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JP2021061688A - Electrostatic attraction device and manufacturing method of contact member - Google Patents

Electrostatic attraction device and manufacturing method of contact member Download PDF

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JP2021061688A
JP2021061688A JP2019184492A JP2019184492A JP2021061688A JP 2021061688 A JP2021061688 A JP 2021061688A JP 2019184492 A JP2019184492 A JP 2019184492A JP 2019184492 A JP2019184492 A JP 2019184492A JP 2021061688 A JP2021061688 A JP 2021061688A
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忠大 長谷川
丈裕 中島
Takehiro Nakajima
丈裕 中島
達彦 西田
Tatsuhiko Nishida
達彦 西田
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Abstract

【課題】粗面を有する対象物に対する吸着力を高め、対象物を確実に保持する。【解決手段】静電吸着装置EDは、ダンボール容器OBの表面OBfに倣って変形可能な接触面11fを有する、誘電体からなる接触部材11と、接触部材11に電圧を印加可能な一対の電極12、13と、を備え、接触面11fは、その面に沿う任意の一方向、及びこの一方向に交差しかつ当該面に沿う交差方向の双方に凹部と凸部とが連続する凹凸部15を有する。【選択図】図1PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance the suction force to an object having a rough surface and to hold the object securely. An electrostatic suction device ED includes a contact member 11 made of a dielectric having a contact surface 11f that can be deformed according to a surface OBf of a cardboard container OB, and a pair of electrodes capable of applying a voltage to the contact member 11. 12 and 13, and the contact surface 11f is a concavo-convex portion 15 in which concave portions and convex portions are continuous in any one direction along the surface and in both the intersecting directions along the one direction. Has. [Selection diagram] Fig. 1

Description

本発明は、静電吸着装置、及び接触部材の製造方法に関する。 The present invention relates to an electrostatic adsorption device and a method for manufacturing a contact member.

特許文献1に記載された静電吸着装置は、対象物(物品)の表面と接触するための変形可能な表面と、この表面に電圧を印加する一対の電極とを備えている。この装置では、一対の電極間の電位差により、対象物に対する静電吸着力(静電力)を生み出す、とされている。 The electrostatic adsorption device described in Patent Document 1 includes a deformable surface for contacting the surface of an object (article), and a pair of electrodes for applying a voltage to the surface. In this device, it is said that an electrostatic attraction force (electrostatic force) for an object is generated by a potential difference between a pair of electrodes.

特許5038405号公報Japanese Patent No. 5038405

引用文献1に記載された静電吸着装置について検証したところ、発明者らが必要とする吸着力(静電吸着力)を得ることができなかった。さらに、例えば、対象物がダンボール容器である場合、その表面には微細な凹凸があることから、特許文献1の静電吸着装置のような変形可能な表面であっても対象物との間に隙間が多く残り、対象物に対して十分な吸着力を得ることができないといった問題がある。また、ダンボール容器の内部に物品を収容することで重量が増大する。従って、ダンボール容器等のように表面が粗面である対象物に対しても、静電吸着による吸着力を大きくすることが望まれている。 When the electrostatic adsorption device described in Cited Document 1 was verified, the adsorption force (electrostatic adsorption force) required by the inventors could not be obtained. Further, for example, when the object is a cardboard container, the surface thereof has fine irregularities, so that even a deformable surface such as the electrostatic adsorption device of Patent Document 1 is placed between the object and the object. There is a problem that many gaps remain and it is not possible to obtain sufficient adsorption force for the object. In addition, the weight is increased by accommodating the article inside the cardboard container. Therefore, it is desired to increase the adsorption force by electrostatic adsorption even for an object having a rough surface such as a cardboard container.

本発明は、対象物に対する吸着力を高め、対象物を確実に保持することが可能な静電吸着装置、及びこの静電吸着装置に用いられる誘電体からなる接触部材の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention provides an electrostatic adsorption device capable of increasing the adsorption force on an object and reliably holding the object, and a method for manufacturing a contact member made of a dielectric used in the electrostatic adsorption device. With the goal.

本発明の態様に係る静電吸着装置は、対象物の表面に倣って変形可能な接触面を有する誘電体からなる接触部材と、接触部材に電圧を印加可能な一対の電極と、を備え、接触面は、その面に沿う任意の一方向、及びこの一方向に交差しかつ当該面に沿う交差方向の双方に凹部と凸部とが連続する凹凸部を有する。 The electrostatic adsorption device according to the aspect of the present invention includes a contact member made of a dielectric having a contact surface that can be deformed according to the surface of an object, and a pair of electrodes capable of applying a voltage to the contact member. The contact surface has a concavo-convex portion in which a concave portion and a convex portion are continuous in any one direction along the surface and in both the intersecting directions intersecting the one direction and along the surface.

また、一対の電極は、接触部材に接触して設けられ、接触部材とともに変形可能であってもよい。また、接触面は、凹凸部による表面粗さが対象物の表面の表面粗さよりも小さくてもよい。また、接触面は、凹凸部による表面粗さの最大高さ粗さRzが0.1μm以上7.0μm以下であってもよい。また、接触面は、凹凸部による表面粗さのモチーフパラメータにおける粗さモチーフの平均長さARが90以下であってもよい。また、接触面は、凹凸部における凹部と凸部との高さの差の平均値が、対象物の表面における当該平均値よりも小さくてもよい。また、対象物の表面を吸着した状態における対象物と接触面との間に生じるせん断摩擦力が3.0mN/mm以上であってもよい。また、接触面は、ショットブラストによる表面加工によって形成された転写面を有する転写型を用いることにより転写されて形成されてもよい。 Further, the pair of electrodes may be provided in contact with the contact member and may be deformable together with the contact member. Further, the surface roughness of the contact surface due to the uneven portion may be smaller than the surface roughness of the surface of the object. Further, the contact surface may have a maximum height roughness Rz of the surface roughness due to the uneven portion of 0.1 μm or more and 7.0 μm or less. Further, the contact surface may have an average length AR of the roughness motif of 90 or less in the motif parameter of the surface roughness due to the uneven portion. Further, on the contact surface, the average value of the height difference between the concave portion and the convex portion in the uneven portion may be smaller than the average value on the surface of the object. Further, the shear frictional force generated between the object and the contact surface in the state where the surface of the object is adsorbed may be 3.0 mN / mm 2 or more. Further, the contact surface may be formed by being transferred by using a transfer type having a transfer surface formed by surface processing by shot blasting.

本発明の態様に係る接触部材の製造方法は、対象物を吸着する静電吸着装置に備えられ、対象物の表面に倣って変形可能な接触面を有する接触部材を製造する方法であって、転写型の転写面に凹凸を形成することと、接触部材を形成するための液状の誘電体材料を転写面上に供給して固化させることと、転写面から接触部材を取り外すことと、を含む。 The method for manufacturing a contact member according to an aspect of the present invention is a method for manufacturing a contact member provided in an electrostatic adsorption device that adsorbs an object and having a contact surface that can be deformed according to the surface of the object. Includes forming irregularities on the transfer surface of the transfer type, supplying a liquid dielectric material for forming the contact member onto the transfer surface to solidify it, and removing the contact member from the transfer surface. ..

また、転写型の転写面に粒体を衝突させることにより、転写面に凹凸を形成することを含んでもよい。また、粒体は、素材がSUS(ステンレス鋼)又は鉄であり、粒径が0.2mmから0.3mmであってもよい。また、転写型は、転写面の外周側に、転写面から上方に突出しかつ転写面を取り囲む外枠部材を有しており、外枠部材の内側に液状の接触部材材料を供給することを含んでもよい。 Further, it may include forming irregularities on the transfer surface by colliding the particles with the transfer surface of the transfer type. The material of the granules may be SUS (stainless steel) or iron, and the particle size may be 0.2 mm to 0.3 mm. Further, the transfer type has an outer frame member that projects upward from the transfer surface and surrounds the transfer surface on the outer peripheral side of the transfer surface, and includes supplying a liquid contact member material to the inside of the outer frame member. But it may be.

本発明の態様に係る静電吸着装置によれば、一対の電極で接触部材に電圧を印加することによって、接触部材が静電力を発生し、対象物を吸着する。静電力によって対象物を吸着する状態では、対象物の表面が粗面である場合に、接触部材の接触面が対象物の表面に倣って変形するのに加え、接触面の凹凸部を構成する凹部と凸部とが対象物の表面の粗面の凹部と凸部とに馴染む割合が高く、接触面積が大きくなる。その結果、対象物に対する吸着力(静電吸着力)が大きくなり、対象物が強固に吸着される。従って、対象物が確実に保持される。 According to the electrostatic adsorption device according to the aspect of the present invention, by applying a voltage to the contact member with a pair of electrodes, the contact member generates an electrostatic force and adsorbs an object. In the state where the object is adsorbed by electrostatic force, when the surface of the object is rough, the contact surface of the contact member is deformed following the surface of the object, and in addition, the uneven portion of the contact surface is formed. The ratio of the concave portion and the convex portion to the concave portion and the convex portion on the rough surface of the surface of the object is high, and the contact area becomes large. As a result, the adsorption force (electrostatic adsorption force) on the object becomes large, and the object is firmly adsorbed. Therefore, the object is reliably held.

また、一対の電極が、接触部材に接触して設けられ、接触部材とともに変形可能である形態では、一対の電極が接触部材とともに変形するので、接触部材が対象物の表面に倣って変形する追従性を高めることができる。また、接触面において、凹凸部による表面粗さが対象物の表面の表面粗さよりも小さい形態では、この接触面が対象物の表面と接触した際に、凹凸部の凹部と凸部とが対象物の凹凸によく馴染むので、接触面と対象物との間に生じる隙間が小さく、接触面と対象物の表面との接触面積が大きくなり、対象物に対する吸着力が大きい。また、接触面において、凹凸部による表面粗さの最大高さ粗さRzが0.1μm以上7.0μm以下である形態では、接触面の凹凸部と対象物の表面との接触が良好である。また、接触面において、凹凸部による表面粗さのモチーフパラメータにおける粗さモチーフの平均長さARが90以下である形態では、接触面の凹凸部と対象物の表面との接触が良好である。 Further, in the form in which the pair of electrodes is provided in contact with the contact member and can be deformed together with the contact member, the pair of electrodes is deformed together with the contact member, so that the contact member is deformed following the surface of the object. It can enhance the sex. Further, in the form in which the surface roughness due to the uneven portion of the contact surface is smaller than the surface roughness of the surface of the object, when the contact surface comes into contact with the surface of the object, the concave portion and the convex portion of the uneven portion are targeted. Since it fits well to the unevenness of the object, the gap formed between the contact surface and the object is small, the contact area between the contact surface and the surface of the object is large, and the adsorption force to the object is large. Further, in the form in which the maximum height roughness Rz of the surface roughness due to the uneven portion on the contact surface is 0.1 μm or more and 7.0 μm or less, the contact between the uneven portion of the contact surface and the surface of the object is good. .. Further, in the form in which the average length AR of the roughness motif in the motif parameter of the surface roughness due to the uneven portion on the contact surface is 90 or less, the contact between the uneven portion of the contact surface and the surface of the object is good.

また、接触面において、凹凸部における凹部と凸部との高さの差の平均値が、対象物の表面における当該平均値よりも小さい形態では、接触面の凹凸部と対象物の表面との接触状態が良好である。また、対象物の表面を吸着した状態における対象物と接触面との間に生じるせん断摩擦力が3.0mN/mm以上である形態では、接触面が容易に対象物の表面から外れず、対象物が確実に保持される。また、接触面が、ショットブラストによる表面加工によって形成された転写面を有する転写型を用いることにより転写されて形成される形態では、適切な凹凸部を持つ接触面が実現される。また、接触部材を保持する保持部材をさらに備え、保持部材が、接触部材を保持する保持面を有する形態では、接触部材が保持面に保持されるので、変形可能な接触部材を確実に保持しつつ、対象物にバランスよく接触面が接触する。 Further, in a form in which the average value of the height difference between the concave portion and the convex portion on the contact surface is smaller than the average value on the surface of the object, the uneven portion of the contact surface and the surface of the object The contact condition is good. Further, in the form in which the shear frictional force generated between the object and the contact surface in the state where the surface of the object is adsorbed is 3.0 mN / mm 2 or more, the contact surface does not easily come off from the surface of the object. The object is securely held. Further, in the form in which the contact surface is transferred and formed by using a transfer mold having a transfer surface formed by surface processing by shot blasting, a contact surface having an appropriate uneven portion is realized. Further, in a form in which a holding member for holding the contact member is further provided and the holding member has a holding surface for holding the contact member, the contact member is held by the holding surface, so that the deformable contact member is reliably held. At the same time, the contact surface comes into contact with the object in a well-balanced manner.

本発明の態様に係る接触部材の製造方法によれば、転写面上に供給した液状の誘電体材料が固化することにより接触部材が形成され、この接触部材には、転写面に形成された凹凸が転写される。その結果、凹凸部を有する接触面を備えた接触部材を容易に形成できる。 According to the method for manufacturing a contact member according to an aspect of the present invention, a contact member is formed by solidifying the liquid dielectric material supplied on the transfer surface, and the contact member has irregularities formed on the transfer surface. Is transcribed. As a result, a contact member having a contact surface having an uneven portion can be easily formed.

また、転写型の転写面に粒体を衝突させることにより、転写面に凹凸を形成することを含む形態では、転写面の凹凸を容易に形成できる。また、粒体の素材がSUS又は鉄であり、粒径が0.2mmから0.3mmである形態では、転写面の凹凸を精度よく形成できる。また、転写型が、転写面の外周側に、転写面から上方に突出しかつ転写面を取り囲む外枠部材を有しており、外枠部材の内側に液状の誘電体材料を供給することを含む形態では、接触部材の接触面に所定の凹凸部を形成させつつ、外枠部材によって接触部材の外周を規定できる。また、外枠部材の高さによって接触部材の厚さを容易に規定できる。 Further, in a form including forming irregularities on the transfer surface by colliding the particles with the transfer surface of the transfer type, the irregularities on the transfer surface can be easily formed. Further, in the form in which the material of the granules is SUS or iron and the particle size is 0.2 mm to 0.3 mm, the unevenness of the transfer surface can be formed with high accuracy. Further, the transfer type includes an outer frame member that projects upward from the transfer surface and surrounds the transfer surface on the outer peripheral side of the transfer surface, and supplies a liquid dielectric material to the inside of the outer frame member. In the embodiment, the outer circumference of the contact member can be defined by the outer frame member while forming a predetermined uneven portion on the contact surface of the contact member. Further, the thickness of the contact member can be easily defined by the height of the outer frame member.

実施形態に係る静電吸着装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the electrostatic adsorption device which concerns on embodiment. 静電吸着装置における接触部材の接触面に形成された凹凸部の断面の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the cross section of the concavo-convex portion formed on the contact surface of the contact member in an electrostatic adsorption device. 静電吸着装置における一対の電極の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of a pair of electrodes in an electrostatic adsorption device. 接触部材の製造方法の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the manufacturing method of a contact member. 接触部材の製造方法において用いられる転写型の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the transfer type used in the manufacturing method of a contact member. 転写型を形成するための型材を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the mold material for forming a transfer mold. 型材の上面にショットブラストで加工を施し、転写型の転写面を形成している状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which performed the processing by shot blasting on the upper surface of a mold material, and formed the transfer surface of a transfer type. 転写型の転写面上に接触部材材料を供給した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which supplied the contact member material on the transfer surface of a transfer type. 転写面上において接触部材材料が固化することにより接触部材が作成された状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which made the contact member by solidifying the contact member material on the transfer surface. 転写型の転写面から接触部材を取り出す状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which takes out the contact member from the transfer surface of a transfer type. 実施例1の条件で形成された吸着パッドの接触面を示す観察像である。It is an observation image which shows the contact surface of the suction pad formed under the condition of Example 1. FIG. 比較例2の条件で形成された吸着パッドの接触面を示す観察像である。It is an observation image which shows the contact surface of the suction pad formed under the condition of the comparative example 2. 比較例3の条件で形成された吸着パッドの接触面を示す観察像である。It is an observation image which shows the contact surface of the suction pad formed under the condition of the comparative example 3. FIG. 実施例において、ダンボール容器を静電吸着した状態における電極のパターン毎のせん断摩擦力を示す図である。It is a figure which shows the shear friction force for each pattern of the electrode in the state which electrostatically adsorbed the cardboard container in an Example.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。ただし、本発明はこの形態に限定されない。また、図面においては実施形態を説明するため、一部分を大きく又は強調して記載するなど適宜縮尺を変更して表現しており、実際の製品とは大きさ、形状等が異なっている場合がある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to this form. In addition, in order to explain the embodiment, the drawings are expressed by changing the scale as appropriate, such as by enlarging or emphasizing a part, and the size, shape, etc. may differ from the actual product. ..

図1は、実施形態に係る静電吸着装置EDの一例を示す図である。図1に示すように、本実施形態に係る静電吸着装置EDは、吸着パッドAPと、パッド保持部材PHと、電圧印加部PSと、を備える。静電吸着装置EDは、例えば、対象物としてのダンボール容器(対象物)OBを静電吸着する。静電吸着装置EDは、ダンボール容器OBを、吸着パッドAPで吸着して保持する。 FIG. 1 is a diagram showing an example of the electrostatic adsorption device ED according to the embodiment. As shown in FIG. 1, the electrostatic adsorption device ED according to the present embodiment includes an adsorption pad AP, a pad holding member PH, and a voltage application unit PS. The electrostatic adsorption device ED, for example, electrostatically adsorbs a cardboard container (object) OB as an object. The electrostatic suction device ED sucks and holds the cardboard container OB with the suction pad AP.

なお、静電吸着装置EDは、ダンボール容器OBに限らず、例えば、ベニヤ板やコンクリート等、粗面を有する対象物を吸着保持することが可能である。また、粗面を有した対象物に限らず、平滑な表面を有する対象物を吸着して保持するために、この静電吸着装置EDを用いることが可能である。 The electrostatic adsorption device ED is not limited to the cardboard container OB, and can adsorb and hold an object having a rough surface such as a veneer plate or concrete. Further, the electrostatic adsorption device ED can be used to adsorb and hold an object having a smooth surface as well as an object having a rough surface.

吸着パッドAPは、パッド端部AP1とパッド基部AP2とから構成され、パッド端部AP1は、接触部材11と、接触部材11に電圧を印加可能な一対の電極12、13と、を備える。一対の電極12、13は、パッド基部AP2と接触部材11との間に設けられている。接触部材11は、パッド基部AP2及び一対の電極12、13とは反対側に位置する一面側に、ダンボール容器OBの表面OBfに対向する接触面11fを有している。パッド端部AP1は、一対の電極12、13から接触面11fまでの層である。パッド基部AP2は、吸着パッドAPにおいてパッド端部AP1以外の層である。一対の電極12、13に電圧を印加することにより、接触部材11の接触面11fに静電吸着力が発生し、吸着パッドAPは、ダンボール容器OBを吸着する。接触部材11は、例えば矩形状の接触面11fを有しており、一辺が10mm〜500mm程度に設定されている。また、接触部材11は、矩形の他に円盤状に設けられてもよく、例えば外径10mm〜500mm程度に設定されてもよい。接触部材11の厚みは、例えば、厚さ30μm〜800μm程度に設定されている。本実施形態では、接触部材11は、例えば、80μm程度の厚さを有している。 The suction pad AP is composed of a pad end portion AP1 and a pad base portion AP2, and the pad end portion AP1 includes a contact member 11 and a pair of electrodes 12 and 13 capable of applying a voltage to the contact member 11. The pair of electrodes 12 and 13 are provided between the pad base AP2 and the contact member 11. The contact member 11 has a contact surface 11f facing the surface OBf of the cardboard container OB on one surface side located on the side opposite to the pad base AP2 and the pair of electrodes 12 and 13. The pad end AP1 is a layer from the pair of electrodes 12 and 13 to the contact surface 11f. The pad base AP2 is a layer other than the pad end AP1 in the suction pad AP. By applying a voltage to the pair of electrodes 12 and 13, an electrostatic suction force is generated on the contact surface 11f of the contact member 11, and the suction pad AP sucks the cardboard container OB. The contact member 11 has, for example, a rectangular contact surface 11f, and one side is set to about 10 mm to 500 mm. Further, the contact member 11 may be provided in a disk shape in addition to the rectangular shape, and may be set to, for example, an outer diameter of about 10 mm to 500 mm. The thickness of the contact member 11 is set to, for example, about 30 μm to 800 μm. In the present embodiment, the contact member 11 has a thickness of, for example, about 80 μm.

接触部材11は、少なくとも接触面11fがダンボール容器OBの表面OBfに倣って変形可能である。本実施形態では、吸着パッドAPは、その全体が、ダンボール容器OBの表面OBfに倣って変形可能であるが、この形態に限定されない。例えば、接触部材11の接触面11fと一対の電極12、13とを結ぶ厚み方向(接触面11fに直交する方向)において、接触面11f側の一部のみが、ダンボール容器OBの表面OBfに倣って変形可能とされていてもよい。 At least the contact surface 11f of the contact member 11 can be deformed in accordance with the surface OBf of the cardboard container OB. In the present embodiment, the suction pad AP as a whole can be deformed according to the surface OBf of the cardboard container OB, but the suction pad AP is not limited to this embodiment. For example, in the thickness direction connecting the contact surface 11f of the contact member 11 and the pair of electrodes 12 and 13 (direction orthogonal to the contact surface 11f), only a part of the contact surface 11f side follows the surface OBf of the cardboard container OB. It may be deformable.

吸着パッドAPは、誘電体材料により形成され、誘電体としての性質と絶縁体としての性質とを兼ね備えている。吸着パッドAPは、一対の電極12、13に所定の電圧を印加することにより絶縁体及び導電体の双方に対して吸着可能である。例えば、約1012Ω・cmより大きな抵抗率を有する材料は、絶縁体として定義されてもよい。また、例えば、約1012Ω・cmより小さな抵抗率を有する材料は、導電体として定義されてもよい。また、吸着パッドAPは、ダンボール容器OBの表面OBfに倣って変形可能となる弾性、及び柔軟性を有する誘電体材料で形成されている。本実施形態では、後述する製造方法の都合上、吸着パッドAPをパッド端部AP1とパッド基部AP2とに分けて図示、説明しているが、パッド端部AP1及びパッド基部AP2に使用している誘電体材料は同一の材料である。 The adsorption pad AP is formed of a dielectric material and has both properties as a dielectric and properties as an insulator. The suction pad AP can suck on both the insulator and the conductor by applying a predetermined voltage to the pair of electrodes 12 and 13. For example, a material having a resistivity greater than about 10 12 Ω · cm may be defined as an insulator. Also, for example, a material having a resistivity less than about 10 12 Ω · cm may be defined as a conductor. Further, the suction pad AP is made of a dielectric material having elasticity and flexibility that can be deformed according to the surface OBf of the cardboard container OB. In the present embodiment, the suction pad AP is shown and described separately for the pad end AP1 and the pad base AP2 for the convenience of the manufacturing method described later, but it is used for the pad end AP1 and the pad base AP2. The dielectric material is the same material.

なお、誘電体材料は、形成された吸着パッドAPを弾性的に変形可能とする材料に限定されない。例えば、吸着パッドAPを形成する誘電体材料は、屈曲可能であるが実質的に弾性的に伸縮しない薄膜、層状体を形成するための材料が用いられてもよい。また、吸着パッドAPを形成する誘電体材料は、例えば、10MPa未満の弾性率、特に1MPa未満の弾性率を有する柔軟性を有しているのが好ましい。 The dielectric material is not limited to a material that makes the formed suction pad AP elastically deformable. For example, as the dielectric material for forming the adsorption pad AP, a material for forming a thin film or a layered body which is flexible but does not substantially elastically expand and contract may be used. Further, the dielectric material forming the adsorption pad AP preferably has, for example, a flexibility having an elastic modulus of less than 10 MPa, particularly an elastic modulus of less than 1 MPa.

このような誘電体材料としては、例えば、ゴム系材料、樹脂系材料等が挙げられる。より具体的には、吸着パッドAPを形成する誘電体材料としては、架橋性のゴム、非架橋性の熱可塑性エラストマ、軟質樹脂等が挙げられる。吸着パッドAPを形成する誘電体材料として用いられる架橋性のゴムには、例えば、天然ゴム(NR)、イソプレンゴム(IR)、ブタジエンゴム(BR)、スチレンブタジエンゴム(SBR)、ブチルゴム(IIR)、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、エチレンプロピレンジエンゴム(EPDM)、クロロプレンゴム(CR)、アクリルゴム(ACM)、クロロスルホルン化ポリエチレンゴム(CSM)、ウレタンゴム(U)、シリコーンゴム(Q)、フッ素ゴム(FKM)、エピクロルヒドリンゴム(CO)、多硫化ゴム(T)、ポリジメチルシロキサン(PDMS)等がある。 Examples of such a dielectric material include rubber-based materials and resin-based materials. More specifically, examples of the dielectric material forming the adsorption pad AP include crosslinkable rubber, non-crosslinkable thermoplastic elastomer, and soft resin. Examples of the crosslinkable rubber used as the dielectric material for forming the adsorption pad AP include natural rubber (NR), isoprene rubber (IR), butadiene rubber (BR), styrene butadiene rubber (SBR), and butyl rubber (IIR). , Acrylonitrile butadiene rubber (NBR), ethylene propylene diene rubber (EPDM), chloroprene rubber (CR), acrylic rubber (ACM), chlorosulfonated polyethylene rubber (CSM), urethane rubber (U), silicone rubber (Q), Fluoro rubber (FKM), epichlorohydrin rubber (CO), polysulfide rubber (T), polydimethylsiloxane (PDMS) and the like.

また、吸着パッドAPを形成する誘電体材料として用いられる非架橋性の熱可塑性エラストマには、例えば、スチレン系、オレフィン系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリイミド系、塩ビ系、フッ素系、アクリル系等の各種の熱可塑性エラストマ等が挙げられる。 The non-crosslinkable thermoplastic elastomer used as the dielectric material for forming the adsorption pad AP includes, for example, styrene-based, olefin-based, urethane-based, polyester-based, polyamide-based, polyimide-based, vinyl chloride-based, and fluorine-based. Examples thereof include various thermoplastic elastomers such as acrylics.

また、吸着パッドAPを形成する誘電体材料として用いられる軟質樹脂には、例えば、エチレン酢酸ビニル樹脂(EVA)、軟質ポリエステル樹脂、低密度ポリエチレン、ポリウレタン(PU)、ポリプロピレン(PP)、アクリル樹脂等の、それ自体が軟質である樹脂が挙げられ、さらに、各種の樹脂に可塑剤を添加して軟質化したもの等、種々の軟質樹脂等が適用可能である。 The soft resin used as the dielectric material for forming the adsorption pad AP includes, for example, ethylene vinyl acetate resin (EVA), soft polyester resin, low density polyethylene, polyurethane (PU), polypropylene (PP), acrylic resin and the like. However, a resin that is soft in itself can be mentioned, and various soft resins such as those obtained by adding a plasticizing agent to various resins to soften them can be applied.

また、吸着パッドAPを形成する誘電体材料には、ガラス繊維又は炭素繊維等を用いた繊維強化プラスチック(FRP)をはじめとする各種の複合材料、ガラス、セラミック等を含ませてもよい。 Further, the dielectric material forming the adsorption pad AP may include various composite materials such as fiber reinforced plastic (FRP) using glass fiber or carbon fiber, glass, ceramic and the like.

図2は、静電吸着装置EDにおける接触部材11の接触面11fに形成された凹凸部15の断面の一例を示す図である。図2に示すように、接触部材11の接触面11fは、凹凸部15を有する。凹凸部15は、接触面11fの面方向に対して垂直方向に窪む凹部15aと、接触面11fの面方向に対して垂直方向に突出する凸部15bと、を有している。これら凹部15a及び凸部15bは、接触面11fの全面にわたって形成されている。すなわち、凹部15a及び凸部15bは、接触面11fにおいて、その面に沿う任意の一方向と、この一方向に交差し、かつ当該面に沿う交差方向との双方に連続して形成されている。 FIG. 2 is a diagram showing an example of a cross section of the uneven portion 15 formed on the contact surface 11f of the contact member 11 in the electrostatic adsorption device ED. As shown in FIG. 2, the contact surface 11f of the contact member 11 has an uneven portion 15. The uneven portion 15 has a concave portion 15a that is recessed in a direction perpendicular to the surface direction of the contact surface 11f, and a convex portion 15b that protrudes in a direction perpendicular to the surface direction of the contact surface 11f. The concave portion 15a and the convex portion 15b are formed over the entire surface of the contact surface 11f. That is, the concave portion 15a and the convex portion 15b are continuously formed on the contact surface 11f in both an arbitrary direction along the surface and the intersecting direction intersecting the one direction and along the surface. ..

凹部15a及び凸部15bは、接触面11fの一方向及び交差方向に沿って規則的に連続して形成されてもよいし、規則性を有さず、不規則(ランダム)に形成されてもよい。このような凹凸部15を有する接触面11fは、後に詳述するように、ショットブラストによる表面加工によって形成された転写面51fを有する転写型TDを用い、転写型TDの転写面51fの転写パターンが転写されて形成されている。 The concave portion 15a and the convex portion 15b may be formed regularly and continuously along one direction and the intersecting direction of the contact surface 11f, or may be formed irregularly (randomly) without regularity. Good. As the contact surface 11f having such uneven portions 15, as will be described in detail later, a transfer type TD having a transfer surface 51f formed by surface processing by shot blasting is used, and a transfer pattern of the transfer surface 51f of the transfer type TD is used. Is transcribed and formed.

接触面11fは、凹凸部15による表面粗さが、対象物であるダンボール容器OBの表面OBfの表面粗さよりも小さいことが好ましい。その結果、接触面11fがダンボール容器OBの表面OBfに接触した際、凹部15a及び凸部15bがダンボール容器OBの表面OBfに倣うように変形し、接触面11fの凹凸部15とダンボール容器OBの表面OBfとの接触面積が増大する。この接触面積の増大により、表面OBfと凹凸部15との間に隙間が生じることが抑えられ、静電吸着力が大きくなる。 It is preferable that the surface roughness of the contact surface 11f due to the uneven portion 15 is smaller than the surface roughness of the surface OBf of the cardboard container OB which is the object. As a result, when the contact surface 11f comes into contact with the surface OBf of the cardboard container OB, the concave portion 15a and the convex portion 15b are deformed so as to imitate the surface OBf of the cardboard container OB, and the uneven portion 15 of the contact surface 11f and the cardboard container OB The contact area with the surface OBf increases. By increasing the contact area, it is possible to suppress the formation of a gap between the surface OBf and the uneven portion 15, and the electrostatic adsorption force is increased.

また、接触面11fは、凹凸部15による表面粗さの最大高さ粗さRzが、0.1μm以上7.0μm以下であることが好ましい。接触面11fにおける最大高さ粗さRzが0.1μm以上7.0μm以下とすることにより、対象物の表面が粗面であってもその表面と接触面11fとの接触面積が増大する。また、接触面11fにおける最大高さ粗さRzの、より好ましい範囲は、1.0μm以上5.0μm以下である。接触面11fにおける最大高さ粗さRzが1.0μm以上5.0μm以下であることにより、対象物の表面と接触面11fとの接触面積がより一層増大する。また、接触面11fにおける最大高さ粗さRzの、さらに好ましい範囲は、4.0μm以上5.0μm以下である。接触面11fにおける最大高さ粗さRzが4.0μm以上5.0μm以下であることにより、例えば、対象物がダンボール容器OBなどの表面OBf(粗面)に対して特に接触面積が増大する。 Further, it is preferable that the maximum height roughness Rz of the surface roughness of the contact surface 11f due to the uneven portion 15 is 0.1 μm or more and 7.0 μm or less. By setting the maximum height roughness Rz of the contact surface 11f to 0.1 μm or more and 7.0 μm or less, the contact area between the surface and the contact surface 11f increases even if the surface of the object is a rough surface. Further, a more preferable range of the maximum height roughness Rz on the contact surface 11f is 1.0 μm or more and 5.0 μm or less. When the maximum height roughness Rz on the contact surface 11f is 1.0 μm or more and 5.0 μm or less, the contact area between the surface of the object and the contact surface 11f is further increased. Further, a more preferable range of the maximum height roughness Rz on the contact surface 11f is 4.0 μm or more and 5.0 μm or less. When the maximum height roughness Rz on the contact surface 11f is 4.0 μm or more and 5.0 μm or less, for example, the contact area of the object with respect to the surface OBf (rough surface) of the cardboard container OB or the like is particularly increased.

また、接触面11fは、凹凸部15による表面粗さのモチーフパラメータ(JISBO631)における粗さモチーフの平均長さARが90以下であることが好ましい。この形態により、対象物の表面と凹凸部15との間に隙間が生じることが抑えられ、対象物の表面と接触面11fとの接触面積が増大する。また、接触面11fは、凹凸部15における凹部15aと凸部15bとの高さの差の平均値が、ダンボール容器OBの表面OBfにおける凹凸の高さの平均値よりも小さいことが好ましい。この形態により、対象物の表面と凹凸部15との間に大きな隙間が生じることが抑えられ、対象物の表面と接触面11fとの接触面積が増大する。 Further, it is preferable that the contact surface 11f has an average length AR of the roughness motif of 90 or less in the motif parameter (JISBO631) of the surface roughness due to the uneven portion 15. According to this form, it is possible to suppress the formation of a gap between the surface of the object and the uneven portion 15, and the contact area between the surface of the object and the contact surface 11f is increased. Further, it is preferable that the average value of the height difference between the concave portion 15a and the convex portion 15b in the concave-convex portion 15 of the contact surface 11f is smaller than the average value of the uneven height on the surface OBf of the cardboard container OB. According to this form, it is possible to prevent a large gap from being generated between the surface of the object and the uneven portion 15, and the contact area between the surface of the object and the contact surface 11f is increased.

このように、接触部材11の接触面11fには凹凸部15が形成されているため、この接触面11fが対象物であるダンボール容器OBの表面OBfに接触すると、凹部15a及び凸部15bが粗面である表面OBfに沿って変形する。従って、過度な隙間がない状態で(隙間が生じるのを抑えた状態)で、接触面11fと表面OBfとが接触する。 As described above, since the uneven portion 15 is formed on the contact surface 11f of the contact member 11, when the contact surface 11f comes into contact with the surface OBf of the corrugated cardboard container OB which is the object, the concave portion 15a and the convex portion 15b become rough. It deforms along the surface OBf, which is a surface. Therefore, the contact surface 11f and the surface OBf come into contact with each other without an excessive gap (a state in which a gap is suppressed).

接触面11fは、一対の電極12、13に電圧を印加することで発生する静電吸着力によって、ダンボール容器OBの表面OBfを吸着する。なお、接触面11fがダンボール容器OBの表面OBfを吸着した状態において、ダンボール容器OBと接触面11fとの間に生じるせん断摩擦力が3.0mN/mm以上となるように、接触部材11の材料が選定され、凹凸部15が形成されることが好ましい。このような接触面11fを有した吸着パッドAPは、対象物であるダンボール容器OBに対して高い静電吸着力を有する。 The contact surface 11f attracts the surface OBf of the cardboard container OB by the electrostatic adsorption force generated by applying a voltage to the pair of electrodes 12 and 13. In the state where the contact surface 11f adsorbs the surface OBf of the cardboard container OB, the contact member 11 is provided so that the shear frictional force generated between the cardboard container OB and the contact surface 11f is 3.0 mN / mm 2 or more. It is preferable that the material is selected and the uneven portion 15 is formed. The suction pad AP having such a contact surface 11f has a high electrostatic suction force with respect to the target cardboard container OB.

一対の電極12、13は、接触部材11に対して電圧を印加するために用いられる。一対の電極12、13は、図1に示すように、接触部材11とパッド基部AP2との間の境界面11g上に設けられている。なお、一対の電極12、13は、接触部材11中に埋没していてもよい。また、一対の電極12、13は、接触部材11ではなく、パッド基部AP2側に設けられ、パッド基部AP2にパッド端部AP1(この場合、接触部材11)を取り付けた際に、接触部材11の境界面11gと接触する形態であってもよい。さらに、一対の電極12、13は、パッド基部AP2中に埋没していてもよい。一対の電極12、13は、隙間(図3参照)を隔てて互いに対向して設けられている。一対の電極12、13の隙間には、絶縁体である接触部材11又はパッド基部AP2の一部が埋められている。その結果、一対の電極12、13の間には絶縁部が存在する。 The pair of electrodes 12 and 13 are used to apply a voltage to the contact member 11. As shown in FIG. 1, the pair of electrodes 12 and 13 are provided on the boundary surface 11g between the contact member 11 and the pad base AP2. The pair of electrodes 12 and 13 may be buried in the contact member 11. Further, the pair of electrodes 12 and 13 are provided not on the contact member 11 but on the pad base AP2 side, and when the pad end AP1 (in this case, the contact member 11) is attached to the pad base AP2, the contact member 11 It may be in contact with the boundary surface 11g. Further, the pair of electrodes 12 and 13 may be embedded in the pad base AP2. The pair of electrodes 12 and 13 are provided so as to face each other with a gap (see FIG. 3). A part of the contact member 11 or the pad base AP2, which is an insulator, is filled in the gap between the pair of electrodes 12 and 13. As a result, an insulating portion exists between the pair of electrodes 12 and 13.

図3は、静電吸着装置EDにおける一対の電極12、13の一例を示す平面図である。図3に示すように、一対の電極12、13は、それぞれ、電極基部12a、13aと、複数の電極部12b、13bと、を有している。電極基部12aと電極部12bのそれぞれと、電極基部13aと電極部13bのそれぞれとが、電気的に接続されている。複数の電極部12b、13bは、電極基部12a、13aが延びる電極幅方向Daに間隔をあけて設けられている。各電極部12b、13bは、電極幅方向Daに直交する電極長方向Dbに延びている。一方の電極12に形成された電極部12bは、電極基部12aから、他方の電極13の電極基部13aに向かって電極長方向Dbに延びている。他方の電極13に形成された電極部13bは、電極基部13aから、一方の電極12の電極基部12aに向かって電極長方向Dbに延びている。このように、一対の電極12、13は、それぞれクシ歯状であり、平面視において互いに対向するように配置されている。 FIG. 3 is a plan view showing an example of a pair of electrodes 12 and 13 in the electrostatic adsorption device ED. As shown in FIG. 3, the pair of electrodes 12 and 13 have electrode bases 12a and 13a and a plurality of electrode portions 12b and 13b, respectively. Each of the electrode base portion 12a and the electrode portion 12b, and each of the electrode base portion 13a and the electrode portion 13b are electrically connected. The plurality of electrode portions 12b and 13b are provided at intervals in the electrode width direction Da where the electrode base portions 12a and 13a extend. The electrode portions 12b and 13b extend in the electrode length direction Db orthogonal to the electrode width direction Da. The electrode portion 12b formed on one electrode 12 extends from the electrode base portion 12a toward the electrode base portion 13a of the other electrode 13 in the electrode length direction Db. The electrode portion 13b formed on the other electrode 13 extends from the electrode base portion 13a toward the electrode base portion 12a of one electrode 12 in the electrode length direction Db. As described above, the pair of electrodes 12 and 13 are comb-shaped, respectively, and are arranged so as to face each other in a plan view.

電極12の電極部12bは、電極13において電極幅方向Daで互いに隣り合う2つの電極部13bの間に配置されている。また、電極13の電極部13bは、電極12において電極幅方向Daで互いに隣り合う2つの電極部12bの間に配置されている。その結果、電極12の電極部12bと、電極13の電極部13bとは、電極幅方向Daに間隔をあけて交互に配置されている。 The electrode portion 12b of the electrode 12 is arranged between two electrode portions 13b adjacent to each other in the electrode width direction Da in the electrode 13. Further, the electrode portion 13b of the electrode 13 is arranged between two electrode portions 12b adjacent to each other in the electrode width direction Da in the electrode 12. As a result, the electrode portion 12b of the electrode 12 and the electrode portion 13b of the electrode 13 are alternately arranged at intervals in the electrode width direction Da.

一対の電極12、13において、電極幅方向Daにおいて互いに隣り合う電極部12b、13bが複数組設けられることが好ましい。また、一対の電極12、13において、電極幅方向Daにおいて互いに隣り合う電極部12b、13bを、3組以上備えることが好ましい。また、一対の電極12、13において、電極幅方向Daにおいて互いに隣り合う電極部12b、13bを6組以上備えることが特に好ましい。なお、一対の電極12、13において、電極幅方向Daにおいて互いに隣り合う電極部12b、13bの数(組数)は、吸着パッドAPの外径、対象物であるダンボール容器OBの重量、表面OBfの粗さ等に応じて適宜に選択される。 In the pair of electrodes 12 and 13, it is preferable that a plurality of sets of electrode portions 12b and 13b adjacent to each other in the electrode width direction Da are provided. Further, it is preferable that the pair of electrodes 12 and 13 are provided with three or more sets of electrode portions 12b and 13b adjacent to each other in the electrode width direction Da. Further, it is particularly preferable that the pair of electrodes 12 and 13 are provided with six or more sets of electrode portions 12b and 13b adjacent to each other in the electrode width direction Da. In the pair of electrodes 12 and 13, the number (number of pairs) of the electrode portions 12b and 13b adjacent to each other in the electrode width direction Da is the outer diameter of the suction pad AP, the weight of the cardboard container OB which is the object, and the surface OBf. It is appropriately selected according to the roughness of the corrugated cardboard.

また、一対の電極12、13において、接触部材11の接触面11fにおける外径の範囲内で、電極幅方向Daに互いに隣り合う電極部12b、13bの数(組数)を増やすため、電極部12b、13bの電極幅方向Daにおける幅寸法Wは小さいことが好ましい。例えば、電極部12b、13bの幅寸法Wは、10mm以下であることが好ましい。また、幅寸法Wにおいて、より好ましい寸法は8mm以下であり、特に好ましい寸法は6mm以下である。同様に、電極部12b、13bの数(組数)を増やすため、電極部12b、13bの電極幅方向Daにおいて隙間dは、小さいことが好ましい。例えば、電極部12b、13bの隙間dは、1mm以下であることが好ましい。さらに、隙間dのより好ましい寸法は、0.5mm以下であることが好ましい。 Further, in the pair of electrodes 12 and 13, in order to increase the number (number of sets) of the electrode portions 12b and 13b adjacent to each other in the electrode width direction Da within the range of the outer diameter of the contact surface 11f of the contact member 11, the electrode portions It is preferable that the width dimension W in the electrode width direction Da of 12b and 13b is small. For example, the width dimension W of the electrode portions 12b and 13b is preferably 10 mm or less. Further, in the width dimension W, a more preferable dimension is 8 mm or less, and a particularly preferable dimension is 6 mm or less. Similarly, in order to increase the number (number of sets) of the electrode portions 12b and 13b, it is preferable that the gap d is small in the electrode width direction Da of the electrode portions 12b and 13b. For example, the gap d between the electrode portions 12b and 13b is preferably 1 mm or less. Further, the more preferable size of the gap d is preferably 0.5 mm or less.

このような一対の電極12、13は、接触部材11の境界面11gに設けられ、接触部材11とともに変形可能であってもよい。このため、一対の電極12、13は、例えば、各種の金属材料を含む導電性材料が膜厚200μm以下の薄膜状であることが好ましい。 Such a pair of electrodes 12 and 13 may be provided on the boundary surface 11g of the contact member 11 and may be deformable together with the contact member 11. Therefore, for the pair of electrodes 12 and 13, for example, it is preferable that the conductive material including various metal materials is in the form of a thin film having a film thickness of 200 μm or less.

パッド保持部材PHは、図1に示すように、吸着パッドAPを保持する。パッド保持部材PHは、樹脂等の絶縁性材料又は非導電性の金属材料により形成されている。また、パッド保持部材PHを導電性の金属材料等で形成した場合、パッド保持部材PHと吸着パッドAPとの間に絶縁性材料を介在させる。パッド保持部材PHは、各種機械に取り付けられる取付部21を備えている。 As shown in FIG. 1, the pad holding member PH holds the suction pad AP. The pad holding member PH is formed of an insulating material such as resin or a non-conductive metal material. Further, when the pad holding member PH is made of a conductive metal material or the like, an insulating material is interposed between the pad holding member PH and the suction pad AP. The pad holding member PH includes a mounting portion 21 that can be mounted on various machines.

吸着パッドAPは、パッド保持部材PHに対して着脱可能であってもよい。この形態により、吸着パッドAPを交換できる。なお、吸着パッドAPは、パッド保持部材PHに対して例えば、剥離可能な接着剤等により貼り付けられる。 The suction pad AP may be detachable from the pad holding member PH. According to this form, the suction pad AP can be replaced. The suction pad AP is attached to the pad holding member PH with, for example, a peelable adhesive.

電圧印加部PSは、図1に示すように、吸着パッドAPの接触部材11に対して電圧を印加する。電圧印加部PSは、図示しない電源と電気的に接続されており、所定の電圧を一対の電極12、13に印加する。電圧印加部PSは、パッド保持部材PH内及びパッド基部AP2内に設けられた配線31A、31Bと、配線31A、31Bの先端に設けられたコネクタ32A、32Bと、を備える。コネクタ32A、32Bは、一対の電極12、13のそれぞれと電気的に接続される。 As shown in FIG. 1, the voltage application unit PS applies a voltage to the contact member 11 of the suction pad AP. The voltage application unit PS is electrically connected to a power source (not shown), and applies a predetermined voltage to the pair of electrodes 12 and 13. The voltage application unit PS includes wirings 31A and 31B provided in the pad holding member PH and pad base AP2, and connectors 32A and 32B provided at the tips of the wirings 31A and 31B. The connectors 32A and 32B are electrically connected to each of the pair of electrodes 12 and 13.

静電吸着装置EDは、図示しないコントローラにより動作が制御され、電圧印加部PSにおける電圧の印加についてもこのコントローラにより制御される。電圧印加部PSにより吸着パッドAPの一対の電極12、13を介して接触部材11に電圧が印加されると、接触部材11の接触面11fには静電力が発生する。接触部材11の接触面11fをダンボール容器OBの表面OBfに接触させた状態で、静電力を発生させることにより、ダンボール容器OBを接触部材11の接触面11fに吸着させることができる。 The operation of the electrostatic adsorption device ED is controlled by a controller (not shown), and the application of voltage in the voltage application unit PS is also controlled by this controller. When a voltage is applied to the contact member 11 via the pair of electrodes 12 and 13 of the suction pad AP by the voltage application unit PS, an electrostatic force is generated on the contact surface 11f of the contact member 11. By generating an electrostatic force while the contact surface 11f of the contact member 11 is in contact with the surface OBf of the cardboard container OB, the cardboard container OB can be attracted to the contact surface 11f of the contact member 11.

静電力によって静電吸着装置EDがダンボール容器OBを吸着した状態では、接触部材11の接触面11fが、ダンボール容器OBの表面OBfに倣って変形する。このとき、接触面11fの凹凸部15を構成する凹部15aと凸部15bとは、ダンボール容器OBの表面OBfを形成する粗面の微細な凹凸に倣った状態となり、ダンボール容器OBの表面OBfと接触面11fとの接触面積が増大する。その結果、ダンボール容器OBの表面OBfに対する吸着力が高くなり、吸着パッドAPがダンボール容器OBを強固に吸着する。 When the electrostatic suction device ED sucks the cardboard container OB by electrostatic force, the contact surface 11f of the contact member 11 is deformed following the surface OBf of the cardboard container OB. At this time, the concave portions 15a and the convex portions 15b forming the uneven portion 15 of the contact surface 11f are in a state of imitating the fine irregularities of the rough surface forming the surface OBf of the cardboard container OB, and are in a state of imitating the fine irregularities of the rough surface forming the surface OBf of the cardboard container OB. The contact area with the contact surface 11f increases. As a result, the suction force of the cardboard container OB on the surface OBf is increased, and the suction pad AP firmly sucks the cardboard container OB.

次に、上記したような静電吸着装置EDの吸着パッドAPの製造方法について説明する。図4は、接触部材11の製造方法の一例を示すフローチャートである。図5は、接触部材11の製造方法に用いられる転写型TDの一例を示す断面図である。図6は、転写型TDを形成するための型材55を示す断面図である。図7は、型材55の上面55aにショットブラストで加工を施し、転写型TDの転写面51fを形成している状態を示す断面図である。図4に示すように、接触部材11の製造方法は、転写型製造工程S1と、接触部材形成工程S2と、を含む。 Next, a method of manufacturing the suction pad AP of the electrostatic suction device ED as described above will be described. FIG. 4 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing the contact member 11. FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of a transfer type TD used in the method for manufacturing the contact member 11. FIG. 6 is a cross-sectional view showing a mold material 55 for forming a transfer type TD. FIG. 7 is a cross-sectional view showing a state in which the upper surface 55a of the mold material 55 is processed by shot blasting to form the transfer surface 51f of the transfer type TD. As shown in FIG. 4, the method for manufacturing the contact member 11 includes a transfer type manufacturing step S1 and a contact member forming step S2.

転写型製造工程S1は、吸着パッドAPの接触部材11を形成するための転写型TDを製造する工程である。図5に示すように、転写型TDは、例えば鉄、アルミ、SUS等の金属材料、ガラス板、樹脂板等からなる型本体51と、外枠部材52と、を備えている。型本体51は、所定の厚さを有した板状であり、その上面に、接触部材11の接触面11fを形成するための転写面51fを有している。転写面51fには、接触面11fの凹凸部15を構成する凹部15a及び凸部15bを転写により形成するための凹凸53が形成されている。 The transfer type manufacturing step S1 is a step of manufacturing a transfer type TD for forming the contact member 11 of the suction pad AP. As shown in FIG. 5, the transfer type TD includes a mold main body 51 made of, for example, a metal material such as iron, aluminum, and SUS, a glass plate, a resin plate, and the like, and an outer frame member 52. The mold body 51 has a plate shape having a predetermined thickness, and has a transfer surface 51f for forming the contact surface 11f of the contact member 11 on the upper surface thereof. The transfer surface 51f is formed with irregularities 53 for forming the concave portions 15a and the convex portions 15b forming the concave-convex portion 15 of the contact surface 11f by transfer.

外枠部材52は、型本体51上に設けられている。外枠部材52は、転写面51fの外周側に、転写面51fから上方に突出しかつ転写面51fを取り囲むように設けられている。この外枠部材52は、接触部材11の外形形状に応じて、その内側に平面視において矩形状の開口52aを有する。本実施形態において、外枠部材52は、平面視において矩形の枠状体である。外枠部材52の厚さ(転写面51fから上方への突出高さ)は、形成する接触部材11の厚さと同一又はほぼ同一である。すなわち、形成する接触部材11の厚さは、外枠部材52の厚さにより設定される。 The outer frame member 52 is provided on the mold body 51. The outer frame member 52 is provided on the outer peripheral side of the transfer surface 51f so as to project upward from the transfer surface 51f and surround the transfer surface 51f. The outer frame member 52 has a rectangular opening 52a inside the contact member 11 in a plan view, depending on the outer shape of the contact member 11. In the present embodiment, the outer frame member 52 is a rectangular frame-like body in a plan view. The thickness of the outer frame member 52 (height protruding upward from the transfer surface 51f) is the same as or substantially the same as the thickness of the contact member 11 to be formed. That is, the thickness of the contact member 11 to be formed is set by the thickness of the outer frame member 52.

図4に示すように、転写型製造工程S1は、凹凸形成工程S11と、外枠部材取付工程S12と、を有する。凹凸形成工程S11では、図6に示すように、型本体51の素材である型材55の平滑な上面55aに、凹凸53を形成する。図7に示すように、凹凸53は、例えば、ショットブラストで加工される。つまり、噴射ノズルNから多数の粒体(メディア)Mを空気や水等の流体とともに上面55aに吹き付け、粒体Mを上面55aに衝突させる。多数の粒体Mが高速で上面55aに衝突することにより、型材55の平滑な上面55aが窪み、凹凸53が形成され、型本体51が準備される。 As shown in FIG. 4, the transfer mold manufacturing step S1 includes a concavo-convex forming step S11 and an outer frame member mounting step S12. In the unevenness forming step S11, as shown in FIG. 6, the unevenness 53 is formed on the smooth upper surface 55a of the mold material 55, which is the material of the mold main body 51. As shown in FIG. 7, the unevenness 53 is processed by, for example, shot blasting. That is, a large number of granular materials (media) M are sprayed from the injection nozzle N together with a fluid such as air or water onto the upper surface 55a, and the granular materials M collide with the upper surface 55a. When a large number of granules M collide with the upper surface 55a at high speed, the smooth upper surface 55a of the mold material 55 is dented, the unevenness 53 is formed, and the mold body 51 is prepared.

上記したショットブラストで用いられる粒体として、例えば、ステンレス鋼又は鉄製の粒体が採用でき、粒体Mの粒径が例えば、0.2mm以上0.3mm以下であることが好ましい。また、用いられる粒体Mは、球状に限らず、例えば、円柱状等であってもよい。また、粒体Mは、一定の形状に揃っていることに限定されず、異なる形状が混合されてもよい。なお、粒体Mは、型本体51の素材、形成する凹凸53(接触部材11の凹凸部15)の表面粗さ等に応じて、上記の例示以外が用いられてもよい。 As the granules used in the above-mentioned shot blasting, for example, stainless steel or iron granules can be adopted, and the particle size of the granules M is preferably 0.2 mm or more and 0.3 mm or less, for example. Further, the granular material M used is not limited to a spherical shape, and may be, for example, a columnar shape or the like. Further, the granular material M is not limited to having a certain shape, and different shapes may be mixed. As the granular material M, other than the above examples may be used depending on the material of the mold body 51, the surface roughness of the unevenness 53 (concave and convex portion 15 of the contact member 11) to be formed, and the like.

また、凹凸53を形成する加工方法として、ショットブラストを用いることに限定されない。例えば、切削工具等の加工工具を用いて型材55の上面55aを切削することにより凹凸53が形成されてもよい。 Further, the processing method for forming the unevenness 53 is not limited to using shot blasting. For example, the unevenness 53 may be formed by cutting the upper surface 55a of the mold material 55 with a processing tool such as a cutting tool.

外枠部材取付工程S12では、図5に示すように、外枠部材52が型本体51に取り付けられる。この外枠部材取付工程S12では、例えば、予め所定形状に形成された外枠部材52を、型本体51上に接着、溶接、又はボルト止め等の各種の固定手段によって固定する。上記したように、外枠部材52の厚さによって接触部材11の厚さが規定されるので、外枠部材52の厚さは厳密に管理される。この外枠部材取付工程S12を経て、転写型TDが準備される。なお、本実施形態では、外枠部材52を用いる形態を例に挙げて説明しているが、外枠部材52を用いない形態であってもよい。例えば、後述する材料供給工程S21において、外枠部材52を用いずに転写型TDの回転数を調整することにより、接触部材11の厚さを管理することができる In the outer frame member attaching step S12, the outer frame member 52 is attached to the mold body 51 as shown in FIG. In the outer frame member attaching step S12, for example, the outer frame member 52 formed in advance in a predetermined shape is fixed on the mold body 51 by various fixing means such as adhesion, welding, or bolting. As described above, since the thickness of the contact member 11 is defined by the thickness of the outer frame member 52, the thickness of the outer frame member 52 is strictly controlled. The transfer type TD is prepared through the outer frame member attaching step S12. In this embodiment, the embodiment in which the outer frame member 52 is used is described as an example, but the embodiment in which the outer frame member 52 is not used may be used. For example, in the material supply step S21 described later, the thickness of the contact member 11 can be controlled by adjusting the rotation speed of the transfer type TD without using the outer frame member 52.

図8は、転写型TDの転写面51f上に、液状の誘電体材料(パッド形成材料、接触部材形成材料)を供給した状態を示す断面図である。図9は、転写面51f上において誘電体材料が固化することにより接触部材11が作成された状態を示す断面図である。図10は、転写型TDの転写面51fから接触部材11を取り出す状態を示す断面図である。転写型TDの製造後、接触部材形成工程S2では、転写型TDを用いて接触部材11が作成される。図4に示すように、接触部材形成工程S2は、材料供給工程S21と、材料固化工程S22と、接触部材取り出し工程S23と、を有する。 FIG. 8 is a cross-sectional view showing a state in which a liquid dielectric material (pad forming material, contact member forming material) is supplied on the transfer surface 51f of the transfer type TD. FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state in which the contact member 11 is created by solidifying the dielectric material on the transfer surface 51f. FIG. 10 is a cross-sectional view showing a state in which the contact member 11 is taken out from the transfer surface 51f of the transfer type TD. After manufacturing the transfer type TD, in the contact member forming step S2, the contact member 11 is produced using the transfer type TD. As shown in FIG. 4, the contact member forming step S2 includes a material supply step S21, a material solidification step S22, and a contact member take-out step S23.

材料供給工程S21では、図8に示すように、転写型TDの転写面51f上に、液状の誘電体材料DMを供給する。誘電体材料DMは、外枠部材52の開口52aから内側の転写面51f上に供給される。誘電体材料DMは、外枠部材52の上端と同じ高さ以上となる量が供給される。材料供給工程S21では、例えば、スピンコータ法が用いられてもよい。誘電体材料DMは、ディスペンサDにより転写面51f上に供給される。スピンコータ法では、転写型TDが中心軸C周りに回転し、供給された誘電体材料DMが遠心力によって転写面51f上で拡がる。スピンコータ法を用いることにより、転写面51f上において誘電体材料DMが均一に拡がる。なお、材料供給工程S21は、スピンコータ法に代えて、スプレーコータ等、他の方法・装置が用いられてもよい。これらの装置を用いることによって、接触部材11の膜厚を、薄く均一に成形できる。静電吸着装置EDにおいて、電極12、13から接触面11fまでの距離(すなわち接触部材11の膜厚)が、薄いほど静電吸着力は向上する。 In the material supply step S21, as shown in FIG. 8, the liquid dielectric material DM is supplied onto the transfer surface 51f of the transfer type TD. The dielectric material DM is supplied onto the inner transfer surface 51f from the opening 52a of the outer frame member 52. The dielectric material DM is supplied in an amount equal to or higher than the upper end of the outer frame member 52. In the material supply step S21, for example, the spin coater method may be used. The dielectric material DM is supplied on the transfer surface 51f by the dispenser D. In the spin coater method, the transfer type TD rotates around the central axis C, and the supplied dielectric material DM spreads on the transfer surface 51f by centrifugal force. By using the spin coater method, the dielectric material DM spreads uniformly on the transfer surface 51f. In the material supply step S21, another method / apparatus such as a spray coater may be used instead of the spin coater method. By using these devices, the film thickness of the contact member 11 can be formed thinly and uniformly. In the electrostatic adsorption device ED, the thinner the distance from the electrodes 12 and 13 to the contact surface 11f (that is, the film thickness of the contact member 11), the better the electrostatic adsorption force.

また、材料供給工程S21では、転写面51fと誘電体材料DMとの間に気泡が残るのを防止するため、転写型TDが振動されてもよいし、誘電体材料DMに向けてマイクロ波等が照射されてもよい。また、転写面51fにおける誘電体材料DMの濡れ性を向上させるために、転写面51f上に親液膜が被膜されてもよい。 Further, in the material supply step S21, in order to prevent bubbles from remaining between the transfer surface 51f and the dielectric material DM, the transfer type TD may be vibrated, or microwaves or the like may be generated toward the dielectric material DM. May be irradiated. Further, in order to improve the wettability of the dielectric material DM on the transfer surface 51f, a parent liquid film may be coated on the transfer surface 51f.

液状の誘電体材料DMは、転写面51fの中央部分に供給される。転写型TDが中心軸C周りに回転することにより、液状の誘電体材料DMは、転写面51f上において外周側に拡がっていく。また、液状の誘電体材料DMが拡がる領域は、外枠部材52によって規定されている。従って、外枠部材52の高さを変更することで、目的の膜厚を容易に変更できる。また、過剰な誘電体材料DMを転写面51f上に供給しても、その過剰分が外枠部材52の上端を乗り越えて外枠部材52の外側に溢れるので、所望の厚さの接触部材11が得られる。 The liquid dielectric material DM is supplied to the central portion of the transfer surface 51f. As the transfer type TD rotates around the central axis C, the liquid dielectric material DM spreads to the outer peripheral side on the transfer surface 51f. Further, the region where the liquid dielectric material DM spreads is defined by the outer frame member 52. Therefore, the target film thickness can be easily changed by changing the height of the outer frame member 52. Further, even if the excess dielectric material DM is supplied onto the transfer surface 51f, the excess over the upper end of the outer frame member 52 and overflows to the outside of the outer frame member 52, so that the contact member 11 having a desired thickness Is obtained.

材料固化工程S22では、転写面51f上に供給された誘電体材料DMが固化する。誘電体材料DMを固化するには、大気中において所定時間放置して自然乾燥させるだけでなく、誘電体材料DMに応じた温度条件で加熱等を行ってもよい。また、材料固化工程S22では、減圧雰囲気に設定されたチャンバ等に転写型TDを収容し、減圧乾燥させてもよい。図9に示すように、誘電体材料DMが固化することにより、転写面51f上の外枠部材52の内側において、転写面51fの凹凸53が転写された接触部材11が作成される。 In the material solidification step S22, the dielectric material DM supplied on the transfer surface 51f is solidified. In order to solidify the dielectric material DM, it may be left in the air for a predetermined time to be naturally dried, or may be heated or the like under temperature conditions corresponding to the dielectric material DM. Further, in the material solidification step S22, the transfer type TD may be housed in a chamber or the like set in a reduced pressure atmosphere and dried under reduced pressure. As shown in FIG. 9, by solidifying the dielectric material DM, a contact member 11 on which the unevenness 53 of the transfer surface 51f is transferred is created inside the outer frame member 52 on the transfer surface 51f.

接触部材取り出し工程S23では、図10に示すように、固化した接触部材11を、転写型TDの外枠部材52及び転写面51fから取り外す。取り出された接触部材11には、転写面51fの凹凸53が転写された凹凸部15を有する接触面11fが形成される。接触部材11を取り出した後の転写型TDには、再度液状の誘電体材料DMを供給することにより、次の接触部材11を作成することができる。すなわち、転写型TDは再利用できる。 In the contact member taking-out step S23, as shown in FIG. 10, the solidified contact member 11 is removed from the outer frame member 52 and the transfer surface 51f of the transfer type TD. The removed contact member 11 is formed with a contact surface 11f having an uneven portion 15 on which the uneven portion 53 of the transfer surface 51f is transferred. The next contact member 11 can be produced by supplying the liquid dielectric material DM again to the transfer type TD after the contact member 11 is taken out. That is, the transfer type TD can be reused.

なお、接触部材取り出し工程S23の前工程、又は後工程において、接触部材11の境界面11gに、一対の電極12、13を形成する電極形成工程を行う。この電極形成工程では、予め用意された電極12、13を接着剤等により境界面11gに貼り付けて一対の電極12、13を形成してもよいし、導電性のペーストを用いて境界面11gに電極12、13のパターンを作成し、接触部材11が溶融しない温度に加熱することで一対の電極12、13を形成してもよい。この電極形成工程を経て、パッド端部AP1が作成される。さらに、一対の電極12,13上にさらなる誘電体層(パッド基部AP2)を作成し、電極間を絶縁する。パッド基部AP2は、接触部材11と同一の誘電体材料DMにより作成され、その作成手法は任意である。また、パッド端部AP1に、予め用意されたパッド基部AP2を貼り付けてもよいし、パッド端部AP1上(一対の電極12,13上)に、液状の誘電体材料DMを供給してパッド基部AP2を作成してもよい。これらの工程を経て、吸着パッドAPが作成される。この後、図1に示すように、吸着パッドAPを、パッド保持部材PHに取り付けることで、静電吸着装置EDが製造される。 In the pre-process or post-process of the contact member taking-out step S23, an electrode forming step of forming a pair of electrodes 12 and 13 on the boundary surface 11g of the contact member 11 is performed. In this electrode forming step, the electrodes 12 and 13 prepared in advance may be attached to the boundary surface 11g with an adhesive or the like to form a pair of electrodes 12 and 13, or the boundary surface 11g may be formed by using a conductive paste. A pair of electrodes 12 and 13 may be formed by creating a pattern of the electrodes 12 and 13 and heating the contact member 11 to a temperature at which the contact members 11 do not melt. Through this electrode forming step, the pad end portion AP1 is produced. Further, a further dielectric layer (pad base AP2) is formed on the pair of electrodes 12 and 13, and the electrodes are insulated from each other. The pad base AP2 is made of the same dielectric material DM as the contact member 11, and the method of making the pad base AP2 is arbitrary. Further, a pad base AP2 prepared in advance may be attached to the pad end AP1, or a liquid dielectric material DM may be supplied onto the pad end AP1 (on the pair of electrodes 12 and 13) to supply the pad. The base AP2 may be created. Through these steps, the suction pad AP is created. After that, as shown in FIG. 1, the electrostatic suction device ED is manufactured by attaching the suction pad AP to the pad holding member PH.

出願人は、上記のような静電吸着装置EDについて、吸着力を評価する実験・検証を行った。その結果について説明する。まず、接触部材11を形成するための転写型TDを製作した。転写型TDの型材55として、SUS材からなる、外形□110mm、厚さ2mmのものを用意した。 The applicant conducted an experiment / verification to evaluate the adsorption force of the electrostatic adsorption device ED as described above. The result will be described. First, a transfer type TD for forming the contact member 11 was manufactured. As the mold material 55 of the transfer type TD, a material made of SUS material having an outer diameter of 110 mm and a thickness of 2 mm was prepared.

続いて、型材55の上面55aに、以下の加工を施した。
(実施例1)
粒体Mとして直径0.2mmの鉄球を使用し、0.5Mpaの圧力で型材55の上面55aに粒体Mを噴射させ、ショットブラストで加工を施した。
(実施例2)
粒体Mとして平均粒径300μmの硬鋼線(W−C材)を使用し、0.5Mpaの圧力で型材55の上面55aに粒体Mを噴射させ、ショットブラストで加工を施した。
Subsequently, the upper surface 55a of the mold material 55 was subjected to the following processing.
(Example 1)
An iron ball having a diameter of 0.2 mm was used as the granular material M, and the granular material M was injected onto the upper surface 55a of the mold material 55 at a pressure of 0.5 Mpa and processed by shot blasting.
(Example 2)
A hard steel wire (WC material) having an average particle diameter of 300 μm was used as the granular material M, and the granular material M was sprayed onto the upper surface 55a of the mold material 55 at a pressure of 0.5 Mpa and processed by shot blasting.

また、比較のため、同様の型材55の上面55aに、以下の加工を施したものを用意した。
(比較例1)
型材55の上面55aに対して鏡面仕上げを施した。
(比較例2)
型材55の上面55aに対してヘアライン仕上げを施した。
(比較例3)
粒体Mとして番手♯60のアルミナを使用し、0.5Mpaの圧力で型材55の上面55aに粒体Mを噴射させ、ショットブラストで加工を施した。
(比較例4)
粒体Mとして番手♯150のアルミナを使用し、0.5Mpaの圧力で型材55の上面55aに粒体Mを噴射させ、ショットブラストで加工を施した。
(比較例5)
粒体Mとして平均粒径500μmの硬鋼線(W−C材)を使用し、0.5Mpaの圧力で型材55の上面55aに粒体Mを噴射させ、ショットブラストで加工を施した。
Further, for comparison, the upper surface 55a of the same mold material 55 was prepared with the following processing.
(Comparative Example 1)
The upper surface 55a of the mold material 55 was mirror-finished.
(Comparative Example 2)
A hairline finish was applied to the upper surface 55a of the mold material 55.
(Comparative Example 3)
Alumina having a count of # 60 was used as the granular material M, and the granular material M was injected onto the upper surface 55a of the mold material 55 at a pressure of 0.5 Mpa and processed by shot blasting.
(Comparative Example 4)
Alumina having a count of # 150 was used as the granular material M, and the granular material M was injected onto the upper surface 55a of the mold material 55 at a pressure of 0.5 Mpa and processed by shot blasting.
(Comparative Example 5)
A hard steel wire (WC material) having an average particle diameter of 500 μm was used as the granular material M, and the granular material M was sprayed onto the upper surface 55a of the mold material 55 at a pressure of 0.5 Mpa and processed by shot blasting.

実施例1〜2、比較例1〜5により得られたそれぞれの型本体51に、外枠部材52を取り付けた。外枠部材52は、矩形105mm、厚さ(高さ)80μmのものを用いた。実施例1〜2、比較例1〜5において、各転写面51fを有する転写型TDを準備した。 An outer frame member 52 was attached to each of the mold bodies 51 obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 5. The outer frame member 52 used had a rectangular shape of 105 mm and a thickness (height) of 80 μm. In Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 5, transfer type TDs having each transfer surface 51f were prepared.

次に、実施例1〜2、比較例1〜5の転写型TDを用いて、接触部材11を作成した。まず、誘電体材料DMとしてシリコーンゴムを採用し、スピンコータ法により液状のシリコーンゴムを転写面51f上に供給した後、転写型TDを予備回転した後、毎分1000回転で30秒間回転させ、転写面51f上において誘電体材料DMを拡げて、外枠部材52の厚さ(高さ)に応じた厚さを有する接触部材11を得た。さらに、得られた接触部材11の境界面11g上に一対の電極12、13を設けた。一対の電極12、13は、実施例1〜2、比較例1〜5において、同一のクシ歯状の形態を採用した。その後、一対の電極12,13上に、シリコーンゴムでパッド基部AP2を作成した。上記のように製作した吸着パッドAPを、パッド保持部材PHに取り付けた。 Next, the contact member 11 was prepared using the transfer type TDs of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 5. First, silicone rubber is adopted as the dielectric material DM, liquid silicone rubber is supplied onto the transfer surface 51f by the spin coater method, the transfer type TD is pre-rotated, and then rotated at 1000 rpm for 30 seconds to transfer. The dielectric material DM was spread on the surface 51f to obtain a contact member 11 having a thickness corresponding to the thickness (height) of the outer frame member 52. Further, a pair of electrodes 12 and 13 were provided on the boundary surface 11g of the obtained contact member 11. The pair of electrodes 12 and 13 adopted the same comb-tooth shape in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 5. Then, the pad base AP2 was made of silicone rubber on the pair of electrodes 12 and 13. The suction pad AP manufactured as described above was attached to the pad holding member PH.

(接触面の表面粗さ)
このようにして得られた実施例1〜2、比較例1〜5の吸着パッドAPの接触面11fについて、表面粗さの算術平均粗さRa、表面粗さの最大高さ粗さRz、表面粗さのモチーフパラメータにおける粗さモチーフの平均長さARをそれぞれ求めた。また、参考のため、ダンボール容器OBの表面OBfについても、表面粗さの算術平均粗さRa、表面粗さの最大高さ粗さRz、表面粗さのモチーフパラメータにおける粗さモチーフの平均長さARをそれぞれ求めた。その結果を表1に示す。
(Surface roughness of contact surface)
With respect to the contact surface 11f of the suction pad APs of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 5 thus obtained, the arithmetic average roughness Ra of the surface roughness, the maximum height roughness Rz of the surface roughness, and the surface The average length AR of the roughness motif in the roughness motif parameter was obtained. For reference, also for the surface OBf of the cardboard container OB, the arithmetic average roughness Ra of the surface roughness, the maximum height roughness Rz of the surface roughness, and the average length of the roughness motif in the motif parameters of the surface roughness I asked for each AR. The results are shown in Table 1.

Figure 2021061688
Figure 2021061688

(せん断摩擦力の評価)
この後、吸着パッドAPの接触面11fを、床面上に置いたダンボール容器OBの上面に接触させた。ダンボール容器OBは、縦385mm、横220mm、高さ180mm、重さ25kgのものを用いた。この状態で、一対の電極12、13に6kVの電圧を印加させてダンボール容器OBを静電吸着させた。静電吸着してから15秒が経過した後、静電吸着装置EDを水平方向に40mm/秒の速さで移動させ、そのときに吸着パッドAPとダンボール容器OBとの間に生じるせん断摩擦力を、プッシュプルゲージで測定した。その結果を表1に示している。
(Evaluation of shear friction force)
After that, the contact surface 11f of the suction pad AP was brought into contact with the upper surface of the cardboard container OB placed on the floor surface. The cardboard container OB used had a length of 385 mm, a width of 220 mm, a height of 180 mm, and a weight of 25 kg. In this state, a voltage of 6 kV was applied to the pair of electrodes 12 and 13 to electrostatically adsorb the cardboard container OB. After 15 seconds have passed since the electrostatic adsorption, the electrostatic adsorption device ED is moved in the horizontal direction at a speed of 40 mm / sec, and the shear friction force generated between the adsorption pad AP and the cardboard container OB at that time is generated. Was measured with a push-pull gauge. The results are shown in Table 1.

表1に示すように、実施例1、2では、凹凸部15の表面粗さ(算術平均粗さRa、最大高さ粗さRz)がダンボール容器OBの表面OBfよりも小さい。また、実施例1、2では、接触面11fに形成された凹凸部15により、表面粗さの最大高さ粗さRzが0.1μm以上7.0μm以下であった。また、実施例1、2では、凹凸部15の表面粗さのモチーフパラメータにおける粗さモチーフの平均長さARが90以下であった。また、実施例1、2では、凹凸部15の凹部15aと凸部15bとの高さの差の平均値が、ダンボール容器OBの表面OBfよりも小さかった。 As shown in Table 1, in Examples 1 and 2, the surface roughness (arithmetic mean roughness Ra, maximum height roughness Rz) of the uneven portion 15 is smaller than the surface OBf of the cardboard container OB. Further, in Examples 1 and 2, the maximum height roughness Rz of the surface roughness was 0.1 μm or more and 7.0 μm or less due to the uneven portion 15 formed on the contact surface 11f. Further, in Examples 1 and 2, the average length AR of the roughness motif in the motif parameter of the surface roughness of the uneven portion 15 was 90 or less. Further, in Examples 1 and 2, the average value of the height difference between the concave portion 15a and the convex portion 15b of the concave-convex portion 15 was smaller than the surface OBf of the cardboard container OB.

また、表1に示すように、実施例1、2では、比較例1〜5に対してせん断摩擦力が大きいことが確認された。また、表1に示すように、せん断摩擦力が1.0を下回った比較例3、4は、最大高さ粗さRzの値が7.0を超えている。せん断摩擦力が次に低い比較例5は、最大高さ粗さRzの値が実施例1、2とあまり変わらないが、モチーフパラメータにおける粗さモチーフの平均長さARの値が99.346と他の例に比べて高い。せん断摩擦力が2.88〜3.57と高い値を示す実施例1、2と比較例1、2は、モチーフパラメータにおける粗さモチーフの平均長さARの値が90以下であり、かつ、最大高さ粗さRzの値が0.1以上7.0以下である。すなわち、モチーフパラメータにおける粗さモチーフの平均長さARに関しては値が90以下であり、最大高さ粗さRzに関しては値が0.1以上7.0以下であれば、せん断摩擦力を高めるために(ダンボール容器OBの表面OBfに対する接触面積を増大させるために)好ましいことが確認された。さらに、せん断摩擦力が3.0を上回る実施例1、2と比較例2は、最大高さ粗さRzの値が1.0以上5.0以下である。すなわち、最大高さ粗さRzの値が1.0以上5.0以下であれば、せん断摩擦力をより高めるために好ましいことが確認された。また、比較例1、2は、ダンボール容器OBの表面OBfの汚れの付着によるせん断摩擦力(吸着力)の低下が見られた。特に、比較例2は、汚れの付着によるせん断摩擦力の低下が著しいことが確認された。比較例1、2に対して、実施例1、2では、汚れの付着によるせん断摩擦力の低下がない又は小さいことが確認された。実施例1、2は、最大高さ粗さRzの値が4.0以上5.0以下である。すなわち、最大高さ粗さRzの値が4.0以上5.0以下であれば、ダンボール容器OBの表面OBfに汚れが付着してもせん断摩擦力(吸着力)の低下を回避するために好ましいことが確認された。 Further, as shown in Table 1, it was confirmed that in Examples 1 and 2, the shear frictional force was larger than that in Comparative Examples 1 to 5. Further, as shown in Table 1, in Comparative Examples 3 and 4 in which the shear frictional force was less than 1.0, the value of the maximum height roughness Rz exceeded 7.0. In Comparative Example 5, which has the next lowest shear frictional force, the value of the maximum height roughness Rz is not so different from that of Examples 1 and 2, but the value of the average length AR of the roughness motif in the motif parameter is 99.346. Higher than other examples. In Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 in which the shear friction force shows a high value of 2.88 to 3.57, the value of the average length AR of the roughness motif in the motif parameter is 90 or less, and The value of the maximum height roughness Rz is 0.1 or more and 7.0 or less. That is, if the average length AR of the roughness motif in the motif parameter has a value of 90 or less and the maximum height roughness Rz has a value of 0.1 or more and 7.0 or less, the shear frictional force is increased. It was confirmed that it is preferable (to increase the contact area of the cardboard container OB with respect to the surface OBf). Further, in Examples 1 and 2 and Comparative Example 2 in which the shear frictional force exceeds 3.0, the value of the maximum height roughness Rz is 1.0 or more and 5.0 or less. That is, it was confirmed that when the value of the maximum height roughness Rz is 1.0 or more and 5.0 or less, it is preferable to further increase the shear frictional force. Further, in Comparative Examples 1 and 2, a decrease in shear frictional force (adsorption force) due to adhesion of dirt on the surface OBf of the cardboard container OB was observed. In particular, in Comparative Example 2, it was confirmed that the shear frictional force was significantly reduced due to the adhesion of dirt. It was confirmed that there was no or small decrease in the shear friction force due to the adhesion of dirt in Examples 1 and 2 as opposed to Comparative Examples 1 and 2. In Examples 1 and 2, the value of the maximum height roughness Rz is 4.0 or more and 5.0 or less. That is, when the value of the maximum height roughness Rz is 4.0 or more and 5.0 or less, in order to avoid a decrease in shear friction force (adsorption force) even if dirt adheres to the surface OBf of the cardboard container OB. It was confirmed that it was preferable.

また、実施例1の転写面51fを有した転写型TDで形成された吸着パッドAPと、比較例2、3の転写面51fを有した転写型TDで形成された吸着パッドAPについて、その接触面11fを顕微鏡により観察した。その観察像を図11〜図13に示す。図11は、実施例1の吸着パッドAPにおける接触面11fの観察像である。図12は、比較例2の吸着パッドAPにおける接触面11fの観察像である。図13は、比較例3の吸着パッドAPの接触面11fの観察像である。 Further, the contact between the adsorption pad AP formed of the transfer type TD having the transfer surface 51f of Example 1 and the adsorption pad AP formed of the transfer type TD having the transfer surface 51f of Comparative Examples 2 and 3 is brought into contact with each other. The surface 11f was observed with a microscope. The observed images are shown in FIGS. 11 to 13. FIG. 11 is an observation image of the contact surface 11f in the suction pad AP of the first embodiment. FIG. 12 is an observation image of the contact surface 11f in the suction pad AP of Comparative Example 2. FIG. 13 is an observation image of the contact surface 11f of the suction pad AP of Comparative Example 3.

図11に示すように、実施例1の吸着パッドAPにおける接触面11fには、微細な凹凸が不規則に形成されている。これに対し、図12及び図13に示すように、比較例1、2の吸着パッドAPにおける接触面11fには、実施例1のような凹凸部15は形成されていない。また、比較例3(比較例4、5も同様)の吸着パッドAPの接触面11fの凹凸部15は、実施例1、2の場合よりも、凹凸の密度が高く、凹部と凸部との高さの差も大きいことが確認された。 As shown in FIG. 11, fine irregularities are irregularly formed on the contact surface 11f in the suction pad AP of the first embodiment. On the other hand, as shown in FIGS. 12 and 13, the uneven portion 15 as in the first embodiment is not formed on the contact surface 11f of the suction pad AP of Comparative Examples 1 and 2. Further, the uneven portion 15 of the contact surface 11f of the suction pad AP of Comparative Example 3 (the same applies to Comparative Examples 4 and 5) has a higher density of unevenness than that of Examples 1 and 2, and the concave and convex portions have a higher density. It was confirmed that the difference in height was also large.

(電極パターンについての比較検証)
また、一対の電極12、13のパターンについて、検討を行ったので、その結果について説明する。一対の電極12、13のパターンとして、以下のものを用意した。
(実施例11)
電極幅10mm、電極長さ45mmの電極部12b、13bを3本有したクシ歯状の一対の電極12、13を、隙間1mmを隔てて形成した。
(実施例12)
電極幅33mmの電極を、隙間1mmを隔てて形成した。
(実施例13)
電極幅5mm、電極長さ62mmの電極部12b、13bを6本有したクシ歯状の一対の電極12、13を、隙間1mmを隔てて形成した。
(実施例14)
電極幅5.5mm、電極長さ62mmの電極部12b、13bを6本有したクシ歯状の一対の電極12、13を、隙間0.5mmを隔てて形成した。
実施例11〜14の電極12、13のそれぞれについて、電極部12b、13bの組数、一対の電極12、13の間の隙間dの長さ(経路長)、一対の電極12、13の面積を表2に示した。
(Comparative verification of electrode patterns)
Further, since the patterns of the pair of electrodes 12 and 13 have been examined, the results will be described. The following patterns were prepared as the patterns of the pair of electrodes 12 and 13.
(Example 11)
A pair of comb-shaped electrodes 12 and 13 having three electrode portions 12b and 13b having an electrode width of 10 mm and an electrode length of 45 mm were formed with a gap of 1 mm.
(Example 12)
Electrodes having an electrode width of 33 mm were formed with a gap of 1 mm.
(Example 13)
A pair of comb-shaped electrodes 12 and 13 having six electrode portions 12b and 13b having an electrode width of 5 mm and an electrode length of 62 mm were formed with a gap of 1 mm.
(Example 14)
A pair of comb-shaped electrodes 12 and 13 having six electrode portions 12b and 13b having an electrode width of 5.5 mm and an electrode length of 62 mm were formed with a gap of 0.5 mm.
For each of the electrodes 12 and 13 of Examples 11 to 14, the number of pairs of electrode portions 12b and 13b, the length of the gap d between the pair of electrodes 12 and 13, (path length), and the area of the pair of electrodes 12 and 13. Is shown in Table 2.

Figure 2021061688
Figure 2021061688

実施例11〜14の電極12、13のそれぞれについて、単位面積当たりの静電吸着力FN、圧力PNを 、以下の式(1)、(2)で算出した。なお、式(1)及び式(2)において、Wは電極幅、Lは電極長さ、dは電極の隙間、Vは印加電圧、ε0は真空誘電率、εrは比誘電率である。 For each of the electrodes 12 and 13 of Examples 11 to 14, the electrostatic adsorption force FN and the pressure PN per unit area were calculated by the following equations (1) and (2). In the formulas (1) and (2), W is the electrode width, L is the electrode length, d is the electrode gap, V is the applied voltage, ε0 is the vacuum permittivity, and εr is the relative permittivity.

Figure 2021061688
Figure 2021061688

Figure 2021061688
Figure 2021061688

その結果、実施例11〜14の順で、静電吸着力が高くなるという算出結果を得た。その算出結果を、表1と対比すると、電極部12b、13bの組数(ペア数)が多いほど、電極面積が大きいほど、電極12、13間の隙間dが狭いほど、単位面積当たりの静電力が高くなる傾向にあるといえる。 As a result, it was obtained that the electrostatic adsorption force increased in the order of Examples 11 to 14. Comparing the calculation results with Table 1, the larger the number of pairs (number of pairs) of the electrode portions 12b and 13b, the larger the electrode area, and the narrower the gap d between the electrodes 12 and 13, the more static per unit area. It can be said that the power tends to be high.

続いて、実施例11〜14の電極12、13のそれぞれを、上記した実施例1の接触部材11に形成して、ダンボール容器OBを吸着したときのせん断摩擦力を評価した。その結果を図14に示す。図14に示すように、実施例11、12の電極12、13を備えた場合と比較して、実施例13、14のパターンを有した電極12、13を備えた場合、単位面積当たりのせん断摩擦力が大幅に向上していることが確認された。 Subsequently, each of the electrodes 12 and 13 of Examples 11 to 14 was formed on the contact member 11 of Example 1 described above, and the shear frictional force when the cardboard container OB was adsorbed was evaluated. The result is shown in FIG. As shown in FIG. 14, as compared with the case where the electrodes 12 and 13 of Examples 11 and 12 are provided, when the electrodes 12 and 13 having the patterns of Examples 13 and 14 are provided, the shear per unit area is provided. It was confirmed that the frictional force was significantly improved.

以上、本発明の実施形態及び実施例について説明したが、本発明の技術的範囲は、上記した実施形態及び実施例に限定されない。上記した実施形態及び実施例に多様な変更又は改良を加えることが可能であることは当業者において明らかである。また、そのような変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれる。また、上記した実施形態及び実施例で説明した要件の1つ以上は、省略されることがある。また、上記した実施形態などで説明した要件は、適宜組み合わせることができる。また、本実施形態において示した各工程の実行順序は、前の工程の結果を後の工程で用いるものでない限り、任意の順序で実現可能である。また、上記した実施形態における動作に関して、便宜上「まず」、「次に」、「続いて」等を用いて説明したとしても、この順序で実施することが必須ではない。 Although the embodiments and examples of the present invention have been described above, the technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples. It will be apparent to those skilled in the art that various changes or improvements can be made to the above-described embodiments and examples. In addition, the technical scope of the present invention also includes a form in which such a modification or improvement is added. In addition, one or more of the requirements described in the above-described embodiments and examples may be omitted. In addition, the requirements described in the above-described embodiments and the like can be combined as appropriate. Further, the execution order of each step shown in the present embodiment can be realized in any order as long as the result of the previous step is not used in the subsequent step. Further, even if the operations in the above-described embodiment are described using "first", "next", "continued", etc. for convenience, it is not essential to carry out the operations in this order.

AP1・・・パッド端部
AP2・・・パッド基部
Cap・・・中心部分
OB・・・ダンボール容器(対象物)
OBf・・・表面
DM・・・接触部材材料
ED・・・静電吸着装置
M・・・粒体
PH・・・パッド保持部材
TD・・・転写型
11・・・接触部材
11f・・・接触面
12、13・・・電極
15・・・凹凸部
15a・・・凹部
15b・・・凸部
51f・・・転写面
52・・・外枠部材
53・・・凹凸
AP1 ・ ・ ・ Pad end AP2 ・ ・ ・ Pad base Cap ・ ・ ・ Central part OB ・ ・ ・ Cardboard container (object)
OBf ... Surface DM ... Contact member material ED ... Electrostatic adsorption device M ... Granular material PH ... Pad holding member TD ... Transfer type 11 ... Contact member 11f ... Contact Surfaces 12, 13 ... Electrodes 15 ... Concavo-convex portion 15a ... Concave 15b ... Convex portion 51f ... Transfer surface 52 ... Outer frame member 53 ... Concavo-convex

Claims (12)

対象物の表面に倣って変形可能な接触面を有する、誘電体からなる接触部材と、
前記接触部材に電圧を印加可能な一対の電極と、を備え、
前記接触面は、その面に沿う任意の一方向、及びこの一方向に交差しかつ当該面に沿う交差方向の双方に凹部と凸部とが連続する凹凸部を有する、静電吸着装置。
A contact member made of a dielectric having a contact surface that can be deformed according to the surface of an object,
A pair of electrodes capable of applying a voltage to the contact member are provided.
The contact surface is an electrostatic adsorption device having a concave-convex portion in which a concave portion and a convex portion are continuous in both an arbitrary direction along the surface and both intersecting directions in the one direction and in the intersecting direction along the surface.
前記一対の電極は、前記接触部材に接触して設けられ、前記接触部材とともに変形可能である、請求項1に記載の静電吸着装置。 The electrostatic adsorption device according to claim 1, wherein the pair of electrodes are provided in contact with the contact member and can be deformed together with the contact member. 前記接触面は、前記凹凸部による表面粗さが対象物の表面の表面粗さよりも小さい、請求項1又は請求項2に記載の静電吸着装置。 The electrostatic adsorption device according to claim 1 or 2, wherein the surface roughness of the contact surface due to the uneven portion is smaller than the surface roughness of the surface of the object. 前記接触面は、前記凹凸部による表面粗さの最大高さ粗さRzが0.1μm以上7.0μm以下である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の静電吸着装置。 The electrostatic adsorption device according to any one of claims 1 to 3, wherein the contact surface has a maximum height roughness Rz of surface roughness due to the uneven portion of 0.1 μm or more and 7.0 μm or less. .. 前記接触面は、前記凹凸部による表面粗さのモチーフパラメータにおける粗さモチーフの平均長さARが90以下である、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の静電吸着装置。 The electrostatic adsorption device according to any one of claims 1 to 4, wherein the contact surface has an average length AR of a roughness motif of 90 or less in the motif parameter of the surface roughness due to the uneven portion. 前記接触面は、前記凹凸部における前記凹部と前記凸部との高さの差の平均値が、対象物の表面における当該平均値よりも小さい、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の静電吸着装置。 The contact surface has any one of claims 1 to 5, wherein the average value of the height difference between the concave portion and the convex portion in the uneven portion is smaller than the average value on the surface of the object. The electrostatic adsorption device according to. 対象物の表面を吸着した状態における対象物と前記接触面との間に生じるせん断摩擦力が3.0mN/mm以上である、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の静電吸着装置。 The static electricity according to any one of claims 1 to 6, wherein the shear frictional force generated between the object and the contact surface in a state where the surface of the object is adsorbed is 3.0 mN / mm 2 or more. Electric adsorption device. 前記接触面は、ショットブラストによる表面加工によって形成された転写面を有する転写型を用いることにより転写されて形成されている、請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の静電吸着装置。 The electrostatic adsorption according to any one of claims 1 to 7, wherein the contact surface is formed by being transferred by using a transfer mold having a transfer surface formed by surface processing by shot blasting. apparatus. 対象物を吸着する静電吸着装置に備えられ、前記対象物の表面に倣って変形可能な接触面を有する接触部材を製造する方法であって、
転写型の転写面に凹凸を形成することと、
前記接触部材を形成するための液状の誘電体材料を前記転写面上に供給して固化させることと、
前記転写面から前記接触部材を取り外すことと、を含む、接触部材の製造方法。
A method of manufacturing a contact member provided in an electrostatic adsorption device that adsorbs an object and having a contact surface that can be deformed according to the surface of the object.
Forming irregularities on the transfer surface of the transfer type and
A liquid dielectric material for forming the contact member is supplied onto the transfer surface to be solidified.
A method for manufacturing a contact member, which comprises removing the contact member from the transfer surface.
前記転写型の前記転写面に粒体を衝突させることにより、前記転写面に前記凹凸を形成することを含む、請求項9に記載の接触部材の製造方法。 The method for manufacturing a contact member according to claim 9, further comprising forming the unevenness on the transfer surface by colliding the particles with the transfer surface of the transfer type. 前記粒体は、素材がSUS又は鉄であり、粒径が0.2mmから0.3mmである、請求項10に記載の接触部材の製造方法。 The method for producing a contact member according to claim 10, wherein the granular material is made of SUS or iron and has a particle size of 0.2 mm to 0.3 mm. 前記転写型は、前記転写面の外周側に、前記転写面から上方に突出しかつ前記転写面を取り囲む外枠部材を有しており、
前記外枠部材の内側に液状の前記誘電体材料を供給することを含む、請求項9から請求項11のいずれか一項に記載の接触部材の製造方法。
The transfer type has an outer frame member that projects upward from the transfer surface and surrounds the transfer surface on the outer peripheral side of the transfer surface.
The method for manufacturing a contact member according to any one of claims 9 to 11, which comprises supplying the liquid dielectric material to the inside of the outer frame member.
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