JP2020028981A - Decoration film and method for producing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態は、例えば樹脂成型品等の加飾に用いられる、加飾フィルムおよびその製造方法に関する。 An embodiment of the present invention relates to a decorative film used for decoration of a resin molded product or the like, and a method for manufacturing the same.
従来、基材の一方の面に金属層を有する加飾フィルムを用いて、樹脂成型品の表面加飾が行われている。このような加飾フィルムによる表面加飾は、二輪車や四輪車の外装および内装においても用いられている。加飾フィルムが有する金属層は、アルミニウム、クロム、銅、ニッケル、インジウム、錫、酸化珪素等の金属により形成された膜である。金属層を有する加飾フィルムを用いて樹脂成型品の表面を加飾することで、樹脂成型品に光沢や艶消しなどの所望の質感を有する金属調の外観が与えられる。 BACKGROUND ART Conventionally, surface decoration of a resin molded product has been performed using a decorative film having a metal layer on one surface of a base material. Such surface decoration with a decorative film is also used in the exterior and interior of motorcycles and automobiles. The metal layer of the decorative film is a film formed of a metal such as aluminum, chromium, copper, nickel, indium, tin, and silicon oxide. By decorating the surface of a resin molded product using a decorative film having a metal layer, the resin molded product can be given a metallic appearance having a desired texture such as gloss or mat.
加飾フィルムは、フィルムインサート成形やインモールド成形により、金型内において樹脂成型品と一体成形される。従って、加飾フィルムに対しても、加熱および加圧が行われ、樹脂成型品は加飾フィルムを含めて金型に沿った形状に成形される。 The decorative film is integrally formed with a resin molded product in a mold by film insert molding or in-mold molding. Therefore, heating and pressurization are performed also on the decorative film, and the resin molded product is formed into a shape along the mold including the decorative film.
従来の加飾フィルムとしては、基材にアルミニウムやクロムなどが蒸着されたものが一般的である。しかし、アルミニウムやクロムは、延伸性が低いため一体成型後に蒸着層にひび割れが生じる可能性があった。そのため、延伸性の高い錫やインジウムの金属層を有する加飾フィルムを用いることがあった。しかし、錫やインジウムは、アルミニウムと比較して輝度が低く、所望の外観を得られない場合があった。 As a conventional decorative film, a film obtained by vapor-depositing aluminum, chromium, or the like on a base material is generally used. However, since aluminum and chromium have low stretchability, there is a possibility that cracks may occur in the vapor deposited layer after integral molding. Therefore, a decorative film having a highly stretchable tin or indium metal layer may be used. However, tin and indium have lower luminance than aluminum and may not be able to obtain a desired appearance.
本発明は、上記のような問題点を解決するために提案されたものである。本発明の目的は、意匠性に優れた加飾フィルムを提供することである。 The present invention has been proposed to solve the above problems. An object of the present invention is to provide a decorative film having excellent design properties.
本発明の実施形態に係る加飾フィルムは、次の構成を有する。
(1)基板を有し、前記基板の一方の面に、網点状に配置された複数の金属点が形成され、隣接する金属点の間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。
The decorative film according to the embodiment of the present invention has the following configuration.
(1) The substrate has a substrate, and a plurality of metal points arranged in a halftone dot pattern are formed on one surface of the substrate, and there is a space between adjacent metal points, and the space provides translucency. Is formed.
(2)隣接する金属点間の間隔は0.1mm以上であっても良い。
(3)前記基板は、透明基板であっても良い。
(4)前記金属点の金属が、アルミニウムであっても良い。
(5)前記金属点が、ホログラムであっても良い。
(6)前記基板が熱可塑性を有する樹脂であっても良い。
(2) The distance between adjacent metal points may be 0.1 mm or more.
(3) The substrate may be a transparent substrate.
(4) The metal at the metal point may be aluminum.
(5) The metal point may be a hologram.
(6) The substrate may be a resin having thermoplasticity.
また、本発明の実施形態に係る加飾フィルムの製造方法は、次の工程を有する。
(a)基板の上に、金属フィルムを載置する載置工程と、
(b)前記金属フィルムが載置された基板を、網点状に配置された複数の凸部を有する版を用いて加熱および加圧するホットスタンピング工程と、を有し、
(c)前記複数の凸部の天面間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。
The method for manufacturing a decorative film according to the embodiment of the present invention includes the following steps.
(A) a mounting step of mounting a metal film on a substrate;
(B) a hot stamping step of heating and pressing the substrate on which the metal film is mounted using a plate having a plurality of projections arranged in a halftone dot;
(C) There is a space between the top surfaces of the plurality of projections, and the space forms a translucent metal film.
また、本発明の他の実施形態に係る加飾フィルムの製造方法は、次の工程を有する。
(a)基板の上に、紫外線硬化型インクにより網点状に配置された複数の点を印刷する印刷工程と、
(b)前記紫外線硬化型インクが印刷された基板に、金属フィルムを圧着する圧着工程と、
(c)前記金属フィルムが圧着された基板に、紫外線を照射する紫外線照射工程と、を有し、
(d)前記複数の点間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。
In addition, a method for manufacturing a decorative film according to another embodiment of the present invention includes the following steps.
(A) a printing step of printing a plurality of dots arranged in a halftone dot pattern on a substrate with an ultraviolet curable ink;
(B) a pressure bonding step of pressing a metal film on a substrate on which the ultraviolet curable ink is printed,
(C) an ultraviolet irradiation step of irradiating the substrate on which the metal film is pressed with ultraviolet light,
(D) There is a space between the plurality of points, and the space forms a metal film having translucency.
また、本発明の他の実施形態に係る加飾フィルムの製造方法は、次の工程を有する。
(a)基板の上に、金属膜を蒸着する蒸着工程と、
(b)基板に蒸着された前記金属膜の上に、耐アルカリ性インクにより、網点状に配置された複数の点を印刷する印刷工程と、
(c)前記耐アルカリ性インクが印刷された基板をアルカリ溶液に浸漬する浸漬工程と、を有し、
(d)前記複数の点間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。
In addition, a method for manufacturing a decorative film according to another embodiment of the present invention includes the following steps.
(A) a deposition step of depositing a metal film on a substrate;
(B) a printing step of printing a plurality of dots arranged in a halftone dot with an alkali-resistant ink on the metal film deposited on the substrate;
(C) immersing the substrate on which the alkali-resistant ink is printed in an alkaline solution,
(D) There is a space between the plurality of points, and the space forms a metal film having translucency.
また、本発明の他の実施形態に係る加飾フィルムの製造方法は、次の工程を有する。
(a)基板の上に、網点状に配置された複数の点を残すように水性インクを印刷する印刷工程と、
(b)前記水性インクが印刷された基板の上に、金属膜を蒸着する蒸着工程と、
(c)前記金属膜が蒸着された基板を水に浸漬する浸漬工程と、を有し、
(d)前記複数の点間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。
In addition, a method for manufacturing a decorative film according to another embodiment of the present invention includes the following steps.
(A) a printing step of printing an aqueous ink on the substrate so as to leave a plurality of dots arranged in a halftone dot;
(B) a deposition step of depositing a metal film on the substrate on which the aqueous ink is printed,
(C) immersing the substrate on which the metal film is deposited in water,
(D) There is a space between the plurality of points, and the space forms a metal film having translucency.
(e)前記空間の間隔は、0.1mm以上であっても良い。 (E) The space between the spaces may be 0.1 mm or more.
本発明によれば、金属層のひび割れを防止でき、意匠性に優れた加飾フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the crack of a metal layer can be prevented and the decorative film excellent in the design property can be provided.
[1.構成]
以下、本発明の実施形態に係る加飾フィルムFについて図面を参照しつつ説明する。加飾フィルムFは、基板Sと、基板Sに形成された複数の金属点Mと、を有する。複数の金属点Mは、基板Sの一方の表面に、網点状に配置されている。網点状とは、金属点Mが規則的に並ぶように配置されていることを表す。また、加飾フィルムFにおいて、隣接する金属点Mの間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。隣接する金属点M間の間隔は0.1mm以上とすることが好ましい。
[1. Constitution]
Hereinafter, the decorative film F according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The decorative film F has a substrate S and a plurality of metal points M formed on the substrate S. The plurality of metal points M are arranged on one surface of the substrate S in a halftone dot shape. The halftone dot means that the metal points M are arranged so as to be regularly arranged. Further, in the decorative film F, there is a space between adjacent metal points M, and a metal film having translucency is formed by this space. The interval between adjacent metal points M is preferably 0.1 mm or more.
規則的に並ぶ態様としては、同一形状およびサイズの金属点Mが等間隔に配置されている状態を含む。他にも、例えば大小の金属点Mが交互に配置されている場合や、一列ごとに金属点Mの大きさが徐々に減少していく場合等、所定の規則をもって配置されている場合も規則的に含まれる。また、金属点M間の間隔を、規則的に異ならせて金属点Mを配置する場合も、金属点Mが規則的に並ぶ態様に含まれる。 The form in which the metal points M having the same shape and the same size are arranged at regular intervals includes the form in which the metal points M are arranged regularly. In addition, the rule is also applied to the case where the metal points M are arranged according to a predetermined rule, for example, when the large and small metal points M are alternately arranged, or when the size of the metal points M gradually decreases in each row. Included. Also, the case where the metal points M are arranged with regularly different intervals between the metal points M is included in a mode in which the metal points M are regularly arranged.
図1(a)および(b)、本実施形態の加飾フィルムFの一例を示す写真である。図1(a)は、加飾フィルムFを「SAMPLE」と印刷された白紙の上に置いて撮影した写真である。図1(b)は、加飾フィルムFを、黒い紙の上に置いて撮影した拡大写真である。図1の加飾フィルムFは、金属点Mとして、ホログラムの金属点が形成されている。 1A and 1B are photographs showing an example of the decorative film F of the present embodiment. FIG. 1A is a photograph taken by placing the decorative film F on a blank sheet printed with “SAMPLE”. FIG. 1B is an enlarged photograph taken by placing the decorative film F on black paper. In the decorative film F of FIG. 1, the metal points of the hologram are formed as the metal points M.
基板Sは、フィルム状の基材である。基板Sとしては、透明な基材を用いることが好ましい。基板Sは、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネイト(PC)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン(PS)、ポリ塩化ビニル(PVC)等のビニル系ポリマーを用いて形成したフィルムとすることができる。他にも、ポリエステル、ポリアミド等の線状ポリマーや、フッ素樹脂、ABS樹脂、COP樹脂等をフィルム状に形成して用いても良い。基板Sは、これらの材料の少なくともひとつを用いて形成されたフィルムである。基板Sは、単層のフィルムであっても良く、複数の材料を用いて形成された複数の層により構成されていても良い。 The substrate S is a film-shaped substrate. It is preferable to use a transparent substrate as the substrate S. The substrate S is made of a vinyl polymer such as acrylic resin, urethane resin, polycarbonate (PC), polyvinyl alcohol (PVA), polyethylene terephthalate (PET), polypropylene (PP), polystyrene (PS), and polyvinyl chloride (PVC). It can be made into a film formed. Alternatively, a linear polymer such as polyester or polyamide, a fluororesin, an ABS resin, a COP resin, or the like may be formed into a film and used. The substrate S is a film formed using at least one of these materials. The substrate S may be a single-layer film, or may be composed of a plurality of layers formed using a plurality of materials.
基板Sは、可視光に対して透過性を有する透明基板とすることができる。ただし、全ての可視光の波長に対して均一な透過率を有している必要はなく、所定の可視光を吸収しても良い。すなわち、色付きの透明フィルムを基板Sとして用いても良い。透明とは、例えば文字等が記載された紙の上に基板Sを載置した際に、紙に記載された文字が視認可能に透ける程度の透明度を示す。なお、基板Sを、不透明な基板としても良い。例えば透明度の低い有色の基板の一方の面に、網点状に配置された複数の金属点Mを形成する態様も含まれる。 The substrate S can be a transparent substrate having transparency to visible light. However, it is not necessary to have a uniform transmittance for all visible light wavelengths, and predetermined visible light may be absorbed. That is, a colored transparent film may be used as the substrate S. The term “transparent” refers to a degree of transparency such that, when the substrate S is placed on paper on which characters or the like are written, characters written on the paper can be seen through. Note that the substrate S may be an opaque substrate. For example, a mode in which a plurality of metal points M arranged in a halftone dot pattern are formed on one surface of a colored substrate having low transparency is also included.
加飾フィルムFは、複数の製造方法により製造することができる。製造方法において、加熱工程を含む場合には、耐熱性を有するフィルムを用いることが好ましい。また、フィルムインサート成形やインモールド成形を用いて、加飾フィルムFを樹脂成型品と一体成形する場合には、基板Sは熱可塑性を有するフィルムとする。 The decorative film F can be manufactured by a plurality of manufacturing methods. When the manufacturing method includes a heating step, it is preferable to use a film having heat resistance. When the decorative film F is integrally formed with a resin molded product by using film insert molding or in-mold molding, the substrate S is a thermoplastic film.
また、基板Sには、予めインク等を用いて模様や文字などが印刷されていても良い。基板Sの厚みは、特に限定しないが10〜500μmとするとよい。また、フィルムインサート成形やインモールド成形を用いて、加飾フィルムFを樹脂成型品と一体成形する場合には、加工性を考慮して、基板Sの厚みを100〜500μmとすることが好ましい。 Further, patterns, characters, and the like may be printed on the substrate S in advance using ink or the like. The thickness of the substrate S is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 μm. When the decorative film F is integrally formed with a resin molded product by using film insert molding or in-mold molding, the thickness of the substrate S is preferably set to 100 to 500 μm in consideration of workability.
金属点Mは、基板Sの一方の表面に形成されている金属膜である。金属点Mが含む金属としては、アルミニウム、クロム、銅、ニッケル、インジウム、錫、酸化珪素等がある。また金属点Mとして、ホログラムを形成しても良い。金属点Mの膜厚は、100〜600Åである。金属点Mの膜厚は、より厚い方が金属の質感を再現することができる。 The metal point M is a metal film formed on one surface of the substrate S. Examples of the metal included in the metal point M include aluminum, chromium, copper, nickel, indium, tin, and silicon oxide. A hologram may be formed as the metal point M. The thickness of the metal point M is 100 to 600 °. As the thickness of the metal point M increases, the texture of the metal can be reproduced.
図2(a)〜(c)、および図3(a)、(b)は、網点状に配置される金属点Mの配置パターンを示す説明図である。図2は、金属点Mの配置パターンのみを説明することを目的とするものである。そのため、基板Sの図示を省略し、配置パターンの説明に必要となる最小限の金属点Mのみを図示している。なお、図2(a)〜(c)は、後述するホットスタンプ法で製造される加飾フィルムFの配置パターン例を示す。また、図3(a)、(b)は、後述するコールドスタンプ法で製造される加飾フィルムFの配置パターン例を示す。 2 (a) to 2 (c) and FIGS. 3 (a) and 3 (b) are explanatory diagrams showing arrangement patterns of metal points M arranged in a halftone dot shape. FIG. 2 is intended to explain only the arrangement pattern of the metal points M. Therefore, the illustration of the substrate S is omitted, and only the minimum metal points M necessary for describing the arrangement pattern are shown. 2A to 2C show examples of arrangement patterns of the decorative film F manufactured by a hot stamping method described later. FIGS. 3A and 3B show examples of arrangement patterns of a decorative film F manufactured by a cold stamping method described later.
金属点Mは、基板Sの一面に、網点状に配置されている。本実施形態では、網点状とは、基板Sに形成された複数の金属点Mの全てについて、金属点Mの形状およびサイズが同一であり、各金属点Mの間の間隔が等間隔で規則的に配置される場合を例に説明する。図2(a)および(b)の左側の図に示す通り、複数の金属点Mは、格子状の間隔が形成されるように整列して規則的に配置されていても良い。また、図2(a)および(b)の右側の図に示す通り、複数の金属点Mは、隣接する2つの金属点Mが形成する間隔を臨むように他列の金属点Mが設けられ、T状の間隔が複数形成されるように規則的に配置されていても良い。 The metal points M are arranged in a halftone dot pattern on one surface of the substrate S. In the present embodiment, the halftone dot shape means that the shape and size of the metal points M are the same for all of the plurality of metal points M formed on the substrate S, and the intervals between the metal points M are equal. An example in which the components are arranged regularly will be described. 2A and 2B, the plurality of metal points M may be arranged regularly so as to form a grid-like space. Further, as shown in the right-hand diagrams of FIGS. 2A and 2B, a plurality of metal points M are provided in other rows so as to face an interval formed by two adjacent metal points M. , May be arranged regularly so that a plurality of T-shaped intervals are formed.
また、図2(c)に示す通り、三角形の金属点Mを網点状に配置するには、金属点Mの辺に対向するように、他の金属点Mの一辺を配置して同列上に金属点Mを配置すればよい。そして、図2(c)の左側の図に示す通り、ある列の三角形の金属点Mが、他の列の三角形の金属点Mと対象になるように、列ごとに金属点Mの向きを反転させて交互に配置しても良い。また、図2(c)の右側の図に示す通り、すべての列において金属点Mの向きが同一となるように配置しても良い。 In addition, as shown in FIG. 2C, in order to arrange the triangular metal points M in a halftone dot shape, one side of another metal point M is arranged so as to face the side of the metal point M, and is arranged on the same row. May be arranged at the metal point M. Then, as shown in the diagram on the left side of FIG. 2 (c), the direction of the metal points M for each column is changed so that the metal points M of the triangles in a certain row become the target of the metal points M in the other rows. They may be inverted and arranged alternately. Alternatively, as shown in the right-hand diagram of FIG. 2C, the metal points M may be arranged in the same direction in all the columns.
金属点Mの形状としては、円形や、矩形および三角形等の多角形があるが、これに限定されない。例えば星形やハート型などの金属点Mとすることで、加飾フィルムFを遠くで見た場合と、近くで見た場合の印象に変化を与えることができ、意匠性が向上する。 Examples of the shape of the metal point M include a circle, a polygon such as a rectangle and a triangle, but are not limited thereto. For example, by setting the metal points M such as a star shape or a heart shape, it is possible to change the impression when the decorative film F is viewed from a distance and when the decorative film F is viewed from a close position, and the design is improved.
金属点Mは、0.05mm以上5mm以下、より好ましくは0.1mm以上3mm以下とする。例えば、真円状の金属点Mを形成する場合には、金属点Mの直径を上記数値範囲とする。多角形の金属点Mを形成する場合には、金属点Mの形状が有する最大辺の長さを0.05mm以上5.0mm以下とすればよい。 The metal point M is 0.05 mm or more and 5 mm or less, more preferably 0.1 mm or more and 3 mm or less. For example, when forming a perfect circular metal point M, the diameter of the metal point M is set to the above numerical range. When the polygonal metal point M is formed, the maximum side length of the shape of the metal point M may be set to 0.05 mm or more and 5.0 mm or less.
製造可能な金属点Mの最小サイズは0.05mmであるが、製造容易性を考慮すると0.1mm以上であることが好ましい。また、金属点Mを0.1mm以上とすることで、金属の質感をより再現できて良い。また、金属点Mの大きさが5mmを超えると、例えば金属点Mをアルミニウムで形成した場合加工の際に金属点Mにクラックが生じ、金属点Mの質感が変化する可能性がある。従って、金属点Mは、5mm以下、より好ましくは3mm以下とすることで、金属点Mの質感の変化を抑制することができる。 The minimum size of the metal point M that can be manufactured is 0.05 mm, but is preferably 0.1 mm or more in consideration of manufacturability. Further, by setting the metal point M to 0.1 mm or more, the texture of the metal may be reproduced more. If the size of the metal point M exceeds 5 mm, for example, when the metal point M is formed of aluminum, cracks occur in the metal point M during processing, and the texture of the metal point M may change. Therefore, by setting the metal point M to 5 mm or less, more preferably 3 mm or less, a change in the texture of the metal point M can be suppressed.
隣接する金属点Mの間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。半透明性を有する金属膜とは、網点状に形成された金属点Mの間の空間により金属膜が不連続に形成されている印象を与える金属膜である。半透明性を有する金属膜は、金属膜が基板Sの一面に形成されているような印象を与えない。 There is a space between adjacent metal points M, and this space forms a metal film having translucency. The translucent metal film is a metal film giving an impression that the metal film is discontinuously formed by spaces between the metal points M formed in a halftone dot shape. The translucent metal film does not give an impression that the metal film is formed on one surface of the substrate S.
各金属点Mの間の間隔は、0.05mm以上3mm以下、より好ましくは0.1mm以上1mm以下とする。ここで、例えば複数の金属点が0.05mm未満の狭い間隔で形成されている加飾フィルムの表面は、基板Sの一面に金属膜が形成されている加飾フィルムと同様に、金属そのものと同様の質感を有する。一方、本実施形態において、金属点Mの間隔を0.05mm以上とすることで、基板Sに半透明性を有する金属膜が形成される。また、金属点Mの間隔を0.1mm以上、より好ましくは0.2mm以上することで、金属点Mの間隔が確実に視認可能となり意匠性が向上する。 The interval between the metal points M is 0.05 mm or more and 3 mm or less, more preferably 0.1 mm or more and 1 mm or less. Here, for example, the surface of the decorative film in which a plurality of metal points are formed at a narrow interval of less than 0.05 mm is similar to the metal itself, similarly to the decorative film in which the metal film is formed on one surface of the substrate S. It has a similar texture. On the other hand, in the present embodiment, by setting the distance between the metal points M to be 0.05 mm or more, a metal film having translucency is formed on the substrate S. Further, by setting the interval between the metal points M to be 0.1 mm or more, more preferably 0.2 mm or more, the interval between the metal points M can be surely recognized, and the design property is improved.
ただし、間隔が3mmを超えると、基板Sの露出部分が多くなり、基板S上に金属点Mがまばらに配置されているような印象を与える可能性がある。従って、間隔を3mm以下、より好ましくは1mm以下とすると、金属の質感を与えるとともに、基板Sを透明基板とした場合には全体として半透明の印象を与える加飾フィルムFが得られる。また、基板Sを不透明な基板とした場合には、基板Sの色と金属点Mのコントラストにより、金属膜が一面に形成された基板とは異なる印象を与える加飾フィルムFが得られる。また、金属点Mのサイズが1mmを超える場合には、金属点Mの間の間隔は1mm以下とすることが好ましい。金属点Mのサイズと間隔がともに1mmを超えると、金属点Mがまばらに配置されているような印象を与えるからである。 However, when the interval exceeds 3 mm, the exposed portion of the substrate S increases, and there is a possibility that an impression that the metal points M are sparsely arranged on the substrate S may be given. Therefore, when the interval is 3 mm or less, more preferably 1 mm or less, the decorative film F that gives a metallic texture and gives a translucent impression as a whole when the substrate S is a transparent substrate is obtained. When the substrate S is an opaque substrate, a decorative film F giving an impression different from that of a substrate having a metal film formed on one surface is obtained due to the contrast between the color of the substrate S and the metal point M. When the size of the metal point M exceeds 1 mm, the interval between the metal points M is preferably set to 1 mm or less. If the size and the interval of the metal points M both exceed 1 mm, an impression that the metal points M are sparsely arranged is given.
また、基板Sにおける複数の金属点Mは、その形状、大きさ、および間隔を調整することにより、加飾フィルムFの透過面積を調整することができる。例えば、図2(a)に示す通り、1mm角の矩形の金属点Mを0.2mm間隔で配置した場合、透過面積は31%となる。一方、図2(b)に示す通り、直径1mmの円形の金属点Mを0.2mm間隔で配置した場合、透過面積は46%となる。そして、図3(a)に示す通り、0.5mm角の矩形の金属点Mを0.1mm間隔で配置した場合、図2(a)と同様に、透過面積は31%となる。基板Sの透過面積を調整することにより、半透明性を有する金属膜の透明度を変更できる。すなわち、より金属そのものに近い質感を有する加飾フィルムFや、基板Sを透明基板とした場合には半透明の金属のような質感を有する加飾フィルムFが提供できる。 In addition, the transmission area of the decorative film F can be adjusted by adjusting the shape, size, and interval of the plurality of metal points M on the substrate S. For example, as shown in FIG. 2A, when rectangular 1 mm square metal points M are arranged at intervals of 0.2 mm, the transmission area is 31%. On the other hand, as shown in FIG. 2B, when circular metal points M having a diameter of 1 mm are arranged at intervals of 0.2 mm, the transmission area is 46%. Then, as shown in FIG. 3A, when the rectangular metal points M of 0.5 mm square are arranged at intervals of 0.1 mm, the transmission area becomes 31% as in FIG. 2A. By adjusting the transmission area of the substrate S, the transparency of the semi-transparent metal film can be changed. That is, it is possible to provide a decorative film F having a texture closer to that of the metal itself, and a decorative film F having a texture like a translucent metal when the substrate S is a transparent substrate.
ここで、基板Sを透明基板とし、半透明性を有する金属膜を形成した場合には、加飾フィルムF全体として半透明の印象を与える。加飾フィルムFが半透明である状態とは、基板Sの下に配置される文字や模様が視認可能となる程度に透明性を有していることを意味する。加飾フィルムFについて、図1(a)に示すような半透明の加飾フィルムFとするには、透過面積が10〜80%、より好ましくは30〜60%となるように、金属点Mの形状、大きさ、間隔を調整することが好ましい。また、基板Sが不透明基板の場合には、基板Sの色と金属点Mのバランスを考慮して透過面積を10〜80%の間とすることが好ましい。 Here, when the substrate S is a transparent substrate and a metal film having translucency is formed, a translucent impression is given to the entire decorative film F. The state in which the decorative film F is translucent means that the decorative film F has transparency to the extent that characters and patterns arranged below the substrate S are visible. For the decorative film F, in order to obtain a translucent decorative film F as shown in FIG. 1 (a), the metal point M is adjusted so that the transmission area is 10 to 80%, more preferably 30 to 60%. It is preferable to adjust the shape, size, and spacing of the two. When the substrate S is an opaque substrate, it is preferable to set the transmission area between 10% and 80% in consideration of the balance between the color of the substrate S and the metal point M.
透過面積が10%を下回ると、金属点Mがまばらに配置されているような印象を与える。また、間隔を0.1mm以上とするため、透過面積は80%を超えない。また、透過面積を30〜60%なるように金属点Mを配置することにより、基板Sを透明基板とした場合には半透明の印象を与える加飾フィルムFが得られる。 When the transmission area is less than 10%, an impression is given that the metal points M are sparsely arranged. Further, since the interval is set to 0.1 mm or more, the transmission area does not exceed 80%. Further, by arranging the metal points M so that the transmission area is 30 to 60%, when the substrate S is a transparent substrate, a decorative film F giving a translucent impression can be obtained.
なお、金属点Mの形成後に、金属点Mが形成された基板Sに対してインク等を用いて模様や文字などが印刷されても良い。また、基板Sおよび金属点Mを覆うように、不図示の保護層を形成しても良い。保護層は、金属点Mの色落ちを防止するとともに、基板Sと金属点Mの密着をサポートする役割を有する。 After the formation of the metal points M, patterns, characters, and the like may be printed on the substrate S on which the metal points M are formed using ink or the like. Further, a protection layer (not shown) may be formed so as to cover the substrate S and the metal points M. The protective layer has a role of preventing discoloration of the metal points M and supporting adhesion between the substrate S and the metal points M.
保護層としては、透明フィルムを用いても良いし、透明なニスを用いても良い。ニスとしては、OPニス加工に用いられるものが使用可能であり、油性ニス、水性ニス、UVニス等を適用できる。金属点Mが形成された基板Sに、ニスを塗布し乾燥させることで、基板Sとニスが密着し、金属点Mが基板Sとニスの中にパッキングされたような状態となる。例えば、後述のコールドスタンプ法では、基板Sと金属点Mの接着が不十分となる場合がある。このような場合に、ニスを用いて保護層を形成することが有効である。 As the protective layer, a transparent film or a transparent varnish may be used. As the varnish, those used for OP varnish processing can be used, and oil-based varnish, aqueous varnish, UV varnish and the like can be applied. By applying and drying the varnish on the substrate S on which the metal points M are formed, the substrate S and the varnish are brought into close contact with each other, so that the metal points M are packed in the substrate S and the varnish. For example, in the cold stamping method described below, the adhesion between the substrate S and the metal point M may be insufficient. In such a case, it is effective to form a protective layer using a varnish.
[2.加飾フィルムの製造方法]
以上のような本実施形態の加飾フィルムFの製造方法としては、以下の4つがある。
(1)ホットスタンプ法
(2)コールドスタンプ法
(3)パスター方式蒸着法
(4)シーライト方式蒸着法
以下、各製造方法について、個別に説明する。
[2. Manufacturing method of decorative film]
There are the following four methods for manufacturing the decorative film F of the present embodiment as described above.
(1) Hot stamping method (2) Cold stamping method (3) Paster type vapor deposition method (4) Celite type vapor deposition method Hereinafter, each manufacturing method will be individually described.
(1)ホットスタンプ法
ホットスタンプ法による加飾フィルムFの製造方法は、以下の工程を含む。
(a)基板Sの上に、金属フィルム11を載置する載置工程。
(b)金属フィルム11が載置された基板Sを、網点状に配置された複数の凸部を有する版を用いて加熱および加圧するホットスタンピング工程。
(1) Hot stamping method The method for manufacturing the decorative film F by the hot stamping method includes the following steps.
(A) A mounting step of mounting the metal film 11 on the substrate S.
(B) A hot stamping step of heating and pressing the substrate S on which the metal film 11 is mounted using a plate having a plurality of convex portions arranged in a halftone dot shape.
(a)載置工程
図4(a)に示す通り、載置工程では、基板Sの上に、金属フィルム11を載置する。後述のホットスタンピング工程において、基板Sと基板Sを押圧する版との間に空気が残ると、基板Sの真ん中部分で箔の転写が不良となりピンホールが生じる可能性がある。従って、上下動式の版を用いた場合には、ピンホールが生じないように基板Sの大きさを調整する必要がある。
(A) Mounting Step As shown in FIG. 4A, in the mounting step, the metal film 11 is mounted on the substrate S. If air remains between the substrate S and the plate that presses the substrate S in a hot stamping step described later, the transfer of the foil at the center of the substrate S may be defective, and pinholes may be generated. Therefore, when a vertically movable plate is used, it is necessary to adjust the size of the substrate S so that pinholes do not occur.
金属フィルム11は、予め所望の金属が蒸着されたホットスタンピング用の転写箔である。具体的には、金属フィルム11は、少なくとも、フィルム層、離型層、金属層、および接着層を有する転写箔である。フィルム層は、金属フィルム11のベースとなるフィルムであり、例えばポリエステルフィルムを用いることができる。フィルム層は、基板Sに転写されずに剥離される層である。 The metal film 11 is a transfer foil for hot stamping on which a desired metal is deposited in advance. Specifically, the metal film 11 is a transfer foil having at least a film layer, a release layer, a metal layer, and an adhesive layer. The film layer is a film serving as a base of the metal film 11, and for example, a polyester film can be used. The film layer is a layer that is separated without being transferred to the substrate S.
離型層は、フィルム層上に、アルリル系樹脂やセルロース系樹脂を用いて形成された層である。離型層により、フィルム層は金属層から剥離される。なお、離型層はフィルム層とともに剥離されても良いし、金属層とともに基板Sに転写されても良い。 The release layer is a layer formed using an allyl resin or a cellulose resin on the film layer. The release layer peels the film layer from the metal layer. The release layer may be peeled off together with the film layer, or may be transferred onto the substrate S together with the metal layer.
金属層は、離型層上に形成された、所望の金属が蒸着された層である。例えば、真空蒸着法によるアルミニウムが蒸着された金属層とすることができる。ホログラムを有する金属フィルム11とする場合には、金属層はホログラム層と金属蒸着層を含む。ホログラム層は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等の樹脂層に、エンボス加工により微細な凹凸が形成された層である。金属蒸着層は、ホログラム層上に形成された、所望の金属が蒸着された層である。 The metal layer is a layer formed on the release layer and having a desired metal deposited thereon. For example, a metal layer on which aluminum is deposited by a vacuum deposition method can be used. When the metal film 11 has a hologram, the metal layer includes a hologram layer and a metal deposition layer. The hologram layer is a layer in which fine irregularities are formed by embossing a resin layer such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, and an electron beam curable resin. The metal deposition layer is a layer formed on the hologram layer and on which a desired metal is deposited.
接着層は、金属層上に、例えばアクリルやPETを用いて形成された、基板Sに対する接着力を有する層である。なお、金属フィルム11は、上記各層以外にも、必要に応じて印刷層や表面保護層等、ホットスタンピング用の転写箔に適用される周知の層を有していても良い。以上のような金属フィルム11は、接着層が基板Sと対向するように載置される。 The adhesive layer is a layer formed on the metal layer using, for example, acrylic or PET and having an adhesive force to the substrate S. In addition, the metal film 11 may have a well-known layer applied to the transfer foil for hot stamping, such as a printing layer and a surface protection layer, if necessary, in addition to the above-described layers. The metal film 11 as described above is placed so that the adhesive layer faces the substrate S.
(b)ホットスタンピング工程
図4(b)に示す通り、ホットスタンピング工程では、金属フィルム11が載置された基板Sを不図示の台上に配置し、網点状に配置された複数の凸部20を有する金属製の版200を用いて、上方から押圧する。凸部20の高さは、0.5mm程度であり、凸部20の天面の大きさは0.1mm以上である。また、隣接する凸部20の天面間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。具体的には、凸部20の天面間の間隔は0.2mm以上である。版200は、不図示の熱源に取り付けられているため、基板Sを加圧するとともに加熱する。版200は、熱盤とともに上下動する構成としても良いし、ローラ式の版200を加熱源に接続する構成としても良い。
(B) Hot Stamping Step As shown in FIG. 4 (b), in the hot stamping step, the substrate S on which the metal film 11 is placed is placed on a table (not shown), and a plurality of projections arranged like halftone dots. The metal plate 200 having the portion 20 is pressed from above. The height of the projection 20 is about 0.5 mm, and the size of the top surface of the projection 20 is 0.1 mm or more. In addition, there is a space between the top surfaces of the adjacent protrusions 20, and a semi-transparent metal film is formed by this space. Specifically, the interval between the top surfaces of the projections 20 is 0.2 mm or more. Since the plate 200 is attached to a heat source (not shown), the plate S is heated while being pressed. The plate 200 may be configured to move up and down together with the hot plate, or may be configured to connect the roller type plate 200 to a heating source.
ホットスタンピング法において、隣接する凸部20の天面間の間隔は0.2mm以上、すなわち金属点Mの間の間隔を0.2mm以上とするのは、版200の加工を考慮してのことである。技術的には、0.05mmの金属点Mや、0.1mmの間隔を形成可能な版200を製造することは不可能ではない。ただし、従来通り真鍮や銅からなる版200を用いた場合、箔押しの段階で凸部20の先端がつぶれる可能性がある。従って、版200の強度を向上させる必要がある。そのため、0.05mmの金属点Mや、0.1mmの間隔を形成可能な版200は、開発コストおよび材料コストが高騰すると考えられる。凸部20の天面間の間隔は0.2mm以上とすることで、従来から用いられる材料を用いて盤200を加工することができ、経済性が高い。 In the hot stamping method, the interval between the top surfaces of the adjacent projections 20 is 0.2 mm or more, that is, the interval between the metal points M is 0.2 mm or more in consideration of the processing of the plate 200. It is. Technically, it is not impossible to produce a plate 200 capable of forming a metal point M of 0.05 mm and a spacing of 0.1 mm. However, when the plate 200 made of brass or copper is used as before, the tip of the projection 20 may be crushed at the stage of foil pressing. Therefore, the strength of the plate 200 needs to be improved. For this reason, it is considered that the development cost and the material cost of the plate 200 capable of forming the metal points M of 0.05 mm and the interval of 0.1 mm will increase. By setting the interval between the top surfaces of the projections 20 to 0.2 mm or more, the board 200 can be processed using a conventionally used material, and the cost is high.
版200に押圧されることにより、版200の凸部20の天面部分が、金属フィルム11を介して基板Sに接する。そして、金属フィルム11が版200により加熱されると、凸部20の天面が接触する箇所において、金属フィルム11が有する接着層が加熱され、基板Sに対する密着力を有する。 By being pressed by the plate 200, the top surface of the projection 20 of the plate 200 comes into contact with the substrate S via the metal film 11. Then, when the metal film 11 is heated by the plate 200, the adhesive layer of the metal film 11 is heated at a position where the top surface of the projection 20 contacts, and has an adhesive force to the substrate S.
そして、図4(c)に示す通り、版200を上方に移動し、金属フィルム11を剥がすと、凸部20の天面が接触した箇所においては、離型層を介してフィルム層が剥離される。一方、凸部20の天面が接触しなかった箇所においては、接着層が加熱されていないことから基板Sと密着しない。従って、基板Sの表面に、複数の凸部20の配置に対応して網点状に複数の金属点Mが形成される。すなわち、ホットスタンプ法により製造される加飾フィルムFの、隣接する金属点Mの間の間隔は0.2mm以上となる。また、ホットスタンプ法により製造される加飾フィルムFの金属点の膜厚は300〜600Åとなる。 Then, as shown in FIG. 4C, when the plate 200 is moved upward and the metal film 11 is peeled off, the film layer is peeled off via the release layer at the place where the top surface of the projection 20 is in contact. You. On the other hand, in a portion where the top surface of the convex portion 20 does not contact, the adhesive layer is not heated and thus does not adhere to the substrate S. Therefore, on the surface of the substrate S, a plurality of metal points M are formed in a halftone dot shape corresponding to the arrangement of the plurality of projections 20. That is, the interval between the adjacent metal points M of the decorative film F manufactured by the hot stamping method is 0.2 mm or more. Further, the thickness of the metal point of the decorative film F manufactured by the hot stamping method is 300 to 600 °.
(2)コールドスタンプ法
コールドスタンプ法による加飾フィルムFの製造方法は、以下の工程を含む。
(a)基板Sの上に、紫外線硬化型インクにより網点状に配置された複数の点を印刷する印刷工程
(b)紫外線硬化型インクが印刷された基板Sに、金属フィルムを圧着する圧着工程
(c)金属フィルム12が圧着された基板Sに、紫外線を照射する紫外線照射工程
(2) Cold stamping method The method for manufacturing the decorative film F by the cold stamping method includes the following steps.
(A) A printing step of printing a plurality of dots arranged in a halftone pattern on the substrate S with an ultraviolet curable ink. (B) Compression bonding of pressing a metal film on the substrate S on which the ultraviolet curable ink is printed. Step (c) An ultraviolet irradiation step of irradiating the substrate S with the metal film 12 pressed thereto with ultraviolet light.
(a)印刷工程
印刷工程では、図5(a)に示す通り、基板Sの上に、紫外線硬化型インクI1により、網点状に配置された複数の点を印刷する。紫外線硬化型インクI1は、紫外線を照射することにより硬化する接着剤である。印刷された紫外線硬化型インクI1の隣接する点間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。隣接する点間の間隔は、0.1mm以上である。コールドスタンプ法において用いる基板Sの大きさは、紫外線硬化型インクI1を印刷する印刷機器の制限を受けることになる。ただし、ホットスタンピング法により製造可能な加飾フィルムFよりも、大きな加飾フィルムが製造可能である。
(A) Printing Step In the printing step, as shown in FIG. 5A, a plurality of dots arranged in a dot pattern are printed on the substrate S using the ultraviolet curable ink I1. The ultraviolet curable ink I1 is an adhesive that cures when irradiated with ultraviolet light. There is a space between adjacent points of the printed ultraviolet curable ink I1, and a semitransparent metal film is formed by this space. The distance between adjacent points is at least 0.1 mm. The size of the substrate S used in the cold stamping method is limited by the printing device that prints the ultraviolet curable ink I1. However, a decorative film larger than the decorative film F that can be manufactured by the hot stamping method can be manufactured.
なお、印刷工程に先立ち、不図示の易接着層を基板Sに形成する工程を設けても良い。基板Sの材料によっては、紫外線硬化型インクI1との相性が悪くなり、基板Sと金属点Mの接着性が低下する恐れがある。このような場合に、基板S上に紫外線硬化型インクI1と相性の良い材料からなる易接着層を設けることで、基板Sと金属点Mの接着性を向上させることができる。 Prior to the printing step, a step of forming an easy adhesion layer (not shown) on the substrate S may be provided. Depending on the material of the substrate S, the compatibility with the ultraviolet curable ink I1 may be deteriorated, and the adhesion between the substrate S and the metal spot M may be reduced. In such a case, by providing an easy-adhesion layer made of a material compatible with the ultraviolet curable ink I1 on the substrate S, the adhesiveness between the substrate S and the metal spot M can be improved.
(b)圧着工程
圧着工程では、図5(b)に示す通り、紫外線硬化型インクI1が印刷された基板Sに、金属フィルム12を圧着する。金属フィルム12は、予め所望の金属が蒸着されたコールドスタンピング用の転写箔である。金属フィルム12は、少なくともフィルム層と金属層を有する。フィルム層は、金属フィルム12のベースとなるフィルムであり、例えばポリエステルフィルムを用いることができる。フィルム層は、基板Sに転写されずに剥離される層である。
(B) Pressure Bonding Step In the pressure bonding step, as shown in FIG. 5B, the metal film 12 is bonded to the substrate S on which the ultraviolet curable ink I1 is printed. The metal film 12 is a transfer foil for cold stamping on which a desired metal is deposited in advance. The metal film 12 has at least a film layer and a metal layer. The film layer is a film serving as a base of the metal film 12, and for example, a polyester film can be used. The film layer is a layer that is separated without being transferred to the substrate S.
金属層は、フィルム層に形成された、所望の金属が蒸着された層である。例えば、真空蒸着法によるアルミニウムが蒸着された金属層とすることができる。ホログラムを有する金属フィルム12とする場合には、金属層はホログラム層と金属蒸着層を含む。ホログラム層は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等の樹脂層に、エンボス加工により微細な凹凸が形成された層である。金属蒸着層は、ホログラム層上に形成された、所望の金属が蒸着された層である。 The metal layer is a layer formed on the film layer, on which a desired metal is deposited. For example, a metal layer on which aluminum is deposited by a vacuum deposition method can be used. When the metal film 12 has a hologram, the metal layer includes a hologram layer and a metal deposition layer. The hologram layer is a layer in which fine irregularities are formed by embossing a resin layer such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, and an electron beam curable resin. The metal deposition layer is a layer formed on the hologram layer and on which a desired metal is deposited.
(c)紫外線照射工程
紫外線照射工程では、図5(c)に示す通り、金属フィルム12が圧着された基板Sに、UVランプ300を用いて紫外線硬化型インクI1を硬化する波長の紫外線を照射する。紫外線の照射により、紫外線硬化型インクI1は硬化する。そして、図5(d)に示す通り、金属フィルム12を剥がすと、紫外線硬化型インクI1が印刷された箇所においては、金属層が基板Sに転写され、フィルム層が剥離される。
(C) Ultraviolet Irradiation Step In the ultraviolet irradiation step, as shown in FIG. 5C, the substrate S to which the metal film 12 is pressed is irradiated with ultraviolet rays having a wavelength for curing the ultraviolet curable ink I1 using the UV lamp 300. I do. The ultraviolet curable ink I1 is cured by the irradiation of the ultraviolet light. Then, as shown in FIG. 5D, when the metal film 12 is peeled off, the metal layer is transferred to the substrate S at the portion where the ultraviolet curable ink I1 is printed, and the film layer is peeled.
一方、紫外線硬化型インクI1が印刷されなかった箇所においては、金属層は基板に密着しない。従って、基板Sの表面に、印刷された紫外線硬化型インクI1の配置に対応して網点状に複数の金属点Mが形成される。すなわち、コールドスタンピング法により製造される加飾フィルムFの、隣接する金属点Mの間の間隔は0.1mm以上となる。また、コールドスタンプ法により製造される加飾フィルムFの金属点の膜厚は100〜300Åとなる。 On the other hand, the metal layer does not adhere to the substrate in a portion where the ultraviolet curable ink I1 is not printed. Therefore, on the surface of the substrate S, a plurality of metal points M are formed in a halftone dot shape corresponding to the arrangement of the printed ultraviolet curable ink I1. That is, the interval between the adjacent metal points M of the decorative film F manufactured by the cold stamping method is 0.1 mm or more. The thickness of the metal spot of the decorative film F produced by the cold stamping method is 100 to 300 °.
(3)パスター方式蒸着法
パスター方式蒸着法による加飾フィルムFの製造方法は、以下の工程を含む。
(a)基板Sの上に、金属膜を蒸着する蒸着工程
(b)基板Sに蒸着された金属膜の上に、耐アルカリ性インクにより、網点状に配置された複数の点を印刷する印刷工程
(c)基板Sをアルカリ溶液に浸漬する浸漬工程
(3) Paster type vapor deposition method The manufacturing method of the decorative film F by the paster type vapor deposition method includes the following steps.
(A) A vapor deposition step of vapor-depositing a metal film on the substrate S. (b) Printing by printing a plurality of dots arranged in a halftone dot on the metal film vapor-deposited on the substrate S using an alkali-resistant ink. Step (c) An immersion step of immersing the substrate S in an alkaline solution
(a)蒸着工程
蒸着工程では、図6(a)に示す通り、基板Sに金属を真空蒸着して金属膜13を形成する。加飾フィルムFの金属点Mをホログラムとする場合には、真空蒸着した金属膜13に対して、エンボス加工により微細な凹凸が形成すればよい。なお、蒸着工程の前にエンボス加工工程を設けて基板Sに予め微細な凹凸を形成し、その後、金属膜13を蒸着しても良い。
(A) Deposition Step In the deposition step, a metal film 13 is formed by vacuum depositing a metal on the substrate S as shown in FIG. When the metal point M of the decorative film F is used as a hologram, fine irregularities may be formed on the metal film 13 by vacuum embossing. Note that an embossing process may be provided before the deposition process to form fine irregularities on the substrate S in advance, and then the metal film 13 may be deposited.
(b)印刷工程
印刷工程では、図6(b)に示す通り、基板Sに蒸着された金属膜13の上に、耐アルカリ性インクI2により、網点状に配置された複数の点を印刷する。印刷された耐アルカリ性インクI2の隣接する点間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。隣接する点間の間隔は、0.1mm以上である。
(B) Printing Step In the printing step, as shown in FIG. 6B, a plurality of dots arranged in a dot pattern are printed on the metal film 13 deposited on the substrate S with the alkali-resistant ink I2. . There is a space between adjacent points of the printed alkali-resistant ink I2, and this space forms a metal film having translucency. The distance between adjacent points is at least 0.1 mm.
(c)浸漬工程
浸漬工程では、図6(c)に示す通り、耐アルカリ性インクI2を金属膜13上に印刷した基板Sを、例えば水酸化ナトリウム水溶液等の、アルカリ溶液400に浸漬する。すると、耐アルカリ性インクI2が印刷されず、露出している部分の金属膜が溶解する。アルカリ溶液400に浸漬した基板Sは、水洗してアルカリ溶液を除去してから乾燥される。
(C) Immersion Step In the immersion step, as shown in FIG. 6C, the substrate S on which the alkali-resistant ink I2 is printed on the metal film 13 is immersed in an alkali solution 400 such as an aqueous sodium hydroxide solution. Then, the alkali-resistant ink I2 is not printed, and the exposed portion of the metal film is dissolved. The substrate S immersed in the alkaline solution 400 is washed with water to remove the alkaline solution, and then dried.
図6(d)に示す通り、耐アルカリ性インクI2が印刷された箇所においては、金属膜13が基板Sに蒸着されたまま残る。一方、耐アルカリ性インクI2が印刷されなかった箇所においては、金属膜13は溶解し、基板S上に残らない。従って、基板Sの表面に、印刷された耐アルカリ性インクI2の配置に対応して網点状に複数の金属点Mが形成される。パスター方式蒸着法より製造される加飾フィルムFの、隣接する金属点Mの間の間隔は0.1mm以上となる。また、パスター方式蒸着法により製造される加飾フィルムFの金属点の膜厚は100〜600Åとなる。 As shown in FIG. 6D, the metal film 13 remains deposited on the substrate S at a portion where the alkali-resistant ink I2 is printed. On the other hand, in a portion where the alkali-resistant ink I2 is not printed, the metal film 13 dissolves and does not remain on the substrate S. Therefore, on the surface of the substrate S, a plurality of metal points M are formed in a halftone dot shape corresponding to the arrangement of the printed alkali-resistant ink I2. The spacing between adjacent metal points M of the decorative film F manufactured by the paster deposition method is 0.1 mm or more. In addition, the thickness of the metal point of the decorative film F manufactured by the paster deposition method is 100 to 600 °.
(4)シーライト方式蒸着法
シーライト方式蒸着法による加飾フィルムFの製造方法は、以下の工程を含む。
(a)基板Sの上に、網点状に配置された複数の点を残すように水性インクを印刷する印刷工程
(b)水性インクが印刷された基板Sの上に、金属膜を蒸着する蒸着工程
(c)基板Sを水に浸漬する浸漬工程
(4) Sealight method vapor deposition method The manufacturing method of the decorative film F by the sealight method vapor deposition method includes the following steps.
(A) A printing step of printing a water-based ink on the substrate S so as to leave a plurality of dots arranged in a halftone pattern. (B) A metal film is deposited on the substrate S on which the water-based ink is printed. Vapor deposition step (c) Immersion step of immersing substrate S in water
(a)印刷工程
印刷工程では、図7(a)に示す通り、基板Sの上に、網点状に配置された複数の点を残すように水性インクI3を印刷する。すなわち、網点状に配置された複数の点部分については、水性インクI3が印刷されておらず基板Sが露出する。印刷された水性インクI3により残された網点状に配置された複数の点において、隣接する点間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。隣接する点間の間隔は、0.1mm以上である。
(A) Printing Step In the printing step, as shown in FIG. 7A, the aqueous ink I3 is printed on the substrate S so as to leave a plurality of dots arranged in halftone dots. That is, the water-based ink I3 is not printed on the plurality of dot portions arranged in a halftone dot shape, and the substrate S is exposed. At a plurality of dots arranged in a halftone dot shape left by the printed aqueous ink I3, there is a space between adjacent points, and the space forms a metal film having translucency. The distance between adjacent points is at least 0.1 mm.
(b)蒸着工程
蒸着工程では、図7(b)に示す通り、水性インクI3が印刷された基板Sに金属を真空蒸着して金属膜13を形成する。加飾フィルムFの金属点Mをホログラムとする場合には、真空蒸着した金属膜13に対して、エンボス加工により微細な凹凸が形成すればよい。なお、蒸着工程の前にエンボス加工工程を設けて基板Sに予め微細な凹凸を形成し、その後、金属膜13を蒸着しても良い。
(B) Vapor Deposition Step In the vapor deposition step, as shown in FIG. 7B, a metal is vacuum-deposited on the substrate S on which the aqueous ink I3 is printed to form the metal film 13. When the metal point M of the decorative film F is used as a hologram, fine irregularities may be formed on the metal film 13 by vacuum embossing. Note that an embossing process may be provided before the deposition process to form fine irregularities on the substrate S in advance, and then the metal film 13 may be deposited.
(c)浸漬工程
浸漬工程では、図7(c)に示す通り、水性インクI3上に金属膜13を蒸着した基板Sを、水500に浸漬する。すると、水性インクI2が印刷された部分の金属膜が溶解する。水500に浸漬した基板Sについては、乾燥を行う。
(C) Immersion Step In the immersion step, as shown in FIG. 7C, the substrate S on which the metal film 13 is deposited on the aqueous ink I3 is immersed in water 500. Then, the metal film in the portion where the aqueous ink I2 is printed is dissolved. The substrate S immersed in the water 500 is dried.
図7(d)に示す通り、水性インクI3が印刷された箇所においては、金属膜13は溶解し、基板S上に残らない。一方、水性インクI3が印刷されなかった箇所においては、金属膜13が基板Sに蒸着されたまま残る。従って、基板Sの表面に、水性インクI3が印刷されなかった箇所に対応して網点状に複数の金属点Mが形成される。シーラント方式蒸着法より製造される加飾フィルムFの、隣接する金属点Mの間の間隔は0.1mm以上となる。また、シーラント方式蒸着法により製造される加飾フィルムFの金属点の膜厚は100〜600Åとなる。 As shown in FIG. 7D, at the portion where the aqueous ink I3 is printed, the metal film 13 is dissolved and does not remain on the substrate S. On the other hand, in a portion where the aqueous ink I3 is not printed, the metal film 13 remains deposited on the substrate S. Therefore, on the surface of the substrate S, a plurality of metal dots M are formed in a halftone dot shape corresponding to a portion where the aqueous ink I3 is not printed. The distance between adjacent metal points M of the decorative film F manufactured by the sealant deposition method is 0.1 mm or more. Further, the thickness of the metal point of the decorative film F manufactured by the sealant type vapor deposition method is 100 to 600 °.
[3.作用効果]
以上のような構成を有する本実施形態の加飾フィルムおよびその製造方法の作用効果を以下に説明する。
(1)基板Sを有し、基板Sの一方の面に、網点状に配置された複数の金属点Mが形成され、隣接する金属点の間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。
[3. Effect]
The effects of the decorative film of the present embodiment having the above-described configuration and the manufacturing method thereof will be described below.
(1) Having a substrate S, a plurality of metal points M arranged in a halftone dot shape are formed on one surface of the substrate S, and there is a space between adjacent metal points, and the space is semi-transparent. A metal film having a property is formed.
以上のような加飾フィルムFにおいては、金属点M間の空間により半透明性を有する金属膜が形成され、金属そのものとは異なる印象を与えることができ、意匠性に優れた加飾フィルムFを提供することができる。 In the decorative film F as described above, a semi-transparent metal film is formed due to the space between the metal points M, and an impression different from that of the metal itself can be given, and the decorative film F having excellent design properties. Can be provided.
(2)隣接する金属点間の間隔は0.1mm以上である。 (2) The distance between adjacent metal points is 0.1 mm or more.
隣接する金属点間の間隔を0.1mm以上とすると間隔が確実に視認可能となる。そのため、金属点Mの形状および大きさを調整することにより、半透明の金属のような質感を有する加飾フィルムFを提供することができる。また、基板Sを有色の基板Sとした場合には、基板Sの色と金属点Mの色や質感の違いにより、一面に金属膜が形成された基板とは異なる印象を与えることが可能となり、デザイン性が向上する。 When the interval between adjacent metal points is 0.1 mm or more, the interval can be visually confirmed without fail. Therefore, by adjusting the shape and size of the metal point M, it is possible to provide the decorative film F having a texture like a translucent metal. Further, when the substrate S is a colored substrate S, it is possible to give an impression different from that of a substrate having a metal film formed on one surface due to a difference between the color of the substrate S and the color or texture of the metal points M. , The design is improved.
(3)基板Sが、透明基板である。 (3) The substrate S is a transparent substrate.
基板Sを透明基板とすることで、より確実に半透明の印象を与えることが可能となり、意匠性を向上することができる。 By making the substrate S a transparent substrate, it is possible to give a translucent impression more reliably, and it is possible to improve the design.
(4)金属点Mの金属が、アルミニウムである (4) The metal at metal point M is aluminum
従来、アルミニウムは延伸性が低く、フィルムインサート成形やインモールド成形により樹脂成型品と一体成型を行うと、ひび割れによる白化が生じる場合があった。そのため、従来では延伸性の高い金属が代用されていた。しかし、本実施形態の加飾フィルムFは、金属点Mの間に間隔を有する。この間隔により、基板S上の金属膜が予め分断されていることから、金属点Mにクラックが生じることが防止される。従って、輝度の高いアルミニウムの金属点Mが形成された加飾フィルムFを用いて一体成型を行うことが可能となるため、意匠性が向上する。また、アルミニウムは電波透過性を有さない金属であるが、金属点Mの間の間隔により、加飾フィルムFにアルミニウムを用いた場合であっても電波透過性を付与することができる。 Conventionally, aluminum has low stretchability, and when integrally molded with a resin molded product by film insert molding or in-mold molding, whitening may occur due to cracking. Therefore, conventionally, a metal having high stretchability has been used instead. However, the decorative film F of the present embodiment has an interval between the metal points M. Since the metal film on the substrate S is divided beforehand by this interval, the occurrence of cracks at the metal points M is prevented. Accordingly, since it is possible to perform integral molding using the decorative film F on which the metal points M of aluminum having high luminance are formed, the design property is improved. Aluminum is a metal that does not have radio wave transmission. However, the space between metal points M can impart radio wave transmission even when aluminum is used for the decorative film F.
(5)金属点Mが、ホログラムである。 (5) The metal point M is a hologram.
従来、ホログラムは偽造防止等のセキュリティ用途で用いられている。セキュリティ用途で用いられるホログラムには、例えば貯金通帳の印鑑の上に貼り付けられる、透明ホログラム箔がある。加飾フィルムFの金属点Mをホログラムとすることにより、加飾フィルムFの意匠性が向上するとともに、セキュリティ用途のホログラムシートとして用いることが可能となる。 Conventionally, holograms have been used for security applications such as forgery prevention. Holograms used for security applications include, for example, a transparent hologram foil that is pasted on a seal of a bankbook. By making the metal points M of the decorative film F into a hologram, the decorative film F is improved in designability and can be used as a hologram sheet for security use.
(6)基板Sが熱可塑性を有する樹脂である。 (6) The substrate S is a thermoplastic resin.
基板Sを熱可塑性樹脂とすることで、加飾フィルムFをフィルムインサート成形やインモールド成形により樹脂成型品と一体成型を行うことが可能となる。 By making the substrate S a thermoplastic resin, the decorative film F can be integrally molded with a resin molded product by film insert molding or in-mold molding.
(7)基板Sの上に、金属フィルム11を載置する載置工程と、金属フィルム11が載置された基板Sを、網点状に配置された複数の凸部20を有する版200を用いて加熱および加圧するホットスタンピング工程と、を有し、複数の凸部20の天面間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。 (7) A placing step of placing the metal film 11 on the substrate S, and a step of placing the substrate S on which the metal film 11 is placed on the plate 200 having the plurality of convex portions 20 arranged in a halftone dot shape. And a hot stamping step of heating and pressurizing, and there is a space between the top surfaces of the plurality of projections 20, and a semi-transparent metal film is formed by this space.
ホットスタンプ法では、従来用いられているホットスタンピング用転写箔を用いて加飾フィルムFを製造することが可能となる。例えば、上記のセキュリティ用途用の透明ホログラムに代表される半透明の金属フィルムは、透明基板に対し膜厚の薄い金属膜を形成することにより製造される。つまり、透過性を有さないホログラム箔と、透明ホログラム箔は、それぞれ別の製造工程により製造されている。 In the hot stamping method, the decorative film F can be manufactured by using a conventionally used transfer foil for hot stamping. For example, a translucent metal film typified by the above-mentioned transparent hologram for security use is manufactured by forming a thin metal film on a transparent substrate. That is, the hologram foil having no transparency and the transparent hologram foil are manufactured by different manufacturing processes.
一方、本実施形態のホットスタンプ法を用いた場合、透過性を有さないホログラム箔を用いて透明ホログラム箔を製造することが可能となる。従って、透明ホログラム箔を製造するための設備を別途確保せずとも、意匠性の高い加飾フィルムFを製造することができる。 On the other hand, when the hot stamping method of the present embodiment is used, a transparent hologram foil can be manufactured using a hologram foil having no transparency. Therefore, the decorative film F with high designability can be manufactured without separately securing equipment for manufacturing the transparent hologram foil.
(8)基板Sの上に、紫外線硬化型インクI1により網点状に配置された複数の点を印刷する印刷工程と、紫外線硬化型インクI1が印刷された基板Sに、金属フィルム12を圧着する圧着工程と、金属フィルム12が圧着された基板Sに、紫外線を照射する紫外線照射工程と、を有し、複数の点間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。 (8) A printing step of printing a plurality of dots arranged in a halftone pattern with the ultraviolet curable ink I1 on the substrate S, and pressing the metal film 12 on the substrate S on which the ultraviolet curable ink I1 is printed. Pressurizing step, and an ultraviolet irradiation step of irradiating the substrate S with the metal film 12 pressed thereto with ultraviolet rays. There is a space between the plurality of points, and the metal film having translucency is formed by the space. It is formed.
コールドスタンプ法では、印刷機を用いて紫外線硬化型インクI1を印刷する。従って、ホットスタンピング法のように版200の形状による制限を受けず、0.1mm以上の間隔で金属点Mを製造することが可能となる。また、ホットスタンプ法では、ピンホール発生防止の観点から転写可能な面積が制限を受けるが、コールドスタンプ法では印刷機器の大きさに併せた、比較的大きな加飾フィルムFを提供することができる。 In the cold stamp method, the ultraviolet curable ink I1 is printed using a printing machine. Accordingly, the metal points M can be manufactured at intervals of 0.1 mm or more without being limited by the shape of the plate 200 as in the hot stamping method. In the hot stamping method, the transferable area is limited from the viewpoint of preventing pinholes, but the cold stamping method can provide a relatively large decorative film F according to the size of the printing device. .
(9)基板Sの上に、金属膜13を蒸着する蒸着工程と、基板Sに蒸着された金属膜13の上に、耐アルカリ性インクI2により、網点状に配置された複数の点を印刷する印刷工程と、基板Sをアルカリ溶液400に浸漬する浸漬工程とを有し、複数の点間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。
(10)基板Sの上に、網点状に配置された複数の点を残すように水性インクI3を印刷する印刷工程と、水性インクがI3印刷された基板Sの上に、金属膜13を蒸着する蒸着工程と、基板Sを水に浸漬する浸漬工程と、を有し、複数の点間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される。
(9) An evaporation step of evaporating the metal film 13 on the substrate S, and printing of a plurality of dots arranged in a halftone dot on the metal film 13 evaporated on the substrate S using the alkali-resistant ink I2. And a dipping step of dipping the substrate S in the alkaline solution 400. There is a space between the plurality of points, and the space forms a translucent metal film.
(10) A printing step of printing the aqueous ink I3 on the substrate S so as to leave a plurality of dots arranged in a halftone pattern, and forming the metal film 13 on the substrate S on which the aqueous ink is printed I3. The method includes a vapor deposition step of vapor deposition and an immersion step of immersing the substrate S in water. There is a space between the plurality of points, and the space forms a metal film having translucency.
パスタ―方式およびシーラント方式では、ロールtoロールの製造が可能となるため、生産効率を高めることができる。すなわち、ロールから繰り出された基板Sを金属蒸着窯に導入し蒸着を行うが、この真空蒸着窯の前後においてインクを印刷する工程を設けることができる。そして、各浸漬工程を行う設備を配置することで、加飾フィルムFが連続する工程により製造可能となる。そのため、1000mm超のフィルム幅を有する加飾フィルムFを製造可能となる。 In the paster method and the sealant method, roll-to-roll production can be performed, so that production efficiency can be improved. That is, the substrate S unwound from the roll is introduced into the metal vapor deposition furnace to perform vapor deposition, and a step of printing ink before and after the vacuum vapor deposition furnace can be provided. And by arranging the equipment for performing each immersion step, the decorative film F can be manufactured in a continuous step. Therefore, the decorative film F having a film width of more than 1000 mm can be manufactured.
[4.その他の実施の形態]
上記の実施形態では、網点状に配置された金属点Mとして、形状およびサイズが同一である金属点を等間隔に規則的に並べる形態を例示した。ただし、金属点Mの大きさと形状は、必ずしも同一である必要はない。例えば、金属点Mの大きさを任意に調整することで、濃淡の違いを表現しても良い。例えば、網点の間隔を狭く、点を大きくすれば色は濃く見える。また、間隔を広く点を小さくすれば、色が薄く見える。このように網点の大きさと間隔を規則的に調整することにより、色調を再現し、例えば写真等を金属点Mにより再現することができ、加飾フィルムFの意匠性が向上される。
[4. Other Embodiments]
In the above-described embodiment, a form in which metal points having the same shape and size are regularly arranged at regular intervals is illustrated as the metal points M arranged in a halftone dot shape. However, the size and shape of the metal point M need not always be the same. For example, the difference in shading may be expressed by arbitrarily adjusting the size of the metal point M. For example, if the interval between the halftone dots is small and the dots are large, the color looks dark. Also, if the intervals are wide and the dots are small, the color looks light. By regularly adjusting the size and interval of the halftone dots in this way, the color tone can be reproduced, for example, a photograph or the like can be reproduced by the metal dots M, and the design property of the decorative film F is improved.
同様に、金属点Mの間隔は、必ずしも同一である必要はない。例えば、同じ大きさの金属点Mであっても、間隔の大きさが異なれば濃淡に違いがでる。例えば、網点のサイズは同一であっても、網点の集合密度を高くすることによって濃い色を再現することができる。すなわち、網点の集合密度を変化させることで、様々な模様を金属点Mにより再現することがでる。これにより、加飾フィルムFの意匠性が向上される。 Similarly, the intervals between the metal points M need not always be the same. For example, even if the metal points M have the same size, if the size of the interval is different, a difference in shading occurs. For example, even if the sizes of the halftone dots are the same, a dark color can be reproduced by increasing the aggregation density of the halftone dots. That is, various patterns can be reproduced by the metal points M by changing the aggregation density of the halftone dots. Thereby, the design property of the decorative film F is improved.
S…基板
M…金属点
11、12…金属フィルム
13…金属膜
200…版
20…凸部
300…UVランプ
400…アルカリ溶液
500…水
S: Substrate M: Metal points 11, 12: Metal film 13: Metal film 200: Plate 20: Convex part 300: UV lamp 400: Alkaline solution 500: Water
Claims (11)
前記基板の一方の面に、網点状に配置された複数の金属点が形成され、
隣接する金属点の間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される加飾フィルム。 Having a substrate,
On one surface of the substrate, a plurality of metal dots arranged in a dot pattern are formed,
A decorative film in which there is a space between adjacent metal points, and the space forms a translucent metal film.
前記金属フィルムが載置された基板を、網点状に配置された複数の凸部を有する版を用いて加熱および加圧するホットスタンピング工程と、を有し、
前記複数の凸部の天面間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される加飾フィルムの製造方法。 A mounting process of mounting a metal film on a substrate,
A hot stamping step of heating and pressing the substrate on which the metal film is mounted using a plate having a plurality of convex portions arranged in a halftone dot,
A method for manufacturing a decorative film, wherein there is a space between the top surfaces of the plurality of protrusions, and the space forms a translucent metal film.
前記紫外線硬化型インクが印刷された基板に、金属フィルムを圧着する圧着工程と、
前記金属フィルムが圧着された基板に、紫外線を照射する紫外線照射工程と、を有し、
前記複数の点間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される加飾フィルムの製造方法。 On the substrate, a printing step of printing a plurality of dots arranged in a halftone dot by ultraviolet curable ink,
A pressing step of pressing a metal film on the substrate on which the ultraviolet-curable ink is printed,
An ultraviolet irradiation step of irradiating ultraviolet light to the substrate on which the metal film is pressed,
A method for manufacturing a decorative film, wherein there is a space between the plurality of points, and the space forms a translucent metal film.
基板に蒸着された前記金属膜の上に、耐アルカリ性インクにより、網点状に配置された複数の点を印刷する印刷工程と、
前記耐アルカリ性インクが印刷された基板をアルカリ溶液に浸漬する浸漬工程と、を有し、
前記複数の点間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される加飾フィルムの製造方法。 On a substrate, a deposition step of depositing a metal film,
On the metal film deposited on the substrate, a printing step of printing a plurality of dots arranged in a halftone dot with an alkali-resistant ink,
An immersion step of immersing the substrate on which the alkali-resistant ink is printed in an alkaline solution,
A method for manufacturing a decorative film, wherein there is a space between the plurality of points, and the space forms a translucent metal film.
前記水性インクが印刷された基板の上に、金属膜を蒸着する蒸着工程と、
前記金属膜が蒸着された基板を水に浸漬する浸漬工程と、を有し、
前記複数の点間には空間があり、この空間により半透明性を有する金属膜が形成される加飾フィルムの製造方法。 On the substrate, a printing step of printing the aqueous ink so as to leave a plurality of dots arranged in a halftone,
On the substrate on which the aqueous ink is printed, a deposition step of depositing a metal film,
An immersion step of immersing the metal film-deposited substrate in water,
A method for manufacturing a decorative film, wherein there is a space between the plurality of points, and the space forms a translucent metal film.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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|---|---|---|---|---|
| WO2024202547A1 (en) | 2023-03-31 | 2024-10-03 | 日東電工株式会社 | Laminate and method for manufacturing laminate |
| KR20240160098A (en) | 2022-02-28 | 2024-11-08 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Laminated film |
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