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JP2023037978A - Con型ゼオライト、con型ゼオライトの製造方法、触媒および低級オレフィンの製造方法 - Google Patents

Con型ゼオライト、con型ゼオライトの製造方法、触媒および低級オレフィンの製造方法 Download PDF

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JP2023037978A JP2021144835A JP2021144835A JP2023037978A JP 2023037978 A JP2023037978 A JP 2023037978A JP 2021144835 A JP2021144835 A JP 2021144835A JP 2021144835 A JP2021144835 A JP 2021144835A JP 2023037978 A JP2023037978 A JP 2023037978A
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博暁 小野塚
Hiroaki Onozuka
龍杰 安
Longjie AN
尚之 坂本
Naoyuki Sakamoto
出 堤内
Izuru Tsutsumiuchi
俊之 横井
Toshiyuki Yokoi
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Mitsubishi Chemical Corp
Tokyo Institute of Technology NUC
Japan Technological Research Association of Artificial Photosynthetic Chemical Process
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Mitsubishi Chemical Corp
Tokyo Institute of Technology NUC
Japan Technological Research Association of Artificial Photosynthetic Chemical Process
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Abstract

【課題】触媒として長寿命化を達成できるCON型ゼオライトを提供する。【解決手段】窒素吸脱着測定において、tプロットにより算出した外表面積(A1)に対する、BETプロットにより算出したBET比表面積(A2)の割合(A2/A1)が、10以下であり、構成元素としてケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とを含有し、ケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とのモル比(Si/Al)が380以上480以下であり、且つ、BET比表面積(A2)が620m2/g以上である、CON型ゼオライト。このCON型ゼオライトを含む触媒。メタノールおよび/またはジメチルエーテルを含む原料に、この触媒を接触させる工程を備える低級オレフィンの製造方法。【選択図】図2

Description

本発明はCON型ゼオライトに関し、より詳細には触媒として使用した際に、長寿命化を達成できるCON型ゼオライトおよびその製造方法に関する。また、当該ゼオライトを含む触媒と、この触媒を用いた低級オレフィンの製造方法に関する。
なお、本明細書において、低級オレフィンとは、エチレン、プロピレンおよびブテンを意味する。言い換えれば炭素数2から4のオレフィンである。
エチレン、プロピレン、ブテンといった低級オレフィンを製造する方法としては、従来からナフサのスチームクラッキングや減圧軽油の流動接触分解が一般的に実施されており、近年ではエチレンと2-ブテンを原料としたメタセシス反応やメタノールおよび/またはジメチルエーテルを原料としたMTO(メタノール to オレフィン)プロセスが知られている。
例えば特許文献1に開示されているように、メタノールおよび/またはジメチルエーテルを原料として、CON型構造を有するゼオライト(CIT-1ゼオライト)を活性成分として含む触媒を使用することにより、プロピレンとブテンを高収率で製造することができ、更に、プロピレン製造時のエチレンの副生を抑制することができる。
また、特許文献2には、長時間に亘って高い原料転化率を維持可能なCON型ゼオライト触媒として、Al27-MAS-NMR測定における信号強度が特定の範囲内であるCON型ゼオライトが提案されている。
特開2013-245163号公報 国際公開第2017/090751号
特許文献1、2では、高い収率で低級オレフィンを製造できることや、高い原料転化率を維持できることが開示されている。しかしながらCON型ゼオライトは、触媒としての寿命が必ずしも十分とはいえず、触媒再生のために頻繁に反応ガスと再生ガスを切り替える必要があった。
本発明は、上記課題を解決するものであり、触媒として長寿命化を達成できるCON型ゼオライトを提供することを課題とする。
本発明者らは上記課題を解決すべく検討を進め、CON型ゼオライトの外表面積(A1)に対するBET比表面積(A2)の割合と、構成元素としてのケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とのモル比(Si/Al)を適切なものとすることで、触媒として長寿命化を達成できるCON型ゼオライトを提供することができることを見出し、本発明を完成させた。
本発明は、以下の要旨を含む。
[1]窒素吸脱着測定において、tプロットにより算出した外表面積(A1)に対する、BETプロットにより算出したBET比表面積(A2)の割合(A2/A1)が、10以下であり、構成元素としてケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とを含有し、ケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とのモル比(Si/Al)が380以上480以下であり、且つ、BET比表面積(A2)が620m/g以上である、CON型ゼオライト。
[2]窒素吸脱着測定において、tプロットにより算出した外表面積(A1)に対する、BETプロットにより算出したBET比表面積(A2)の割合(A2/A1)が7以下であり、構成元素としてケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とを含有し、ケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とのモル比(Si/Al)が380以上480以下であり、且つ、BET比表面積(A2)が400m/g以上である、CON型ゼオライト。
[3][1]または[2]に記載のCON型ゼオライトの製造方法であって、ゼオライトの合成原料ゲルに界面活性剤を添加する工程を含む、CON型ゼオライトの製造方法。
[4]低級オレフィンを生成する反応に用いられる触媒であって、[1]または[2]に記載のCON型ゼオライトを含む触媒。
[5]メタノールおよび/またはジメチルエーテルを含む原料に、[4]に記載の触媒を接触させる工程を備える、低級オレフィンの製造方法。
本発明によれば、触媒として長寿命化を達成できるCON型ゼオライトを提供することができる。また、触媒として長寿命化を達成できるCON型ゼオライトを製造する方法を提供することができる。更には、当該ゼオライトを触媒として用いた低級オレフィンの製造方法を提供できる。
実施例1および比較例1~4に係るCON型ゼオライトの、吸脱着等温線を示すグラフである。なお、グラフの見やすさのため、実施例1および比較例1~3はそれぞれ縦軸を+400、+300、+200、+100[ml(STP)/g]している。吸着側を塗りつぶしたマーカー、脱着側を塗りつぶしていないマーカーで表す。 実施例1および比較例1,2に係るCON型ゼオライトを触媒として用いた低級オレフィンの製造Iにおける、メタノール転化率(図2中、○で示す。)、各成分の選択率の推移を示すグラフである。 比較例1,3,4に係るCON型ゼオライトを触媒として用いた低級オレフィンの製造IIにおける、メタノール転化率の推移を示すグラフである。
以下、本発明について詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施形態の一例(代表例)であり、本発明はこれらの内容に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
[CON型ゼオライト]
本発明の一実施形態はCON型ゼオライトであり、窒素吸脱着測定において、tプロットにより算出した外表面積(A1)に対する、BETプロットにより算出したBET比表面積(A2)の割合(A2/A1)が、10以下であり、構成元素としてケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とを含有し、ケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とのモル比(Si/Al)が380以上480以下であり、且つ、BET比表面積(A2)が620m/g以上である。
また、本発明の別の実施形態はCON型ゼオライトであり、窒素吸脱着測定において、tプロットにより算出した外表面積(A1)に対する、BETプロットにより算出したBET比表面積(A2)の割合(A2/A1)が7以下であり、構成元素としてケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とを含有し、ケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とのモル比(Si/Al)が380以上480以下であり、且つ、BET比表面積(A2)が400m/g以上である。
CON型ゼオライトは、その構成単位として、2つの12員環構造と、1つの10員環構造が交差した形状を有する3次元細孔構造を有するゼオライトである。この12員環構造を有するCON型ゼオライトは、8員環構造のみで構成されるCHA型ゼオライトや、10員環構造のみで構成されるMFI型ゼオライトと比較して、反応生成物の細孔内拡散において有利となる。また、CON型ゼオライトは、12員環構造と10員環構造がジグザグに交差する構造をとり、3方向の細孔が1箇所で交差しないため、インターセクションのスペースが小さく、反応によるコークが生成しにくく、反応活性の顕著な低下を招きにくいと考えられ、触媒寿命が長いという利点がある。
本実施形態においてCON型ゼオライトは、窒素吸脱着測定において、tプロットにより算出した外表面積(A1)に対する、BETプロットにより算出したBET比表面積(A2)の割合(A2/A1)が、10以下であり、且つ、BET比表面積(A2)が620m/g以上であるか、或いは、(A2/A1)が7以下であり、且つ、BET比表面積(A2)が400m/g以上である。
BET比表面積(A2)が上記下限値以上であることで、十分な触媒効率を得ることができる。具体的にはBET比表面積(A2)は400m/g以上であってよく、その場合好ましくは500m/g以上、より好ましくは550m/g以上、さらに好ましくは600m/g以上である。またBET比表面積(A2)は620m/g以上であってよく、その場合好ましくは630m/g以上、より好ましくは640m/g以上である。BET比表面積(A2)の上限は特に限定されないが、通常2000m/g以下である。
加えて、外表面積(A1)に対する、BET比表面積(A2)の割合(A2/A1)が、上記上限値以下であることで、CON型ゼオライトの触媒としての機能が長寿命化する。(A2/A1)は10以下であってよく、その場合好ましくは9.5以下である。また(A2/A1)は7以下であってよく、その場合好ましくは6以下、さらに好ましくは5以下、特に好ましくは4以下である。(A2/A1)の下限値は特に限定されないが、通常2以上である。
BET比表面積(A2)、および外表面積(A1)に対するBET比表面積(A2)の割合(A2/A1)、並びに後述のマイクロ孔容積(A3)は窒素吸脱着測定から算出することができ、例えばマイクロトラック・ベル社製Belsorp-miniIIを用いて行うことができる。そしてデータ解析はマイクロトラック・ベル社製の解析ソフトBELMasterを用いて行うことができる。ここで、BET比表面積(A2)は相対圧(P/P)が0.002~0.06の測定データをBETプロットすることにより算出する。外表面積(A1)およびマイクロ孔容積(A3)は相対圧(P/P)が0.20~0.42のデータをtプロットすることにより算出する。尚、標準等温線としてHarkins-Juraを用いる。
上記(A2)の値、および(A2/A1)を特定の範囲とすることは、例えば、種結晶としてCON型ゼオライトを用いることや、後述するようにCON型ゼオライトの製造工程において、ゼオライトの合成原料ゲルに界面活性剤を添加することにより、達成できる。
本実施形態において、CON型ゼオライトは、上記(A2)の値、および(A2/A1)を満たす結晶性メタロシリケートであり、前記メタロシリケートは、構成元素としてケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とを必須成分として含有し、ケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とのモル比(Si/Al)が380以上480以下であるものである。
CON型ゼオライトの上記(A2)の値、および(A2/A1)が特定の範囲であって、かつケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とのモル比(Si/Al)が380以上480以下であることで、触媒としての寿命が著しく改善される。この効果の観点から、ケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とのモル比(Si/Al)は390以上であることが好ましく、400以上であることがより好ましい。一方、ケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とのモル比(Si/Al)は470以下であることが好ましく、460以下であることがより好ましい。
本実施形態のCON型ゼオライトに構成元素として含まれるケイ素(Si)およびアルミニウム(Al)以外のそのほかの元素としては特に限定はされないが、例えばホウ素(B)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、鉄(Fe)、亜鉛(Zn)、ガリウム(Ga)、ゲルマニウム(Ge)、ジルコニウム(Zr)、錫(Sn)から選ばれる1種または2種以上が挙げられる。
具体的に好ましくは、構成元素としてSiおよびAlを含有する結晶性アルミノシリケートに加えGaを含有する結晶性ガロアルミノシリケートが挙げられる。これらのゼオライトは、ゼオライト骨格内のAlやGaが酸点となり、触媒反応の活性点として働くため、触媒活性に優れる。
また、CON型ゼオライトは、後述する原料ゲル中にホウ素化合物を添加することによって得られやすくなることから、B(ホウ素)を構成元素として含んでいてもよい。このような例としては、構成元素としてSiおよびAlとBを含む結晶性ボロアルミノシリケートや、更にGaを含む結晶性ガロボロアルミノシリケート等が挙げられる。
構成元素としてSiおよびAlに加えてGaを含む結晶性ガロアルミノシリケート、結晶性ガロボロアルミノシリケートの場合、Gaの含有量比率としては特に限定されるものではないが、Si/Gaモル比は100以上、特に200以上、とりわけ400以上で、8000以下、特に4000以下、とりわけ2000以下であり、Ga/Alモル比は0.05以上、特に0.1以上、とりわけ0.2以上で、4以下、特に2以下、とりわけ1以下であることが、十分な触媒活性を有するとともに、触媒寿命が極めて優れたゼオライト触媒とすることができ、好ましい。
また、本実施形態のCON型ゼオライトがBを有する場合、Si/Bモル比は、特に限定されないが、通常3以上、好ましくは5以上、より好ましくは10以上、さらに好ましくは20以上で、上限は例えば100000以下、50000以下、または10000以下であってよい。
尚、本実施形態のCON型ゼオライトのSi、Al、Ga、B等の含有量は、通常、誘導結合プラズマ発光分光分析(ICP-AES)等により製造されたCON型ゼオライトについて測定された値であり、原料の仕込みの比率ではない。
本実施形態のCON型ゼオライトのイオン交換サイトは、特に限定されず、H型であっても、金属イオンで交換されたものであってもよい。ここで、金属イオンとは、具体的にはアルカリ金属イオンやアルカリ土類金属イオン、セリウム、タングステン、マンガン、鉄等である。
本実施形態のCON型ゼオライトのマイクロ孔容積(A3)は、特に限定されるものでなく、通常0.1ml/g以上、好ましくは0.15ml/g以上、より好ましくは0.20ml/g以上であって、通常3ml/g以下、好ましくは2ml/g以下である。
本実施形態のCON型ゼオライトの平均一次粒子径は、特に限定されるものではなく、通常3μm以下、好ましくは1μm以下、さらに好ましくは700nm以下、特に好ましくは300nm以下である。また通常20nm以上、好ましくは40nm以上である。
ここで、CON型ゼオライトの平均一次粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM)により求めることができる。
[CON型ゼオライトの製造方法]
以下、本実施形態のCON型ゼオライトを製造する方法について説明する。
CON型ゼオライトは一般的に水熱合成法によって調製することが可能である。例えば水にアルカリ源、構造規定剤、好ましくはN,N,N-トリメチル-(-)-cis-ミルタニルアンモニウムハイドロキサイドを加えて撹拌し、さらに、アルミニウム源、ガリウム源およびホウ素源、シリカ源等を加えて均一なゲルを生成させ、得られた原料ゲルをオートクレーブ等の加圧加熱容器中で120~200℃に保持して結晶化させる。結晶化の際に、必要に応じて種結晶を添加してもよく、製造性の面では種結晶を添加する方が、操作性が向上する点で好ましい。種結晶としては、CON型ゼオライトやBEA型ゼオライトを用いることが好ましく、特にCON型ゼオライトを用いることが好ましい。
また、この結晶化の際には、原料ゲルに界面活性剤を添加することが好ましい。界面活性剤を添加することにより、ゼオライトが微粒子化し、(A2)の値および(A2/A1)の値を所望の範囲に調整しやすくなる。
界面活性剤としては、カチオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、両性界面活性剤等を、単独でまたは組み合わせて用いることができる。界面活性剤としては、適度な結晶成長阻害剤として働くカチオン界面活性剤が好ましく、一例として、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、水酸化ヘキサデシルトリメチルアンモニウムなどが挙げられる。
原料ゲルへの界面活性剤の添加量は特に限定されないが、原料ゲルのSiに対するモル比として好ましくは0.001以上、さらに好ましくは0.002以上、特に好ましくは0.005以上であり、また好ましくは0.05以下、さらに好ましくは0.03以下、特に好ましくは0.015以下である。
原料ゲルの結晶化後は、結晶化した原料ゲルを濾過および洗浄した後、固形分を100~200℃で乾燥し、引続き400~900℃で焼成することによって、ゼオライト粉末として得ることができる。
なお、従来CON型ゼオライトは核発生・結晶成長速度が遅く、5~21日間程度の比較的長い時間をかけて合成されてきたため、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウムなどの界面活性剤を導入することは行われていなかった。なぜなら界面活性剤は結晶成長を阻害するため、界面活性剤を添加すると結晶化が困難であると考えられてきたためである。本実施形態では合成条件の最適化により、実用的な時間で結晶化ができ、(A2)の値および(A2/A1)の値を、これまで得られていなかった範囲にすることを可能にでき、触媒として特に優れた長寿命を得ることができる。
原料ゲルの調製に用いるシリカ源としては、フュームドシリカ、シリカゾル、シリカゲル、二酸化珪素、水ガラスなどのシリケートやテトラエトキシオルソシリケートやテトラメトキシシランなどの珪素のアルコキシド、珪素のハロゲン化物等の1種または2種以上を用いることができる。
アルミニウム源としては硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、擬ベーマイト、アルミニウムアルコキシド、水酸化アルミニウム、アルミナゾル、アルミン酸ナトリウム等の1種または2種以上を用いることができる。
ガリウム源としては硝酸ガリウム、硫酸ガリウム、リン酸ガリウム、塩化ガリウム、臭化ガリウム、水酸化ガリウム等の1種または2種以上を用いることができる。
ホウ素源としてはホウ酸、ホウ酸ナトリウム、酸化ホウ素等の1種または2種以上を用いることができる。
種結晶として用いるCON型ゼオライトのケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とのモル比(Si/Al)には特に制限はないが25~10000の範囲であることが好ましい。また、種結晶は添加するシリカ源に対して1~20質量%程度用いることが好ましい。
CON型ゼオライトは、合成時に構成元素の量(Si,Al,Ga,B等)を調整することで、含有金属量を調整することができる。また、構成元素の一部をスチーミングや酸処理等により除去して含有量を調整したものを用いることもできる。
本実施形態では、水熱合成により調製したCON型ゼオライトを、界面活性剤の存在下、アルカリで処理するアルカリ処理を行ってもよい。アルカリ処理により、ゼオライトがメソ構造化し、(A2)の値および(A2/A1)の値を所望の範囲に調整しやすくなる。
アルカリ処理工程に用いる界面活性剤としては、カチオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、両性界面活性剤等を、単独でまたは組み合わせて用いることができる。一例として、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、水酸化ヘキサデシルトリメチルアンモニウムなどが挙げられる。
アルカリ処理工程における界面活性剤の濃度は特に限定されず、処理液中に0.1~10質量%程度含有させることができる。
アルカリ処理のためのアルカリは特に限定されず、アンモニア溶液、水酸化ナトリウム溶液などを用いることができ、アルカリの程度も特に限定されず、例えばpHが9~12程度であればよい。
アルカリ処理は、CON型ゼオライトをアルカリと接触させればよいが、界面活性剤を含むアルカリ溶液中で撹拌してもよい。また、アルカリ処理の温度も特段限定されず、例えば100~200℃程度であればよい。アルカリ処理の時間も特段限定されず、界面活性剤を含むアルカリ溶液中に0.1~24時間浸漬すればよい。
アルカリ処理後乾燥させ、触媒として用いるために再度焼成を行い、取り込まれた界面活性剤を除去することが望ましい。
[触媒]
本実施形態のCON型ゼオライトは触媒として使用することができる。特に、本実施形態のCON型ゼオライトは、低級オレフィンを生成する反応に用いられる触媒として有用であるが、本実施形態のゼオライト触媒の用途としては低級オレフィン製造用触媒に限られず、p-キシレンの製造、エチルベンゼン、クメンの製造、軽質炭化水素の芳香族化、水素化分解、水素化脱ろう、アルカンの異性化、自動車排ガス浄化などにも好適に用いられる。
本実施形態のCON型ゼオライトは、そのまま本発明における触媒として反応に用いてもよいし、反応に不活性な他の物質、例えばアルカリ土類金属やケイ素を含む化合物との混合物として用いてもよいし、バインダーを用いて、造粒ないし成形して反応に用いてもよい。該反応に不活性な物質やバインダーとしては、アルミナまたはアルミナゾル、シリカ、シリカゲル、シリケート、石英、および、それらの混合物等が挙げられる。これらの中でも工業触媒として強度と触媒性能が優れることが期待される点でシリカが好ましい。これらの物質と混合することは、触媒全体のコスト削減、触媒の高密度化、触媒強度増加にも効果的である。
本実施形態のCON型ゼオライトを含む触媒を用いて低級オレフィンを製造する方法において、原料としてはメタノール、ジメチルエーテルが挙げられるがこれに限定されず、目的とするオレフィンの種類によって適宜選択することができる。
以下に、上記触媒を用いる低級オレフィンの製造方法について、原料がメタノールおよび/またはジメチルエーテルである場合を例示して説明する。
[低級オレフィンの製造方法]
本発明の別の実施形態である低級オレフィンの製造方法は、メタノールおよび/またはジメチルエーテルを含む原料に、上記CON型ゼオライトを含む触媒を接触させる工程を備える。
原料として用いるメタノールおよびジメチルエーテルの製造由来は特に限定されない。例えば、石炭および天然ガス、ならびに製鉄業における副生物由来の水素/COの混合ガスの水素化反応により得られるもの、植物由来のアルコール類の改質反応により得られるもの、発酵法により得られるもの、再循環プラスチックや都市廃棄物等の有機物質から得られるもの、二酸化炭素を原料としたメタノール合成反応により得られるもの等が挙げられる。このとき各製造方法に起因するメタノールおよびジメチルエーテル以外の化合物が任意に混合した状態のものをそのまま用いてもよいし、精製したものを用いてもよい。
なお、反応原料としては、メタノールのみを用いてもよく、ジメチルエーテルのみを用いてもよく、これらを混合して用いてもよい。メタノールとジメチルエーテルを混合して用いる場合、その混合割合に制限はない。
本実施形態における反応様式としては、メタノールおよび/またはジメチルエーテル供給原料が反応域において気相であれば特に限定されず、流動床反応装置、移動床反応装置または固定床反応装置を用いた公知の気相反応プロセスを適用することができる。固定床反応装置の場合、特に附帯設備を含めた設備費、触媒コスト、運転管理の点で有利である。
また、バッチ式、半連続式または連続式のいずれの形態でも行われ得るが、連続式で行うのが好ましく、その方法は、単一の反応器を用いた方法でもよいし、直列または並列に配置された複数の反応器を用いた方法でもよい。
なお、固定床反応器に前述の触媒を充填する際、触媒層の温度分布を小さく抑えるために、石英砂、アルミナ、シリカ、シリカ-アルミナ等の反応に不活性な粒状物を、触媒と混合して充填してもよい。この場合、石英砂等の反応に不活性な粒状物の使用量は特に制限はない。なお、この粒状物は、触媒との均一混合性の面から、触媒と同程度の粒径であることが好ましい。
また、反応器には、反応に伴う発熱を分散させることを目的に、反応基質(反応原料)を分割して供給してもよい。
反応器に供給する全供給成分中の、メタノールとジメチルエーテルの合計濃度(基質濃度)に関しては特に制限はないが、メタノールとジメチルエーテルの和は、全供給成分中、90モル%以下が好ましい。更に好ましくは10モル%以上70モル%以下である。
反応器内には、メタノールおよび/またはジメチルエーテルの他に、ヘリウム、アルゴン、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、水素、水、パラフィン類、メタン等の炭化水素類、芳香族化合物類、および、それらの混合物など、反応に不活性な気体(希釈剤とも称する。)を存在させることができるが、この中でも水(水蒸気)が共存しているのが、分離が良好であることから好ましい。
このような希釈剤としては、反応原料に含まれている不純物をそのまま使用してもよいし、別途調製した希釈剤を反応原料と混合して用いてもよい。また、希釈剤は反応器に入れる前に反応原料と混合してもよいし、反応原料とは別に反応器に供給してもよい。
反応温度の下限としては、通常約200℃以上、好ましくは250℃以上、より好ましくは300℃以上、特に好ましくは400℃以上であり、反応温度の上限としては、通常750℃以下、好ましくは700℃以下、より好ましくは600℃以下である。反応温度が低すぎると、反応速度が低く、未反応原料が多く残る傾向となり、更に低級オレフィンの収率も低下する。一方で反応温度が高すぎると触媒の安定活性が得られにくく低級オレフィンの収率が著しく低下する。なお、ここで、反応温度とは、触媒層出口の温度をさす。
反応圧力の上限は通常5MPa(絶対圧、以下同様)以下、好ましくは2MPa以下であり、より好ましくは1MPa以下、より好ましくは0.7MPa以下、特に好ましくは0.4MPa以下である。また、反応圧力の下限は特に制限されないが、通常0.1kPa以上、好ましくは7kPa以上、より好ましくは50kPa以上である。反応圧力が高すぎるとパラフィン類や芳香族化合物等の好ましくない副生成物の生成量が増え、低級オレフィンの収率が低下する傾向がある。反応圧力が低すぎると反応速度が遅くなる傾向がある。
反応器出口ガス(反応器流出物)としては、反応生成物である低級オレフィン、副生成物および希釈剤を含む混合ガスが得られる。該混合ガス中の低級オレフィン濃度は通常5~95質量%である。
反応条件によっては反応生成物中に未反応原料としてメタノールおよび/またはジメチルエーテルが含まれるが、メタノールおよび/またはジメチルエーテルの転化率が100%になるような反応条件で反応を行うのが好ましい。それにより、反応生成物と未反応原料との分離が容易に、好ましくは不要になる。
副生成物としては炭素数が5以上のオレフィン類、パラフィン類、芳香族化合物および水が挙げられる。
反応器出口ガスとしての、反応生成物である低級オレフィン、未反応原料、副生成物および希釈剤を含む混合ガスは、公知の分離・精製設備に導入し、それぞれの成分に応じて回収、精製、リサイクル、排出の処理を行えばよい。
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明の範囲が以下の実施例のみに限定されないことは言うまでもない。
[実施例1]
30.9質量%N,N,N-トリメチル-(-)-cis-ミルタニルアンモニウムハイドロキサイド(表1中、「TMMAOH」と記載する。)水溶液5.523g、8M水酸化ナトリウム水溶液0.686gおよび脱塩水17.302gを混合し、これにホウ酸(HBO)0.247gおよび硫酸アルミニウム0.020gを加えて撹拌した後に、シリカ源としてヒュームドシリカ(Cab-O-sil M7D CABOT社製)を2.403g加えて十分に撹拌した。さらに臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム(表1中、「CTAB」と記載する。)を0.145g(Siに対するモル比として0.01)加えて撹拌した後に、種結晶(Seed)としてCON型ゼオライト(Si/Al=270)を0.048g加えて、撹拌することにより原料ゲルを調製した。
得られた原料ゲルをオートクレーブに仕込み、40rpm回転下、170℃で7日間加熱て水熱合成を行った。生成物を濾過、水洗した後、100℃で乾燥させ、白色粉末を得た。生成物のX線回折(XRD)パターンから、得られた生成物がCON型ゼオライトであることを確認した。乾燥後に、空気雰囲気下、600℃で6時間焼成し、ナトリウム型ゼオライト粉末を得た。
得られた粉末を2.5N硝酸アンモニウム水溶液中で80℃、2時間のイオン交換を行い、その後濾過、乾燥した。乾燥した粉末を再び2.5N硝酸アンモニウム水溶液中で80℃、3時間のイオン交換を行い、その後濾過、乾燥してアンモニウム型ゼオライト粉末を得た。その後空気雰囲気下、600℃で3時間焼成して実施例1のプロトン型ゼオライト粉末を得た。
[比較例1]
30.9質量%N,N,N-トリメチル-(-)-cis-ミルタニルアンモニウムハイドロキサイド水溶液5.522g、8M水酸化ナトリウム水溶液0.642gおよび脱塩水17.321gを混合し、これにホウ酸0.247gおよび硫酸アルミニウム0.026gを加えて撹拌した後に、シリカ源としてヒュームドシリカ(Cab-O-sil M7D CABOT社製)を2.404g加えて十分に撹拌した。さらに臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウムを0.146g加えて撹拌した後に、種結晶としてCON型ゼオライト(Si/Al=270)を0.049g加えて、撹拌することにより原料ゲルを調製した。得られた原料ゲルを実施例1と同様の方法で加熱・後処理し、比較例1のプロトン型ゼオライト粉末を得た。
[比較例2]
30.9質量%N,N,N-トリメチル-(-)-cis-ミルタニルアンモニウムハイドロキサイド水溶液5.505g、8M水酸化ナトリウム水溶液0.657gおよび脱塩水17.310gを混合し、これにホウ酸0.248gおよび硫酸アルミニウム0.016gを加えて撹拌した後に、シリカ源としてヒュームドシリカ(Cab-O-sil M7D CABOT社製)を2.406g加えて十分に撹拌した。さらに臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウムを0.146g加えて撹拌した後に、種結晶としてCON型ゼオライト(Si/Al=270)を0.048g加えて、撹拌することにより原料ゲルを調製した。得られた原料ゲルを実施例1と同様の方法で加熱・後処理し、比較例2のプロトン型ゼオライト粉末を得た。
[比較例3]
水酸化ナトリウム0.050g、30.0質量%N,N,N-トリメチル-(-)-cis-ミルタニルアンモニウムハイドロキサイド水溶液2.85gおよび脱塩水2.90gを混合し、これにホウ酸0.050gおよび硫酸アルミニウム0.016gを加えて撹拌した後に、シリカ源としてコロイダルシリカ(CataloidSI-30 日揮触媒化成社製)を3.97g加えて十分に撹拌した。さらに種結晶としてCON型ゼオライト(Si/Al=270)を0.024g加えて、撹拌することにより原料ゲルを調製した。
得られた原料ゲルをオートクレーブに仕込み、15rpm回転下、170℃で5日間加熱した。生成物を濾過、水洗した後、100℃で乾燥させ、白色粉末を得た。生成物のX線回折(XRD)パターンから、得られた生成物がCON型ゼオライトであることを確認した。乾燥後に、空気雰囲気下、600℃で6時間焼成し、ナトリウム型ゼオライト粉末を得た。
得られた粉末を1N硝酸アンモニウム水溶液中で80℃、1時間のイオン交換を行い、その後濾過した。濾過した粉末を再び1N硝酸アンモニウム水溶液中で80℃、1時間のイオン交換を行い、その後、濾過、乾燥してアンモニウム型ゼオライト粉末を得た。その後空気雰囲気下、500℃で6時間焼成して比較例3のプロトン型ゼオライト粉末を得た。
[比較例4]
比較例3で得られたプロトン型ゼオライト0.200g、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム0.140g、脱塩水11.99g、10質量%アンモニア水0.81gを混合し、十分に撹拌した。得られたスラリーをオートクレーブに仕込み、静置下150℃7時間加熱した。生成物を濾過、水洗した後、100℃で乾燥させ、白色粉末を得た。乾燥後に、空気雰囲気下、600℃6時間焼成し、比較例4のゼオライト粉末を得た。
実施例1、比較例1~4に係る合成条件について表1にまとめた。
[ゼオライトの評価]
実施例1、比較例1~4に係るゼオライトについて以下の評価を行った。
<窒素吸脱着測定>
合成したプロトン型ゼオライト粉末の窒素吸脱着測定は、マイクロトラック・ベル社製Belsorp-miniIIを用いて行った。測定にあたり、ゼオライトを真空下に400℃で2時間加熱・乾燥させた後、液体窒素温度にて窒素吸脱着測定を実施した。図1に実施例1、比較例1~4に係るゼオライトの吸脱着等温線を示す。データ解析はマイクロトラック・ベル社製の解析ソフトBELMasterを用いて行った。BET比表面積(A2)は相対圧(P/P)が0.002~0.06の測定データをBETプロットすることにより算出した。外表面積(A1)およびマイクロ孔容積(A3)は相対圧(P/P)が0.20~0.42のデータをtプロットすることにより算出した。尚、標準等温線としてHarkins-Juraを用いた。
<元素分析>
元素分析は、誘導結合プラズマ発光分光分析(ICP-AES)により行った。実施例1、比較例1,2のゼオライトの測定には、島津製作所社製「ICPE-9000」を用いた。比較例3,4のゼオライトの測定には、サーモフィッシャーサイエンティフィック社製「iCAP7600Duo」を用いた。合成したボロアルミノシリケートのSi/Al、Si/Bモル比を表1に示す。
<低級オレフィンの製造I>
実施例1および比較例1,2で得られたゼオライトを用いて、低級オレフィンの製造を行った。反応には、固定床流通反応装置を用い、内径6mmの石英反応管に、予め整粒したプロトン型ゼオライト粉末50mg(粒径:1~0.5mm)を充填した。メタノール50モル%、窒素50モル%の混合ガスをメタノールの重量空間速度が15hr-1となるように反応器に供給し、500℃、0.1MPa(絶対圧)で反応を行った。反応開始から1時間毎にガスクロマトグラフィーで生成物の分析を行った。図2にメタノール転化率、各成分の選択率の推移を表したグラフを示す。表1に反応から2時間後のメタノール転化率(%)、エチレン選択率(C-mol%)、プロピレン選択率(C-mol%)、ブテン選択率(C-mol%)および触媒寿命(hr)を示す。なお、触媒寿命はメタノール転化率が90%以上を維持する時間として定義した。
<低級オレフィンの製造II>
比較例1,3,4で得られたゼオライトを用いて、低級オレフィンの製造を行った。反応には、固定床流通反応装置を用い、内径6mmの石英反応管に、予め混合したプロトン型ゼオライト粉末33mgおよび石英砂470mgを充填した。メタノール50モル%、窒素50モル%の混合ガスをメタノールの重量空間速度が15hr-1となるように反応器に供給し、500℃、0.1MPa(絶対圧)で反応を行った。反応開始から1時間毎にガスクロマトグラフィーで生成物の分析を行った。図3にメタノール転化率の推移を表したグラフを示す。表1に反応から2時間後のメタノール転化率(%)、エチレン選択率(C-mol%)、プロピレン選択率(C-mol%)、ブテン選択率(C-mol%)および触媒寿命(hr)を示す。なお、触媒寿命はメタノール転化率が99%以上を維持する時間として定義した。
Figure 2023037978000002
表1に示すように、外表面積(A1)に対するBET比表面積(A2)の割合(A2/A1)が小さく、BET比表面積(A2)が大きく、かつSi/Alが380以上480以下である実施例1に係るゼオライトは長期間高い原料転化率を維持していることが分かる。

Claims (5)

  1. 窒素吸脱着測定において、tプロットにより算出した外表面積(A1)に対する、BETプロットにより算出したBET比表面積(A2)の割合(A2/A1)が、10以下であり、構成元素としてケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とを含有し、ケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とのモル比(Si/Al)が380以上480以下であり、且つ、BET比表面積(A2)が620m/g以上である、CON型ゼオライト。
  2. 窒素吸脱着測定において、tプロットにより算出した外表面積(A1)に対する、BETプロットにより算出したBET比表面積(A2)の割合(A2/A1)が、7以下であり、構成元素としてケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とを含有し、ケイ素(Si)とアルミニウム(Al)とのモル比(Si/Al)が380以上480以下であり、且つ、BET比表面積(A2)が400m/g以上である、CON型ゼオライト。
  3. 請求項1または2に記載のCON型ゼオライトの製造方法であって、
    ゼオライトの合成原料ゲルに界面活性剤を添加する工程を含む、CON型ゼオライトの製造方法。
  4. 低級オレフィンを生成する反応に用いられる触媒であって、請求項1または2に記載のCON型ゼオライトを含む触媒。
  5. メタノールおよび/またはジメチルエーテルを含む原料に、請求項4に記載の触媒を接触させる工程を備える、低級オレフィンの製造方法。
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