座標を比較する。
In the coordinate comparison step (S204), the coordinate
ベース頂点設定工程(S206)として、ベース頂点設定部174は、第n回目(nは自然数)のベース頂点設定処理として、比較された結果、x座標が小さい頂点をベース頂点として設定する。図17の例では、第1回目のベース頂点設定処理として、頂点11をベース頂点として設定する。
In the base vertex setting step (S206), the base
対向頂点設定工程(S208)として、第n回目(nは自然数)の対向頂点設定処理として、比較された結果、x座標が大きい頂点を対向頂点として設定する。図17の例では、第1回目の対向頂点設定処理として、頂点1を対向頂点として設定する。
As the opposing vertex setting step (S208), the vertex with the larger x coordinate as a result of the comparison is set as the opposing vertex in the nth (n is a natural number) opposing vertex setting process. In the example of Figure 17,
判定工程(S209)として、判定部184は、第n回目(nは自然数)の判定処理として、設定されたベース頂点が最終点(最右点)かどうかを判定する。例えば、第1回目の判定処理では、第1回目のベース頂点は頂点11なので、最右点となる頂点7ではないと判定する。設定されたベース頂点が最終点(最右点)ではない場合には線分形成工程(S210)に進む。設定されたベース頂点が最終点(最右点)である場合には最終図形抽出工程(S222)に進む。
In the determination step (S209), the
線分形成工程(S210)として、線分形成部176は、第n回目(nは自然数)の線分形成処理として、比較された結果、座標が小さい頂点をベース頂点とし、座標が大きい頂点を対向頂点として、ベース頂点からx方向に直交するy方向(第2の方向)と平行な線分を、対向頂点と、対向頂点に隣り合う、ベース頂点より座標が小さい頂点と、を結ぶ対辺まで形成する。第1回目の線分形成処理では、ベース頂点となる頂点11からx方向に直交するy方向と平行な線分を、対向頂点となる頂点1と、対向頂点となる頂点1に隣り合う、ベース頂点よりx座標が小さい頂点0と、を結ぶ対辺0-1まで形成する。言い換えれば、比較された結果、ベース頂点よりもx座標が大きい点とその前点を結ぶ線分を対辺として、ベース頂点から対辺にY軸と平行な線分を引く。
As the line segment forming step (S210), the line
交点算出工程(S212)として、交点算出部178は、第n回目の座標算出処理として、ベース頂点から延びる線分と対辺との交点の座標を算出する。第1回目の座標算出処理では、頂点11からy方向に延びる線分と対辺0-1との交点の座標を算出する。
As an intersection calculation step (S212), the
図形抽出工程(S214)として、図形抽出部180は、第n回目の基準図形抽出処理として、y方向に延びる線分と、y方向に延びる線分のx方向に1つ手前の第n-1回目の線分形成処理で形成されたy方向に延びる線分と、X単調多角形のy方向に延びる線分が接続する2辺の少なくとも一部と、で囲まれた図形を予め設定された複数の基準図形の1つとして抽出し、描画データ2を生成する。或いは、x方向に1つ手前の第n-1回目の線分形成処理で形成されたy方向に延びる線分が存在しない場合にはy方向に延びる線分よりもx方向の座標が小さい頂点と、X単調多角形のy方向に延びる線分が接続する2辺の少なくとも一部と、で囲まれた図形を予め設定された複数の基準図形の1つとして抽出し、描画データ2を生成する。描画データ2は、基準図形の各頂点の座標が、図形を構成するように例えば右回りの順で定義される。生成された描画データ2は、記憶装置144に格納される。
第1回目の基準図形抽出処理では、図17に示すように、x方向に1つ手前のy方向に延びる線分が存在しないので、頂点11からy方向に延びる線分よりもx方向の座標が小さい頂点0と、X単調多角形のy方向に延びる線分が接続する2辺である線分0-11と線分0-1の少なくとも一部と、で囲まれた図形を基準図形の1つの例えば三角形として、X単調多角形から分割して、抽出する。そして、頂点0と頂点11と算出された線分0-1の交点の座標を例えば右回りで並べて定義する描画データ2を生成し、記憶装置144に出力する。
As a figure extraction step (S214), the
17, in the first reference figure extraction process, since there is no line segment extending in the y direction immediately before the
隣接点特定工程(S216)として、隣接点特定部182は、第n回目の隣接点特定処理として、ベース頂点のx方向に隣り合う頂点を隣接点として特定する。第1目の隣接点特定処理では、ベース頂点である頂点11のx方向に隣り合う頂点10を隣接点として特定する。そして、P_upperとなる頂点1は、対向頂点として残っているので、頂点10を新たにP_lowerとする。
In the adjacent point identification process (S216), the adjacent
座標比較工程(S220)として、座標比較部173は、第n+1回目の比較処理として、x方向にベース頂点と隣り合う頂点と、第n回目の比較処理において座標が大きかった対向頂点とのx方向の座標を比較する。第2回目の比較処理では、新たにP_lowerとなった頂点10と対向頂点として残っている頂点1とを比較する。
In the coordinate comparison step (S220), the coordinate
そして、ベース頂点設定工程(S206)に戻り、設定されるベース頂点が最右点(最終点)になるまで、ベース頂点設定工程(S206)から座標比較工程(S220)までの各工程を繰り返す。なお、座標比較工程(S220)においてx座標が大きい頂点は、対向頂点設定工程(S208)に戻る。 Then, the process returns to the base vertex setting process (S206), and the processes from the base vertex setting process (S206) to the coordinate comparison process (S220) are repeated until the base vertex that is set becomes the rightmost point (final point). Note that the vertex with the larger x coordinate in the coordinate comparison process (S220) returns to the opposite vertex setting process (S208).
よって、図17の例では、第2回目のベース頂点が頂点1となる。また、対向頂点が頂点10となる。そして、頂点1からy方向に平行な線分を対辺11-10に延ばし、その交点を算出する。そして、第2回目の基準図形抽出処理として、頂点1からy方向に延びる線分と、頂点1からy方向に延びる線分のx方向に1つ手前の第1回目の線分形成処理で形成された頂点11からy方向に延びる線分と、X単調多角形の頂点1からy方向に延びる線分が接続する2辺である線分0-1と線分11-10の少なくとも一部と、で囲まれた台形を予め設定された複数の基準図形の1つとして抽出し、描画データ2を生成する。そして、第2目の隣接点特定処理では、ベース頂点である頂点1のx方向に隣り合う頂点2を隣接点として特定する。そして、P_lowerとなる頂点10は、対向頂点として残っているので、頂点2を新たにP_upperとする。
そして、第3回目の比較処理では、新たにP_upperとなった頂点2と対向頂点として残っている頂点10とを比較する。そして、第3回目のベース頂点が頂点10となる。また、対向頂点が頂点2となる。以降、かかる動作を繰り返す。
Therefore, in the example of FIG. 17, the base vertex of the second round is
Then, in the third comparison process,
最終図形抽出工程(S222)として、図形抽出部181は、最終の基準図形抽出処理として、x方向にベース頂点と隣り合う頂点がx方向の最も先側の頂点に至った場合に、1回前の線分形成処理にて形成された線分と、最も先側の頂点と、X単調多角形の1回前の線分形成処理にて形成された線分が接続する2辺の少なくとも一部と、で囲まれた図形を複数の基準図形の1つとして抽出し、描画データ2を生成する。図17の例では、ベース頂点が頂点6であった場合に、次の隣接点特定処理にて、頂点6と隣り合う頂点7が最右点になるので、ここに至った場合に、頂点6からy方向と平行に延びる線分と、最右点になる頂点7と、頂点6からy方向と平行に延びる線分が接続する辺である線分6-7と線分8-7の少なくともの少なくとも一部と、で囲まれた例えば三角形を基準図形の1つとして抽出する。そして、描画データ2を生成する。
In the final figure extraction step (S222), when the vertex adjacent to the base vertex in the x direction reaches the most forward vertex in the x direction as the final reference figure extraction process, the
X単調多角形分割処理工程(S200)によれば、最左点からx方向に順にベース頂点をずらしていくので、頂点リストの作成及び頂点ソート処理を不要にできる。また、ベース頂点からy方向に延びる線分と交差する対辺は、対向頂点とその1つ前の頂点とを結ぶ辺になるので、線分リストの作成及び線分ソート処理を不要にできる。よって、X単調多角形を分割する処理時間を一般多角形分割処理(S110)の手法で行う場合に比べて大幅に短縮できる。一般多角形分割処理(S110)の手法では、頂点数がn個の場合に、計算量が一般にO(n)より大きくなるのに対して、X単調多角形分割処理工程(S200)によれば、計算量がO(n)に低減できる。Oはランダウの記号を示す。 According to the X-monotonic polygon division processing step (S200), the base vertex is shifted in the x direction from the leftmost point, making it unnecessary to create a vertex list and sort the vertices. In addition, the opposite side that intersects with the line segment extending from the base vertex in the y direction is the side that connects the opposite vertex and the vertex immediately before it, making it unnecessary to create a line segment list and sort the line segments. Therefore, the processing time for dividing an X-monotonic polygon can be significantly reduced compared to the general polygon division processing (S110) method. In the general polygon division processing (S110) method, when the number of vertices is n, the amount of calculation is generally greater than O(n), whereas the X-monotonic polygon division processing step (S200) can reduce the amount of calculation to O(n). O indicates the Landau symbol.
ここで、上述した例では、開始点を最左点、終了点を最右点として、描画データ1の座標系における+x方向に対して、x座標の小さい順にベース頂点を設定して、+x方向に向けて基準図形の抽出を行う場合を説明したが、これに限るものではない。例えば、開始点を最右点、終了点を最左点として、描画データ1の座標系における-x方向(第1の方向の他の一例)に対して、x座標の小さい順にベース頂点を設定して、-x方向に向けて基準図形の抽出を行う場合であっても好適である。-x方向に対してx座標の小さい順とは、+x方向に対してx座標の大きい順のことと同義である。
In the above example, the leftmost point is set as the start point and the rightmost point, the base vertex is set in ascending order of x coordinate in the +x direction in the coordinate system of the drawing
また、上述した例では、X単調多角形の最左点から最右点まで順に基準図形を抽出する場合を説明したが、これに限るものではない。X単調多角形の最左点と最右点の両側からx方向の中央部に向かってそれぞれ順に基準図形を抽出する場合であっても良い。 In the above example, the reference figures are extracted in order from the leftmost point to the rightmost point of the X monotone polygon, but this is not limited to the above. The reference figures may be extracted in order from both the leftmost and rightmost points of the X monotone polygon toward the center in the x direction.
Y単調多角形分割処理工程(S300)として、Y単調多角形分割処理部54は、判定の結果、当該多角形がy方向(第1の方向の他の一例)に単調なY単調多角形である場合に、Y単調多角形を予め設定された複数の基準図形のいずれかの形状で、複数の図形に分割し、分割された複数の図形について、基準図形の描画データ2を生成する。以下、具体的に説明する。
In the Y-monotonic polygon division processing step (S300), if the polygon is determined to be a Y-monotonic polygon that is monotonic in the y direction (another example of the first direction), the Y-monotonic polygon
実施の形態1におけるY単調多角形分割処理部54の内部構成の一例は、図15と同様である。また、実施の形態1におけるY単調多角形分割処理工程(S300)の内部工程の一例は、図16と同様である。
An example of the internal configuration of the Y monotone polygon
判定工程(S100)における判定の結果、当該多角形がy方向に単調なY単調多角形である場合に、図16の各工程による処理が実施される。 If the result of the determination in the determination step (S100) is that the polygon is a Y-monotonic polygon that is monotonic in the y direction, the processing in each step of Figure 16 is carried out.
開始点/最終点特定工程(S201)として、開始点/最終点特定部170は、例えばメモリ112(記憶装置)に記憶された、各頂点の座標が図形を構成する順に定義されたy方向(第1の方向の他の一例)に単調なY単調多角形の描画データ1を読み出し、Y単調多角形におけるy方向の最も手前側の最下点となる頂点と、y方向の最も先側の最上点となる頂点とを特定する。描画データ1に定義された各頂点のy座標の最も小さい頂点を最下点、最も大きい頂点を最上点として特定すればよい。
ここでは、下から上に向かう方向をy方向と定義しているが、上から下に向かう方向をy方向と定義しても良い。かかる場合、開始点が最上点となり、最終点が最下点となる。
In the start point/final point identification step (S201), the start point/final
Here, the direction from bottom to top is defined as the y direction, but the direction from top to bottom may be defined as the y direction. In such a case, the starting point is the topmost point, and the final point is the bottommost point.
図18は、実施の形態1におけるY単調多角形の分割処理の仕方を説明するための図である。図18の例では、例えば、頂点0~11までの12角形のX単調多角形が示されている。図18の例では、頂点0が最下点となり、頂点7が最上点となる。
Figure 18 is a diagram for explaining how a Y monotonic polygon is divided in the first embodiment. In the example of Figure 18, for example, a 12-sided X monotonic polygon with
前点/次点設定工程(S202)として、前点/次点設定部171は、y方向の最も手前側の最下点の頂点0を起点にして、描画データ1に定義されたY単調多角形(図形)を構成する各頂点0~11の座標の順において起点に隣り合う1つ前側の頂点11と1つ後側の頂点1とを設定する。ここでは、描画データ1に各図形の頂点が右回りで図形を構成する順で定義される場合を示す。
In the previous point/next point setting step (S202), the previous point/next
座標比較工程(S204)として、座標比較部172は、例えばメモリ112(記憶装置)に記憶された、各頂点の座標0~11が図形を構成する順に定義されたy方向に単調な単調多角形の描画データ1を読み出し、第1回目の比較処理として、Y単調多角形におけるy方向の最も手前側の頂点0を起点にして、描画データ1に定義されたY単調多角形を構成する各頂点0~11の座標の順において起点に隣り合う1つ前側の頂点11と1つ後側の頂点1とのy方向の座標を比較する。例えば、最下点となる頂点0の前点となる頂点をP_right、次点となる頂点をP_leftとする。図18の例では、頂点11が第1回目のP_rightとなり、頂点1が第1回目のP_leftとなる。そして、P_rightとP_leftのy座標を比較する。
In the coordinate comparison step (S204), the coordinate
ベース頂点設定工程(S206)として、ベース頂点設定部174は、第n回目(nは自然数)のベース頂点設定処理として、比較された結果、y座標が小さい頂点をベース頂点として設定する。図18の例では、第1回目のベース頂点設定処理として、頂点11をベース頂点として設定する。
In the base vertex setting step (S206), the base
対向頂点設定工程(S208)として、第n回目(nは自然数)の対向頂点設定処理として、比較された結果、y座標が大きい頂点を対向頂点として設定する。図18の例では、第1回目の対向頂点設定処理として、頂点1を対向頂点として設定する。
As the opposing vertex setting step (S208), the vertex with the larger y coordinate as a result of the comparison is set as the opposing vertex in the nth (n is a natural number) opposing vertex setting process. In the example of Figure 18,
判定工程(S209)として、判定部184は、第n回目(nは自然数)の判定処理として、設定されたベース頂点が最終点(最上点)かどうかを判定する。例えば、第1回目の判定処理では、第1回目のベース頂点は頂点11なので、最上点となる頂点7ではないと判定する。設定されたベース頂点が最終点(最上点)ではない場合には線分形成工程(S210)に進む。設定されたベース頂点が最終点(最上点)である場合には最終図形抽出工程(S222)に進む。
In the determination step (S209), the
線分形成工程(S210)として、線分形成部176は、第n回目(nは自然数)の線分形成処理として、比較された結果、座標が小さい頂点をベース頂点とし、座標が大きい頂点を対向頂点として、ベース頂点からy方向に直交するx方向(第2の方向の他の一例)と平行な線分を、対向頂点と、対向頂点に隣り合う、ベース頂点より座標が小さい頂点と、を結ぶ対辺まで形成する。第1回目の線分形成処理では、ベース頂点となる頂点11からy方向に直交するx方向と平行な線分を、対向頂点となる頂点1と、対向頂点となる頂点1に隣り合う、ベース頂点よりy座標が小さい頂点0と、を結ぶ対辺0-1まで形成する。言い換えれば、比較された結果、ベース頂点よりもy座標が大きい点とその前点を結ぶ線分を対辺として、ベース頂点から対辺にX軸と平行な線分を引く。
As the line segment forming step (S210), the line
交点算出工程(S212)として、交点算出部178は、第n回目の座標算出処理として、ベース頂点から延びる線分と対辺との交点の座標を算出する。第1回目の座標算出処理では、頂点11からx方向に延びる線分と対辺0-1との交点の座標を算出する。
As an intersection calculation step (S212), the
図形抽出工程(S214)として、図形抽出部180は、第n回目の基準図形抽出処理として、x方向に延びる線分と、x方向に延びる線分のx方向に1つ手前の第n-1回目の線分形成処理で形成されたx方向に延びる線分と、Y単調多角形のx方向に延びる線分が接続する2辺の少なくとも一部と、で囲まれた図形を予め設定された複数の基準図形の1つとして抽出し、描画データ2を生成する。或いは、y方向に1つ手前の第n-1回目の線分形成処理で形成されたx方向に延びる線分が存在しない場合にはx方向に延びる線分よりもx方向の座標が小さい頂点と、Y単調多角形のx方向に延びる線分が接続する2辺の少なくとも一部と、で囲まれた図形を予め設定された複数の基準図形の1つとして抽出し、描画データ2を生成する。描画データ2は、基準図形の各頂点の座標が、図形を構成するように例えば右回りの順で定義される。生成された描画データ2は、記憶装置144に格納される。
第1回目の基準図形抽出処理では、図18に示すように、y方向に1つ手前のx方向に延びる線分が存在しないので、頂点11からx方向に延びる線分よりもy方向の座標が小さい頂点0と、Y単調多角形のx方向に延びる線分が接続する2辺である線分0-11と線分0-1の少なくとも一部と、で囲まれた図形を基準図形の1つの例えば三角形として、Y単調多角形から分割して、抽出する。そして、頂点0と頂点11と算出された線分0-1の交点の座標を例えば右回りで並べて定義する描画データ2を生成し、記憶装置144に出力する。
As a figure extraction step (S214), the
18, in the first reference figure extraction process, since there is no line segment extending in the x direction immediately before the y direction, a figure surrounded by
隣接点特定工程(S216)として、隣接点特定部182は、第n回目の隣接点特定処理として、ベース頂点のy方向に隣り合う頂点を隣接点として特定する。第1目の隣接点特定処理では、ベース頂点である頂点11のy方向に隣り合う頂点10を隣接点として特定する。そして、P_leftとなる頂点1は、対向頂点として残っているので、頂点10を新たにP_rightとする。
In the adjacent point identification step (S216), the adjacent
座標比較工程(S220)として、座標比較部173は、第n+1回目の比較処理として、y方向にベース頂点と隣り合う頂点と、第n回目の比較処理において座標が大きかった対向頂点とのy方向の座標を比較する。第2回目の比較処理では、新たにP_rightとなった頂点10と対向頂点として残っている頂点1とを比較する。
In the coordinate comparison step (S220), the coordinate
そして、ベース頂点設定工程(S206)に戻り、設定されるベース頂点が最上点(最終点)になるまで、ベース頂点設定工程(S206)から座標比較工程(S220)までの各工程を繰り返す。なお、座標比較工程(S220)においてy座標が大きい頂点は、対向頂点設定工程(S208)に戻る。 Then, the process returns to the base vertex setting process (S206), and the processes from the base vertex setting process (S206) to the coordinate comparison process (S220) are repeated until the base vertex that is set becomes the uppermost point (final point). Note that the vertex with the larger y coordinate in the coordinate comparison process (S220) returns to the opposite vertex setting process (S208).
よって、図18の例では、第2回目のベース頂点が頂点1となる。また、対向頂点が頂点10となる。そして、頂点1からx方向に平行な線分を対辺11-10に延ばし、その交点を算出する。そして、第2回目の基準図形抽出処理として、頂点1からx方向に延びる線分と、頂点1からx方向に延びる線分のy方向に1つ手前の第1回目の線分形成処理で形成された頂点11からx方向に延びる線分と、Y単調多角形の頂点1からx方向に延びる線分が接続する2辺である線分0-1と線分11-10の少なくとも一部と、で囲まれた台形を予め設定された複数の基準図形の1つとして抽出し、描画データ2を生成する。そして、第2目の隣接点特定処理では、ベース頂点である頂点1のy方向に隣り合う頂点2を隣接点として特定する。そして、P_rightとなる頂点10は、対向頂点として残っているので、頂点2を新たにP_leftとする。
そして、第3回目の比較処理では、新たにP_leftとなった頂点2と対向頂点として残っている頂点10とを比較する。そして、第3回目のベース頂点が頂点10となる。また、対向頂点が頂点2となる。以降、かかる動作を繰り返す。
Therefore, in the example of FIG. 18, the base vertex of the second round is
Then, in the third comparison process,
最終図形抽出工程(S222)として、図形抽出部181は、最終の基準図形抽出処理として、y方向にベース頂点と隣り合う頂点がy方向の最も先側の頂点に至った場合に、1回前の線分形成処理にて形成された線分と、最も先側の頂点と、Y単調多角形の1回前の線分形成処理にて形成された線分が接続する2辺の少なくとも一部と、で囲まれた図形を複数の基準図形の1つとして抽出し、描画データ2を生成する。図18の例では、ベース頂点が頂点6であった場合に、次の隣接点特定処理にて、頂点6と隣り合う頂点7が最上点になるので、ここに至った場合に、頂点6からx方向と平行に延びる線分と、最上点になる頂点7と、頂点6からx方向と平行に延びる線分が接続する辺である線分6-7と線分8-7の少なくともの少なくとも一部と、で囲まれた例えば三角形を基準図形の1つとして抽出する。そして、描画データ2を生成する。
In the final figure extraction step (S222), when the vertex adjacent to the base vertex in the y direction reaches the most forward vertex in the y direction as the final reference figure extraction process, the
Y単調多角形分割処理工程(S300)によれば、最下点からy方向に順にベース頂点をずらしていくので、頂点リストの作成及び頂点ソート処理を不要にできる。また、ベース頂点からx方向に延びる線分と交差する対辺は、対向頂点とその1つ前の頂点とを結ぶ辺になるので、線分リストの作成及び線分ソート処理を不要にできる。よって、Y単調多角形を分割する処理時間を一般多角形分割処理(S110)の手法で行う場合に比べて大幅に短縮できる。一般多角形分割処理(S110)の手法では、頂点数がn個の場合に、計算量が一般にO(n)より大きくなるのに対して、Y単調多角形分割処理工程(S300)によれば、計算量がO(n)に低減できる。 According to the Y monotonic polygon division processing step (S300), the base vertex is shifted in the y direction from the lowest point, making it unnecessary to create a vertex list and sort the vertices. In addition, the opposite side that intersects with the line segment extending from the base vertex in the x direction is the side that connects the opposite vertex and the vertex immediately before it, making it unnecessary to create a line segment list and sort the line segments. Therefore, the processing time for dividing a Y monotonic polygon can be significantly reduced compared to when the general polygon division processing (S110) method is used. In the general polygon division processing (S110) method, when the number of vertices is n, the amount of calculation is generally greater than O(n), whereas the Y monotonic polygon division processing step (S300) can reduce the amount of calculation to O(n).
上述した例では、X単調多角形分割処理(S200)とY単調多角形分割処理工程(S300)とを別々に行う場合について説明したが、これに限るものではない。Y単調多角形と判定された場合に、図5の回転工程(S106)によりY単調多角形を90°回転させてX単調多角形としてX単調多角形分割処理(S200)を行っても良い。なお、この場合、分割処理後に、分割された複数の基準図形全体を-90°回転させて、元の座標に戻した描画データ2を作成する。図5の回転工程(S106)を実施する場合、Y単調多角形分割処理工程(S300)は省略する。
In the above example, the X monotonic polygon division process (S200) and the Y monotonic polygon division process step (S300) are performed separately, but this is not the only option. If a Y monotonic polygon is determined to be a Y monotonic polygon, the Y monotonic polygon may be rotated 90 degrees by the rotation process (S106) in FIG. 5 to become an X monotonic polygon, and the X monotonic polygon division process (S200) may be performed. In this case, after the division process, the divided multiple reference figures are all rotated -90 degrees to create
ここで、上述した例では、開始点を最下点、終了点を最上点として、描画データ1の座標系における+y方向に対して、y座標の小さい順にベース頂点を設定して、+y方向に向けて基準図形の抽出を行う場合を説明したが、これに限るものではない。例えば、開始点を最上点、終了点を最下点として、描画データ1の座標系における-y方向(第1の方向の他の一例)に対して、y座標の小さい順にベース頂点を設定して、-y方向に向けて基準図形の抽出を行う場合であっても好適である。-y方向に対してy座標の小さい順とは、+y方向に対してy座標の大きい順のことと同義である。
In the above example, the base vertex is set in ascending order of y coordinates in the +y direction in the coordinate system of the drawing
また、上述した例では、Y単調多角形の最下点から最上点まで順に基準図形を抽出する場合を説明したが、これに限るものではない。Y単調多角形の最下点と最上点の両側からy方向の中央部に向かってそれぞれ順に基準図形を抽出する場合であっても良い。 In the above example, the reference figures are extracted in order from the lowest point to the highest point of the Y monotone polygon, but this is not limited to the above. The reference figures may be extracted in order from both the lowest and highest points of the Y monotone polygon toward the center in the y direction.
凸多角形分割処理工程(S400)として、凸多角形分割処理部56は、判定の結果、当該多角形が凸多角形である場合に、凸多角形を予め設定された複数の基準図形のいずれかの形状で、複数の図形に分割し、分割された複数の図形について、基準図形の描画データ2を生成する。凸多角形分割処理では、凸多角形おけるx方向(或いはy方向)に最も手前側の頂点とx方向に最も離れた頂点とを結ぶ当該凸多角形を2分する中央線分を用いて凸多角形を分割する。以下、具体的に説明する。
In the convex polygon division processing step (S400), if the polygon is determined to be a convex polygon, the convex polygon
図19は、実施の形態1における凸多角形分割処理部の内部構成の一例を示すブロック図である。図19において、凸多角形分割処理部56内には、開始点/最離点特定部270、中央線分形成部272、ベース頂点設定部274、線分形成部276、交点算出部278、図形抽出部280、図形抽出部281、隣接点特定部282、判定部283、判定部284、及び図形抽出部286が配置される。開始点/最離点特定部270、中央線分形成部272、ベース頂点設定部274、線分形成部276、交点算出部278、図形抽出部280、図形抽出部281、隣接点特定部282、判定部283、判定部284、及び図形抽出部286といった各「~部」は、処理回路を有する。かかる処理回路は、例えば、電気回路、コンピュータ、プロセッサ、回路基板、量子回路、或いは、半導体装置を含む。各「~部」は、共通する処理回路(同じ処理回路)を用いても良いし、或いは異なる処理回路(別々の処理回路)を用いても良い。開始点/最離点特定部270、中央線分形成部272、ベース頂点設定部274、線分形成部276、交点算出部278、図形抽出部280、図形抽出部281、隣接点特定部282、判定部283、判定部284、及び図形抽出部286に入出力される情報および演算中の情報はメモリ112にその都度格納される。
19 is a block diagram showing an example of the internal configuration of the convex polygon division processing unit in the first embodiment. In FIG. 19, the convex polygon
図20は、実施の形態1における凸多角形分割処理工程の内部工程の一例を示すフローチャート図である。図20において、実施の形態1における凸多角形分割処理工程(S400)は、開始点/最離点特定工程(S401)と、中央線分形成工程(S402)と、ベース頂点設定工程(S404)と、判定工程(S408)と、線分形成工程(S410)と、交点算出工程(S412)と、図形抽出工程(S414)と、図形抽出工程(S416)と、隣接点特定工程(S420)と、判定工程(S422)と、最終図形抽出工程(S424)と、いう一連の工程を実施する。 Figure 20 is a flow chart showing an example of the internal steps of the convex polygon division processing step in the first embodiment. In Figure 20, the convex polygon division processing step (S400) in the first embodiment performs a series of steps including a start point/farthest point identification step (S401), a central line segment formation step (S402), a base vertex setting step (S404), a judgment step (S408), a line segment formation step (S410), an intersection calculation step (S412), a figure extraction step (S414), a figure extraction step (S416), an adjacent point identification step (S420), a judgment step (S422), and a final figure extraction step (S424).
判定工程(S100)における判定の結果、当該多角形が凸多角形である場合に、図20の各工程による処理が実施される。 If the result of the determination in the determination step (S100) is that the polygon is a convex polygon, the processing in each step of Figure 20 is carried out.
開始点/最離点特定工程(S401)として、開始点/最離点特定部270は、例えばメモリ112(記憶装置)に記憶された、各頂点の座標が図形を構成する順に定義された凸多角形の描画データを読み出し、凸多角形を例えばx方向(第1の方向の一例)に引かれた線分に射影して最も離れた2頂点を特定する。言い換えれば、開始点/最離点特定部270は、例えばメモリ112(記憶装置)に記憶された、各頂点の座標が図形を構成する順に定義された凸多角形の描画データ1を読み出し、凸多角形における例えばx方向(第1の方向の一例)に最も手前側の最左点(開始点)となる頂点と例えばx方向に最も離れた最右点(最離点)となる頂点とを特定する。描画データ1に定義された各頂点のx座標の最も小さい頂点を最左点、最も大きい頂点を最右点として特定すればよい。
As the start point/furthest point identification step (S401), the start point/furthest
図21は、実施の形態1における凸多角形の分割手法の一例を説明するための図である。図21では、例えば、頂点0~9の10角形の凸多角形が示されている。図21の例では、頂点0が最左点となり、頂点5が最右点となる。
Figure 21 is a diagram for explaining an example of a convex polygon division method in
中央線分形成工程(S402)として、中央線分形成部272は、特定された最も離れた2頂点を結ぶ凸多角形を2分する中央線分を形成する。言い換えれば、中央線分形成部272は、x方向に最も手前側の最左点の頂点と、この最左点の頂点からx方向に最も離れた最右点の頂点とを結ぶ当該凸多角形を2分する中央線分を形成する。図21の例では、頂点0と頂点5とを結ぶ中央線分を形成する。
As the central line segment forming step (S402), the central line
ベース頂点設定工程(S404)として、ベース頂点設定部274は、第n回目のベース頂点設定処理として、第n-1回目のベース頂点設定処理でベース頂点に設定された頂点の次点をベース頂点に設定する。或いは、第n-1回目のベース頂点設定処理でベース頂点に設定された頂点が無い場合には最左点の次点をベース頂点に設定する。第1回目のベース頂点設定処理では、第n-1回目のベース頂点設定処理でベース頂点に設定された頂点が無いので、ベース頂点設定部274は、x方向の最も手前側の最左点の頂点0の次の頂点となる頂点1をベース頂点に設定する。言い換えれば、ベース頂点設定部274は、x方向の最も手前側の最左点の頂点0を起点にして、描画データ1に定義された凸多角形(図形)を構成する各頂点0~9の座標の順において起点に隣り合う1つ後側の頂点1をベース頂点として設定する。ここでは、描画データ1に各図形の頂点が右回りで図形を構成する順で定義される場合を示す。
In the base vertex setting step (S404), the base
判定工程(S408)として、判定部283は、第n回目の最離点判定処理として、設定されたベース頂点が最右点(最離点)かどうかを判定する。ベース頂点が最右点ではない場合には、線分形成工程(S410)に進む。ベース頂点が最右点である場合には、図形抽出工程(S416)に進む。第1回目の判定処理では、ベース頂点が頂点1なので、最右点となる頂点5ではないと判定する。
In the determination step (S408), the
線分形成工程(S410)として、線分形成部276は、第n回目の線分形成処理として、ベース頂点からx方向と直交するy方向(第2の方向の一例)と平行に中央線分まで延びる線分を形成する。第1回目の線分形成処理では、頂点1から中央線分までy方向と平行な線分を形成する。
As the line segment formation step (S410), the line
交点算出工程(S412)として、交点算出部278は、第n回目の交点算出処理として、ベース頂点からy方向と平行に延びる線分と中央線分との交点の座標を算出する。
As an intersection calculation step (S412), the
図形抽出工程(S414)として、図形抽出部280は、第n回目の基準図形抽出処理として、中央線分を用いて、凸多角形から予め設定された複数の基準図形のいずれかの基準図形を用いた複数の図形を抽出し、描画データ2を生成する。第n回目のベース頂点と第n-1回目のベース頂点を結ぶ線分と、第n回目のベース頂点から中央線分に延びるy方向線分と、第n-1回目のベース頂点から中央線分に延びるy方向線分と、第n回目のベース頂点から延びるy方向線分と中央線分との第n回目の交点と第n-1回目のベース頂点から延びるy方向線分と中央線分との第n-1回目の交点とを結ぶ中央線分の一部分と、で囲まれた図形を凸多角形から分割し、抽出する。或いは、第n-1回目のベース頂点から延びるy方向線分が無い場合には、第n回目のベース頂点と第n回目のベース頂点の1つ前の頂点を結ぶ線分と、第n回目のベース頂点から中央線分に延びるy方向線分と、第n回目のベース頂点の1つ前の頂点と第n回目のベース頂点から延びるy方向線分と中央線分との第n回目の交点を結ぶ中央線分の一部分と、で囲まれた図形を凸多角形から分割し、抽出する。第1回目の図形抽出処理では、第n-1回目のベース頂点が存在しないので、第1回目のベース頂点である頂点1と頂点1の1つ前の頂点0を結ぶ線分0-1と、頂点1から中央線分に延びるy方向線分と、頂点0と頂点1から延びるy方向線分と中央線分との交点を結ぶ中央線分の一部分と、で囲まれた三角形を凸多角形から分割し、抽出する。ここでは、頂点0の座標と頂点1の座標と頂点1から延びるy方向線分と中央線分との交点の座標とが例えば右回りで並ぶ描画データ2が生成される。生成された描画データ2は、記憶装置144に格納される。
As a figure extraction step (S414), the
図形抽出工程(S416)として、図形抽出部281は、第n回目の基準図形抽出処理の1つとして、ベース頂点が最右点である場合に、ベース頂点とベース頂点の1つの前の頂点とを結ぶ線分と、ベース頂点の1つの前の頂点から中央線分に延びるy方向線分と、かかるy方向線分と中央線分との交点と最右点とを結ぶ線分と、で囲まれた三角形を凸多角形から分割し、抽出する。そして、各頂点を右回りに配列した描画データ2を生成し、記憶装置144に格納する。
In the figure extraction step (S416), as one of the nth reference figure extraction processes, when the base vertex is the rightmost point, the
隣接点特定工程(S420)として、隣接点特定部282は、第n回目の隣接点特定処理として、ベース頂点に隣り合う次点の頂点を隣接点として特定する。第1回目の隣接点特定処理では、頂点2が隣接点となる。
In the adjacent point identification process (S420), the adjacent
判定工程(S422)として、判定部284は、第n回目の開始点判定処理として、特定された隣接点が開始点となる最左点かどうかを判定する。特定された隣接点が開始点となる最左点である場合、最終図形抽出工程(S424)に進む。特定された隣接点が開始点となる最左点では無い場合、ベース頂点設定工程(S404)に戻り、特定された隣接点が開始点となる最左点になるまで、ベース頂点設定工程(S404)から判定工程(S422)までの各工程を繰り返す。
In the determination step (S422), the
これにより、例えばx方向に対して最も離れた2頂点を除く残りの頂点を順にベース頂点として、ベース頂点毎に、当該ベース頂点から例えばx方向に直交するy方向(第2の方向)と平行な線分を、中央線分まで形成する。言い換えれば、最左点の頂点と最右点の頂点とを除く残りの頂点を順にベース頂点として、当該ベース頂点からx方向に直交するy方向と平行な線分を、中央線分まで形成する。そして、ベース頂点から延びるy方向線分と中央線分との交点の座標を算出する。
そして、y方向線分を1辺とする基準図形を抽出する。よって、抽出される複数の基準図形は、描画データの座標系におけるy方向に延びる辺を含む。
As a result, the remaining vertices, excluding the two vertices furthest from each other in the x direction, are sequentially set as base vertices, and for each base vertex, a line segment parallel to the y direction (second direction) perpendicular to the x direction is formed from the base vertex to the center line segment. In other words, the remaining vertices, excluding the leftmost vertex and the rightmost vertex, are sequentially set as base vertices, and a line segment parallel to the y direction perpendicular to the x direction is formed from the base vertex to the center line segment. Then, the coordinates of the intersection between the y direction line segment extending from the base vertex and the center line segment are calculated.
Then, a reference figure having a line segment in the y direction as one side is extracted. Therefore, the extracted reference figures each include a side extending in the y direction in the coordinate system of the drawing data.
例えば、第2回目の基準図形抽出処理では、頂点2から中央線分に延びるy方向線分と、頂点1から中央線分に延びるy方向線分と、頂点1と頂点2を結ぶ線分1-2と、頂点2から延びるy方向線分と中央線分との交点と頂点1から延びるy方向線分と中央線分との交点とを結ぶ線分と、で囲まれた台形を予め設定された複数の基準図形の1つとして抽出し、描画データ2を生成する。そして、第2目の隣接点特定処理では、ベース頂点である頂点2と隣り合う次点の頂点3を隣接点として特定する。以降、かかる動作を繰り返す。
For example, in the second reference figure extraction process, a trapezoid surrounded by a y-direction line segment extending from
例えば、第9回目の基準図形抽出処理では、頂点9から中央線分に延びるy方向線分と、頂点8から中央線分に延びるy方向線分と、頂点9と頂点8を結ぶ線分9-8と、頂点9から延びるy方向線分と中央線分との交点と頂点8から延びるy方向線分と中央線分との交点とを結ぶ線分と、で囲まれた台形を予め設定された複数の基準図形の1つとして抽出し、描画データ2を生成する。そして、第9目の隣接点特定処理では、ベース頂点である頂点0と隣り合う次点の頂点0を隣接点として特定する。頂点0は開始点なので、最終図形抽出工程(S424)に進む。
For example, in the ninth reference figure extraction process, a trapezoid surrounded by a y-direction line segment extending from
最終図形抽出工程(S424)として、図形抽出部286は、ベース頂点が最左点である場合に、ベース頂点とベース頂点の1つの前の頂点とを結ぶ線分と、ベース頂点の1つの前の頂点から中央線分に延びるy方向線分と、かかるy方向線分と中央線分との交点と最左点とを結ぶ線分と、で囲まれた三角形を凸多角形から分割し、抽出する。そして、各頂点を右回りに配列した描画データ2を生成し、記憶装置144に格納する。
In the final geometrical figure extraction step (S424), when the base vertex is the leftmost point, the geometrical
上述した例では、描画データの座標系における+x方向に対して最も手前側の頂点と最も離れた頂点とを特定したが、これに限るものではない。描画データの座標系における+x方向と-x方向との一方に対して最も手前側の頂点と同じ方向に最も離れた頂点とを特定すればよい。よって、描画データの座標系における+x方向と-x方向との一方に対して最も手前側の頂点と同じ方向に最も離れた頂点とのうちの一方と他方とになる最左点と最右点とを結ぶことにより中央線分が形成される。 In the above example, the frontmost vertex and the farthest vertex in the +x direction in the coordinate system of the drawing data were identified, but this is not limiting. It is sufficient to identify the farthest vertex in the same direction as the frontmost vertex in either the +x direction or the -x direction in the coordinate system of the drawing data. Therefore, the central line segment is formed by connecting the leftmost point and the rightmost point that are one and the other of the vertices that are the farthest in the same direction as the frontmost vertex in either the +x direction or the -x direction in the coordinate system of the drawing data.
上述した例では、描画データの座標系における+x方向と-x方向との一方に対して最も手前側の頂点と同じ方向に最も離れた頂点とのうちの一方と他方とになる最左点と最右点とを結ぶことにより中央線分が形成される場合を説明したが、これに限るものではない。描画データの座標系における+y方向と-y方向との一方に対して最も手前側の頂点と同じ方向に対して最も離れた頂点とのうちの一方と他方になる最下点と最上点とを結ぶことにより中央線分が形成される場合であっても良い。例えば、描画データの座標系におけるy方向に最も手前側の頂点となる最下点と、この最下点から+y方向に最も離れた頂点となる最上点とを結ぶことにより中央線分が形成される場合について説明する。以下、具体的に説明する。 In the above example, a case was described in which the central line segment is formed by connecting the leftmost point and the rightmost point, which are one of the vertices that are the furthest in the same direction as the frontmost vertex in either the +x direction or the -x direction in the coordinate system of the drawing data, to the other, but this is not limited to this. The central line segment may also be formed by connecting the lowest point and the highest point, which are one of the vertices that are the furthest in the same direction as the frontmost vertex in either the +y direction or the -y direction in the coordinate system of the drawing data, to the other, to the other. For example, a case will be described in which the central line segment is formed by connecting the lowest point, which is the vertex that is the frontmost in the y direction in the coordinate system of the drawing data, to the highest point, which is the vertex that is the furthest from this lowest point in the +y direction. A specific explanation will be given below.
かかる場合、開始点/最離点特定工程(S401)として、開始点/最離点特定部270は、例えばメモリ112(記憶装置)に記憶された、各頂点の座標が図形を構成する順に定義された凸多角形の描画データ1を読み出し、凸多角形における例えばy方向(第1の方向の他の一例)に最も手前側の最下点(開始点)となる頂点と例えばy方向に最も離れた最上点(最離点)となる頂点とを特定する。描画データ1に定義された各頂点のy座標の最も小さい頂点を最左点、最も大きい頂点を最右点として特定すればよい。
なお、ここでは、下から上に向かう方向をy方向にしているが、上から下に向かう方向をy方向としても構わない。かかる場合、開始点が最上点となり、最離点が最下点になればよい。
In this case, as a start point/furthest point identification step (S401), the start point/furthest
In this example, the y direction is from bottom to top, but the y direction may be from top to bottom. In this case, the starting point is the uppermost point, and the farthest point is the lowermost point.
図22は、実施の形態1における凸多角形の分割手法の他の一例を説明するための図である。図22では、例えば、頂点0~9の10角形の凸多角形が示されている。図22の例では、頂点0が最下点となり、頂点5が最上点となる。
Figure 22 is a diagram illustrating another example of a convex polygon division method in
中央線分形成工程(S402)として、中央線分形成部272は、y方向に最も手前側の最下点の頂点と、この最下点の頂点からy方向に最も離れた最離点の頂点とを結ぶ当該凸多角形を2分する中央線分を形成する。図22の例では、頂点0と頂点5とを結ぶ中央線分を形成する。
In the central line segment forming step (S402), the central line
ベース頂点設定工程(S404)として、ベース頂点設定部274は、第n回目のベース頂点設定処理として、第n-1回目のベース頂点設定処理でベース頂点に設定された頂点の次点をベース頂点に設定する。或いは、第n-1回目のベース頂点設定処理でベース頂点に設定された頂点が無い場合には最左点の次点をベース頂点に設定する。第1回目のベース頂点設定処理では、第n-1回目のベース頂点設定処理でベース頂点に設定された頂点が無いので、ベース頂点設定部274は、y方向の最も手前側の最下点の頂点0の次の頂点となる頂点1をベース頂点に設定する。言い換えれば、ベース頂点設定部274は、y方向の最も手前側の最下点の頂点0を起点にして、描画データ1に定義された凸多角形(図形)を構成する各頂点0~9の座標の順において起点に隣り合う1つ後側の頂点1をベース頂点として設定する。ここでは、描画データ1に各図形の頂点が右回りで図形を構成する順で定義される場合を示す。
In the base vertex setting step (S404), the base
判定工程(S408)として、判定部283は、第n回目の最離点判定処理として、設定されたベース頂点が最上点(最離点)かどうかを判定する。ベース頂点が最上点ではない場合には、線分形成工程(S410)に進む。ベース頂点が最上点である場合には、図形抽出工程(S416)に進む。第1回目の判定処理では、ベース頂点が頂点1なので、最上点となる頂点5ではないと判定する。
In the determination step (S408), the
線分形成工程(S410)として、線分形成部276は、第n回目の線分形成処理として、ベース頂点からy方向と直交するx方向(第2の方向の一例)と平行に中央線分まで延びる線分を形成する。第1回目の線分形成処理では、頂点1から中央線分までx方向と平行な線分を形成する。
As the line segment formation step (S410), the line
交点算出工程(S412)として、交点算出部278は、第n回目の交点算出処理として、ベース頂点からx方向と平行に延びる線分と中央線分との交点の座標を算出する。
As an intersection calculation step (S412), the
図形抽出工程(S414)として、図形抽出部280は、第n回目の基準図形抽出処理として、中央線分を用いて、凸多角形から予め設定された複数の基準図形のいずれかの基準図形を用いた複数の図形を抽出し、描画データ2を生成する。第n回目のベース頂点と第n-1回目のベース頂点を結ぶ線分と、第n回目のベース頂点から中央線分に延びるx方向線分と、第n-1回目のベース頂点から中央線分に延びるx方向線分と、第n回目のベース頂点から延びるx方向線分と中央線分との第n回目の交点と第n-1回目のベース頂点から延びるx方向線分と中央線分との第n-1回目の交点とを結ぶ中央線分の一部分と、で囲まれた図形を凸多角形から分割し、抽出する。或いは、第n-1回目のベース頂点から延びるx方向線分が無い場合には、第n回目のベース頂点と第n回目のベース頂点の1つ前の頂点を結ぶ線分と、第n回目のベース頂点から中央線分に延びるx方向線分と、第n回目のベース頂点の1つ前の頂点と第n回目のベース頂点から延びるx方向線分と中央線分との第n回目の交点を結ぶ中央線分の一部分と、で囲まれた図形を凸多角形から分割し、抽出する。第1回目の図形抽出処理では、第n-1回目のベース頂点が存在しないので、第1回目のベース頂点である頂点1と頂点1の1つ前の頂点0を結ぶ線分0-1と、頂点1から中央線分に延びるx方向線分と、頂点0と頂点1から延びるx方向線分と中央線分との交点を結ぶ中央線分の一部分と、で囲まれた三角形を凸多角形から分割し、抽出する。ここでは、頂点0の座標と頂点1の座標と頂点1から延びるx方向線分と中央線分との交点の座標とが例えば右回りで並ぶ描画データ2が生成される。生成された描画データ2は、記憶装置144に格納される。
As a figure extraction step (S414), the
図形抽出工程(S416)として、図形抽出部281は、第n回目の基準図形抽出処理の1つとして、ベース頂点が最上点である場合に、ベース頂点とベース頂点の1つの前の頂点とを結ぶ線分と、ベース頂点の1つの前の頂点から中央線分に延びるx方向線分と、かかるx方向線分と中央線分との交点と最上点とを結ぶ線分と、で囲まれた三角形を凸多角形から分割し、抽出する。そして、各頂点を右回りに配列した描画データ2を生成し、記憶装置144に格納する。
In the figure extraction step (S416), as one of the nth reference figure extraction processes, when the base vertex is the uppermost point, the
隣接点特定工程(S420)として、隣接点特定部282は、第n回目の隣接点特定処理として、ベース頂点に隣り合う次点の頂点を隣接点として特定する。第1回目の隣接点特定処理では、頂点2が隣接点となる。
In the adjacent point identification process (S420), the adjacent
判定工程(S422)として、判定部284は、第n回目の開始点判定処理として、特定された隣接点が開始点となる最下点かどうかを判定する。特定された隣接点が開始点となる最下点である場合、最終図形抽出工程(S424)に進む。特定された隣接点が開始点となる最下点では無い場合、ベース頂点設定工程(S404)に戻り、特定された隣接点が開始点となる最下点になるまで、ベース頂点設定工程(S404)から判定工程(S422)までの各工程を繰り返す。
In the determination step (S422), the
これにより、最下点の頂点と最上点の頂点とを除く残りの頂点を順にベース頂点として、当該ベース頂点からy方向に直交するx方向と平行な線分を、中央線分まで線分を形成する。そして、ベース頂点から延びるx方向線分と中央線分との交点の座標を算出する。
そして、x方向線分を1辺とする基準図形を抽出する。よって、抽出される複数の基準図形は、描画データの座標系におけるx方向に延びる辺を含む。
As a result, the remaining vertices except for the lowest vertex and the highest vertex are set as base vertices in order, and line segments parallel to the x direction and perpendicular to the y direction are formed from the base vertices to the center line segment. Then, the coordinates of the intersection of the x direction line segment extending from the base vertex and the center line segment are calculated.
Then, a reference figure having a line segment in the x direction as one side is extracted. Therefore, the extracted reference figures each include a side extending in the x direction in the coordinate system of the drawing data.
例えば、第2回目の基準図形抽出処理では、頂点2から中央線分に延びるx方向線分と、頂点1から中央線分に延びるx方向線分と、頂点1と頂点2を結ぶ線分1-2と、頂点2から延びるx方向線分と中央線分との交点と頂点1から延びるx方向線分と中央線分との交点とを結ぶ線分と、で囲まれた台形を予め設定された複数の基準図形の1つとして抽出し、描画データ2を生成する。そして、第2目の隣接点特定処理では、ベース頂点である頂点2と隣り合う次点の頂点3を隣接点として特定する。以降、かかる動作を繰り返す。
For example, in the second reference figure extraction process, a trapezoid surrounded by an x-direction line segment extending from
例えば、第9回目の基準図形抽出処理では、頂点9から中央線分に延びるx方向線分と、頂点8から中央線分に延びるx方向線分と、頂点9と頂点8を結ぶ線分9-8と、頂点9から延びるx方向線分と中央線分との交点と頂点8から延びるx方向線分と中央線分との交点とを結ぶ線分と、で囲まれた台形を予め設定された複数の基準図形の1つとして抽出し、描画データ2を生成する。そして、第9目の隣接点特定処理では、ベース頂点である頂点0と隣り合う次点の頂点0を隣接点として特定する。頂点0は開始点なので、最終図形抽出工程(S424)に進む。
For example, in the ninth reference figure extraction process, a trapezoid surrounded by an x-direction line segment extending from
最終図形抽出工程(S424)として、図形抽出部286は、ベース頂点が最下点である場合に、ベース頂点とベース頂点の1つの前の頂点とを結ぶ線分と、ベース頂点の1つの前の頂点から中央線分に延びるx方向線分と、かかるx方向線分と中央線分との交点と最下点とを結ぶ線分と、で囲まれた三角形を凸多角形から分割し、抽出する。そして、各頂点を右回りに配列した描画データ2を生成し、記憶装置144に格納する。
In the final figure extraction step (S424), when the base vertex is the lowest point, the
凸多角形分割処理工程(S400)によれば、凸多角形の開始点から最離点に向かって及び中央線分を挟んで反対側の各頂点について最離点から開始点に向かって順にベース頂点をずらしていくので、頂点リストの作成及び頂点ソート処理を不要にできる。また、ベース頂点からy方向(或いはx方向)に延びる線分と交差する辺は、中央線分になるので、線分リストの作成及び線分ソート処理を不要にできる。さらに、凸多角形の場合、対辺は中央線分だけなので対辺を求める回数が1回で済む。よって、凸多角形を分割する処理時間を一般多角形分割処理(S110)の手法で行う場合に比べて大幅に短縮できる。一般多角形分割処理(S110)の手法では、頂点数がn個の場合に、計算量が一般にO(n)より大きくなるのに対して、凸多角形分割処理工程(S400)によれば、計算量がO(n)に低減できる。 According to the convex polygon division processing step (S400), the base vertex is shifted from the start point of the convex polygon toward the farthest point and from the farthest point toward the start point for each vertex on the opposite side of the central line segment, so that the creation of a vertex list and the vertex sorting process are unnecessary. In addition, the side that intersects with the line segment extending from the base vertex in the y direction (or x direction) becomes the central line segment, so that the creation of a line segment list and the line segment sorting process are unnecessary. Furthermore, in the case of a convex polygon, the opposite side is only the central line segment, so the opposite side needs to be found only once. Therefore, the processing time for dividing a convex polygon can be significantly reduced compared to the case where the general polygon division processing method (S110) is used. In the general polygon division processing method (S110), when the number of vertices is n, the amount of calculation is generally larger than O(n), whereas the convex polygon division processing step (S400) can reduce the amount of calculation to O(n).
また、上述した例では、凸多角形の開始点から最離点に向かって及び中央線分を挟んで反対側の各頂点について最離点から開始点に向かって順に基準図形を抽出する場合を説明したが、これに限るものではない。凸多角形の開始点と最離点の両側から開始点と最離点とを特定した方向の中央部に向かってそれぞれ順に基準図形を抽出する場合であっても良い。或いは、中央線分を挟んで両側の各頂点について、同じ方向に向かって順にベース頂点をずらしても良い。 In the above example, the reference figures are extracted in sequence from the start point of the convex polygon toward the farthest point, and from the farthest point toward the start point for each vertex on the opposite side of the central line segment, but this is not limited to the above. Reference figures may also be extracted in sequence from both the start point and the farthest point of the convex polygon toward the center in the direction in which the start point and the farthest point are identified. Alternatively, the base vertices may be shifted in sequence in the same direction for each vertex on both sides of the central line segment.
後述するショットデータ生成を行う際に、ラスタライズ処理(ピクセルデータへの変換処理)を行う。かかるラスタライズ処理にて、1つの画素ラインで階調値が存在する画素の始点と終点とを定める際、入力図形が複雑だと処理も複雑となる。そのため、実施の形態1では、多角形を基準図形へと分割してから処理する。この場合に、できるだけ斜め線が少ない図形の方が処理を効率的にできる。実施の形態1では、x方向或いはy方向に延びる線分が図形の少なくとも1辺を構成するため、ショットデータ生成処理を効率的に進めることができる。 When generating shot data, which will be described later, a rasterization process (conversion to pixel data) is performed. In this rasterization process, when determining the start and end points of pixels with gradation values on one pixel line, if the input figure is complex, the process also becomes complex. For this reason, in the first embodiment, the polygon is divided into reference figures before processing. In this case, a figure with as few diagonal lines as possible can be processed more efficiently. In the first embodiment, a line segment extending in the x or y direction constitutes at least one side of the figure, so the shot data generation process can be carried out efficiently.
以上のように、多角形を含む描画データ1を基準図形に分割した描画データ2を用いて、描画処理を行う。
As described above, drawing processing is performed using
図23は、実施の形態1における描画動作の一例を説明するための概念図である。図23に示すように、試料101の描画領域30(太線)は、アライメントマーク14の位置を基準に位置が定義される。
描画領域30(太線)は、例えば、y方向に向かって所定の幅で短冊状の複数のストライプ領域32に仮想分割される。図23の例では、試料101の描画領域30が、例えばy方向に、1回のマルチビーム20の照射で照射可能な設計上の照射領域34(描画フィールド)のサイズと実質同じ幅サイズで複数のストライプ領域32に分割された場合を示している。設計上のマルチビーム20の照射領域34のx方向のサイズは、x方向のビーム数×x方向のビーム間ピッチで定義できる。矩形の照射領域34のy方向のサイズは、y方向のビーム数×y方向のビーム間ピッチで定義できる。
23 is a conceptual diagram for explaining an example of the writing operation in the
The writing area 30 (bold line) is virtually divided into a plurality of
まず、XYステージ105を移動させて、第1番目のストライプ領域32の左端、或いはさらに左側の位置にマルチビーム20の照射領域34が位置するように調整し、第1番目のストライプ領域32の描画が行われる。第1番目のストライプ領域32を描画する際には、XYステージ105を例えば-x方向に移動させることにより、相対的にx方向へと描画を進めていく。XYステージ105は例えば等速で連続移動させる。第1番目のストライプ領域32の描画終了後、ステージ位置を-y方向にストライプ領域32の幅のサイズだけ移動させる。
First, the
そして、次に、第2番目のストライプ領域32の左端、或いはさらに左側の位置にマルチビーム20の照射領域34が位置するように調整し、XYステージ105を例えば-x方向に移動させることにより、相対的にx方向へと描画を進めていくことにより、第2番目のストライプ領域32の描画が行われる。
Then, the
また、図23の例では、同じ方向に向かって各ストライプ領域32の描画を進める場合を示したが、これに限るものではない。例えば、x方向へと描画を進めたストライプ領域32の次に描画するストライプ領域32については、XYステージ105を例えばx方向に移動させることにより、-x方向に向かって描画を行う場合であっても構わない。このように交互に向きを変えながら描画することでステージ移動時間を短くでき、ひいては描画時間を短縮できる。1回のショットでは、成形アパーチャアレイ基板203の各穴22を通過することによって形成されたマルチビーム20によって、最大で各穴22と同数の複数のショットパターンが一度に形成される。
In the example of FIG. 23, the drawing of each
また、図23の例では、各ストライプ領域の描画処理のためのステージ移動を1回ずつ行う場合を示したが、これに限るものではない。同じ位置上を複数回ステージが移動するように多重描画を行っても好適である。その場合には、例えば、y方向にストライプ領域の幅の1/nのサイズのずらし量でずらしながら多重描画を行うと好適である。 In the example of FIG. 23, the stage is moved once for the drawing process of each stripe region, but this is not limited to the above. It is also preferable to perform multiple drawing by moving the stage multiple times over the same position. In this case, it is preferable to perform multiple drawing while shifting the stage in the y direction by an amount that is 1/n of the width of the stripe region, for example.
図24は、実施の形態1におけるマルチビームの照射領域と描画対象画素との一例を示す図である。図24において、ストライプ領域32は、例えば、マルチビーム20のビームサイズでメッシュ状の複数のメッシュ領域に分割される。かかる各メッシュ領域が、描画対象の画素36(単位照射領域、照射位置、或いは描画位置)となる。描画対象画素36のサイズは、ビームサイズに限定されるものではなく、ビームサイズとは関係なく任意の大きさで構成されるものでも構わない。例えば、ビームサイズの1/n(nは1以上の整数)のサイズで構成されても構わない。図24の例では、試料101の描画領域が、例えばy方向に、1回のマルチビーム20の照射で照射可能な照射領域34(描画フィールド)のサイズと実質同じ幅サイズで複数のストライプ領域32に分割された場合を示している。矩形の照射領域34のx方向のサイズは、x方向のビーム数×x方向のビーム間ピッチで定義できる。矩形の照射領域34のy方向のサイズは、y方向のビーム数×y方向のビーム間ピッチで定義できる。図24の例では、例えば512×512列のマルチビームの図示を8×8列のマルチビームに省略して示している。そして、照射領域34内に、1回のマルチビーム20のショットで照射可能な複数の画素28(ビームの描画位置)が示されている。隣り合う画素28間のピッチがマルチビームの各ビーム間のピッチとなる。x,y方向にビームピッチのサイズで囲まれた矩形の領域で1つのサブ照射領域29(ピッチセル)を構成する。図24の例では、各サブ照射領域29は、例えば4×4画素で構成される場合を示している。
24 is a diagram showing an example of the irradiation area of the multibeam and the pixel to be drawn in the first embodiment. In FIG. 24, the
ショットデータ生成工程として、まず、ショットデータ生成部70は、画素36毎にショットデータを生成する。具体的には、以下のように動作する。まず、ショットデータ生成部70は、記憶装置144から描画データ2を読み出し、画素36毎に、当該画素36内のパターン面積密度ρ’を演算する。かかる処理は、ラスタライズ処理に相当し、例えば、ストライプ領域32毎に実行する。
As a shot data generation process, first, the shot data generation unit 70 generates shot data for each
次に、ショットデータ生成部70は、まず、描画領域(ここでは、例えばストライプ領域32)を所定のサイズでメッシュ状に複数の近接メッシュ領域(近接効果補正計算用メッシュ領域)に仮想分割する。近接メッシュ領域のサイズは、近接効果の影響範囲の1/10程度、例えば、1μm程度に設定すると好適である。ショットデータ生成部70は、記憶装置144から描画データ2を読み出し、近接メッシュ領域毎に、当該近接メッシュ領域内に配置されるパターンのパターン面積密度ρ″を演算する。
Next, the shot data generation unit 70 first virtually divides the drawing area (here, for example, the stripe area 32) into a plurality of proximity mesh areas (mesh areas for calculating proximity effect correction) of a predetermined size in a mesh shape. The size of the proximity mesh area is preferably set to about 1/10 of the range of influence of the proximity effect, for example, about 1 μm. The shot data generation unit 70 reads the
次に、ショットデータ生成部70は、近接メッシュ領域毎に、近接効果を補正するための近接効果補正照射係数Dp(x)(補正照射量)を演算する。未知の近接効果補正照射係数Dp(x)は、後方散乱係数η、しきい値モデルの照射量閾値Dth、パターン面積密度ρ″、及び分布関数g(x)を用いた、従来手法と同様の近接効果補正用のしきい値モデルによって定義できる。 Next, the shot data generation unit 70 calculates a proximity effect correction irradiation coefficient Dp(x) (corrected dose) for correcting the proximity effect for each proximity mesh region. The unknown proximity effect correction irradiation coefficient Dp(x) can be defined by a threshold model for proximity effect correction similar to the conventional method, using the backscattering coefficient η, the dose threshold Dth of the threshold model, the pattern area density ρ", and the distribution function g(x).
次に、ショットデータ生成部70は、画素36毎に、当該画素36に照射するための入射照射量D(x)(ドーズ量)を演算する。入射照射量D(x)は、例えば、基準照射量Dbaseに近接効果補正照射係数Dpとパターン面積密度ρ’とを乗じた値として演算すればよい。基準照射量Dbaseは、例えば、Dth/(1/2+η)で定義できる。以上により、描画データに定義される複数の図形パターンのレイアウトに基づいた、近接効果が補正された画素36毎の入射照射量D(x)を得ることができる。
Next, the shot data generation unit 70 calculates the incident irradiation amount D(x) (dose amount) for irradiating each
次に、ショットデータ生成部70は、画素36毎の照射時間を算出する。画素36毎の照射時間は、当該画素の入射照射量D(x)を電流密度Jで割ることで算出できる。
Next, the shot data generation unit 70 calculates the irradiation time for each
データ加工工程として、データ加工部72は、得られた画素36毎の照射時間データをショット順に並び変えて、記憶装置142に格納する。転送処理部74は、ショット順に照射時間データを偏向制御回路130に転送する。
As a data processing step, the
描画工程として、描画制御部76による制御のもと、描画機構150は、XYステージ105を移動しながら、マルチビーム20を用いてXYステージ105上の試料101にパターンを描画する。マルチビーム描画では、描画処理を行いながら並行して後に描画処理を行う領域のショットデータを生成する。例えば、k番目のストライプ領域32の描画を行いながら、k+2番目のストライプ領域32用のショットデータを並行して生成する。かかる動作を繰り返しながら、全ストライプ領域32の描画を実施する。
In the drawing process, under the control of the
図25は、実施の形態1におけるマルチビーム描画動作の一例を説明するための図である。図25の例では、マルチビーム20のそれぞれ1つのビーム照射位置を含みビーム間ピッチで囲まれた各サブ照射領域29内を4つの異なるビームで描画する場合を示している。また、図25の例では、各サブ照射領域29内の1/4(照射に用いられるビーム本数分の1)の領域を描画する間に、XYステージ105が、例えば2ビームピッチ分の距離だけ移動する速度で、連続移動する描画動作を示している。図25の例では、各サブ照射領域29が例えば4×4画素で構成される場合を示している。
Figure 25 is a diagram for explaining an example of a multi-beam drawing operation in
図25の例に示す描画動作では、例えば、XYステージ105がx方向に2ビームピッチ分の距離を移動する間に偏向器209によって順に照射位置(画素36)をシフトさせながらショットサイクルTでマルチビーム20を4ショットすることにより同じサブ照射領域29内の異なる4つの画素36を描画(露光)する。かかる4つの画素36を描画(露光)する間、照射領域34がXYステージ105の移動によって試料101との相対位置がずれないように、偏向器208によってマルチビーム20全体を一括偏向することによって、照射領域34をXYステージ105の移動に追従させる。言い換えれば、トラッキング制御が行われる。1回のトラッキングサイクルが終了するとトラッキングリセットして、前回のトラッキング開始位置に戻る。なお、各サブ照射領域29の左から1番目の画素列の描画は終了しているので、トラッキングリセットした後に、次回のトラッキングサイクルにおいてまず偏向器209は、各サブ照射領域29のまだ描画されていない例えば左から2番目の画素列を描画するように1番目の画素列とは異なるビームの描画位置を合わせる(シフトする)ように偏向する。ストライプ領域32の描画中、かかる動作を繰り返すことで、図23の下図に示すように、順次マルチビーム20の照射領域34(34a~34o)の位置が移動していき、描画を行っていく。
In the drawing operation shown in the example of FIG. 25, for example, while the
以上のように、実施の形態1によれば、多角形を基準図形に分割する分割処理に要する時間の短縮ができる。よって、描画時間を短縮できる。 As described above, according to the first embodiment, the time required for the division process to divide a polygon into reference shapes can be reduced. This reduces the drawing time.
以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。
また、実施の形態1で説明した処理をコンピュータに実行させるようにしても構わない。そして、かかる処理をコンピュータに実行させるためのプログラムが、例えば、磁気ディスク装置等の一時的でない有形の読み取り可能な記録媒体に格納されても良い。
Although the embodiments have been described above with reference to specific examples, the present invention is not limited to these specific examples.
Furthermore, the processing described in the first embodiment may be executed by a computer. A program for causing a computer to execute such processing may be stored in a non-transitory, tangible, readable recording medium, such as a magnetic disk device.
また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、描画装置100を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。
In addition, although the description of the device configuration, control method, and other parts that are not directly necessary for the explanation of the present invention have been omitted, the required device configuration and control method can be appropriately selected and used. For example, although the description of the control unit configuration that controls the
その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての描画データ生成方法、描画データ生成装置、荷電粒子ビーム描画装置、及びプログラムは、本発明の範囲に包含される。 All other drawing data generation methods, drawing data generation devices, charged particle beam drawing devices, and programs that incorporate the elements of the present invention and that can be modified as appropriate by a person skilled in the art are included within the scope of the present invention.
20 マルチビーム
22 穴
24 制御電極
25 通過孔
26 対向電極
29 サブ照射領域
30 描画領域
31 ブランキングアパーチャアレイ基板
32 ストライプ領域
34 照射領域
36 画素
41 制御回路
50 形状判定処理部
52 X単調多角形分割処理部
54 Y単調多角形分割処理部
56 凸多角形分割処理部
57 一般多角形分割処理部
60 頂点リスト作成部
61 線分リスト作成部
62 頂点ソート処理部
63 線分ソート処理部
64 直線形成部
65 交点算出部
66 図形抽出部
70 ショットデータ生成部
72 データ加工部
74 転送処理部
76 描画制御部
80 分割処理部
100 描画装置
101 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
110 制御計算機
112 メモリ
130 偏向制御回路
132,134 DACアンプユニット
136 レンズ制御回路
138 ステージ制御機構
139 ステージ位置測定器
140,142 記憶装置
150 描画機構
160 制御系回路
170 開始点/最終点特定部
171 前点/次点設定部
172 座標比較部
173 座標比較部
174 ベース頂点設定部
175 対向頂点設定部
176 線分形成部
178 交点算出部
180 図形抽出部
181 図形抽出部
182 隣接点特定部
184 判定部
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203 成形アパーチャアレイ基板
204 ブランキングアパーチャアレイ機構
205 縮小レンズ
206 制限アパーチャ基板
207 対物レンズ
208 偏向器
209 偏向器
210 ミラー
270 開始点/最離点特定部
272 中央線分形成部
274 ベース頂点設定部
276 線分形成部
278 交点算出部
280 図形抽出部
281 図形抽出部
282 隣接点特定部
283 判定部
284 判定部
286 図形抽出部
330 メンブレン領域
20 Multi-beam 22 Hole 24 Control electrode 25 Passage hole 26 Counter electrode 29 Sub-irradiation area 30 Drawing area 31 Blanking aperture array substrate 32 Stripe area 34 Irradiation area 36 Pixel 41 Control circuit 50 Shape determination processing unit 52 X-monotonic polygon division processing unit 54 Y-monotonic polygon division processing unit 56 Convex polygon division processing unit 57 General polygon division processing unit 60 Vertex list creation unit 61 Line segment list creation unit 62 Vertex sorting processing unit 63 Line segment sorting processing unit 64 Straight line formation unit 65 Intersection calculation unit 66 Figure extraction unit 70 Shot data generation unit 72 Data processing unit 74 Transfer processing unit 76 Drawing control unit 80 Division processing unit 100 Drawing device 101 Sample 102 Electron lens column 103 Drawing chamber 105 XY stage 110 Control computer 112 Memory 130 Deflection control circuits 132, 134 DAC amplifier unit 136 Lens control circuit 138 Stage control mechanism 139 Stage position measurement device 140, 142 Memory device 150 Drawing mechanism 160 Control system circuit 170 Start point/final point identification unit 171 Previous point/next point setting unit 172 Coordinate comparison unit 173 Coordinate comparison unit 174 Base vertex setting unit 175 Opposite vertex setting unit 176 Line segment formation unit 178 Intersection calculation unit 180 Figure extraction unit 181 Figure extraction unit 182 Adjacent point identification unit 184 Determination unit 200 Electron beam 201 Electron gun 202 Illumination lens 203 Shaping aperture array substrate 204 Blanking aperture array mechanism 205 Reduction lens 206 Limiting aperture substrate 207 Objective lens 208 Deflector 209 Deflector 210 Mirror 270 Start point/farthest point identification unit 272 Central line segment forming section 274 Base vertex setting section 276 Line segment forming section 278 Intersection calculation section 280 Figure extraction section 281 Figure extraction section 282 Adjacent point identification section 283 Determination section 284 Determination section 286 Figure extraction section 330 Membrane region
Claims (8)
前記最も離れた2頂点を結ぶ前記凸多角形を2分する中央線分を形成する工程と、
前記中央線分を用いて、前記凸多角形から予め設定された複数の基準図形のいずれかの基準図形を用いた複数の図形を抽出し、描画データを生成する工程と、
を備えた描画データ生成方法。 A step of reading out rendering data of a convex polygon, the rendering data being stored in a storage device and defined in the order in which the coordinates of the vertices form a figure, and projecting the convex polygon onto a line segment drawn in a first direction to identify two vertices that are most distant from each other;
forming a median line segment that bisects the convex polygon connecting the two most distant vertices;
extracting a plurality of figures using any one of a plurality of preset reference figures from the convex polygon using the central line segment, and generating drawing data;
A drawing data generating method comprising:
前記ベース頂点毎に、当該ベース頂点から延びる前記線分と前記中央線分との交点の座標を算出する工程と、
をさらに備えた請求項1記載の描画データ生成方法。 a step of sequentially setting the remaining vertices, except for the two vertices that are the furthest from each other in the first direction, as base vertices, and forming, for each base vertex, a line segment that is parallel to a second direction perpendicular to the first direction from the base vertex to the central line segment;
calculating, for each of the base vertices, coordinates of an intersection between the line segment extending from the base vertex and the center line segment;
2. The drawing data generating method according to claim 1, further comprising:
前記記憶装置から前記複数の多角形の描画データを読み出し、多角形毎に、当該多角形の形状種別を判定する工程をさらに備え、
判定の結果、当該多角形が前記凸多角形である場合に、請求項1記載の各工程が実施される請求項1記載の描画データ生成方法。 The storage device stores rendering data for a plurality of polygons,
reading out rendering data of the plurality of polygons from the storage device, and determining, for each polygon, a shape type of the polygon;
2. The drawing data generating method according to claim 1, wherein when the result of the determination is that the polygon is a convex polygon, each of the steps according to claim 1 is carried out.
前記記憶装置に記憶された、各頂点の座標が図形を構成する順に定義された凸多角形の描画データを読み出し、前記凸多角形を第1の方向に引かれた線分に射影して最も離れた2頂点を特定する特定部と、
前記最も離れた2頂点を結ぶ前記凸多角形を2分する中央線分を形成する中央線分形成部と、
前記中央線分を用いて、前記凸多角形から予め設定された複数の基準図形のいずれかの基準図形を用いた複数の図形を抽出し、描画データを生成する抽出処理部と、
を備えた描画データ生成装置。 a storage device for storing drawing data of a convex polygon in which the coordinates of each vertex are defined in the order that the polygon is formed;
a specification unit that reads out rendering data of a convex polygon, the rendering data being stored in the storage device and defined in the order in which the coordinates of the vertices form a figure, and projects the convex polygon onto a line segment drawn in a first direction to specify two vertices that are most distant from each other;
a central line segment forming portion that forms a central line segment that bisects the convex polygon connecting the two most distant vertices;
an extraction processing unit that uses the central line segment to extract a plurality of figures using any one of a plurality of preset reference figures from the convex polygon, and generates drawing data;
A drawing data generating device comprising:
前記記憶装置に記憶された、各頂点の座標が図形を構成する順に定義された凸多角形の描画データを読み出し、前記凸多角形を第1の方向に引かれた線分に射影して最も離れた2頂点を特定する特定部と、
前記最も離れた2頂点を結ぶ前記凸多角形を2分する中央線分を形成する中央線分形成部と、
前記中央線分を用いて、前記凸多角形から予め設定された複数の基準図形のいずれかの基準図形を用いた複数の図形を抽出し、描画データを生成する抽出処理部と、
荷電粒子ビームを用いて、抽出され、描画データが生成された前記複数の図形のパターンを試料に描画する描画機構と、
を備えた荷電粒子ビーム描画装置。 a storage device for storing drawing data of a convex polygon in which the coordinates of each vertex are defined in the order that the polygon is formed;
a specification unit that reads out rendering data of a convex polygon, the rendering data being stored in the storage device and defined in the order in which the coordinates of the vertices form a figure, and projects the convex polygon onto a line segment drawn in a first direction to specify two vertices that are most distant from each other;
a central line segment forming portion that forms a central line segment that bisects the convex polygon connecting the two most distant vertices;
an extraction processing unit that uses the central line segment to extract a plurality of figures using any one of a plurality of preset reference figures from the convex polygon, and generates drawing data;
a writing mechanism for writing, on a sample, a pattern of the plurality of figures, for which writing data has been generated, using a charged particle beam;
A charged particle beam drawing apparatus comprising:
前記最も離れた2頂点を結ぶ前記凸多角形を2分する中央線分を形成する機能と、
前記中央線分を用いて、前記凸多角形から予め設定された複数の基準図形のいずれかの基準図形を用いた複数の図形を抽出し、描画データを生成する機能と、
をコンピュータに実行させるためのプログラム。 a function of reading out rendering data of a convex polygon, the rendering data being stored in a storage device and defined in the order in which the coordinates of the vertices form a figure, and projecting the convex polygon onto a line segment drawn in a first direction to identify the two vertices that are furthest apart;
forming a median line segment that bisects the convex polygon connecting the two most distant vertices;
a function of extracting a plurality of figures using any one of a plurality of preset reference figures from the convex polygon by using the central line segment, and generating drawing data;
A program for causing a computer to execute the following.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023156947A JP2025048130A (en) | 2023-09-22 | 2023-09-22 | Drawing data generating method, drawing data generating device, charged particle beam drawing device, and program |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023156947A JP2025048130A (en) | 2023-09-22 | 2023-09-22 | Drawing data generating method, drawing data generating device, charged particle beam drawing device, and program |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2025048130A true JP2025048130A (en) | 2025-04-03 |
Family
ID=95211200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023156947A Pending JP2025048130A (en) | 2023-09-22 | 2023-09-22 | Drawing data generating method, drawing data generating device, charged particle beam drawing device, and program |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2025048130A (en) |
-
2023
- 2023-09-22 JP JP2023156947A patent/JP2025048130A/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102093808B1 (en) | Multi charged-particle beam writing apparatus and multi charged-particle beam writing method | |
| TWI584333B (en) | Charged particle beam rendering device and charged particle beam rendering method | |
| JP2016225357A (en) | Multi-charged particle beam drawing apparatus and multi-charged particle beam drawing method | |
| US10381196B2 (en) | Charged particle beam writing apparatus and method for calculating irradiation coefficient | |
| JP7002837B2 (en) | Multi-charged particle beam drawing device and multi-charged particle beam drawing method | |
| JP2019114748A (en) | Multi-charged particle beam lithography method and multi-charged particle beam lithography device | |
| JP5498106B2 (en) | Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing apparatus | |
| JP6884059B2 (en) | Charged particle beam drawing device and charged particle beam drawing method | |
| JP6815192B2 (en) | Multi-charged particle beam drawing device and multi-charged particle beam drawing method | |
| JP2025048130A (en) | Drawing data generating method, drawing data generating device, charged particle beam drawing device, and program | |
| JP2025027703A (en) | Drawing data generating method, drawing data generating device, charged particle beam drawing device, and program | |
| JP7446940B2 (en) | Multi-charged particle beam lithography device and multi-charged particle beam lithography method | |
| JP7421364B2 (en) | Multi-beam lithography method and multi-beam lithography device | |
| US20250079119A1 (en) | Method for determining line segment intersections in figure of writing data, apparatus for determining line segment intersections in figure of writing data, storage medium, and electron beam lithography apparatus | |
| JP6754481B2 (en) | Multi-charged particle beam drawing device and multi-charged particle beam drawing method | |
| TWI906837B (en) | A method for determining line segment intersections within a plotted data image, a device for determining line segment intersections within a plotted data image, a program, and an electron beam plotting device. | |
| JP6171062B2 (en) | Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method | |
| JP7797311B2 (en) | Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method | |
| JP7813613B2 (en) | Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method | |
| JP7705332B2 (en) | Multi-charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method | |
| JP2026005819A (en) | Multi-charged particle beam writing method, multi-charged particle beam writing apparatus, and program | |
| JP2026016095A (en) | Multi-charged particle beam writing method, multi-charged particle beam writing apparatus, and program | |
| WO2026028596A1 (en) | Multi charged particle beam lithographic device and multi charged particle beam lithographic method | |
| JP2025184203A (en) | Multi-charged particle beam writing method | |
| JP2026020992A (en) | Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method |