JP2020095065A - Light emitting element and light emitting device - Google Patents
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Abstract
【課題】蛍光を発光する発光素子において、照射される励起光による光密度消光を低減する。【解決手段】発光素子(10)は、所定の励起光に基づき蛍光を発光する。発光素子は、蛍光体層(11)と、物体層(12)とを備える。蛍光体層は、蛍光を発光する蛍光体(13)を含む。物体層は、蛍光体層における屈折率(n1)とは異なる屈折率(n2)を有する。蛍光体層と物体層とは、交互に複数、積層されている。積層された蛍光体層及び物体層を含む周期構造体(5)において、励起光が入射した場合における電場の強度分布のピークが物体層に位置するように、蛍光体層及び物体層が周期的に配置されている。【選択図】図3PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce light density quenching due to irradiated excitation light in a light emitting element that emits fluorescence. A light emitting element (10) emits fluorescence based on a predetermined excitation light. The light emitting element includes a phosphor layer (11) and an object layer (12). The fluorescent material layer contains a fluorescent material (13) that emits fluorescence. The object layer has a refractive index (n2) different from the refractive index (n1) in the phosphor layer. A plurality of phosphor layers and object layers are alternately laminated. In the periodic structure (5) including the laminated phosphor layer and the object layer, the phosphor layer and the object layer are periodic so that the peak of the intensity distribution of the electric field when the excitation light is incident is located on the object layer. Is located in. [Selection diagram] Fig. 3
Description
本開示は、励起光に基づき蛍光を発光する発光素子及び発光装置に関する。 The present disclosure relates to a light emitting element and a light emitting device that emit fluorescence based on excitation light.
非特許文献1は、励起光に基づく蛍光発光を増強するために1次元フォトニック結晶を用いた技術を開示している。非特許文献1の1次元フォトニック結晶は、量子ドットの蛍光体を含んだ層と、別の材質の層とを繰り返し積層して構成され、各々の蛍光体の層の内部における励起光の電場強度が、隣接する別の層よりも大きくなるように設計されている。これにより、強度が小さい励起光を用いても大きな蛍光発光の強度が得られる。
Non-Patent
本開示は、蛍光を発光する発光素子において、照射される励起光による光密度消光を低減することができる発光素子及び発光装置を提供する。 The present disclosure provides a light-emitting element and a light-emitting device that can reduce light density quenching due to excitation light applied to a light-emitting element that emits fluorescence.
本開示の一態様に係る発光素子は、所定の励起光に基づき蛍光を発光する。発光素子は、蛍光体層と、物体層とを備える。蛍光体層は、蛍光を発光する蛍光体を含む。物体層は、蛍光体層における屈折率とは異なる屈折率を有する。蛍光体層と物体層とは、交互に複数、積層されている。積層された蛍光体層及び物体層を含む周期構造体において、励起光が入射した場合における電場の強度分布のピークが物体層に位置するように、蛍光体層及び物体層が周期的に配置されている。 A light emitting element according to an aspect of the present disclosure emits fluorescence based on predetermined excitation light. The light emitting element includes a phosphor layer and an object layer. The phosphor layer includes a phosphor that emits fluorescence. The object layer has a refractive index different from that of the phosphor layer. A plurality of phosphor layers and object layers are alternately laminated. In a periodic structure including a stacked phosphor layer and object layer, the phosphor layer and the object layer are periodically arranged so that the peak of the intensity distribution of the electric field when excitation light enters is located in the object layer. ing.
本開示の一態様に係る発光装置は、励起光源と、発光素子とを備える。励起光源は、所定の励起光を照射する。発光素子は、励起光に基づき蛍光を発光する蛍光体を含んだ蛍光体層と、蛍光体層における屈折率よりも低い屈折率を有する物体層とを交互に複数、積層した周期構造体を備える。周期構造体は、光の分散関係を規定する第1フォトニックバンドと、第1フォトニックバンドよりもフォトニックバンドギャップ分、大きい角振動数の光の分散関係を規定する第2フォトニックバンドとを有する。励起光は、第2フォトニックバンドにおけるバンド端近傍の角振動数を有する。 A light emitting device according to one aspect of the present disclosure includes an excitation light source and a light emitting element. The excitation light source emits a predetermined excitation light. The light emitting element includes a periodic structure in which a plurality of phosphor layers, each including a phosphor layer containing a phosphor that emits fluorescence based on excitation light, and an object layer having a refractive index lower than that of the phosphor layer are alternately stacked. .. The periodic structure includes a first photonic band that defines a light dispersion relationship and a second photonic band that defines a light dispersion relationship with a photonic band gap and a larger angular frequency than the first photonic band. Have. The excitation light has an angular frequency near the band edge in the second photonic band.
本開示に係る発光素子及び発光装置によると、励起光が発光素子に入射した際に、電場強度のピーク位置が蛍光体層の外部になる。これにより、発光素子に照射される励起光による光密度消光を低減することができる。 According to the light emitting device and the light emitting device according to the present disclosure, when excitation light enters the light emitting device, the peak position of the electric field intensity is outside the phosphor layer. Thereby, the light density quenching due to the excitation light with which the light emitting element is irradiated can be reduced.
以下、適宜図面を参照しながら、実施の形態を詳細に説明する。但し、必要以上に詳細な説明は省略する場合がある。例えば、既によく知られた事項の詳細説明や実質的に同一の構成に対する重複説明を省略する場合がある。これは、以下の説明が不必要に冗長になるのを避け、当業者の理解を容易にするためである。 Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. However, more detailed description than necessary may be omitted. For example, detailed description of well-known matters or duplicate description of substantially the same configuration may be omitted. This is to prevent the following description from being unnecessarily redundant and to facilitate understanding by those skilled in the art.
なお、出願人は、当業者が本開示を十分に理解するために添付図面および以下の説明を提供するのであって、これらによって特許請求の範囲に記載の主題を限定することを意図するものではない。 It should be noted that the applicant provides the accompanying drawings and the following description for those skilled in the art to fully understand the present disclosure, and is not intended to limit the subject matter described in the claims by these. Absent.
(実施形態1)
実施形態1では、本開示に係る発光素子及び発光装置について、プロジェクタへの適用例を用いて説明する。
(Embodiment 1)
In the first embodiment, the light emitting element and the light emitting device according to the present disclosure will be described using an application example to a projector.
[1.構成]
本実施形態に係る発光装置及び発光素子の構成について、以下説明する。
[1. Constitution]
The configurations of the light emitting device and the light emitting element according to this embodiment will be described below.
[1−1.プロジェクタについて]
本開示に係る発光装置は、例えばプロジェクタにおける光源として用いられる。実施形態1におけるプロジェクタ及び発光装置の構成について、図1を用いて説明する。図1は、本実施形態におけるプロジェクタ1の構成を示す図である。
[1-1. About projector]
The light emitting device according to the present disclosure is used, for example, as a light source in a projector. The configurations of the projector and the light emitting device according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a
プロジェクタ1は、図1に示すように、発光装置2と、導光光学系3と、DMD(デジタルミラーデバイス)49と、投写レンズ51とを備える。プロジェクタ1は、映像を示す投写光をスクリーン等に投写する。発光装置2は、例えば黄色光を発光する。プロジェクタ1は、例えば青色光を発光する青色光源(不図示)をさらに備え、発光装置2からの黄色光と上記の青色光とを用いて、投写光を生成する。
As shown in FIG. 1, the
発光装置2は、励起光源41と、コリメートレンズ系42と、ダイクロイックミラー43と、集光光学系44と、蛍光体ホイール20とを備える。発光装置2は、蛍光体ホイール20を用いて、例えば青色光の励起光から、黄色光の蛍光への波長変換を行う。
The
励起光源41は、本実施形態では、励起光として波長450nmを有する青色光を発光する。励起光源41は、例えば複数の半導体レーザ(LD)で構成される。励起光源41は、LDに限らず、例えばLEDなどの種々の光源素子で構成されてもよい。
In this embodiment, the
コリメートレンズ系42は、コリメートレンズ等の複数のレンズを含み、励起光源41と蛍光体ホイール20との間に配置される。コリメートレンズ系42は、発光素子10に入射する光を平行化する。
The collimating lens system 42 includes a plurality of lenses such as a collimating lens, and is arranged between the
ダイクロイックミラー43は、例えば青色光を透過すると共に黄色光を反射する光学特性を有する。ダイクロイックミラー43は、コリメートレンズ系42、蛍光体ホイール20及び集光光学系44を介して励起光源41に対向して配置される。
The
集光光学系44は、例えば複数の光学レンズを含む。集光光学系44は、焦点位置が蛍光体ホイール20の主面上に位置するように配置される。なお、集光光学系44の焦点位置は、蛍光体ホイール20の主面の近傍であってもよい。
The condensing
発光装置2において、励起光源41から出射した励起光は、コリメートレンズ系42において図1に示すように平行化され、蛍光体ホイール20の主面上における集光光学系44の焦点位置に対応する位置に照射される。なお、発光装置2内部の光学系は上記の構成に限らず、適宜、設定されてもよい。
In the
蛍光体ホイール20は、励起光に基づき蛍光を発光する発光素子10と、主面を有する基材21と、モータ等を含む回転装置22とを備える。発光素子10は、基材21の主面上に設けられる。回転装置22は、同主面を回転面として、基材21を回転駆動する。蛍光体ホイール20は、基材21上の発光素子10における励起光の照射位置を回転させ、発光素子10を冷却しながら励起光から蛍光への変換を行う。
The
本実施形態に係る発光素子10によると、励起光の光強度を大きくした際に励起光から蛍光への変換における内部量子効率が低下する光密度消光を低減可能である。発光素子10の構成については後述する。
The
本実施形態において、蛍光体ホイール20は透過型であり、励起光の入射方向と同じ方向に変換後の蛍光を出射する。蛍光体ホイール20から出射した蛍光(黄色光)は、集光光学系44を逆行することにより、平行化された状態でダイクロイックミラー43に入射する。発光装置2は、波長変換後の黄色光をダイクロイックミラー43で反射して、導光光学系3に出射する。
In the present embodiment, the
導光光学系3は、集光レンズ45と、ロッドインテグレータ46と、リレーレンズ47と、フィールドレンズ48と、全反射プリズム50とを備える。導光光学系3は、発光装置2からの黄色光を集光レンズ45でロッドインテグレータ46に集光し、ロッドインテグレータ46において黄色光と別途、供給される青色光とを白色光に合成する。合成された白色光は、リレーレンズ47、フィールドレンズ48及び全反射プリズム50を経由して、DMD49に導光される。
The light guide
DMD49は、外部からの映像信号に基づく映像を表すように、導光光学系3から導光された白色光を空間変調して、投写光を生成する。なお、プロジェクタ1においては、DMD49に限らず、例えば液晶パネルなど、種々の空間光変調素子が用いられてもよい。
The
投写レンズ51は、DMD49によって生成された投写光をプロジェクタ1の外部に投写する。これにより、プロジェクタ1からの投写光に基づいて、所望の映像が映し出される。この際、映像の輝度の上限は、発光装置2による光出力などによって規定される。
The
以上のようなプロジェクタ1においては、投写光の輝度を高くする高輝度化が求められている。プロジェクタ1の高輝度化を実現するためには、発光装置2の光出力を増大するべく、励起光源41による励起光の光強度を大きくすることとなる。
In the
従来のプロジェクタにおいては、励起光の光強度を大きくした場合に、光密度消光の影響によって励起光から蛍光への変換効率が低下するという課題があった。そこで、本実施形態に係る発光装置2では、発光素子10によって、励起光源41から照射する励起光による光密度消光を低減する。以下、本実施形態に係る発光素子10の構成について説明する。
The conventional projector has a problem that when the light intensity of the excitation light is increased, the conversion efficiency of the excitation light into the fluorescence is reduced due to the influence of the light density quenching. Therefore, in the
[1−2.発光素子の構成]
実施形態1に係る発光素子10の構成について、図2を用いて説明する。図2は、本実施形態に係る発光素子10の構成を示す図である。
[1-2. Configuration of light emitting element]
The configuration of the
本実施形態に係る発光素子10は、蛍光体ホイール20(図1)の基材21上に多層膜を積層して構成される。図2では、発光素子10の断面構造を示している。
The
以下では、発光素子10の厚さ方向をX方向とし、発光素子10の主面に沿って互いに直交する二方向をY方向及びZ方向とする。また、励起光は、発光素子10の−X側から入射することとする。
Hereinafter, the thickness direction of the
発光素子10は、図2に示すように、複数の蛍光体層11と、複数の低屈折率層12と、基板16と、ダイクロイックフィルタ17とを備える。
As shown in FIG. 2, the
蛍光体層11は、入射する励起光(青色光)によって励起して、蛍光(黄色光)を発光する蛍光体を含む。蛍光体層11の屈折率n1は、例えばn1=1.8であり、蛍光体層11の厚さTH1は、例えばTH1=75nmである。
The
本実施形態では、蛍光体層11は、蛍光体の粒子を構成する量子ドット13を含んだナノコンポジット材料で構成される。量子ドット13は、例えばCdSe,CuInS2等で構成される。本実施形態における蛍光体層11によると、量子ドット13の密度等を制御することにより、所望の屈折率n1等の物理特性を得ることができる。
In the present embodiment, the
低屈折率層12は、励起光を透過する各種材料(例えばPMMAやCA樹脂など)で構成される。低屈折率層12の屈折率n2は、例えばn2=1.5であり、低屈折率層12の厚さTH2は、例えばTH2=72nmである。低屈折率層12は、ナノコンポジット材料で構成されてもよい。低屈折率層12は、本実施形態における物体層の一例である。
The low
本実施形態に係る発光素子10においては、図2に示すように、蛍光体層11と低屈折率層12とが交互に複数、積層されている。積層された複数の蛍光体層11と複数の低屈折率層12とは、フォトニック結晶5を構成する。フォトニック結晶5における蛍光体層11の層数と低屈折率層12の層数とはそれぞれ、例えば10層以上であり、例えば数百層である。
In the
本実施形態に係る発光素子10では、例えば上記のような厚さTH1,TH2及び屈折率n1,n2に設定された蛍光体層11と低屈折率層12とを周期的に配置したフォトニック結晶5の周期構造により、励起光の強度分布を制御し、光密度消光を低減する。フォトニック結晶5は、本実施形態における周期構造体の一例である。フォトニック結晶5の詳細については後述する。
In the
基板16は、例えばサファイア基板である。基板16は、蛍光体ホイール20(図1)における基材21の主面上に固定されてもよいし、基材21と一体的に構成されてもよい。
The substrate 16 is, for example, a sapphire substrate. The substrate 16 may be fixed on the main surface of the
ダイクロイックフィルタ17は誘電体多層膜であり、励起光の波長帯(例えば青色光)を透過し、蛍光の波長帯(例えば黄色光)を反射する光学特性を有する。ダイクロイックフィルタ17は、基板16の励起光の入射する面に設けられる。
The
[2.動作]
本実施形態に係る発光装置2及び発光素子10の動作について以下に説明する。
[2. motion]
The operations of the
本実施形態に係る発光装置2(図1)において、励起光源41は励起光を発光素子10に照射する。図2に示すように、励起光源41からの励起光は、発光素子10の−X側から+X向きに入射する。励起光は、発光素子10においてダイクロイックフィルタ17を透過し、フォトニック結晶5として複数、積層された蛍光体層11と低屈折率層12とを順次、通過するように伝播する。励起光は、蛍光体層11を伝播する度に蛍光体の量子ドット13に吸収されて、蛍光に変換される。
In the light emitting device 2 (FIG. 1) according to this embodiment, the
発光素子10における変換後の蛍光には、図2に示すように、+X向きのままで+X側から出射する光と、−X向きの蛍光でダイクロイックフィルタ17により反射され+X側から出射する光との2種類の光がある。すなわち、発光素子10Bは、−X側から入射した励起光に基づいて、+X側から透過させるように上記の変換後の光を出射する。発光装置2は、発光素子10から出射した蛍光(黄色光)を出力する。
As shown in FIG. 2, the converted fluorescent light in the
[2−1.発光素子について]
本実施形態に係る発光素子10は、以上のように発光装置2において励起光を蛍光に変換する際に、フォトニック結晶5の周期構造によって励起光の電場分布を制御する機能を有する。このような発光素子10の機能について、図3を用いて説明する。
[2-1. About light emitting element]
The
図3では、励起光が発光素子10に入射した際に、フォトニック結晶5の内部に分布する電場強度の空間分布を示している。以下、励起光は、X方向に伝播するTE波であり、電場の横波成分の振動方向がY方向であることとする。図3において、横軸はX方向の位置を示し、縦軸は電場のY成分Eyの強度(即ちTE波の光強度)を示している。
FIG. 3 shows the spatial distribution of the electric field intensity distributed inside the
励起光は、発光素子10に入射すると、フォトニック結晶5の周期構造によって規定される光の分散関係に従って、励起光の周波数に対応する波数kxの波として分布する。この際、図3に示すように、励起光の電場強度の分布には、周期的なピーク(極大値)及びバレー(極小値)が形成される。ここで、励起光の電場強度のピーク近傍では、励起光の光強度が周囲よりも大きくなり、光密度消光の影響が大きいと考えられる。
When the excitation light enters the
そこで、本実施形態では、フォトニック結晶5の内部における励起光の電場強度Ey2の周期的なピークが、それぞれ低屈折率層12に位置するように、フォトニック結晶5を構成しておく。この際、各々の蛍光体層11には、例えば電場強度Ey2の周期的なバレーが位置する(図3)。
Therefore, in the present embodiment, the
以上のような発光素子10によると、励起光を発光素子10に照射した際、発光素子10の内部では蛍光体層11における電場強度Ey2がピーク値よりも低くなり、当該ピーク値で生じ得る光密度消光よりも、発光素子10中での光密度消光を低減することができる。これにより、励起光源41から出力する励起光の光強度を大きくした際に光密度消光による損失を減らして、発光装置2における励起光から蛍光への変換効率を良くすることができる。
According to the
[2−1−1.フォトニック結晶について]
以上のような発光素子10の機能を実現するためのフォトニック結晶5の詳細について、図4を用いて説明する。
[2-1-1. About photonic crystals]
Details of the
図4は、発光素子10のフォトニック結晶5における光の分散関係を説明するためのグラフである。図4の横軸は、X方向における波数kxである(図2参照)。図4の縦軸は、波長λである。曲線C1,C2は、フォトニック結晶5における光の分散関係を示している。
FIG. 4 is a graph for explaining a light dispersion relationship in the
本実施形態に係る発光素子10(図2)では、蛍光体層11と低屈折率層12との周期構造により、フォトニック結晶5の内部において、光の分散関係が次式のように規定される。
In the light emitting device 10 (FIG. 2) according to the present embodiment, the light dispersion relationship is defined in the
式(1)は、X方向に伝播する電磁波の波動方程式(マクスウェル方程式)において、ブロッホの定理に基づきフォトニック結晶5の周期構造に対応する電磁波解を代入すると共に、誘電率をフーリエ級数展開すること等により得られる。
Equation (1) substitutes the electromagnetic wave solution corresponding to the periodic structure of the
フォトニック結晶5においては、式(1)に従って光の角振動数ωに対応する波数kxが複素数になり、実数で存在しない周波数区間、即ちフォトニックバンドギャップが生じる(図4参照)。フォトニック結晶5は、式(1)に基づきフォトニックバンドギャップ外の光の角振動数ωの光の分散関係を規定する第1及び第2フォトニックバンドを有する。
In the
第1フォトニックバンドは、フォトニック結晶5において上記のフォトニックバンドギャップ以下の光の角振動数ωと実数の波数kxとを対応付ける。第2フォトニックバンドは、同フォトニックバンドギャップ以上の光の角振動数ωと実数の波数kxとを対応付ける。
In the
図4において、曲線C1は第1フォトニックバンドに対応する。また、曲線C2は第2フォトニックバンドに対応する。図4では、縦軸に波長λ(=2πc/ω)を用いているため、第1フォトニックバンドの曲線C1が、第2フォトニックバンドの曲線C2よりも上側にある。 In FIG. 4, the curve C1 corresponds to the first photonic band. The curve C2 corresponds to the second photonic band. In FIG. 4, since the wavelength λ (=2πc/ω) is used on the vertical axis, the curve C1 of the first photonic band is above the curve C2 of the second photonic band.
第1フォトニックバンドの曲線C1の最小値は、第1フォトニックバンド側のフォトニックバンドエッジ(PBE)、即ち第1フォトニックバンドにおけるバンド端を表す。また、第2フォトニックバンドの曲線C2の最大値は、第2フォトニックバンド側のPBE、即ち第2フォトニックバンドにおけるバンド端を表す。 The minimum value of the curve C1 of the first photonic band represents the photonic band edge (PBE) on the first photonic band side, that is, the band edge in the first photonic band. Further, the maximum value of the curve C2 of the second photonic band represents PBE on the second photonic band side, that is, the band edge in the second photonic band.
本実施形態では、発光装置2(図1)の励起光源41から照射する励起光の角振動数(或いは等価的に波長)と、第2フォトニックバンド側のPBEの近傍とが合致するように、フォトニック結晶5を構成する(図4)。PBEの近傍は、例えば、フォトニック結晶5による光の反射率の周波数スペクトルにおいて反射率が極小となる周波数位置であって、PBEに隣接する周波数位置を含む範囲内である。
In this embodiment, the angular frequency (or equivalently the wavelength) of the excitation light emitted from the
上記のフォトニック結晶5の構成によると、励起光と同じ角振動数の光がフォトニック結晶5内部に分布する場合に、上述のように、電場強度のピークが低屈折率層12に位置するようになる(図3参照)。このような構成は、式(1)に基づくPBE近傍の角振動数を、基準とする励起光の角振動数に合致させるように、各層11,12の厚さTH1,TH2及び屈折率n1,n2を設定することによって得られる。各種パラメータTH1,TH2,n1,n2の値は、式(1)から上記の関係が成立する範囲内で適宜、選択することができる。また、基準とする励起光の周波数を適宜、設定してもよい。
According to the configuration of the
また、励起光の角振動数が、PBE近傍において、反射率スペクトルが極小の角振動数位置付近となることにより、励起光を発光素子10に入射させる際の反射による損失を低減でき、励起光から蛍光への変換効率を良くすることができる。
Further, since the angular frequency of the excitation light is near the minimum angular frequency position of the reflectance spectrum in the vicinity of PBE, it is possible to reduce the loss due to the reflection when the excitation light is incident on the
[2−2.シミュレーションについて]
以上のようなフォトニック結晶5に基づく発光素子10に関して、本願発明者が行ったシミュレーションについて、図5を用いて説明する。
[2-2. About simulation]
With respect to the
図5は、発光素子10のフォトニック結晶5における電場の解析シミュレーションの結果を示すグラフである。図5の縦軸は、時間Tを、光速cを用いて距離換算して表しており(cT[μm])、横軸は、電場強度Ey2を任意単位で表している。
FIG. 5 is a graph showing the results of an electric field analysis simulation in the
図5の解析シミュレーションでは、本実施形態に係る発光素子10のフォトニック結晶5に、励起光(TE波)を入射させた場合の電場の強度をFDTD法でシミュレーションした。この際、蛍光発光による励起光の減衰はないこととするという仮定を用いた。このようなフォトニック結晶5のシミュレーションモデルにおいて、透過光と、反射光と、蛍光体層11内部の所定位置を通過する光とについて、電場強度Ey2の時間変化を数値計算すると、図5のような結果が得られた。
In the analysis simulation of FIG. 5, the intensity of the electric field when the excitation light (TE wave) is incident on the
図5によると、蛍光体層11の内部では、励起光の電場強度Ey2が、透過光の2割程度にまで低減されている。上記の仮定によると、フォトニック結晶5のシミュレーションモデルに入射した光は吸収されずに透過することとなる。このことから、図5における透過光の曲線は、本実施形態におけるフォトニック結晶5のような周期構造を用いない従来の蛍光体構造(例えばバルク構造)中で生じる電場強度Ey2に対応すると考えられる。よって、本実施形態におけるフォトニック結晶5によると、蛍光体層11において、従来構造よりも励起光の光強度を低減できることが確認された。
According to FIG. 5, the electric field intensity Ey 2 of the excitation light is reduced to about 20% of the transmitted light inside the
[3.効果等]
以上のように、本実施形態に係る発光素子10は、予め設定された励起光に基づき蛍光を発光する。発光素子10は、蛍光体層11と、物体層としての低屈折率層12とを備える。蛍光体層11は、蛍光を発光する蛍光体の量子ドット13を含む。低屈折率層12は、蛍光体層11における屈折率n1とは異なる屈折率n2を有する。蛍光体層11と低屈折率層12とは、交互に複数、積層されている。積層された蛍光体層11及び低屈折率層12を含む周期構造体であるフォトニック結晶5において、励起光が入射した場合における電場の強度分布のピークが低屈折率層12に位置するように、蛍光体層11及び低屈折率層12が周期的に配置されている。
[3. Effect, etc.]
As described above, the
以上の発光素子10によると、励起光が発光素子10に入射した際に、電場強度のピーク位置が蛍光体層11の外部になる。これにより、発光素子10に照射される励起光による光密度消光を低減することができる。
According to the
本実施形態において、フォトニック結晶5は、光の分散関係を規定する第1フォトニックバンドと、第1フォトニックバンドよりもフォトニックバンドギャップ分、大きい周波数の光の分散関係を規定する第2フォトニックバンドとを有する。このようなフォトニックバンド構造に基づいて、励起光の電場強度の分布を制御し、光密度消光を低減することができる。
In the present embodiment, the
また、本実施形態において、低屈折率層12における屈折率n2は、蛍光体層11における屈折率n1よりも低い。第2フォトニックバンドにおけるバンド端が、励起光の周波数近傍の周波数を有する(図4)。屈折率n2<n1の場合には、第2フォトニックバンド側のPBEを励起光の周波数近傍に設定することで、発光素子10における光密度消光を低減できる。
Further, in the present embodiment, the refractive index n2 of the low
また、本実施形態では、周期構造体において、蛍光体層11と低屈折率層12とがそれぞれ、少なくとも10層積層される。これにより、周期構造体がフォトニック結晶5として機能し、電場強度の分布を制御できる。
Further, in the present embodiment, in the periodic structure, at least 10 layers each of the
また、本実施形態において、発光装置2は、発光素子10と、発光素子10に励起光を照射する励起光源41とを備える。発光素子10は、フォトニック結晶5を備える。フォトニック結晶5は、蛍光体層11と、蛍光体層11における屈折率n1よりも低い屈折率n2を有する低屈折率層12とを交互に複数、積層した周期構造体である。フォトニック結晶5は、第1フォトニックバンドと第2フォトニックバンドとを有する。励起光は、第2フォトニックバンドにおけるバンド端近傍の周波数を有する。
In addition, in the present embodiment, the
以上の発光装置2によると、蛍光を発光する発光素子10において、発光素子10に照射される励起光による光密度消光を低減することができる。
According to the
(変形例)
実施形態1に係る発光素子10は、フォトニック結晶5を備えた。本開示に係る発光素子においては、フォトニック結晶5のような周期構造が部分的に設けられてもよい。この変形例について、図6を用いて説明する。
(Modification)
The
図6は、実施形態1の変形例に係る発光素子10Aを説明するための図である。本変形例に係る発光素子10Aは、図6に示すように、フォトニック結晶5と、バルク構造6とを備える。バルク構造6は、例えばフォトニック結晶5の蛍光体層11と同様の材料、或いは同様の蛍光特性を有する材料で構成される。フォトニック結晶5は、バルク構造6の−X側(励起光の入射側)に積層される。
FIG. 6 is a diagram for explaining a
発光装置2において、励起光による光密度消光は、発光素子10Aにおける励起光の入射側において顕著であると考えられる。そこで、本変形例に係る発光素子10Aでは、励起光の入射側にフォトニック結晶5を設け、残りの部分についてはバルク状の蛍光体(バルク構造6)を用いる。
In the
一例として、フォトニック結晶5において、蛍光体層11と低屈折率層12とがそれぞれ200層、積層され、1層当たりの蛍光体層11の厚さTH1=70nm、蛍光体の吸収率α=1000cm−1の場合について検討する。この場合、フォトニック結晶5における蛍光体層11の部分の厚さの合計は14μmになる。この場合、励起光の発光素子10Aへの入射前の光強度をI0とすると、励起光がフォトニック結晶5の内部を伝播した後の光強度は、次式のように計算できる。
As an example, in the
I0*exp(−0.0014*1000)=0.247*I0 …(4)
上式(4)によると、フォトニック結晶5の内部を伝播した後の光強度は、約1/4倍に減衰している。よって、上記のようにフォトニック結晶5をバルク構造6の−X側に設けることで、励起光がフォトニック結晶5を通ってバルク構造6に入射する際に、励起光の光強度を約1/4倍にまで低減させることができる。
I0*exp(-0.0014*1000)=0.247*I0 (4)
According to the above equation (4), the light intensity after propagating inside the
バルク構造6においては、励起光の光強度がフォトニック結晶5を介して低減されていることから、光密度消光の影響が抑制され、励起光を効率良く吸収して蛍光に変換することができる。バルク構造6の厚さは、フォトニック結晶5で低減された励起光の光強度を考慮して、当該励起光が充分に吸収されると想定される程度の厚さに適宜、設定することができる(例えば100μm〜200μm)。
In the
以上のように、本変形例に係る発光素子10Aは、蛍光を発光する蛍光体で構成されるバルク構造6をさらに備える。周期構造体であるフォトニック結晶5は、バルク構造6よりも励起光の入射側(−X側)に設けられる。これにより、フォトニック結晶5において光密度消光を低減し、バルク構造6においても効率良く励起光を蛍光に変換することができる。
As described above, the
(他の実施形態)
以上のように、本出願において開示する技術の例示として、実施形態1及びその変形例を説明した。しかしながら、本開示における技術は、これに限定されず、適宜、変更、置換、付加、省略などを行った実施の形態にも適用可能である。また、上記各実施形態で説明した各構成要素を組み合わせて、新たな実施の形態とすることも可能である。そこで、以下、他の実施形態を例示する。
(Other embodiments)
As described above, the first embodiment and its modifications have been described as examples of the technique disclosed in the present application. However, the technique in the present disclosure is not limited to this, and is also applicable to the embodiment in which changes, replacements, additions, omissions, etc. are appropriately made. Further, it is also possible to combine the respective constituent elements described in each of the above-described embodiments to form a new embodiment. Therefore, other embodiments will be exemplified below.
上記の各実施形態では、透過型の蛍光体ホイール20における発光素子10について説明したが、本開示に係る発光素子は、透過型に限らず、反射型の蛍光体ホイールに適用することができる。図7を用いて、反射型の発光素子10Bについて説明する。
In each of the above embodiments, the
図7は、他の実施形態に係る発光素子10Bの構成を例示する図である。本例の発光素子10Bでは、実施形態1と同様の構成(図2)において、−X側に設けられた基板16及びダイクロイックフィルタ17が省略され、代わりに+X側に金属基板15及び接着層14が設けられる。金属基板15は、例えば銀等で構成され、発光素子10Bにおいて励起光の入射側(−X側)とは反対側(+X側)に、蛍光等の光を反射する反射面を形成する。接着層14は、各種接着剤で構成され、フォトニック結晶5と金属基板15とを接着する。
FIG. 7: is a figure which illustrates the structure of the
本例の発光素子10Bにおいては、+X向きに伝播する光は、金属基板15による反射面において反射し、伝播方向が−X向きになる。このため、実施形態1と同様に−X側から励起光が+X向きに入射すると、励起光が変換された蛍光は、発光素子10の−X向きに出射する。発光素子10Bの反射面は、金属コーティング等によって形成されてもよい。
In the
以上のように、本例の発光素子10Bには、励起光の入射側(−X側)とは反対側(+X側)に、光を反射する反射面がさらに設けられる。これにより、発光素子10Bは、入射した励起光を反射するように、変換後の光を出射する。
As described above, the
上記の各実施形態では、発光素子10〜10Bにおける物体層として低屈折率層12を用いた。本開示に係る発光素子において、物体層は、低屈折率層12に限らず、屈折率が蛍光体層11よりも高い高屈折率層であってもよい。
In each of the above embodiments, the low
この場合、第1フォトニックバンド側のPBE近傍が励起光に合致するように、蛍光体層11と高屈折率層との周期構造によるフォトニック結晶を構成する(図4参照)。これにより、当該フォトニック結晶において、励起光が入射した場合における電場の強度分布のピークが高屈折率層に位置するように設定することができる。
In this case, a photonic crystal having a periodic structure of the
以上のように、物体層における屈折率は、蛍光体層11における屈折率よりも高くてもよい。この場合、第1フォトニックバンドにおけるバンド端が、励起光の周波数近傍の周波数を有する。これにより、高屈折率層を用いて発光素子10における光密度消光を低減できる。
As described above, the refractive index of the object layer may be higher than that of the
また、上記の各実施形態では、発光素子10〜10Bにおいて、蛍光体層11における蛍光体として量子ドットを用いた。本開示において、蛍光体層等における蛍光体は特に量子ドットに限らず、種々の蛍光体材料を用いてもよく、例えばYAG等であってもよい。
Further, in each of the above-described embodiments, quantum dots are used as the phosphors in the
また、上記の各実施形態では、発光装置2が青色光の励起光を蛍光に変換して黄色光を出力する例を説明した。本開示に係る発光装置はこれに限定されない。例えば、発光装置は、青色光の励起光の一部を黄色光に変換し、残りの青色光を併せて白色光を生成してもよい。この場合、プロジェクタ1において、別途の青色光源を省略することができる。
Further, in each of the above-described embodiments, an example has been described in which the
また、本開示において、励起光は、青色光に限らず、種々の波長帯の光であってもよい。また、蛍光も、黄色光に限らず、種々の波長帯の光であってもよい。以上のように、本開示に係る発光装置は、種々の励起光に基づき各種の光を出力してもよい。 Further, in the present disclosure, the excitation light is not limited to blue light and may be light in various wavelength bands. Further, the fluorescence is not limited to yellow light and may be light in various wavelength bands. As described above, the light emitting device according to the present disclosure may output various kinds of light based on various kinds of excitation light.
また、上記の各実施形態では、発光装置2をプロジェクタ1に適用する適用例について説明した。本開示に係る発光装置はプロジェクタ1に限らず、励起光に基づく蛍光発光を用いる種々の技術に適用可能である。
Further, in each of the above-described embodiments, an application example in which the
また、上記の各実施形態では、発光装置2は、蛍光体ホイール20に組み込まれた発光素子10を備えた。本開示に係る発光装置は、特に蛍光体ホイールに組み込まれずに、本開示に係る発光素子を備えてもよい。例えば発光素子の冷却が特に必要出ない場合や他の機構によって冷却可能な場合など、発光装置2において回転装置22が省略されてもよい。
Further, in each of the above-described embodiments, the
以上のように、本開示における技術の例示として、実施の形態を説明した。そのために、添付図面および詳細な説明を提供した。 As described above, the embodiments have been described as examples of the technology according to the present disclosure. To that end, the accompanying drawings and detailed description are provided.
したがって、添付図面および詳細な説明に記載された構成要素の中には、課題解決のために必須な構成要素だけでなく、上記技術を例示するために、課題解決のためには必須でない構成要素も含まれ得る。そのため、それらの必須ではない構成要素が添付図面や詳細な説明に記載されていることをもって、直ちに、それらの必須ではない構成要素が必須であるとの認定をするべきではない。 Therefore, among the constituent elements described in the accompanying drawings and the detailed description, not only constituent elements essential for solving the problem but also constituent elements not essential for solving the problem in order to exemplify the above technology. Can also be included. Therefore, it should not be immediately recognized that the non-essential components are essential, because the non-essential components are described in the accompanying drawings and the detailed description.
また、上述の実施の形態は、本開示における技術を例示するためのものであるから、特許請求の範囲またはその均等の範囲において、種々の変更、置換、付加、省略などを行うことができる。 Further, since the above-described embodiments are for exemplifying the technique of the present disclosure, various changes, substitutions, additions, omissions, etc. can be made within the scope of the claims or the scope of equivalents thereof.
本開示は、励起光に基づく蛍光発光を用いる種々の技術に適用可能であり、例えばプロジェクタに適用可能である。 The present disclosure is applicable to various technologies that use fluorescence emission based on excitation light, and is applicable to, for example, a projector.
10,10A,10B 発光素子
11 蛍光体層
12 低屈折率層
13 量子ドット
2 発光装置
41 励起光源
5 フォトニック結晶
10, 10A, 10B
Claims (9)
前記蛍光を発光する蛍光体を含んだ蛍光体層と、
前記蛍光体層における屈折率とは異なる屈折率を有する物体層とを備え、
前記蛍光体層と前記物体層とは、交互に複数、積層され、
前記積層された蛍光体層及び物体層を含む周期構造体において、前記励起光が入射した場合における電場の強度分布のピークが前記物体層に位置するように、前記蛍光体層及び物体層が周期的に配置された
発光素子。 A light-emitting element that emits fluorescence based on predetermined excitation light,
A phosphor layer containing a phosphor that emits the fluorescence,
An object layer having a refractive index different from the refractive index of the phosphor layer,
The phosphor layers and the object layer are alternately laminated,
In the periodic structure including the laminated phosphor layer and object layer, the phosphor layer and the object layer are arranged so that the peak of the intensity distribution of the electric field when the excitation light is incident is located in the object layer. Light-emitting elements that are physically arranged.
請求項1に記載の発光素子。 The periodic structure includes a first photonic band that defines a dispersion relation of light, and a second photonic band that defines a dispersion relation of light whose frequency is larger than that of the first photonic band by a photonic band gap. The light emitting device according to claim 1, comprising:
前記第2フォトニックバンドにおけるフォトニックバンドエッジの角振動数が、前記励起光の角振動数近傍の値を有する
請求項2に記載の発光素子。 The refractive index in the object layer is lower than the refractive index in the phosphor layer,
The light emitting device according to claim 2, wherein the angular frequency of the photonic band edge in the second photonic band has a value near the angular frequency of the excitation light.
前記第1フォトニックバンドにおけるバンド端が、前記励起光の角振動数近傍の角振動数を有する
請求項2に記載の発光素子。 The refractive index in the object layer is higher than the refractive index in the phosphor layer,
The light emitting device according to claim 2, wherein a band edge in the first photonic band has an angular frequency near the angular frequency of the excitation light.
前記周期構造体は、前記バルク構造よりも前記励起光の入射側に設けられる
請求項1〜4のいずれか1項に記載の発光素子。 Further comprising a bulk structure composed of the phosphor that emits the fluorescence,
The light emitting device according to claim 1, wherein the periodic structure is provided closer to an incident side of the excitation light than the bulk structure.
請求項1〜5のいずれか1項に記載の発光素子。 The light emitting device according to claim 1, further comprising a reflecting surface that reflects light, which is provided on a side opposite to a side where the excitation light is incident.
請求項1〜6のいずれか1項に記載の発光素子。 The light emitting device according to claim 1, wherein in the periodic structure, at least 10 layers of the phosphor layer and the object layer are laminated.
前記発光素子に前記励起光を照射する励起光源と
を備えた発光装置。 A light-emitting element according to any one of claims 1 to 7,
A light emitting device comprising: an excitation light source that irradiates the light emitting element with the excitation light.
前記励起光に基づき蛍光を発光する蛍光体を含んだ蛍光体層と、前記蛍光体層における屈折率よりも低い屈折率を有する物体層とを交互に複数、積層した周期構造体を備えた発光素子とを備え、
前記周期構造体は、光の分散関係を規定する第1フォトニックバンドと、前記第1フォトニックバンドよりもフォトニックバンドギャップ分、大きい角振動数の光の分散関係を規定する第2フォトニックバンドとを有し、
前記励起光は、前記第2フォトニックバンドにおけるバンド端近傍の角振動数を有する
発光装置。 An excitation light source that emits a predetermined excitation light,
Phosphor layers containing a phosphor that emits fluorescence based on the excitation light, and a plurality of object layers having a refractive index lower than the refractive index of the phosphor layers are alternately stacked, and light emission including a periodic structure is laminated. With elements,
The periodic structure defines a first photonic band that defines a light dispersion relationship, and a second photonic band that defines a light dispersion relationship at a higher angular frequency by a photonic band gap than the first photonic band. Has a band and
The excitation light is a light emitting device having an angular frequency near the band edge in the second photonic band.
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