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JP2020004794A - 基板を搬送するための洗浄部搬送ロボット、基板処理装置および基板の搬送方法 - Google Patents

基板を搬送するための洗浄部搬送ロボット、基板処理装置および基板の搬送方法 Download PDF

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JP2020004794A JP2018120909A JP2018120909A JP2020004794A JP 2020004794 A JP2020004794 A JP 2020004794A JP 2018120909 A JP2018120909 A JP 2018120909A JP 2018120909 A JP2018120909 A JP 2018120909A JP 2020004794 A JP2020004794 A JP 2020004794A
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國澤 淳次
Junji Kunisawa
淳次 國澤
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Ebara Corp
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Abstract

【課題】基板処理装置のための進歩的な洗浄部搬送ロボットを提供する。
【解決手段】ベースと、回転テーブルと、第1のモータと、第1の基板搬送機構であって、第1のモータと共通の回転軸を有する第2のモータと、第1のアームと、第3のモータと、第2のアームと、第4のモータと、第1のハンドと、を備える、第1の基板保持機構と、第2の基板搬送機構であって、第1のモータと共通の回転軸を有する第5のモータと、第3のアームと、第6のモータと、第4のアームと、第7のモータと、第2のハンドと、を備える、第2の基板搬送機構と、を備え、各アームおよび各ハンドは第1のモータの回転軸と垂直な方向に延びており、第3、第4、第6および第7のモータは第1のモータの回転軸と平行な回転軸を有する、洗浄部搬送ロボットを開示する。
【選択図】図2B

Description

本発明は、基板を搬送するための洗浄部搬送ロボット、基板処理装置および基板の搬送方法に関する。
従来から、基板の表面を研磨するためのCMP(Chemical Mechanical Polishing、化学機械研磨)装置が知られている。一般的なCMP装置は、研磨パッドが取り付けられた研磨テーブルと、基板が取り付けられたトップリング(研磨ヘッドともいう。)と、を備える。研磨パッドには研磨液が供給される。一般的なCMP装置は、基板を研磨パッドに押し付けて、研磨テーブルとトップリングの少なくとも一方、好ましくは双方を回転させることで基板を研磨する。
CMP装置による研磨により、基板には異物、たとえば研磨液中の砥粒等、が付着し得る。基板に付着した異物は基板の欠陥等の原因となり得る。したがって、基板に付着した異物は基板の研磨後に取り除かれることが好ましい。そこで、研磨部と基板洗浄部の双方を備える基板処理装置が知られている。
基板処理装置の例を図1に挙げる。図1は基板処理装置100を模式的に示す上面図である。図1の基板処理装置100は、ロード・アンロード部110と、研磨部120と、ウエハステーション130(図中の「WS」)を備える。基板処理装置100はさらに、基板搬送ユニット140と、基板洗浄部150と、制御部160とを備える。ロード・アンロード部110は、FOUP111と、ロード・アンロード部の搬送ロボット112とを備えてよい。研磨部120は、第1の研磨装置121、第2の研磨装置122、第3の研磨装置123および第4の研磨装置124を備えてよい(それぞれ図中の「POS A〜POS D」)。基板洗浄部150は第1の洗浄モジュール151、第2の洗浄モジュール152および第3の洗浄モジュールを備えてよい(それぞれ図中の「CL1〜CL3」)。基板は、第1の洗浄モジュール151から第3の洗浄モジュール153にかけて複数回洗浄される。
基板洗浄部150はさらに第1の洗浄部搬送ロボット154および第2の洗浄部搬送ロボット155を備えてよい。基板処理装置100は、複数の基板洗浄部150を備えてもよい。
図1の基板処理装置100において、第1の洗浄部搬送ロボット154はウエハステーション130から研磨後の基板を受け取り、受け取った基板を第1の洗浄モジュール151に搬送する。また、第1の洗浄部搬送ロボット154は第1の洗浄モジュール151によって洗浄された基板を受け取り、受け取った基板を第2の洗浄モジュール152に搬送する。第2の洗浄部搬送ロボット155は第2の洗浄モジュール152によって洗浄された基板を受け取り、受け取った基板を第3の洗浄モジュール153に搬送する。
第1の洗浄部搬送ロボット154は、研磨後かつ洗浄前の基板と、第1の洗浄モジュール151によって洗浄された基板の双方を取り扱う。したがって、研磨後の基板に付着していた研磨液が第1の洗浄モジュール151による洗浄後の基板に乗り移らないように第1の洗浄部搬送ロボット154が構成されていることが好ましい。そこで、第1の洗浄部搬送ロボット154は少なくとも2本のハンドを有することが好ましい。少なくとも2本のハンドを有することで、研磨後かつ洗浄前の基板と洗浄後の基板とを別々のハンドで搬送することができる。
効率よく基板を搬送するために、洗浄部搬送ロボットのハンドは独立に動作可能であることが好ましい。しかし、基板処理装置100内のスペースは限られているので、独立に動作可能であるようにハンドを構成できるとは限らなかった。そこで本願は、限られたスペース内でもハンドを独立に動作させることが可能である、進歩的な洗浄部搬送ロボットを提供することを一つの目的とする。
本願は、一実施形態として、基板処理装置の基板洗浄部の洗浄モジュールに基板を搬送するため、および、洗浄モジュールから基板を搬送するための洗浄部搬送ロボットであって、ベースと、ベースに設けられた回転テーブルと、回転テーブルを回転させるための第1のモータと、第1の基板搬送機構であって、回転テーブルに設けられ、かつ、第1のモータと共通の回転軸を有する、第2のモータと、第2のモータに接続された第1のアームと、第1のアームの先端に設けられた第3のモータと、第3のモータに接続された第2のアームと、第2のアームの先端に設けられた第4のモータと、第4のモータに接続された、基板を保持するための第1のハンドと、を備える、第1の基板保持機構と、第2の基板搬送機構であって、第1のアームに設けられ、かつ、第1のモータと共通の回転軸を有する、第5のモータと、第5のモータに接続された第3のアームと、第3のアームの先端に設けられた第6のモータと、第6のモータに接続された第4のアームと、第4のアームの先端に設けられた第7のモータと、第7のモータに接続された、基板を保持するための第2のハンドと、を備える、第2の基板搬送機構と、を備え、第1のアーム、第2のアーム、第3のアーム、第4のアーム、第1のハンドおよび第2のハンドのそれぞれは第1のモータの回転軸と垂直な方向に延びており、第3のモータ、第4のモータ、第6のモータおよび第7のモータのそれぞれは、第1のモータの回転軸と平行な回転軸を有する、洗浄部搬送ロボットを開示する。
基板処理装置を模式的に示す上面図である。 洗浄部搬送ロボットの上面図である。 図2Aの洗浄部搬送ロボットの正面図である。 比較例にかかる洗浄部搬送ロボットの正面図である。 センサおよびトレイを備える洗浄部搬送ロボットの正面図である。 図2の洗浄部搬送ロボットを用いて、ウエハステーションから第1の洗浄モジュールへ、および、第1の洗浄モジュールから第2の洗浄モジュールへ基板を搬送する手法の第1段階(以下では単に「第x段階」という)を示す図である。 図5Aに示される第1段階に続く第2段階を示す図である。 図5Bに示される第2段階に続く第3段階を示す図である。 図5Cに示される第3段階に続く第4段階を示す図である。 図5Dに示される第4段階に続く第5段階を示す図である。 図5Eに示される第5段階に続く第6段階を示す図である。 図5Fに示される第6段階に続く第7段階を示す図である。 図5Gに示される第7段階に続く第8段階を示す図である。 図5Hに示される第8段階に続く第9段階を示す図である。 図5Iに示される第9段階に続く第10段階を示す図である。 図5Jに示される第10段階に続く第11段階を示す図である。 図5Kに示される第11段階に続く第12段階を示す図である。 基板が収容された第1の洗浄モジュールおよび第1の洗浄部搬送ロボットを示す図である。 図6Aの第1の洗浄部搬送ロボットの第2のハンドが第1の洗浄モジュールに収容された基板を受け取っている様子を示す図である。 図6Bの後に第2の基板搬送機構が折りたたまれた様子を示す図である。 フィルターファンユニットおよび第1の洗浄部搬送ロボットを示す図である。
本願の一実施形態にかかる基板処理装置100は、進歩的な改良点を除き、図1とおおよそ同等の構成を有する。ただし、図1は模式図に過ぎないことに留意されたい。たとえば、実際の基板処理装置は図1と異なった形状であってよい。たとえば、実際の基板処理装置は図1に図示されていない要素を有していてもよい。
ロード・アンロード部110は、処理が必要な基板を基板処理装置100の外部からロードするために、および、処理が終了した基板を基板処理装置100の内部からアンロードするために設けられている。基板は、シリコンウエハであってもよく、他の種類の基板であってもよい。ロード・アンロード部110は、少なくとも1つ(図示された例では4つ)のFOUP111と、ロード・アンロード部の搬送ロボット112と、を備える。FOUP111は基板または基板が収容された基板カセットを収容することができる。ロード・アンロード部の搬送ロボット112は、所望のFOUP111から/へ、基板を受け取る/受け渡す。ロード・アンロード部の搬送ロボット112によって受け取られた基板は、後述する基板搬送ユニット140および/または図示されない機構などによって研磨部120へ送られてよい。
図1の例における研磨部120は、第1の研磨装置121、第2の研磨装置122、第3の研磨装置123および第4の研磨装置124を備える。ここで、研磨装置を説明する際に用いられる「第1の」「第2の」などの用語は基板処理装置100の構成要素を区別するための用語に過ぎない。換言すれば、研磨装置を説明する際に用いられる「第1の」「第2の」などの用語は、研磨の順序と無関係であってもよく、研磨の順序と関係していてもよい。
第1の研磨装置121〜第4の研磨装置124のそれぞれは、たとえばCMP装置である。第1の研磨装置121〜第4の研磨装置124のそれぞれは、研磨パッドを取り付けるための研磨テーブル(図示せず)と、基板を取り付けるためのトップリング(図示せず)と、を備える。ただし、第1の研磨装置121〜第4の研磨装置124のそれぞれは、他の構成のCMP装置であってもよく、CMP装置以外の研磨装置であってもよい。第1の研磨装置121〜第4の研磨装置124のそれぞれは、研磨パッドに研磨液等を供給するための液体供給装置(図示せず)を備えていてもよい。液体供給装置は、第1の研磨装置121〜第4の研磨装置124のそれぞれに別個に備えられていてもよい。1つの液体供給装置が複数の研磨装置に液体を供給するように構成されていてもよい。
研磨部120によって研磨された基板は、ウエハステーション130に搬送される。ウエハステーション130は研磨された後かつ洗浄される前の基板を保持することが可能であるように構成されている。ウエハステーション130は1枚の基板を保持することが可能であってもよく、2枚以上の基板を保持することが可能であってもよい。基板搬送ユニット140は、研磨部120からウエハステーション130へ基板を搬送するように構成される。なお、前述のとおり、基板搬送ユニット140はロード・アンロード部110と研磨部120の間の基板の搬送の少なくとも一部を担当してもよい。
ウエハステーション130に保持されている基板は、基板洗浄部150に搬送される。ウエハステーション130と基板洗浄部150との間の基板の搬送は、第1の洗浄部搬送ロボット154によって行われる。基板洗浄部150に搬送された基板は、各洗浄モジュール(第1の洗浄モジュール151、第2の洗浄モジュール152および第3の洗浄モジ
ュール153)によって洗浄される。より具体的には、各洗浄モジュールに備えられた洗浄機(図示せず)が基板を洗浄するように構成されてよい。また、洗浄の最終工程を担当する洗浄モジュール(図1の例では第3の洗浄モジュール153)は、基板を乾燥させる機能、たとえば基板を高速で回転させる機能(スピンドライ機能)を有していてもよい。追加的または代替的に、第3の洗浄モジュール153の後段に乾燥モジュールを設けてもよい。また、基板洗浄部150に設けられた洗浄モジュールの数は3つに限らない。洗浄モジュールの数は1つであってもよく、2つであってもよく、4つ以上であってもよい。洗浄モジュールの数および/または配置などに応じて、洗浄部搬送ロボットの数および/または配置などもまた変更されてよい。
図2に一実施形態にかかる洗浄部搬送ロボットを示す。以下では、図2に示した洗浄部搬送ロボットは第1の洗浄部搬送ロボット154であるとして説明する。しかし、第2の洗浄部搬送ロボット155が図2に示すように構成されていてもよい。図2Aは第1の洗浄部搬送ロボット154の上面図である。図2Bは第1の洗浄部搬送ロボット154の正面図である。図2の第1の洗浄部搬送ロボット154は、ベース200と、ベース200上に位置する回転テーブル210と、を備える。ベース200と回転テーブル210との間には第1のモータ205が設けられている。第1のモータ205は回転テーブル210を回転させることが可能である。
第1の洗浄部搬送ロボット154はさらに、第1の基板搬送機構201と、第2の基板搬送機構202と、を備える。第1の基板搬送機構201は、第2のモータ215と、第1のアーム220と、第3のモータ225と、第2のアーム230と、第4のモータ235と、第1のハンド240と、を備える。第2の基板搬送機構202は、第5のモータ245と、第3のアーム250と、第6のモータ255と、第4のアーム260と、第7のモータ265と、第2のハンド270と、を備える。
回転テーブル210の中央上部には、第1のアーム220のための第2のモータ215が設けられている。第2のモータ215の回転軸は第1のモータ205の回転軸と共通である。ただし、ここでいう「回転軸が共通」とは、「仮想的な回転軸(axis)が共通」であること、他の言い方をすれば「各モータの軸(axis)の延長線が(設計誤差、取付誤差、製造誤差などの許容し得る誤差の範囲で)同一の直線上にあること」意味し、必ずしも「機械部品としての回転軸(shaft)を共用している」ことを意味しない。第2のモータ215には第1のアーム220が接続されている。第1のアーム220は第2のモータ215によって回転させられる。
第1のアーム220の先端かつ上部には、第2のアーム230のための第3のモータ225が設けられている。第3のモータ225には第2のアーム230が接続されている。第1のアーム220および第2のアーム230の長さは、第1のハンド240が基板を受け取るべき/受け渡すべき位置に応じて決定されることが好ましい。好ましくは、第2のアーム230の長さは第1のアーム220の長さとほぼ同一である。
第2のアーム230の先端かつ上部には、第1のハンド240のための第4のモータ235が設けられている。第4のモータ235には第1のハンド240が接続されている。第1のハンド240は基板を保持するための部材である。第1のハンド240はたとえば第1の洗浄モジュール151から第2の洗浄モジュール152への基板の搬送のために用いられる。第4のモータ235が第1のハンド240を回転させることで、第2のアーム230に対する第1のハンド240の向きを変更することができる。また、図2Bにもっともよく示されているように、第2のモータ215、第3のモータ225および第4のモータ235が協働することにより、第1の基板搬送機構201は折りたたまれ得る。一方で、第2のモータ215、第3のモータ225および第4のモータ235が協働すること
により、第1の基板搬送機構201は任意の方向に向けて展開され得る。
第1のアーム220の根元かつ上部には、第3のアーム250のための第5のモータ245が設けられている。第5のモータ245の回転軸は第1のモータ205の回転軸と共通である。第5のモータ245には第3のアーム250が接続されている。第3のアーム250は第5のモータ245によって回転させられる。なお、図2に示した構成では、第2のモータ215の上部に第3のアーム250が位置するので、第2のモータ215の引き起こす回転力が第3のアーム250に伝わる。したがって、第3のアーム250は第5のモータ245のみならず第2のモータ215によっても回転させられる。第2のモータ215による第3のアーム250の回転は、第5のモータ245によって相殺されてもよい。代替として、第2のモータ215の引き起こす回転力が第3のアーム250に伝わらないよう、第1の洗浄部搬送ロボット154を構成してもよい。
第3のアーム250の先端かつ上部には、第4のアーム260のための第6のモータ255が設けられている。第6のモータ255には第4のアーム260が接続されている。第3のアーム250および第4のアーム260の長さは、第2のハンド270が基板を受け取るべき/受け渡すべき位置に応じて決定されることが好ましい。好ましくは、第3のアーム250の長さは第4のアーム260の長さとほぼ同一である。一実施形態では、第1のアーム220、第2のアーム230、第3のアーム250および第4のアーム260のそれぞれの長さはほぼ等しい。ただし、ここにいう「アームの長さ」とは、字義通りのアームの長さであってもよく、アームの実効長であってもよい。ここにいう「アームの実効長」とは、各アームの根元に設けられたモータの回転軸と、各アームの先端に設けられたモータの回転軸との間のアームの長さをいう。一方で、装置に要求される仕様によっては、必ずしも各アームの長さを等しくする必要はない。
第4のアーム260の先端かつ上部には、第2のハンド270のための第7のモータ265が設けられている。第7のモータ265には第2のハンド270が接続されている。第2のハンド270は基板を保持するための部材である。第2のハンド270はたとえばウエハステーション130から第1の洗浄モジュール151への基板の搬送のために用いられる。ただし、第1のハンド240の役割と、第2のハンド270との役割は入れ替えられてもよい。第7のモータ265が第2のハンド270を回転させることで、第4のアーム260に対する第2のハンド270の向きを変更することができる。また、図2Bにもっともよく示されているように、第5のモータ245、第6のモータ255および第7のモータ265が協働することにより、第2の基板搬送機構202は折りたたまれ得る。一方で、第5のモータ245、第6のモータ255および第7のモータ265が協働することにより、第2の基板搬送機構202は任意の方向に向けて展開され得る。
第1のアーム220、第2のアーム230、第3のアーム250、第4のアーム260、第1のハンド240および第2のハンド270のそれぞれは、第1のモータ205の回転軸と垂直な方向(通常は水平方向)に延びている。また、第3のモータ225、第4のモータ235、第6のモータ255および第7のモータ265のそれぞれは、第1のモータ205の回転軸と平行な回転軸を有する。なお、前述のとおり、第2のモータ215および第5のモータ245については第1のモータ205と共通な回転軸を有する。したがって、第2のモータ215および第5のモータ245のそれぞれの回転軸は、当然に第1のモータ205の回転軸と平行である。
第1の洗浄部搬送ロボット154は、第1の基板搬送機構201および/または第2の基板搬送機構202が折りたたまれた場合に部品間の衝突が生じないように構成される。換言すれば、第1のモータ205の回転軸に沿った方向における、第5のモータ245および第3のアーム250の位置(通常は高さ方向の位置)は、第1のモータ205の回転
軸に沿った方向における第1のアーム220の位置および第1のモータ205の回転軸に沿った方向における第2のアーム230の位置の間である。また、第1のモータ205の回転軸に沿った方向における、第2のアーム230、第4のモータ235および第1のハンド240の位置は、第1のモータ205の回転軸に沿った方向における第3のアーム250の位置および第1のモータ205の回転軸に沿った方向における第4のアーム260の位置の間である。
第1のモータ205〜第7のモータ265の少なくとも1つは、第1の洗浄部搬送ロボット154に用いられる配線を通すために、中空軸モータであってよい。また、第1の洗浄部搬送ロボット154は基板の洗浄に用いられることから、好ましくは、第1の洗浄部搬送ロボット154は防塵機能および防水機能の少なくとも一方を有する。さらに、第1の洗浄部搬送ロボット154は研磨部120が用いる研磨液および基板洗浄部150が用いる洗浄液等の薬液に曝され得る。そこで好ましくは、第1の洗浄部搬送ロボット154の少なくとも一部は耐薬品性を有する材料で構成されているか、第1の洗浄部搬送ロボット154の少なくとも一部に耐薬品性コーティングが施されている。
図2の各モータは、制御部160によって制御される。制御部160が各モータを制御することによって、第1のハンド240と第2のハンド270とを独立に動作させることが可能となる。各アームおよび各ハンドを回転させるための要素として、プーリなどではなくモータを用いることで、各アームおよび各ハンドの自在な動作が可能となっている。
図2の第1の洗浄部搬送ロボット154における第5のモータ245の回転軸は、第1のモータ205の回転軸と共通である。すなわち、図2では、第1の基板搬送機構201の上に第2の基板搬送機構202が載せられているといえる。したがって、図2の第1の洗浄部搬送ロボット154が占める水平面内のスペースは、回転テーブル210上に第2のモータ215と第5のモータ245が水平に配列された洗浄部搬送ロボット(図3の洗浄部搬送ロボット300)が占める水平面内のスペースよりも小さい。
以上に説明したように、一実施形態にかかる洗浄部搬送ロボットは、ハンドを独立に動作することが可能であり、かつ、第1の洗浄部搬送ロボット154の占めるスペースを低減することができる。なお、図2の構成は例示に過ぎないことに留意されたい。たとえば、第3の基板搬送機構が第3のアーム250の上部にさらに設けられてもよい。たとえば、第4のモータ235および第1のハンド240は第2のアーム230の下面に設けられていてもよい。たとえば、各部品を上下動させる機構がさらに設けられていてもよい。
次に、図4を用いて第1の洗浄部搬送ロボット154の変形例を説明する。図4の154には、第1のハンド240および第2のハンド270上の基板の有無を検知するセンサ400が設けられている。図4の構成では、第1のハンド240の上に1つのセンサ400が設けられ、第2のハンド270の上に他のセンサ400が設けられている。しかし、基板の有無を検知できるのであれば、センサ400の位置および個数は問わない。センサ400はたとえば光センサであってよく、重量センサであってよく、マイクロスイッチであってよく、その他のセンサであってよい。センサ400によって各ハンド上の基板の有無を確認することによって、基板の搬送の失敗を防止することができる。
典型的な基板処理装置100においては、第1の洗浄部搬送ロボット154は「ウェット」な環境、すなわち研磨液や洗浄液等の液体が存在し得る環境におかれる。そこで、第1の洗浄部搬送ロボット154は液体を受けるためのトレイ410をさらに備えてよい。図4のトレイ410はベース200の上部に設けられており、第1の洗浄部搬送ロボット154の各要素、たとえば第1のハンド240および第2のハンド270などから滴下するまたは飛散する液体を受けるように構成されている。トレイ410を設けることで、第
1の洗浄部搬送ロボット154の各要素から滴下した液体が基板処理装置100の床面に滴下することを防止することが可能である。なお、トレイ410の形状は、所望の性能に応じて適宜決定されてよい。トレイ410にはドレンライン(図示せず)が接続されていてよい。
次に、図5を用いて、一実施形態にかかる第1の洗浄部搬送ロボット154を用いた効率的な基板の搬送方法について説明する。説明に特に役立つ場合を除き、図5では第1の洗浄部搬送ロボット154の要素に対して符号を付さない。また、図5の基板に付したハッチングは、基板と他の要素の区別のために付されたものに過ぎない。したがって、図5のハッチングは断面を意味しない。ここでは、ウエハステーション130に研磨済みの基板W1が収容されており、第1の洗浄モジュール151に他の基板W2が収容されており、第2の洗浄モジュール152には基板が収容されていない状況から説明を開始する。ただし、第1の洗浄部搬送ロボット154を用いて基板を搬送する際に、常にこの状況から搬送を開始しなければならないわけではない。
図5Aは、一実施形態にかかる第1の洗浄部搬送ロボット154を用いて、ウエハステーション130から第1の洗浄モジュール151へ、および、第1の洗浄モジュール151から第2の洗浄モジュール152へ基板を搬送する手法の第1段階(以下では単に「第x段階」という)を示す図である。図5Aでは、ウエハステーション130に基板W1が収容されており、第1の洗浄モジュール151に他の基板W2が収容されている。
図5Bは第2段階を示す図である。制御部160は、第1のハンド240がウエハステーション130の内部へ移動するよう、第2のモータ215、第3のモータ225および第4のモータ235を制御する。好ましくは、制御部160は、第1のハンド240がウエハステーション130に向かって直線運動するよう、第2のモータ215、第3のモータ225および第4のモータ235を同期して制御する。なお、以下では各ハンドの直線運動に関する記載を省略する。制御部160は、第5のモータ245を制御して第3のアーム250に起こり得る回転を相殺してもよい。なお、以下では第3のアーム250に起こり得る回転の相殺に関する記載を省略する。好ましい実施形態では、制御部160は、第1の洗浄モジュール151による基板W2の洗浄完了が予測された場合に第2段階の制御を行う。第1のハンド240はウエハステーション130において基板W1を受け取る。
図5Cは第3段階を示す図である。制御部160は、第1の基板搬送機構201が折りたたまれるよう、第2のモータ215、第3のモータ225および第4のモータ235を制御する。
図5Dは第4段階を示す図である。制御部160は、第1のハンド240および第2のハンド270が第1の洗浄モジュール151の方へ向くよう、第1のモータ205を制御する。ハンドの方向転換が終了した後、制御部160は、第1の洗浄モジュール151による基板W2の洗浄が終了するまで待機する。
図5Eは第5段階を示す図である。「第1の洗浄モジュール151による基板W2の洗浄が終了した」という指示を受けた、または、何らかの手段により第1の洗浄モジュール151による基板W2の洗浄の終了を検知した制御部160は、第2のハンド270が第1の洗浄モジュール151の内部へ移動するよう、第5のモータ245、第6のモータ255および第7のモータ265を制御する。第2のハンド270は第1の洗浄モジュール151において洗浄後の基板W2を受け取る。
図5Fは第6段階を示す図である。制御部160は、第2の基板搬送機構202が折り
たたまれるよう、第5のモータ245、第6のモータ255および第7のモータ265を制御する。なお、図5Fでは、基板W2は基板W1によって不可視となっている。
図5Gは第7段階を示す図である。制御部160は、第1のハンド240が第1の洗浄モジュール151の内部に移動するよう、第2のモータ215、第3のモータ225および第4のモータ235を制御する。図5Gは図5Eときわめて類似しているが、第1の洗浄モジュール151の内部に移動するハンドが第2のハンド270ではなく第1のハンド240であることに留意されたい。第1のハンド240は第1の洗浄モジュール151に対して研磨後の(未洗浄の)基板W1を受け渡す。基板W1を受け取った第1の洗浄モジュール151は、基板W1の洗浄を開始する。
図5Hは第8段階を示す図である。制御部160は、第1の基板搬送機構201が折りたたまれるよう、第2のモータ215、第3のモータ225および第4のモータ235を制御する。図5Hは図5Dとある程度類似するが、図5Hにおいて基板を保持しているのは第1のハンド240ではなく第2のハンド270であることに留意されたい。また、図5Hにおいて第2のハンド270に保持されている基板は、第1の洗浄モジュール151によって洗浄された後の基板W2であることにも留意されたい。
図5Iは第9段階を示す図である。制御部160は、第1のハンド240および第2のハンド270が第2の洗浄モジュール152の方へ向くよう、第1のモータ205を制御する。
図5Jは第10段階を示す図である。制御部160は、第2のハンド270が第2の洗浄モジュール152の内部に移動するよう、第5のモータ245、第6のモータ255および第7のモータ265を制御する。第2のハンド270は第2の洗浄モジュール152に対して基板W2を受け渡す。基板W2を受け取った第2の洗浄モジュール152は、基板W2のさらなる洗浄を開始する。
図5Kは第11段階を示す図である。制御部160は、第2の基板搬送機構202が折りたたまれるよう、第5のモータ245、第6のモータ255および第7のモータ265を制御する。
図5Lは第12段階を示す図である。制御部160は、第1のハンド240および第2のハンド270がウエハステーション130の方へ向くよう、第1のモータ205を制御する。第12段階の後、基板W2の洗浄が終われば第2の洗浄部搬送ロボット155(図1参照)がW2を搬送する。基板W2が第2の洗浄モジュール152から運び出された後、ウエハステーション130に更なる基板が搬送されれば、制御部160は再び図5Aに戻って第1の洗浄部搬送ロボット154を制御する。
以上、図5を用いて説明したように、一実施形態にかかる第1の洗浄部搬送ロボット154は少なくとも2本のハンドを独立に動作させることが可能であるので、ある基板が洗浄されている間に他の基板を搬送することが可能である。したがって、一実施形態にかかる第1の洗浄部搬送ロボット154は、単一のハンドしか有さないロボットおよび複数のハンドを独立に動作させることができないロボットの双方に比して、スループットの面で有利である。
なお、図5の搬送方法は、一実施形態にかかる第1の洗浄部搬送ロボット154の優位性を示すための例に過ぎない。実際に基板を搬送する場合は、図5に示した方法以外の方法が実行されてよい。
基板処理装置100の構造によっては、搬送ロボットの近くに障害物(obstacle)“OBS”が存在し得る。障害物OBSとなり得る物には、たとえば基板処理装置100の壁、柱、他の部品などが挙げられる。基板処理装置100内部のスペースは有限であるので、障害物が存在しない構成をとることが困難である場合がある。以下では、図6を用いて障害物OBSを避けながら基板を搬送する方法について説明する。図6では第1の洗浄部搬送ロボット154が用いられているが、第2の洗浄部搬送ロボット155が用いられてもよい。図6Aには基板Wが収容された第1の洗浄モジュール151および第1の洗浄部搬送ロボット154が示されている。図6Bは、図6Aの第1の洗浄部搬送ロボット154の第2のハンド270が第1の洗浄モジュール151に収容された基板Wを受け取っている様子を示している。図6Cは、図6Bの後に第2の基板搬送機構202が折りたたまれた様子を示している。
図6では、第1の洗浄モジュール151の一部(図6の右上方向)に障害物OBSがあると仮定する。図6Aに想像線で示されているように、仮に基板Wが第1の洗浄部搬送ロボット154に向かって真っすぐ移動させられたとすれば、基板Wは障害物OBSに衝突してしまう。したがって、基板Wを搬送する際には障害物OBSを避けなければならない。一方で、第1の洗浄部搬送ロボット154のハンドの幅は基板Wの径より小さい。したがって、基板Wを保持しないハンド(図6の例では第2のハンド270。第2のハンド270ではなく第1のハンド240であってもよい)を第1の洗浄モジュール151の内部へ移動させる場合、障害物OBSを避ける必要はない。そこで制御部は、基板Wを保持していない第2のハンド270を、直線移動によって、基板Wが収容された第1の洗浄モジュール151の内部へ移動させるよう基板処理装置100を制御する(図6Aの矢印を参照。また、ここで制御される対象は、具体的には第1の洗浄部搬送ロボット154または第2の洗浄部搬送ロボット155であり、より具体的にはそれらのロボットの各モータである)。直線的な移動は最も移動距離が短いので、移動に必要な時間もまた短いという利点がある。
次に、制御部160は、第2のハンド270によって第1の洗浄モジュール151に収容された基板Wを受け取るよう、基板処理装置100を制御する。
前述のように、基板Wと障害物OBSとが衝突し得るので、直線移動によって基板Wを第1の洗浄モジュール151の外部へ搬送することは不可能である。そこで制御部160は、基板処理装置100を制御して、基板Wが障害物OBSから離れた軌道を通過するよう、第1のモータ205を駆動しながら第2の基板搬送機構202を折りたたむ(図6Bの矢印を参照)。なお、第2のハンド270ではなく第1のハンド240が用いられている場合、折りたたまれる対象は第1の基板搬送機構201である。この制御の際に、センサ400(図4参照)によって各ハンドが基板Wを受け取っているかどうかが検知されてよい。
一実施形態にかかる第1の洗浄部搬送ロボット154におけるアームまたはハンドの回転はプーリなどではなくモータによって実行されている。したがって、一実施形態にかかる第1の洗浄部搬送ロボット154は、図6に説明したような複雑な挙動をとることが可能である。以上の動作により、基板処理装置100の内部のスペースの制限によって障害物OBSが存在する場合であっても、基板Wを第1の洗浄モジュール151などから搬送することが可能となる(図6Cを参照)。第1の洗浄部搬送ロボット154の具体的な動作は、障害物OBSの位置、大きさ、個数、形状などによって異なり得る。障害物OBSの位置、大きさ、個数、形状などは基板処理装置100の構成によって変化する。そして、基板処理装置100の構成は装置の設計時に決定される。したがって、障害物OBSを回避するための具体的な動作は、基板処理装置100の設計データに基づいて決定されてよい。
図6では、第1の洗浄モジュール151に基板Wが収容されている。しかし、図6で説明した思想は、ウエハステーション130、第2の洗浄モジュール152および第3の洗浄モジュール153のいずれかに収容された基板Wと搬送する際に用いられてよい。より一般化すれば、図6で説明した思想は、洗浄部搬送ロボットがアクセス可能な任意の物体に収容されている基板Wを搬送する際に用いられてよい。また、基板を保持しているハンドによって、障害物を有する洗浄モジュール等に基板が搬送される際に、図6の思想が図6と逆の順序で用いられてもよい。すなわち、制御部160は、
・基板が障害物OBSから離れた軌道を通過するように、第1のモータ205を駆動しながら、基板を保持している第1のハンド240または第2のハンド270を、洗浄モジュールの内部またはウエハステーション130の内部へ移動させる段階と、
・第1のハンド240または第2のハンド270から基板を受け渡す段階と、
・第1のハンド240または第2のハンド270が直線移動するように、第1の基板搬送機構201または第2の基板搬送機構202を折りたたむ段階と、
を実行するように基板処理装置100を制御してよい。
好ましい形態では、洗浄部搬送ロボットの周囲に下方向の気流(ダウンフロー)が吹いていてよい。図7は、フィルターファンユニット700を示す図である。図7では、代表として、第1の洗浄部搬送ロボット154が示されている。フィルターファンユニット700は、清浄な気体(典型的には空気)を第1の洗浄部搬送ロボット154の上部から下部へむけて吹かせる。フィルターファンユニット700は第1の洗浄部搬送ロボット154を覆っていてよい。すなわち、フィルターファンユニット700は第1の洗浄部搬送ロボット154のハウジング710として働いてもよい。換言すれば、フィルターファンユニット700とハウジング710が一体化されていてもよい。一方で、フィルターファンユニット700は第1の洗浄部搬送ロボット154のハウジング710に取り付けられてもよい。換言すれば、フィルターファンユニット700とハウジング710は独立の要素であってよい。また、基板処理装置100の柱または壁面を第1の洗浄部搬送ロボット154のハウジング710とみなしてもよい。ハウジング710の内部は基板処理装置100の外部に比して陽圧であってよい。
また、フィルターファンユニット700からの気流を排出するために、ハウジング710の下部は密閉されず、開放されている。ただし、他の構成、たとえばハウジング710内で気体を循環させる構成など、も可能である。図示の便宜上、図7では第1の洗浄部搬送ロボット154のみを覆うハウジング710を図示した。他の例として、ウエハステーション130、基板搬送ユニット140、第1の洗浄部搬送ロボット154および第2の洗浄部搬送ロボット155の全てあるいはこれらの内のいくつかが同一の空間(同一のハウジング内)にあってもよい。第1の洗浄部搬送ロボット154がトレイ410を備える場合、ハウジング710とトレイ410とが干渉しないように基板処理装置100が設計される。好ましくは、ハウジング710の内部にトレイ410が配置される。他の例では、水平面内におけるトレイ410の投影面は、水平面内におけるハウジング710の投影面の内部にある。ハウジング710とトレイ410との間には、フィルターファンユニット700からの気流を排出するためのギャップが設けられることが好ましい。また、気流を排出するための排気口がハウジング710に設けられていてもよい。ハウジング710の下部が開放されていない場合や、ハウジング710とトレイ410との間にギャップが設けられていない場合には、ハウジング710に排気口を設けることが特に有利である。ただし、下部が開放されたハウジング710に排気口を設けてもよいし、ギャップと排気口を併存させてもよい。好ましい形態では、排気口は、ハウジング710の最下部の周囲すべてまたは最下部の周囲の一部に設けられる。ただし、排気口の位置は前述の位置に限られない。排気口の位置は、具体的な気流の流れ、求められる仕様、他の部材との関係などに応じて決定されることが好ましい。
以上のように基板処理装置100、洗浄部搬送ロボット(第1の洗浄部搬送ロボット154など)および/またはフィルターファンユニット700を構成することで、洗浄部搬送ロボットの周囲を清浄な環境に保つことが可能となる。フィルターファンユニット700は他の部材から別個独立した要素であってよく、第1の洗浄部搬送ロボット154などのロボットの一部であってよく、基板処理装置100の一部であってもよい。
以上、いくつかの本発明の実施形態について説明してきた。上記した発明の実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその等価物が含まれることは勿論である。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。
本願は、一実施形態として、基板処理装置の基板洗浄部の洗浄モジュールに基板を搬送するため、および、洗浄モジュールから基板を搬送するための洗浄部搬送ロボットであって、ベースと、ベースに設けられた回転テーブルと、回転テーブルを回転させるための第1のモータと、第1の基板搬送機構であって、回転テーブルに設けられ、かつ、第1のモータと共通の回転軸を有する、第2のモータと、第2のモータに接続された第1のアームと、第1のアームの先端に設けられた第3のモータと、第3のモータに接続された第2のアームと、第2のアームの先端に設けられた第4のモータと、第4のモータに接続された、基板を保持するための第1のハンドと、を備える、第1の基板保持機構と、第2の基板搬送機構であって、第1のアームに設けられ、かつ、第1のモータと共通の回転軸を有する、第5のモータと、第5のモータに接続された第3のアームと、第3のアームの先端に設けられた第6のモータと、第6のモータに接続された第4のアームと、第4のアームの先端に設けられた第7のモータと、第7のモータに接続された、基板を保持するための第2のハンドと、を備える、第2の基板搬送機構と、を備え、第1のアーム、第2のアーム、第3のアーム、第4のアーム、第1のハンドおよび第2のハンドのそれぞれは第1のモータの回転軸と垂直な方向に延びており、第3のモータ、第4のモータ、第6のモータおよび第7のモータのそれぞれは、第1のモータの回転軸と平行な回転軸を有する、洗浄部搬送ロボットを開示する。
さらに本願は、一実施形態として、基板を研磨するための研磨部と、研磨部によって研磨された基板を洗浄するための基板洗浄部と、を備える、基板処理装置であって、基板洗浄部は、1つまたは複数の洗浄モジュールと、基板を1つまたは複数の洗浄モジュールの少なくとも1つに搬送するため、および、1つまたは複数の洗浄モジュールの少なくとも1つから基板を搬送するための、1つまたは複数の洗浄部搬送ロボットと、を備え、1つまたは複数の洗浄部搬送ロボットの少なくとも1つは、ベースと、ベースに設けられた回転テーブルと、回転テーブルを回転させるための第1のモータと、第1の基板搬送機構であって、回転テーブルに設けられ、かつ、第1のモータと共通の回転軸を有する、第2のモータと、第2のモータに接続された第1のアームと、第1のアームの先端に設けられた第3のモータと、第3のモータに接続された第2のアームと、第2のアームの先端に設けられた第4のモータと、第4のモータに接続された、基板を保持するための第1のハンドと、を備える、第1の基板保持機構と、第2の基板搬送機構であって、第1のアームに設けられ、かつ、第1のモータと共通の回転軸を有する、第5のモータと、第5のモータに接続された第3のアームと、第3のアームの先端に設けられた第6のモータと、第6のモータに接続された第4のアームと、第4のアームの先端に設けられた第7のモータと、第7のモータに接続された、基板を保持するための第2のハンドと、を備える、第2の基板搬送機構と、を備え、第1のアーム、第2のアーム、第3のアーム、第4のアーム、第1のハンドおよび第2のハンドのそれぞれは第1のモータの回転軸と垂直な方向に延びてお
り、第3のモータ、第4のモータ、第6のモータおよび第7のモータのそれぞれは、第1のモータの回転軸と平行な回転軸を有する、基板処理装置を開示する。
上記の洗浄部搬送ロボットおよび基板処理装置は、各ハンドを独立に動作することが可能であり、かつ、洗浄部搬送ロボットの占めるスペースを低減することができるという効果を一例として奏する。
さらに本願は、一実施形態として、第1のアーム、第2のアーム、第3のアームおよび第4のアームのそれぞれの長さが等しい、洗浄部搬送ロボットを開示する。
この開示内容により、各アームの詳細が明らかにされる。
さらに本願は、一実施形態として、第1のモータの回転軸に沿った方向における、第5のモータおよび第3のアームの位置は、第1のモータの回転軸に沿った方向における第1のアームの位置および第1のモータの回転軸に沿った方向における第2のアームの位置の間であり、第1のモータの回転軸に沿った方向における、第2のアーム、第4のモータおよび第1のハンドの位置は、第1のモータの回転軸に沿った方向における第3のアームの位置および第1のモータの回転軸に沿った方向における第4のアームの位置の間である、洗浄部搬送ロボットを開示する。
この洗浄部搬送ロボットは、各基板搬送機構の衝突を防止することができるという効果を一例として奏する。
さらに本願は、一実施形態として、第1のハンドおよび第2のハンド上の基板の有無を検知するセンサをさらに備える洗浄部搬送ロボットを開示する。
この洗浄部搬送ロボットは、基板の搬送の失敗を防止することができるという効果を一例として奏する。
さらに本願は、一実施形態として、ベースに設けられた、液体を受けるためのトレイをさらに備える洗浄部搬送ロボットを開示する。
この洗浄部搬送ロボットは、洗浄部搬送ロボットからの液体の滴下または飛散を防止できるという効果を一例として奏する。
さらに本願は、一実施形態として、第1のモータ、第2のモータ、第3のモータ、第4のモータ、第5のモータ、第6のモータおよび第7のモータの少なくとも1つは中空軸モータである、洗浄部搬送ロボットを開示する。
この洗浄部搬送ロボットは、モータの内部に配線を通すことができるという効果を一例として奏する。
さらに本願は、一実施形態として、基板処理装置は、研磨部によって研磨された基板を保持するためのウエハステーションをさらに備え、1つまたは複数の洗浄部搬送ロボットの少なくとも1つは、ウエハステーションに収容されている基板を、1つまたは複数の洗浄モジュールの少なくとも1つに搬送可能に構成されている、基板処理装置を開示する。
この開示内容により、基板処理装置の詳細が明らかにされる。
さらに本願は、一実施形態として、基板処理装置は制御部をさらに備え、制御部は、基
板を保持していない第1のハンドまたは第2のハンドを、直線移動によって、基板が収容された洗浄モジュールの内部または基板が収容されたウエハステーションの内部へ移動させる段階と、第1のハンドまたは第2のハンドによって基板を受け取る段階と、基板が障害物から離れた軌道を通過するよう、第1のモータを駆動しながら第1の基板搬送機構または第2の基板搬送機構を折りたたむ段階と、を実行するように基板処理装置を制御する、基板処理装置を開示する。さらに本願は、一実施形態として、洗浄部搬送ロボットを用いた基板の搬送方法であって、上述の各段階を備える洗浄部搬送ロボットを用いた基板の搬送方法を開示する。
さらに本願は、一実施形態として、前記基板処理装置は制御部をさらに備え、前記制御部は、基板が障害物から離れた軌道を通過するように、前記第1のモータを駆動しながら、前記基板を保持している前記第1のハンドまたは前記第2のハンドを、前記洗浄モジュールの内部または前記ウエハステーションの内部へ移動させる段階と、前記第1のハンドまたは前記第2のハンドから前記基板を受け渡す段階と、前記第1のハンドまたは前記第2のハンドが直線移動するように、前記第1の基板搬送機構または前記第2の基板搬送機構を折りたたむ段階と、を実行するように前記基板処理装置を制御する、基板処理装置を開示する。さらに本願は、一実施形態として、洗浄部搬送ロボットを用いた基板の搬送方法であって、上述の各段階を備える洗浄部搬送ロボットを用いた基板の搬送方法を開示する。
これらの基板処理装置および基板の搬送方法は、基板処理装置の内部のスペースの制限によって障害物が存在する場合であっても、基板を搬送することが可能となるという効果を一例として奏する。
さらに本願は、一実施形態として、基板が通過する軌道は、基板処理装置の設計データに基づいて決定される、基板処理装置および基板の搬送方法を開示する。
この開示内容により、基板が通るべき軌道がどのように決定されるのかが明らかになる。
100…基板処理装置
110…ロード・アンロード部
112…搬送ロボット
120…研磨部
121…第1の研磨装置
122…第2の研磨装置
123…第3の研磨装置
124…第4の研磨装置
130…ウエハステーション
140…基板搬送ユニット
150…基板洗浄部
151…第1の洗浄モジュール
152…第2の洗浄モジュール
153…第3の洗浄モジュール
154…第1の洗浄部搬送ロボット
155…第2の洗浄部搬送ロボット
160…制御部
200…ベース
201…第1の基板搬送機構
202…第2の基板搬送機構
205…第1のモータ
210…回転テーブル
215…第2のモータ
220…第1のアーム
225…第3のモータ
230…第2のアーム
235…第4のモータ
240…第1のハンド
245…第5のモータ
250…第3のアーム
255…第6のモータ
260…第4のアーム
265…第7のモータ
270…第2のハンド
300…比較例にかかる洗浄部搬送ロボット
400…センサ
410…トレイ
700…フィルターファンユニット
710…ハウジング
W、W1、W2…基板
OBS…障害物

Claims (14)

  1. 基板処理装置の基板洗浄部の洗浄モジュールに基板を搬送するため、および、前記洗浄モジュールから基板を搬送するための洗浄部搬送ロボットであって、
    ベースと、
    前記ベースに設けられた回転テーブルと、
    前記回転テーブルを回転させるための第1のモータと、
    第1の基板搬送機構であって、
    ・前記回転テーブルに設けられ、かつ、前記第1のモータと共通の回転軸を有する、第2のモータと、
    ・前記第2のモータに接続された第1のアームと、
    ・前記第1のアームの先端に設けられた第3のモータと、
    ・前記第3のモータに接続された第2のアームと、
    ・前記第2のアームの先端に設けられた第4のモータと、
    ・前記第4のモータに接続された、基板を保持するための第1のハンドと、
    を備える、第1の基板保持機構と、
    第2の基板搬送機構であって、
    ・前記第1のアームに設けられ、かつ、前記第1のモータと共通の回転軸を有する、第5のモータと、
    ・前記第5のモータに接続された第3のアームと、
    ・前記第3のアームの先端に設けられた第6のモータと、
    ・前記第6のモータに接続された第4のアームと、
    ・前記第4のアームの先端に設けられた第7のモータと、
    ・前記第7のモータに接続された、基板を保持するための第2のハンドと、
    を備える、第2の基板搬送機構と、
    を備え、
    前記第1のアーム、前記第2のアーム、前記第3のアーム、前記第4のアーム、前記第1のハンドおよび前記第2のハンドのそれぞれは前記第1のモータの回転軸と垂直な方向に延びており、
    前記第3のモータ、前記第4のモータ、前記第6のモータおよび前記第7のモータのそれぞれは、前記第1のモータの回転軸と平行な回転軸を有する、
    洗浄部搬送ロボット。
  2. 前記第1のアーム、前記第2のアーム、前記第3のアームおよび前記第4のアームのそれぞれの長さが等しい、請求項1に記載の洗浄部搬送ロボット。
  3. 前記第1のモータの回転軸に沿った方向における、前記第5のモータおよび前記第3のアームの位置は、前記第1のモータの回転軸に沿った方向における前記第1のアームの位置および前記第1のモータの回転軸に沿った方向における前記第2のアームの位置の間であり、
    前記第1のモータの回転軸に沿った方向における、前記第2のアーム、前記第4のモータおよび前記第1のハンドの位置は、前記第1のモータの回転軸に沿った方向における前記第3のアームの位置および前記第1のモータの回転軸に沿った方向における前記第4のアームの位置の間である、
    請求項1または2に記載の洗浄部搬送ロボット。
  4. 前記第1のハンドおよび前記第2のハンド上の基板の有無を検知するセンサをさらに備える、請求項1から3のいずれか一項に記載の洗浄部搬送ロボット。
  5. 前記ベースに設けられた、液体を受けるためのトレイをさらに備える、請求項1から4
    のいずれか一項に記載の洗浄部搬送ロボット。
  6. 前記第1のモータ、前記第2のモータ、前記第3のモータ、前記第4のモータ、前記第5のモータ、前記第6のモータおよび前記第7のモータの少なくとも1つは中空軸モータである、請求項1から5のいずれか一項に記載の洗浄部搬送ロボット。
  7. 基板を研磨するための研磨部と、
    前記研磨部によって研磨された基板を洗浄するための基板洗浄部と、
    を備える、基板処理装置であって、
    前記基板洗浄部は、
    1つまたは複数の洗浄モジュールと、
    基板を前記1つまたは複数の洗浄モジュールの少なくとも1つに搬送するため、および、前記1つまたは複数の洗浄モジュールの少なくとも1つから基板を搬送するための、1つまたは複数の洗浄部搬送ロボットと、
    を備え、
    前記1つまたは複数の洗浄部搬送ロボットの少なくとも1つは、
    ベースと、
    前記ベースに設けられた回転テーブルと、
    前記回転テーブルを回転させるための第1のモータと、
    第1の基板搬送機構であって、
    ・前記回転テーブルに設けられ、かつ、前記第1のモータと共通の回転軸を有する、第2のモータと、
    ・前記第2のモータに接続された第1のアームと、
    ・前記第1のアームの先端に設けられた第3のモータと、
    ・前記第3のモータに接続された第2のアームと、
    ・前記第2のアームの先端に設けられた第4のモータと、
    ・前記第4のモータに接続された、基板を保持するための第1のハンドと、
    を備える、第1の基板保持機構と、
    第2の基板搬送機構であって、
    ・前記第1のアームに設けられ、かつ、前記第1のモータと共通の回転軸を有する、第5のモータと、
    ・前記第5のモータに接続された第3のアームと、
    ・前記第3のアームの先端に設けられた第6のモータと、
    ・前記第6のモータに接続された第4のアームと、
    ・前記第4のアームの先端に設けられた第7のモータと、
    ・前記第7のモータに接続された、基板を保持するための第2のハンドと、
    を備える、第2の基板搬送機構と、
    を備え、
    前記第1のアーム、前記第2のアーム、前記第3のアーム、前記第4のアーム、前記第1のハンドおよび前記第2のハンドのそれぞれは前記第1のモータの回転軸と垂直な方向に延びており、
    前記第3のモータ、前記第4のモータ、前記第6のモータおよび前記第7のモータのそれぞれは、前記第1のモータの回転軸と平行な回転軸を有する、
    基板処理装置。
  8. 前記基板処理装置は、前記研磨部によって研磨された基板を保持するためのウエハステーションをさらに備え、
    前記1つまたは複数の洗浄部搬送ロボットの少なくとも1つは、前記ウエハステーションに収容されている基板を、前記1つまたは複数の洗浄モジュールの少なくとも1つに搬送可能に構成されている、
    請求項7に記載の基板処理装置。
  9. 前記基板処理装置は制御部をさらに備え、
    前記制御部は、
    ・基板を保持していない前記第1のハンドまたは前記第2のハンドを、直線移動によって、基板が収容された前記洗浄モジュールの内部または基板が収容された前記ウエハステーションの内部へ移動させる段階と、
    ・前記第1のハンドまたは前記第2のハンドによって前記基板を受け取る段階と、
    ・前記基板が障害物から離れた軌道を通過するよう、前記第1のモータを駆動しながら前記第1の基板搬送機構または前記第2の基板搬送機構を折りたたむ段階と、
    を実行するように前記基板処理装置を制御する、請求項8に記載の基板処理装置。
  10. 前記基板処理装置は制御部をさらに備え、
    前記制御部は、
    ・基板が障害物から離れた軌道を通過するように、前記第1のモータを駆動しながら、前記基板を保持している前記第1のハンドまたは前記第2のハンドを、前記洗浄モジュールの内部または前記ウエハステーションの内部へ移動させる段階と、
    ・前記第1のハンドまたは前記第2のハンドから前記基板を受け渡す段階と、
    ・前記第1のハンドまたは前記第2のハンドが直線移動するように、前記第1の基板搬送機構または前記第2の基板搬送機構を折りたたむ段階と、
    を実行するように前記基板処理装置を制御する、請求項8に記載の基板処理装置。
  11. 前記基板が通過する前記軌道は、前記基板処理装置の設計データに基づいて決定される、請求項9または10に記載の基板処理装置。
  12. 請求項8に記載の基板処理装置における基板の搬送方法であって、
    ・基板を保持していない前記第1のハンドまたは前記第2のハンドを、直線移動によって、基板が収容された前記洗浄モジュールの内部または基板が収容された前記ウエハステーションの内部へ移動させる段階と、
    ・前記第1のハンドまたは前記第2のハンドによって前記基板を受け取る段階と、
    ・前記基板が障害物から離れた軌道を通過するよう、前記第1のモータを駆動しながら前記第1の基板搬送機構または前記第2の基板搬送機構を折りたたむ段階と、
    を備える、洗浄部搬送ロボットを用いた基板の搬送方法。
  13. 請求項8に記載の基板処理装置における基板の搬送方法であって、
    ・基板が障害物から離れた軌道を通過するように、前記第1のモータを駆動しながら、前記基板を保持している前記第1のハンドまたは前記第2のハンドを、前記洗浄モジュールの内部または前記ウエハステーションの内部へ移動させる段階と、
    ・前記第1のハンドまたは前記第2のハンドから前記基板を受け渡す段階と、
    ・前記第1のハンドまたは前記第2のハンドが直線移動するように、前記第1の基板搬送機構または前記第2の基板搬送機構を折りたたむ段階と、
    を備える、洗浄部搬送ロボットを用いた基板の搬送方法。
  14. 前記基板が通過する前記軌道は、前記基板処理装置の設計データに基づいて決定される、請求項12または13に記載の方法。
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