JP2021117269A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
1つの実施形態においては、上記積A×Eは100以下である。
1つの実施形態においては、上記第1の光学補償層はnx>nz>nyの屈折率特性を示し、上記第2の光学補償層はnz>nx=nyの屈折率特性を示す。
1つの実施形態においては、上記第2の光学補償層の厚み方向位相差Rth(550)は−70nm以上0nm未満である。
1つの実施形態においては、上記視認側基板および上記背面側基板は、Rth(450)>Rth(550)の関係を満足する。
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
(1)屈折率(nx、ny、nz)
「nx」は面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、「ny」は面内で遅相軸と直交する方向(すなわち、進相軸方向)の屈折率であり、「nz」は厚み方向の屈折率である。
(2)面内位相差(Re)
「Re(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した面内位相差である。Re(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Re=(nx−ny)×dによって求められる。例えば、「Re(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した面内位相差である。
(3)厚み方向の位相差(Rth)
「Rth(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した厚み方向の位相差である。Rth(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Rth=(nx−nz)×dによって求められる。例えば、「Rth(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した厚み方向の位相差である。
(4)Nz係数
Nz係数は、Nz=Rth/Reによって求められる。
(5)実質的に直交または平行
「実質的に直交」および「略直交」という表現は、2つの方向のなす角度が90°±10°である場合を包含し、好ましくは90°±7°であり、さらに好ましくは90°±5°である。「実質的に平行」および「略平行」という表現は、2つの方向のなす角度が0°±10°である場合を包含し、好ましくは0°±7°であり、さらに好ましくは0°±5°である。さらに、本明細書において単に「直交」または「平行」というときは、実質的に直交または実質的に平行な状態を含み得るものとする。
図1は、本発明の1つの実施形態による液晶表示装置の概略断面図である。図示例の液晶表示装置100は、液晶セル10と、液晶セル10の視認側に配置された第1の偏光子20と、液晶セル10の背面側に配置された第2の偏光子30と、液晶セル10と第1の偏光子20との間に配置された第1の光学補償層40と、液晶セル10と第2の偏光子30との間に配置された第2の光学補償層50と、を備える。第1の偏光子20の吸収軸方向と第2の偏光子30の吸収軸方向とは、代表的には、実質的に直交している。液晶セル10は、視認側基板11と、背面側基板11’と、視認側基板11および背面側基板11’に挟持された、電界が存在しない状態でホモジニアス配列に配向させた液晶分子を含む液晶層12と、を有する。実用的には、液晶表示装置100は、バックライトユニットをさらに備える。バックライトユニットは、光源60と導光板70とを含む。バックライトユニットは、任意の適切なその他の部材(例えば、拡散シート、プリズムシート)をさらに備え得る。図示例ではバックライトユニットはエッジライト方式であるが、バックライトユニットとしては任意の適切な他の方式(例えば、直下型)が採用されてもよい。
液晶セル10は、上記のとおり、視認側基板11と、背面側基板11’と、視認側基板および背面側基板に挟持された、電界が存在しない状態でホモジニアス配列に配向させた液晶分子を含む液晶層12と、を有する。一般的な構成においては、一方の基板(代表的には、視認側基板11)に、カラーフィルター及びブラックマトリクスが設けられており、他方の基板(代表的には、背面側基板11’)に、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子と、このスイッチング素子にゲート信号を与える走査線及びソース信号を与える信号線と、画素電極及び対向電極とが設けられている。上記基板の間隔(セルギャップ)は、スペーサー等によって制御されている。上記基板の液晶層と接する側には、例えば、ポリイミドからなる配向膜等を設けることができる。
第1の偏光子および第2の偏光子(以下、まとめて単に偏光子と称する場合がある)としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
D−1.単一層で構成される第1の光学補償層
第1の光学補償層40が単一層として構成される場合、第1の光学補償層は、上記のとおり代表的にはnx>nz>nyの屈折率特性を示す。nx>nz>nyの屈折率特性を示す第1の光学補償層を液晶セルの視認側に設けることにより、ホモジニアス配向の液晶セルを含む液晶表示装置において斜め方向の色相を良好に改善することができる。
D−2−1.第1の光学補償層
第1の光学補償層は、上記のとおり、第3の光学補償層との積層体と同等であってもよい(図2または図3)。この場合、第1の光学補償層40は代表的にはnz>nx>nyの屈折率特性を示す。このような屈折率特性を示す層(フィルム)は、「正の二軸プレート」、「ポジティブBプレート」等と称される場合がある。
第3の光学補償層42は、上記のとおり代表的にはnx>ny≧nzの屈折率特性を示し得る。図2に示すように第1の光学補償層40の視認側に第3の光学補償層42が配置される場合、第3の光学補償層は代表的にはnx>ny>nzの屈折率特性を示し、第1の光学補償層40の遅相軸方向と第3の光学補償層42の遅相軸方向とは、代表的には実質的に平行である。図3に示すように第1の光学補償層40の視認側と反対側に第3の光学補償層42が配置される場合、第3の光学補償層は代表的にはnx>ny=nzの屈折率特性を示し、第1の光学補償層40の遅相軸方向と第3の光学補償層42の遅相軸方向とは、代表的には実質的に直交している。いずれの場合であっても、第3の光学補償層のRe(550)は、好ましくは100nm〜200nmであり、より好ましくは110nm〜180nmであり、さらに好ましくは110nm〜160nmであり、特に好ましくは110nm〜140nmである。第3の光学補償層のNz係数は、好ましくは0.9〜1.5であり、より好ましくは0.9〜1.3である。第3の光学補償層のRe(550)およびNz係数がこのような範囲であれば、優れた色相および輝度特性が実現され、かつ、斜め方向の色相をさらに良好に改善することができる。
第2の光学補償層50は、上記のとおり、代表的にはnz>nx=nyの屈折率特性を示す。このような第2の光学補償層を液晶セルの背面側に設けることにより、上記の積A×Eを所定値以下とすることができ、結果として、ホモジニアス配向の液晶セルを含む液晶表示装置において斜め方向の黒輝度を十分に小さくすることができる。なお、このような屈折率特性を示す層(フィルム)は、「ポジティブCプレート」と称される場合がある。
光源60は、導光板70の側面に対応する位置に配置される。光源としては、例えば、複数のLEDが配列して構成されるLED光源が用いられ得る。導光板70としては、任意の適切な導光板が用いられ得る。例えば、横方向からの光を厚さ方向に偏向可能となるよう、背面側にレンズパターンが形成された導光板、背面側および/または視認側にプリズム形状等が形成された導光板が用いられる。好ましくは、背面側および視認側にプリズム形状が形成された導光板が用いられる。該導光板において、背面側に形成されたプリズム形状と、視認側に形成されたプリズム形状とは、その稜線方向が直交することが好ましい。このような導光板を用いれば、プリズムシート(図示せず)に対して、より集光されやすい光を入射させることができる。
光学シミュレーションを用いて算出した。光学シミュレーションには、シンテック社製、液晶表示器用シミュレーター「LCD MASTER Ver.8.1.0.3」を用い、LCD Masterの拡張機能を使用して、方位角45°および極角60°の方向における波長450nmから650nmの光の出射偏光の方位角を算出し、その最大値と最小値の差をAとした。また、方位角45°および極角60°の方向における、波長450nmから650nmの光の出射偏光の楕円率を算出し、その最大値と最小値の差をEとした。
(2)最大黒輝度
実施例および比較例で得られた液晶表示装置に黒画面を表示し、輝度計(AUTRONIC−MELCHERS社製、商品名「Conoscope」)を用いて極角60°、全方位(5°ごと)の輝度を求め、その最大値を最大黒輝度(単位:cd/m2)とした。
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、Tg約75℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み:100μm)を用い、樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール(重合度4200、ケン化度99.2モル%)およびアセトアセチル変性PVA(日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー」)を9:1で混合したPVA系樹脂100重量部に、ヨウ化カリウム13重量部を添加したものを水に溶かし、PVA水溶液(塗布液)を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記PVA水溶液を塗布して60℃で乾燥することにより、厚み13μmのPVA系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、130℃のオーブン内で縦方向(長手方向)に2.4倍に一軸延伸した(空中補助延伸処理)。
次いで、積層体を、液温40℃の不溶化浴(水100重量部に対して、ホウ酸を4重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(不溶化処理)。
次いで、液温30℃の染色浴(水100重量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを1:7の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液)に、最終的に得られる偏光子の単体透過率(Ts)が所望の値となるように濃度を調整しながら60秒間浸漬させた(染色処理)。
次いで、液温40℃の架橋浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを3重量部配合し、ホウ酸を5重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(架橋処理)。
その後、積層体を、液温70℃のホウ酸水溶液(ホウ酸濃度4重量%、ヨウ化カリウム濃度5重量%)に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向(長手方向)に総延伸倍率が5.5倍となるように一軸延伸を行った(水中延伸処理)。
その後、積層体を液温20℃の洗浄浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを4重量部配合して得られた水溶液)に浸漬させた(洗浄処理)。
その後、約90℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が約75℃に保たれたSUS製の加熱ロールに接触させた(乾燥収縮処理)。
このようにして、樹脂基材上に厚み約5μmの偏光子を形成し、樹脂基材/第1の偏光子の構成を有する積層体を得た。
得られた積層体の第1の偏光子表面(樹脂基材とは反対側の面)に、外側保護層としてHC−TACフィルムを貼り合わせた。次いで、樹脂基材を剥離し、外側保護層/第1の偏光子/の構成を有する視認側偏光板を得た。
製造例1と同様にして樹脂基材/第2の偏光子の構成を有する積層体を得た。得られた積層体の偏光子表面(樹脂基材とは反対側の面)に、内側保護層としてTACフィルム(厚み20μm)を貼り合わせた。次いで、樹脂基材を剥離し、当該剥離面に粘着剤層(厚み12μm)を介して反射型偏光子(厚み26μm)を貼り合わせ、反射型偏光子/第2の偏光子/内側保護層の構成を有する背面側偏光板を得た。
3−1.ポリアリレートの合成
撹拌装置を備えた反応容器中で、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン27.0kgおよびテトラブチルアンモニウムクロライド0.8kgを、水酸化ナトリウム溶液250Lに溶解させた。この溶液に、テレフタル酸クロライド13.5kgとイソフタル酸クロライド6.30kgを300Lのトルエンに溶解させた溶液を撹拌しながら一度に加え、室温で90分間撹拌して、重縮合溶液とした。その後、前記重縮合溶液を静置分離してポリアリレートを含んだトルエン溶液を分離した。ついで、前記分離液を、酢酸水で洗浄し、さらにイオン交換水で洗浄した後、メタノールに投入してポリアリレートを析出させた。析出したポリアリレートを濾過し、減圧下で乾燥させることで、白色のポリアリレート34.1kg(収率92%)を得た。
上記で得られたポリアリレート10kgをトルエン73kgに溶解させ、塗工液を調製した。その後、当該塗工液を、収縮性フィルム(縦一軸延伸ポリプロピレンフィルム、東京インキ(株)製、商品名「ノーブレン」)の上に直接塗工し、その塗膜を乾燥温度60℃で5分間、80℃で5分間乾燥させ、収縮性フィルム/複屈折層の積層体を形成した。得られた積層体を、同時2軸延伸機を用いて、延伸温度155℃でMD方向に収縮倍率0.70、TD方向に1.15倍延伸することで収縮性フィルム上に位相差フィルムを形成した。ついで、当該位相差フィルムを収縮性フィルムから剥離した。位相差フィルムの厚みは17.0μm、Re(550)=270nm、Rth(550)=135nm、Nz=0.5であった。この位相差フィルムを、単一層として構成される第1の光学補償層とした。
4−1.第1の光学補償層の作製
スチレン−無水マレイン酸共重合体(ノヴァ・ケミカル・ジャパン社製、商品名「ダイラーク D232」)のペレット状樹脂を、単軸押出機とTダイを用いて270℃で押し出し、シート状の溶融樹脂を冷却ドラムで冷却して厚み100μmのフィルムを得た。このフィルムを、ロール延伸機を用いて、温度130℃、延伸倍率1.6倍で、搬送方向に自由端一軸延伸して、搬送方向に進相軸を有するフィルムを得た(縦延伸工程)。得られたフィルムを、テンター延伸機を用いて、温度135℃で、フィルム幅が前記縦延伸後のフィルム幅の1.6倍となるように幅方向に固定端一軸延伸して、厚み50μmの二軸延伸位相差フィルムを得た(横延伸工程)。位相差フィルムは、Re(550)=36nm、Rth(550)=−90nm、Nz=−2.5であった。この位相差フィルムを第1の光学補償層とした。
市販のシクロオレフィン(ノルボルネン)系樹脂フィルムを定法により延伸し、位相差フィルムを得た。位相差フィルムの厚みは33μm、Re(550)=139nm、Rth(550)=139nm、Nz=1.0であった。この位相差フィルムを第3の光学補償層とした。
第1の光学補償層と第3の光学補償層とを粘着剤を介して積層した。このとき、互いの遅相軸が実質的に直交するようにして積層した。このようにして、第1の光学補償層と第3の光学補償層との積層体1を得た。
5−1.第1の光学補償層の作製
延伸条件を変更したこと以外は製造例4−1と同様にして、位相差フィルムを得た。位相差フィルムの厚みは5μm、Re(550)=35nm、Rth(550)=−85nm、Nz=−2.4であった。この位相差フィルムを第1の光学補償層とした。
市販のシクロオレフィン(ノルボルネン)系樹脂フィルムを定法により延伸し、位相差フィルムを得た。位相差フィルムの厚みは18μm、Re(550)=116nm、Rth(550)=139nm、Nz=1.2であった。この位相差フィルムを第3の光学補償層とした。
第1の光学補償層と第3の光学補償層とを粘着剤を介して積層した。このとき、互いの遅相軸が実質的に平行となるようにして積層した。このようにして、第1の光学補償層と第3の光学補償層との積層体2を得た。
下記化学式(I)(式中の数字65および35はモノマーユニットのモル%を示し、便宜的にブロックポリマー体で表している:重量平均分子量5000)で示される側鎖型液晶ポリマー20重量部、ネマチック液晶相を示す重合性液晶(BASF社製:商品名PaliocolorLC242)80重量部および光重合開始剤(チバスペシャリティーケミカルズ社製:商品名イルガキュア907)5重量部をシクロペンタノン200重量部に溶解して液晶塗工液を調製した。そして、垂直配向処理を施した基材フィルム(ノルボルネン系樹脂フィルム:日本ゼオン(株)製、商品名「ゼオネックス」)に当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、80℃で4分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。この液晶層に紫外線を照射し、液晶層を硬化させることにより、nz>nx=nyの屈折率特性を示す第2の光学補償層(厚み:1.10μm)を基材上に形成した。垂直配向処理の条件を変えて、異なるRth(550)を有する第2の光学補償層を作製した。
市販のトリアセチルセルロース(TAC)フィルムを用いて、異なるRth(550)を有するネガティブCプレート(nx=ny>nz)を作製した。
IPSモードの液晶表示装置(Apple社製、商品名「iPad(登録商標)」)から液晶セルを取り出した。当該液晶セルの両面に貼り付けられていた光学部材を取り除き、除去面(基板の外側表面)を洗浄した。これを液晶セル1として用いた。液晶セル1の視認側基板は、Re(450)=31.9nm、Re(550)=18.7nm、Re(650)=22.6nmであり;背面側基板は、Re(450)=9nm、Re(550)=0.3nm、Re(650)=−6.2nmであった。
IPSモードの液晶表示装置(Apple社製、商品名「iPhone(登録商標)」)から液晶セルを取り出した。当該液晶セルの両面に貼り付けられていた光学部材を取り除き、除去面(基板の外側表面)を洗浄した。これを液晶セル2として用いた。液晶セル2の視認側基板は、Re(450)=11.1nm、Re(550)=9.1nm、Re(650)=−0.1nmであり;背面側基板は、Re(450)=37.1nm、Re(550)=18.4nm、Re(650)=13.4nmであった。
製造例8の液晶セル1の視認側に、製造例3の位相差フィルム(第1の光学補償層)および製造例1の視認側偏光板をこの順に積層した。一方、液晶セル1の背面側に、製造例6の第2の光学補償層(Rth(550)=−20nm)を転写し、さらに、製造例2の背面側偏光板を積層した。積層は、視認側偏光板の偏光子の吸収軸方向と背面側偏光板の偏光子の吸収軸方向とが実質的に直交し、および、視認側偏光板の偏光子の吸収軸方向と第1の光学補償層の遅相軸方向とが実質的に直交するようにして行った。このようにして、液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは10であった。得られた液晶表示装置を上記(2)の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−40nmとしたこと以外は実施例1と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは80であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−60nmとしたこと以外は実施例1と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは210であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層の代わりにネガティブCプレート(Rth(550)=60nm)を用いたこと以外は実施例1と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは490であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
視認側偏光板の偏光子の吸収軸方向と第1の光学補償層の遅相軸方向とが実質的に平行となるように積層したこと以外は実施例1と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは10であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−40nmとしたこと以外は実施例4と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは80であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−60nmとしたこと以外は実施例4と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは210であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層の代わりにネガティブCプレート(Rth(550)=60nm)を用いたこと以外は実施例4と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは490であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
液晶セル1の代わりに製造例9の液晶セル2を用いたこと以外は実施例1と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは30であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−40nmとしたこと以外は実施例7と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは10であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−60nmとしたこと以外は実施例7と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは80であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層の代わりにネガティブCプレート(Rth(550)=40nm)を用いたこと以外は実施例7と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは520であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
ネガティブCプレートのRth(550)を60nmとしたこと以外は比較例3と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは850であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
視認側偏光板の偏光子の吸収軸方向と第1の光学補償層の遅相軸方向とが実質的に平行となるように積層したこと以外は実施例7と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは30であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−40nmとしたこと以外は実施例10と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは10であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−60nmとしたこと以外は実施例10と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは80であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層の代わりにネガティブCプレート(Rth(550)=40nm)を用いたこと以外は実施例10と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは520であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
ネガティブCプレートのRth(550)を60nmとしたこと以外は比較例5と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは850であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
製造例8の液晶セル1の視認側に、製造例4の積層体1および製造例1の視認側偏光板をこの順に積層した。このとき、積層体1は、第1の光学補償層が視認側となるようにして積層した。一方、液晶セル1の背面側に、製造例6の第2の光学補償層(Rth(550)=−20nm)を転写し、さらに、製造例2の背面側偏光板を積層した。積層は、視認側偏光板の偏光子の吸収軸方向と背面側偏光板の偏光子の吸収軸方向とが実質的に直交し、および、視認側偏光板の偏光子の吸収軸方向と第1の光学補償層の遅相軸方向とが実質的に平行となるようにして行った。このようにして、図3に示すような液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは10であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−40nmとしたこと以外は実施例13と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは80であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−60nmとしたこと以外は実施例13と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは210であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層の代わりにネガティブCプレート(Rth(550)=60nm)を用いたこと以外は実施例13と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは490であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
製造例8の液晶セル1の視認側に、製造例5の積層体2および製造例1の視認側偏光板をこの順に積層した。このとき、積層体2は、第1の光学補償層が液晶セル側となるようにして積層した。一方、液晶セル1の背面側に、製造例6の第2の光学補償層(Rth(550)=−20nm)を転写し、さらに、製造例2の背面側偏光板を積層した。積層は、視認側偏光板の偏光子の吸収軸方向と背面側偏光板の偏光子の吸収軸方向とが実質的に直交し、および、視認側偏光板の偏光子の吸収軸方向と第1の光学補償層の遅相軸方向とが実質的に直交するようにして行った。このようにして、図2に示すような液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは10であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−40nmとしたこと以外は実施例16と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは80であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−60nmとしたこと以外は実施例16と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは210であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層の代わりにネガティブCプレート(Rth(550)=60nm)を用いたこと以外は実施例16と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは490であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
液晶セル1の代わりに製造例9の液晶セル2を用いたこと以外は実施例13と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは30であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−40nmとしたこと以外は実施例19と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは10であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−60nmとしたこと以外は実施例19と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは80であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層の代わりにネガティブCプレート(Rth(550)=40nm)を用いたこと以外は実施例19と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは520であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
ネガティブCプレートのRth(550)を60nmとしたこと以外は比較例9と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは850であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
液晶セル1の代わりに製造例9の液晶セル2を用いたこと以外は実施例16と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは30であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−40nmとしたこと以外は実施例22と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは10であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層のRth(550)を−60nmとしたこと以外は実施例22と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは80であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
第2の光学補償層の代わりにネガティブCプレート(Rth(550)=40nm)を用いたこと以外は実施例22と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは520であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
ネガティブCプレートのRth(550)を60nmとしたこと以外は比較例11と同様にして液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の積A×Eは850であった。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
表1から明らかなように、積A×Eを所定値以下とすることにより(すなわち、液晶セルから斜め方向に出射される光の偏光方向と楕円率とを組み合わせて制御することにより)、液晶セルの種類を問わず、斜め方向の黒輝度が十分に小さい液晶表示装置を実現することができる。
11 視認側基板
11’ 背面側基板
20 第1の偏光子
30 第2の偏光子
40 第1の光学補償層
50 第2の光学補償層
100 液晶表示装置
101 液晶表示装置
102 液晶表示装置
IPSモードの液晶表示装置(Apple社製、商品名「iPad(登録商標)」)から液晶セルを取り出した。当該液晶セルの両面に貼り付けられていた光学部材を取り除き、除去面(基板の外側表面)を洗浄した。これを液晶セル1として用いた。液晶セル1の視認側基板は、Rth(450)=31.9nm、Rth(550)=18.7nm、Rth(650)=22.6nmであり;背面側基板は、Rth(450)=9nm、Rth(550)=0.3nm、Rth(650)=−6.2nmであった。
IPSモードの液晶表示装置(Apple社製、商品名「iPhone(登録商標)」)から液晶セルを取り出した。当該液晶セルの両面に貼り付けられていた光学部材を取り除き、除去面(基板の外側表面)を洗浄した。これを液晶セル2として用いた。液晶セル2の視認側基板は、Rth(450)=11.1nm、Rth(550)=9.1nm、Rth(650)=−0.1nmであり;背面側基板は、Rth(450)=37.1nm、Rth(550)=18.4nm、Rth(650)=13.4nmであった。
Claims (5)
- 視認側基板と、背面側基板と、該視認側基板および該背面側基板に挟持された、電界が存在しない状態でホモジニアス配列に配向させた液晶分子を含む液晶層と、を有する液晶セルと、
該液晶セルの視認側に配置された第1の偏光子と、
該液晶セルの背面側に配置された第2の偏光子と、
該液晶セルと該第1の偏光子との間に配置された第1の光学補償層と、
該液晶セルと該第2の偏光子との間に配置された第2の光学補償層と、を備え、
該視認側基板および該背面側基板の厚み方向位相差Rth(550)が−10nm〜100nmであり、
該液晶セルから極角60°方向および方位角45°方向に出射される450nmから650nmの光の偏光の方位角の最大値と最小値の差A(°)と該光の偏光の楕円率の最大値と最小値の差E(°)との積A×Eが300以下である、
液晶表示装置。 - 前記積A×Eが100以下である、請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記第1の光学補償層がnx>nz>nyの屈折率特性を示し、前記第2の光学補償層がnz>nx=nyの屈折率特性を示す、請求項1または2に記載の液晶表示装置。
- 前記第2の光学補償層の厚み方向位相差Rth(550)が−70nm以上0nm未満である、請求項3に記載の液晶表示装置。
- 前記視認側基板および前記背面側基板が、Rth(450)>Rth(550)の関係を満足する、請求項1から4のいずれかに記載の液晶表示装置。
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