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JP2023035431A - Holding mechanism and processing device - Google Patents

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JP2023035431A
JP2023035431A JP2021142275A JP2021142275A JP2023035431A JP 2023035431 A JP2023035431 A JP 2023035431A JP 2021142275 A JP2021142275 A JP 2021142275A JP 2021142275 A JP2021142275 A JP 2021142275A JP 2023035431 A JP2023035431 A JP 2023035431A
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JP
Japan
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plate
holding
work
suction
water
Prior art date
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Pending
Application number
JP2021142275A
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Japanese (ja)
Inventor
宏樹 瀧瀬
Hiroki Takise
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Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】加工装置に配設され板状ワークを吸引保持する保持機構の吸盤にゴミを付着させないようにする。【解決手段】吸引源に連通する吸引口240を中心に有する吸盤245を備え板状ワークを吸引保持する保持機構24であって、吸引口240を上に向けた状態で吸引口240から水を噴出させる水噴出機構29を備え、板状ワークを保持していないときに吸引口240から水を噴出させ、吸盤245の板状ワークに接する部分にゴミが付着するのを防止する、または、吸盤245の板状ワークに接する部分に付着したゴミを除去する保持機構24。【選択図】図3An object of the present invention is to prevent dust from adhering to a sucker of a holding mechanism that is arranged in a processing apparatus and sucks and holds a plate-shaped work. A holding mechanism (24) for sucking and holding a plate-like work, which has a suction cup (245) having a suction port (240) communicating with a suction source (240) at the center, and water is supplied from the suction port (240) with the suction port (240) facing upward. A water ejection mechanism 29 for ejecting water is provided, and water is ejected from a suction port 240 when the plate-like work is not held to prevent dust from adhering to the portion of the suction cup 245 that contacts the plate-like work, or the suction cup. A holding mechanism 24 for removing dust adhering to the portion of 245 in contact with the plate-like work. [Selection drawing] Fig. 3

Description

本発明は、板状ワークを吸引保持する保持機構、及び保持機構を備える加工装置に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a holding mechanism that sucks and holds a plate-shaped work, and a processing apparatus that includes the holding mechanism.

板状ワークを研削砥石で研削する装置は、例えば特許文献1に開示されているように、第1保持パッドで板状ワークの上面を吸引保持して、チャックテーブルに搬入している。また、研削された板状ワークは、チャックテーブルに保持されている状態で洗浄され、その後、第2保持パッドによって上面を吸引保持されてチャックテーブルから搬出されている。 An apparatus for grinding a plate-like work with a grinding wheel, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-200010, sucks and holds the upper surface of the plate-like work with a first holding pad and carries the plate-like work into a chuck table. Further, the ground plate-shaped work is washed while being held on the chuck table, and then the upper surface is suction-held by the second holding pad and carried out from the chuck table.

特開2021-077763号公報JP 2021-077763 A

このように板状ワークの上面を吸引保持する第1保持パッド、及び第2保持パッドは、複数の吸盤を備えている
また、カセットから取り出した板状ワークを第1保持パッドに保持させるために、研削装置等の加工装置は、板状ワークを仮置きする仮置き機構を備える。この仮置き機構は、テーブルの場合と、複数の吸盤を配置する構成の場合とが有る。
The first holding pad and the second holding pad for sucking and holding the upper surface of the plate-like work in this way are provided with a plurality of suction cups. A processing apparatus such as a grinding apparatus includes a temporary placement mechanism for temporarily placing a plate-shaped work. This temporary placement mechanism may be a table or may have a configuration in which a plurality of suction cups are arranged.

そして、第1保持パッド、又は仮置き機構に配置される吸盤にゴミが付着すると、そのゴミが板状ワークの下面に付着し、チャックテーブルと板状ワークとの間にゴミが介在し、研削した板状ワークは、ゴミがあった箇所だけ他よりも薄くなってしまうという問題が有る。 When dust adheres to the first holding pad or the suction cup arranged in the temporary placement mechanism, the dust adheres to the lower surface of the plate-like work, and the dust is interposed between the chuck table and the plate-like work, resulting in grinding. There is a problem that the plate-like work that has been covered with dust is thinner than the other parts.

したがって、例えば研削装置を用いて板状ワークを研削する場合には、保持パッドの吸盤、及び仮置き機構の吸盤にゴミを付着させないようにするという課題がある。 Therefore, when grinding a plate-like work using a grinding device, for example, there is a problem of preventing dust from adhering to the suction cups of the holding pad and the suction cups of the temporary placement mechanism.

上記課題を解決するための本発明は、吸引源に連通する吸引口を中心に有する吸盤を備え板状ワークを吸引保持する保持機構であって、該吸引口を上に向けた状態で該吸引口から水を噴出させる水噴出機構を備え、板状ワークを保持していないときに該吸引口から水を噴出させ、該吸盤の板状ワークに接する部分にゴミが付着するのを防止する、または、該吸盤の板状ワークに接する部分に付着したゴミを除去する保持機構である。
例えば、前記水噴出機構は、前記吸盤の中央に円板を配置し、該円板によって水を該吸盤の中央から外周に向かって放射状に噴出すると好ましい。
The present invention for solving the above-mentioned problems is a holding mechanism for sucking and holding a plate-like work, which has a suction cup having a suction port communicating with a suction source at its center, wherein the suction port is directed upward. Equipped with a water ejection mechanism for ejecting water from the mouth, and when the plate-shaped work is not held, water is ejected from the suction port to prevent dust from adhering to the part of the suction cup that contacts the plate-shaped work. Alternatively, it is a holding mechanism that removes dust adhering to the portion of the suction cup that is in contact with the plate-shaped work.
For example, it is preferable that the water ejecting mechanism has a disc arranged in the center of the sucker, and the disc ejects water radially from the center of the sucker toward the outer periphery.

また上記課題を解決するための本発明は、板状ワークを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された板状ワークを加工する加工機構と、板状ワークの上面を吸引保持する保持パッドと、該保持パッドの吸引面を上下反転する反転機構を有し該保持パッドが保持した板状ワークを搬送する搬送機構と、を備える加工装置であって、該保持パッドは、前記保持機構を備える、加工装置である。 In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a chuck table for holding a plate-like work, a processing mechanism for processing the plate-like work held on the chuck table, and a holding pad for sucking and holding the upper surface of the plate-like work. and a conveying mechanism for conveying a plate-like work held by the holding pad, the conveying mechanism having an inversion mechanism for vertically inverting the suction surface of the holding pad, wherein the holding pad includes the holding mechanism. It is a processing device.

本発明に係る保持機構は、吸盤が板状ワークを保持していないときに上側に向けた吸引口から水を噴出させ、吸盤の板状ワークに接する部分にゴミが付着するのを防止する、または、吸盤の板状ワークに接する部分に付着したゴミを除去することで、吸盤から板状ワークにゴミが付着することを防止できる。
また、水噴出機構は、吸盤の中央に円板を配置することで、円板によって水を吸盤の中央から外周に向かって放射状に噴出することが可能となる。
The holding mechanism according to the present invention ejects water from the suction port facing upward when the suction cup does not hold the plate-shaped work, thereby preventing dust from adhering to the portion of the suction cup that contacts the plate-shaped work. Alternatively, it is possible to prevent dust from adhering to the plate-shaped work from the suction cup by removing the dust adhering to the portion of the suction cup that is in contact with the plate-shaped work.
In addition, the water ejecting mechanism can radially eject water from the center of the suction cup toward the outer periphery by arranging the disk in the center of the suction cup.

本発明に係る加工装置においては、保持パッドが上記保持機構を備えることで、吸盤から板状ワークにゴミが付着することを防止できる。また、独立したその他の洗浄機構(例えば、保持パッド洗浄用の洗浄機構)の配設個数を減らすことができるので、加工装置の小型化を図ることが可能となる。 In the processing apparatus according to the present invention, it is possible to prevent dust from adhering to the plate-shaped work from the suction cups by providing the holding pad with the holding mechanism. In addition, since the number of other independent cleaning mechanisms (for example, the cleaning mechanism for cleaning the holding pad) can be reduced, it is possible to reduce the size of the processing apparatus.

加工装置(研削装置)の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of a processing apparatus (grinding apparatus). 保持機構を備える仮置き機構の構造を説明する斜視図である。It is a perspective view explaining the structure of a temporary placement mechanism provided with a holding mechanism. 保持機構を構成する吸盤、及び水噴出機構を説明する斜視図である。It is a perspective view explaining the suction cup which comprises a holding|maintenance mechanism, and a water ejection mechanism. 図4(A)は、保持機構を構成する吸盤、及び水噴出機構を説明する平面図である。図4(B)は、保持機構を構成する吸盤、及び水噴出機構を説明する断面図である。FIG. 4A is a plan view for explaining the suction cups and the water ejection mechanism that constitute the holding mechanism. FIG. 4B is a cross-sectional view for explaining the suction cups and the water ejection mechanism that constitute the holding mechanism. 保持機構を備える保持パッドの構造を説明する斜視図である。It is a perspective view explaining the structure of a holding pad provided with a holding mechanism. 水噴出機構によって吸盤から噴出する水の流れを説明する断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining the flow of water ejected from a suction cup by a water ejecting mechanism;

図1に示す加工装置1(以下、研削装置1とする)は、粗研削機構30、及び仕上げ研削機構31によって、チャックテーブル18上に保持された板状ワーク90を所望の厚さまで薄化する装置である。
研削装置1は、例えば、第1の装置ベース10の後方(+Y方向側)に第2の装置ベース11を連結して構成されている。第1の装置ベース10上は、板状ワーク90の搬出入等が行われる搬出入領域となっている。第2の装置ベース11上は、粗研削機構30、及び仕上げ研削機構31によってチャックテーブル18で保持された板状ワーク90が研削される研削領域となっている。
A processing apparatus 1 (hereinafter referred to as a grinding apparatus 1) shown in FIG. 1 thins a plate-like workpiece 90 held on a chuck table 18 to a desired thickness by a rough grinding mechanism 30 and a finish grinding mechanism 31. It is a device.
The grinding device 1 is configured, for example, by connecting a second device base 11 to the rear (+Y direction side) of the first device base 10 . Above the first device base 10 is a loading/unloading area where the plate-like work 90 is loaded/unloaded. The second device base 11 is a grinding area where a plate-like workpiece 90 held by a chuck table 18 is ground by a rough grinding mechanism 30 and a finish grinding mechanism 31 .

図1に示す板状ワーク90は、例えば、外形が矩形状の基板(例えば、PCB基板)であり、板状ワーク90の上面900が被研削面となる。なお、板状ワーク90は、円形のシリコン半導体ウェーハであってもよいし、金属基板等であってもよい。 The plate-like work 90 shown in FIG. 1 is, for example, a board having a rectangular outer shape (for example, a PCB board), and an upper surface 900 of the plate-like work 90 is the surface to be ground. The plate-like workpiece 90 may be a circular silicon semiconductor wafer, or may be a metal substrate or the like.

第1の装置ベース10の正面側(-Y方向側)には、カセットステージ150およびストッカステージ151がX軸方向に並べて設けられている。カセットステージ150には、加工前の板状ワーク90が収容されているカセット153が載置されている。ストッカステージ151には、加工前の板状ワーク90が収容されている同様のカセット153が、複数載置されることが可能である。また、ストッカステージ151には、加工後の板状ワーク90が収容される同様のカセット153が載置されてもよい。カセット153は、複数の板状ワーク90を収容可能な複数の段(棚)を備えており、各段に一枚ずつ板状ワーク90が収容されている。 A cassette stage 150 and a stocker stage 151 are arranged side by side in the X-axis direction on the front side (−Y direction side) of the first device base 10 . A cassette 153 containing plate-like workpieces 90 before processing is placed on the cassette stage 150 . A plurality of similar cassettes 153 containing plate-shaped works 90 before processing can be placed on the stocker stage 151 . Also, a similar cassette 153 that accommodates the plate-like workpiece 90 after processing may be placed on the stocker stage 151 . The cassette 153 has a plurality of stages (shelves) capable of accommodating a plurality of plate-shaped works 90, and one plate-shaped work 90 is accommodated in each stage.

また、図1に示すように、ストッカステージ151の上面には、カセット153との間に介在される例えば4つの着脱可能なアダプタプレート154がX軸方向に並ぶように配設されている。アダプタプレート154の上面にカセット153が固定可能となっている。 Further, as shown in FIG. 1, on the upper surface of the stocker stage 151, for example, four detachable adapter plates 154 interposed between the cassette 153 and the cassette 153 are arranged so as to line up in the X-axis direction. A cassette 153 can be fixed on the upper surface of the adapter plate 154 .

ストッカステージ151の上面には、ストッカステージ151上で、アダプタプレート154を良好に位置決めするための例えば3本1組のプレート位置決めピン156が配設されている。プレート位置決めピン156が、アダプタプレート154の下面に挿嵌されることで位置決めが行われる。なお、カセットステージ150上にも、アダプタプレート154及びプレート位置決めピン156が配設されている。 A set of, for example, three plate positioning pins 156 are arranged on the upper surface of the stocker stage 151 to properly position the adapter plate 154 on the stocker stage 151 . Positioning is performed by inserting the plate positioning pin 156 into the lower surface of the adapter plate 154 . An adapter plate 154 and plate positioning pins 156 are also provided on the cassette stage 150 .

カセット153は、Y軸方向側を向く両面開口を有している。+Y方向側の該開口に対向するように、ロボット155が配設されている。ロボット155は、加工後の板状ワーク90を、図示しない加工済みワーク収容用のカセット153に搬入(収納)する。ロボット155は、板状ワーク90を吸引保持可能なロボットハンドを備え、ロボットハンドをZ軸方向に上下動可能かつ水平面内(X軸Y軸平面内)を旋回移動及びX軸方向に直動可能な多関節アームを備える。なお、加工後の板状ワーク90は、図1に示す加工前の板状ワーク90が収容されていたカセット153の空いている棚に、収容してもよい。 The cassette 153 has openings on both sides facing the Y-axis direction. A robot 155 is arranged so as to face the opening on the +Y direction side. The robot 155 carries (stores) the plate-shaped work 90 after processing into a cassette 153 (not shown) for storing processed work. The robot 155 has a robot hand capable of sucking and holding the plate-shaped workpiece 90, and the robot hand can move up and down in the Z-axis direction, turn in a horizontal plane (within the X-axis and Y-axis plane), and move linearly in the X-axis direction. Equipped with an articulated arm. Note that the plate-shaped work 90 after processing may be stored in an empty shelf of the cassette 153 where the plate-shaped work 90 before processing shown in FIG. 1 was stored.

研削装置1は、図1に示すように、ストッカステージ151及びカセットステージ150の近傍上方の位置に、破線によって示すカセット搬送空間108が設けられている。このカセット搬送空間108には、加工前の板状ワーク90を収容しストッカステージ151にアダプタプレート154を介して載置されたカセット153をカセットステージ150に搬送するための、カセット搬送機構6が備えられている。 As shown in FIG. 1, the grinding apparatus 1 is provided with a cassette transfer space 108 indicated by a dashed line above the stocker stage 151 and the cassette stage 150 . The cassette transporting space 108 is provided with a cassette transporting mechanism 6 for transporting a cassette 153 containing a plate-shaped workpiece 90 before processing and placed on a stocker stage 151 via an adapter plate 154 to the cassette stage 150 . It is

カセット搬送機構6は、カセット153を載せたアダプタプレート154を支持する支持ユニット61と、支持ユニット61をストッカステージ151とカセットステージ150との間でX軸方向に移動させるX軸移動部62と、X軸移動部62に配設されたZ軸移動部63とを備えている。 The cassette transport mechanism 6 includes a support unit 61 that supports an adapter plate 154 on which a cassette 153 is placed, an X-axis moving section 62 that moves the support unit 61 between the stocker stage 151 and the cassette stage 150 in the X-axis direction, and a Z-axis moving portion 63 arranged on the X-axis moving portion 62 .

X軸移動部62は、例えば、モータ620によりカセット搬送空間108内に固定された筐体板629に取り付けられたボールネジ621を回動させることで、ボールネジ621に内部のナットが螺合する可動板622にZ軸移動部63を介して配設された支持ユニット61をX軸方向に往復移動させる。 The X-axis moving part 62 is a movable plate in which an internal nut is screwed into the ball screw 621 by rotating a ball screw 621 attached to a housing plate 629 fixed in the cassette transfer space 108 by a motor 620, for example. The support unit 61 arranged at 622 via the Z-axis moving part 63 is reciprocated in the X-axis direction.

可動板622に配設されたZ軸移動部63は、モータ630によりZ軸方向に延在するボールネジ631を回動させることで、ボールネジ631に内部のナットが螺合する可動板632に取り付けられた支持ユニット61をZ軸方向に往復移動させる。 The Z-axis moving part 63 provided on the movable plate 622 is attached to the movable plate 632 in which the nut inside the ball screw 631 is screwed by rotating the ball screw 631 extending in the Z-axis direction by the motor 630 . The supporting unit 61 is reciprocated in the Z-axis direction.

支持ユニット61は、可動板632上に後端側が固定されたアーム部611と、アーム部611の-Y方向側の先端下面に接続された天板612と、天板612を貫通して天板612から垂下する4本の支持柱613とを備えている。 The support unit 61 includes an arm portion 611 whose rear end side is fixed on a movable plate 632, a top plate 612 connected to the lower surface of the tip of the arm portion 611 on the -Y direction side, and a top plate 612 penetrating the top plate. 612 and four support posts 613 depending therefrom.

Z軸方向に垂下する4本の支持柱613の下端側は、天板612の内側に向かってL字状に曲げられている。そして、支持柱613は、L字状の下端がアダプタプレート154の外周に形成された4つの嵌合溝157に対して同時に嵌合することが可能な位置に配置されている。 The lower end sides of the four support columns 613 hanging down in the Z-axis direction are bent toward the inside of the top plate 612 in an L shape. The support column 613 is arranged at a position where the L-shaped lower end can be simultaneously fitted into four fitting grooves 157 formed on the outer periphery of the adapter plate 154 .

ロボット155は、カセット153から加工前の板状ワーク90を取り出して、図1に示す板状ワーク90を仮置きする仮置き機構2に搬送する。例えば、図1に示すように、第1の装置ベース10上には、その下方にロボット155が移動可能な空間を形成するように門型ブリッジ20が立設している。そして、門型ブリッジ20の上面には、電動スライダー等の仮置きテーブル移動機構21が配設されている。 The robot 155 takes out the plate-like work 90 before processing from the cassette 153 and conveys it to the temporary placement mechanism 2 for temporarily placing the plate-like work 90 shown in FIG. For example, as shown in FIG. 1, a portal bridge 20 is erected on the first device base 10 so as to form a space below which the robot 155 can move. A temporary placement table moving mechanism 21 such as an electric slider is arranged on the upper surface of the portal bridge 20 .

仮置きテーブル移動機構21のスライド板211の上面には、テーブル桶25が配設されており、テーブル桶25内には、カセット153からロボット155によって搬出された板状ワーク90が仮置きされる仮置きテーブル23が配設されている。 A table tub 25 is arranged on the upper surface of the slide plate 211 of the temporary placement table moving mechanism 21, and a plate-like work 90 carried out from the cassette 153 by the robot 155 is temporarily placed in the table tub 25. A temporary placement table 23 is provided.

図2に示すように、テーブル桶25の底には、排出口250が厚み方向に貫通形成されており、排出口250には、スライド板211を貫通して可撓性を有しスライド板211の移動を妨げないドレーンホース256が継手等を介して連通している。そして、ドレーンホース256の下端側は、図示しない排水タンク等に連通している。 As shown in FIG. 2, a discharge port 250 is formed through the bottom of the table tub 25 in the thickness direction. A drain hose 256 that does not hinder the movement of the fluid is communicated via a joint or the like. The lower end side of the drain hose 256 communicates with a drain tank or the like (not shown).

図2に示すように、仮置き機構2の仮置きテーブル23は、平面視円形板状のベース230を備えている。また、仮置きテーブル23には、吸引源249に連通する吸引口240(図3参照)を中心に有する例えば複数の吸盤245を備え板状ワーク90を吸引保持する保持機構24が配設されている。 As shown in FIG. 2, the temporary placement table 23 of the temporary placement mechanism 2 includes a circular plate-shaped base 230 in plan view. Further, the temporary placement table 23 is provided with a holding mechanism 24 which has, for example, a plurality of suction cups 245 having a suction port 240 (see FIG. 3) communicating with a suction source 249 in the center, and which sucks and holds the plate-like workpiece 90 . there is

ベース230の平坦な上面には、複数の吸盤245が縦横に等間隔を空けて配設されている。
図3、図4に示す吸盤245は、例えば、変形可能なゴム等の弾性材を平面視円形状に形成したものであり、円筒状の吸盤基部246と、吸盤基部246の外周領域から徐々に拡径するように立設された中段部247と、中段部247の外周領域から徐々に拡径し板状ワーク90に接触するすり鉢状のツバ部248とを備えている。
なお、ツバ部248は、弾性材で形成されていて、リング状の先端全周が板状ワーク90に接触するように、板状ワーク90に倣って変形する。
A plurality of suction cups 245 are arranged vertically and horizontally at regular intervals on the flat upper surface of the base 230 .
The suction cup 245 shown in FIGS. 3 and 4 is formed by forming an elastic material such as deformable rubber into a circular shape in plan view. It has a middle stage portion 247 which is erected so as to increase in diameter, and a mortar-shaped flange portion 248 which gradually increases in diameter from the outer peripheral region of the middle stage portion 247 and comes into contact with the plate-like workpiece 90 .
The collar portion 248 is made of an elastic material, and deforms following the plate-like work 90 so that the entire periphery of the ring-shaped tip comes into contact with the plate-like work 90 .

図4(B)に示すように、吸盤245の中心にZ軸方向に貫通形成された吸引口240は、ツバ部248における最も大径の円形開口241と、中段部247における平面視円形のフランジ支持口242と、吸盤基部246における円形の貫通口243とで構成されている。 As shown in FIG. 4B, the suction port 240 formed through the center of the suction cup 245 in the Z-axis direction includes a circular opening 241 having the largest diameter in the flange portion 248 and a circular flange in a middle step portion 247. It is composed of a support port 242 and a circular through-hole 243 in a suction cup base 246 .

仮置きテーブル23に配設された保持機構24は、吸盤245の吸引口240を上に向けた状態で吸引口240から水を噴出させる水噴出機構29を備えており、本実施形態における水噴出機構29は、吸盤245の中央に円板298を配置し、円板298によって水を吸盤245の中央から外周に向かって放射状に噴出する。 The holding mechanism 24 arranged on the temporary placement table 23 includes a water ejection mechanism 29 that ejects water from the suction port 240 of the suction cup 245 with the suction port 240 facing upward. The mechanism 29 arranges a disk 298 in the center of the suction cup 245, and the disk 298 ejects water radially from the center of the suction cup 245 toward the outer periphery.

水噴出機構29の具体的な構造について以下に説明する。図4(B)に示すように、吸引口240には、略円柱状の継手292が挿入されている。継手292は、円柱状の継手基部294と、継手基部294の上端から径方向外側に拡径されたフランジ部295と、フランジ部295の上面に周方向に等間隔を空けて立設された複数(例えば4つ)の支持柱296とを備えている。そして、複数の支持柱296の上端面に一枚の円板298の下面が接続されている。例えば、ツバ部248の上端の高さ位置と円板298の上面の高さ位置とのZ軸方向における距離L1は、1.5mm~2mmに設定されていると、円板298の上面にも水を効率よく到達させることが可能であるため好ましい。 A specific structure of the water ejection mechanism 29 will be described below. As shown in FIG. 4B, a substantially cylindrical joint 292 is inserted into the suction port 240 . The joint 292 includes a cylindrical joint base 294, a flange portion 295 whose diameter is expanded radially outward from the upper end of the joint base 294, and a plurality of joints erected on the upper surface of the flange portion 295 at regular intervals in the circumferential direction. (eg, four) support posts 296 . The lower surface of one disk 298 is connected to the upper end surfaces of the plurality of support columns 296 . For example, if the distance L1 in the Z-axis direction between the height position of the upper end of the flange portion 248 and the height position of the upper surface of the disk 298 is set to 1.5 mm to 2 mm, the upper surface of the disk 298 also has It is preferable because it is possible to allow water to reach efficiently.

図4(B)に示す貫通口243に継手基部294が挿入されており、フランジ支持口242内においてフランジ部295の下面が中段部247の上面に当接して状態で、継手292は吸盤245に配置されている。円板298は、中段部247のフランジ支持口242よりも小径に設定されており、フランジ支持口242と円板298の外周との間に環状の隙間が形成されている。 The joint base 294 is inserted into the through hole 243 shown in FIG. are placed. The disk 298 has a diameter smaller than that of the flange support opening 242 of the middle step portion 247 , and an annular gap is formed between the flange support opening 242 and the outer periphery of the disk 298 .

各吸盤245の各吸引口240に配設された継手292には、例えば図2に示すベース230、テーブル桶25、及びスライド板211内に形成された流路を介して、可撓性を有しスライド板211の移動を妨げない樹脂チューブ等からなる吸引配管244が連通している。 A joint 292 arranged at each suction port 240 of each suction cup 245 has flexibility via flow paths formed in, for example, the base 230, the table tub 25, and the slide plate 211 shown in FIG. A suction pipe 244 made of a resin tube or the like that does not hinder the movement of the slide plate 211 is in communication.

図2、図3に示すように、吸引配管244の上流側は二手に分岐して、一方の分岐配管には水噴出機構29を構成し水供給弁を介してポンプ等で構成される水源299が連通している。一方の分岐配管には、エア吸引弁を介してエジェクターや真空発生装置等の吸引源249が連通している。図2に示す仮置き機構2の仮置きテーブル23が、2枚の板状ワーク90(図1参照)の下面901を、保持機構24の例えば図2においては横3個×縦7個の計21個で1グループとなる複数の吸盤245の上面で構成される保持面が2つ配置され、2つの保持面でそれぞれ吸引保持する場合には、2つの保持面にそれぞれ板状ワーク90が載置された後、エア吸引弁を開き、吸引源249が生み出す吸引力が、図3に示す継手292を通り、フランジ支持口242と円板298の外周との間の環状の隙間から、例えば弾性部材で構成されるツバ部248内の円形開口241に到達し、ツバ部248のリング状の上端全周が板状ワーク90の下面901に倣って変形しつつ、仮置きテーブル23が2枚の板状ワーク90をバキュームリーク無く吸引保持できる。 As shown in FIGS. 2 and 3, the upstream side of the suction pipe 244 is branched into two branches, and a water jetting mechanism 29 is formed in one of the branch pipes, and a water source 299 composed of a pump or the like is connected via a water supply valve. are in communication. One of the branch pipes communicates with a suction source 249 such as an ejector or a vacuum generator via an air suction valve. The temporary placement table 23 of the temporary placement mechanism 2 shown in FIG. 2 holds the lower surfaces 901 of the two plate-shaped works 90 (see FIG. 1) on the holding mechanism 24, for example, in FIG. Two holding surfaces are arranged, which are composed of upper surfaces of a plurality of suction cups 245 each of which consists of 21 suction cups. After the air suction valve is opened, the suction force generated by the suction source 249 passes through the joint 292 shown in FIG. The circular opening 241 in the flange portion 248 made of a member is reached, and the temporary placement table 23 is divided into two while the entire circumference of the ring-shaped upper end of the flange portion 248 is deformed following the lower surface 901 of the plate-shaped work 90. The plate-shaped workpiece 90 can be held by suction without vacuum leak.

図1に示す門型ブリッジ20の下方におけるロボット155の可動範囲内には、加工後の板状ワーク90を洗浄する枚葉式のスピンナ洗浄ユニット159が配置されている。スピンナ洗浄ユニット159は、平面視円形のスピンナテーブルで板状ワーク90の下面901側を吸引保持した状態で、スピンナテーブルを回転させるとともに、板状ワーク90の上方において旋回する洗浄ノズルから洗浄水を板状ワーク90の被研削面である上面900に噴射させながら上面900の洗浄を行う。
スピンナ洗浄ユニット159により洗浄された板状ワーク90は、ロボット155により第2の例えばストッカステージ151に載置されたカセット153に搬入される。
A single-wafer spinner cleaning unit 159 for cleaning the plate-like workpiece 90 after processing is disposed within the movable range of the robot 155 below the portal bridge 20 shown in FIG. The spinner cleaning unit 159 rotates the spinner table in a state where the lower surface 901 side of the plate-like work 90 is suction-held by the spinner table that is circular in plan view, and cleansing water is supplied from a swirling cleaning nozzle above the plate-like work 90 . The upper surface 900 of the plate-shaped workpiece 90 is cleaned while being sprayed onto the upper surface 900 to be ground.
The plate-like work 90 cleaned by the spinner cleaning unit 159 is carried by the robot 155 to the cassette 153 placed on the second stocker stage 151, for example.

図1に示すように、第2の装置ベース11上においては、2つのチャックテーブル18が、Y軸方向に往復移動可能となっており、それぞれ粗研削機構30、又は仕上げ研削機構31の下方となる位置と仮置き機構2の近傍となる位置とに位置付け可能となっている。チャックテーブル18は、カバー111によって周囲を囲まれており、カバー111及びカバー111に連結されY軸方向に伸縮する蛇腹カバー113の下に配設された図示しない電動スライダー等によって、第2の装置ベース11上をY軸方向に往復移動可能である。また、チャックテーブル18は、その下方に配設された図示しないテーブル回転機構によって、軸方向がZ軸方向である回転軸を軸に回転することができる。 As shown in FIG. 1, on the second apparatus base 11, two chuck tables 18 are capable of reciprocating in the Y-axis direction, and are positioned below the rough grinding mechanism 30 and the finish grinding mechanism 31, respectively. and a position near the temporary placement mechanism 2. The chuck table 18 is surrounded by a cover 111, and is operated by an electric slider or the like (not shown) provided under the cover 111 and a bellows cover 113 connected to the cover 111 and extending and contracting in the Y-axis direction. It can reciprocate on the base 11 in the Y-axis direction. In addition, the chuck table 18 can be rotated about a rotation axis whose axial direction is the Z-axis direction by a table rotating mechanism (not shown) disposed below.

板状ワーク90を保持するチャックテーブル18は、例えば外形が円形状であり、上面に吸引孔が形成され矩形の板状ワーク90に合わせて形成された矩形の保持面180が2つ形成されている。そして、保持面180に図示しない吸引源が連通している。そして、吸引源から吸引力が伝達された保持面180で板状ワーク90の下面901側を吸引保持することができる。チャックテーブル18は、例えば、板状ワーク90を一度に2枚吸引保持できるが、例えば4枚以上一度に吸引保持可能であってもよいし、保持面180がポーラス部材で形成されている構成となっていてもよい。 The chuck table 18 that holds the plate-like work 90 has, for example, a circular outer shape, and has two rectangular holding surfaces 180 formed to match the rectangular plate-like work 90 with suction holes formed on the upper surface. there is A suction source (not shown) communicates with the holding surface 180 . Then, the lower surface 901 side of the plate-like workpiece 90 can be sucked and held by the holding surface 180 to which the suction force is transmitted from the suction source. The chuck table 18 can suck and hold, for example, two plate-like workpieces 90 at a time, but it may be capable of sucking and holding four or more workpieces 90 at a time. It may be.

研削装置1は、図1に示す保持パッド4の上下面を反転する反転機構77を有し該保持パッド4が保持した板状ワーク90を搬送する搬送機構7を備えている。具体的には、例えば、第2の装置ベース11上における粗研削機構30と仕上げ研削機構31との間に形成され図1において破線によって示す搬送空間170には、粗研削機構用、又は仕上げ研削機構用の2台の搬送機構7が備えられている。2台の搬送機構7の構造は同一構造となっているが、仕上げ研削機構用の搬送機構7は一点鎖線で簡略化して示しており、具体的に図示した粗研削機構用の搬送機構7に対してX軸方向において180度反転した状態で配設されている。即ち、具体的に図示した粗研削機構用の搬送機構7にY軸方向に移動する保持パッド4が、+X方向に水平に突出して、粗研削機構用のチャックテーブル18の移動経路上方に位置しており、また、簡略化して示す仕上げ研削機構用の搬送機構7における保持パッド4が、-X方向に水平に突出して、仕上げ研削機構用のチャックテーブル18の移動経路上方に位置している。 The grinding apparatus 1 includes a transfer mechanism 7 that has a reversing mechanism 77 that reverses the upper and lower surfaces of the holding pad 4 shown in FIG. Specifically, for example, a conveying space 170 formed between the rough grinding mechanism 30 and the finish grinding mechanism 31 on the second device base 11 and indicated by a broken line in FIG. Two transport mechanisms 7 for the mechanism are provided. The two conveying mechanisms 7 have the same structure, but the conveying mechanism 7 for the finish grinding mechanism is simplified by a dashed line, and the conveying mechanism 7 for the rough grinding mechanism shown in the figure is identical. On the other hand, they are arranged in a state of being reversed 180 degrees in the X-axis direction. That is, the holding pad 4 moving in the Y-axis direction on the conveying mechanism 7 for the rough grinding mechanism specifically illustrated projects horizontally in the +X direction and is positioned above the movement path of the chuck table 18 for the rough grinding mechanism. Also, the holding pad 4 of the conveying mechanism 7 for the finish grinding mechanism, which is shown in a simplified form, projects horizontally in the -X direction and is positioned above the moving path of the chuck table 18 for the finish grinding mechanism.

搬送機構7は、保持パッド4をY軸方向に移動させるパッドY軸移動部71と、パッドY軸移動部71に配設されたパッドZ軸移動部73とを備えている。
パッドY軸移動部71は、例えば、搬送空間170内に固定された筐体板719に取り付けられたボールネジ711をモータ710により回動させることで、ボールネジ711に内部のナットが螺合する可動板712にパッドZ軸移動部73を介して配設された保持パッド4をY軸方向に往復移動させる。
The transport mechanism 7 includes a pad Y-axis moving section 71 that moves the holding pad 4 in the Y-axis direction, and a pad Z-axis moving section 73 arranged in the pad Y-axis moving section 71 .
The pad Y-axis moving part 71 is, for example, a movable plate in which an internal nut is screwed into the ball screw 711 by rotating the ball screw 711 attached to the housing plate 719 fixed in the transfer space 170 by the motor 710 . The holding pad 4 provided in 712 via the pad Z-axis moving portion 73 is reciprocated in the Y-axis direction.

可動板712に配設されたパッドZ軸移動部73は、Z軸方向に延在するボールネジ731をモータ730により回動させることで、ボールネジ731に内部のナットが螺合する可動ブロック732に取り付けられた保持パッド4をZ軸方向に往復移動させる。 The pad Z-axis moving portion 73 provided on the movable plate 712 is attached to a movable block 732 in which a nut inside the ball screw 731 is screwed by rotating a ball screw 731 extending in the Z-axis direction by a motor 730 . The holding pad 4 is reciprocated in the Z-axis direction.

図5に示すように、保持パッド4は、可動ブロック732に後端側がベアリング等を介して回転可能に支持されX軸方向に延在する回転軸771の+X方向側の先端部分に、モータ772を介して2枚対向するように連結されている。このように、搬送機構7は、回転軸771とモータ772とを少なくとも備え、2枚の保持パッド4の吸盤245が配設されている吸引面を上下反転する反転機構77を有している。 As shown in FIG. 5, the holding pad 4 is rotatably supported at its rear end by a movable block 732 via a bearing or the like. are connected so as to face each other. Thus, the transport mechanism 7 has at least the rotating shaft 771 and the motor 772, and has the reversing mechanism 77 for vertically reversing the suction surfaces of the two holding pads 4 on which the suction cups 245 are arranged.

図1、図5に示す2枚の保持パッド4は、同一の構成となっているため、図1における上側の保持パッド4についてのみ説明する。図5に拡大して示す2枚の保持パッド4は、図2に示す仮置き機構2の仮置きテーブル23に配設された保持機構24と同様の、吸盤245を有する保持機構24を備えている。 Since the two holding pads 4 shown in FIGS. 1 and 5 have the same structure, only the upper holding pad 4 in FIG. 1 will be described. The two holding pads 4 shown enlarged in FIG. 5 are provided with holding mechanisms 24 having suction cups 245 similar to the holding mechanisms 24 arranged on the temporary placing table 23 of the temporary placing mechanism 2 shown in FIG. there is

保持パッド4は、平面視矩形板状のパッド基部40を備えている。パッド基部40の平坦な上面には、複数の吸盤245が縦横に等間隔を空けて配設されている。吸盤245の構成は、図3、図4を用いて先に説明した構成と同様の構成となっている。 The holding pad 4 includes a pad base 40 having a rectangular plate shape in a plan view. A plurality of suction cups 245 are arranged vertically and horizontally at equal intervals on the flat upper surface of the pad base 40 . The structure of the suction cup 245 is the same as the structure previously described with reference to FIGS.

保持パッド4の保持機構24が備えている水噴出機構29の構造は、図3、図4を用いて先に説明した構成と略同様の構成となっており、水噴出機構29の継手292(図4(B)参照)には、例えばパッド基部40内に形成された流路を介して、可撓性を有し保持パッド4の移動を妨げない樹脂チューブ等からなる吸引配管41が連通している。 The structure of the water ejection mechanism 29 provided in the holding mechanism 24 of the holding pad 4 is substantially the same as the configuration described above with reference to FIGS. 4B), for example, a suction pipe 41 made of a resin tube or the like that is flexible and does not hinder the movement of the holding pad 4 communicates via a flow path formed in the pad base 40. ing.

吸引配管41の上流は二手に分岐して、一方の分岐配管には水噴出機構29を構成し水供給弁を介してポンプ等で構成される水源429が連通している。一方の分岐配管にはエア吸引弁を介してエジェクターや真空発生装置等の吸引源439が連通している。図5に示す保持パッド4が、2枚の板状ワーク90(図1参照)の上面900を、保持機構24の例えば横3個×縦7個の計21個で1グループとなる複数の吸盤245で吸引保持する場合には、片方の保持パッド4が吸盤245が下方を向くようにセットされ、次いで、下降していく。複数の吸盤245の図6に示すツバ部248のリング状の下端全周が板状ワーク90の上面900に倣って変形しつつ接触し、次いで、エア吸引弁を開き、図5に示す吸引源439が生み出す吸引力が、図6に示す継手292を通り、フランジ支持口242と円板298の外周との間の環状の隙間から、ツバ部248内の円形開口241に到達し、1つの保持パッド4で2枚の板状ワーク90をバキュームリーク無く吸引保持できる。 The upstream of the suction pipe 41 is branched into two branches, and one of the branch pipes communicates with a water source 429 comprising a water ejection mechanism 29 and configured by a pump or the like via a water supply valve. One of the branch pipes communicates with a suction source 439 such as an ejector or a vacuum generator via an air suction valve. The holding pad 4 shown in FIG. 5 holds the upper surface 900 of the two plate-like workpieces 90 (see FIG. 1) on the holding mechanism 24, for example, a plurality of suction cups, each group consisting of a total of 21 suction cups of 3 horizontal×7 vertical. When sucking and holding at 245, one holding pad 4 is set so that the suction cup 245 faces downward, and then descends. 6 of the plurality of suction cups 245 contacts the upper surface 900 of the plate-like workpiece 90 while being deformed, then the air suction valve is opened and the suction source shown in FIG. The suction force generated by 439 passes through the joint 292 shown in FIG. The pad 4 can suck and hold two plate-shaped works 90 without vacuum leak.

図1に示すように、第2の装置ベース11上の後方(+Y方向側)には第1のコラム12が立設されており、第1のコラム12の前面には粗研削送りユニット39が配設されている。粗研削機構30をZ軸方向(鉛直方向)に昇降させる粗研削送りユニット39は、例えば、ボールネジ機構等である。 As shown in FIG. 1, a first column 12 is erected on the rear side (+Y direction side) of the second apparatus base 11, and a rough grinding feed unit 39 is mounted on the front surface of the first column 12. are arranged. The rough grinding feed unit 39 that raises and lowers the rough grinding mechanism 30 in the Z-axis direction (vertical direction) is, for example, a ball screw mechanism.

チャックテーブル18に保持された板状ワーク90を研削加工する粗研削機構30は、軸方向が鉛直方向(Z軸方向)であるスピンドル300の下端にマウント303を介して研削ホイール304が接続されている。そして、研削ホイール304は、ホイール基台305と、ホイール基台305の底面に環状に配設された略直方体形状の複数の粗研削砥石306とを備える。粗研削砥石306は、例えば、砥石中に含まれる砥粒が比較的大きな砥石である。例えば、スピンドル300の内部には、Z軸方向に延びる研削水流路が形成されており、この研削水流路に図示しない研削水供給部が連通している。研削水供給部からスピンドル300に対して供給される研削水は、研削水流路の下端の開口からマウント303及びホイール基台305を通り粗研削砥石306に向かって下方に噴出し、粗研削砥石306と板状ワーク90との接触部位に到達する。 A rough grinding mechanism 30 for grinding a plate-like workpiece 90 held on a chuck table 18 has a grinding wheel 304 connected via a mount 303 to the lower end of a spindle 300 whose axial direction is the vertical direction (Z-axis direction). there is The grinding wheel 304 includes a wheel base 305 and a plurality of roughly rectangular parallelepiped rough grinding wheels 306 annularly arranged on the bottom surface of the wheel base 305 . The rough grinding wheel 306 is, for example, a wheel containing relatively large abrasive grains. For example, a grinding water flow path extending in the Z-axis direction is formed inside the spindle 300, and a grinding water supply unit (not shown) communicates with the grinding water flow path. Grinding water supplied from the grinding water supply unit to the spindle 300 passes through the mount 303 and the wheel base 305 from the opening at the lower end of the grinding water flow path and jets downward toward the rough grinding wheel 306 . and the plate-shaped work 90 are reached.

また、第2の装置ベース11上の後方には、第2のコラム13が第1のコラム12にX軸方向に並んで立設しており、第2のコラム13の前面には仕上げ研削送りユニット36が配設されている。仕上げ研削送りユニット36は、ボールネジ機構であり、仕上げ研削機構31をZ軸方向に昇降することができる。仕上げ研削機構31は、砥石中に含まれる砥粒が比較的小さな仕上げ研削砥石315を備えており、その他の構成は粗研削機構30と同様となっている。 A second column 13 is erected on the rear side of the second device base 11 so as to be aligned with the first column 12 in the X-axis direction. A unit 36 is provided. The finish grinding feed unit 36 is a ball screw mechanism, and can move the finish grinding mechanism 31 up and down in the Z-axis direction. The finish grinding mechanism 31 includes a finish grinding wheel 315 containing relatively small abrasive grains, and has the same configuration as the rough grinding mechanism 30 except for the finish grinding wheel 315 .

図1に示すように、板状ワーク90を研削する際の高さ位置まで下降した粗研削機構30、又は仕上げ研削機構31の近傍となる位置には、例えば、研削中において板状ワーク90の厚さを接触又は非接触で測定する厚さ測定部38がそれぞれ配設されている。 As shown in FIG. 1, in the vicinity of the rough grinding mechanism 30 or the finish grinding mechanism 31 lowered to the height position for grinding the plate-like work 90, for example, the plate-like work 90 is ground. A thickness measuring section 38 is provided for measuring the thickness in a contact or non-contact manner.

以下に、図1に示す研削装置1において、チャックテーブル18に保持された板状ワーク90を研削する場合の研削装置1の動作について説明する。
まず、ロボット155がカセット153から板状ワーク90を一枚引き出し、板状ワーク90を仮置き機構2の仮置きテーブル23に移動させる。仮置きテーブル23に、例えば2枚の板状ワーク90が仮置きされて吸引保持された後、搬送機構7のパッドY軸移動部71が保持パッド4を-Y方向に移動して、保持パッド4を仮置きされた2枚の板状ワーク90の直上に位置付ける。
The operation of the grinding apparatus 1 shown in FIG. 1 when grinding the plate-like workpiece 90 held on the chuck table 18 will be described below.
First, the robot 155 draws out one plate-shaped work 90 from the cassette 153 and moves the plate-shaped work 90 to the temporary placement table 23 of the temporary placement mechanism 2 . For example, two plate-shaped works 90 are temporarily placed on the temporary placement table 23 and held by suction. 4 is positioned directly above the two plate-shaped works 90 temporarily placed.

パッドZ軸移動部73により保持パッド4が下降することで、板状ワーク90の上面900に、保持パッド4の図5に拡大して示す吸盤245が上方から接触する。その後、吸引源439によって生み出された吸引力が継手292(図4(B)参照)を通過して吸盤245に伝達されることで、板状ワーク90の上面900が複数の吸盤245によって吸引保持される。 As the holding pad 4 is lowered by the pad Z-axis moving portion 73, the suction cup 245 of the holding pad 4, which is enlarged in FIG. Thereafter, the suction force generated by the suction source 439 passes through the joint 292 (see FIG. 4B) and is transmitted to the suction cups 245, whereby the upper surface 900 of the plate-like work 90 is suction-held by the plurality of suction cups 245. be done.

次いで、保持パッド4が2枚の板状ワーク90をチャックテーブル18上に搬送して、チャックテーブル18の2つの矩形の保持面180と2枚の板状ワーク90とが略合致するように、水平面内における位置合わせを行う。その後、チャックテーブル18に板状ワーク90が載置された後、チャックテーブル18は保持面180上で板状ワーク90を吸引保持する。板状ワーク90を保持したチャックテーブル18が、粗研削機構30の下まで+Y方向へ移動する。そして、粗研削砥石306の回転中心がチャックテーブル18の回転中心に対して所定距離だけ水平方向にずれ、粗研削砥石306の回転軌跡がチャックテーブル18の回転中心を通るように位置づけされる。 Next, the holding pad 4 conveys the two plate-like works 90 onto the chuck table 18 so that the two rectangular holding surfaces 180 of the chuck table 18 and the two plate-like works 90 are substantially aligned. Alignment is performed in the horizontal plane. Thereafter, after the plate-like work 90 is placed on the chuck table 18 , the chuck table 18 suction-holds the plate-like work 90 on the holding surface 180 . The chuck table 18 holding the plate-like work 90 moves in the +Y direction to below the rough grinding mechanism 30 . The center of rotation of the rough grinding wheel 306 is horizontally displaced from the center of rotation of the chuck table 18 by a predetermined distance, and the locus of rotation of the wheel 306 for rough grinding passes through the center of rotation of the chuck table 18 .

そして、粗研削機構30が下降し、回転する粗研削砥石306が板状ワーク90の上面900に当接することで研削が行われる。研削中は、チャックテーブル18が所定の回転速度で回転して保持面180上に保持された2枚の板状ワーク90も回転するので、粗研削砥石306が2枚の板状ワーク90の上面900の全面の研削加工を行う。また、研削水が粗研削砥石306と板状ワーク90との接触部位に対して供給され、接触部位が冷却・洗浄される。そして、板状ワーク90が所望の厚みまで研削された後に、粗研削機構30が上方に引き上げられて、粗研削砥石306が板状ワーク90から離間して粗研削が終了する。 Then, the rough grinding mechanism 30 descends, and the rotating rough grinding grindstone 306 comes into contact with the upper surface 900 of the plate-like workpiece 90 to perform grinding. During grinding, the chuck table 18 rotates at a predetermined rotational speed, and the two plate-like works 90 held on the holding surface 180 also rotate, so that the rough grinding wheel 306 is brought into contact with the upper surfaces of the two plate-like works 90. The entire surface of 900 is ground. Grinding water is supplied to the contact portion between the rough grinding wheel 306 and the plate-like workpiece 90 to cool and wash the contact portion. After the plate-like work 90 has been ground to a desired thickness, the rough grinding mechanism 30 is lifted upward, and the rough grinding wheel 306 is separated from the plate-like work 90 to complete rough grinding.

次に、チャックテーブル18を-Y方向に移動させて仮置きテーブル23の近傍に位置づける。粗研削機構用の保持パッド4によって吸引保持された板状ワーク90が、仮置きテーブル23に載置され吸引保持される。その後、仮置きテーブル23が、仮置きテーブル移動機構21によって-X方向側に送られ、仕上げ研削機構用の搬送機構7によって搬出される。仕上げ研削機構用の搬送機構7によるチャックテーブル18に対する板状ワーク90の搬入から板状ワーク90の仕上げ研削までは、粗研削と略同様に実施されるので、説明を省略する。 Next, the chuck table 18 is moved in the -Y direction and positioned near the temporary placement table 23 . A plate-shaped workpiece 90 sucked and held by the holding pad 4 for the rough grinding mechanism is placed on the temporary placement table 23 and held by suction. After that, the temporary placing table 23 is sent in the -X direction by the temporary placing table moving mechanism 21 and carried out by the carrying mechanism 7 for the finish grinding mechanism. Since the transfer of the plate-like work 90 onto the chuck table 18 by the transfer mechanism 7 for the finish grinding mechanism to the finish grinding of the plate-like work 90 is performed in substantially the same manner as the rough grinding, the description is omitted.

仕上げ厚みまで仕上げ研削された板状ワーク90がチャックテーブル18から、仕上げ研削機構用の搬送機構7の保持パッド4によって吸引保持された後、スピンナ洗浄ユニット159に搬送されて、スピンナ洗浄ユニット159によって洗浄、及び乾燥された後、ロボット155によってカセット153に搬入される。 A plate-shaped workpiece 90 that has been finish-ground to the finish thickness is sucked and held from the chuck table 18 by the holding pad 4 of the transfer mechanism 7 for the finish-grinding mechanism, and then transferred to the spinner cleaning unit 159 . After being washed and dried, it is carried into the cassette 153 by the robot 155 .

研削装置1においては、カセット153に棚状に複数枚収容されている板状ワーク90に対する研削のスループットを向上させるために、例えば、一枚の板状ワーク90がチャックテーブル18によって保持されて研削されている最中に、新たな板状ワーク90がカセット153からロボット155により引き出され、仮置きテーブル23に吸引保持されたり、搬送機構7の保持パッド4に吸引保持されて搬送されたりする。 In the grinding apparatus 1, for example, one plate-like work 90 is held by the chuck table 18 and ground in order to improve the throughput of grinding the plate-like works 90 stored in the cassette 153 in a shelf shape. During this process, a new plate-like work 90 is pulled out from the cassette 153 by the robot 155 and held on the temporary placement table 23 by suction, or held by the holding pad 4 of the transfer mechanism 7 and transferred.

しかし、保持パッド4が板状ワーク90を吸引保持しておらず、また、仮置きテーブル23が板状ワーク90を吸引保持していないタイミングは存在するので、図2に示す仮置きテーブル23の保持機構24、又は図5に示す保持パッド4の保持機構24は、水噴出機構29によって、板状ワーク90を保持していないときにそれぞれの吸盤245の吸引口240から水を噴出させ、吸盤245の板状ワーク90に接する部分にゴミが付着するのを防止する、または、吸盤245の板状ワーク90に接する部分に付着したゴミを除去する洗浄動作を行う。以下に、該洗浄動作について説明していく。 However, since there is a timing when the holding pad 4 does not suck and hold the plate-shaped work 90 and the temporary placement table 23 does not hold the plate-shaped work 90, the temporary placement table 23 shown in FIG. The holding mechanism 24, or the holding mechanism 24 of the holding pad 4 shown in FIG. A cleaning operation is performed to prevent dust from adhering to the portion of the suction cup 245 in contact with the plate-like work 90 or to remove dust adhering to the portion of the suction cup 245 in contact with the plate-like work 90 . The cleaning operation will be described below.

水噴出機構29は、吸盤245の吸引口240を上に向けた状態で吸引口240から水を噴出させる。図2に示す仮置きテーブル23の保持機構24の吸盤245は、常に吸引口240が上側に向いている。一方、搬送機構7に支持される図5に示す2枚の保持パッド4のうちのどちらか一方は、保持機構24を構成する吸盤245が、下側を向いている場合もあるため、該洗浄動作を実施する方の保持パッド4が、反転機構77によって上側を向けられた状態になる。また、保持パッド4は、噴出させゴミが含まれた水を板状ワーク90には付着させたくないため、例えば、ゴミが含まれた水を処理できる場所で該洗浄動作を行うと好ましい。該場所は、例えば、仮置きテーブル23が収容されているテーブル桶25の上方や、カバー111に連結されており両脇に第2の装置ベース11内部に形成されたウォータケースに連通する排水口が形成されている蛇腹カバー113の上方や、スピンナ洗浄ユニット159の洗浄ケース内であると好ましい。 The water ejection mechanism 29 ejects water from the suction port 240 of the suction cup 245 with the suction port 240 facing upward. The suction port 240 of the suction cup 245 of the holding mechanism 24 of the temporary placement table 23 shown in FIG. 2 always faces upward. On the other hand, one of the two holding pads 4 shown in FIG. The reversing mechanism 77 causes the holding pad 4 that performs the operation to face upward. In addition, since the holding pad 4 does not want the dust-laden water to adhere to the plate-like workpiece 90, it is preferable to perform the washing operation at a place where the dust-laden water can be treated. The location is, for example, above the table tub 25 in which the temporary table 23 is accommodated, or drain outlets connected to the cover 111 and communicating with water cases formed inside the second device base 11 on both sides. is preferably above the bellows cover 113 where is formed or inside the cleaning case of the spinner cleaning unit 159 .

吸引口240が上側を向き板状ワーク90を保持していない状態の吸盤245の水による洗浄は、仮置きテーブル23の保持機構24、及び保持パッド4の保持機構24のいずれにおいても略同様に実施されるため、以下に仮置きテーブル23に配設された保持機構24の吸盤245の水による洗浄について説明していく。 Washing with water of the suction cups 245 in a state in which the suction port 240 faces upward and does not hold the plate-shaped work 90 is substantially the same for both the holding mechanism 24 of the temporary placement table 23 and the holding mechanism 24 of the holding pad 4. Therefore, cleaning of the suction cups 245 of the holding mechanism 24 arranged on the temporary placement table 23 with water will be described below.

まず、図2又は図3に示す水供給弁が開かれた状態で、水源299が図6に示す水M1(例えば、純水)を吸引配管244に送り出す。該水M1は、継手292を通り、図6に示すように、継手292の上端の開口から噴出して、継手292のフランジ部295と円板298の下面との間を径方向外側に向かって流れる。 First, with the water supply valve shown in FIG. 2 or 3 opened, the water source 299 feeds water M1 (for example, pure water) shown in FIG. The water M1 passes through the joint 292 and, as shown in FIG. flow.

次いで、水M1は、図6に示すように、フランジ支持口242と円板298の外周との間の環状の隙間からツバ部248内の円形開口241に到達する。そして、該到達した水M2は、板状ワーク90に接触する部分であるツバ部248のすり鉢状の内側斜面を洗浄しつつ径方向外側に流れる。板状ワーク90の保持中以外は継続して吸盤245からオーバーフローするように溢れる水M2によって、板状ワーク90に接触する先端部分にゴミが付着されることが無い。即ち、研削屑等のゴミがツバ部248に付着しても、固まってしまう前に洗い流される。
また、板状ワーク90に接触する先端部分に付着していた研削屑等のゴミは、水M2と共に吸盤245から流れ落ちて、テーブル桶25の底に流下して、排出口250から排出される。
Next, the water M1 reaches the circular opening 241 in the flange portion 248 through the annular gap between the flange support port 242 and the outer circumference of the disc 298, as shown in FIG. Then, the water M2 that has reached flows radially outward while washing the mortar-shaped inner slope of the brim portion 248, which is the portion that contacts the plate-shaped work 90. As shown in FIG. Except when the plate-like work 90 is being held, the water M2 continuously overflowing from the suction cup 245 prevents dust from adhering to the tip portion that contacts the plate-like work 90 . That is, even if dust such as grinding dust adheres to the flange portion 248, it is washed away before it solidifies.
Also, dust such as grinding dust adhering to the tip portion contacting the plate-shaped work 90 flows down from the suction cup 245 together with the water M2, flows down to the bottom of the table tub 25, and is discharged from the discharge port 250.

また、本実施形態における水噴出機構29は、吸盤245の中央に円板298を配置することで、円板298によって水M2を吸盤245の中央から外周に向かって放射状に噴出することが可能となる。したがって、吸盤245が所定角度傾いてしまっている場合等においても、吸盤245の板状ワーク90に接触する部分であるツバ部248のすり鉢状の内側斜面全面を均一に洗浄していくことが可能となる。 In addition, the water ejection mechanism 29 in this embodiment has a disk 298 arranged in the center of the suction cup 245, so that the disk 298 can radially eject the water M2 from the center of the suction cup 245 toward the outer periphery. Become. Therefore, even when the suction cup 245 is tilted at a predetermined angle, etc., it is possible to uniformly clean the entire mortar-shaped inner slope surface of the flange portion 248 of the suction cup 245 that contacts the plate-like workpiece 90 . becomes.

なお、例えば、図3、図4、図6に示すように、円板298の直径をフランジ支持口242の直径よりも少しだけ小さく設定することで、フランジ支持口242と円板298の外周との間の環状の隙間からツバ部248内の円形開口241内に到達した水M1の一部である図6に示す水M3が、巻き上がるように円板298の上面にも移動するため、円板298の上面にも水M3がかかり、円板298の上面においても研削屑等のゴミが固着してしまうことが防がれるとともに、該上面に付着していたゴミが洗浄除去される。 For example, as shown in FIGS. 3, 4, and 6, by setting the diameter of the disk 298 to be slightly smaller than the diameter of the flange support opening 242, the flange support opening 242 and the outer periphery of the disk 298 The water M3 shown in FIG. 6, which is part of the water M1 that has reached the circular opening 241 in the flange 248 from the annular gap between The upper surface of the plate 298 is also sprayed with water M3, which prevents dust such as grinding dust from adhering to the upper surface of the disk 298, and removes the dust adhering to the upper surface by washing.

上記のように、板状ワーク90の上面900を吸引保持する複数の吸盤245を備える保持機構24を有する保持パッド4と、保持パッド4の吸引面を上下反転する反転機構77を有し保持パッド4が保持した板状ワーク90を搬送する搬送機構7と、複数の吸盤245を備え板状ワーク90を吸引保持する保持機構24を備える仮置きテーブル23と、を備える本発明に係る研削装置1は、保持パッド4の保持機構24または、仮置きテーブル23の保持機構24が吸引口240を上に向けた状態で吸引口240から水を噴出させる水噴出機構29を備えることで、板状ワーク90にゴミが付着することを防止できる。また、独立したその他の洗浄機構(例えば、保持パッド4洗浄用の洗浄機構)の配設個数を減らすことができるので、研削装置1の小型化を図ることが可能となる。 As described above, the holding pad 4 has the holding mechanism 24 having the plurality of suction cups 245 for sucking and holding the upper surface 900 of the plate-shaped workpiece 90, and the holding pad 4 having the reversing mechanism 77 for reversing the suction surface of the holding pad 4 upside down. 4, and a temporary placement table 23 including a holding mechanism 24 having a plurality of suction cups 245 and sucking and holding the plate-like work 90. , the holding mechanism 24 of the holding pad 4 or the holding mechanism 24 of the temporary placement table 23 is provided with a water jetting mechanism 29 for jetting water from the suction port 240 with the suction port 240 facing upward, whereby the plate-like workpiece can be Dust can be prevented from adhering to 90 . In addition, since the number of other independent cleaning mechanisms (for example, a cleaning mechanism for cleaning the holding pad 4) can be reduced, the size of the grinding apparatus 1 can be reduced.

本発明に係る加工装置は上記実施形態の研削装置1に限定されず、その技術的思想の範囲内において種々異なる形態にて実施されてよいことは言うまでもない。また、本発明に係る保持機構24も、研削装置以外に、切削装置、研磨装置、及びバイト切削装置等に配設されていてもよく、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。 It goes without saying that the processing apparatus according to the present invention is not limited to the grinding apparatus 1 of the above embodiment, and may be implemented in various forms within the scope of the technical idea. In addition, the holding mechanism 24 according to the present invention may also be disposed in a cutting device, a polishing device, a tool cutting device, etc., other than the grinding device, and can be appropriately changed within the range where the effects of the present invention can be exhibited. be.

1:研削装置(加工装置) 10:第1の装置ベース 11:第2の装置ベース
150:カセットステージ 151:ストッカステージ 153:カセット
154:アダプタプレート 155:ロボット
18:チャックテーブル 180:保持面
2:仮置き機構 20:門型ブリッジ 21:仮置きテーブル移動機構
23:仮置きテーブル
24:保持機構
240:吸引口 241:円形開口 242:フランジ支持口 243:貫通口
245:吸盤 246:吸盤基部 247:中段部 248:ツバ部
244:吸引配管 249:吸引源 25:テーブル桶
29:水噴出機構
292:継手 294:継手基部 295:フランジ部 296:支持柱
298:円板 299:水源
30:粗研削機構 31:仕上げ研削機構 36:仕上げ研削送りユニット
38:厚さ測定部 39:粗研削送りユニット
4:保持パッド 40:パッド基部 41:吸引配管 429:水源 439:吸引源
6:カセット搬送機構 61:支持ユニット 62:X軸移動部 63:Z軸移動部
7:搬送機構 71:パッドY軸移動部 73:パッドZ軸移動部
77:反転機構 771:回転軸 772:モータ
90:板状ワーク
1: Grinding device (processing device) 10: First device base 11: Second device base 150: Cassette stage 151: Stocker stage 153: Cassette 154: Adapter plate 155: Robot 18: Chuck table 180: Holding surface 2: Temporary Placement Mechanism 20: Portal Bridge 21: Temporary Placement Table Moving Mechanism
23: Temporary table
24: Holding mechanism
240: Suction port 241: Circular opening 242: Flange support port 243: Through port 245: Suction cup 246: Suction cup base 247: Middle part 248: Collar part 244: Suction pipe 249: Suction source 25: Table tub 29: Water ejection mechanism
292: Joint 294: Joint Base 295: Flange 296: Support Column 298: Disc 299: Water Source 30: Rough Grinding Mechanism 31: Finish Grinding Mechanism 36: Finish Grinding Feeding Unit
38: Thickness measuring unit 39: Rough grinding feed unit 4: Holding pad 40: Pad base 41: Suction pipe 429: Water source 439: Suction source 6: Cassette transport mechanism 61: Support unit 62: X-axis moving unit 63: Z-axis Moving part 7: transport mechanism 71: pad Y-axis moving part 73: pad Z-axis moving part 77: reversing mechanism 771: rotating shaft 772: motor 90: plate-like work

Claims (3)

吸引源に連通する吸引口を中心に有する吸盤を備え板状ワークを吸引保持する保持機構であって、
該吸引口を上に向けた状態で該吸引口から水を噴出させる水噴出機構を備え、板状ワークを保持していないときに該吸引口から水を噴出させ、該吸盤の板状ワークに接する部分にゴミが付着するのを防止する、または、該吸盤の板状ワークに接する部分に付着したゴミを除去する保持機構。
A holding mechanism for sucking and holding a plate-shaped work, comprising a suction cup having a suction port communicating with a suction source at the center,
A water ejection mechanism for ejecting water from the suction port with the suction port facing upward is provided, and when the plate-like work is not held, water is ejected from the suction port to hit the plate-like work of the suction cup. A holding mechanism that prevents dust from adhering to the contact portion, or removes dust adhering to the contact portion of the suction cup with the plate-shaped work.
前記水噴出機構は、前記吸盤の中央に円板を配置し、該円板によって水を該吸盤の中央から外周に向かって放射状に噴出する請求項1記載の保持機構。 2. The holding mechanism according to claim 1, wherein said water ejecting mechanism has a disc arranged in the center of said sucker, and said disc ejects water radially from the center of said sucker toward the outer periphery thereof. 板状ワークを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された板状ワークを加工する加工機構と、板状ワークの上面を吸引保持する保持パッドと、該保持パッドの吸引面を上下反転する反転機構を有し該保持パッドが保持した板状ワークを搬送する搬送機構と、を備える加工装置であって、該保持パッドは、請求項1、又は請求項2記載の保持機構を備える、加工装置。 A chuck table for holding a plate-like work, a processing mechanism for processing the plate-like work held by the chuck table, a holding pad for sucking and holding the upper surface of the plate-like work, and a suction surface of the holding pad that is turned upside down. and a conveying mechanism having a reversing mechanism and conveying a plate-shaped work held by the holding pad, wherein the holding pad comprises the holding mechanism according to claim 1 or claim 2. Device.
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