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JP2023036389A - 位置決め装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法 - Google Patents

位置決め装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法 Download PDF

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Abstract

Figure 2023036389000001
【課題】位置決めの高精度化に有利な技術を提供すること。
【解決手段】位置決め装置は、ガイドと、前記ガイドによって案内されながら第1方向へ移動可能な可動体と、前記可動体を前記第1方向に駆動する駆動部とを有する。前記駆動部は、前記第1方向に延びる送りねじと、前記送りねじに螺合し、前記送りねじの回転に伴って前記第1方向に移動するナットと、前記ナットと前記可動体とを連結する連結部とを含む。前記連結部は、一端が前記可動体に接続され、他端が前記ナットに接続される、中空のロッドを含み、前記ロッドの中空部に、前記送りねじが挿通される。
【選択図】 図1

Description

本発明は、位置決め装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法に関する。
工作機械、計測機、ロボット、半導体製造装置などに使用される位置決め装置においては、テーブルを移動させるために送りねじが使用されうる。この場合、送りねじと螺合するナットとテーブルを固着すれば、最も簡潔な構成となるが、送りねじの曲がりの影響がテーブル側にダイレクトに伝達されてしまい、送り精度の低下を招くこととなる。
そのため、送りねじのナットとテーブルとの間を固着するのではなく球面軸受を介在させるものがある(例えば特許文献1)。
特開平5-280609号公報
しかし、従来技術の球面軸受けの使い方は、リニアガイドと送りねじとのミスアライメントへの完全対応ができていない。例えば、特許文献1の技術によれば、テーブルの進行方向に対するピッチングとヨーイングの偏角に対応できるが、テーブルの進行方向に対する水平方向への直交軸方向、およびテーブルの進行方向に対する垂直方向への直交軸方向への偏心には対応できない。そのため、露光装置等に求められる精密位置決めが必要なステージにとっては、無視できないレベルの停止位置誤差を招きうる。
本発明は、位置決めの高精度化に有利な技術を提供することを目的とする。
本発明の一側面によれば、ガイドと、前記ガイドによって案内されながら第1方向へ移動可能な可動体と、前記可動体を前記第1方向に駆動する駆動部と、を有し、前記駆動部は、前記第1方向に延びる送りねじと、前記送りねじに螺合し、前記送りねじの回転に伴って前記第1方向に移動するナットと、前記ナットと前記可動体とを連結する連結部と、を含み、前記連結部は、一端が前記可動体に接続され、他端が前記ナットに接続される、中空のロッドを含み、前記ロッドの中空部に、前記送りねじが挿通される、ことを特徴とする位置決め装置が提供される。
本発明によれば、位置決めの高精度化に有利な技術を提供することができる。
位置決め装置100の構成を示す斜視図。 図1のC-C’線に沿う要部断面図。 駆動部の設置誤差の具体例を示す図。 球面軸受の構成例を示す図。
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
図1は、実施形態における位置決め装置100の構成を示す斜視図である。図2は、図1のC-C’線に沿う要部断面図である。
位置決め装置100は、定盤1の上面1aの上で可動体としてのテーブル2を移動させるように構成されている。なお、位置決め装置100が後述するような基板を保持して移動するステージ装置において実現される場合には、テーブル2の上に基板を保持する基板チャックが搭載される。定盤1の上面1aは、互いに直交するY方向(第1方向)およびX方向(第2方向)に平行な面(XY面に平行な面)である。位置決め装置100は、定盤1の上面1aの上でテーブル2をX方向およびY方向の任意の位置に移動させることができるが、図1では説明を簡単にするため、テーブル2をY方向に移動させる構成のみが示されている。テーブル2をX方向に移動させる構成はテーブル2をY方向に移動させる構成と同様とすることができるので、その説明は省略する。
定盤1は、例えばクリーンルーム内の床面などに固設されうる。定盤1のX方向の両端面には、Y方向に延びる一対のリニアガイド3が設けられている。リニアガイド3は、テーブル2のY方向の移動を案内するガイド部材である。可動子3aは、リニアガイド3に係合してリニアガイド3上を移動可能である。テーブル2は、一対のリニアガイド3それぞれに設けられた可動子3aの上に搭載される。
位置決め装置100は、テーブル2をリニアガイド3に案内されてY方向に駆動する駆動部Dを備える。駆動部Dは、送りねじ4と、モータ5と、ナット6と、ナット6とテーブル2とを連結する連結部Lとを含みうる。送りねじ4は、定盤1上のX方向の中央、テーブル2の下方において、Y方向に延びるように配置される。なお、送りねじ4はボールねじであってもよい。ナット6は、送りねじ4に螺合している。送りねじ4の一端はモータ5の出力軸と接続されており、モータ5によって送りねじ4が回転駆動される。テーブル2は連結部Lを介してナット6と連結されている。したがって、送りねじ4が回転駆動されることにより、テーブル2はナット6を介してY方向に移動しうる。
連結部Lは、一端がテーブル2に接続され、他端がナット6に接続されるロッドRを含みうる。ロッドRは貫通孔付き(すなわち、中空)のロッドであり、該中空部に送りねじ4が挿通されている。ロッドRは一本のロッドでありうるが、複数のロッドを継ぎ合わせたものであってもかまわない。図2の例では、ロッドRは、第1ロッドR1と第2ロッドR2とで構成され、第1ロッドR1と第2ロッドR2とが連結継手10によって連結されている。
一例において、ロッドRの一端7a(第1ロッドR1の先端)および他端8a(第2ロッドR2の先端)は、球面状に形成されている。連結部Lは、ロッドRの球面状の一端7a(第1ロッドR1の先端)を揺動可能に支持する第1球面軸受7と、ロッドRの球面状の他端8a(第2ロッドR2の先端)を揺動可能に支持する第2球面軸受8とを更に含みうる。この場合、ロッドRの球面状の一端7a(第1ロッドR1の先端)は、第1球面軸受7を介してテーブル2に接続される。図2の例では、第1球面軸受7とテーブル2とは、連結部材9を介して連結される。また、ロッドRの球面状の他端8a(第2ロッドR2の先端)は、第2球面軸受8を介してナット6のフランジ6aに接続される。
第1球面軸受7および第2球面軸受8それぞれにも、ロッドRと同様の中空部が形成されている。ナット6、ロッドR、第1球面軸受7、および第2球面軸受8が同軸になるよう配置され、それにより直線状に整列された中空部内を送りねじ4が貫通する。
以上のような構成により、ナット6、ロッドR、第1球面軸受7、および第2球面軸受8が一体となって、送りねじ4により駆動され、テーブルを移動させることができる。
また、連結部Lは、第1球面軸受7および第2球面軸受8によってロッドRを揺動可能に支持している。連結部Lはその揺動によって、駆動部Dの設置誤差を吸収することが可能である。また、そのような設置誤差の吸収を実現するために、送りねじ4と送りねじ4が通る中空部の内壁との間には所定のクリアランスが設けられている。本実施形態において対応が求められるアライメント誤差の方向は、以下の方向を含む。
(1)水平面において、テーブル2の送り方向(Y方向(第1方向))に対して直交する方向(X方向(第2方向))。
(2)鉛直面において、テーブル2の送り方向(Y方向)に対して直交する方向(Z方向(第3方向))。
(3)X軸(第2方向の軸)まわりの回転方向(ピッチング)。
(4)Z軸(第3方向の軸)まわりの回転方向(ヨーイング)。
したがって、上記所定のクリアランスは、送りねじ4が、上記(1)~(4)に示された方向に関して連結部Lによって揺動可能に遊嵌されるように設定される。
駆動部Dの設置誤差の具体例として、例えば、図3(a)に示すような、ピッチングまたはヨーイングによりリニアガイド3と送りねじ4とが非平行になる場合(偏角モード)が考えられる。あるいは、図3(b)に示すような、第1ロッドR1と第2ロッドR2との接続ずれにより第1球面軸受7の回転中心Aおよび/または第2球面軸受8の回転中心Bが送りねじ4の中心軸からずれている場合(偏心モード)が考えられる。本実施形態の連結部Lによれば、このような場合でも、第1球面軸受7および第2球面軸受8が球面揺動することにより誤差を吸収することができる。
次に、第1球面軸受7および第2球面軸受8の具体的な構成について説明する。従来の球面軸受には、軸受け内部すきまがあるものの、ラジアル与圧を与えてもアキシアル与圧を与えても、球面垂直方向に均等な与圧がかけられない構造である。そのため、従来の一般的な球面軸受は、精密位置決めが必要なステージでの取り扱いには向かない軸受であることが分かっている。図4には、このような課題を解決する球面軸受の構成例が示されている。図4には、代表的に、第2球面軸受8の具体的な構成例が示されている。第1球面軸受7も第2球面軸受8と同様に構成できるため、第1球面軸受7の構成についての説明は省略する。
図4において、第2球面軸受8は、ロッドRの球面状の先端部(他端8a)を複数の鋼球14(球状転動体)を介して保持する保持器13を有しうる。また、第2球面軸受8は、保持器13によって保持されたロッドRの先端部に複数の鋼球14を介して与圧を与えるように、保持器13を包囲支持する外周部材12を有しうる。
外周部材12は、第1外周部材12aと第2外周部材12bとで構成されうる。第2球面軸受8は、第1外周部材12aと第2外周部材12bとによって、保持器13を介して、ロッドRの球状先端部(他端8a)を所定角度の範囲内で揺動自在に保持する。保持器13は、ロッドRの球状先端部(他端8a)を、複数の鋼球14を介して保持する。
第1外周部材12aと第2外周部材12bとは、例えばボルト16の締結によって固定されうる。第1外周部材12aおよび第2外周部材12bは、ロッドRの中空軸(送りねじ4の軸)を中心とする円環形状をなし、複数の鋼球14(球状転動体)を介して、ロッドRの球状先端部(他端8a)を保持器13と共に等圧状態で保持する。第1外周部材12aおよび第2外周部材12bの内側面15には、保持器13を嵌合挟持するために球面加工が施されている。また、第2外周部材12bには、内側面15の両外側に一面から他面に貫通するボルト16の頭部とねじ部を納める段付孔17が穿設され、第1外周部材12aにねじ孔18が螺刻されている。
以上のような第1球面軸受7および第2球面軸受8によれば、予圧を掛け隙間をなくすことができる。また、複数の鋼球14を介して第1外周部材12aおよび第2外周部材12bにロッドRの球状先端部(他端8a)が嵌合している。このように、第1球面軸受7および第2球面軸受8は、従来のようないわゆる滑り軸受ではなく、鋼球14を用いたころがり軸受としているので、予圧を設けた場合でも動きが円滑になる。
また、第1外周部材12aと第2外周部材12bとの結合面から保持器13の下側端部までの角度と、該結合面から第1外周部材12aの鋼球14転動面である内側面15端部までの開き角との間には、適宜な関係が成り立つ。それにより、許容傾斜角を大きくすることができ、がたつくことなく、且つ脱落することなくロッドRの球状先端部(他端8a)を支持することができる。したがって、第1球面軸受7および第2球面軸受8は、精密測定器具、精密加工機械、精密位置決め機構等に、より適した軸受であるということができる。
また、ロッドRの球状先端部(他端8a)を保持する保持器13は、例えば、受入開口面19aおよび開口面19bに平行に分割した分割体で構成されうる。そのような構成は、単純であり、強度上も申し分なく、組立て工程もより簡単化することができる。
<応用例>
前述の実施形態に係る位置決め装置の適用例を説明する。前述の位置決め装置は、種々の装置、例えば、ロボットや運輸、工作、加工、計測、製造に係る機械または装置(産業機械または装置)等における、対象物の位置決めに有用である。例えば、前述の位置決め装置は、産業機械としてのリソグラフィ装置(露光装置等)に備えられるステージ(XYステージ)装置における、ステージの位置決めに有用である。
リソグラフィ装置は、パターンを基板に形成する装置であって、例えば、露光装置、描画装置、インプリント装置として具現化されうる。露光装置は、例えば、(極端)紫外光を用いて基板(上のレジスト)に(潜像)パターンを形成する。また、描画装置は、例えば、荷電粒子線(電子線等)を用いて基板(上のレジスト)に(潜像)パターンを形成する。また、インプリント装置は、基板上のインプリント材を成型して基板上にパターンを形成する。ステージ装置は、基板を保持して移動するステージの位置決めを行うために上述の位置決め装置を含みうる。
<物品製造方法の実施形態>
本発明の実施形態における物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、上記のリソグラフィ装置(露光装置やインプリント装置、描画装置など)を用いて基板に原版のパターンを転写する工程と、かかる工程でパターンが転写された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。
1:定盤、2:テーブル、3:リニアガイド、4:送りねじ、5:モータ、6:ナット、100:位置決め装置

Claims (9)

  1. ガイドと、
    前記ガイドによって案内されながら第1方向へ移動可能な可動体と、
    前記可動体を前記第1方向に駆動する駆動部と、を有し、
    前記駆動部は、
    前記第1方向に延びる送りねじと、
    前記送りねじに螺合し、前記送りねじの回転に伴って前記第1方向に移動するナットと、
    前記ナットと前記可動体とを連結する連結部と、を含み、
    前記連結部は、一端が前記可動体に接続され、他端が前記ナットに接続される、中空のロッドを含み、
    前記ロッドの中空部に、前記送りねじが挿通される、
    ことを特徴とする位置決め装置。
  2. 前記ロッドの前記一端および前記他端は球面状に形成されており、
    前記連結部は、
    前記ロッドの球面状の前記一端を揺動可能に支持する第1球面軸受と、
    前記ロッドの球面状の前記他端を揺動可能に支持する第2球面軸受と、を更に含み、
    前記ロッドの前記一端は、前記第1球面軸受を介して前記可動体に接続され、前記ロッドの前記他端は、前記第2球面軸受を介して前記ナットに接続される、
    ことを特徴とする請求項1に記載の位置決め装置。
  3. 前記第1球面軸受および前記第2球面軸受にはそれぞれ中空部が形成されており、
    前記ナット、前記ロッド、前記第1球面軸受、および前記第2球面軸受が同軸になるように配置され、これらの中空部内を前記送りねじが貫通する、
    ことを特徴とする請求項2に記載の位置決め装置。
  4. 水平面において前記第1方向と直交する第2方向、鉛直面において前記第1方向と直交する第3方向、前記第2方向の軸まわりの回転方向、および前記第3方向の軸まわりの回転方向に関して、前記送りねじが前記連結部によって揺動可能に遊嵌されるように、前記送りねじと前記中空部との間のクリアランスが設定される、ことを特徴とする請求項3に記載の位置決め装置。
  5. 前記ロッドは、第1ロッドと、第2ロッドとを含み、
    前記第1ロッドと前記第2ロッドとが連結継手によって連結されており、
    前記第1ロッドと前記第2ロッドとの連結にずれが生じても前記送りねじが前記連結部によって揺動可能に遊嵌されるように、前記送りねじと前記中空部との間のクリアランスが設定される、ことを特徴とする請求項3または4に記載の位置決め装置。
  6. 前記第1球面軸受および前記第2球面軸受はそれぞれ、
    前記ロッドの球面状の先端部を複数の球状転動体を介して保持する保持器と、
    前記保持器によって保持された前記先端部に前記複数の球状転動体を介して与圧を与えるように、前記保持器を包囲支持する外周部材と、
    を有する、ことを特徴とする請求項2から5のいずれか1項に記載の位置決め装置。
  7. 請求項1から6のいずれか1項に記載の位置決め装置と、
    前記位置決め装置の前記可動体に搭載された基板チャックと、を備え、
    前記基板チャックによって保持された基板に原版のパターンを転写するように構成されている、ことを特徴とするリソグラフィ装置。
  8. 露光装置またはインプリント装置として構成されていることを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ装置。
  9. 請求項7または8に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを転写する工程と、
    前記パターンが転写された前記基板を加工する工程と、
    を有し、前記加工された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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US17/881,948 US11835872B2 (en) 2021-09-02 2022-08-05 Positioning apparatus, lithography apparatus, and article manufacturing method
KR1020220105972A KR102885563B1 (ko) 2021-09-02 2022-08-24 위치결정 장치, 리소그래피 장치, 및 물품 제조 방법
CN202211052047.3A CN115755529A (zh) 2021-09-02 2022-08-30 定位设备、光刻设备和物品制造方法

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08257865A (ja) * 1995-03-22 1996-10-08 Yaskawa Electric Corp テーブルの送り装置
JP2011058597A (ja) * 2009-09-14 2011-03-24 Nsk Ltd 低発塵直動アクチュエータ
US20140004964A1 (en) * 2012-06-28 2014-01-02 Eurocopter Device for end-to-end coupling of a supercritical transmission shaft, in particular for driving a rotorcraft rotor
JP2017035769A (ja) * 2015-08-13 2017-02-16 アズビル株式会社 4自由度機構

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3186188B2 (ja) 1992-04-02 2001-07-11 日本精工株式会社 テーブル送り装置
JP3390215B2 (ja) * 1993-07-30 2003-03-24 セイコーインスツルメンツ株式会社 テーブル駆動装置及び研削盤
JP4129654B2 (ja) * 1998-07-28 2008-08-06 Smc株式会社 クリーン搬送機器
JP5917255B2 (ja) * 2012-04-16 2016-05-11 キヤノン株式会社 案内装置、露光装置および物品の製造方法
KR101513607B1 (ko) * 2014-02-25 2015-04-21 포테닛 주식회사 소형 리니어 서보 액츄에이터

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08257865A (ja) * 1995-03-22 1996-10-08 Yaskawa Electric Corp テーブルの送り装置
JP2011058597A (ja) * 2009-09-14 2011-03-24 Nsk Ltd 低発塵直動アクチュエータ
US20140004964A1 (en) * 2012-06-28 2014-01-02 Eurocopter Device for end-to-end coupling of a supercritical transmission shaft, in particular for driving a rotorcraft rotor
JP2017035769A (ja) * 2015-08-13 2017-02-16 アズビル株式会社 4自由度機構

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