JP2022018120A - Optical film and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
【課題】可視光全域並びに視認する全ての方位に対して3次元方向で光屈折率制御された新規な光学フィルムとその製造方法を提供する。【解決手段】 第一の位相差層と第二の位相差層とを有し、下記式(1)及び(2)の関係を満たす光学フィルム。0.4≦Nz(450)≦0.6 (1)0.4≦Nz(550)≦0.6 (2)〔式中、Nz(450)は波長λ=450nmの光に対する光学フィルムのNz係数を、Nz(550)は波長λ=550nmの光に対する光学フィルムのNz係数をそれぞれ示す。〕【選択図】なしKind Code: A1 A novel optical film whose optical refractive index is controlled in three-dimensional directions with respect to the entire visible light range and all viewing directions, and a method for producing the same are provided. SOLUTION: An optical film has a first retardation layer and a second retardation layer and satisfies the relationships of the following formulas (1) and (2). 0.4 ≤ Nz (450) ≤ 0.6 (1) 0.4 ≤ Nz (550) ≤ 0.6 (2) [In the formula, Nz (450) is the Nz of the optical film for light with a wavelength λ = 450 nm Nz(550) indicates the Nz coefficient of the optical film for light of wavelength λ=550 nm. ] [Selection] None
Description
本発明は、光学フィルムおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to an optical film and a method for producing the same.
フラットパネル表示装置(FPD)には、偏光板や位相差板等の光学フィルムが用いられている。位相差板には可視光全域に渡って均一な位相変換が求められており、例えば特許文献1には水平方向に配向した逆波長分散性位相差フィルムが、特許文献2には垂直方向に配向した逆波長分散性位相差フィルムが開示されている。 An optical film such as a polarizing plate or a retardation plate is used in a flat panel display device (FPD). The retardation plate is required to have uniform phase conversion over the entire visible light range. For example, Patent Document 1 has a horizontally oriented reverse wavelength dispersive retardation film, and Patent Document 2 has a vertically oriented reverse wavelength dispersive retardation film. The reverse wavelength dispersive phase difference film is disclosed.
近年、フラットパネルディスプレイの進化に伴って、どのような方位から見ても明瞭な黒表示が求められてきている。これに従って、水平方向あるいは垂直方向の光波長分散制御だけでは不十分であるという課題が明らかとなった。 In recent years, with the evolution of flat panel displays, there has been a demand for a clear black display from any direction. According to this, it became clear that the horizontal or vertical light wavelength dispersion control alone is not sufficient.
本発明は以下の発明を含む。 The present invention includes the following inventions.
〔1〕第一の位相差層と第二の位相差層とを有し、下記式(1)及び(2)の関係を満たす光学フィルム。
0.4≦Nz(450)≦0.6 (1)
0.4≦Nz(550)≦0.6 (2)
〔式中、Nz(450)は波長λ=450nmの光に対する光学フィルムのNz係数を、Nz(550)は波長λ=550nmの光に対する光学フィルムのNz係数をそれぞれ示し、波長λ(nm)の光に対する光学フィルムのNz係数Nz(λ)は
Nz(λ)=(nx(λ)-nz(λ))/(nx(λ)-ny(λ))
により示される。nx(λ)は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面対して平行な方向の主屈折率を表す。ny(λ)は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面対して平行であり、且つ、該nx(λ)の方向に対して直交する方向の屈折率を表す。
nz(λ)は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。〕
[1] An optical film having a first retardation layer and a second retardation layer and satisfying the relationships of the following equations (1) and (2).
0.4 ≤ Nz (450) ≤ 0.6 (1)
0.4 ≤ Nz (550) ≤ 0.6 (2)
[In the equation, Nz (450) indicates the Nz coefficient of the optical film for light having a wavelength λ = 450 nm, and Nz (550) indicates the Nz coefficient of the optical film for light having a wavelength λ = 550 nm. The Nz coefficient Nz (λ) of the optical film with respect to light is Nz (λ) = (nx (λ) -nz (λ)) / (nx (λ) -ny (λ)).
Indicated by. nx (λ) represents the main refractive index in the direction parallel to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the optical film. In the refractive index ellipsoid formed by the optical film, ny (λ) is a refraction in a direction parallel to the film plane with respect to light having a wavelength λ (nm) and perpendicular to the direction of the nx (λ). Represents a rate.
nz (λ) represents the refractive index in the direction perpendicular to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the optical film. ]
〔2〕第一の位相差層が、
第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ=400~700nmの範囲で、
nx1(λ)>ny1(λ)≒nz1(λ)
〔式中、nx1(λ)は第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ny1(λ)は第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、前記nx1(λ)の方向に対して直交する方向の波長λ(nm)の光に対する屈折率を表す。nz1(λ)は第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。〕
の関係を有し、
下記式(3)及び(4)の関係を満たす上記〔1〕に記載の光学フィルム。
Re1(450)/Re1(550)≦1.00 (3)
1.00≦Re1(650)/Re1(550) (4)
〔式中、Re1(450)は波長λ=450nmの光に対する第一位相差層の面内位相差値を、Re1(550)は波長λ=550nmの光に対する第一位相差層の面内位相差値を、Re1(650)は波長λ=650nmの光に対する第一位相差層の面内位相差値をそれぞれ示し、波長λnmの光に対する第一位相差層の面内位相差値Re1(λ)は、
Re1(λ)=(nx1(λ)-ny1(λ))×d1
で表される。ここで、d1は第一の位相差層の厚みを表す。〕
[2] The first retardation layer is
In the refractive index ellipsoid formed by the first retardation layer, the wavelength is in the range of λ = 400 to 700 nm.
nx1 (λ)> ny1 (λ) ≒ nz1 (λ)
[In the equation, nx1 (λ) represents the main refractive index in the direction parallel to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the first retardation layer. In the refractive index ellipsoid formed by the first retardation layer, ny1 (λ) has a wavelength λ (nm) that is parallel to the film plane and orthogonal to the direction of nx1 (λ). Represents the refractive index of light. nz1 (λ) represents the refractive index in the direction perpendicular to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the first retardation layer. ]
Have a relationship with
The optical film according to the above [1], which satisfies the relationship of the following formulas (3) and (4).
Re1 (450) / Re1 (550) ≤ 1.00 (3)
1.00 ≤ Re1 (650) / Re1 (550) (4)
[In the equation, Re1 (450) is the in-plane retardation value of the first retardation layer for light having a wavelength λ = 450 nm, and Re1 (550) is the in-plane position of the first retardation layer for light having a wavelength λ = 550 nm. Re1 (650) indicates the in-plane retardation value of the first retardation layer for light having a wavelength of λ = 650 nm, and Re1 (λ) indicates the in-plane retardation value of the first retardation layer for light having a wavelength of λ nm. )teeth,
Re1 (λ) = (nx1 (λ) -ny1 (λ)) × d1
It is represented by. Here, d1 represents the thickness of the first retardation layer. ]
〔3〕第二の位相差層は、
第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ=400~700nmの範囲で、
nz2(λ)>nx2(λ)≒ny2(λ)
〔式中、nz2(λ)は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。nx2(λ)は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、は波長λ(nm)の光に対するフィルム平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。ny2(λ)は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、前記nx2の方向に対して直交する方向の波長λ(nm)の光に対する屈折率を表す。ただし、nx2(λ)=ny2(λ)となる場合には、nx2(λ)はフィルム平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。〕
の関係を有し、
下記式(5)及び(6)の関係を満たす上記〔1〕又は上記〔2〕に記載の光学フィルム。
Rth2(450)/Rth2(550)≦1.00 (5)
1.00≦Rth2(650)/Rth2(550) (6)
〔式中、Rth2(450)は波長λ=450nmの光に対する厚み方向の位相差値を、Rth2(550)は波長λ=550nmの光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値を、Rth2(650)は波長650nmの光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値をそれぞれ表し、波長λ(nm)の光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値Rth2(λ)は、
Rth2(λ)=[(nx2(λ)+ny2(λ))/2-nz2(λ)]×d2
で表される。ここで、第二の位相差層が形成する屈折率楕円体においてnz2(λ)は波長λ(nm)におけるフィルム平面に対して垂直な方向の主屈折率を表し、((nx2(λ)+ny2(λ))/2)は、波長λ(nm)におけるフィルム平面での平均屈折率を表す。d2は第二の位相差層の厚みを表す。〕
[3] The second retardation layer is
In the refractive index ellipsoid formed by the second retardation layer, in the wavelength range of λ = 400 to 700 nm,
nz2 (λ)> nx2 (λ) ≒ ny2 (λ)
[In the equation, nz2 (λ) represents the refractive index in the direction perpendicular to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the second retardation layer. In the refractive index ellipsoid formed by the second retardation layer, nx2 (λ) represents the maximum refractive index in the direction parallel to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm). ny2 (λ) is a refractive index ellipsoid formed by the second retardation layer, with respect to light having a wavelength λ (nm) parallel to the film plane and orthogonal to the nx2 direction. Represents the refractive index. However, when nx2 (λ) = ny2 (λ), nx2 (λ) represents the refractive index in an arbitrary direction parallel to the film plane. ]
Have a relationship with
The optical film according to the above [1] or the above [2], which satisfies the relationship of the following formulas (5) and (6).
Rth2 (450) / Rth2 (550) ≤ 1.00 (5)
1.00 ≤ Rth2 (650) / Rth2 (550) (6)
[In the equation, Rth2 (450) is the phase difference value in the thickness direction for light having a wavelength λ = 450 nm, and Rth2 (550) is the phase difference value in the thickness direction for light having a wavelength λ = 550 nm. , Rth2 (650) represent the phase difference value in the thickness direction of the second retardation layer for light having a wavelength of 650 nm, respectively, and the phase difference value Rth2 in the thickness direction of the second retardation layer for light having a wavelength λ (nm). (Λ) is
Rth2 (λ) = [(nx2 (λ) + ny2 (λ)) / 2-nz2 (λ)] × d2
It is represented by. Here, in the refractive index ellipse formed by the second retardation layer, nz2 (λ) represents the main refractive index in the direction perpendicular to the film plane at the wavelength λ (nm), and ((nx2 (λ) + ny2). (Λ)) / 2) represents the average refractive index in the film plane at the wavelength λ (nm). d2 represents the thickness of the second retardation layer. ]
〔4〕第一の位相差層がさらに下記式(7)の関係を満たす上記〔1〕~〔3〕のいずれかに記載の光学フィルム。
120nm≦Re1(550)≦170nm (7)
〔式中、Re1(550)は波長λ=550nmの光に対する第一位相差層の面内位相差値を表す。〕
[4] The optical film according to any one of [1] to [3] above, wherein the first retardation layer further satisfies the relationship of the following formula (7).
120nm ≤ Re1 (550) ≤ 170nm (7)
[In the equation, Re1 (550) represents the in-plane retardation value of the first retardation layer with respect to light having a wavelength λ = 550 nm. ]
〔5〕第二の位相差層がさらに式(9)で表される光学特性を有する上記〔1〕~〔4〕のいずれかに記載の光学フィルム。
-100nm≦Rth2(550)≦-50nm (8)
〔式中、Rth2(550)は波長λ=550nmの光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値を表す。〕
[5] The optical film according to any one of the above [1] to [4], wherein the second retardation layer further has optical characteristics represented by the formula (9).
-100nm ≤ Rth2 (550) ≤ -50nm (8)
[In the equation, Rth2 (550) represents the phase difference value in the thickness direction of the second phase difference layer with respect to light having a wavelength λ = 550 nm. ]
〔6〕第二の位相差層が重合性液晶を配向した状態で重合させることにより形成されるコーティング層からなるフィルムである上記〔1〕~〔5〕のいずれかに記載の光学フィルム。 [6] The optical film according to any one of [1] to [5] above, which is a film composed of a coating layer formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal in an oriented state in which a second retardation layer is oriented.
〔7〕第一の位相差層が重合性液晶を配向した状態で重合させることにより形成されるコーティング層からなるフィルムである上記〔1〕~〔6〕のいずれかに記載の光学フィルム。 [7] The optical film according to any one of the above [1] to [6], wherein the first retardation layer is a film formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal in an oriented state.
〔8〕第二の位相差層が5μm以下である上記〔1〕~〔7〕のいずれかに記載の光学フィルム。 [8] The optical film according to any one of [1] to [7] above, wherein the second retardation layer is 5 μm or less.
〔9〕第一の位相差層が5μm以下である上記〔1〕~〔8〕のいずれかに記載の光学フィルム。 [9] The optical film according to any one of [1] to [8] above, wherein the first retardation layer is 5 μm or less.
〔10〕第一の位相差層と第二の位相差層が同一の重合性液晶化合物を主として重合させることにより形成されるコーティング層である上記〔1〕~〔9〕のいずれかに記載の光学フィルム。 [10] The above-mentioned [1] to [9], wherein the first retardation layer and the second retardation layer are coating layers formed by mainly polymerizing the same polymerizable liquid crystal compound. Optical film.
〔11〕上記〔1〕~〔10〕のいずれかに記載の光学フィルムと偏光板とを有する光学補償機能付き楕円偏光板。 [11] An elliptical polarizing plate with an optical compensation function having the optical film according to any one of the above [1] to [10] and a polarizing plate.
〔12〕偏光板の吸収軸と第一の位相差層の遅相軸がフィルム面内で45±5°又は135±5°の関係を有し、かつ、偏光板の吸収軸並びに第一の位相差層の遅相軸と第二の位相差層の遅相軸がフィルム面に対して鉛直方向に直交する上記〔11〕記載の光学補償機能付き楕円偏光板。 [12] The absorption axis of the polarizing plate and the slow axis of the first retardation layer have a relationship of 45 ± 5 ° or 135 ± 5 ° in the film surface, and the absorption axis of the polarizing plate and the first The elliptical polarizing plate with an optical compensation function according to the above [11], wherein the slow axis of the retardation layer and the slow axis of the second retardation layer are orthogonal to the film surface in the vertical direction.
〔13〕偏光板、粘接着層、第一の位相差層、粘接着層、第二の位相差層がこの順に形成された光学積層体である上記〔11〕または〔12〕に記載の光学補償機能付き楕円偏光板。 [13] The above-mentioned [11] or [12], which is an optical laminate in which a polarizing plate, an adhesive layer, a first retardation layer, an adhesive layer, and a second retardation layer are formed in this order. Elliptical polarizing plate with optical compensation function.
〔14〕偏光板、粘接着層、第二の位相差層、粘接着層、第一の位相差層がこの順に形成された光学積層体である上記〔11〕または〔12〕に記載の光学補償機能付き楕円偏光板。 [14] The above-mentioned [11] or [12], which is an optical laminate in which a polarizing plate, an adhesive layer, a second retardation layer, an adhesive layer, and a first retardation layer are formed in this order. Elliptical polarizing plate with optical compensation function.
上記〔11〕~〔14〕のいずれかに記載の光学補償機能付き楕円偏光板を備える有機EL表示装置。 An organic EL display device including the elliptical polarizing plate with an optical compensation function according to any one of the above [11] to [14].
下記工程全てを含む光学補償機能付き上記〔11〕~〔14〕のいずれかに記載の光学補償機能付き楕円偏光板の製造方法。
(工程1-A)水平配向膜を形成した基材上に重合性液晶化合物を塗布した後に、水平配向した状態で重合させることによって位相差層を形成させる工程と、
(工程1-B)垂直配向膜を形成した基材上に重合性液晶化合物を塗布した後に、垂直配向した状態で重合させることによって第二の位相差層を形成させる工程と、
(工程2)粘接着剤を介して該第一の位相差層の液晶重合体と該第二の位相差層の液晶重合体を各々基材から転写させて偏光板に積層する工程
The method for manufacturing an elliptical polarizing plate with an optical compensation function according to any one of the above [11] to [14], which includes all of the following steps.
(Step 1-A) A step of applying a polymerizable liquid crystal compound on a substrate on which a horizontally oriented film is formed and then polymerizing the compound in a horizontally oriented state to form a retardation layer.
(Step 1-B) A step of applying a polymerizable liquid crystal compound on a substrate on which a vertically oriented film is formed and then polymerizing the polymer in a vertically oriented state to form a second retardation layer.
(Step 2) A step of transferring the liquid crystal polymer of the first retardation layer and the liquid crystal polymer of the second retardation layer from a substrate via an adhesive and laminating them on a polarizing plate.
本発明によれば、可視光全域並びに視認する全ての方位に対して3次元方向で光屈折率制御された新規な光学フィルムとその製造方法を提供する。さらにこの光学フィルムを用いる事で明瞭なディスプレイ表示を可能とする液晶表示装置並びに有機EL表示装置を提供する。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, a novel optical film having a light refractive index controlled in a three-dimensional direction with respect to the entire visible light range and all visible directions and a method for manufacturing the same are provided. Further, the present invention provides a liquid crystal display device and an organic EL display device that enable clear display display by using this optical film.
以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The scope of the present invention is not limited to the embodiments described here, and various modifications can be made without impairing the gist of the present invention.
本発明の光学フィルムは、第一の位相差層と第二の位相差層からなる。第一の位相差層並びに第二の位相差層は、高分子フィルムを延伸する又は収縮させる方法により形成してもよいが、薄型化の観点から重合性液晶(以下、重合性液晶化合物とも言う。)をコーティングし配向した状態で重合させることにより形成されるコーティング層からなるフィルムである事が好ましい。 The optical film of the present invention comprises a first retardation layer and a second retardation layer. The first retardation layer and the second retardation layer may be formed by a method of stretching or shrinking a polymer film, but from the viewpoint of thinning, a polymerizable liquid crystal display (hereinafter, also referred to as a polymerizable liquid crystal compound). It is preferable that the film is composed of a coating layer formed by coating and polymerizing in an oriented state.
第一の位相差層並びに第二の位相差層は、重合性液晶化合物を含む組成物(以下、「位相差層形成用組成物」ともいう)を透明基材上に塗布して層を形成し、加熱、冷却処理によって重合性液晶化合物の配向状態で重合体とすることが、薄型化ならびに波長分散特性を任意に設計できる点で好ましい。また、後述するように位相差層形成用組成物は、溶剤、光重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び密着性向上剤等をさらに含み得る。 The first retardation layer and the second retardation layer are formed by applying a composition containing a polymerizable liquid crystal compound (hereinafter, also referred to as “composition for forming a retardation layer”) onto a transparent substrate. However, it is preferable to obtain a polymer in the oriented state of the polymerizable liquid crystal compound by heating and cooling treatment, because the thickness can be reduced and the wavelength dispersion characteristics can be arbitrarily designed. Further, as will be described later, the composition for forming a retardation layer may further contain a solvent, a photopolymerization initiator, a photosensitizer, a polymerization inhibitor, a leveling agent, an adhesion improver and the like.
第一の位相差層は重合性液晶化合物が基材面に対して水平方向に配向した状態で硬化した液晶硬化膜である事が好ましく、第二の位相差層は重合性液晶化合物が基材面に対して垂直方向に配向した状態で硬化した液晶硬化膜である事が好ましい。 The first retardation layer is preferably a liquid crystal cured film cured with the polymerizable liquid crystal compound oriented horizontally with respect to the substrate surface, and the second retardation layer is based on the polymerizable liquid crystal compound. It is preferable that the liquid crystal cured film is cured in a state of being oriented in the direction perpendicular to the surface.
第一の位相差層は、波長550nmの光に対する面内位相差値であるRe1(550)が、下記式(7)に示される光学特性を満たすことが好ましい。また、第一の位相差層は、波長450nmの光に対する面内位相差値であるRe1(450)、波長550nmの光に対する面内位相差値であるRe1(550)および波長650nmの光に対する面内位相差値であるRe1(650)が、式(3)および式(4)で示される光学特性を満たすことも好ましい。第一の位相差層は、下記式(7)、下記式(3)及び下記式(4)で示される光学特性を満たすことがより好ましい。
120nm≦Re1(550)≦170nm …(7)
(式中、Re1(550)は第一の位相差層の波長550nmの光に対する面内位相差値(面内リタデーション)を表す。)
Re1(450)/Re1(550)≦1.0 …(3)
1.00≦Re1(650)/Re1(550) …(4)
(式中、Re1(450)は第一の位相差層の波長450nmの光に対する面内位相差値を、Re1(550)は第一の位相差層の波長550nmの光に対する面内位相差値を、Re1(650)は第一の位相差層の波長650nmの光に対する面内位相差値をそれぞれ表す。)
第一の位相差層の面内位相差値Re1(550)が式(7)の範囲を超えると、正面の色相が赤くなったり青くなったりする問題を生じうる。面内位相差値のさらに好ましい範囲としては、130nm≦Re1(550)≦160nmである。第一の位相差層の「Re1(450)/Re1(550)」が1.0を超えると、当該位相差層を備える楕円偏光板での短波長側での光抜けが大きくなる。好ましくは0.75以上0.92以下、より好ましくは0.77以上0.87以下、さらに好ましくは0.79以上0.85以下である。
In the first retardation layer, it is preferable that Re1 (550), which is an in-plane retardation value for light having a wavelength of 550 nm, satisfies the optical characteristics represented by the following formula (7). The first retardation layer is Re1 (450), which is an in-plane retardation value for light having a wavelength of 450 nm, Re1 (550), which is an in-plane retardation value for light having a wavelength of 550 nm, and a surface for light having a wavelength of 650 nm. It is also preferable that Re1 (650), which is an internal phase difference value, satisfies the optical characteristics represented by the equations (3) and (4). It is more preferable that the first retardation layer satisfies the optical characteristics represented by the following formulas (7), the following formula (3) and the following formula (4).
120nm ≤ Re1 (550) ≤ 170nm ... (7)
(In the equation, Re1 (550) represents an in-plane retardation value (in-plane retardation) with respect to light having a wavelength of 550 nm in the first retardation layer.)
Re1 (450) / Re1 (550) ≤ 1.0 ... (3)
1.00 ≤ Re1 (650) / Re1 (550) ... (4)
(In the equation, Re1 (450) is the in-plane retardation value of the first retardation layer for light having a wavelength of 450 nm, and Re1 (550) is the in-plane retardation value of the first retardation layer for light having a wavelength of 550 nm. Re1 (650) represents the in-plane retardation value of the first retardation layer with respect to light having a wavelength of 650 nm.)
If the in-plane retardation value Re1 (550) of the first retardation layer exceeds the range of the equation (7), the problem that the front hue becomes red or blue may occur. A more preferable range of the in-plane retardation value is 130 nm ≦ Re1 (550) ≦ 160 nm. When the "Re1 (450) / Re1 (550)" of the first retardation layer exceeds 1.0, the light loss on the short wavelength side of the elliptical polarizing plate provided with the retardation layer becomes large. It is preferably 0.75 or more and 0.92 or less, more preferably 0.77 or more and 0.87 or less, and further preferably 0.79 or more and 0.85 or less.
第一の位相差層の面内位相差値は、位相差層の厚さによって調整することができる。面内位相差値は下記式(A)によって決定されることから、所望の面内位相差値(Re1(λ):波長λ(nm)における第一の位相差層の面内位相差値)を得るには、3次元屈折率と膜厚d1とを調整すればよい。位相差層の厚さは、0.5μm~5μmが好ましく、1μm~3μmがより好ましい。位相差層の厚さは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡又は触針式膜厚計により測定することができる。尚、3次元屈折率は、後述する重合性液晶化合物の分子構造並びに配向状態に依存する。
Re1(λ)=(nx1(λ)-ny1(λ))×d1 (A)
(式中、第一の位相差層が形成する屈折率楕円体においてnx1(λ)>ny1(λ)≒nz1(λ)の関係を有し、nx1(λ)は波長λ(nm)の光に対するフィルム平面対して平行な方向の主屈折率を表す。ny1(λ)は波長λ(nm)の光に対する、第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面対して平行であり、且つ、該nx1(λ)の方向に対して直交する方向の屈折率を表す。d1は第一の位相差層の厚みを表す。)
The in-plane retardation value of the first retardation layer can be adjusted by the thickness of the retardation layer. Since the in-plane phase difference value is determined by the following equation (A), a desired in-plane phase difference value (Re1 (λ): in-plane phase difference value of the first phase difference layer at the wavelength λ (nm)). In order to obtain the above, the three-dimensional refractive index and the film thickness d1 may be adjusted. The thickness of the retardation layer is preferably 0.5 μm to 5 μm, more preferably 1 μm to 3 μm. The thickness of the retardation layer can be measured by an interference film thickness meter, a laser microscope or a stylus type film thickness meter. The three-dimensional refractive index depends on the molecular structure and orientation state of the polymerizable liquid crystal compound described later.
Re1 (λ) = (nx1 (λ) -ny1 (λ)) × d1 (A)
(In the equation, in the refractive index ellipse formed by the first retardation layer, there is a relationship of nx1 (λ)> ny1 (λ) ≈ nz1 (λ), and nx1 (λ) is light having a wavelength of λ (nm). Represents the principal index of refraction in the direction parallel to the film plane. Ny1 (λ) is parallel to the film plane in the refractive index ellipse formed by the first retardation layer for light of wavelength λ (nm). Yes, and represents the refractive index in the direction orthogonal to the direction of nx1 (λ). D1 represents the thickness of the first retardation layer.)
第二の位相差層は、波長λnmの光に対する厚み方向の位相差値であるRth2(λ)が、下記式(8)に示される光学特性を満たすことが好ましい。また、下記式(5)および式(6)に示される光学特性を満たすことも好ましい。第二の位相差層は下記式(8)、下記式(5)及び下記式(6)で示される光学特性を満たすことがより好ましい。
-100nm≦Rth2(550)≦-50nm …(8)
(式中、Rth2(550)は波長550nmの光に対する厚み方向の位相差値を表す。)
Rth2(450)/Rth2(550)≦1.0 …(5)
1.00≦Rth2(650)/Rth2(550) …(6)
(式中、Rth2(450)は波長450nmの光に対する厚み方向の位相差値を、Rth2(550)は前記と同じ意味を、Rth2(650)は波長650nmの光に対する厚み方向の位相差値をそれぞれ表す。)
第二の位相差層の厚み方向の位相差値Rth2(550)が式(8)の範囲を超えると、斜方の色相が赤くなったり青くなったりする問題を生じうる。厚み方向の位相差値のより好ましい範囲としては、-95nm≦Rth2(550)≦-55nm、さらに好ましい範囲としては-90nm≦Rth2(550)≦-60nmである。第二の位相差層の「Rth2(450)/Rth2(550)」が1.0を超えると、当該位相差層を備える楕円偏光板での短波長側での光抜けが大きくなる。好ましくは0.75以上0.92以下、より好ましくは0.77以上0.87以下、さらに好ましくは0.79以上0.85以下である。
In the second retardation layer, it is preferable that Rth2 (λ), which is a retardation value in the thickness direction with respect to light having a wavelength of λ nm, satisfies the optical characteristics represented by the following formula (8). It is also preferable to satisfy the optical characteristics represented by the following formulas (5) and (6). It is more preferable that the second retardation layer satisfies the optical characteristics represented by the following formulas (8), the following formula (5) and the following formula (6).
-100nm ≤ Rth2 (550) ≤ -50nm ... (8)
(In the equation, Rth2 (550) represents the phase difference value in the thickness direction with respect to light having a wavelength of 550 nm.)
Rth2 (450) / Rth2 (550) ≤ 1.0 ... (5)
1.00 ≤ Rth2 (650) / Rth2 (550) ... (6)
(In the formula, Rth2 (450) has the same meaning as described above for light having a wavelength of 450 nm, Rth2 (550) has the same meaning as described above, and Rth2 (650) has a phase difference value in the thickness direction for light having a wavelength of 650 nm. Represent each.)
If the retardation value Rth2 (550) in the thickness direction of the second retardation layer exceeds the range of the equation (8), the problem that the orthorhombic hue becomes red or blue may occur. A more preferable range of the retardation value in the thickness direction is −95 nm ≦ Rth2 (550) ≦ −55 nm, and a more preferable range is −90 nm ≦ Rth2 (550) ≦ −60 nm. When the "Rth2 (450) / Rth2 (550)" of the second retardation layer exceeds 1.0, the light loss on the short wavelength side of the elliptical polarizing plate provided with the retardation layer becomes large. It is preferably 0.75 or more and 0.92 or less, more preferably 0.77 or more and 0.87 or less, and further preferably 0.79 or more and 0.85 or less.
第二の位相差層の厚み方向の位相差値は、位相差層の厚さによって調整することができる。面内位相差値は下記式(B)によって決定されることから、所望の厚み方向の位相差値(Rth2(λ):波長λ(nm)における第二の位相差層の面内位相差値)を得るには、3次元屈折率と膜厚d2とを調整すればよい。位相差層の厚さは、0.2μm~5μmが好ましく、0.5μm~2μmがより好ましい。位相差層の厚さは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡又は触針式膜厚計により測定することができる。尚、3次元屈折率は、後述する重合性液晶化合物の分子構造並びに配向性に依存する。
Rth2(λ)=[(nx2(λ)+ny2(λ))/2-nz2(λ)]×d2 (B)
(式中、第二の位相差層が形成する屈折率楕円体においてnz2(λ)>nx2(λ)≒ny2(λ)の関係を有し、式中、nz2(λ)は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。nx2(λ)は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、は波長λ(nm)の光に対するフィルム平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。ny2(λ)は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、前記nx2の方向に対して直交する方向の波長λ(nm)の光に対する屈折率を表す。ただし、nx2(λ)=ny2(λ)となる場合には、nx2(λ)はフィルム平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。ここで、d2は第二の位相差層の厚みを表す。)
The retardation value in the thickness direction of the second retardation layer can be adjusted by the thickness of the retardation layer. Since the in-plane retardation value is determined by the following equation (B), the in-plane retardation value of the second retardation layer at the desired thickness direction retardation value (Rth2 (λ): wavelength λ (nm)). ), The three-dimensional refractive index and the film thickness d2 may be adjusted. The thickness of the retardation layer is preferably 0.2 μm to 5 μm, more preferably 0.5 μm to 2 μm. The thickness of the retardation layer can be measured by an interference film thickness meter, a laser microscope or a stylus type film thickness meter. The three-dimensional refractive index depends on the molecular structure and orientation of the polymerizable liquid crystal compound described later.
Rth2 (λ) = [(nx2 (λ) + ny2 (λ)) / 2-nz2 (λ)] × d2 (B)
(In the equation, in the refractive index ellipse formed by the second retardation layer, there is a relationship of nz2 (λ)> nx2 (λ) ≈ ny2 (λ), and in the equation, nz2 (λ) is the second position. In the refractive index ellipse formed by the retardation layer, it represents the refractive index in the direction perpendicular to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm). Nx2 (λ) is the refractive index ellipse formed by the second retardation layer. In the body, represents the maximum refractive index in the direction parallel to the film plane with respect to light of wavelength λ (nm). Ny2 (λ) is the refractive index elliptical body formed by the second retardation layer, in the film plane. On the other hand, it represents the refractive index for light having a wavelength λ (nm) in a direction orthogonal to the direction of nx2, which is parallel to the nx2. However, when nx2 (λ) = ny2 (λ), nx2 is represented. (Λ) represents the refractive index in an arbitrary direction parallel to the film plane, where d2 represents the thickness of the second retardation layer.)
本発明の光学フィルムは、第一の位相差層と第二の位相差層とを有し、下記式(1)及び(2)の関係を満たす。
0.40≦Nz(450)≦0.60 (1)
0.40≦Nz(550)≦0.60 (2)
(式中、Nz(λ)は波長λ(nm)の光に対する3次元屈折率の関係を示すNz係数であり、Nz(λ)=(nx(λ)-nz(λ))/(nx(λ)-ny(λ))により示される。nx(λ)は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面対して平行な方向の主屈折率を表す。ny(λ)は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面対して平行であり、且つ、該nx(λ)の方向に対して直交する方向の屈折率を表す。nz(λ)は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。)
つまり、本発明の光学フィルムはnx(λ)>nz(λ)>ny(λ)の3次元屈折率関係を有し、光学フィルムが式(1)及び式(2)の関係を有する事で、ディスプレイ搭載時に色相の優れた表示特性を付与する事ができる。Nz(λ)はそれぞれ、0.45≦Nz(450)≦0.55、0.45≦Nz(550)≦0.55であれば、さらに好ましい。ここで、Nz(450)は波長λ=450nmにおけるNz係数を、Nz(550)は波長λ=550nmにおけるNz係数を、それぞれ示す。
The optical film of the present invention has a first retardation layer and a second retardation layer, and satisfies the relationship of the following formulas (1) and (2).
0.40 ≤ Nz (450) ≤ 0.60 (1)
0.40 ≤ Nz (550) ≤ 0.60 (2)
(In the equation, Nz (λ) is an Nz coefficient indicating the relationship of the three-dimensional refractive index with respect to light having a wavelength of λ (nm), and Nz (λ) = (nx (λ) -nz (λ)) / (nx ( λ) -ny (λ)). Nx (λ) represents the main refractive index in the direction parallel to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm) in the refractive index ellipse formed by the optical film. .Ny (λ) is a refractive index ellipse formed by the optical film, which is parallel to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm) and is orthogonal to the direction of nx (λ). Represents the refractive index. Nz (λ) represents the refractive index in the direction perpendicular to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm) in the refractive index ellipse formed by the optical film.)
That is, the optical film of the present invention has a three-dimensional refractive index relationship of nx (λ)> nz (λ)> ny (λ), and the optical film has a relationship of equations (1) and (2). , It is possible to give excellent display characteristics of hue when mounted on a display. It is more preferable that Nz (λ) is 0.45 ≦ Nz (450) ≦ 0.55 and 0.45 ≦ Nz (550) ≦ 0.55, respectively. Here, Nz (450) indicates the Nz coefficient at the wavelength λ = 450 nm, and Nz (550) indicates the Nz coefficient at the wavelength λ = 550 nm.
光学フィルムの各波長λ(nm)におけるnx(λ)、ny(λ)、nz(λ)の関係を示すNz係数(Nz係数:Nz(λ))は、以下式により計算される。
Nz(λ)=(nx(λ)-nz(λ))/(nx(λ)-ny(λ))
また、該光学フィルムのNz係数を算出する際、第一の位相差層並びに第二の位相差層の正面位相差値並びに厚み方向の位相差値がわかっている場合には、下記式(C)によっても算出可能である。
Nz(λ)=(Rth1(λ)+Rth2(λ))/(Re1(λ)+Re2(λ))+0.5 (C)
(式中、Re1(λ)は波長λ(nm)での第一の位相差層の正面位相差値を、Re2(λ)は波長λ(nm)での第二の位相差層の正面位相差値を、Rth1(λ)は波長λ(nm)での第一の位相差層の厚み方向の位相差値を、Rth2(λ)は波長λ(nm)での第二の位相差層の厚み方向の位相差値である。)
The Nz coefficient (Nz coefficient: Nz (λ)) indicating the relationship between nx (λ), ny (λ), and nz (λ) at each wavelength λ (nm) of the optical film is calculated by the following equation.
Nz (λ) = (nx (λ) -nz (λ)) / (nx (λ) -ny (λ))
Further, when calculating the Nz coefficient of the optical film, if the front retardation value of the first retardation layer and the second retardation layer and the retardation value in the thickness direction are known, the following equation (C) ) Can also be calculated.
Nz (λ) = (Rth1 (λ) + Rth2 (λ)) / (Re1 (λ) + Re2 (λ)) +0.5 (C)
(In the equation, Re1 (λ) is the front retardation value of the first retardation layer at the wavelength λ (nm), and Re2 (λ) is the front position of the second retardation layer at the wavelength λ (nm). Rth1 (λ) is the phase difference value in the thickness direction of the first phase difference layer at the wavelength λ (nm), and Rth2 (λ) is the phase difference value of the second phase difference layer at the wavelength λ (nm). It is a phase difference value in the thickness direction.)
[重合性液晶]
重合性液晶化合物は、重合性官能基、特に光重合性官能基を有する液晶化合物である。光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、1-クロロビニル基、イソプロペニル基、4-ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよいが、緻密な膜厚制御が可能な点でサーモトロピック性液晶が好ましい。また、サーモトロピック性液晶における相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。
[Polymerizable liquid crystal]
The polymerizable liquid crystal compound is a liquid crystal compound having a polymerizable functional group, particularly a photopolymerizable functional group. The photopolymerizable functional group refers to a group that can participate in the polymerization reaction by an active radical, an acid, or the like generated from the photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerizable functional group include a vinyl group, a vinyloxy group, a 1-chlorovinyl group, an isopropenyl group, a 4-vinylphenyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an oxylanyl group, an oxetanyl group and the like. Of these, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxylanyl group and an oxetanyl group are preferable, and an acryloyloxy group is more preferable. The liquid crystal may be a thermotropic liquid crystal or a riotropic liquid crystal, but the thermotropic liquid crystal is preferable in that precise film thickness control is possible. Further, the phase-ordered structure of the thermotropic liquid crystal may be either a nematic liquid crystal or a smectic liquid crystal.
本発明において、重合性液晶化合物としては、前述した逆波長分散性を発現する点で下記式(I)の構造が特に好ましい。 In the present invention, as the polymerizable liquid crystal compound, the structure of the following formula (I) is particularly preferable in terms of exhibiting the above-mentioned reverse wavelength dispersibility.
式(I)中、Arは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。ここで言う芳香族基とは、平面性を有する環状構造の基であり、該環構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い[4n+2]個であるものをいう。ここでnは整数を表す。-N=や-S-等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも1つ以上が含まれることが好ましい。
G1およびG2はそれぞれ独立に、二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のフルオロアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子または窒素原子に置換されていてもよい。
L1、L2
、B1およびB2はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。
k、lは、それぞれ独立に0~3の整数を表し、1≦k+lの関係を満たす。ここで、2≦k+lである場合、B1およびB2、G1およびG2は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
E1およびE2はそれぞれ独立に、炭素数1~17のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-Si-で置換されていてもよい。P1およびP2は互いに独立に、重合性基または水素原子を表し、少なくとも1つは重合性基である。
In formula (I), Ar represents a divalent aromatic group which may have a substituent. The aromatic group referred to here is a group having a cyclic structure having flatness, and the number of π electrons of the ring structure is [4n + 2] according to Hückel's law. Here, n represents an integer. When a ring structure is formed by including heteroatoms such as —N = and —S—, the case where the Hückel's rule is satisfied including the uncovalent bond electron pair on these heteroatoms and the aromaticity is included is also included. The divalent aromatic group preferably contains at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom.
G 1 and G 2 independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group, respectively. Here, the hydrogen atom contained in the divalent aromatic group or the divalent alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and carbon. The carbon atom constituting the divalent aromatic group or the divalent alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an alkoxy group, a cyano group or a nitro group of the number 1 to 4, and is an oxygen atom or a sulfur atom. Alternatively, it may be substituted with a nitrogen atom.
L 1 , L 2 , B 1 and B 2 are independently single-bonded or divalent linking groups, respectively.
k and l each independently represent an integer of 0 to 3, and satisfy the relationship of 1 ≦ k + l. Here, when 2 ≦ k + l, B 1 and B 2 , G 1 and G 2 may be the same as each other or may be different from each other.
E 1 and E 2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, wherein the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a halogen atom, and the alkanediyl group may be substituted with the halogen atom. The included -CH 2- may be substituted with -O-, -S-, -Si-. P 1 and P 2 independently represent a polymerizable group or a hydrogen atom, and at least one is a polymerizable group.
G1およびG2は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子および炭素数1~4のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されていてもよい1,4-フェニレンジイル基、ハロゲン原子および炭素数1~4のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されていてもよい1,4-シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された1,4-フェニレンジイル基、無置換の1,4-フェニレンジイル基、または無置換の1,4-trans-シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の1,4-フェニレンジイル基、または無置換の1,4-trans-シクロへキサンジイル基である。
また、複数存在するG1およびG2のうち少なくとも1つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、L1またはL2に結合するG1およびG2のうち少なくとも1つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。
G 1 and G 2 are each independently substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a 1,4-phenylenediyl group. , A 1,4-cyclohexanediyl group optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group substituted 1. , 4-phenylenediyl group, unsubstituted 1,4-phenylenediyl group, or unsubstituted 1,4-trans-cyclohexanediyl group, particularly preferably unsubstituted 1,4-phenylenediyl group, or no substituted It is a substituted 1,4-trans-cyclohexandiyl group.
Further, at least one of a plurality of G 1 and G 2 present is preferably a divalent alicyclic hydrocarbon group, and at least one of G 1 and G 2 bonded to L 1 or L 2 is preferable. More preferably, it is a divalent alicyclic hydrocarbon group.
L1およびL2はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数1~4のアルキレン基、-O-、-S-、-Ra1ORa2-、-Ra3COORa4-、-Ra5OCORa6-、Ra7OC=OORa8-、-N=N-、-CRc=CRd-、または-C≡C-である。ここで、Ra1~Ra8はそれぞれ独立に単結合、または炭素数1~4のアルキレン基を表し、RcおよびRdは炭素数1~4のアルキル基または水素原子を表す。L1およびL2はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、-ORa2-1-、-CH2-、-CH2CH2-、-COORa4-1-、または-OCORa6-1-である。ここで、Ra2-1、Ra4-1、Ra6-1はそれぞれ独立に単結合、-CH2-、-CH2CH2-のいずれかを表す。L1およびL2はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、-O-、-CH2CH2-、-COO-、-COOCH2CH2-、または-OCO-である。 L 1 and L 2 are independent of each other, preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, -O-, -S-, -R a1 OR a2- , -R a3 COOR a4- , -R a5 . OCOR a6- , R a7 OC = OOR a8- , -N = N-, -CR c = CR d- , or -C≡C-. Here, R a1 to R a8 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R c and R d represent an alkyl group or a hydrogen atom having 1 to 4 carbon atoms. L 1 and L 2 are independent, more preferably single bonds, -OR a2-1- , -CH 2- , -CH 2 CH 2- , -COOR a4-1- , or -OCOR a6-1- . be. Here, R a2-1 , R a4-1 , and R a6-1 independently represent either single bond, -CH 2- , or -CH 2 CH 2- . L 1 and L 2 are independent, more preferably single bond, -O-, -CH 2 CH 2- , -COO-, -COOCH 2 CH 2- , or -OCO-, respectively.
B1およびB2はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数1~4のアルキレン基、-O-、-S-、-Ra9ORa10-、-Ra11COORa12-、-Ra13OCORa14-、またはRa15OC=OORa16-である。ここで、Ra9~Ra16はそれぞれ独立に単結合、または炭素数1~4のアルキレン基を表す。B1およびB2はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、-ORa10-1-、-CH2-、-CH2CH2-、-COORa12-1-、または-OCORa14-1-である。ここで、Ra10-1、Ra12-1、Ra14-1はそれぞれ独立に単結合、-CH2-、-CH2CH2-のいずれかを表す。B1およびB2はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、-O-、-CH2CH2-、-COO-、-COOCH2CH2-、-OCO-、または-OCOCH2CH2-、である。 B 1 and B 2 are independent of each other, preferably single bond, alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, -O-, -S-, -R a9 OR a10- , -R a11 COOR a12- , -R a13 . OCOR a14 -or R a15 OC = OOR a16- . Here, R a9 to R a16 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. B 1 and B 2 are independent, more preferably single-bonded, -OR a10-1- , -CH 2- , -CH 2 CH 2- , -COOR a12-1- , or -OCOR a14-1- . be. Here, R a10-1 , R a12-1 , and R a14-1 independently represent either single bond, -CH 2- , or -CH 2 CH 2- . B 1 and B 2 are independent, more preferably single bond, -O-, -CH 2 CH 2- , -COO-, -COOCH 2 CH 2-, -OCO-, or -OCOCH 2 CH 2- , Is.
kおよびlは、逆波長分散性発現の観点から2≦k+l≦6の範囲が好ましく、k+l=4であることが好ましく、k=2かつl=2であることがより好ましい。k=2かつl=2であると対称構造となるためさらに好ましい。 From the viewpoint of expressing reverse wavelength dispersibility, k and l are preferably in the range of 2 ≦ k + l ≦ 6, preferably k + l = 4, and more preferably k = 2 and l = 2. It is more preferable that k = 2 and l = 2 because the symmetrical structure is obtained.
E1およびE2はそれぞれ独立に、炭素数1~17のアルカンジイル基が好ましく、炭素数4~12のアルカンジイル基がより好ましい。 E 1 and E 2 are each independently preferably an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, and more preferably an alkanediyl group having 4 to 12 carbon atoms.
P1またはP2で表される重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、1-クロロビニル基、イソプロペニル基、4-ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、およびオキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。 The polymerizable group represented by P 1 or P 2 includes an epoxy group, a vinyl group, a vinyloxy group, a 1-chlorovinyl group, an isopropenyl group, a 4-vinylphenyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, and an oxylanyl group. , And an oxetanyl group and the like. Of these, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxylanyl group and an oxetanyl group are preferable, and an acryloyloxy group is more preferable.
Arは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、および電子吸引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、およびフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、またはベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Arに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。 Ar preferably has at least one selected from an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, an aromatic heterocycle which may have a substituent, and an electron-withdrawing group. Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring and the like, and a benzene ring and a naphthalene ring are preferable. Examples of the aromatic heterocycle include a furan ring, a benzofuran ring, a pyrrole ring, an indole ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, a triazole ring, a triazine ring, a pyrrolin ring, an imidazole ring, and a pyrazole ring. , Thiazole ring, benzothiazole ring, thienothiazole ring, oxazole ring, benzoxazole ring, phenanthroline ring and the like. Among them, it is preferable to have a thiazole ring, a benzothiazole ring, or a benzofuran ring, and it is more preferable to have a benzothiazole group. When Ar contains a nitrogen atom, the nitrogen atom preferably has π electrons.
式(I)中、Arで表される2価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Nπは8以上が好ましく、より好ましくは10以上であり、さらに好ましくは14以上であり、特に好ましくは16以上である。また、好ましくは30以下であり、より好ましくは26以下であり、さらに好ましくは24以下である。 In the formula (I), the total number of π electrons contained in the divalent aromatic group represented by Ar is preferably 8 or more, more preferably 10 or more, still more preferably 14 or more, and particularly preferably 14 or more. It is preferably 16 or more. Further, it is preferably 30 or less, more preferably 26 or less, and further preferably 24 or less.
Arで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。 Examples of the aromatic group represented by Ar include the following groups.
式(Ar-1)~式(Ar-22)中、*印は連結部を表し、Z0、Z1およびZ2は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~12のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~12のアルキルスルフィニル基、炭素数1~12のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数1~12のフルオロアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~12のアルキルチオ基、炭素数1~12のN-アルキルアミノ基、炭素数2~12のN,N-ジアルキルアミノ基、炭素数1~12のN-アルキルスルファモ
イル基または炭素数2~12のN,N-ジアルキルスルファモイル基を表す。
In the formulas (Ar-1) to (Ar-22), * indicates a connecting part, and Z 0 , Z 1 and Z 2 are independently hydrogen atoms, halogen atoms, and alkyl having 1 to 12 carbon atoms. Group, cyano group, nitro group, alkylsulfinyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkylsulfonyl group having 1 to 12 carbon atoms, carboxyl group, fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, Alkylthio group with 1 to 12 carbon atoms, N-alkylamino group with 1 to 12 carbon atoms, N, N-dialkylamino group with 2 to 12 carbon atoms, N-alkylsulfamoyl group with 1 to 12 carbon atoms or carbon Represents an N, N-dialkylsulfamoyl group of number 2-12.
Q1、Q2およびQ3は、それぞれ独立に、-CR2’R3’-、-S-、-NH-、-NR2’-、-CO-または-O-を表し、R2’およびR3’は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1~4のアルキル基を表す。 Q 1 , Q 2 and Q 3 independently represent -CR 2'R 3'- , -S-, -NH-, -NR 2'-, -CO- or -O-, and R 2 ' . And R 3'independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
J1、およびJ2は、それぞれ独立に、炭素原子、または窒素原子を表す。 J 1 and J 2 independently represent a carbon atom or a nitrogen atom, respectively.
Y1、Y2およびY3は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。 Y 1 , Y 2 and Y 3 each independently represent an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group which may be substituted.
W1およびW2は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基またはハロゲン原子を表し、mは0~6の整数を表す。 W 1 and W 2 independently represent a hydrogen atom, a cyano group, a methyl group or a halogen atom, and m represents an integer of 0 to 6.
Y1、Y2およびY3における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数6~20の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも1つ含む炭素数4~20の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。 Examples of the aromatic hydrocarbon group in Y 1 , Y 2 and Y 3 include an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group and a biphenyl group, and a phenyl group. , A naphthyl group is preferable, and a phenyl group is more preferable. The aromatic heterocyclic group has 4 to 20 carbon atoms including at least one heteroatom such as a nitrogen atom such as a frill group, a pyrrolyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group and a benzothiazolyl group, an oxygen atom and a sulfur atom. Examples thereof include an aromatic heterocyclic group, and a frill group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group and a benzothiazolyl group are preferable.
Y1、Y2およびY3は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、または芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、または芳香環集合に由来する基をいう。 Y 1 , Y 2 and Y 3 may be independently substituted polycyclic aromatic hydrocarbon groups or polycyclic aromatic heterocyclic groups, respectively. The polycyclic aromatic hydrocarbon group refers to a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group or a group derived from an aromatic ring assembly. The polycyclic aromatic heterocyclic group refers to a fused polycyclic aromatic heterocyclic group or a group derived from an aromatic ring assembly.
Z0、Z1およびZ2は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~12のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~12のアルコキシ基であることが好ましく、Z0は、水素原子、炭素数1~12のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Z1およびZ2は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。 It is preferable that Z 0 , Z 1 and Z 2 are independently hydrogen atom, halogen atom, alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, cyano group, nitro group and alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, respectively. 0 is more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a cyano group, and Z 1 and Z 2 are further preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, and a cyano group.
Q1、Q2およびQ3は、-NH-、-S-、-NR2’-、-O-が好ましく、R2’は水素原子が好ましい。中でも-S-、-O-、-NH-が特に好ましい。 Q 1 , Q 2 and Q 3 are preferably -NH-, -S-, -NR 2'-, and -O- , and R 2'is preferably a hydrogen atom. Of these, -S-, -O-, and -NH- are particularly preferable.
式(Ar-1)~(Ar-22)の中でも、式(Ar-6)および式(Ar-7)が分子の安定性の観点から好ましい。
式(Ar-16)~(Ar-22)において、Y1は、これが結合する窒素原子およびZ0と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Arが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Y1は、これが結合する窒素原子およびZ0と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。
Among the formulas (Ar-1) to (Ar-22), the formulas (Ar-6) and (Ar-7) are preferable from the viewpoint of molecular stability.
In formulas (Ar-16) to (Ar-22), Y 1 may form an aromatic heterocyclic group together with the nitrogen atom to which it is attached and Z 0 . Examples of the aromatic heterocyclic group include those described above as the aromatic heterocycle that Ar may have. For example, a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyrroline ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, and an indole. Examples thereof include a ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a purine ring, a pyrroline ring, and the like. This aromatic heterocyclic group may have a substituent. Further, Y 1 may be a polycyclic aromatic hydrocarbon group or a polycyclic aromatic heterocyclic group which may be substituted as described above, together with the nitrogen atom to which the Y 1 is bonded and Z 0 . For example, a benzofuran ring, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring and the like can be mentioned.
上記位相差層形成用組成物の固形分100質量部に占める、重合性液晶化合物の合計の含有量は、通常、70質量部~99.5質量部であり、好ましくは80質量部~99質量部であり、より好ましくは80質量部~94質量部であり、さらに好ましくは80質量部~90質量部である。上記合計の含有量が上記範囲内であれば、得られる位相差層の配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。 The total content of the polymerizable liquid crystal compound in 100 parts by mass of the solid content of the retardation layer forming composition is usually 70 parts by mass to 99.5 parts by mass, preferably 80 parts by mass to 99 parts by mass. Parts, more preferably 80 parts by mass to 94 parts by mass, and further preferably 80 parts by mass to 90 parts by mass. When the total content is within the above range, the orientation of the obtained retardation layer tends to be high. Here, the solid content means the total amount of the components excluding the solvent from the composition.
[溶剤]
溶剤としては、重合性液晶化合物を溶解し得る溶剤が好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。
溶剤としては、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤;ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤;トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶剤;アセトニトリル等のニトリル溶剤;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶剤;クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶剤;ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のアミド系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、1種類のみを用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、アルコール溶剤、エステル溶剤、ケトン溶剤、塩素含有溶剤、アミド系溶剤および芳香族炭化水素溶剤が好ましい。
[solvent]
As the solvent, a solvent capable of dissolving the polymerizable liquid crystal compound is preferable, and a solvent inactive for the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound is preferable.
Examples of the solvent include water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether and propylene glycol monomethyl ether and other alcohol solvents; ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate. , Γ-Butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate and other ester solvents; acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone and methyl isobutyl ketone and other ketone solvents; and aliphatic carbonization such as pentane, hexane and heptane. Hydrogen solvent; aromatic hydrocarbon solvent such as toluene and xylene; nitrile solvent such as acetonitrile; ether solvent such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine-containing solvent such as chloroform and chlorobenzene; dimethylacetamide, dimethylformamide, N-methyl- Examples thereof include amide-based solvents such as 2-pyrrolidone and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. Only one kind of these solvents may be used, or two or more kinds of these solvents may be used in combination. Of these, alcohol solvents, ester solvents, ketone solvents, chlorine-containing solvents, amide-based solvents and aromatic hydrocarbon solvents are preferable.
組成物100質量部に占める溶剤の含有量は、50質量部~98質量部が好ましく、70重量部~95重量部がより好ましい。従って、組成物100質量部に占める固形分は、2質量部~50質量部が好ましい。組成物の固形分が50質量部以下であると、組成物の粘度が低くなることから、位相差層の厚みが略均一になり、位相差層にムラが生じ難くなる傾向がある。上記固形分は、製造しようとする位相差層の厚みを考慮して適宜定めることができる。 The content of the solvent in 100 parts by mass of the composition is preferably 50 parts by mass to 98 parts by mass, more preferably 70 parts by weight to 95 parts by weight. Therefore, the solid content in 100 parts by mass of the composition is preferably 2 parts by mass to 50 parts by mass. When the solid content of the composition is 50 parts by mass or less, the viscosity of the composition is low, so that the thickness of the retardation layer becomes substantially uniform, and the retardation layer tends to be less likely to have unevenness. The solid content can be appropriately determined in consideration of the thickness of the retardation layer to be manufactured.
<重合開始剤>
重合開始剤は、熱又は光の寄与によって反応活性種を生成し、重合性液晶等の重合反応を開始し得る化合物である。反応活性種としては、ラジカル又はカチオン又はアニオン等の活性種が挙げられる。中でも反応制御が容易であるという観点から、光照射によってラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が挙げられる。具体的には、イルガキュア(Irgacure、登録商標)907、イルガキュア184、イルガキュア651、イルガキュア819、イルガキュア250、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア127、イルガキュア2959、イルガキュア754、イルガキュア379EG(以上、BASFジャパン株式会社製)、セイクオールBZ、セイクオールZ、セイクオールBEE(以上、精工化学株式会社製)、カヤキュアー(kayacure)BP100(日本化薬株式会社製)、カヤキュアーUVI-6992(ダウ社製)、アデカオプトマーSP-152、アデカオプトマーSP-170、アデカオプトマーN-1717、アデカオプトマーN-1919、アデカアークルズNCI-831、アデカアークルズNCI-930(以上、株式会社ADEKA製)、TAZ-A、TAZ-PP(以上、日本シイベルヘグナー社製)及びTAZ-104(三和ケミカル社製)が挙げられる。
位相差層形成用組成物において、含まれる光重合開始剤は、少なくとも1種類であり、1種類若しくは2種類であることが好ましい。
<Initiator of polymerization>
The polymerization initiator is a compound that can generate a reactive species by the contribution of heat or light and initiate a polymerization reaction of a polymerizable liquid crystal display or the like. Examples of the reaction active species include active species such as radicals or cations or anions. Of these, a photopolymerization initiator that generates radicals by light irradiation is preferable from the viewpoint of easy reaction control.
Examples of the photopolymerization initiator include benzoin compounds, benzophenone compounds, benzyl ketal compounds, α-hydroxyketone compounds, α-aminoketone compounds, triazine compounds, iodonium salts and sulfonium salts. Specifically, Irgacure (registered trademark) 907, Irgacure 184, Irgacure 651, Irgacure 819, Irgacure 250, Irgacure 369, Irgacure 379, Irgacure 127, Irgacure 2959, Irgacure 754, Irgacure 379EG (above, BASF Japan Co., Ltd.) , Sakeol BZ, Sakeol Z, Sakeol BEE (manufactured by Seiko Kagaku Co., Ltd.), kayacure BP100 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayacure UVI-6992 (manufactured by Dow), ADEKA PTOMER SP- 152, ADEKA OPTMER SP-170, ADEKA PTMER N-1717, ADEKA OPTMER N-1919, ADEKA ARCULDS NCI-831, ADEKA ARCULDS NCI-930 (all manufactured by ADEKA Corporation), TAZ-A, TAZ -PP (above, manufactured by Nippon Sibel Hegner) and TAZ-104 (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.) can be mentioned.
In the composition for forming a retardation layer, the photopolymerization initiator contained is at least one kind, and preferably one kind or two kinds.
光重合開始剤は、光源から発せられるエネルギーを十分に活用でき、生産性に優れるため、極大吸収波長が300nm~400nmであると好ましく、300nm~380nmであるとより好ましく、中でも、α-アセトフェノン系重合開始剤、オキシム系光重合開始剤が好ましい。 Since the photopolymerization initiator can fully utilize the energy emitted from the light source and is excellent in productivity, the maximum absorption wavelength is preferably 300 nm to 400 nm, more preferably 300 nm to 380 nm, and above all, the α-acetophenone type. A polymerization initiator and an oxime-based photopolymerization initiator are preferable.
α-アセトフェノン化合物としては、2-メチル-2-モルホリノ-1-(4-メチルスルファニルフェニル)プロパン-1-オン、2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-2-ベンジルブタン-1-オンおよび2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-2-(4-メチルフェニルメチル)ブタン-1-オン等が挙げられ、より好ましくは2-メチル-2-モルホリノ-1-(4-メチルスルファニルフェニル)プロパン-1-オンおよび2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-2-ベンジルブタン-1-オンが挙げられる。α-アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア369、379EG、907(以上、BASFジャパン(株)製)およびセイクオールBEE(精工化学社製)等が挙げられる。 Examples of the α-acetophenone compound include 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan-1-one and 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -2-benzylbutane-1. -On and 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -2- (4-methylphenylmethyl) butane-1-one and the like, more preferably 2-methyl-2-morpholino-1- ( Examples thereof include 4-methylsulfanylphenyl) propan-1-one and 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -2-benzylbutane-1-one. Examples of commercially available α-acetophenone compounds include Irgacure 369, 379EG, 907 (above, manufactured by BASF Japan Ltd.) and Sequol BEE (manufactured by Seiko Kagaku Co., Ltd.).
オキシム系光重合開始剤は、光が照射されることによってメチルラジカルを生成させる。このメチルラジカルにより位相差層の深部における重合性液晶化合物の重合が好適に進行する。また、位相差層の深部での重合反応をより効率的に進行させるという観点から、波長350nm以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤を使用することが好ましい。波長350nm以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤としては、トリアジン化合物やオキシムエステル型カルバゾール化合物が好ましく、感度の観点からはオキシムエステル型カルバゾール化合物がより好ましい。オキシムエステル型カルバゾール化合物としては、1,2-オクタンジオン、1-[4-(フェニルチオ)-2-(O-ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-1-(O-アセチルオキシム)等が挙げられる。オキシムエステル型カルバゾール化合物の市販品としては、イルガキュアOXE-01、イルガキュアOXE-02、イルガキュアOXE-03(以上、BASFジャパン株式会社製)、アデカオプトマーN-1919、アデカアークルズNCI-831(以上、株式会社ADEKA製)等が挙げられる。 Oxime-based photopolymerization initiators generate methyl radicals when irradiated with light. The methyl radical preferably promotes the polymerization of the polymerizable liquid crystal compound in the deep part of the retardation layer. Further, from the viewpoint of more efficiently advancing the polymerization reaction in the deep part of the retardation layer, it is preferable to use a photopolymerization initiator capable of efficiently utilizing ultraviolet rays having a wavelength of 350 nm or more. As the photopolymerization initiator capable of efficiently utilizing ultraviolet rays having a wavelength of 350 nm or more, a triazine compound and an oxime ester type carbazole compound are preferable, and an oxime ester type carbazole compound is more preferable from the viewpoint of sensitivity. Examples of the oxime ester-type carbazole compound include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)], etanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl)]. ) -9H-carbazole-3-yl] -1- (O-acetyloxime) and the like. Commercially available oxime ester-type carbazole compounds include Irgacure OXE-01, Irgacure OXE-02, Irgacure OXE-03 (above, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), ADEKA PTOMER N-1919, and ADEKA Arklus NCI-831 (above). , Made by ADEKA CORPORATION) and the like.
光重合開始剤の添加量は、重合性液晶化合物100質量部に対して、通常、0.1質量部~30質量部であり、好ましくは1質量部~20質量部であり、より好ましくは1質量部~15質量部である。上記範囲内であれば、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、重合性液晶化合物の配向を乱し難い。 The amount of the photopolymerization initiator added is usually 0.1 part by mass to 30 parts by mass, preferably 1 part by mass to 20 parts by mass, and more preferably 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. It is a mass part to 15 parts by mass. Within the above range, the reaction of the polymerizable group proceeds sufficiently, and the orientation of the polymerizable liquid crystal compound is not easily disturbed.
重合禁止剤を配合することにより、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類;ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類;ピロガロール類、2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補捉剤;チオフェノール類;β-ナフチルアミン類およびβ-ナフトール類が挙げられる。重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合するためには、重合性液晶化合物100質量部に対して、通常0.01~10質量部であり、好ましくは0.1~5質量部であり、さらに好ましくは0.1~3質量部である。 By blending a polymerization inhibitor, the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound can be controlled. Polymerization inhibitors include hydroquinones having substituents such as hydroquinone and alkyl ethers; catechols having substituents such as alkyl ethers such as butyl catechols; pyrogallols, 2,2,6,6-tetramethyl-1-. Radical trapping agents such as piperidinyloxy radicals; thiophenols; β-naphthylamines and β-naphthols. The content of the polymerization inhibitor is usually 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound in order to polymerize the polymerizable liquid crystal compound without disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound. Yes, preferably 0.1 to 5 parts by mass, and more preferably 0.1 to 3 parts by mass.
さらに、増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類;アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類;フェノチアジン;ルブレンが挙げられる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類;アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類;フェノチアジン;ルブレンが挙げられる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物100質量部に対して、通常0.01~10質量部であり、好ましくは0.05~5質量部であり、さらに好ましくは0.1~3質量部である。 Furthermore, by using a sensitizer, the photopolymerization initiator can be made highly sensitive. Examples of the photosensitizer include xanthones such as xanthones and thioxanthones; anthracenes having substituents such as anthracene and alkyl ethers; phenothiazines; rubrene. Examples of the photosensitizer include xanthones such as xanthones and thioxanthones; anthracenes having substituents such as anthracene and alkyl ethers; phenothiazines; rubrene. The content of the photosensitizer is usually 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.05 to 5 parts by mass, and more preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. 3 parts by mass.
[レベリング剤]
レベリング剤とは、組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、シランカップリング剤等のシリコーン系及びポリアクリレート系及びパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、ST80PA、ST86PA、SH8400、SH8700、FZ2123(以上、全て東レ・ダウコーニング(株)製)、KP321、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341、X22-161A、KF6001、KBM-1003、KBE-1003、KBM-303、KBM-402、KBM-403、KBE-402、KBE-403、KBM-1403、KBM-502、KBM-503、KBE-502、KBE-503、KBM-5103、KBM-602、KBM-603、KBM-903、KBE-903、KBE-9103、KBM-573、KBM-575、KBE-585、KBM-802、KBM-802、KBM-803、KBE-846、KBE-9007(以上、全て信越化学工業(株)製)、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF-4446、TSF4452、TSF4460(以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製)、フロリナート(fluorinert)(登録商標)FC-72、同FC-40、同FC-43、同FC-3283(以上、全て住友スリーエム(株)製)、メガファック(登録商標)R-08、同R-30、同R-90、同F-410、同F-411、同F-443、同F-445、同F-470、同F-477、同F-479、同F-482、同F-483(以上、いずれもDIC(株)製)、エフトップ(商品名)EF301、同EF303、同EF351、同EF352(以上、全て三菱マテリアル電子化成(株)製)、サーフロン(登録商標)S-381、同S-382、同S-383、同S-393、同SC-101、同SC-105、KH-40、SA-100(以上、全てAGCセイミケミカル(株)製)、商品名E1830、同E5844((株)ダイキンファインケミカル研究所製)、BM-1000、BM-1100、BYK-352、BYK-353およびBYK-361N(いずれも商品名:BM Chemie社製)等が挙げられる。
[Leveling agent]
The leveling agent is an additive having a function of adjusting the fluidity of the composition and flattening the film obtained by applying the composition, and is, for example, a silicone-based or polyacrylate-based additive such as a silane coupling agent. And perfluoroalkyl-based leveling agents. Specifically, DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, ST80PA, ST86PA, SH8400, SH8700, FZ2123 (all manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341, X22-161A, KF6001, KBM-1003, KBE-1003, KBM-303, KBM-402, KBM-403, KBE-402, KBE-403, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE- 502, KBE-503, KBM-5103, KBM-602, KBM-603, KBM-903, KBE-903, KBE-9103, KBM-573, KBM-575, KBE-585, KBM-802, KBM-802, KBM-803, KBE-846, KBE-9007 (all manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (all momentive performance materials) Fluorinert (registered trademark) FC-72, FC-40, FC-43, FC-3283 (all manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Megafuck (registered trademark) ) R-08, R-30, R-90, F-410, F-411, F-443, F-445, F-470, F-477, F-479, F-482, F-483 (all manufactured by DIC Co., Ltd.), Ftop (trade name) EF301, EF303, EF351, EF352 (all manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Co., Ltd.) , Surflon (registered trademark) S-381, S-382, S-383, S-393, SC-101, SC-105, KH-40, SA-100 (all of which are AGC Seimi Chemical (all of which). (Manufactured by Co., Ltd.), trade name E1830, E5844 (manufactured by Daikin Fine Chemical Laboratory Co., Ltd.), BM-1000, BM-1100, BYK-352, BYK-353 and BYK-361N (all trade names: BM Chemie) Made) and the like.
位相差層形成用組成物におけるレベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物100質量部に対して、0.01質量部~5質量部が好ましく、0.05質量部~3質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られる位相差層がより平滑となる傾向があるため好ましい。位相差層形成用組成物は、レベリング剤を2種類以上含有していてもよい。 The content of the leveling agent in the composition for forming a retardation layer is preferably 0.01 part by mass to 5 parts by mass, and more preferably 0.05 part by mass to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. .. When the content of the leveling agent is within the above range, it is easy to horizontally orient the polymerizable liquid crystal compound, and the obtained retardation layer tends to be smoother, which is preferable. The composition for forming a retardation layer may contain two or more kinds of leveling agents.
[基材]
基材としては、ガラス基材及びフィルム基材が挙げられ、加工性の観点からフィルム基材が好ましく、連続的に製造できる点で長尺のロール状フィルムがより好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン;環状オレフィン系樹脂;ポリビニルアルコール;ポリエチレンテレフタレート;ポリメタクリル酸エステル;ポリアクリル酸エステル;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル;ポリエチレンナフタレート;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルケトン;ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド;等のプラスチックが挙げられる。
市販のセルロースエステル基材としては、“フジタックフィルム”(富士写真フイルム株式会社製);“KC8UX2M”、“KC8UY”及び“KC4UY”(以上、コニカミノルタオプト株式会社製)等が挙げられる。
市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Topas”(登録商標)(Ticona社(独)製)、“アートン”(登録商標)(JSR株式会社製)、“ゼオノア(ZEONOR)”(登録商標)、“ゼオネックス(ZEONEX)”(登録商標)(以上、日本ゼオン株式会社製)及び“アペル”(登録商標)(三井化学株式会社製)が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、溶剤キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”(登録商標)、“SCA40”(登録商標)(以上、積水化学工業株式会社製)、“ゼオノアフィルム”(登録商標)(オプテス株式会社製)及び“アートンフィルム”(登録商標)(JSR株式会社製)が挙げられる。
基材の厚さは、実用的な取り扱いができる程度の質量である点では、薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。基材の厚さは、通常、5μm~300μmであり、好ましくは20μm~200μmである。また、基材を剥離して重合性液晶化合物の配向状態における重合体のみを転写することによって、さらなる薄膜化効果が得られる。
[Base material]
Examples of the base material include a glass base material and a film base material, and a film base material is preferable from the viewpoint of processability, and a long roll-shaped film is more preferable because it can be continuously produced. Examples of the resin constituting the film substrate include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and norbornene-based polymers; cyclic olefin-based resins; polyvinyl alcohol; polyethylene terephthalates; polymethacrylic acid esters; polyacrylic acid esters; triacetyl cellulose and diacetyl cellulose. And plastics such as cellulose esters such as cellulose acetate propionate; polyethylene naphthalate; polycarbonate; polysulfones; polyethersulfones; polyether ketones; polyphenylene sulfides and polyphenylene oxides;
Examples of commercially available cellulose ester base materials include "Fujitac Film" (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.); "KC8UX2M", "KC8UY" and "KC4UY" (manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.).
Commercially available cyclic olefin resins include "Topas" (registered trademark) (Ticona (Germany)), "Arton" (registered trademark) (JSR Corporation), "ZEONOR" (registered trademark), and the like. Examples thereof include "ZEONEX" (registered trademark) (above, manufactured by Nippon Zeon Corporation) and "APEL" (registered trademark) (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.). Such a cyclic olefin resin can be formed into a film by a known means such as a solvent casting method and a melt extrusion method to form a base material. A commercially available cyclic olefin resin base material can also be used. Commercially available cyclic olefin resin base materials include "Scina" (registered trademark), "SCA40" (registered trademark) (all manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), and "Zeonoa Film" (registered trademark) (manufactured by Optes Co., Ltd.). ) And "Arton Film" (registered trademark) (manufactured by JSR Corporation).
The thickness of the base material is preferably thin in that it has a mass that can be handled practically, but if it is too thin, the strength is lowered and the processability tends to be inferior. The thickness of the base material is usually 5 μm to 300 μm, preferably 20 μm to 200 μm. Further, by peeling off the base material and transferring only the polymer in the oriented state of the polymerizable liquid crystal compound, a further thinning effect can be obtained.
[配向膜]
基材上の位相差層形成用組成物が塗布される面には、配向膜が形成されている事が好ましい。配向膜とは、上記重合性液晶化合物を所望の方向に配向させる配向規制力を有するものである。
[Alignment film]
It is preferable that an alignment film is formed on the surface of the base material on which the composition for forming a retardation layer is applied. The alignment film has an orientation regulating force for orienting the polymerizable liquid crystal compound in a desired direction.
配向膜としては、位相差層形成用組成物の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や後述の重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。 The alignment film has solvent resistance that does not dissolve when the composition for forming a retardation layer is applied, and also has heat resistance in heat treatment for removing the solvent and aligning the polymerizable liquid crystal compound described later. preferable.
このような配向膜は、重合性液晶化合物の配向を容易にする。また、配向膜の種類やラビング条件や光照射条件によって、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向、および傾斜配向等の様々な配向の制御が可能である。 Such an alignment film facilitates the orientation of the polymerizable liquid crystal compound. In addition, various orientations such as vertical orientation, horizontal orientation, hybrid orientation, and inclined orientation can be controlled depending on the type of alignment film, rubbing conditions, and light irradiation conditions.
第一の位相差層を形成する配向膜としては、水平方向に配向規制力を示す配向膜が適用される。このような水平配向膜としては、ラビング配向膜、光配向膜および、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜等が挙げられる。長尺のロール状フィルムに適用する場合には、配向方向を容易に制御できる点で、光配向膜が好ましい。 As the alignment film forming the first retardation layer, an alignment film showing an orientation regulating force in the horizontal direction is applied. Examples of such a horizontal alignment film include a rubbing alignment film, a light alignment film, and a grub alignment film having an uneven pattern or a plurality of grooves on the surface. When applied to a long roll film, a photoalignment film is preferable because the orientation direction can be easily controlled.
ラビング配向膜には、配向性ポリマーを利用することが出来る。配向性ポリマーとしては、例えば、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類が挙げられる。2種以上の配向性ポリマーを組み合わせてもよい。 An oriented polymer can be used for the rubbing alignment film. Examples of the oriented polymer include polyamides and gelatins having an amide bond, polyimide having an imide bond and its hydrolyzate polyamic acid, polyvinyl alcohol, alkyl-modified polyvinyl alcohol, polyacrylamide, polyoxazole, polyethyleneimine, and polystyrene. , Polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid and polyacrylic acid esters. Two or more oriented polymers may be combined.
ラビング配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した組成物(以下、配向性ポリマー組成物とも言う)を基材に塗布し、溶剤を除去して塗布膜を形成し、該塗布膜をラビングすることで配向規制力を付与することができる。 The rubbing alignment film is usually formed by applying a composition in which an orientation polymer is dissolved in a solvent (hereinafter, also referred to as an orientation polymer composition) to a substrate, removing the solvent to form a coating film, and then forming the coating film. Orientation control force can be imparted by rubbing.
配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが溶剤に完溶する範囲であればよい。配向性ポリマー組成物に対する配向性ポリマーの含有量は、好ましくは0.1~20質量%であり、より好ましくは0.1~10質量%である。 The concentration of the oriented polymer in the oriented polymer composition may be within the range in which the oriented polymer is completely dissolved in the solvent. The content of the oriented polymer with respect to the oriented polymer composition is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass.
配向性ポリマー組成物は、市場から入手できる。市販の配向性ポリマー組成物としては、サンエバー(登録商標、日産化学工業(株)製)、オプトマー(登録商標、JSR(株)製)等が挙げられる。 Oriented polymer compositions are available on the market. Examples of commercially available oriented polymer compositions include Sunever (registered trademark, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), Optomer (registered trademark, manufactured by JSR Corporation) and the like.
配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、後述する位相差層形成用組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。 Examples of the method of applying the oriented polymer composition to the base material include the same method as the method of applying the retardation layer forming composition described later to the base material. Examples of the method for removing the solvent contained in the oriented polymer composition include a natural drying method, a ventilation drying method, a heat drying method and a vacuum drying method.
ラビング処理の方法としては、例えば、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、前記塗布膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域(パターン)を配向膜に形成することもできる。 As a method of the rubbing treatment, for example, a method of bringing the coating film into contact with a rubbing roll on which a rubbing cloth is wound and rotating can be mentioned. If masking is performed during the rubbing process, it is possible to form a plurality of regions (patterns) having different orientation directions on the alignment film.
光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーと溶剤とを含む光配向膜形成用組成物を基材に塗布し、溶剤を除去後に偏光(好ましくは、偏光UV)を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる。 The photoalignment film is usually formed by applying a composition for forming a photoalignment film containing a polymer or monomer having a photoreactive group and a solvent to a substrate, removing the solvent, and then irradiating the substrate with polarized light (preferably polarized UV). It can be obtained by. The photoalignment film can arbitrarily control the direction of the orientation regulating force by selecting the polarization direction of the polarized light to be irradiated.
光反応性基とは、光照射することにより配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起反応、異性化反応、光二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素-炭素二重結合(C=C結合)、炭素-窒素二重結合(C=N結合)、窒素-窒素二重結合(N=N結合)および炭素-酸素二重結合(C=O結合)からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。 A photoreactive group is a group that produces an orientation ability when irradiated with light. Specific examples thereof include groups involved in photoreactions that are the origin of orientation abilities such as molecular orientation-induced reactions, isomerization reactions, photodimerization reactions, photocrosslinking reactions, and photodecomposition reactions caused by light irradiation. As the photoreactive group, an unsaturated bond, particularly a group having a double bond is preferable, and a carbon-carbon double bond (C = C bond), a carbon-nitrogen double bond (C = N bond), and a nitrogen-nitrogen bond are preferable. Groups having at least one selected from the group consisting of a double bond (N = N bond) and a carbon-oxygen double bond (C = O bond) are particularly preferred.
C=C結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基が挙げられる。C=N結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。N=N結合を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、および、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。C=O結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。 Examples of the photoreactive group having a C = C bond include a vinyl group, a polyene group, a stilbene group, a stillbazole group, a stillvazolium group, a chalcone group and a cinnamoyl group. Examples of the photoreactive group having a C = N bond include a group having a structure such as an aromatic Schiff base and an aromatic hydrazone. Examples of the photoreactive group having an N = N bond include an azobenzene group, an azonaphthalene group, an aromatic heterocyclic azo group, a bisazo group, a formazan group, and a group having an azoxybenzene structure. Examples of the photoreactive group having a C = O bond include a benzophenone group, a coumarin group, an anthraquinone group and a maleimide group. These groups may have substituents such as an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an allyloxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group and an alkyl halide group.
光二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造または桂皮酸エステル構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。 Groups involved in the photodimerization reaction or the photocrosslinking reaction are preferable because they have excellent orientation. Among them, a photoreactive group involved in a photodimerization reaction is preferable, and a cinnamoyl group is easy to obtain because a photoalignment film having a relatively small amount of polarization irradiation required for orientation and excellent thermal stability and temporal stability can be easily obtained. And chalcone groups are preferred. As the polymer having a photoreactive group, a polymer having a cinnamoyl group having a cinnamic acid structure or a cinnamic acid ester structure at the end of the side chain of the polymer is particularly preferable.
光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマーまたはモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚さによって調節でき、少なくとも0.2質量%以上とすることが好ましく、0.3~10質量%の範囲がより好ましい。 The content of the polymer or monomer having a photoreactive group in the composition for forming a photo-alignment film can be adjusted by the type of the polymer or the monomer and the thickness of the target photo-alignment film, and is at least 0.2% by mass or more. It is preferable to use the above method, and the range of 0.3 to 10% by mass is more preferable.
光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、後述する位相差層形成用組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。 Examples of the method of applying the composition for forming a photoalignment film to the substrate include the same method as the method of applying the composition for forming a retardation layer described later to the substrate. Examples of the method for removing the solvent from the applied composition for forming a photoalignment film include the same method as the method for removing the solvent from the oriented polymer composition.
偏光を照射するには、基材上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光を照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を基材に透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長域のものがよい。具体的には、波長250nm~400nmの範囲のUV(紫外線)が特に好ましい。当該偏光を照射する光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、KrF、ArF等の紫外光レーザー等が挙げられる。中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプが、波長313nmの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光素子を通過して照射することにより、偏光UVを照射することができる。偏光素子としては、偏光フィルター、グラントムソン、およびグランテーラー等の偏光プリズム、ならびにワイヤーグリッドが挙げられる。中でも大面積化と熱による耐性の観点からワイヤーグリッドタイプの偏光素子が好ましい。 In order to irradiate the polarized light, even in the form of directly irradiating the composition for forming a photoalignment film coated on the substrate with the solvent removed, the polarized light is irradiated from the substrate side and the polarization is used as the base. It may be in the form of penetrating the material and irradiating it. Further, it is preferable that the polarized light is substantially parallel light. The wavelength of the polarized light to be irradiated is preferably in the wavelength range in which the photoreactive group of the polymer or monomer having a photoreactive group can absorb light energy. Specifically, UV (ultraviolet rays) having a wavelength in the range of 250 nm to 400 nm is particularly preferable. Examples of the light source for irradiating the polarized light include a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an ultraviolet light laser such as KrF and ArF, and the like. Of these, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, and metal halide lamps are preferable because they have a high emission intensity of ultraviolet rays having a wavelength of 313 nm. Polarized UV can be irradiated by irradiating the light from the light source through an appropriate polarizing element. Examples of the polarizing element include a polarizing filter, a polarizing prism such as a Gran Thomson, and a Gran Tailor, and a wire grid. Of these, a wire grid type polarizing element is preferable from the viewpoint of increasing the area and resistance to heat.
尚、ラビング又は偏光照射を行うときに、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域(パターン)を形成することもできる。 If masking is performed during rubbing or polarization irradiation, it is possible to form a plurality of regions (patterns) in which the directions of liquid crystal orientation are different.
グルブ(groove)配向膜は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ(溝)を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。
グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のUV硬化樹脂の層を形成し、樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、及び、基材上に形成した硬化前のUV硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。
The groove alignment film is a film having an uneven pattern or a plurality of grooves on the surface of the film. When the polymerizable liquid crystal compound is applied to a film having a plurality of linear grubs arranged at equal intervals, the liquid crystal molecules are oriented in the direction along the groove.
As a method of obtaining a grub alignment film, a method of forming an uneven pattern by performing exposure and rinsing treatment after exposure through an exposure mask having a pattern-shaped slit on the surface of the photosensitive polyimide film, and a plate having a groove on the surface. A method of forming a layer of UV-curable resin before curing on a master plate, transferring the resin layer to a substrate and then curing, and a plurality of films of UV-curable resin before curing formed on the substrate. Examples thereof include a method in which a roll-shaped master having a groove is pressed to form irregularities and then cured.
第一の位相差層を形成するための配向膜の厚さは、通常10~10000nmの範囲であり、好ましくは10~1000nmの範囲であり、さらに好ましくは50~500nmの範囲である。 The thickness of the alignment film for forming the first retardation layer is usually in the range of 10 to 10000 nm, preferably in the range of 10 to 1000 nm, and more preferably in the range of 50 to 500 nm.
第二の位相差層を形成する配向膜としては、垂直方向に配向規制力を有する配向膜(以下、垂直配向膜とも言う)が適用される。垂直配向膜としては、基板表面の表面張力を下げるような材料を適用する事が好ましい。このような材料としては、先述した配向性ポリマーやパーフルオロアルキル等のフッ素系ポリマー、ポリイミド化合物、シラン化合物並びにそれらの縮合反応により得られるポリシロキサン化合物が挙げられる。表面張力を低下させやすいという点でシラン化合物が好ましい。 As the alignment film forming the second retardation layer, an alignment film having an orientation regulating force in the vertical direction (hereinafter, also referred to as a vertical alignment film) is applied. As the vertically oriented film, it is preferable to apply a material that lowers the surface tension of the substrate surface. Examples of such a material include the above-mentioned oriented polymer, a fluoropolymer such as perfluoroalkyl, a polyimide compound, a silane compound, and a polysiloxane compound obtained by a condensation reaction thereof. Silane compounds are preferred because they tend to reduce surface tension.
シラン化合物としては、先述したシランカップリング剤等のシリコーン系が好適に適用可能であるが、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシ)シラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラン、3-グリシドキシプロピルエトキシジメチルシランなどが挙げられる。2種以上のシラン化合物を使用してもよい。 As the silane compound, a silicone type such as the above-mentioned silane coupling agent can be preferably applied. For example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-). Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glyce Sidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercapto Examples thereof include propyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyldimethoxymethylsilane, and 3-glycidoxypropylethoxydimethylsilane. Two or more kinds of silane compounds may be used.
シラン化合物は、シリコーンモノマータイプのものであっても良いし、タイプシリコーンオリゴマー(ポリマー)タイプのものであってもよい。シリコーンオリゴマーを(単量体)-(単量体)コポリマーの形式で示すと、例えば、次のようなものを挙げることができる。 The silane compound may be a silicone monomer type or a type silicone oligomer (polymer) type. When the silicone oligomer is shown in the form of a (monomer)-(monomer) copolymer, for example, the following can be mentioned.
3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、及び3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマーの如き、メルカプトプロピル基含有のコポリマー; 3-Mercaptopropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-mercaptopropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, and 3-mercaptopropyltriethoxysilane-tetraethoxy. Copolymers containing mercaptopropyl groups, such as silane copolymers;
メルカプトメチルトリメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、及びメルカプトメチルトリエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマーの如き、メルカプトメチル基含有のコポリマー; Mercaptomethyl groups such as mercaptomethyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, mercaptomethyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, mercaptomethyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, and mercaptomethyltriethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer. Containing copolymer;
3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、及び3-メタクリロキシイルオプロピルメチルジエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマーの如き、メタクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー; 3-Methacloyloxypropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane -Tetraethoxysilane copolymer, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, and Copolymers containing a methacryloyloxypropyl group, such as 3-methacryloxyylopropylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer;
3-アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、及び3-アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマーの如き、アクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー; 3-Acryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-acryloyloxypropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-acryloyloxypropyltriethoxysilane -Tetraethoxysilane copolymer, 3-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, and Copolymers containing acryloyloxypropyl groups, such as 3-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane copolymers;
ビニルトリメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、ビニルメチルジメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、ビニルメチルジメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、ビニルメチルジエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、及びビニルメチルジエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマーの如き、ビニル基含有のコポリマー; Vinyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, vinyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, vinyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, vinyltriethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, vinylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, Vinyl group-containing copolymers such as vinylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, vinylmethyldiethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, and vinylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer;
3-アミノプロピルトリメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-アミノプロピルトリメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-アミノプロピルトリエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-アミノプロピルトリエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、及び3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマーの如き、アミノ基含有のコポリマー等。 3-Aminopropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-aminopropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-aminopropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-aminopropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane Copolymer, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, and 3-aminopropylmethyldiethoxy Amino group-containing copolymers such as silane-tetraethoxysilane copolymers.
中でも分子末端にアルキル基を有するシラン化合物が好ましく、炭素数6から炭素数20のアルキル基を有するシラン化合物がより好ましい。これらのシラン化合物は、多くの場合、液体であるので、そのまま基材に塗布しても良いし、溶剤に溶解して基材に塗布してもよい。また、バインダーとして各種ポリマーとともに、溶剤に溶かして基材に塗布してもよい。 Of these, a silane compound having an alkyl group at the molecular terminal is preferable, and a silane compound having an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms is more preferable. Since these silane compounds are liquid in many cases, they may be applied to the base material as they are, or may be dissolved in a solvent and applied to the base material. Further, it may be dissolved in a solvent and applied to the substrate together with various polymers as a binder.
垂直配向膜を基材に塗布する方法としては、後述する位相差層形成用組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。 Examples of the method of applying the vertically oriented film to the base material include the same method as the method of applying the retardation layer forming composition described later to the base material. Examples of the method for removing the solvent from the applied composition for forming a photoalignment film include the same method as the method for removing the solvent from the oriented polymer composition.
第二の位相差層を形成するための配向膜の厚さは、通常10~10000nmの範囲であり、好ましくは50~5000nmの範囲であり、さらに好ましくは100~500nmの範囲である。 The thickness of the alignment film for forming the second retardation layer is usually in the range of 10 to 10000 nm, preferably in the range of 50 to 5000 nm, and more preferably in the range of 100 to 500 nm.
≪位相差層の製造方法≫
<位相差層形成用組成物の塗布>
上記基材または配向膜上に位相差層形成用組成物が塗布することで位相差層を形成することができる。位相差層形成用組成物を基材上に塗布する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、CAPコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Roll to Roll形式で連続的に塗布する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗布方法が好ましく、ガラス等の枚葉基材に塗布する場合には、均一性の高いスピンコーティング法が好ましい。
<< Manufacturing method of retardation layer >>
<Application of composition for forming a retardation layer>
A retardation layer can be formed by applying the composition for forming a retardation layer onto the base material or the alignment film. As a method of applying the composition for forming a retardation layer on a substrate, an extrusion coating method, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, a CAP coating method, a slit coating method, a microgravure method, a die coating method, and an inkjet method. And so on. Further, a method of applying using a coater such as a dip coater, a bar coater, or a spin coater can also be mentioned. Among them, in the case of continuous coating in the Roll to Roll format, the coating method by the microgravure method, the inkjet method, the slit coating method, or the die coating method is preferable, and in the case of coating on a single-wafer substrate such as glass, the uniformity is achieved. High spin coating method is preferred.
<位相差層形成用組成物の乾燥>
位相差層形成用組成物に含まれる溶剤を除去する乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥または加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、0~200℃の範囲が好ましく、20~150℃の範囲がより好ましく、50~130℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、10秒間~20分間が好ましく、より好ましくは30秒間~10分間である。光配向膜形成用組成物および配向性ポリマー組成物も同様に乾燥することができる。
<Drying of composition for forming a retardation layer>
Examples of the drying method for removing the solvent contained in the composition for forming a retardation layer include natural drying, ventilation drying, heat drying, vacuum drying, and a method in which these are combined. Of these, natural drying or heat drying is preferable. The drying temperature is preferably in the range of 0 to 200 ° C, more preferably in the range of 20 to 150 ° C, and even more preferably in the range of 50 to 130 ° C. The drying time is preferably 10 seconds to 20 minutes, more preferably 30 seconds to 10 minutes. The composition for forming a photoalignment film and the orientation polymer composition can be dried in the same manner.
<重合性液晶化合物の重合>
重合性液晶化合物を重合させる方法としては、光重合が好ましい。光重合は、基材上または配向膜上に重合性液晶化合物を含む位相差層形成用組成物が塗布された積層体に活性エネルギー線を照射することにより実施される。照射する活性エネルギー線としては、乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物の種類(特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類)、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、およびそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、X線、α線、β線、およびγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、および光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。
<Polymerization of polymerizable liquid crystal compounds>
Photopolymerization is preferable as a method for polymerizing a polymerizable liquid crystal compound. Photopolymerization is carried out by irradiating a laminate in which a composition for forming a retardation layer containing a polymerizable liquid crystal compound is applied on a substrate or an alignment film with active energy rays. The active energy rays to be irradiated include the type of the polymerizable liquid crystal compound contained in the dry film (particularly, the type of the photopolymerizable functional group of the polymerizable liquid crystal compound), and the photopolymerization initiator when the photopolymerization initiator is contained. It is appropriately selected according to the type of the polymer and the amount thereof. Specific examples thereof include one or more types of light selected from the group consisting of visible light, ultraviolet light, infrared light, X-ray, α-ray, β-ray, and γ-ray. Among them, ultraviolet light is preferable because it is easy to control the progress of the polymerization reaction and it is possible to use a photopolymerization apparatus widely used in the art, so that polymerization can be carried out by ultraviolet light. It is preferable to select the type of the sex liquid crystal compound.
前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲380~440nmを発光するLED光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。 Examples of the light source of the active energy ray include a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a xenon lamp, a halogen lamp, a carbon arc lamp, a tungsten lamp, a gallium lamp, an excima laser, and a wavelength range. Examples thereof include LED light sources that emit light of 380 to 440 nm, chemical lamps, black light lamps, microwave-excited mercury lamps, metal halide lamps, and the like.
紫外線照射強度は、通常、10mW/cm2~3,000mW/cm2である。紫外線照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常0.1秒~10分であり、好ましくは0.1秒~5分であり、より好ましくは0.1秒~3分であり、さらに好ましくは0.1秒~1分である。このような紫外線照射強度で1回又は複数回照射すると、その積算光量は、10mJ/cm2~3,000mJ/cm2、好ましくは50mJ/cm2~2,000mJ/cm2、より好ましくは100mJ/cm2~1,000mJ/cm2である。積算光量がこの範囲以下である場合には、重合性液晶化合物の硬化が不十分となり、良好な転写性が得られない場合がある。逆に、積算光量がこの範囲以上である場合には、位相差層を含む光学フィルムが着色する場合がある。 The ultraviolet irradiation intensity is usually 10 mW / cm 2 to 3,000 mW / cm 2 . The ultraviolet irradiation intensity is preferably an intensity in a wavelength region effective for activating the cationic polymerization initiator or the radical polymerization initiator. The time for irradiating light is usually 0.1 seconds to 10 minutes, preferably 0.1 seconds to 5 minutes, more preferably 0.1 seconds to 3 minutes, still more preferably 0.1 seconds. ~ 1 minute. When irradiated once or multiple times with such an ultraviolet irradiation intensity, the integrated light amount is 10 mJ / cm 2 to 3,000 mJ / cm 2 , preferably 50 mJ / cm 2 to 2,000 mJ / cm 2 , and more preferably 100 mJ. It is / cm 2 to 1,000 mJ / cm 2 . When the integrated light amount is less than this range, the polymerizable liquid crystal compound may not be sufficiently cured and good transferability may not be obtained. On the contrary, when the integrated light amount is equal to or more than this range, the optical film including the retardation layer may be colored.
[偏光板]
本発明の楕円偏光板は、偏光板と本発明の光学フィルムを含んで構成されるものであり、例えば、偏光板と本発明の光学フィルムとを粘着剤や接着剤層等を介して貼り合わせることにより本発明の楕円偏光板を得ることができる。
本発明の一実施態様においては、偏光板と本発明の光学フィルムが積層される場合、第一の位相差層の遅相軸(光軸)と偏光板の吸収軸とを実質的に45°となるように積層することが好ましい。本発明の本発明の光学フィルムの遅相軸(光軸)と偏光板の吸収軸とを実質的に45°となるように積層することによって、円偏光板としての機能を得ることができる。なお、実質的に45°とは通常45±5°の範囲である。
[Polarizer]
The elliptical polarizing plate of the present invention is configured to include the polarizing plate and the optical film of the present invention. For example, the polarizing plate and the optical film of the present invention are bonded together via an adhesive, an adhesive layer, or the like. Thereby, the elliptical polarizing plate of the present invention can be obtained.
In one embodiment of the present invention, when the polarizing plate and the optical film of the present invention are laminated, the slow axis (optical axis) of the first retardation layer and the absorption axis of the polarizing plate are substantially 45 °. It is preferable to stack them so as to be. By laminating the slow axis (optical axis) of the optical film of the present invention and the absorption axis of the polarizing plate at substantially 45 °, the function as a circular polarizing plate can be obtained. It should be noted that substantially 45 ° is usually in the range of 45 ± 5 °.
偏光板としては、偏光機能を有する偏光子からなる。偏光子としては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、又は、吸収異方性を有する色素を塗布配向した膜が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、二色性色素が挙げられる。 The polarizing plate is composed of a polarizing element having a polarizing function. Examples of the splitter include a stretched film on which a dye having absorption anisotropy is adsorbed, and a film in which a dye having absorption anisotropy is applied and oriented. Examples of the dye having absorption anisotropy include a dichroic dye.
吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムは、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造される。このようにして得られた偏光子と透明保護フィルムを貼り合せることで偏光板が得られる。二色性色素として、ヨウ素や二色性の有機染料が挙げられる。二色性の有機染料としては、C.I. DIRECT RED 39等のジスアゾ化合物からなる二色性直接染料及び、トリスアゾ、テトラキスアゾ等の化合物からなる二色性直接染料等が挙げられる。上述のように、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗及び乾燥をして得られる偏光子の厚さは、好
ましくは5μm~40μmである。
The stretched film on which the dye having absorption anisotropy is adsorbed is usually obtained by dyeing the polyvinyl alcohol-based resin film with a dichroic dye in the step of uniaxially stretching the polyvinyl alcohol-based resin film. It is produced through a step of adsorbing, a step of treating a polyvinyl alcohol-based resin film on which a dichroic dye is adsorbed with an aqueous boric acid solution, and a step of washing with water after the treatment with the aqueous boric acid solution. A polarizing plate can be obtained by laminating the polarizing element thus obtained and the transparent protective film. Examples of the dichroic dye include iodine and a dichroic organic dye. Examples of the bicolor organic dye include a bicolor direct dye composed of a disuazo compound such as CI DIRECT RED 39, and a bicolor direct dye composed of a compound such as trisazo and tetrakisazo. As described above, the thickness of the substituent obtained by uniaxial stretching, dyeing with a dichroic dye, boric acid treatment, washing with water and drying on a polyvinyl alcohol-based resin film is preferably 5 μm to 40 μm.
[粘接着剤]
偏光板と本発明の光学フィルムあるいは本発明の光学フィルムと表示装置とを貼り合わせるための粘接着剤としては、感圧式粘着剤、乾燥固化型接着剤及び化学反応型接着剤が挙げられる。化学反応型接着剤としては、例えば、活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。偏光板と本発明の光学フィルムとの間の粘接着剤としては、感圧式粘着剤、乾燥固化型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤から形成される接着剤層が好ましく、本発明の光学フィルムと表示装置との間の粘接着材としては、感圧式粘着剤又は活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。
[Adhesive]
Examples of the adhesive for adhering the polarizing plate to the optical film of the present invention or the optical film of the present invention and the display device include a pressure-sensitive adhesive, a dry solidification type adhesive, and a chemical reaction type adhesive. Examples of the chemical reaction type adhesive include an active energy ray-curable adhesive. As the adhesive between the polarizing plate and the optical film of the present invention, an adhesive layer formed of a pressure-sensitive adhesive, a dry solidification type adhesive, and an active energy ray-curable adhesive is preferable, and the adhesive layer of the present invention is preferable. As the adhesive adhesive between the optical film and the display device, a pressure-sensitive adhesive or an active energy ray-curable adhesive is preferable.
感圧式粘着剤は、通常、ポリマーを含み、溶剤を含んでいてもよい。
ポリマーとしては、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、又はポリエーテル等が挙げられる。中でも、アクリル系ポリマーを含むアクリル系の粘着剤は、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を有し、接着性に優れ、さらには耐候性や耐熱性等が高く、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等が生じ難いため好ましい。
The pressure-sensitive pressure-sensitive adhesive usually contains a polymer and may contain a solvent.
Examples of the polymer include acrylic polymers, silicone polymers, polyesters, polyurethanes, and polyethers. Among them, the acrylic pressure-sensitive adhesive containing an acrylic polymer has excellent optical transparency, moderate wettability and cohesive force, excellent adhesiveness, and high weather resistance and heat resistance, and is heated. It is preferable because it is unlikely to float or peel off under humid conditions.
アクリル系ポリマーとしては、エステル部分のアルキル基がメチル基、エチル基又はブチル基等の炭素数1~20のアルキル基である(メタ)アクリレート(以下、アクリレート、メタクリレートを総称して(メタ)アクリレートと称することがあり、アクリル酸とメタクリル酸とを総称して(メタ)アクリル酸と称することがある)と、(メタ)アクリル酸やヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の官能基を有する(メタ)アクリル系モノマーとの共重合体が好ましい。 As the acrylic polymer, the alkyl group of the ester moiety is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group or a butyl group (meth) acrylate (hereinafter, acrylate and methacrylate are collectively referred to as (meth) acrylate). Acrylic acid and methacrylic acid may be collectively referred to as (meth) acrylic acid), and have functional groups such as (meth) acrylic acid and hydroxyethyl (meth) acrylate (meth). A copolymer with an acrylic monomer is preferable.
このような共重合体を含む感圧式粘着剤は、粘着性に優れており、表示装置に貼合した後に取り除くときも、表示装置に糊残り等を生じさせることなく、比較的容易に取り除くことが可能であるので好ましい。アクリル系ポリマーのガラス転移温度は、25℃以下が好ましく、0℃以下がより好ましい。このようなアクリル系ポリマーの質量平均分子量は、10万以上であることが好ましい。 The pressure-sensitive pressure-sensitive adhesive containing such a copolymer has excellent adhesiveness, and even when it is removed after being attached to a display device, it can be removed relatively easily without causing adhesive residue on the display device. Is preferable because it is possible. The glass transition temperature of the acrylic polymer is preferably 25 ° C. or lower, more preferably 0 ° C. or lower. The mass average molecular weight of such an acrylic polymer is preferably 100,000 or more.
溶剤としては、前記溶剤として挙げられた溶剤等が挙げられる。感圧式粘着剤は、光拡散剤を含有していてもよい。光拡散剤は、粘着剤に光拡散性を付与する添加剤であり、粘着剤が含むポリマーの屈折率と異なる屈折率を有する微粒子であればよい。光拡散剤としては、無機化合物からなる微粒子、及び有機化合物(ポリマー)からなる微粒子が挙げられる。アクリル系ポリマーを含めて、粘着剤が有効成分として含むポリマーの多くは1.4~1.6程度の屈折率を有するため、その屈折率が1.2~1.8である光拡散剤から適宜選択することが好ましい。粘着剤が有効成分として含むポリマーと光拡散剤との屈折率差は、通常、0.01以上であり、表示装置の明るさと表示性の観点からは、0.01~0.2が好ましい。光拡散剤として用いる微粒子は、球形の微粒子、それも単分散に近い微粒子が好ましく、平均粒径が2μm~6μmである微粒子がより好ましい。 屈折率は、一般的な最小偏角法又はアッベ屈折計によって測定される。
無機化合物からなる微粒子としては、酸化アルミニウム(屈折率1.76)及び酸化ケイ素(屈折率1.45)等が挙げられる。有機化合物(ポリマー)からなる微粒子としては、メラミンビーズ(屈折率1.57)、ポリメタクリル酸メチルビーズ(屈折率1.49)、メタクリル酸メチル/スチレン共重合体樹脂ビーズ(屈折率1.50~1.59)、ポリカーボネートビーズ(屈折率1.55)、ポリエチレンビーズ(屈折率1.53)、ポリスチレンビーズ(屈折率1.6)、ポリ塩化ビニルビーズ(屈折率1.46)、及びシリコーン樹脂ビーズ(屈折率1.46)等が挙げられる。光拡散剤の含有量は、通常、ポリマー100質量部に対して、3質量部~30質量部である。
感圧式粘着剤の厚さは、その密着力等に応じて決定されるため、特に制限されないが、通常、1μm~40μmである。加工性や耐久性等の点から、当該厚さは3μm~25μmが好ましく、5μm~20μmがより好ましい。粘着剤から形成される粘接着剤層の厚さを5μm~20μmとすることにより、表示装置を正面から見た場合や斜めから見た場合の明るさを保ち、表示像のにじみやボケを生じ難くすることができる。
Examples of the solvent include the solvents mentioned as the solvent. The pressure-sensitive pressure-sensitive adhesive may contain a light diffusing agent. The light diffusing agent is an additive that imparts light diffusing property to the pressure-sensitive adhesive, and may be fine particles having a refractive index different from that of the polymer contained in the pressure-sensitive adhesive. Examples of the light diffusing agent include fine particles made of an inorganic compound and fine particles made of an organic compound (polymer). Most of the polymers contained in the adhesive as an active ingredient, including acrylic polymers, have a refractive index of about 1.4 to 1.6, so that the light diffusing agent having a refractive index of 1.2 to 1.8 It is preferable to select an appropriate one. The difference in refractive index between the polymer contained in the pressure-sensitive adhesive as an active ingredient and the light diffusing agent is usually 0.01 or more, and is preferably 0.01 to 0.2 from the viewpoint of brightness and displayability of the display device. The fine particles used as the light diffusing agent are preferably spherical fine particles, which are also close to monodisperse, and more preferably fine particles having an average particle size of 2 μm to 6 μm. The index of refraction is measured by a common minimum argument method or an Abbe refractometer.
Examples of the fine particles made of the inorganic compound include aluminum oxide (refractive index 1.76) and silicon oxide (refractive index 1.45). The fine particles made of an organic compound (polymer) include melamine beads (refractive index 1.57), polymethyl methacrylate beads (refractive index 1.49), and methyl methacrylate / styrene copolymer resin beads (refractive index 1.50). ~ 1.59), Polycarbonate beads (refractive index 1.55), polyethylene beads (refractive index 1.53), polystyrene beads (refractive index 1.6), polyvinyl chloride beads (refractive index 1.46), and silicone. Examples thereof include resin beads (refractive index 1.46). The content of the light diffusing agent is usually 3 parts by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer.
The thickness of the pressure-sensitive pressure-sensitive adhesive is determined according to its adhesion and the like, and is not particularly limited, but is usually 1 μm to 40 μm. From the viewpoint of workability, durability and the like, the thickness is preferably 3 μm to 25 μm, more preferably 5 μm to 20 μm. By setting the thickness of the adhesive layer formed from the adhesive to 5 μm to 20 μm, the brightness of the display device when viewed from the front or when viewed from an angle is maintained, and bleeding or blurring of the displayed image is eliminated. It can be made less likely to occur.
[乾燥固化型接着剤]
乾燥固化型接着剤は、溶剤を含んでいてもよい。
乾燥固化型接着剤としては、水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体、又は、ウレタン樹脂を主成分として含有し、さらに、多価アルデヒド、エポキシ化合物、エポキシ樹脂、メラミン化合物、ジルコニア化合物、及び亜鉛化合物等の架橋剤又は硬化性化合物を含有する組成物等が挙げられる。水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体としては、エチレン-マレイン酸共重合体、イタコン酸共重合体、アクリル酸共重合体、アクリルアミド共重合体、ポリ酢酸ビニルのケン化物、及び、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。
[Dry solidified adhesive]
The dry solidifying adhesive may contain a solvent.
The dry solidification type adhesive contains a polymer of a monomer having a protonic functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group or an amino group and an ethylenically unsaturated group as a main component, or a urethane resin as a main component, and further has a multivalent value. Examples thereof include compositions containing a cross-linking agent such as an aldehyde, an epoxy compound, an epoxy resin, a melamine compound, a zirconia compound, and a zinc compound, or a curable compound. Examples of the polymer of the monomer having a protonic functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group or an amino group and an ethylenically unsaturated group include ethylene-maleic acid copolymer, itaconic acid copolymer, acrylic acid copolymer and acrylamide. Examples thereof include a copolymer, a saponified product of polyvinyl acetate, and a polyvinyl alcohol-based resin.
ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリビニルアルコール、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、及び、アミノ基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。水系の粘接着剤におけるポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、水100質量部に対して、通常、1質量部~10質量部であり、好ましくは1質量部~5質量部である。 Examples of the polyvinyl alcohol-based resin include polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl alcohol, fully saponified polyvinyl alcohol, carboxyl group-modified polyvinyl alcohol, acetoacetyl group-modified polyvinyl alcohol, methylol group-modified polyvinyl alcohol, and amino group-modified polyvinyl alcohol. Can be mentioned. The content of the polyvinyl alcohol-based resin in the water-based adhesive is usually 1 part by mass to 10 parts by mass, preferably 1 part by mass to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of water.
ウレタン樹脂としては、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂等が挙げられる。ここでいうポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、その中に少量のイオン性成分(親水成分)が導入された樹脂である。係るアイオノマー型ウレタン樹脂は、乳化剤を使用せずに、水中で乳化してエマルジョンとなるため、水系の粘接着剤とすることができる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を用いる場合は、架橋剤として水溶性のエポキシ化合物を配合することが有効である。 Examples of the urethane resin include polyester ionomer type urethane resin and the like. The polyester-based ionomer type urethane resin referred to here is a urethane resin having a polyester skeleton, in which a small amount of an ionic component (hydrophilic component) is introduced. Since the ionomer type urethane resin is emulsified in water to form an emulsion without using an emulsifier, it can be used as a water-based adhesive. When a polyester ionomer type urethane resin is used, it is effective to add a water-soluble epoxy compound as a cross-linking agent.
エポキシ樹脂としては、ジエチレントリアミン又はトリエチレンテトラミン等のポリアルキレンポリアミンとアジピン酸等のジカルボン酸との反応で得られるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られるポリアミドエポキシ樹脂等が挙げられる。係るポリアミドエポキシ樹脂の市販品としては、“スミレーズレジン(登録商標)650”及び“スミレーズレジン675”(以上、住化ケムテックス株式会社製)、“WS-525”(日本PMC株式会社製)等が挙げられる。エポキシ樹脂を配合する場合、その添加量は、ポリビニルアルコール系樹脂100質量部に対して、通常、1質量部~100質量部であり、好ましくは1質量部~50質量部である。 Examples of the epoxy resin include a polyamide epoxy resin obtained by reacting a polyamide polyamine obtained by reacting a polyalkylene polyamine such as diethylenetriamine or triethylenetetramine with a dicarboxylic acid such as adipic acid with epichlorohydrin. Commercially available products of the polyamide epoxy resin include "Smiley's Resin (registered trademark) 650", "Smiley's Resin 675" (all manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd.), and "WS-525" (manufactured by Nippon PMC Co., Ltd.). And so on. When the epoxy resin is blended, the addition amount thereof is usually 1 part by mass to 100 parts by mass, preferably 1 part by mass to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyvinyl alcohol-based resin.
乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層の厚さは、通常、0.001μm~5μmであり、好ましくは0.01μm~2μmであり、さらに好ましくは0.01μm~0.5μmである。乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層が厚すぎると、光学異方層が外観不良となり易い。 The thickness of the adhesive layer formed from the dry solidified adhesive is usually 0.001 μm to 5 μm, preferably 0.01 μm to 2 μm, and more preferably 0.01 μm to 0.5 μm. be. If the adhesive layer formed from the dry solidified adhesive is too thick, the optically anisotropic layer tends to have a poor appearance.
[活性エネルギー線硬化型接着剤]
活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶剤を含んでいてもよい。活性エネルギー線硬化型接着剤とは、活性エネルギー線の照射を受けて硬化する接着剤である。
活性エネルギー線硬化型接着剤としては、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の接着剤、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の接着剤、エポキシ化合物等のカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物等のラジカル重合性の硬化成分の両者を含有し、さらにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を含有する接着剤、及び、これら重合開始剤を含まずに電子ビームを照射することで硬化される接着剤等が挙げられる。
[Active energy ray-curable adhesive]
The active energy ray-curable adhesive may contain a solvent. The active energy ray-curable adhesive is an adhesive that cures by being irradiated with active energy rays.
Examples of the active energy ray-curable adhesive include a cationically polymerizable adhesive containing an epoxy compound and a cationic polymerization initiator, a radically polymerizable adhesive containing an acrylic curing component and a radical polymerization initiator, and an epoxy compound. It contains both a cationically polymerizable curing component such as, and a radically polymerizable curing component such as an acrylic compound, and further contains an adhesive containing a cationic polymerization initiator and a radical polymerization initiator, and these polymerization initiators. Examples thereof include an adhesive that is cured by irradiating an electron beam without using it.
中でも、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。アクリル系硬化成分としては、メチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート及び(メタ)アクリル酸等が挙げられる。エポキシ化合物を含有する活性エネルギー線硬化型接着剤は、エポキシ化合物以外の化合物をさらに含有していてもよい。エポキシ化合物以外の化合物としては、オキセタン化合物やアクリル化合物等が挙げられる。
ラジカル重合開始剤としては、前述した光重合開始剤が挙げられる。カチオン重合開始剤の市販品としては、“カヤラッド”(登録商標)シリーズ(日本化薬株式会社製)、“サイラキュア UVI”シリーズ(ダウケミカル社製)、“CPI”シリーズ(サンアプロ株式会社製)、“TAZ”、“BBI”及び“DTS”(以上、みどり化学株式会社製)、“アデカオプトマー”シリーズ(株式会社ADEKA製)、“RHODORSIL”(登録商標)(ローディア株式会社製)等が挙げられる。ラジカル重合開始剤並びにカチオン重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤100質量部に対して、通常、0.5質量部~20質量部であり、好ましくは1質量部~15質量部である。
Among them, radical-polymerizable active energy ray-curable adhesives containing an acrylic curing component and a radical polymerization initiator, and cationically polymerizable active energy ray-curable adhesives containing an epoxy compound and a cationic polymerization initiator are available. preferable. Examples of the acrylic curing component include (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate and hydroxyethyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid. The active energy ray-curable adhesive containing an epoxy compound may further contain a compound other than the epoxy compound. Examples of the compound other than the epoxy compound include an oxetane compound and an acrylic compound.
Examples of the radical polymerization initiator include the above-mentioned photopolymerization initiator. Commercially available cationic polymerization initiators include "Kayarad" (registered trademark) series (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), "Cyracure UVI" series (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.), and "CPI" series (manufactured by Sun Appro Co., Ltd.). "TAZ", "BBI" and "DTS" (manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.), "ADEKA PTOMER" series (manufactured by ADEKA Corporation), "RHODORSIL" (registered trademark) (manufactured by Rhodia Co., Ltd.), etc. Be done. The content of the radical polymerization initiator and the cationic polymerization initiator is usually 0.5 parts by mass to 20 parts by mass, preferably 1 part by mass to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable adhesive. It is a department.
活性エネルギー線硬化型接着剤には、さらに、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤及び消泡剤等が含有されていてもよい。 The active energy ray-curable adhesive further contains an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, a tackifier, a thermoplastic resin, a filler, a flow conditioner, a plasticizer, an antifoaming agent and the like. You may.
本明細書において活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられ、紫外線及び電子線が好ましい。好ましい紫外線の照射条件は前述した重合性液晶化合物の重合と同様である。 As used herein, an active energy ray is defined as an energy ray capable of decomposing a compound that generates an active species to generate an active species. Examples of such active energy rays include visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, γ rays and electron beams, and ultraviolet rays and electron beams are preferable. Preferred ultraviolet irradiation conditions are the same as the polymerization of the above-mentioned polymerizable liquid crystal compound.
[表示装置]
本発明は、実施形態の一つとして本発明の光学フィルムを含む表示装置を提供することができる。また、上記表示装置は、上記実施形態に係る楕円偏光板を含み得る。
上記表示装置とは、表示機構を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、無機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置(電場放出表示装置(FED等)、表面電界放出表示装置(SED))、電子ペーパー(電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置)、プラズマ表示装置、投射型表示装置(グレーティングライトバルブ(GLV)表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)を有する表示装置等)及び圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置等の何れをも含む。これら表示装置は、2次元画像を表示する表示装置であってもよいし、3次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に、本発明からなる光学フィルムと偏光板とを備える表示装置としては、有機EL表示装置及びタッチパネル表示装置が好ましい。
[Display device]
The present invention can provide a display device including the optical film of the present invention as one of the embodiments. Further, the display device may include an elliptical polarizing plate according to the embodiment.
The display device is a device having a display mechanism, and includes a light emitting element or a light emitting device as a light emitting source. Display devices include liquid crystal display devices, organic electroluminescence (EL) display devices, inorganic electroluminescence (EL) display devices, touch panel display devices, electron emission display devices (electric field emission display devices (FED, etc.), surface electric field emission display devices). (SED)), electronic paper (display device using electronic ink or electrophoretic element), plasma display device, projection type display device (grating light valve (GLV) display device, display device having a digital micromirror device (DMD)). Etc.) and piezoelectric ceramic displays and the like. The liquid crystal display device includes any of a transmissive liquid crystal display device, a semi-transmissive liquid crystal display device, a reflective liquid crystal display device, a direct-view liquid crystal display device, a projection type liquid crystal display device, and the like. These display devices may be display devices that display two-dimensional images, or may be stereoscopic display devices that display three-dimensional images. In particular, an organic EL display device and a touch panel display device are preferable as the display device including the optical film and the polarizing plate according to the present invention.
以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。尚、例中の「%」および「部」は、特記ない限り、質量%および質量部を意味する。また、以下の実施例において使用したポリマーフィルム、装置及び測定方法は以下のとおりである。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. In addition, "%" and "part" in an example mean mass% and mass part unless otherwise specified. Moreover, the polymer film, the apparatus and the measuring method used in the following Examples are as follows.
・シクロオレフィンポリマー(COP)フィルムには、日本ゼオン株式会社製のZF-14を用いた。
・コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のAGF-B10を用いた。
・コロナ処理は、上記コロナ処理装置を用いて、出力0.3kW、処理速度3m/分の条件で1回行った。
・偏光UV照射装置には、ウシオ電機株式会社製の偏光子ユニット付SPOT CURE SP-9を用いた。
・高圧水銀ランプには、ウシオ電機株式会社製のユニキュアVB-15201BY-Aを用いた。
・面内方向の位相差値Re(λ)は、王子計測機器株式会社製のKOBRA-WPRを用いて測定した。
・厚み方向の位相差値Rth(λ)、及び膜厚は日本分光株式会社製のエリプソメータ M-220を使用して測定した。
-ZF-14 manufactured by Nippon Zeon Corporation was used as the cycloolefin polymer (COP) film.
-AGF-B10 manufactured by Kasuga Electric Works Ltd. was used as the corona processing apparatus.
The corona treatment was performed once using the above corona treatment device under the conditions of an output of 0.3 kW and a processing speed of 3 m / min.
-As the polarized UV irradiation device, SPOT CURE SP-9 with a polarizing element manufactured by Ushio, Inc. was used.
-For the high-pressure mercury lamp, Unicure VB-15201BY-A manufactured by Ushio, Inc. was used.
The phase difference value Re (λ) in the in-plane direction was measured using KOBRA-WPR manufactured by Oji Measuring Instruments Co., Ltd.
-The phase difference value Rth (λ) in the thickness direction and the film thickness were measured using an ellipsometer M-220 manufactured by JASCO Corporation.
[第一の位相差層形成用の配向膜組成物調製]
下記構造の光配向性材料5部(重量平均分子量:30000)とシクロペンタノン(溶剤)95部とを成分として混合し、得られた混合物を80℃で1時間攪拌することにより、第一の位相差層形成用の配向膜組成物を得た。
[Preparation of alignment film composition for formation of first retardation layer]
The first step was to mix 5 parts (weight average molecular weight: 30,000) of a photo-oriented material having the following structure and 95 parts of cyclopentanone (solvent) as components, and stir the obtained mixture at 80 ° C. for 1 hour. An alignment film composition for forming a retardation layer was obtained.
[第二の位相差層形成用の配向膜組成物調製]
信越化学工業株式会社製のシランカップリング剤KBE-9103を、エタノールと水を9:1(重量比)の割合で混合した混合溶媒に溶解させ、固形分1%の第二の位相差層形成用の配向膜組成物を得た。
[Preparation of alignment film composition for formation of second retardation layer]
A silane coupling agent KBE-9103 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. is dissolved in a mixed solvent in which ethanol and water are mixed at a ratio of 9: 1 (weight ratio) to form a second retardation layer having a solid content of 1%. Alignment film composition for use was obtained.
[第一、及び第二の位相差層形成用組成物調製(組成物I~IV)]
以下に記載の重合性液晶化合物A、及び重合性液晶化合物Bの混合物に対して、レベリング剤(F-556;DIC社製)を0.1部、及び重合開始剤2-ジメチルアミノ-2-ベンジル-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン(イルガキュア369(Irg369);BASFジャパン株式会社製)を6部添加した。
更に、固形分濃度が13%となるようにN-メチル-2-ピロリドン(NMP)を溶剤として添加し、80℃で1時間攪拌することにより、第一、及び第二の位相差層形成用組成物を得た。尚、重合性液晶化合物A、及び重合性液晶化合物Bの混合物比率は、目的の波長分散値αに合わせて、表1に記載の通り添加しており、それぞれの組成物の名称を表1に記載の通りとする。
[Preparation of first and second retardation layer forming compositions (compositions I to IV)]
For the mixture of the polymerizable liquid crystal compound A and the polymerizable liquid crystal compound B described below, 0.1 part of a leveling agent (F-556; manufactured by DIC Corporation) and a polymerization initiator 2-dimethylamino-2- Six parts of benzyl-1- (4-morpholinophenyl) butane-1-one (Irgacure 369 (Irg369); manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) were added.
Further, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) is added as a solvent so that the solid content concentration becomes 13%, and the mixture is stirred at 80 ° C. for 1 hour to form the first and second retardation layers. The composition was obtained. The mixture ratios of the polymerizable liquid crystal compound A and the polymerizable liquid crystal compound B are added as shown in Table 1 according to the target wavelength dispersion value α, and the names of the respective compositions are shown in Table 1. As described.
重合性液晶化合物Aは特開2010-31223号公報に記載の方法で製造した。また、重合性液晶化合物Bは、特開2009-173893に記載の方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。 The polymerizable liquid crystal compound A was produced by the method described in JP-A-2010-31223. Further, the polymerizable liquid crystal compound B was produced according to the method described in JP-A-2009-173893. The molecular structure of each is shown below.
重合性液晶化合物A
Polymerizable liquid crystal compound A
重合性液晶化合物B
Polymerizable liquid crystal compound B
[第一、及び第二の位相差層形成用の液晶組成物調製(組成物V)]
以下に記載の液晶化合物LC242:PaliocolorLC242(BASF社登録商標)に対して、レベリング剤F-556を0.1部、及び重合開始剤Irg369を3部添加し、固形分濃度が13%となるようにシクロペンタノンを添加して、第一、及び第二の位相差層形成用の液晶組成物を得た。得られた液晶組成物の名称を“組成物V”とする。
液晶化合物LC242:PaliocolorLC242(BASF社登録商標)
[Preparation of liquid crystal composition for forming first and second retardation layers (Composition V)]
To the liquid crystal compound LC242: Palocolor LC242 (registered trademark of BASF) described below, 0.1 part of the leveling agent F-556 and 3 parts of the polymerization initiator Irg369 are added so that the solid content concentration becomes 13%. Cyclopentanone was added to the liquid crystal compositions for forming the first and second retardation layers. The name of the obtained liquid crystal composition is referred to as "composition V".
Liquid crystal compound LC242: Palocolor LC242 (registered trademark of BASF)
(実施例1)
[第一の位相差層の製造]
日本ゼオン株式会社製のCOPフィルム(ZF-14-50)上に、第一の位相差層形成用の配向膜組成物をバーコーター塗布し、80℃で1分間乾燥し、偏光UV照射装置(SPOT CURE SP-9;ウシオ電機株式会社製)を用いて、波長313nmにおける積算光量:100mJ/cm2で軸角度45°にて偏光UV露光を実施した。得られた第一の位相差層形成用配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、100nmであった。
続いて、第一の位相差層形成用配向膜に組成物Iを、バーコーターを用いて塗布し、120℃で1分間乾燥した後、高圧水銀ランプ(ユニキュアVB-15201BY-A、ウシオ電機株式会社製)を用いて、位相差層の組成物を塗布した面側から紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長365nmにおける積算光量:500mJ/cm2)することにより、第一の位相差層を形成した。得られた第一の位相差層形成用配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、2.3μmであった。
(Example 1)
[Manufacturing of first retardation layer]
A bar coater was applied to the alignment film composition for forming the first retardation layer on a COP film (ZF-14-50) manufactured by Nippon Zeon Corporation, dried at 80 ° C. for 1 minute, and a polarized UV irradiation device (polarized UV irradiation device). Using SPOT CURE SP-9 (manufactured by Ushio Denki Co., Ltd.), polarized UV exposure was performed at a wavelength of 313 nm, an integrated light intensity of 100 mJ / cm 2 , and an axial angle of 45 °. The film thickness of the obtained first alignment film for forming a retardation layer was measured with an ellipsometer and found to be 100 nm.
Subsequently, the composition I was applied to the first retardation layer forming alignment film using a bar coater, dried at 120 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (Unicure VB-15201BY-A, Ushio Electric Co., Ltd.). The first retardation layer is formed by irradiating ultraviolet rays from the surface side coated with the composition of the retardation layer (integrated light intensity at a wavelength of 365 nm under a nitrogen atmosphere: 500 mJ / cm 2 ). did. The film thickness of the obtained first alignment film for forming a retardation layer was measured with an ellipsometer and found to be 2.3 μm.
[第二の位相差層の製造]
日本ゼオン株式会社製のCOPフィルム(ZF-14-50)上に、第二の位相差層形成用の配向膜組成物をバーコーター塗布し、120℃で1分間乾燥し、第二の位相差層形成用配向膜を得た。得られた第二の位相差層形成用配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、200nmであった。
続いて、第二の位相差層形成用配向膜に組成物Iを、バーコーターを用いて塗布し、120℃で1分間乾燥した後、高圧水銀ランプ(ユニキュアVB-15201BY-A、ウシオ電機株式会社製)を用いて、位相差層の組成物を塗布した面側から紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長365nmにおける積算光量:500mJ/cm2)することにより、第二の位相差層を形成した。得られた第二の位相差層形成用配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、1.2μmであった。
[Manufacturing of second retardation layer]
A alignment film composition for forming a second retardation layer was coated on a COP film (ZF-14-50) manufactured by Nippon Zeon Corporation with a bar coater, dried at 120 ° C. for 1 minute, and the second retardation was formed. An alignment film for layer formation was obtained. The film thickness of the obtained second alignment film for forming a retardation layer was measured with an ellipsometer and found to be 200 nm.
Subsequently, the composition I was applied to the alignment film for forming the second retardation layer using a bar coater, dried at 120 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (Unicure VB-15201BY-A, Ushio Electric Co., Ltd.). A second retardation layer is formed by irradiating ultraviolet rays from the surface side coated with the composition of the retardation layer (integrated light intensity at a wavelength of 365 nm under a nitrogen atmosphere: 500 mJ / cm 2 ). did. The film thickness of the obtained second alignment film for forming a retardation layer was measured with an ellipsometer and found to be 1.2 μm.
[第一の位相差層及び第二の位相差層のRe測定]
上記方法にて製造した第一の位相差層及び第二の位相差層の面内位相差値(Re1(λ)およびRe2(λ))は基材であるシクロオレフィンポリマーフィルムには位相差がない事を確認したうえで、測定機(KOBRA-WR、王子計測機器社製)により、450nm、550nmおよび650nmの波長λでそれぞれ測定した。得られた結果を表2に示す。
[Re measurement of the first retardation layer and the second retardation layer]
The in-plane retardation values (Re1 (λ) and Re2 (λ)) of the first retardation layer and the second retardation layer produced by the above method have a retardation in the cycloolefin polymer film as the base material. After confirming that there was no such substance, measurements were taken with a measuring device (KOBRA-WR, manufactured by Oji Measuring Instruments Co., Ltd.) at wavelengths λ of 450 nm, 550 nm and 650 nm, respectively. The results obtained are shown in Table 2.
[第一の位相差層及び第二の位相差層のRth測定]
上記方法にて製造した第一の位相差層及び第二の位相差層の厚み方向位相差値(Rth1(λ)およびRth2(λ))は基材であるシクロオレフィンポリマーフィルムには位相差がない事を確認したうえで、エリプソメータによりサンプルへの光の入射角を変えて測定した。また、450nm及び550nmの波長λにおける平均屈折率は屈折率計(株式会社アタゴ製「多波長アッベ屈折計DR-M4」)を用いて測定した。得られた膜厚、平均屈折率、及びエリプソメータの測定結果から算出される450nm及び550nmの波長λにおけるRth1(λ)およびRth2(λ)を表2に示す。
[Rth measurement of the first retardation layer and the second retardation layer]
The thickness direction retardation values (Rth1 (λ) and Rth2 (λ)) of the first retardation layer and the second retardation layer produced by the above method have a retardation in the cycloolefin polymer film as the base material. After confirming that there was no light, the angle of incidence of light on the sample was changed by an ellipsometer. The average refractive index at wavelengths λ at 450 nm and 550 nm was measured using a refractometer (“Multi-wavelength Abbe refractometer DR-M4” manufactured by Atago Co., Ltd.). Table 2 shows Rth1 (λ) and Rth2 (λ) at wavelengths λ at 450 nm and 550 nm calculated from the obtained film thickness, average refractive index, and measurement results of the ellipsometer.
[Nz(λ)の算出]
第一の位相差層、及び第二の位相差層を積層した光学フィルムのNz(λ)は式(C)に準じて算出した。算出した結果を表2に示す。
[Calculation of Nz (λ)]
The Nz (λ) of the optical film in which the first retardation layer and the second retardation layer were laminated was calculated according to the equation (C). The calculated results are shown in Table 2.
なお、得られた第一の位相差層の屈折率nx1(λ)、ny1(λ)およびnz1(λ)は、波長λ=400~700nmの全域においてnx1(λ)>ny1(λ)≒nz1(λ)を満たす。また、第二の位相差層の屈折率nx2(λ)、ny2(λ)およびnz2(λ)は、波長λ=400~700nmの全域においてnz2(λ)>nx2(λ)≒ny2(λ)を満たす。 The refractive indexes nx1 (λ), ny1 (λ) and nz1 (λ) of the obtained first retardation layer are nx1 (λ)> ny1 (λ) ≈nz1 over the entire wavelength range of λ = 400 to 700 nm. Satisfy (λ). Further, the refractive indexes nx2 (λ), ny2 (λ) and nz2 (λ) of the second retardation layer are nz2 (λ)> nx2 (λ) ≈ ny2 (λ) over the entire wavelength range of λ = 400 to 700 nm. Meet.
[偏光板の製造]
平均重合度約2,400、ケン化度99.9モル%以上で厚さ75μmのポリビニルアルコールフィルムを、30℃の純水に浸漬した後、ヨウ素/ヨウ化カリウム/水の重量比が0.02/2/100の水溶液に30℃で浸漬してヨウ素染色を行った(ヨウ素染色工程)。ヨウ素染色工程を経たポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ化カリウム/ホウ酸/水の重量比が12/5/100の水溶液に、56.5℃で浸漬してホウ酸処理を行った(ホウ酸処理工程)。ホウ酸処理工程を経たポリビニルアルコールフィルムを8℃の純水で洗浄した後、65℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光子(延伸後の厚さ27μm)を得た。この際、ヨウ素染色工程とホウ酸処理工程において延伸を行った。かかる延伸におけるトータル延伸倍率は5.3倍であった。得られた偏光子と、ケン化処理されたトリアセチルセルロースフィルム(コニカミノルタ製 KC4UYTAC 40μm)とを水系接着剤を介してニップロールで貼り合わせた。得られた貼合物の張力を430N/mの保ちながら、60℃で2分間乾燥して、片面に保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを有する偏光板を得た。尚、前記水系接着剤は水100部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール(クラレ製 クラレポバール KL318)3部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂(住化ケムテックス製 スミレーズレジン650 固形分濃度30%の水溶液〕1.5部を添加して調製した。
[Manufacturing of polarizing plate]
After immersing a polyvinyl alcohol film with an average degree of polymerization of about 2,400, a saponification degree of 99.9 mol% or more and a thickness of 75 μm in pure water at 30 ° C., the weight ratio of iodine / potassium iodide / water is 0. It was immersed in an aqueous solution of 02/2/100 at 30 ° C. for iodine staining (iodine staining step). The polyvinyl alcohol film that had undergone the iodine dyeing step was immersed in an aqueous solution having a weight ratio of potassium iodide / boric acid / water of 12/5/100 at 56.5 ° C. to perform boric acid treatment (boric acid treatment step). ). The polyvinyl alcohol film that had undergone the boric acid treatment step was washed with pure water at 8 ° C. and then dried at 65 ° C. to obtain a substituent (thickness 27 μm after stretching) in which iodine was adsorbed and oriented on the polyvinyl alcohol. .. At this time, stretching was performed in the iodine dyeing step and the boric acid treatment step. The total draw ratio in such stretching was 5.3 times. The obtained polarizing element and a saponified triacetyl cellulose film (KC4UYTAC 40 μm manufactured by Konica Minolta) were bonded together with a nip roll via a water-based adhesive. While maintaining the tension of the obtained laminate at 430 N / m, it was dried at 60 ° C. for 2 minutes to obtain a polarizing plate having a triacetyl cellulose film as a protective film on one side. The water-based adhesive is 100 parts of water, 3 parts of carboxyl group-modified polyvinyl alcohol (Kuraray Poval KL318) and a water-soluble polyamide epoxy resin (Aqueous solution of Sumire's resin 650 solid content concentration 30% made by Sumika Chemtex). Prepared by adding 1.5 parts.
得られた偏光板について光学特性の測定を行った。測定は上記で得られた偏光板の偏光子面を入射面として分光光度計(V7100、日本分光製)にて実施した。得られた視感度補正単体透過率は42.1%、視感度補正偏光度は99.996%、単体色相aは -1.1、単体色相bは3.7であった。 The optical characteristics of the obtained polarizing plate were measured. The measurement was carried out with a spectrophotometer (V7100, manufactured by JASCO Corporation) using the polarizing element surface of the polarizing plate obtained above as an incident surface. The obtained luminosity factor correction single transmittance was 42.1%, the luminosity factor correction polarization degree was 99.996%, the single hue a was −1.1, and the single hue b was 3.7.
[楕円偏光板の製造]
まず、第一の位相差層の重合性液晶化合物塗布面に対してコロナ処理を実施した後、前述の方法にて製造された偏光板に対して、粘着剤(リンテック社製 感圧式粘着剤 5μm)を介して貼合した後、基材を剥離して偏光板と第一の位相差層の積層体を形成した。続いて、第二の位相差層の重合性液晶化合物塗布面に対してコロナ処理を実施した後、粘着剤(リンテック社製 感圧式粘着剤 5μm)を介して、偏光板と第一の位相差層の積層体の内の第一の位相差層と、第二の位相差層を貼合した。この後、基材を剥離して楕円偏光板を製造した。
[Manufacturing of elliptical polarizing plate]
First, a corona treatment was performed on the surface coated with the polymerizable liquid crystal compound of the first retardation layer, and then a pressure-sensitive adhesive (Lintec Corporation pressure-sensitive pressure-sensitive adhesive 5 μm) was applied to the polarizing plate manufactured by the above method. ), Then the substrate was peeled off to form a laminate of the polarizing plate and the first retardation layer. Subsequently, the surface coated with the polymerizable liquid crystal compound of the second retardation layer was subjected to corona treatment, and then the first phase difference from the polarizing plate via a pressure-sensitive adhesive (pressure-sensitive pressure-sensitive adhesive 5 μm manufactured by Lintec Corporation). The first retardation layer and the second retardation layer in the laminated body of the layers were bonded together. After that, the base material was peeled off to produce an elliptical polarizing plate.
[正面色相、及び斜方色相変化の確認]
得られた楕円偏光板を、粘着剤を介して鏡に貼合した後、正面から50cm離れて目視で観察して色相を確認した。また、仰角60°、方位角0~360°方向から50cm離れて目視で観察し、斜方の色相を確認した。確認した結果を表2に示す。
なお、正面色相、および斜方色相は以下のとおりである。
◎:明瞭な黒、〇:黒、△:赤、又は青味を帯びた黒、×:赤、又は青
[Confirmation of frontal hue and orthorhombic hue change]
The obtained elliptical polarizing plate was attached to a mirror via an adhesive, and then visually observed at a distance of 50 cm from the front to confirm the hue. In addition, the oblique hue was confirmed by visually observing at an elevation angle of 60 ° and an azimuth angle of 0 to 360 ° at a distance of 50 cm. The confirmed results are shown in Table 2.
The front hue and the orthorhombic hue are as follows.
◎: Clear black, 〇: Black, △: Red or bluish black, ×: Red or blue
(実施例2~30、比較例1~12)
組成物Iを表2の記載に従って、それぞれ組成物IIあるいは組成物IIIあるいは組成物IVあるいは組成物Vに変更した以外は実施例1と同様にして光学フィルム及び楕円偏光板を作製した。それぞれの測定結果を表2に示す。
なお、実施例2~実施例30で得られた第一の位相差層の屈折率nx1(λ)、ny1(λ)およびnz1(λ)は、波長λ=400~700nmの全域においてnx1(λ)>ny1(λ)≒nz1(λ)を満たす。また、第二の位相差層の屈折率nx2(λ)、ny2(λ)およびnz2(λ)は、波長λ=400~700nmの全域においてnz2(λ)>nx2(λ)≒ny2(λ)を満たす。
(Examples 2 to 30, Comparative Examples 1 to 12)
An optical film and an elliptical polarizing plate were prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition I was changed to the composition II, the composition III, the composition IV, or the composition V, respectively, according to the description in Table 2. The results of each measurement are shown in Table 2.
The refractive indexes nx1 (λ), ny1 (λ) and nz1 (λ) of the first retardation layer obtained in Examples 2 to 30 are nx1 (λ) over the entire wavelength λ = 400 to 700 nm. )> Ny1 (λ) ≈ nz1 (λ). Further, the refractive indexes nx2 (λ), ny2 (λ) and nz2 (λ) of the second retardation layer are nz2 (λ)> nx2 (λ) ≈ ny2 (λ) over the entire wavelength range of λ = 400 to 700 nm. Meet.
(実施例31)
組成物Iを表2の記載に従って変更し、且つ楕円偏光板の製造方法における第一の位相差層と第二の位相差層の積層順序を、先に偏光板と第二の位相差層を積層した後に、偏光板と第二の位相差層の積層体と第一の位相差層を積層する順序に変更した以外は、実施例1と同様にして光学フィルム及び楕円偏光板を作製した。測定結果を表2に示す。
なお、実施例31で得られた第一の位相差層の屈折率nx1(λ)、ny1(λ)およびnz1(λ)は、波長λ=400~700nmの全域においてnx1(λ)>ny1(λ)≒nz1(λ)を満たす。また、第二の位相差層の屈折率nx2(λ)、ny2(λ)およびnz2(λ)は、波長λ=400~700nmの全域においてnz2(λ)>nx2(λ)≒ny2(λ)を満たす。
(Example 31)
The composition I is changed according to the description in Table 2, and the stacking order of the first retardation layer and the second retardation layer in the method for manufacturing an elliptical polarizing plate is changed, and the polarizing plate and the second retardation layer are first arranged. After laminating, an optical film and an elliptical polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1 except that the order of laminating the laminated body of the polarizing plate, the second retardation layer, and the first retardation layer was changed. The measurement results are shown in Table 2.
The refractive indexes nx1 (λ), ny1 (λ) and nz1 (λ) of the first retardation layer obtained in Example 31 are nx1 (λ)> ny1 (nx1 (λ)> ny1 in the entire wavelength range of λ = 400 to 700 nm. λ) ≈nz1 (λ) is satisfied. Further, the refractive indexes nx2 (λ), ny2 (λ) and nz2 (λ) of the second retardation layer are nz2 (λ)> nx2 (λ) ≈ ny2 (λ) over the entire wavelength range of λ = 400 to 700 nm. Meet.
実施例に記載の第一の位相差層及び第二の位相差層を有する楕円偏光板は、正面色相、及び斜方色相が黒となり、優れた反射防止特性を有する。 The elliptical polarizing plate having the first retardation layer and the second retardation layer according to the embodiment has a black front hue and an orthorhombic hue, and has excellent antireflection characteristics.
Claims (16)
0.4≦Nz(450)≦0.6 (1)
0.4≦Nz(550)≦0.6 (2)
〔式中、Nz(450)は波長λ=450nmの光に対する光学フィルムのNz係数を、Nz(550)は波長λ=550nmの光に対する光学フィルムのNz係数をそれぞれ示し、波長λ(nm)の光に対する光学フィルムのNz係数Nz(λ)は
Nz(λ)=(nx(λ)-nz(λ))/(nx(λ)-ny(λ))
により示される。nx(λ)は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面対して平行な方向の主屈折率を表す。ny(λ)は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面対して平行であり、且つ、該nx(λ)の方向に対して直交する方向の屈折率を表す。nz(λ)は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。〕 An optical film having a first retardation layer and a second retardation layer and satisfying the relationships of the following equations (1) and (2).
0.4 ≤ Nz (450) ≤ 0.6 (1)
0.4 ≤ Nz (550) ≤ 0.6 (2)
[In the equation, Nz (450) indicates the Nz coefficient of the optical film for light having a wavelength λ = 450 nm, and Nz (550) indicates the Nz coefficient of the optical film for light having a wavelength λ = 550 nm. The Nz coefficient Nz (λ) of the optical film with respect to light is Nz (λ) = (nx (λ) -nz (λ)) / (nx (λ) -ny (λ)).
Indicated by. nx (λ) represents the main refractive index in the direction parallel to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the optical film. In the refractive index ellipsoid formed by the optical film, ny (λ) is a refraction in a direction parallel to the film plane with respect to light having a wavelength λ (nm) and perpendicular to the direction of the nx (λ). Represents a rate. nz (λ) represents the refractive index in the direction perpendicular to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the optical film. ]
第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ=400~700nmの範囲で、
nx1(λ)>ny1(λ)≒nz1(λ)
〔式中、nx1(λ)は第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ny1(λ)は第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、前記nx1(λ)の方向に対して直交する方向の波長λ(nm)の光に対する屈折率を表す。nz1(λ)は第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。〕
の関係を有し、
下記式(3)及び(4)の関係を満たす請求項1記載の光学フィルム。
Re1(450)/Re1(550)≦1.00 (3)
1.00≦Re1(650)/Re1(550) (4)
〔式中、Re1(450)は波長λ=450nmの光に対する第一位相差層の面内位相差値を、Re1(550)は波長λ=550nmの光に対する第一位相差層の面内位相差値を、Re1(650)は波長λ=650nmの光に対する第一位相差層の面内位相差値をそれぞれ示し、波長λnmの光に対する第一位相差層の面内位相差値Re1(λ)は、
Re1(λ)=(nx1(λ)-ny1(λ))×d1
で表される。ここで、d1は第一の位相差層の厚みを表す。〕 The first retardation layer is
In the refractive index ellipsoid formed by the first retardation layer, the wavelength is in the range of λ = 400 to 700 nm.
nx1 (λ)> ny1 (λ) ≒ nz1 (λ)
[In the equation, nx1 (λ) represents the main refractive index in the direction parallel to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the first retardation layer. In the refractive index ellipsoid formed by the first retardation layer, ny1 (λ) has a wavelength λ (nm) that is parallel to the film plane and orthogonal to the direction of nx1 (λ). Represents the refractive index of light. nz1 (λ) represents the refractive index in the direction perpendicular to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the first retardation layer. ]
Have a relationship with
The optical film according to claim 1, which satisfies the relationship of the following formulas (3) and (4).
Re1 (450) / Re1 (550) ≤ 1.00 (3)
1.00 ≤ Re1 (650) / Re1 (550) (4)
[In the equation, Re1 (450) is the in-plane retardation value of the first retardation layer for light having a wavelength λ = 450 nm, and Re1 (550) is the in-plane position of the first retardation layer for light having a wavelength λ = 550 nm. Re1 (650) indicates the in-plane retardation value of the first retardation layer for light having a wavelength of λ = 650 nm, and Re1 (λ) indicates the in-plane retardation value of the first retardation layer for light having a wavelength of λ nm. )teeth,
Re1 (λ) = (nx1 (λ) -ny1 (λ)) × d1
It is represented by. Here, d1 represents the thickness of the first retardation layer. ]
第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ=400~700nmの範囲で、
nz2(λ)>nx2(λ)≒ny2(λ)
〔式中、nz2(λ)は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。nx2(λ)は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、は波長λ(nm)の光に対するフィルム平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。ny2(λ)は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、前記nx2の方向に対して直交する方向の波長λ(nm)の光に対する屈折率を表す。ただし、nx2(λ)=ny2(λ)となる場合には、nx2(λ)はフィルム平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。〕
の関係を有し、
下記式(5)及び(6)の関係を満たす請求項1又は請求項2に記載の光学フィルム。
Rth2(450)/Rth2(550)≦1.00 (5)
1.00≦Rth2(650)/Rth2(550) (6)
〔式中、Rth2(450)は波長λ=450nmの光に対する厚み方向の位相差値を、Rth2(550)は波長λ=550nmの光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値を、Rth2(650)は波長650nmの光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値をそれぞれ表し、波長λ(nm)の光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値Rth2(λ)は、
Rth2(λ)=[(nx2(λ)+ny2(λ))/2-nz2(λ)]×d2
で表される。ここで、第二の位相差層が形成する屈折率楕円体においてnz2(λ)は波長λ(nm)におけるフィルム平面に対して垂直な方向の主屈折率を表し、((nx2(λ)+ny2(λ))/2)は、波長λ(nm)におけるフィルム平面での平均屈折率を表す。d2は第二の位相差層の厚みを表す。〕 The second retardation layer is
In the refractive index ellipsoid formed by the second retardation layer, in the wavelength range of λ = 400 to 700 nm,
nz2 (λ)> nx2 (λ) ≒ ny2 (λ)
[In the equation, nz2 (λ) represents the refractive index in the direction perpendicular to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the second retardation layer. In the refractive index ellipsoid formed by the second retardation layer, nx2 (λ) represents the maximum refractive index in the direction parallel to the film plane with respect to light having a wavelength of λ (nm). ny2 (λ) is a refractive index ellipsoid formed by the second retardation layer, with respect to light having a wavelength λ (nm) parallel to the film plane and orthogonal to the nx2 direction. Represents the refractive index. However, when nx2 (λ) = ny2 (λ), nx2 (λ) represents the refractive index in an arbitrary direction parallel to the film plane. ]
Have a relationship with
The optical film according to claim 1 or 2, which satisfies the relationship of the following formulas (5) and (6).
Rth2 (450) / Rth2 (550) ≤ 1.00 (5)
1.00 ≤ Rth2 (650) / Rth2 (550) (6)
[In the equation, Rth2 (450) is the phase difference value in the thickness direction for light having a wavelength λ = 450 nm, and Rth2 (550) is the phase difference value in the thickness direction for light having a wavelength λ = 550 nm. , Rth2 (650) represent the phase difference value in the thickness direction of the second retardation layer for light having a wavelength of 650 nm, respectively, and the phase difference value Rth2 in the thickness direction of the second retardation layer for light having a wavelength λ (nm). (Λ) is
Rth2 (λ) = [(nx2 (λ) + ny2 (λ)) / 2-nz2 (λ)] × d2
It is represented by. Here, in the refractive index ellipse formed by the second retardation layer, nz2 (λ) represents the main refractive index in the direction perpendicular to the film plane at the wavelength λ (nm), and ((nx2 (λ) + ny2). (Λ)) / 2) represents the average refractive index in the film plane at the wavelength λ (nm). d2 represents the thickness of the second retardation layer. ]
120nm≦Re1(550)≦170nm (7)
〔式中、Re1(550)は波長λ=550nmの光に対する第一位相差層の面内位相差値を表す。〕 The optical film according to any one of claims 1 to 3, wherein the first retardation layer further satisfies the relationship of the following formula (7).
120nm ≤ Re1 (550) ≤ 170nm (7)
[In the equation, Re1 (550) represents the in-plane retardation value of the first retardation layer with respect to light having a wavelength λ = 550 nm. ]
-100nm≦Rth2(550)≦-50nm (8)
〔式中、Rth2(550)は波長λ=550nmの光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値を表す。〕 The optical film according to any one of claims 1 to 4, wherein the second retardation layer further has optical characteristics represented by the formula (9).
-100nm ≤ Rth2 (550) ≤ -50nm (8)
[In the equation, Rth2 (550) represents the phase difference value in the thickness direction of the second phase difference layer with respect to light having a wavelength λ = 550 nm. ]
学積層体である請求項11又は12に記載の光学補償機能付き楕円偏光板。 The ellipse with an optical compensation function according to claim 11 or 12, which is an optical laminate in which a polarizing plate, an adhesive layer, a second retardation layer, an adhesive layer, and a first retardation layer are formed in this order. Polarizer.
(工程1-A)水平配向膜を形成した基材上に重合性液晶化合物を塗布した後に、水平配向した状態で重合させることによって位相差層を形成させる工程と、
(工程1-B)垂直配向膜を形成した基材上に重合性液晶化合物を塗布した後に、垂直配向した状態で重合させることによって第二の位相差層を形成させる工程と、
(工程2)粘接着剤を介して該第一の位相差層の液晶重合体と該第二の位相差層の液晶重合体を各々基材から転写させて偏光板に積層する工程 The method for manufacturing an elliptical polarizing plate with an optical compensation function according to any one of claims 11 to 14, which includes all of the following steps.
(Step 1-A) A step of applying a polymerizable liquid crystal compound on a substrate on which a horizontally oriented film is formed and then polymerizing the compound in a horizontally oriented state to form a retardation layer.
(Step 1-B) A step of applying a polymerizable liquid crystal compound on a substrate on which a vertically oriented film is formed and then polymerizing the polymer in a vertically oriented state to form a second retardation layer.
(Step 2) A step of transferring the liquid crystal polymer of the first retardation layer and the liquid crystal polymer of the second retardation layer from a substrate via an adhesive and laminating them on a polarizing plate.
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