JP2024068981A - 拡張方法及び拡張装置 - Google Patents

Abstract

【課題】チップ同士の接触を抑制することができること。
【解決手段】拡張方法は、ワークユニットのフレームをフレーム固定ユニットで固定するフレーム固定ステップ３０２と、ワークユニットのエキスパンドテープ側からワークの外側のエキスパンドテープを押圧してエキスパンドテープを拡張する拡張ステップ３０３と、保持テーブルでエキスパンドテープを介してワークを吸引保持する保持ステップ３０４と、保持テーブルの保持面をフレーム固定ユニットのフレーム載置プレートの上面の高さ位置に近づくように保持テーブルを第１の速度で下降させる第１速度テーブル移動ステップ３０５と、保持面と上面が同一面になるように保持テーブルを第１の速度よりも低速の第２の速度で下降させる第２速度テーブル移動ステップ３０６と、ワークの外側のエキスパンドテープを加熱し収縮させる収縮ステップ３０７と、を備える。
【選択図】図５

Description

本発明は、拡張方法及び拡張装置に関する。

ワークやダイアタッチフィルム等のワークがシートを介してフレームに装着されたワークユニットにおいてシートを拡張することでワークを分割する拡張装置が広く利用されている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。

前述した特許文献１及び特許文献に示された拡張装置は、シートを拡張することでシートには弛みが形成されるが、シートが弛んだ状態だとワークが分割されて形成されたチップ同士が接触して損傷しかねない。

そこで、前述した特許文献１及び特許文献に示された拡張装置は、シート拡張後には弛んだシートを加熱して収縮させている。具体的には、シートが拡張された状態でシートを介してワークを吸引テーブルで吸引保持し、隣接するチップ間の間隔を維持してからワークをフレームと同一面に位置づけている。ワークがフレームと同一高さに位置づけられるとシートには弛みが形成され、この弛んだシートを加熱することで収縮させている。

特開２００７－１５７８８７号公報 特開２０１６－１２５８４号公報

しかし、特許文献１及び特許文献２に示された拡張装置は、ワークをフレームと同一面に位置づける間に、シートがテーブルの保持面から剥がれ、負圧がリークしてしまうことがあり、シートがテーブルの保持面から剥がれると、チップ同士が接触して損傷しかねない。

本発明の目的は、チップ同士の接触を抑制することができる拡張方法及び拡張装置を提供することである。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の拡張方法は、ワークがテープを介してフレームに装着されたワークユニットの該テープを拡張する拡張方法であって、該ワークユニットの該フレームを支持するフレーム支持面を含むフレーム支持部と該フレーム支持部とともに該フレームを挟持するフレーム押さえ部とを備えたフレーム固定ユニットで該フレームを固定するフレーム固定ステップと、該フレーム固定ステップを実施した後、該ワークユニットの該テープ側から該ワークの外側の該テープを押圧して該テープを拡張し該ワークを該フレーム支持面から離反した位置に位置づける拡張ステップと、該拡張ステップを実施した後、該ワークを吸引保持する保持面を有したテーブルで該テープを介して該ワークを吸引保持する保持ステップと、該保持ステップを実施した後、該テーブルの該保持面を該フレーム支持面の高さ位置に近づくように該テーブルを第１の速度で移動させる第１速度テーブル移動ステップと、該第１速度テーブル移動ステップを実施した後、該テーブルの保持面と該フレーム支持面が同一面になるように該テーブルを該第１の速度よりも低速の第２の速度で移動させる第２速度テーブル移動ステップと、該ワークの外側の該テープを加熱し収縮させる収縮ステップと、を備えたことを特徴とする。

前記拡張方法において、該収縮ステップは、該第２速度テーブル移動ステップの実施後に実施されても良い。

前記拡張方法において、該収縮ステップは、少なくとも該第２速度テーブル移動ステップと同時に実施されても良い。

本発明の拡張装置は、ワークがテープを介してフレームに装着されたワークユニットの該テープを拡張する拡張装置であって、該ワークユニットの該フレームを支持するフレーム支持面を含むフレーム支持部と、該フレーム支持部を昇降させる昇降ユニットと、該昇降ユニットにより上昇させたフレーム支持部とともに該フレームを挟持するフレーム押さえ部と、を備えるフレーム固定ユニットと、該フレーム固定ユニットで該フレームが固定された該ワークユニットの該テープ側から該ワークの外側の該テープを押圧して該テープを拡張し該ワークを該フレーム支持面から離反した位置に位置づける押圧部材と、該押圧部材が該テープを拡張した状態で、該ワークが載置された保持面に該テープを介して該ワークを吸引保持するテーブルと、該押圧部材を昇降させるとともに該押圧部材を上昇させると該テープを拡張し該ワークを該フレーム支持面から離反した位置に位置づける押圧部材昇降ユニットと、該テーブルが該テープを介して該ワークを吸引保持し、該昇降ユニットが該フレーム支持部を下降させ、該押圧部材昇降ユニットが該押圧部材を下降させた状態で、該テーブルの該保持面を該フレーム支持面の高さ位置に近づくように該テーブルを第１の速度で移動させるとともに、該テーブルを該第１の速度で移動させた後、該テーブルの該保持面と該フレーム支持面が同一面になるように該テーブルを該第１の速度よりも低速の第２の速度で移動させるテーブル移動ユニットと、を備えた拡張ユニットと、該ワークの外側の該テープを加熱し収縮させる加熱ユニットと、を備えたことを特徴とする。

本発明は、チップ同士の接触を抑制することができるという効果を奏する。

図１は、実施形態１に係る拡張装置の構成例を示す斜視図である。 図２は、実施形態１に係る拡張装置の加工対象のワークユニットの一例を示す斜視図である。 図３は、図１に示された拡張装置の分割ユニットの構成例を模式的に示す断面図である。 図４は、図１に示された拡張装置のヒートシュリンクユニットの構成例を模式的に示す断面図である。 図５は、実施形態１に係る拡張方法の流れを示すフローチャートである。 図６は、図５に示された拡張方法の分割ステップにおいて分割ユニットのフレーム固定ユニットのフレーム載置プレートの上面にワークユニットのフレームが載置された状態を模式的に示す断面図である。 図７は、図５に示された拡張方法の分割ステップにおいて分割ユニットのフレーム固定ユニットがワークユニットのフレームを固定した状態を模式的に示す断面図である。 図８は、図５に示された拡張方法の分割ステップにおいて分割ユニットの拡張ドラムが上昇しエキスパンドテープを拡張した状態を模式的に示す断面図である。 図９は、図５に示された拡張方法のフレーム固定ステップにおいてヒートシュリンクのフレーム固定ユニットのフレーム載置プレートの上面にワークユニットのフレームが載置された状態を模式的に示す断面図である。 図１０は、図５に示された拡張方法のフレーム固定ステップにおいてヒートシュリンクのフレーム固定ユニットがワークユニットのフレームを固定した状態を模式的に示す断面図である。 図１１は、図５に示された拡張方法の拡張ステップを模式的に示す断面図である。 図１２は、図５に示された拡張方法の保持ステップを模式的に示す断面図である。 図１３は、図５に示された拡張方法の第１速度テーブル移動ステップを模式的に示す断面図である。 図１４は、図５に示された拡張方法の第２速度テーブル移動ステップを模式的に示す断面図である。 図１５は、図５に示された拡張方法の収縮ステップを模式的に示す断面図である。 図１６は、実施形態１の変形例に係る拡張方法の流れを示すフローチャートである。 図１７は、図２に示されたワークユニットの変形例を示す斜視図である。

本発明を実施するための形態（実施形態）につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。

〔実施形態１〕
本発明の実施形態１に係る拡張装置を図面に基づいて説明する。図１は、実施形態１に係る拡張装置の構成例を示す斜視図である。図２は、実施形態１に係る拡張装置の加工対象のワークユニットの一例を示す斜視図である。図３は、図１に示された拡張装置の分割ユニットの構成例を模式的に示す断面図である。図４は、図１に示された拡張装置のヒートシュリンクユニットの構成例を模式的に示す断面図である。

（ワークユニット）
実施形態１に係る図１に示す拡張装置１は、図２に示すワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３を拡張する装置である。ワークユニット２００は、図２に示すように、ワーク２０１と、ダイアタッチフィルム（以下、ＤＡＦと記す）２０２と、テープであるエキスパンドテープ２０３と、フレーム２０４とを備える。

実施形態１では、ワーク２０１は、シリコン、サファイア、ガリウムヒ素又はＳｉＣ（炭化ケイ素）などを基板とする円板状の半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等のウェーハである。ワーク２０１は、図２に示すように、表面２０５の互いに交差する複数の分割予定ライン２０６で区画された各領域にそれぞれデバイス２０７が形成されている。

デバイス２０７は、例えば、ＩＣ（Integrated Circuit）、又はＬＳＩ（Large Scale Integration）等の集積回路、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）、ＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）等のイメージセンサ、又は各種のメモリ（半導体記憶装置）である。

ワーク２０１は、表面２０５の裏側の裏面２０８側から基板に対して透過性を有する波長のレーザ光線が分割予定ライン２０６に沿って照射されて、基板の内部に分割予定ライン２０６に沿って分割起点である改質層２０９（図２中に点線で示す）が形成されている。ワーク２０１は、改質層２０９を起点に個々のチップ２１０に分割される。なお、チップ２１０は、分割予定ライン２０６に沿って分割された基板の一部と、基板の表面に形成されたデバイス２０７とを備え、基板の裏面２０８に分割されたＤＡＦ２０２の一部が貼着されている。

なお、改質層２０９とは、密度、屈折率、機械的強度やその他の物理的特性が周囲のそれとは異なる状態になった領域のことを意味し、溶融処理領域、クラック領域、絶縁破壊領域、屈折率変化領域、及びこれらの領域が混在した領域等を例示できる。

ＤＡＦ２０２は、個々に分割されたチップ２１０を他のチップ又は基板等に固定するためのダイボンディング用の接着フィルムである。ＤＡＦ２０２は、ワーク２０１の直径よりも大きい直径の円板状に形成されている。ＤＡＦ２０２は、ワーク２０１の裏面２０８に貼着されている。

エキスパンドテープ２０３は、伸縮性を有する樹脂から構成され、加熱されると収縮する熱収縮性を有する。エキスパンドテープ２０３は、ワーク２０１及びＤＡＦ２０２の直径よりもおおきい直径の円板状に形成され、かつ、伸縮性及び熱収縮性を有する合成樹脂から構成された基材層と、基材層上に積層されかつワーク２０１に貼着するとともに伸縮性及び熱収縮性を有する合成樹脂から構成された粘着層とを備える。

粘着層の表面は、ＤＡＦ２０２が貼着され、ＤＡＦ２０２を介してワーク２０１の裏面２０８が貼着される被貼着面である。実施形態１では、粘着層は、紫外線が照射されることで、硬化し、粘着力が低下する合成樹脂により構成されている。

実施形態１では、エキスパンドテープ２０３は、予め被貼着面にＤＡＦ２０２が貼着されており、ＤＡＦ２０２にワーク２０１の裏面２０８に貼着されることで、ワーク２０１の裏面２０８にＤＡＦ２０２を介して貼着される、所謂２ｉｎ１と呼ばれるテープである。

フレーム２０４は、ワーク２０１及びＤＡＦ２０２の直径よりの内径が大きな円環状に形成されかつエキスパンドテープ２０３の外周が貼着されている。

前述した構成のワークユニット２００は、エキスパンドテープ２０３の被貼着面に貼着されたＤＡＦ２０２にワーク２０１の裏面２０８が貼着され、エキスパンドテープ２０３の外周にフレーム２０４が貼着されるなどして構成される。即ち、ワークユニット２００は、ワーク２０１がエキスパンドテープ２０３を介してフレーム２０４に装着されている。

（拡張装置）
図１に示す実施形態１に係る拡張装置１は、ワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３を拡張して、分割起点としての改質層２０９が形成されたワーク２０１を分割予定ライン２０６に沿って個々のチップ２１０に分割するとともに、ＤＡＦ２０２をチップ２１０毎に分割する装置である。拡張装置１は、図１に示すように、装置本体２に設けられたカセットエレベータ３と、分割ユニット１０と、ヒートシュリンクユニット３０と、洗浄ユニット４０と、紫外線照射ユニット６０と、搬送ユニット５０と、制御手段である制御ユニット１００とを備える。

カセットエレベータ３は、装置本体２の水平方向と平行なＹ軸方向の一端に配置され、ワークユニット２００を複数収容するカセット４が着脱自在に載置される。カセット４は、複数のワークユニット２００を鉛直方向と平行なＺ軸方向に間隔をあけて収容する。カセット４は、ワークユニット２００を出し入れ自在な開口５を装置本体２のＹ軸方向の中央部に向けてカセットエレベータ３上に載置される。カセットエレベータ３は、カセット４をＺ軸方向に昇降させる。

また、拡張装置１は、カセット４に出し入れされるワークユニット２００が仮置きされる一対の第１ガイドレール６と、一対の第２ガイドレール７とを備える。一対の第１ガイドレール６は、Ｙ軸方向と平行であるとともに、水平方向と平行でかつＹ軸方向と直交するＸ軸方向に互いに間隔をあけて配置される。一対の第１ガイドレール６は、カセットエレベータ３に載置されるカセット４の開口５のＸ軸方向の両端とＹ軸方向に並ぶように、装置本体２のＹ軸方向の中央に配置されている。一対の第１ガイドレール６は、図示しない駆動機構によりＸ軸方向に移動自在に設けられ、駆動機構により互いに近づいたり離れる。一対の第１ガイドレール６は、カセット４に出し入れされるワークユニット２００が載置され、駆動機構により互いに近付くとワークユニット２００をＸ軸方向に位置決めする。

一対の第２ガイドレール７は、第１ガイドレール６から搬送ユニット５０により搬送されてきたワークユニット２００等が仮置きされるものである。一対の第２ガイドレール７は、Ｙ軸方向と平行であるとともに、水平方向と平行でかつＸ軸方向に互いに間隔をあけて配置される。一対の第２ガイドレール７は、装置本体２のＹ軸方向の中央に配置され、第１ガイドレール６のＸ軸方向の隣りに配置されている。一対の第２ガイドレール７は、図示しない駆動機構によりＸ軸方向に移動自在に設けられ、駆動機構により互いに近づいたり離れる。一対の第２ガイドレール７は、第１ガイドレール６から搬送されてきたワークユニット２００等が載置され、駆動機構により互いに近付くとワークユニット２００をＸ軸方向に位置決めする。

搬送ユニット５０は、カセット４と第１ガイドレール６上との間、及び第１ガイドレール６上と紫外線照射ユニット６０との間でワークユニット２００を搬送する第１搬送ユニット５１と、第１ガイドレール６と第２ガイドレール７との間及び第２ガイドレール７とヒートシュリンクユニット３０と、ヒートシュリンクユニット３０と洗浄ユニット４０との間、洗浄ユニット４０と第１ガイドレール６上との間でワークユニット２００を搬送する第２搬送ユニット５２と、第２ガイドレール７と分割ユニット１０との間でワークユニット２００を搬送する第３搬送ユニット５３とを備える。

分割ユニット１０は、一対の第２ガイドレール７のＹ軸方向の一方側の隣に配置されている。分割ユニット１０は、図３に示すように、フレーム固定ユニット１１と、押圧ユニット１２と、保持テーブル１３とを備える。フレーム固定ユニット１１と、押圧ユニット１２とは、装置本体２の一対の第２ガイドレール７のＹ軸方向の一方側の隣に配置された内側が冷却される冷却チャンバー１９（図１に示す）内に収容されている。

フレーム固定ユニット１１は、ワークユニット２００のフレーム２０４を固定するものであって、フレーム載置プレート１５と、フレーム押さえプレート１６とを備える。フレーム載置プレート１５は、平面形状が円形の開口部１５１が設けられ、かつ上面１５２が水平方向と平行に平坦に形成された板状に形成されている。フレーム載置プレート１５の開口部１５１の内径は、フレーム２０４の内径と同様でかつＤＡＦ２０２の直径よりも大きく形成されている。フレーム載置プレート１５は、開口部１５１上にワーク２０１が位置する状態でワークユニット２００のフレーム２０４が上面１５２に載置される。

実施形態１では、フレーム載置プレート１５は、上面１５２が第２ガイドレール７でＸ軸方向に位置決めされたワークユニット２００のフレーム２０４の下面と同一平面上となる位置からシリンダ１７によりＺ軸方向に上昇する。即ち、フレーム載置プレート１５は、シリンダ１７の伸縮自在なロッド１７１の先端に取り付けられてシリンダ１７のロッド１７１が伸縮することでＺ軸方向に昇降自在に設けられている。

フレーム押さえプレート１６は、フレーム載置プレート１５の上方に固定されている。フレーム押さえプレート１６は、フレーム載置プレート１５とほぼ同寸法の板状に形成され、中央に開口部１５１と同寸法の円形の開口部１６１が設けられている。フレーム押さえプレート１６の開口部１６１は、フレーム載置プレート１５の開口部１５１と同軸に配置されている。

フレーム固定ユニット１１は、ロッド１７１が縮小して下方に位置するフレーム載置プレート１５の上面１５２に第３搬送ユニット５３によりワークユニット２００が搬送されてくる。フレーム固定ユニット１１は、フレーム載置プレート１５の上面１５２にワークユニット２００のフレーム２０４が載置された後、シリンダ１７のロッド１７１が伸張してフレーム載置プレート１５が上昇する。フレーム固定ユニット１１は、フレーム押さえプレート１６と上昇したフレーム載置プレート１５との間にワークユニット２００のフレーム２０４を挟持して固定する。

押圧ユニット１２は、フレーム固定ユニット１１で固定されたフレーム２０４を含むワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３のフレーム２０４の内周とワーク２０１の外周との間の領域２１２（図２に示す）を被貼着面の背面側である基材層側から押圧するものである。押圧ユニット１２は、拡張ドラム１２１と、複数の押圧ローラー１２２とを備える。

実施形態１において、拡張ドラム１２１は、円筒状に形成され、外径がフレーム載置プレート１５の上面１５２に載置されるフレーム２０４の内径よりも小さく、内径がエキスパンドテープ２０３に貼着されるワーク２０１の直径よりも大きく形成されている。拡張ドラム１２１は、フレーム固定ユニット１１の開口部１５１，１６１と同軸に配置されている。

押圧ローラー１２２は、円柱状に形成され、拡張ドラム１２１の上端に軸心（以下回転軸と記す）回りに回転自在に支持されている。押圧ローラー１２２は、周方向に等間隔に配置されている。押圧ローラー１２２は、回転軸が平面視における拡張ドラム１２１の接線と平行に配置されている。

拡張ドラム１２１は、シリンダ１８に取り付けられ、シリンダ１８によりＺ軸方向に昇降する。即ち、拡張ドラム１２１は、シリンダ１８の伸縮自在なロッドの先端に取り付けられてシリンダ１８のロッドが伸縮することでＺ軸方向に昇降自在に設けられている。

実施形態１では、拡張ドラム１２１は、シリンダ１８により押圧ローラー１２２の上端が下降したフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５の上面１５２よりも下側に位置する位置と、押圧ローラー１２２の上端が上昇してフレーム２０４を固定したフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５の上面１５２よりも上側に位置する位置とに亘ってＺ軸方向に昇降する。

シリンダ１８により上昇すると押圧ローラー１２２の上端がフレーム２０４を固定したフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５の上面１５２よりも上側に位置するので、押圧ローラー１２２は、フレーム固定ユニット１１により固定されたワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３のフレーム２０４の内周とワーク２０１の外周との間の領域２１２を押圧する。

保持テーブル１３は、外径が拡張ドラム１２１の内径よりも小さい円板状に形成され、拡張ドラム１２１の内側に拡張ドラム１２１と同軸に配置されている。保持テーブル１３は、エキスパンドテープ２０３を介してワークユニット２００のワーク２０１を吸引保持する保持面１３１を有するものである。保持テーブル１３は、フレーム２０４及び拡張ドラム１２１の内径よりも直径が小径な円板形状であり、ステンレス鋼等の金属からなる円板状の枠体１３２と、ポーラスセラミック等の多孔質材で構成されかつ枠体１３２により囲繞された円板状の吸着部１３３とを備える。

枠体１３２と吸着部１３３の上面は、同一平面上に配置されて、ワーク２０１を吸引保持する保持面１３１を構成している。吸着部１３３の外径は、ワーク２０１の外径よりも若干大きい。吸着部１３３は、枠体１３２等に形成された吸引路１３４を介してエジェクタ等の吸引源１３５に接続されている。

保持テーブル１３は、保持面１３１に第３搬送ユニット５３により搬送されてきたワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３を介してワーク２０１の裏面２０８側が載置される。保持テーブル１３は、吸引源１３５により保持面１３１の吸着部１３３が吸引されることで、ワーク２０１の裏面２０８側を保持面１３１に吸引保持可能である。

保持テーブル１３は、シリンダ１４に取り付けられ、シリンダ１４によりＺ軸方向に昇降する。即ち、保持テーブル１３は、シリンダ１４の伸縮自在なロッド１４１の先端に取り付けられてシリンダ１４のロッド１４１が伸縮することでＺ軸方向に昇降自在に設けられている。

実施形態１では、保持テーブル１３は、シリンダ１４により保持面１３１が下降した押圧ローラー１２２の上端と同一平面上に位置する位置と、保持面１３１が上昇した押圧ローラー１２２の上端よりも若干下降でかつ上昇したフレーム載置プレート１５の上面１５２よりも上方に位置する位置とに亘ってＺ軸方向に昇降する。

分割ユニット１０は、フレーム固定ユニット１１でワークユニット２００のフレーム２０４を固定し、拡張ドラム１２１及び保持テーブル１３を押圧ローラー１２２の上端及び保持面１３１がフレーム２０４を固定したフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５の上面１５２よりも下側に位置する位置から上昇させて、押圧ローラー１２２でワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３のフレーム２０４の内周とワーク２０１の外周との間の領域２１２を押圧して、エキスパンドテープ２０３を面方向に拡張する。また、分割ユニット１０は、エキスパンドテープ２０３を一旦拡張した後、拡張ドラム１２１及び保持テーブル１３を下降することで、ワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３のフレーム２０４の内周とワーク２０１の外周との間の領域２１２に弛みを形成する。

ヒートシュリンクユニット３０は、一対の第２ガイドレール７のＹ軸方向の他方側の隣に配置されている。ヒートシュリンクユニット３０は、図４に示すように、フレーム固定ユニット３１と、拡張ユニット３６と、加熱ユニット３７とを備える。

フレーム固定ユニット３１は、ワークユニット２００のフレーム２０４を固定するものである。フレーム固定ユニット３１は、フレーム支持部であるフレーム載置プレート３３と、昇降ユニットであるシリンダ３５と、フレーム押さえ部であるフレーム押さえプレート３４と、移動ユニットであるシリンダ３４３とを備える。フレーム載置プレート３３は、平面形状が円形の開口部３３１が設けられ、かつフレーム支持面である上面３３２が水平方向と平行に平坦に形成された板状に形成されている。フレーム載置プレート３３は、フレーム支持面である上面３３２にワークユニット２００のフレーム２０４が載置されて、上面３３２がワークユニット２００のフレーム２０４を支持する。このように、フレーム載置プレート３３は、ワークユニット２００のフレーム２０４を支持する上面３３２を含む。

フレーム載置プレート３３の開口部３３１の内径は、フレーム２０４の内径と同等でありＤＡＦ２０２の直径よりも大きく形成されている。フレーム載置プレート３３は、図１に示すように、上面３３２の四隅に水平方向に移動自在に設けられ、かつ水平方向に移動することによりフレーム２０４の位置を調整して、ワーク２０１を開口部３１１と同軸となる位置に位置決めするセンタリングガイド３３３（図１に示す）が設けられている。

また、フレーム載置プレート３３は、昇降ユニットであるシリンダ３５によりＺ軸方向に昇降自在に設けられている。即ち、フレーム載置プレート３３は、シリンダ３５の伸縮自在なロッド３５１の先端に取り付けられてシリンダ３５のロッド３５１が伸縮することでＺ軸方向に昇降自在に設けられている。このように、シリンダ３５は、フレーム載置プレート３３を昇降させる。

フレーム押さえプレート３４は、フレーム載置プレート３３とほぼ同寸法の板状に形成され、中央に開口部３３１と同寸法の円形の開口部３４１が設けられている。フレーム押さえプレート３４は、昇降ユニットであるシリンダ３５により上昇されたフレーム載置プレート３３とともにワークユニット２００のフレーム２０４を挟持する。フレーム押さえプレート３４は、移動ユニットであるシリンダ３４３のピストンロッドの先端に取り付けられ、ピストンロッドがＹ軸方向に沿って伸縮することにより、フレーム載置プレート３３の上方の位置と、フレーム載置プレート３３の上方から退避した位置とに亘って移動自在である。フレーム押さえプレート３４は、図１に示すように、四隅にセンタリングガイド３３３が侵入可能な長孔３４２が設けられている。なお、フレーム載置プレート３３の上方の位置は、フレーム押さえプレート３４が、フレーム載置プレート３３との間にワークユニット２００のフレーム２０４を挟持する位置である。

フレーム固定ユニット３１は、フレーム押さえプレート３４がフレーム載置プレート３３の上方から退避した位置に位置付けられ、センタリングガイド３３３同士が互いに離れた状態で、シリンダ３５により下降されたフレーム載置プレート３３の上面３３２に第２搬送ユニット５２により搬送されてきたワークユニット２００のフレーム２０４が載置される。フレーム固定ユニット３１は、センタリングガイド３３３同士を近づけて、ワークユニット２００のフレーム２０４を位置決めする。フレーム固定ユニット３１は、フレーム押さえプレート３４をフレーム載置プレート３３の上方に位置付け、フレーム載置プレート３３がシリンダ３５により上昇されて、ワークユニット２００のフレーム２０４をフレーム載置プレート３３とフレーム押さえプレート３４との間に挟持して固定する。

拡張ユニット３６は、フレーム固定ユニット３１によりフレーム２０４が固定されたワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３を拡張するものである。拡張ユニット３６は、図４に示すように、押圧部材３６１と、テーブルである保持テーブル３２と、押圧部材３６１を昇降させる押圧部材昇降ユニットであるシリンダ３６２と、テーブル移動ユニットである保持テーブル昇降ユニット３６３とを備える。

押圧部材３６１は、円筒状に形成され、外径がフレーム載置プレート３３の上面３３２に載置されるフレーム２０４の内径よりも小さく、内径がエキスパンドテープ２０３に貼着されるワーク２０１の直径よりも大きく形成されている。押圧部材３６１は、フレーム載置プレート３３の開口部３３１内に配置され、フレーム載置プレート３３と同軸に配置されている。押圧部材３６１の上端には、押圧ローラー３６４が回転自在に取り付けられている。押圧ローラー３６４は、円柱状に形成され、押圧部材３６１の上端に軸心（以下回転軸と記す）回りに回転自在に支持されている。押圧ローラー３６４は、周方向に等間隔に配置されている。押圧ローラー３６４は、回転軸が平面視における押圧部材３６１の接線と平行に配置されている。

実施形態１では、押圧部材３６１は、シリンダ３６２により押圧ローラー３６４の上端がシリンダ３５により下降されたフレーム載置プレート３３の上面３３２よりも下側に位置する位置と、押圧ローラー３６４の上端がフレーム２０４を固定したフレーム固定ユニット３１のフレーム載置プレート３３の上面３３２よりも上側に位置する位置とに亘ってＺ軸方向に昇降する。押圧部材３６１は、シリンダ３６２により上昇されることで、フレーム固定ユニット３１でフレーム２０４が固定されたワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３側からワーク２０１の外側のエキスパンドテープ２０３の領域２１２を押圧ローラー３６４が押圧してエキスパンドテープ２０３を拡張しワーク２０１を鉛直方向に沿う軸心に沿ってフレーム載置プレート３３の上面３３２から離反した位置に位置づける。このように、押圧部材昇降ユニットであるシリンダ３６２は、押圧部材３６１を上昇させるとエキスパンドテープ２０３を拡張しワーク２０１をフレーム載置プレート３３の上面３３２から軸心に沿って離反した位置に位置づける。

保持テーブル３２は、外径が押圧部材３６１の内径よりも小さい円板状に形成され、押圧部材３６１の内側に押圧部材３６１と同軸に配置されている。保持テーブル３２は、エキスパンドテープ２０３を介してワークユニット２００のワーク２０１を吸引保持する保持面３２１を有するものである。保持テーブル３２は、フレーム２０４及び押圧部材３６１の内径よりも直径が小径な円板形状であり、ステンレス鋼等の金属からなる円板状の枠体３２２と、ポーラスセラミック等の多孔質材で構成されかつ枠体３２２により囲繞された円板状の吸着部３２３とを備える。

枠体３２２と吸着部３２３の上面は、同一平面上に配置されて、ワーク２０１を吸引保持する保持面３２１を構成している。吸着部３２３の外径は、ワーク２０１の外径よりも若干大きい。吸着部３２３は、枠体３２２等に形成された吸引路３２４を介してエジェクタ等の吸引源３２５に接続されている。

保持テーブル３２は、保持面３２１に第２搬送ユニット５２により搬送されてきたワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３を介してワーク２０１の裏面２０８側が載置される。保持テーブル３２は、吸引源３２５により保持面３２１の吸着部３２３が吸引されることで、ワーク２０１の裏面２０８側を保持面３２１に吸引保持可能である。

保持テーブル３２は、保持テーブル昇降ユニット３６３に取り付けられ、保持テーブル昇降ユニット３６３によりＺ軸方向に昇降する。即ち、保持テーブル３２は、保持テーブル昇降ユニット３６３の伸縮自在なロッド３６５の先端に取り付けられて保持テーブル昇降ユニット３６３のロッド３６５が伸縮することでＺ軸方向に昇降自在に設けられている。

実施形態１では、保持テーブル３２は、保持テーブル昇降ユニット３６３により保持面３２１が下降したフレーム載置プレート３３の上面３３２と同一平面に位置する位置と、保持面３２１が上昇したフレーム載置プレート３３の上面３３２よりも上方に位置しかつ上昇した押圧ローラー３６４の上端と同一平面上に位置する位置とに亘ってＺ軸方向に昇降する。保持テーブル３２は、シリンダ３６２により上昇された押圧部材３６１がエキスパンドテープ２０３を拡張した状態で、ワーク２０１が載置された保持面３２１にエキスパンドテープ２０３を介してワーク２０１を吸引保持する。

シリンダ３６２は、押圧ローラー３６４の上端が下降したフレーム載置プレート３３の上面３３２及び保持テーブル３２の保持面３２１よりも下方に位置する位置と、上昇したフレーム載置プレート３３の上面３３２よりも上方に位置する位置とに亘って、押圧部材３６１をＺ軸方向に昇降させるものである。

保持テーブル昇降ユニット３６３は、保持面３２１が下降したフレーム載置プレート３３の上面３３２よりも下方に位置する位置と、上昇したフレーム載置プレート３３の上面３３２よりも上方でかつ上昇した押圧ローラー３６４の上端と同一平面上に位置する位置とに亘って、保持テーブル３２をＺ軸方向に昇降させるものである。実施形態１において、保持テーブル昇降ユニット３６３は、Ｚ軸方向に沿って延在しかつ軸心回りに回転自在に設けられた周知のボールねじ、ボールねじを軸心回りに回転させる周知のモータ及び保持テーブル３２をＺ軸方向に移動自在に支持する周知のガイドレールを備えて構成される。

加熱ユニット３７は、分割ユニット１０によりエキスパンドテープ２０３が拡張されて形成されたエキスパンドテープ２０３のフレーム２０４とワーク２０１との間の領域２１２の弛みを加熱して収縮させるものである。加熱ユニット３７は、Ｚ軸方向に移動自在でかつＺ軸方向と平行な軸心回りに回転する複数の加熱部３７１とを備える。

加熱部３７１は、フレーム固定ユニット３１で固定されたフレーム２０４を含むワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３の領域２１２の上方に周方向に等間隔に配置されて、エキスパンドテープ２０３の領域２１２に対応した円上に配置されている。加熱部３７１は、保持テーブル３２及びフレーム固定ユニット３１に保持されたワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３の領域２１２とＺ軸方向に対面する位置に配置されている。実施形態１において、加熱部３７１は、周方向に等間隔に四つ設けられているが、本発明では、四つに限定されない。

加熱部３７１は、赤外線を下方に照射して、エキスパンドテープ２０３の領域２１２を加熱する形式のもの、例えば、電圧が印加されると加熱されて、赤外線を放射する赤外線セラミックヒータである。加熱部３７１は、保持テーブル３２の軸心と同軸な軸心回りに回転して、エキスパンドテープ２０３の前述した領域２１２上を旋回する。

加熱ユニット３７は、加熱部３７１が下降して、保持テーブル３２及びフレーム固定ユニット３１に保持されたワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３の領域２１２と鉛直方向に対面し、軸心回りに回転して、エキスパンドテープ２０３の前述した領域２１２上を旋回することで、エキスパンドテープ２０３のワーク２０１の外側の領域２１２の弛みを加熱し、収縮させる。

洗浄ユニット４０は、分割ユニット１０によりエキスパンドテープ２０３が拡張され、ヒートシュリンクユニット３０により弛みが加熱、収縮されたワークユニット２００の主にワーク２０１を洗浄するものである。洗浄ユニット４０は、一対の第１ガイドレール６の下方に配置されかつワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３を介してワーク２０１を吸引保持するスピンナーテーブル４１と、スピンナーテーブル４１に吸引保持されたワーク２０１の表面２０５に洗浄水を供給する図示しない洗浄水供給ノズルとを備える。

洗浄ユニット４０は、一対の第１ガイドレール６同士が離れると、第２搬送ユニット５２によりヒートシュリンクユニット３０により弛みが加熱され、収縮されたワークユニット２００がスピンナーテーブル４１上に載置される。洗浄ユニット４０は、スピンナーテーブル４１をＺ軸方向と平行な軸心回りに回転しながら洗浄水供給ノズルから洗浄水をワーク２０１の表面２０５に供給して、ワーク２０１を洗浄する。

紫外線照射ユニット６０は、洗浄ユニット４０により洗浄されたワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３に紫外線を照射して、粘着層を硬化させて、粘着層の粘着力を低下させるものである。紫外線照射ユニット６０は、装置本体２のＹ軸方向の他端に配置され、第１ガイドレール６のＹ軸方向の一方側の隣に配置されている。

紫外線照射ユニット６０は、第１搬送ユニット５１により第１ガイドレール６上の洗浄後のワークユニット２００が搬入され、搬入されてきたワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３に所定時間紫外線を照射する。紫外線照射ユニット６０は、第１搬送ユニット５１により紫外線を照射したワークユニット２００が第１ガイドレール６上に搬出される。

制御ユニット１００は、拡張装置１の上述した各構成要素を制御して、ワーク２０１に対する加工動作を拡張装置１に実施させるものである。なお、制御ユニット１００は、ＣＰＵ（central processing unit）のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ＲＯＭ（read only memory）又はＲＡＭ（random access memory）のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有するコンピュータである。制御ユニット１００の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、拡張装置１を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介して拡張装置１の上述した構成要素に出力する。

制御ユニット１００は、加工動作の状態や画像などを表示する液晶表示装置などにより構成される図示しない表示ユニットと、オペレータが加工条件などを登録する際に用いる図示しない入力ユニットとに接続されている。入力ユニットは、表示ユニットに設けられたタッチパネルと、キーボード等の外部入力装置とのうち少なくとも一つにより構成される。

次に、実施形態１に係る拡張方法を説明する。図５は、実施形態１に係る拡張方法の流れを示すフローチャートである。実施形態１に係る拡張方法は、拡張装置１が、ワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３を拡張して、ワーク２０１を改質層２０９を起点に破断して、ワーク２０１を個々のチップ２１０に分割するとともに、ＤＡＦ２０２を分割予定ライン２０６に沿って個々のチップ２１０毎に分割する方法である。即ち、実施形態１に係る拡張方法は、拡張装置１の加工動作でもある。

実施形態１に係る拡張方法は、オペレータ等がワークユニット２００をカセット４に収容し、拡張装置１は、複数のワークユニット２００が収容されたカセット４がカセットエレベータ３上に載置される。また、実施形態１に係る拡張方法は、入力ユニットを介して加工条件を制御ユニット１００が受け付けて記憶装置に記憶し、制御ユニット１００がオペレータからの加工開始指示を受け付けると、実施される。実施形態１に係る拡張方法は、図５に示すように、分割ステップと、フレーム固定ステップ３０２と、拡張ステップ３０３と、保持ステップ３０４と、第１速度テーブル移動ステップ３０５と、第２速度テーブル移動ステップ３０６と、収縮ステップ３０７と、洗浄ステップ３０８と、紫外線照射ステップ３０９とを備える。

（分割ステップ）
図６は、図５に示された拡張方法の分割ステップにおいて分割ユニットのフレーム固定ユニットのフレーム載置プレートの上面にワークユニットのフレームが載置された状態を模式的に示す断面図である。図７は、図５に示された拡張方法の分割ステップにおいて分割ユニットのフレーム固定ユニットがワークユニットのフレームを固定した状態を模式的に示す断面図である。図８は、図５に示された拡張方法の分割ステップにおいて分割ユニットの拡張ドラムが上昇しエキスパンドテープを拡張した状態を模式的に示す断面図である。なお、図６，図７及び図８は、ＤＡＦ２０２を省略している。

分割ステップ３０１は、ワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３を拡張して、ワーク２０１を改質層２０９を起点に破断して、ワーク２０１を個々のチップ２１０に分割するとともに、ＤＡＦ２０２を分割予定ライン２０６に沿って個々のチップ２１０毎に分割するステップである。実施形態１において、分割ステップ３０１では、拡張装置１は、分割ユニット１０の拡張ドラム１２１、保持テーブル１３及びフレーム載置プレート１５を下降した状態で、カセット４から第１搬送ユニット５１でワークユニット２００を１枚取り出し、ワークユニット２００を一対の第１ガイドレール６上に仮置きした後、一対の第１ガイドレール６同士を近づけてワークユニット２００をＸ軸方向に位置決めする。

分割ステップ３０１では、拡張装置１は、第２搬送ユニット５２で第１ガイドレール６上のワークユニット２００を第２ガイドレール７上に搬送し、一対の第２ガイドレール７を互いに近づけてワークユニット２００をＸ軸方向に位置決めする。分割ステップ３０１では、拡張装置１は、図６に示すように、第３搬送ユニット５３で一対の第２ガイドレール７上のワークユニット２００を分割ユニット１０の下降したフレーム載置プレート１５の上面１５２上に搬送し、ワークユニット２００のフレーム２０４をフレーム載置プレート１５の上面１５２に載置する。

分割ステップ３０１では、拡張装置１は、図７に示すように、分割ユニット１０のフレーム載置プレート１５を上昇して、フレーム２０４をフレーム押さえプレート１６とフレーム載置プレート１５との間に挟持してワークユニット２００を固定する。分割ステップ３０１では、拡張装置１は、図８に示すように、拡張ドラム１２１及び保持テーブル１３を上昇させる。すると、エキスパンドテープ２０３の領域２１２に拡張ドラム１２１の上端に設けられた押圧ローラー１２２が当接し、押圧ローラー１２２が領域２１２を下方から上方に向けて押圧し、エキスパンドテープ２０３が面方向に拡張される。分割ステップ３０１では、エキスパンドテープ２０３の拡張の結果、エキスパンドテープ２０３に放射状に引張力が作用する。

このようにワーク２０１の裏面２０８に貼着されたエキスパンドテープ２０３に放射状に引張力が作用すると、ワーク２０１は、分割予定ライン２０６に沿って改質層２０９が形成されているので、改質層２０９を基点として、分割予定ライン２０６に沿って個々のチップ２１０に分割される。また、ワーク２０１は、チップ２１０間が広がり、チップ２１０間に間隔が形成される。また、エキスパンドテープ２０３に放射状に引張力が作用すると、ＤＡＦ２０２が改質層２０９即ち分割予定ライン２０６に沿って個々のチップ２１０毎に破断する。

分割ステップ３０１では、拡張装置１は、エキスパンドテープ２０３の拡張後、分割ユニット１０の拡張ドラム１２１及び保持テーブル１３を下降させる。すると、ワークユニット２００は、エキスパンドテープ２０３が一旦拡張しているために、エキスパンドテープ２０３の領域２１２に弛みが形成される。実施形態１において、分割ステップ３０１は、冷却チャンバー１９内でワーク２０１を冷却しつつ実施される。

（フレーム固定ステップ）
図９は、図５に示された拡張方法のフレーム固定ステップにおいてヒートシュリンクのフレーム固定ユニットのフレーム載置プレートの上面にワークユニットのフレームが載置された状態を模式的に示す断面図である。図１０は、図５に示された拡張方法のフレーム固定ステップにおいてヒートシュリンクのフレーム固定ユニットがワークユニットのフレームを固定した状態を模式的に示す断面図である。なお、図９及び図１０は、ＤＡＦ２０２を省略している。

フレーム固定ステップ３０２は、ワークユニット２００のフレーム２０４を支持する上面３３２を含むフレーム載置プレート３３とフレーム載置プレート３３とともにフレーム２０４を挟持するフレーム押さえプレート３４とを備えたフレーム固定ユニット３１でフレーム２０４を固定するステップである。実施形態１において、フレーム固定ステップ３０２では、拡張装置１は、分割ユニット１０のフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５を下降し、第３搬送ユニット５３でフレーム載置プレート１５上のワークユニット２００を一対の第２ガイドレール７上に搬送する。

フレーム固定ステップ３０２では、拡張装置１は、ヒートシュリンクユニット３０の押圧部材３６１、保持テーブル３２及びフレーム載置プレート３３を下降し、フレーム固定ユニット３１のフレーム押さえプレート３４をフレーム載置プレート３３の上方から退避した位置に位置付けた状態で、図９に示すように、第２搬送ユニット５２で第２ガイドレール７上のワークユニット２００のフレーム２０４をフレーム載置プレート３３の上面３３２上に搬送し、ワークユニット２００のフレーム２０４をフレーム載置プレート３３の上面３３２に載置する。

フレーム固定ステップ３０２では、拡張装置１は、フレーム固定ユニット３１のセンタリングガイド３３３同士を近づけて、ワークユニット２００のフレーム２０４を位置決めする。フレーム固定ステップ３０２では、拡張装置１は、フレーム押さえプレート３４をフレーム載置プレート３３の上方に位置付け、フレーム載置プレート３３を上昇させて、図１０に示すように、フレーム２０４をフレーム載置プレート３３とフレーム押さえプレート３４との間に挟持してワークユニット２００を固定する。

（拡張ステップ）
図１１は、図５に示された拡張方法の拡張ステップを模式的に示す断面図である。なお、図１１は、ＤＡＦ２０２を省略している。拡張ステップ３０３は、フレーム固定ステップ３０２を実施した後、ワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３側からワーク２０１の外側のエキスパンドテープ２０３の領域２１２を押圧してテープを拡張し、ワーク２０１を軸心に沿って上面３３２から離反した位置に位置づけるステップである。

実施形態１において、拡張ステップ３０３では、拡張装置１は、ヒートシュリンクユニット３０の押圧部材３６１及び保持テーブル３２を上昇させる。すると、拡張装置１は、図１１に示すように、ワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３側から押圧ローラー３６４がエキスパンドテープ２０３の領域２１２を上方に押圧して、エキスパンドテープ２０３を拡張する。拡張装置１は、押圧ローラー３６４でエキスパンドテープ２０３の領域２１２を上方に押圧して、拡張されたエキスパンドテープ２０３の領域２１２を張り、ワーク２０１を軸心に沿って上面３３２から離反した位置に位置づけて、チップ２１０間に間隔を形成する。

（保持ステップ）
図１２は、図５に示された拡張方法の保持ステップを模式的に示す断面図である。なお、図１２は、ＤＡＦ２０２を省略している。保持ステップ３０４は、拡張ステップ３０３を実施した後、ワーク２０１を吸引保持する保持面３２１を有した保持テーブル３２でエキスパンドテープ２０３を介してワーク２０１を吸引保持するステップである。

実施形態１において、保持ステップ３０４では、拡張装置１は、吸引源３２５により吸着部３２３を吸引して、ワーク２０１の裏面２０８側をエキスパンドテープ２０３を介して保持テーブル３２の保持面３２１に吸引保持して、チップ２１０間の間隔を維持する。また、保持ステップ３０４では、拡張装置１は、図１２に示すように、押圧部材３６１及びフレーム載置プレート３３を下降し、フレーム押さえプレート３４をフレーム載置プレート３３の上方から退避させる。

（第１速度テーブル移動ステップ）
図１３は、図５に示された拡張方法の第１速度テーブル移動ステップを模式的に示す断面図である。なお、図１３は、ＤＡＦ２０２を省略している。第１速度テーブル移動ステップ３０５は、保持ステップ３０４を実施した後、保持テーブル３２の保持面３２１をフレーム載置プレート３３の上面３３２の高さ位置に近づくように保持テーブル３２を第１の速度で移動させるステップである。

実施形態１において、第１速度テーブル移動ステップ３０５では、拡張装置１は、図１３に示すように、保持面３２１にエキスパンドテープ２０３を介してワーク２０１の裏面２０８を吸引保持した状態を維持したまま保持テーブル３２を第１の速度（例えば、５ｍｍ／ｓｅｃ）で下降する。すると、ワークユニット２００のフレーム２０４が、フレーム載置プレート３３の上面３３２に当接する。実施形態１では、保持テーブル３２の保持面３２１がフレーム載置プレート３３の上面３３２よりも所定高さ上方に位置するまで、第１速度テーブル移動ステップ３０５を実施する。なお、所定高さは、例えば、０．５ｍｍ以上でかつ１．０ｍｍ以下である。

（第２速度テーブル移動ステップ）
図１４は、図５に示された拡張方法の第２速度テーブル移動ステップを模式的に示す断面図である。なお、図１４は、ＤＡＦ２０２を省略している。第２速度テーブル移動ステップ３０６は、第１速度テーブル移動ステップ３０５を実施した後、保持テーブル３２の保持面３２１とフレーム載置プレート３３の上面３３２とが同一平面上になるように保持テーブル３２を第１の速度よりも低速の第２の速度で移動させるステップである。

実施形態１において、第２速度テーブル移動ステップ３０６では、拡張装置１は、保持面３２１にエキスパンドテープ２０３を介してワーク２０１の裏面２０８を吸引保持した状態を維持したまま保持テーブル３２を第２の速度（例えば、０．１ｍｍ／ｓｅｃ以上でかつ０．５ｍｍ／ｓｅｃ以下の速度）で下降する。実施形態１において、第２速度テーブル移動ステップ３０６では、拡張装置１は、図１４に示すように、保持面３２１とフレーム載置プレート３３の上面３３２とが同一平面上に位置すると、保持テーブル３２の下降を停止する。すると、ワーク２０１の裏面２０８がエキスパンドテープ２０３を介して吸引保持されて、チップ２１０間の間隔が拡張ステップ３０３後の間隔に維持されているので、エキスパンドテープ２０３の領域２１２に弛みが生じる。

こうして、第１速度テーブル移動ステップ３０５と第２速度テーブル移動ステップ３０６とに亘って、保持テーブル昇降ユニット３６３は、保持ステップ３０４において保持テーブル３２がエキスパンドテープ２０３を介してワーク２０１を吸引保持し、シリンダ３５がフレーム載置プレート３３を下降させ、シリンダ３６２が押圧部材３６１を下降させ、シリンダ３４３がフレーム押さえプレート３４をフレーム載置プレート３３の上方から退避した位置に位置づけた状態で、保持テーブル３２の保持面３２１をフレーム載置プレート３３の上面３３２高さ位置に近づくように保持テーブル３２を第１の速度で下降させるとともに、保持テーブル３２を第１の速度で下降させた後、保持テーブル３２の保持面３２１とフレーム載置プレート３３の上面３３２が同一平面上になるように保持テーブル３２を第１の速度よりも低速の第２の速度で下降させる。

（収縮ステップ）
図１５は、図５に示された拡張方法の収縮ステップを模式的に示す断面図である。なお、図１５は、ＤＡＦ２０２を省略している。収縮ステップ３０７は、ワーク２０１の外側のエキスパンドテープ２０３の領域２１２を加熱し収縮させるステップである。

実施形態１において、収縮ステップ３０７では、拡張装置１は、ヒートシュリンクユニット３０の加熱ユニット３７を下降させ、図１５に示すように、加熱部３７１をエキスパンドテープ２０３の領域２１２に対面させる。実施形態１において、収縮ステップ３０７では、拡張装置１は、ヒートシュリンクユニット３０が加熱ユニット３７の全ての加熱部３７１を駆動し、全ての加熱部３７１から赤外線を放射させながら加熱部３７１を領域２１２の上方で所定回数旋回させる。こうして、収縮ステップ３０７では、拡張装置１は、領域２１２の弛みを全周に亘って加熱し、収縮させる。このように、実施形態１に係る拡張方法では、収縮ステップ３０７は、第２速度テーブル移動ステップ３０６の実施後に実施される。

（洗浄ステップ）
洗浄ステップ３０８は、収縮ステップ３０７を実施した後、ワーク２０１を洗浄ユニット４０で洗浄するステップである。洗浄ステップ３０８では、拡張装置１は、ヒートシュリンクユニット３０の加熱ユニット３７の加熱部３７１の回転及び加熱を停止し、加熱ユニット３７を上昇させ、保持テーブル３２の吸引保持等を停止する。洗浄ステップ３０８では、拡張装置１は、第２搬送ユニット５２でワークユニット２００を洗浄ユニット４０まで搬送する。洗浄ステップ３０８では、拡張装置１は、ワークユニット２００を洗浄ユニット４０で洗浄する。

（紫外線照射ステップ）
紫外線照射ステップ３０９は、洗浄後のワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３に紫外線を照射するステップである。紫外線照射ステップでは、拡張装置１は、第２搬送ユニット５２及び第１搬送ユニット５１でワークユニット２００を洗浄ユニット４０から紫外線照射ユニット６０に搬送する。

紫外線照射ステップ３０９では、拡張装置１は、ワークユニット２００を紫外線照射ユニット６０で所定時間紫外線を照射した後、第１搬送ユニット５１でカセット４内に収容する。拡張装置１は、カセット４内のワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３を順に拡張してワーク２０１を個々のチップ２１０に分割し、カセット４内の全てのワークユニット２００のエキスパンドテープ２０３を拡張してワーク２０１を個々のチップ２１０に分割すると、加工動作を終了する。

以上説明したように、実施形態１に係る拡張方法及び拡張装置１は、拡張ステップ３０３及び保持ステップ３０４後、第１速度テーブル移動ステップ３０５において第１の速度で保持テーブル３２を下降させた後、第１の速度よりも低速の第２の速度で保持テーブル３２を下降させて保持テーブル３２の保持面３２１とフレーム載置プレート３３の上面３３２とを同一平面上の高さに位置づける。このように、実施形態１に係る拡張方法及び拡張装置１は、エキスパンドテープ２０３の領域２１２の弛みが大きく生じる保持テーブル３２の保持面３２１とフレーム載置プレート３３の上面３３２とを同一平面上の高さにする直前では、低速の第２の速度で保持テーブル３２を下降するため、エキスパンドテープ２０３が保持テーブル３２の保持面３２１から剥がれてしまうおそれを低減できる。

このために、実施形態１に係る拡張方法及び拡張装置１は、吸引源３２５の吸引する負圧が保持面３２１とエキスパンドテープ２０３との間からリークすることを抑制でき、保持テーブル３２の下降中にチップ２１０が保持面３２１に対して位置ずれすることを抑制できる。その結果、実施形態１に係る拡張方法及び拡張装置１は、チップ２１０同士の接触を抑制することができるという効果を奏する。

〔変形例〕
次に、実施形態１の変形例に係る拡張方法を図面に基づいて説明する。図１６は、実施形態１の変形例に係る拡張方法の流れを示すフローチャートである。なお、図１６は、実施形態１と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。

実施形態１の変形例に係る拡張方法は、図１６に示すように、第１速度テーブル移動ステップ３０５実施後、第２速度テーブル移動ステップ３０６を実施しながら収縮ステップ３０７を実施する事以外、実施形態１の拡張方法と同じである。また、本発明では、第１速度テーブル移動ステップ３０５と第２速度テーブル移動ステップ３０６とを順に実施しながら収縮ステップ３０７を実施しても良い。要するに、本発明では、収縮ステップ３０７は、少なくとも第２速度テーブル移動ステップ３０６と同時に実施されればよい。

変形例に係る拡張方法は、拡張ステップ３０３及び保持ステップ３０４後、第１速度テーブル移動ステップ３０５において第１の速度で保持テーブル３２を下降させた後、第１の速度よりも低速の第２の速度で保持テーブル３２を下降させて保持テーブル３２の保持面３２１とフレーム載置プレート３３の上面３３２とを同一平面上の高さに位置づけるので、エキスパンドテープ２０３が保持テーブル３２の保持面３２１から剥がれてしまうおそれを低減でき、実施形態１と同様に、チップ２１０同士の接触を抑制することができるという効果を奏する。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。実施形態１では、分割起点として改質層２０９を形成したが、本発明では、これに限定されることなく、分割起点としてレーザ加工溝又は切削溝を形成しても良い。

また、実施形態１では、拡張装置１は、ワークユニット２００のワーク２０１が図１７に示すように分割予定ライン２０６に形成された分割溝２１４により、分割予定ライン２０６に沿って個々のチップ２１０に分割されていても良い。

なお、図１７は、図２に示されたワークユニットの変形例を示す斜視図である。図１７は、実施形態１と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。分割溝２１４は、ワーク２０１を貫通して、ワーク２０１を個々のチップ２１０に分割するものであり、ワーク２０１に切削加工又はレーザーアブレーション加工が施されて形成される。

即ち、本発明では、拡張方法及び拡張装置１は、分割ステップ３０１においてＤＡＦ２０２を個々のチップ２１０毎に分割するとともに、分割ステップ３０１及び拡張ステップ３０３においてチップ２１０間の間隔を分割ステップ３０１及び拡張ステップ３０３前よりも広げても良い。

また、本発明では、ワークユニット２００は、ＤＡＦ２０２を備えていなくても良い。

１ 拡張装置
３１ フレーム固定ユニット
３２ 保持テーブル（テーブル）
３３ フレーム載置プレート（フレーム支持部）
３４ フレーム押さえプレート（フレーム押さえ部）
３５ シリンダ（昇降ユニット）
３６ 拡張ユニット
３７ 加熱ユニット
２００ ワークユニット
２０１ ワーク
２０３ エキスパンドテープ（テープ）
２０４ フレーム
３０２ フレーム固定ステップ
３０３ 拡張ステップ
３０４ 保持ステップ
３０５ 第１速度テーブル移動ステップ
３０６ 第２速度テーブル移動ステップ
３０７ 収縮ステップ
３２１ 保持面
３３２ 上面（フレーム支持面）
３４３ シリンダ（移動ユニット）
３６１ 押圧部材
３６２ シリンダ（押圧部材昇降ユニット）
３６３ 保持テーブル昇降ユニット（テーブル移動ユニット）

Claims (4)

1. ワークがテープを介してフレームに装着されたワークユニットの該テープを拡張する拡張方法であって、
   該ワークユニットの該フレームを支持するフレーム支持面を含むフレーム支持部と該フレーム支持部とともに該フレームを挟持するフレーム押さえ部とを備えたフレーム固定ユニットで該フレームを固定するフレーム固定ステップと、
   該フレーム固定ステップを実施した後、該ワークユニットの該テープ側から該ワークの外側の該テープを押圧して該テープを拡張し該ワークを該フレーム支持面から離反した位置に位置づける拡張ステップと、
   該拡張ステップを実施した後、該ワークを吸引保持する保持面を有したテーブルで該テープを介して該ワークを吸引保持する保持ステップと、
   該保持ステップを実施した後、該テーブルの該保持面を該フレーム支持面の高さ位置に近づくように該テーブルを第１の速度で移動させる第１速度テーブル移動ステップと、
   該第１速度テーブル移動ステップを実施した後、該テーブルの保持面と該フレーム支持面が同一面になるように該テーブルを該第１の速度よりも低速の第２の速度で移動させる第２速度テーブル移動ステップと、
   該ワークの外側の該テープを加熱し収縮させる収縮ステップと、を備えた拡張方法。
2. 該収縮ステップは、該第２速度テーブル移動ステップの実施後に実施される、請求項１に記載の拡張方法。
3. 該収縮ステップは、少なくとも該第２速度テーブル移動ステップと同時に実施される、請求項１に記載の拡張方法。
4. ワークがテープを介してフレームに装着されたワークユニットの該テープを拡張する拡張装置であって、
   該ワークユニットの該フレームを支持するフレーム支持面を含むフレーム支持部と、該フレーム支持部を昇降させる昇降ユニットと、該昇降ユニットにより上昇させたフレーム支持部とともに該フレームを挟持するフレーム押さえ部と、を備えるフレーム固定ユニットと、
   該フレーム固定ユニットで該フレームが固定された該ワークユニットの該テープ側から該ワークの外側の該テープを押圧して該テープを拡張し該ワークを該フレーム支持面から離反した位置に位置づける押圧部材と、該押圧部材が該テープを拡張した状態で、該ワークが載置された保持面に該テープを介して該ワークを吸引保持するテーブルと、該押圧部材を昇降させるとともに該押圧部材を上昇させると該テープを拡張し該ワークを該フレーム支持面から離反した位置に位置づける押圧部材昇降ユニットと、該テーブルが該テープを介して該ワークを吸引保持し、該昇降ユニットが該フレーム支持部を下降させ、該押圧部材昇降ユニットが該押圧部材を下降させた状態で、該テーブルの該保持面を該フレーム支持面の高さ位置に近づくように該テーブルを第１の速度で移動させるとともに、該テーブルを該第１の速度で移動させた後、該テーブルの該保持面と該フレーム支持面が同一面になるように該テーブルを該第１の速度よりも低速の第２の速度で移動させるテーブル移動ユニットと、を備えた拡張ユニットと、
   該ワークの外側の該テープを加熱し収縮させる加熱ユニットと、を備えた拡張装置。

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