JP2023035862A - Diamine derivative having cyclobutane ring, and salt thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、シクロブタン環を有するジアミン並びにその塩、特にフレキシブル基板やフィルム、電気絶縁材料や液晶配向膜形成用のワニスに用いられる重合体の原料としてのジアミン並びに誘導体から形成される塩に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a diamine having a cyclobutane ring and a salt thereof, particularly a salt formed from a diamine and a derivative thereof as raw materials for polymers used in flexible substrates, films, electrical insulating materials, and varnishes for forming liquid crystal alignment films.
一般に、ジアミン類は、ポリイミド樹脂を製造するための原料やエポキシ硬化剤等に有用である。このようなジアミン類の中でも、例えば、電子機器分野等に用いられるポリイミド樹脂の原料としては、4,4‘-ジアミノフェニルエーテル等の芳香族系のジアミン化合物が主に用いられてきた。しかしながら、このような芳香族系のテトラカルボン酸二無水物は、その芳香族性に由来して、得られるポリイミド樹脂が着色してしまうことから、光学分野等の用途に用いるポリイミド樹脂の原料としては十分なものではなかった。また、このような芳香族系ジアミンを用いて得られるポリイミド樹脂は、溶媒に対する溶解性が低く、その加工性の点においても十分なものではなかった。 In general, diamines are useful as raw materials for producing polyimide resins, epoxy curing agents, and the like. Among such diamines, for example, aromatic diamine compounds such as 4,4'-diaminophenyl ether have been mainly used as raw materials for polyimide resins used in the field of electronic devices. However, such aromatic tetracarboxylic dianhydrides are used as raw materials for polyimide resins used in applications such as the optical field, since the resulting polyimide resins are colored due to their aromaticity. was not good enough. In addition, polyimide resins obtained using such aromatic diamines have low solubility in solvents and are not satisfactory in terms of workability.
一方、環状脂肪族系ジアミンに関しては1,4-シクロヘキサンジアミンなどが報告されているものの(特許文献1)、芳香族アミンと比較し脂肪族アミンは塩基性が高く、また製造方法も限られる事から、それほど検討されてこなかった。また、シクロブタン骨格を持つ1,3-ジアミンは2位と4位が4つメチル置換されたジアミンが知られているが、それ以外の置換基を持つものはほとんど報告されていない。(特許文献2~4、非特許文献1)そのため、光透過性が高く、かつ溶媒に対する溶解性に優れるポリイミド樹脂を製造するために、アミンではなく専ら脂肪族系のテトラカルボン酸二無水物が検討されてきた。 On the other hand, although 1,4-cyclohexanediamine and the like have been reported as cycloaliphatic diamines (Patent Document 1), aliphatic amines are more basic than aromatic amines, and production methods are limited. Therefore, it has not been considered as much. Also, 1,3-diamine having a cyclobutane skeleton is known to have four methyl-substituted diamines at the 2- and 4-positions, but there are almost no reports of 1,3-diamines having other substituents. (Patent Documents 2 to 4, Non-Patent Document 1) Therefore, in order to produce a polyimide resin having high light transmittance and excellent solubility in solvents, aliphatic tetracarboxylic dianhydrides are used instead of amines. has been considered.
また、従来から宇宙・航空用途などの先端産業に欠かせない素材として全芳香族ポリイミド(例えば、商品名「カプトン」)が知られてきた。
全芳香族ポリイミドは芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとの組み合わせにより合成され、耐熱性高分子の中でも最高クラスの耐熱性(ガラス転移温度(Tg):410℃)を示すものであることが知られている(非特許文献2)。しかしながら、このような全芳香族ポリイミドは、芳香族系のテトラカルボン酸二無水物ユニットと芳香族系のジアミンユニットとの間で分子内電荷移動(CT)が起きるため、褐色を呈し、透明性が必要とされる光学用途等に使用できるものではなかった。そのため、光学用途等に使用可能なポリイミドを製造するために、分子内CTが生じることがなく光透過性が高い脂環式のポリイミドの研究が進められてきた。
Furthermore, wholly aromatic polyimides (for example, trade name "Kapton") have been known as materials indispensable for advanced industries such as space and aviation applications.
Wholly aromatic polyimide is synthesized by combining aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine, and exhibits the highest class of heat resistance (glass transition temperature (Tg): 410°C) among heat-resistant polymers. It is known that there is (Non-Patent Document 2). However, such a wholly aromatic polyimide exhibits a brown color and is transparent because intramolecular charge transfer (CT) occurs between the aromatic tetracarboxylic dianhydride unit and the aromatic diamine unit. However, it could not be used for optical applications where . Therefore, in order to produce a polyimide that can be used for optical applications, research has been conducted on alicyclic polyimides that do not cause intramolecular CT and have high light transmittance.
本発明は、上記従来技術の有する課題を解決すべく、光透過性が高く、溶媒に対する溶解性に十分に優れ、しかも十分に高度な耐熱性を有するポリイミドを製造するための原料モノマーとして使用することが可能な2,2,4,4-テトラ置換-1,3-ジアミノシクロブタン類、および2,2,4,4-テトラ置換-1,3-ジアミノシクロブタン類の塩を提供することを目的とする。また、本発明は、フィルムを含めた成形体に加工した場合に、光透過性が高く、かつ十分に高い物理的安定性を有することが可能なポリイミド、およびそのポリイミドを効率よく、かつ確実に製造することが可能なポリイミドの製造方法を提供することを目的とする。 In order to solve the problems of the above-described conventional technology, the present invention uses as a raw material monomer for producing a polyimide having high light transmittance, sufficiently excellent solubility in solvents, and sufficiently high heat resistance. To provide 2,2,4,4-tetrasubstituted-1,3-diaminocyclobutanes and salts of 2,2,4,4-tetrasubstituted-1,3-diaminocyclobutanes capable of and In addition, the present invention provides a polyimide that can have high optical transparency and sufficiently high physical stability when processed into a molded body including a film, and the polyimide efficiently and reliably. An object of the present invention is to provide a method for producing a polyimide that can be produced.
上記の課題を解決するための手段として、本発明は以下の構成を有する。
[1] 式(1)で表されるジアミン誘導体。
式(1)において、
A1、A2、A3、およびA4は独立して、水素、炭素数3~10のシクロアルキル、炭素数3~10のシクロアルケニル、フェニル、ナフチル、フルオレニル、またはピリジルであり、これらの環の少なくとも1つの水素は、ハロゲン、炭素数1~12のアルキル、または少なくとも1つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数1~12のアルキルで置き換えられてもよく;
Z1、Z2、Z3、およびZ4は独立して、単結合、炭素数1~20のアルキレン、炭素数2~20のアルケンジイル、または炭素数2~20のアルキンジイルであり、これらの基の少なくとも1つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく;
-Z1-A1と-Z2-A2、または-Z3-A3と-Z4-A4は、互いに結合して環構造を形成してもよく;
A1、A2、A3、およびA4が同時に水素である場合、Z1、Z2、Z3、およびZ4のうちの少なくとも1つは、単結合またはメチレンではない。
As means for solving the above problems, the present invention has the following configurations.
[1] A diamine derivative represented by formula (1).
In formula (1),
A 1 , A 2 , A 3 , and A 4 are independently hydrogen, cycloalkyl having 3 to 10 carbon atoms, cycloalkenyl having 3 to 10 carbon atoms, phenyl, naphthyl, fluorenyl, or pyridyl, and at least one hydrogen of the ring may be replaced by halogen, alkyl of 1 to 12 carbon atoms, or alkyl of 1 to 12 carbon atoms in which at least one hydrogen is replaced by halogen;
Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 are each independently a single bond, alkylene having 1 to 20 carbon atoms, alkenediyl having 2 to 20 carbon atoms, or alkynediyl having 2 to 20 carbon atoms, and these groups at least one hydrogen of may be replaced with a halogen;
-Z 1 -A 1 and -Z 2 -A 2 , or -Z 3 -A 3 and -Z 4 -A 4 may combine with each other to form a ring structure;
When A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are simultaneously hydrogen, at least one of Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 is not a single bond or methylene.
[2] 式(1)において、Z1、Z2、Z3、およびZ4が独立して、単結合、または炭素数1~20のアルキレンである、項[1]に記載のジアミン誘導体。 [2] The diamine derivative according to item [1], wherein in formula (1), Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 are each independently a single bond or an alkylene having 1 to 20 carbon atoms.
[3] 式(1)において、A1、A2、A3、およびA4が独立して、水素、炭素数3~10のシクロアルキル、炭素数3~10のシクロアルケニル、フェニル、またはフルオレニルである、項[1]または[2]に記載のジアミン誘導体。 [3] In formula (1), A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are each independently hydrogen, cycloalkyl having 3 to 10 carbon atoms, cycloalkenyl having 3 to 10 carbon atoms, phenyl or fluorenyl The diamine derivative according to item [1] or [2].
[4] 式(1)において、Z1、Z2、Z3、およびZ4が独立して、単結合、メチレン、またはエチレンである、項[1]~[3]のいずれか1項に記載のジアミン誘導体。 [4] Any one of items [1] to [3], wherein in formula (1), Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 are each independently a single bond, methylene, or ethylene Diamine derivatives as described.
[5] 式(1)において、A1、A2、A3、およびA4が独立して、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロへプチル、アダマンチル、ノルボルニル、ジシクロ[2.2.2]オクチル、またはフェニルである、項[1]~[4]のいずれか1項に記載のジアミン誘導体。 [5] In formula (1), A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are each independently cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, adamantyl, norbornyl, dicyclo[2.2.2]octyl , or phenyl, the diamine derivative according to any one of items [1] to [4].
[6] 式(1)で表されるジアミン誘導体と酸とから形成される塩であり、
酸は、炭酸、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、リン酸、ギ酸、酢酸、およびプロピオン酸から選択される少なくとも1つである塩。
式(1)において、
A1、A2、A3、およびA4は独立して、水素、炭素数3~10のシクロアルキル、炭素数3~10のシクロアルケニル、フェニル、ナフチル、フルオレニル、またはピリジルであり、これらの環の少なくとも1つの水素は、ハロゲン、炭素数1~12のアルキル、または少なくとも1つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数1~12のアルキルで置き換えられてもよく;
Z1、Z2、Z3、およびZ4は独立して、単結合、炭素数1~20のアルキレン、炭素数2~20のアルケンジイル、または炭素数2~20のアルキンジイルであり、これらの基の少なくとも1つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく;
-Z1-A1と-Z2-A2、または-Z3-A3と-Z4-A4は互いに結合して環構造を形成してもよい。
[6] A salt formed from a diamine derivative represented by formula (1) and an acid,
The acid is at least one salt selected from carbonic acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, nitric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, phosphoric acid, formic acid, acetic acid, and propionic acid.
In formula (1),
A 1 , A 2 , A 3 , and A 4 are independently hydrogen, cycloalkyl having 3 to 10 carbon atoms, cycloalkenyl having 3 to 10 carbon atoms, phenyl, naphthyl, fluorenyl, or pyridyl, and at least one hydrogen of the ring may be replaced by halogen, alkyl of 1 to 12 carbon atoms, or alkyl of 1 to 12 carbon atoms in which at least one hydrogen is replaced by halogen;
Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 are each independently a single bond, alkylene having 1 to 20 carbon atoms, alkenediyl having 2 to 20 carbon atoms or alkynediyl having 2 to 20 carbon atoms, and these groups at least one hydrogen of may be replaced with a halogen;
-Z 1 -A 1 and -Z 2 -A 2 , or -Z 3 -A 3 and -Z 4 -A 4 may combine with each other to form a ring structure.
[7] 式(1)において、Z1、Z2、Z3、およびZ4が独立して、単結合、または炭素数1~20のアルキレンであり;
酸が炭酸である、項[6]に記載の塩。
[7] in formula (1), Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 are each independently a single bond or an alkylene having 1 to 20 carbon atoms;
The salt according to item [6], wherein the acid is carbonic acid.
[8] 式(1)において、A1、A2、A3およびA4が独立して、水素、炭素数3~10のシクロアルキル、炭素数3~10のシクロアルケニル、フェニル、またはフルオレニルであり;
酸が炭酸である、項[6]または[7]に記載の塩。
[8] In formula (1), A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are each independently hydrogen, cycloalkyl having 3 to 10 carbon atoms, cycloalkenyl having 3 to 10 carbon atoms, phenyl or fluorenyl; can be;
The salt according to item [6] or [7], wherein the acid is carbonic acid.
[9] 式(1)において、Z1、Z2、Z3、およびZ4が独立して、単結合、メチレン、またはエチレンであり;
酸が炭酸である、項[6]~[8]のいずれか1項に記載の塩。
[9] in formula (1), Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 are each independently a single bond, methylene, or ethylene;
The salt according to any one of items [6] to [8], wherein the acid is carbonic acid.
[10] 式(1)において、A1、A2、A3、およびA4が独立して、水素、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロへプチル、アダマンチル、ノルボルニル、ジシクロ[2.2.2]オクチル、またはフェニルであり;
酸が炭酸である、項[6]~[9]のいずれか1項に記載の塩。
[10] In formula (1), A 1 , A 2 , A 3 , and A 4 are independently hydrogen, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, adamantyl, norbornyl, dicyclo[2.2.2 ] octyl, or phenyl;
The salt according to any one of items [6] to [9], wherein the acid is carbonic acid.
[11] 式(1)において、Z1、Z2、Z3、およびZ4が、メチレンであり、A1、A2、A3、およびA4が、水素であり;
酸が炭酸である、項[6]に記載の塩。
[11] in formula (1), Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 are methylene, and A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are hydrogen;
The salt according to item [6], wherein the acid is carbonic acid.
[12] 項[1]~[5]のいずれか1項に記載のジアミン誘導体、または項[6]~[11]のいずれか1項に記載の塩を、用いて得られる重合体。 [12] A polymer obtained by using the diamine derivative according to any one of items [1] to [5] or the salt according to any one of items [6] to [11].
[13] 重合体が、ポリアミド酸、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、またはエポキシ樹脂である、項[12]に記載の重合体。 [13] The polymer according to item [12], wherein the polymer is polyamic acid, polyimide, polyamide, polyamideimide, polyurethane, or epoxy resin.
[14] 項[13]に記載の重合体を含有するワニス。 [14] A varnish containing the polymer according to item [13].
[15] 項[14]に記載のワニスを用いて製造される成形体。 [15] A molded article produced using the varnish according to item [14].
シクロブタン環を有する本発明のジアミン誘導体、およびこれらから形成されるジアミン塩を含むジアミン類を、ポリイミド、ポリアミドなどの重合体の原料として用いるとき、従来の芳香族ジアミンを用いた場合と比較し、その重合体の光透過性はより短波長領域まで高く維持することができる。その結果、これらの重合体を用いたフィルムを含めた成形体は、透明性が高く、かつ高い物理的安定性を有しているので、フレキシブルディスプレイを初めとする広い波長領域で高い透明性が要求される基板材料として適している。 When the diamine derivatives of the present invention having a cyclobutane ring and diamines containing diamine salts formed therefrom are used as raw materials for polymers such as polyimides and polyamides, compared with the case of using conventional aromatic diamines, The light transmittance of the polymer can be maintained high up to the shorter wavelength region. As a result, molded articles, including films using these polymers, have high transparency and high physical stability, and thus have high transparency in a wide wavelength range, including flexible displays. It is suitable as a required substrate material.
以下の説明では、式(1)で表されるジアミン誘導体を、化合物(1)で表記することがある。式(1)で表されるジアミン誘導体の塩を、化合物(2)で表記することがある。本発明で化学構造中の原子または基を指し示すときに用いる用語「任意の」は、結合位置だけではなくその数についても自由に選択できることを意味する。また、「少なくとも1つ」は、数だけではなくその結合位置についても自由に選択できることを意味する。 In the following description, the diamine derivative represented by formula (1) may be represented by compound (1). A salt of the diamine derivative represented by formula (1) may be represented by compound (2). The term "arbitrary" as used herein to designate atoms or groups in a chemical structure means that not only the bonding positions but also the number thereof can be freely selected. In addition, "at least one" means that not only the number but also the bonding position can be freely selected.
本発明のジアミン誘導体は、式(1)で表される。
式(1)における、A1、A2、A3および、A4は独立して、水素、炭素数3~10のシクロアルキル、炭素数3~10のシクロアルケニル、フェニル、ナフチル、フルオレニル、またはピリジルであり、これらの環の少なくとも1つの水素は、ハロゲン、炭素数1~12のアルキル、または少なくとも1つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数1~12のアルキルで置き換えられてもよい。
The diamine derivative of the present invention is represented by Formula (1).
In formula (1), A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are independently hydrogen, cycloalkyl having 3 to 10 carbon atoms, cycloalkenyl having 3 to 10 carbon atoms, phenyl, naphthyl, fluorenyl, or pyridyl, and at least one hydrogen of these rings may be replaced by halogen, alkyl of 1 to 12 carbon atoms, or alkyl of 1 to 12 carbon atoms in which at least one hydrogen is replaced by halogen.
Z1、Z2、Z3、およびZ4は独立して、単結合、炭素数1~20のアルキレン、炭素数2~20のアルケンジイル、または炭素数2~20のアルキンジイルであり、これらの基の少なくとも1つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。
-Z1-A1と-Z2-A2、または-Z3-A3と-Z4-A4は、互いに結合して環構造を形成してもよい。
A1、A2、A3およびA4が同時に水素である場合、Z1、Z2、Z3およびZ4のうちの少なくとも1つは、単結合またはメチレンではない。
Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 are each independently a single bond, alkylene having 1 to 20 carbon atoms, alkenediyl having 2 to 20 carbon atoms, or alkynediyl having 2 to 20 carbon atoms, and these groups may be replaced with halogen.
-Z 1 -A 1 and -Z 2 -A 2 or -Z 3 -A 3 and -Z 4 -A 4 may combine with each other to form a ring structure.
When A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are simultaneously hydrogen, at least one of Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 is not a single bond or methylene.
すなわち、シクロアルキル、シクロアルケニル、フェニル、ナフチル、フルオレニル、またはピリジルにおける任意の水素は、ハロゲン、炭素数1~12のアルキル、または炭素数1~12のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよいことになる。ここで、複数の水素が、ハロゲン、炭素数1~12のアルキル、および炭素数1~12のハロゲン化アルキルからなる群から選択される基で置き換えられる場合を含む。この場合の置換基は、同一の基であってもよいし、異なる基であってもよい。例えば、少なくとも2つの水素が同じハロゲン化アルキルでそれぞれ置き換えられてもよい。3つまたは4つの水素が、炭素数の異なるハロゲン化アルキルでそれぞれ置き換えられてもよい。好ましいハロゲンは、フッ素および塩素である。ハロゲン化アルキルは、少なくとも1つの水素がフッ素または塩素で置き換えられたアルキルである。好ましいハロゲン化アルキルは、ペルフルオロアルキルである。 That is, any hydrogen in cycloalkyl, cycloalkenyl, phenyl, naphthyl, fluorenyl, or pyridyl may be replaced by halogen, alkyl having 1 to 12 carbon atoms, or halogenated alkyl having 1 to 12 carbon atoms. Become. Here, multiple hydrogens may be replaced with a group selected from the group consisting of halogen, alkyl having 1 to 12 carbon atoms, and halogenated alkyl having 1 to 12 carbon atoms. The substituents in this case may be the same group or different groups. For example, at least two hydrogens may each be replaced with the same alkyl halide. Three or four hydrogens may be replaced with alkyl halides having different carbon numbers, respectively. Preferred halogens are fluorine and chlorine. Halogenated alkyls are alkyls in which at least one hydrogen has been replaced with fluorine or chlorine. Preferred alkyl halides are perfluoroalkyls.
フルオロやペルフルオロアルキルを有するジアミンを原料の1つとする重合体は、たとえばこれを用いて得られる液晶配向膜や成形体に対して、その表面エネルギーを小さくするように作用する傾向がある。 A polymer having a diamine having fluoro or perfluoroalkyl as one of raw materials tends to act to reduce the surface energy of a liquid crystal alignment film or a molded article obtained by using the polymer, for example.
以下に、本発明のジアミン誘導体の好ましい例を示す。 Preferred examples of the diamine derivative of the present invention are shown below.
次に、化合物(1)の製造法を説明する。式(1)で表される環構造は、酸ハロゲン化物である化合物(a)および化合物(b)を出発原料として製造することができる。なお、式中のHalはハライド(塩素や臭素等)を示す。即ち、化合物(a)と化合物(b)を塩基、例えばトリエチルアミンなどのトリアルキルアミンやピリジンなどの芳香族窒素塩基存在下、環化反応させることによって化合物(c)が得られる。そして化合物(c)へ硫酸ヒドロキシルアミンを初めとするヒドロキシアミン類を作用させることにより、オキシムへ変換した化合物(d)を合成することができる。更に化合物(d)を還元することによって化合物(1)を合成する事ができる。還元の方法は水素雰囲気下、Pd/Cやスポンジ-Niなどの触媒を用いた接触水素化や、水素化ホウ素ナトリウム等還元剤を用いた方法を用いることができる。 Next, a method for producing compound (1) will be described. The ring structure represented by formula (1) can be produced using acid halides compound (a) and compound (b) as starting materials. Hal in the formula represents a halide (chlorine, bromine, etc.). That is, compound (c) is obtained by subjecting compound (a) and compound (b) to a cyclization reaction in the presence of a base such as a trialkylamine such as triethylamine or an aromatic nitrogen base such as pyridine. By reacting hydroxylamine sulfate and other hydroxylamines on compound (c), compound (d) converted to an oxime can be synthesized. Furthermore, compound (1) can be synthesized by reducing compound (d). As the reduction method, catalytic hydrogenation using a catalyst such as Pd/C or sponge-Ni under a hydrogen atmosphere, or a method using a reducing agent such as sodium borohydride can be used.
これらの式におけるA1、A2、A3、A4、Z1、Z2、Z3、およびZ4は、式(1)におけるこれらの記号と同一の定義である。
A 1 , A 2 , A 3 , A 4 , Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 in these formulas have the same definitions as those symbols in formula (1).
この他、出発物質に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、ホーベン-ワイル(Houben-Wyle, Methods of Organic Chemistry, Georg Thieme Verlag, Stuttgart)、オーガニック・シンセシーズ(Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.)、オーガニック・リアクションズ(Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.)、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス(Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press)、新実験化学講座(丸善)などに記載されている。 Other methods for introducing desired terminal groups, rings and linking groups into starting materials are described in Houben-Wyle, Methods of Organic Chemistry, Georg Thieme Verlag, Stuttgart, Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.), Organic Reactions (John Wily & Sons Inc.), Comprehensive Organic Synthesis (Pergamon Press), New Experimental Chemistry Course (Maruzen), etc. ing.
結合基(Z1~Z4)を生成する方法の一例を説明する。以下に示すスキームにおいて、MSG1およびMSG2はどちらも、少なくとも1つの環を有する1価の有機基である。スキームに示されている複数のMSG1(またはMSG2)は、同一であってもよいし異なってもよい。TfはCF3SO2である。 An example of a method for producing the bonding groups (Z 1 to Z 4 ) will be described. In the schemes shown below, both MSG 1 and MSG 2 are monovalent organic groups having at least one ring. Multiple MSG 1 (or MSG 2 ) shown in the scheme may be the same or different. Tf is CF3SO2 .
(I)単結合の生成
(I) Formation of single bond
アリールホウ酸誘導体(21)と、公知の方法で合成される化合物(22)とを、炭酸塩水溶液と触媒、例えばテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(Pd(PPh3)4)の存在下で反応させることにより、化合物(1a)を合成する。この化合物(1a)は、公知の方法で合成される化合物(23)にn-ブチルリチウム(n-BuLi)を作用させ、塩化亜鉛、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(PdCl2(PPh3)2)のような触媒、および化合物(22)を順次作用させることにより合成することもできる。 Arylboric acid derivative (21) is reacted with compound (22) synthesized by a known method in the presence of an aqueous carbonate solution and a catalyst such as tetrakistriphenylphosphine palladium (Pd( PPh3 ) 4 ). , to synthesize compound (1a). This compound (1a) is prepared by reacting n-butyllithium (n-BuLi) with compound (23) synthesized by a known method to produce zinc chloride and dichlorobistriphenylphosphinepalladium (PdCl 2 (PPh 3 ) 2 ). It can also be synthesized by sequentially reacting such a catalyst and compound (22).
(II)-CH2-の生成
(II) Generation of —CH 2 —
化合物(23)にブチルリチウムを作用させてリチオ化物に誘導した後、二酸化炭素を作用させてカルボン酸(24)を得る。これに塩化チオニルを作用させ酸クロリド(25)とする。これに公知の方法で合成される有機銅試薬(26)を作用させることにより化合物(27)を得る。そして、化合物(27)のカルボニルをトリエチルシランなどのトリアルキルシランで還元することによって化合物(1b)を合成する。 After the compound (23) is reacted with butyllithium to induce a lithiated product, carbon dioxide is reacted to obtain a carboxylic acid (24). This is reacted with thionyl chloride to give an acid chloride (25). A compound (27) is obtained by reacting an organocopper reagent (26) synthesized by a known method. Then, compound (1b) is synthesized by reducing the carbonyl of compound (27) with a trialkylsilane such as triethylsilane.
(III)-CH=CH-の生成
(III) Formation of -CH=CH-
公知の方法で合成される化合物(28)にカリウムt-ブトキシド(t-BuOK)のような塩基を作用させてリンイリドを発生させる。一方、化合物(29)にブチルリチウムを作用させてリチオ化物へ誘導した後、N,N-ジメチルホルムアミドなどのホルムアミドを作用させてアルデヒド(30)を得る。これをリンイリドに反応させて化合物(1c)を合成する。反応条件によってはシス体が生成するので、公知の方法によりトランス体に異性化する。 Compound (28) synthesized by a known method is reacted with a base such as potassium t-butoxide (t-BuOK) to generate phosphorus ylide. On the other hand, compound (29) is reacted with butyl lithium to induce a lithiated product, and then reacted with formamide such as N,N-dimethylformamide to obtain aldehyde (30). This is reacted with phosphorus ylide to synthesize compound (1c). Depending on the reaction conditions, the cis isomer is produced, so it is isomerized to the trans isomer by a known method.
(IV)-(CH2)2-の生成
Generation of (IV)-(CH 2 ) 2-
化合物(1c)を、例えばパラジウムカーボン(Pd-C)などの触媒存在下で接触水素化することにより、化合物(1d)を合成する。 Compound (1d) is synthesized by catalytically hydrogenating compound (1c) in the presence of a catalyst such as palladium on carbon (Pd—C).
(V)-C≡C-の生成
Generation of (V)-C≡C-
ジエチルアミン等のアミン類を溶剤に用い、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下、化合物(31)に1-トリメチルシリルエチンを作用させ、化合物(32)を得る。次にテトラブチルアンモニウムフロリド(TBAF)を用いて保護基を外し、化合物(33)を得る。これと化合物(22)とを、本方法の第1段と同様の条件で反応させることにより化合物(1e)を合成する。 Using amines such as diethylamine as a solvent, compound (31) is reacted with 1-trimethylsilylethyne in the presence of a catalyst of dichlorobistriphenylphosphine palladium and copper halide to obtain compound (32). The protecting group is then removed using tetrabutylammonium fluoride (TBAF) to give compound (33). Compound (1e) is synthesized by reacting this with compound (22) under the same conditions as in the first step of this method.
(VI)-(CH2)4-の生成
Generation of (VI)-(CH 2 ) 4 -
化合物(28)の代わりに化合物(34)を用い、方法(III)に従って-CH=CH-を生成させ、さらに方法(IV)に従って接触水素化して化合物(1f)を合成する。 Compound (1f) is synthesized by using compound (34) in place of compound (28), producing -CH=CH- according to method (III), and further catalytically hydrogenating according to method (IV).
本発明の塩は、式(1)で表されるジアミン誘導体、および酸から形成される。
式(1)における、A1、A2、A3、およびA4は独立して、水素、炭素数3~10のシクロアルキル、炭素数3~10のシクロアルケニル、フェニル、ナフチル、フルオレニル、またはピリジルであり、これらの環の少なくとも1つの水素は、ハロゲン、炭素数1~12のアルキル、または少なくとも1つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数1~12のアルキルで置き換えられてもよい。
Z1、Z2、Z3、およびZ4は独立して、単結合、炭素数1~20のアルキレン、炭素数2~20のアルケンジイル、または炭素数2~20のアルキンジイルであり、これらの基の少なくとも1つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。
-Z1-A1と-Z2-A2、または-Z3-A3と-Z4-A4は互いに結合して環構造を形成してもよい。
カウンター種となる酸は、炭酸、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、トリフルオロメタンスルホン酸、リン酸、ギ酸、または酢酸である。
The salt of the present invention is formed from a diamine derivative represented by formula (1) and an acid.
In formula (1), A 1 , A 2 , A 3 , and A 4 are independently hydrogen, cycloalkyl having 3 to 10 carbon atoms, cycloalkenyl having 3 to 10 carbon atoms, phenyl, naphthyl, fluorenyl, or pyridyl, and at least one hydrogen of these rings may be replaced by halogen, alkyl of 1 to 12 carbon atoms, or alkyl of 1 to 12 carbon atoms in which at least one hydrogen is replaced by halogen.
Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 are each independently a single bond, alkylene having 1 to 20 carbon atoms, alkenediyl having 2 to 20 carbon atoms, or alkynediyl having 2 to 20 carbon atoms, and these groups may be replaced with halogen.
-Z 1 -A 1 and -Z 2 -A 2 , or -Z 3 -A 3 and -Z 4 -A 4 may combine with each other to form a ring structure.
Counterspecies acids are carbonic acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, nitric acid, trifluoromethanesulfonic acid, phosphoric acid, formic acid, or acetic acid.
以下に、本発明のジアミン誘導体と酸から形成される塩の好ましい例を示す。 Preferred examples of the salt formed from the diamine derivative of the present invention and an acid are shown below.
次に、本発明のジアミン誘導体を原料の1つとして用いて得られる重合体、およびこれを含有するワニスについて一例として説明する。少なくとも1つの化合物(1)または化合物(2)を、溶剤中においてテトラカルボン酸二無水物と反応させることによりポリアミド酸が得られ、これをポリイミドに導くことができる。更に、少なくとも1つの化合物(1)または化合物(2)と他のジアミンまたはジアミン塩とを、組み合わせて使用してもよい。本発明のワニスは、このポリアミド酸またはポリイミドと溶剤とを含有する組成物である。 Next, a polymer obtained by using the diamine derivative of the present invention as one of raw materials and a varnish containing the same will be described as an example. Polyamic acid is obtained by reacting at least one compound (1) or compound (2) with a tetracarboxylic dianhydride in a solvent, which can be led to a polyimide. Furthermore, at least one compound (1) or compound (2) and other diamines or diamine salts may be used in combination. The varnish of the present invention is a composition containing this polyamic acid or polyimide and a solvent.
少なくとも1つの化合物(1)とジカルボン酸類とを反応させるとポリアミドが得られる。少なくとも1つの化合物(1)とトリカルボン酸類とを反応させるとポリアミドイミドが得られる。また、ポリアミドイミドはジカルボン酸類、トリカルボン酸類およびテトラカルボン酸類の少なくとも2種の混合物と、少なくとも1つの化合物(1)とを反応させて導くこともできる。更に、少なくとも1つの化合物(1)と他のジアミンとを、組み合わせて使用してもよい。本発明のワニスは、上記のワニスの特性を更に改善するために、このポリアミドまたはポリアミドイミドを含有してもよい。更に、本発明のワニスは、公知の高分子化合物、例えば、化合物(1)を用いないポリアミドやポリアミドイミドなどを含有してもよい。これらのポリアミド、ポリアミドイミドまたは公知の高分子化合物が添加されるとき、その割合はワニス中の重合体の全重量に基づいて0.01~30重量%である。その好ましい割合は0.01~10重量%であり、より好ましい割合は0.1~5重量%である。上記のポリアミドなどの成分は、このような割合で用いられることにより、本発明の重合体の効果を低下させずに、上記の効果を発現させることができる。 A polyamide is obtained by reacting at least one compound (1) with a dicarboxylic acid. A polyamideimide is obtained by reacting at least one compound (1) with a tricarboxylic acid. Polyamideimide can also be derived by reacting a mixture of at least two of dicarboxylic acids, tricarboxylic acids and tetracarboxylic acids with at least one compound (1). Furthermore, at least one compound (1) and other diamines may be used in combination. The varnish of the present invention may contain this polyamide or polyamideimide in order to further improve the properties of the varnish described above. Furthermore, the varnish of the present invention may contain known polymer compounds such as polyamides and polyamideimides that do not use compound (1). When these polyamides, polyamideimides or known polymeric compounds are added, their proportion is 0.01 to 30% by weight based on the total weight of the polymer in the varnish. A preferred proportion thereof is 0.01 to 10% by weight, and a more preferred proportion is 0.1 to 5% by weight. By using the component such as the above polyamide in such a ratio, the above effects can be exhibited without reducing the effects of the polymer of the present invention.
本発明の重合体を製造するために用いられる、好ましいテトラカルボン酸二無水物の例を次に示す。これらの化合物の中には異性体が存在するものがあるが、これらの異性体を含む混合物であってもかまわない。これらの化合物の少なくとも2つからなる混合物、またはこれらの化合物の少なくとも1つとこれらの化合物以外のテトラカルボン酸二無水物とを含有する混合物を、本発明の重合体を製造するための原料として用いてもよい。 Examples of preferred tetracarboxylic dianhydrides used to prepare the polymers of the present invention are shown below. Some of these compounds have isomers, and mixtures containing these isomers are also acceptable. A mixture of at least two of these compounds, or a mixture containing at least one of these compounds and a tetracarboxylic dianhydride other than these compounds, is used as a raw material for producing the polymer of the present invention. may
次に、他のジアミン(化合物(1)以外のジアミン)の例を以下に示す。しかしこれらの例示は、化合物(1)と併用できるジアミンを限定することを意味しない。
Next, examples of other diamines (diamines other than compound (1)) are shown below. However, these exemplifications are not meant to limit the diamines that can be used in combination with compound (1).
ガラス基板への密着性や配向膜の硬さを調節する目的で、シロキサン結合を有するジアミンを化合物(1)と併用することができる。シロキサン結合を有する好ましいジアミンは、式(3)で表される化合物である。
式(3)において、R1およびR2は独立して、炭素数1~3のアルキルまたはフェニルである。A6は炭素数1~6のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の-CH2-は、-NH-、フェニレン、またはアルキル置換フェニレンで置き換えられてもよい。そして、pは1~10の整数である。H2N-A6-の例は、アミノメチル、2-アミノエチル、3-アミノプロピル、4-アミノブチル、5-アミノペンチル、6-アミノヘキシル、N-(2-アミノエチル)アミノメチル、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピル、4-アミノフェニル、3-アミノフェニル、2-メチル-4-アミノフェニル、4-アミノフェニルエチル、4-アミノフェニルプロピルなどである。
このようなシロキサン結合を有するジアミンのワニスへの添加量は、ワニスに含有される固形分の重量に基づいて0.01~5重量%、好ましくは0.1~3重量%である。
A diamine having a siloxane bond can be used together with the compound (1) for the purpose of adjusting the adhesion to the glass substrate and the hardness of the alignment film. A preferred diamine having a siloxane bond is the compound represented by formula (3).
In formula (3), R 1 and R 2 are independently alkyl having 1 to 3 carbon atoms or phenyl. A 6 is an alkylene having 1 to 6 carbon atoms, and any —CH 2 — in this alkylene may be replaced with —NH—, phenylene, or alkyl-substituted phenylene. and p is an integer of 1-10. Examples of H 2 NA 6 - are aminomethyl, 2-aminoethyl, 3-aminopropyl, 4-aminobutyl, 5-aminopentyl, 6-aminohexyl, N-(2-aminoethyl)aminomethyl, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyl, 4-aminophenyl, 3-aminophenyl, 2-methyl-4-aminophenyl, 4-aminophenylethyl, 4-aminophenylpropyl and the like.
The amount of such a diamine having a siloxane bond added to the varnish is 0.01 to 5% by weight, preferably 0.1 to 3% by weight, based on the weight of the solid content contained in the varnish.
ガラス基板への密着性の改善や硬さの調節などを目的として、シランカップリング剤やシリコーンオイルなどの有機ケイ素化合物を、本発明のワニスに添加することができる。シランカップリング剤の例は、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどである。シリコーンオイルの例は、ジメチルポリシロキサン、ポリジメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサンなどである。このような有機ケイ素化合物のワニスへの添加量は、ワニスに含有される固形分の重量に基づいて0.01~5重量%、好ましくは0.1~3重量%である。 A silane coupling agent or an organic silicon compound such as silicone oil can be added to the varnish of the present invention for the purpose of improving adhesion to a glass substrate and adjusting hardness. Examples of silane coupling agents are aminopropyltrimethoxysilane, aminopropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2-(3,4- epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane and the like. Examples of silicone oils are dimethylpolysiloxane, polydimethylsiloxane, polydiphenylsiloxane, and the like. The amount of such organosilicon compound added to the varnish is 0.01 to 5% by weight, preferably 0.1 to 3% by weight, based on the weight of the solid content contained in the varnish.
ワニス調製に使用される溶剤の例は、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、エチレングリコールモノブチルエーテル(BC)、エチレングリコールモノエチルエーテル、γ-ブチロラクトンなどである。本発明のワニスは、これらの溶剤の少なくとも1つに、前記の本発明の重合体およびその他の成分が溶解されている混合物である。そして、このワニスにおける不揮発性分の濃度は、ワニスの総重量に基づいて0.1~30重量%、好ましくは1~10重量%である。 Examples of solvents used in varnish preparation are N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethylsulfoxide (DMSO), ethylene glycol monobutyl ether (BC), ethylene glycol monoethyl ether, γ-butyrolactone, and the like. The varnish of the present invention is a mixture in which the polymer of the present invention and other ingredients are dissolved in at least one of these solvents. The non-volatile content in this varnish is 0.1-30% by weight, preferably 1-10% by weight, based on the total weight of the varnish.
このワニスは、刷毛塗り法、浸漬法、スピンナー法、スプレー法、印刷法等により基板上に塗布され、その後50~150℃、好ましくは80~120℃で溶剤を蒸発させた後、150~400℃、好ましくは180~280℃で加熱して成膜される。塗布前に基板表面上をシランカップリング剤で処理し、その上に成膜すれば膜と基板との接着性を改善できる。その後、この膜の表面を布などで一方向にラビングすることによって本発明の配向膜が得られる。 This varnish is applied onto the substrate by a brush coating method, dipping method, spinner method, spray method, printing method, or the like, and then the solvent is evaporated at 50 to 150°C, preferably 80 to 120°C. C., preferably 180 to 280.degree. If the surface of the substrate is treated with a silane coupling agent before coating and a film is formed thereon, the adhesion between the film and the substrate can be improved. Thereafter, the surface of this film is rubbed in one direction with a cloth or the like to obtain the alignment film of the present invention.
本発明の重合体は、液晶配向膜用途以外にも、各種ポリイミドコーティング剤、またはポリイミド樹脂成形体、フィルム、もしくは繊維の成形体などにも利用することができる。本発明のジアミン誘導体は、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレア樹脂の原料、またはエポキシ樹脂の硬化剤などとして用いることもできる。 The polymer of the present invention can be used for various polyimide coating agents, polyimide resin moldings, films, or fiber moldings, in addition to liquid crystal alignment film applications. The diamine derivative of the present invention can also be used as a raw material for polyamide resins, polyamideimide resins and polyurea resins, or as a curing agent for epoxy resins.
本発明のジアミン誘導体およびこの化合物を用いることによって得られるポリイミド樹脂を実施例により示す。実施例におけるNMRのデータは、すべて重クロロホルム中で測定した値である。高分子の分子量は、ポリスチレンを標準溶液としてGPCを用いて測定した。用いた機器は(株)島津製作所製のLC-9A型、カラムは昭和電工製のShodex GF-7M、カラム温度は40℃であり、溶出液はDMF(ジメチルホルムアミド)、流速は0.5mL/min.である。なお、本発明はこれらの実施例に限定されない。 The diamine derivative of the present invention and the polyimide resin obtained by using this compound are shown in Examples. All NMR data in Examples are values measured in deuterated chloroform. The molecular weight of the polymer was measured using GPC using polystyrene as a standard solution. The equipment used was LC-9A manufactured by Shimadzu Corporation, the column was Shodex GF-7M manufactured by Showa Denko, the column temperature was 40° C., the eluent was DMF (dimethylformamide), and the flow rate was 0.5 mL/mL. min. is. However, the present invention is not limited to these examples.
以下に実施例で用いたポリイミド樹脂の評価法を示す。
評価は、ポリイミド樹脂を塗膜にて行った。
(1)透過スペクトル測定
日本分光株式会社製 紫外可視近赤外光光度計 V-660を用い測定を行った。その際、樹脂を塗布していないガラス基板をブランクに用いている。
なお、ガラス基板へ塗布したポリイミド樹脂試料の作製方法は下記の通りである。
i)ガラス基板(EAGLE XG;コーニング社製)へ樹脂のワニスを膜厚100nmになる様にスピンコーターを用い、塗膜を作製する。
ii)60℃に加熱したホットプレート上で、80秒間塗膜したガラス基板を乾燥。
iii)230℃に加熱した熱風オーブン中で30分間ガラス基板に形成した塗膜を焼成しイミド化する。
Evaluation methods for polyimide resins used in Examples are shown below.
The evaluation was performed using a polyimide resin as a coating film.
(1) Transmission spectrum measurement Measurement was performed using an ultraviolet-visible-near-infrared photometer V-660 manufactured by JASCO Corporation. At that time, a glass substrate not coated with resin is used as a blank.
The method for preparing the polyimide resin sample applied to the glass substrate is as follows.
i) A resin varnish is applied to a glass substrate (EAGLE XG; manufactured by Corning) using a spin coater so as to have a film thickness of 100 nm to form a coating film.
ii) Dry the coated glass substrate for 80 seconds on a hot plate heated to 60°C.
iii) Baking the coating film formed on the glass substrate for 30 minutes in a hot air oven heated to 230° C. for imidization.
(2)鉛筆硬度
JIS規格;JIS K5600-5-4(ISO/DIN 15184)引っかき硬度(鉛筆法)に従い測定した。なお使用した塗膜の作製方法は(1)透過スペクトル測定方法に記載した試料作製方法と同じ方法で行った。
(2) Pencil hardness Measured according to JIS standard; JIS K5600-5-4 (ISO/DIN 15184) scratch hardness (pencil method). The coating film used was prepared in the same manner as the sample preparation method described in (1) Transmission spectrum measurement method.
[実施例1]
(2,2,4,4-テトラメチルシクロブタンジアミン炭酸塩(化合物No.2-1-1-1)の合成)
(第1段)
塩酸ヒドロキシルアミン(59.5g:856.3mmol)のピリジン(150ml)溶液を0℃に冷却し、そこに文献記載の方法に準拠して得た2,2,4,4-テトラメチルシクロブタン-1,3-ジオン(30g:214.0mmol)を少量ずつ加え、0℃で5分間撹拌した。更に室温で24時間撹拌した後、得られた反応混合物に蒸留水を加えて析出した固体をろ過し、更に固体を水洗後、60℃にて真空乾燥を行い、2,2,4,4-テトラメチルシクロブタン-1,3-ジオン ジオキシム(35.8g:210.3mmol)収率98.3%を得た。これを化合物(2-1-1-1a)とする。
[Example 1]
(Synthesis of 2,2,4,4-tetramethylcyclobutanediamine carbonate (Compound No. 2-1-1-1))
(first stage)
A solution of hydroxylamine hydrochloride (59.5 g: 856.3 mmol) in pyridine (150 ml) was cooled to 0° C., whereupon 2,2,4,4-tetramethylcyclobutane-1 obtained according to the method described in the literature was added. ,3-dione (30 g: 214.0 mmol) was added portionwise and stirred at 0° C. for 5 minutes. After further stirring at room temperature for 24 hours, distilled water was added to the resulting reaction mixture, the precipitated solid was filtered, and the solid was washed with water and vacuum-dried at 60° C. Tetramethylcyclobutane-1,3-dione dioxime (35.8 g: 210.3 mmol) was obtained with a yield of 98.3%. This is designated as compound (2-1-1-1a).
(第2段)
オートクレーブ反応器中で、化合物(2-1-1-1a)(20.0g:117.5mmol)をテトラヒドロフラン(THF)200mLへ溶解させ、スポンジ-Ni(4.0g)を加え、水素雰囲気下、80℃にて水素の吸収が無くなるまで撹拌した。反応完了後スポンジ-Niを濾別し、得られた反応溶液にバブラーを導入後、二酸化炭素を吹き込み得られた固体を濾別した。その後固体を酢酸エチル、ジエチルエーテルで洗浄し減圧下乾燥し、収率99%で2,2,4,4-テトラメチルシクロブタンジアミン炭酸塩(化合物No.2-1-1-1)(23.7g:116.3mmol)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:2.66(d,2H)、1.01(t,12H).
(second stage)
In an autoclave reactor, compound (2-1-1-1a) (20.0 g: 117.5 mmol) was dissolved in 200 mL of tetrahydrofuran (THF), sponge-Ni (4.0 g) was added, and under a hydrogen atmosphere, The mixture was stirred at 80° C. until no more hydrogen was absorbed. After the completion of the reaction, the sponge-Ni was filtered off, a bubbler was introduced into the obtained reaction solution, carbon dioxide was blown thereinto, and the obtained solid was filtered off. Thereafter, the solid was washed with ethyl acetate and diethyl ether and dried under reduced pressure to obtain 2,2,4,4-tetramethylcyclobutanediamine carbonate (Compound No. 2-1-1-1) (23. 7 g: 116.3 mmol).
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 2.66 (d, 2H), 1.01 (t, 12H).
[実施例2]
(ポリアミド酸の合成)
200mlの4つ口フラスコに、実施例1と全く同様にして合成した(化合物No.2-1-1-1)(1.50g)を入れ、NMP(27mL)に溶解した。この溶液にピロメリット酸二無水物(PMDA)(0.80g)およびシクロブタンテトラカルボン酸二無水物(MMDA)(0.72g)を加えて12時間攪拌した。得られた溶液をNMP(18mL)とBC(5mL)との混合溶剤で希釈することにより、ポリアミド酸濃度6重量%の透明液体を得た。この溶液の25℃での粘度は15mPa・sであり、この溶液に含まれる重合体の重量平均分子量は20,000であった。この溶液をワニスAとする。
[Example 2]
(Synthesis of polyamic acid)
(Compound No. 2-1-1-1) (1.50 g) synthesized in exactly the same manner as in Example 1 was placed in a 200 ml four-necked flask and dissolved in NMP (27 mL). Pyromellitic dianhydride (PMDA) (0.80 g) and cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (MMDA) (0.72 g) were added to the solution and stirred for 12 hours. By diluting the resulting solution with a mixed solvent of NMP (18 mL) and BC (5 mL), a transparent liquid having a polyamic acid concentration of 6% by weight was obtained. The viscosity of this solution at 25° C. was 15 mPa·s, and the weight average molecular weight of the polymer contained in this solution was 20,000. This solution is called Varnish A.
[実施例3]
(ポリイミドの合成)
実施例2で得られたワニスAに、無水酢酸(3.76g)、ピリジン(2.91g)を加え、100℃で三時間加熱環流させた。冷却後反応混合物をメタノールに投入して重合体を再沈澱させ、ろ過して粗生成物を得た。この粗生成物を純水(500ml)で2回、メタノール(500ml)で1回、それぞれ30分程度煮沸洗浄した。その後、120℃で8時間減圧乾燥してポリイミド(3.6g)を得た。このポリイミドの重量平均分子量は25,000であった。
[Example 3]
(Synthesis of polyimide)
Acetic anhydride (3.76 g) and pyridine (2.91 g) were added to the varnish A obtained in Example 2, and the mixture was heated to reflux at 100° C. for 3 hours. After cooling, the reaction mixture was poured into methanol to reprecipitate the polymer and filtered to obtain a crude product. This crude product was boiled and washed twice with pure water (500 ml) and once with methanol (500 ml) for about 30 minutes each. Then, it was dried under reduced pressure at 120° C. for 8 hours to obtain polyimide (3.6 g). The weight average molecular weight of this polyimide was 25,000.
[実施例4]
(2,4-ジエチル-2,4-ジシクロヘキシルシクロブタンジアミン(化合物No.1-2-1-14)の合成)
(第1段)
塩酸ヒドロキシルアミン(59.5g:856.3mmol)のピリジン(150ml)溶液を0℃に冷却し、そこに文献記載の方法に準拠して得た2,4-ジエチル-2,4-ジシクロヘキシルシクロブタン-1,3-ジオン(65.2g:214.0mmol)を少量ずつ加え、0℃で5分間撹拌した。更に室温で24時間撹拌した後、得られた反応混合物に蒸留水を加えて析出した固体をろ過し、更に固体を水洗後、60℃にて真空乾燥を行い、2,4-ジエチル-2,4-ジシクロヘキシルシクロブタン-1,3-ジオン ジオキシム(68.0g:303.3mmol)収率95.0%を得た。これを化合物(2-2-1-27a)とする。
[Example 4]
(Synthesis of 2,4-diethyl-2,4-dicyclohexylcyclobutanediamine (Compound No. 1-2-1-14))
(first stage)
A solution of hydroxylamine hydrochloride (59.5 g: 856.3 mmol) in pyridine (150 ml) was cooled to 0° C., and 2,4-diethyl-2,4-dicyclohexylcyclobutane- 1,3-dione (65.2 g: 214.0 mmol) was added portionwise and stirred at 0° C. for 5 minutes. After further stirring at room temperature for 24 hours, distilled water was added to the resulting reaction mixture, the precipitated solid was filtered, and the solid was washed with water and vacuum-dried at 60°C. 4-Dicyclohexylcyclobutane-1,3-dione dioxime (68.0 g: 303.3 mmol) yield 95.0%. This is designated as compound (2-2-1-27a).
(第2段)
オートクレーブ反応器中で、化合物(2-2-1-27a)(39.3g:117.5mmol)をテトラヒドロフラン(THF)200mLへ溶解させ、スポンジ-Ni(4.0g)を加え、水素雰囲気下、80℃にて水素の吸収が無くなるまで撹拌した。
反応完了後スポンジ-Niを濾別後、溶媒を減圧下留去し、収率99%で2,2,4,4-ジエチル-2,4-ジシクロヘキシルシクロブタンジアミン(化合物No.1-2-1-14)(35.6g:116.3mmol)を得た。
(second stage)
In an autoclave reactor, compound (2-2-1-27a) (39.3 g: 117.5 mmol) was dissolved in 200 mL of tetrahydrofuran (THF), sponge-Ni (4.0 g) was added, and under a hydrogen atmosphere, The mixture was stirred at 80° C. until no more hydrogen was absorbed.
After the completion of the reaction, sponge-Ni was filtered off, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 2,2,4,4-diethyl-2,4-dicyclohexylcyclobutanediamine (compound No. 1-2-1 -14) (35.6 g: 116.3 mmol) was obtained.
[実施例5]
(2,4-ジエチル-2,4-ジシクロヘキシルシクロブタンジアミン炭酸塩(化合物No.2-2-1-27)の合成)
実施例4で得られた化合物(1-2-1-14)30g(97.9mmol)をテトラヒドロフラン(THF)200mLへ溶解させ、バブラーを導入後、二酸化炭素を吹き込み得られた固体を濾別した。その後固体を酢酸エチル、ジエチルエーテルで洗浄し減圧下乾燥し、収率99%で2,2,4,4-ジエチル-2,4-ジシクロヘキシルシクロブタンジアミン炭酸塩(化合物No.2-2-1-27)(36.1g:116.3mmol)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:2.65(d,2H)、2.06-2.00(m,2H)、1.74-1.51(m、16H)、1.19-1.02(m,8H)0.88(t,6H).
[Example 5]
(Synthesis of 2,4-diethyl-2,4-dicyclohexylcyclobutanediamine carbonate (Compound No. 2-2-1-27))
30 g (97.9 mmol) of the compound (1-2-1-14) obtained in Example 4 was dissolved in 200 mL of tetrahydrofuran (THF), a bubbler was introduced, carbon dioxide was blown thereinto, and the obtained solid was separated by filtration. . After that, the solid was washed with ethyl acetate and diethyl ether and dried under reduced pressure. 27) (36.1 g: 116.3 mmol) was obtained.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 2.65 (d, 2H), 2.06-2.00 (m, 2H), 1.74-1.51 (m, 16H), 1.19-1 .02 (m, 8H) 0.88 (t, 6H).
[実施例6]
(ポリアミド酸の合成)
200mlの4つ口フラスコに、実施例1と全く同様にして合成した(化合物No.2-1-1-1)(2.70g)を入れNMP(27mL)に溶解した。この溶液にピロメリット酸二無水物(PMDA)(0.80g)およびシクロブタンテトラカルボン酸二無水物(MMDA)(0.72g)を加えて12時間攪拌した。得られた溶液をNMP(18mL)とBC(5mL)との混合溶剤で希釈することにより、ポリアミド酸濃度6重量%の透明液体を得た。この溶液の25℃での粘度は15mPa・sであり、この溶液に含まれる重合体の重量平均分子量は32,000であった。この溶液をワニスBとする。
[Example 6]
(Synthesis of polyamic acid)
In a 200 ml four-necked flask, 2.70 g (compound No. 2-1-1-1) synthesized in exactly the same manner as in Example 1 was placed and dissolved in NMP (27 mL). Pyromellitic dianhydride (PMDA) (0.80 g) and cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (MMDA) (0.72 g) were added to the solution and stirred for 12 hours. By diluting the resulting solution with a mixed solvent of NMP (18 mL) and BC (5 mL), a transparent liquid having a polyamic acid concentration of 6% by weight was obtained. The viscosity of this solution at 25° C. was 15 mPa·s, and the weight average molecular weight of the polymer contained in this solution was 32,000. This solution is called varnish B.
[実施例7]
(ポリイミドの合成)
実施例6で得られたワニスBに、無水酢酸(3.76g)、ピリジン(2.91g)を加え、100℃で三時間加熱還流させた。冷却後反応混合物をメタノールに投入して重合体を再沈澱させ、ろ過して粗生成物を得た。この粗生成物を純水(500ml)で2回、メタノール(500ml)で1回、それぞれ30分程度煮沸洗浄した。その後、120℃で8時間減圧乾燥してポリイミド(4.1g)を得た。このポリイミドの重量平均分子量は40,000であった。
[Example 7]
(Synthesis of polyimide)
Acetic anhydride (3.76 g) and pyridine (2.91 g) were added to the varnish B obtained in Example 6, and the mixture was heated under reflux at 100° C. for 3 hours. After cooling, the reaction mixture was poured into methanol to reprecipitate the polymer and filtered to obtain a crude product. This crude product was boiled and washed twice with pure water (500 ml) and once with methanol (500 ml) for about 30 minutes each. Then, it was dried under reduced pressure at 120° C. for 8 hours to obtain polyimide (4.1 g). The weight average molecular weight of this polyimide was 40,000.
[比較例1]
(ポリアミド酸の合成)
200mlの4つ口フラスコに、1,4-フェニレンジアミン(0.8g)を入れNMP(27mL)に溶解した。この溶液にピロメリット酸二無水物(PMDA)(0.80g)およびシクロブタンテトラカルボン酸二無水物(MMDA)(0.72g)を加えて12時間攪拌した。得られた溶液をNMP(18mL)とBC(5mL)との混合溶剤で希釈することにより、ポリアミド酸濃度6重量%の透明液体を得た。この溶液の25℃での粘度は15mPa・sであり、この溶液に含まれる重合体の重量平均分子量は20,000であった。この溶液をワニスYとする。
[Comparative Example 1]
(Synthesis of polyamic acid)
1,4-Phenylenediamine (0.8 g) was placed in a 200 ml four-necked flask and dissolved in NMP (27 mL). Pyromellitic dianhydride (PMDA) (0.80 g) and cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (MMDA) (0.72 g) were added to the solution and stirred for 12 hours. By diluting the resulting solution with a mixed solvent of NMP (18 mL) and BC (5 mL), a transparent liquid having a polyamic acid concentration of 6% by weight was obtained. The viscosity of this solution at 25° C. was 15 mPa·s, and the weight average molecular weight of the polymer contained in this solution was 20,000. Let this solution be varnish Y.
[実施例2]および[比較例1]の評価1
(ワニスの透過光スペクトル測定)
前述の方法にて、実施例2にて調製したワニスAと比較例1にて調製したワニスYから作製されるポリイミド膜の透過光スペクトルを測定した。スペクトルを図1に示す。比較例のワニスYから誘導されるポリイミド膜は300nm以下のエネルギーが高い短波長領域では吸収があり透過しないが、一方実施例1のジアミン炭酸塩より誘導されるワニスAは300nm以下の短波長においても吸収が無く、加えて全波長領域において透過性に優れる事がわかる。
Evaluation 1 of [Example 2] and [Comparative Example 1]
(Measurement of transmitted light spectrum of varnish)
The transmitted light spectrum of the polyimide film produced from the varnish A prepared in Example 2 and the varnish Y prepared in Comparative Example 1 was measured by the method described above. The spectrum is shown in FIG. The polyimide film derived from varnish Y of Comparative Example absorbs and does not transmit in the high-energy short wavelength region of 300 nm or less, while the varnish A derived from diamine carbonate of Example 1 does not transmit in the short wavelength region of 300 nm or less. It can be seen that there is no absorption at all, and in addition, it has excellent transmittance in the entire wavelength range.
[実施例2]および[比較例1]の評価2
(ワニスから作製されるポリイミド膜の鉛筆硬度測定)
前述の方法にて、実施例2にて調製したワニスAと比較例1にて調製したワニスYから作製されるポリイミド膜の鉛筆硬度を測定した。結果を表1に示す。ワニスAより作製されるポリイミド膜は、比較例2のワニスYと同等の硬度を有していることが分かる。
Evaluation 2 of [Example 2] and [Comparative Example 1]
(Pencil hardness measurement of polyimide film made from varnish)
The pencil hardness of the polyimide film produced from the varnish A prepared in Example 2 and the varnish Y prepared in Comparative Example 1 was measured by the method described above. Table 1 shows the results. It can be seen that the polyimide film produced from varnish A has hardness equivalent to that of varnish Y of Comparative Example 2.
<表1>
<Table 1>
シクロブタン環を有する本発明のジアミン誘導体、およびジアミン塩を含むジアミン類を、ポリイミド、ポリアミドなどの重合体の原料として用いるとき、従来の芳香族ジアミンを用いた場合と比較し、その重合体の光透過性はより短波長領域まで高く維持することができる。その結果、これらの重合体を用いたフィルムを含めた成形体は、透明性が高くかつ高い物理的安定性を有しているので、フレキシブルディスプレイを初めとする広い波長領域で高い透明性が要求される基板材料して適している。 When the diamine derivative of the present invention having a cyclobutane ring and the diamines containing the diamine salt are used as raw materials for polymers such as polyimides and polyamides, compared with the case of using conventional aromatic diamines, the light of the polymer Transmittance can remain high down to the shorter wavelength region. As a result, molded articles including films using these polymers have high transparency and high physical stability, so high transparency in a wide wavelength range such as flexible displays is required. It is suitable as a substrate material.
本発明のジアミン類は短い合成ルートで安価に製造することができるので、高機能な成形体をより安価に提供することが可能である。なお、本発明の化合物は、ポリイミド以外の結合様式を有する高分子材料の原料としても使用できる。 Since the diamines of the present invention can be produced by a short synthetic route at low cost, it is possible to provide a highly functional molded article at a lower cost. In addition, the compound of the present invention can also be used as a raw material for polymer materials having bonding modes other than polyimide.
Claims (15)
式(1)において、
A1、A2、A3、およびA4は独立して、水素、炭素数3~10のシクロアルキル、炭素数3~10のシクロアルケニル、フェニル、ナフチル、フルオレニル、またはピリジルであり、これらの環の少なくとも1つの水素は、ハロゲン、炭素数1~12のアルキル、または少なくとも1つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数1~12のアルキルで置き換えられてもよく;
Z1、Z2、Z3、およびZ4は独立して、単結合、炭素数1~20のアルキレン、炭素数2~20のアルケンジイル、または炭素数2~20のアルキンジイルであり、これらの基の少なくとも1つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく;
-Z1-A1と-Z2-A2、または-Z3-A3と-Z4-A4は、互いに結合して環構造を形成してもよく;
A1、A2、A3、およびA4が同時に水素である場合、Z1、Z2、Z3、およびZ4のうちの少なくとも1つは、単結合またはメチレンではない。 A diamine derivative represented by formula (1).
In formula (1),
A 1 , A 2 , A 3 , and A 4 are independently hydrogen, cycloalkyl having 3 to 10 carbon atoms, cycloalkenyl having 3 to 10 carbon atoms, phenyl, naphthyl, fluorenyl, or pyridyl, and at least one hydrogen of the ring may be replaced by halogen, alkyl of 1 to 12 carbon atoms, or alkyl of 1 to 12 carbon atoms in which at least one hydrogen is replaced by halogen;
Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 are each independently a single bond, alkylene having 1 to 20 carbon atoms, alkenediyl having 2 to 20 carbon atoms, or alkynediyl having 2 to 20 carbon atoms, and these groups at least one hydrogen of may be replaced with a halogen;
-Z 1 -A 1 and -Z 2 -A 2 , or -Z 3 -A 3 and -Z 4 -A 4 may combine with each other to form a ring structure;
When A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are simultaneously hydrogen, at least one of Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 is not a single bond or methylene.
酸は、炭酸、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、リン酸、ギ酸、酢酸、およびプロピオン酸から選択される少なくとも1つである塩。
式(1)において、
A1、A2、A3、およびA4は独立して、水素、炭素数3~10のシクロアルキル、炭素数3~10のシクロアルケニル、フェニル、ナフチル、フルオレニル、またはピリジルであり、これらの環の少なくとも1つの水素は、ハロゲン、炭素数1~12のアルキル、または少なくとも1つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数1~12のアルキルで置き換えられてもよく;
Z1、Z2、Z3、およびZ4は独立して、単結合、炭素数1~20のアルキレン、炭素数2~20のアルケンジイル、または炭素数2~20のアルキンジイルであり、これらの基の少なくとも1つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく;
-Z1-A1と-Z2-A2、または-Z3-A3と-Z4-A4は互いに結合して環構造を形成してもよい。 A salt formed from a diamine derivative represented by formula (1) and an acid,
The acid is at least one salt selected from carbonic acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, nitric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, phosphoric acid, formic acid, acetic acid, and propionic acid.
In formula (1),
A 1 , A 2 , A 3 , and A 4 are independently hydrogen, cycloalkyl having 3 to 10 carbon atoms, cycloalkenyl having 3 to 10 carbon atoms, phenyl, naphthyl, fluorenyl, or pyridyl, and at least one hydrogen of the ring may be replaced by halogen, alkyl of 1 to 12 carbon atoms, or alkyl of 1 to 12 carbon atoms in which at least one hydrogen is replaced by halogen;
Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 are each independently a single bond, alkylene having 1 to 20 carbon atoms, alkenediyl having 2 to 20 carbon atoms, or alkynediyl having 2 to 20 carbon atoms, and these groups at least one hydrogen of may be replaced with a halogen;
-Z 1 -A 1 and -Z 2 -A 2 , or -Z 3 -A 3 and -Z 4 -A 4 may combine with each other to form a ring structure.
酸が炭酸である、請求項6に記載の塩。 In formula (1), Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 are each independently a single bond or an alkylene having 1 to 20 carbon atoms;
7. The salt of Claim 6, wherein the acid is carbonic acid.
酸が炭酸である、請求項6に記載の塩。 In formula (1), A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are independently hydrogen, cycloalkyl having 3 to 10 carbon atoms, cycloalkenyl having 3 to 10 carbon atoms, phenyl, or fluorenyl;
7. The salt of Claim 6, wherein the acid is carbonic acid.
酸が炭酸である、請求項6に記載の塩。 in formula (1), Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 are independently a single bond, methylene, or ethylene;
7. The salt of Claim 6, wherein the acid is carbonic acid.
酸が炭酸である、請求項6に記載の塩。 In formula (1), A 1 , A 2 , A 3 , and A 4 are independently hydrogen, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, adamantyl, norbornyl, dicyclo[2.2.2]octyl, or is phenyl;
7. The salt of Claim 6, wherein the acid is carbonic acid.
酸が炭酸である、請求項6に記載の塩。 In formula (1), Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 are methylene and A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are hydrogen;
7. The salt of Claim 6, wherein the acid is carbonic acid.
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