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JP2020070485A - Electric field catalytic reaction apparatus and electric field catalytic reaction method - Google Patents

Electric field catalytic reaction apparatus and electric field catalytic reaction method Download PDF

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JP2020070485A JP2018207716A JP2018207716A JP2020070485A JP 2020070485 A JP2020070485 A JP 2020070485A JP 2018207716 A JP2018207716 A JP 2018207716A JP 2018207716 A JP2018207716 A JP 2018207716A JP 2020070485 A JP2020070485 A JP 2020070485A
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Abstract

【課題】有機ハイドライドから水素を脱離させる脱水素反応を電場触媒反応によって行う場合に、電場の印加に用いられる電極間での放電の発生を抑制する。【解決手段】脱水素反応装置1が、一対の電極21A、21B及びそれら電極間に配置された脱水素用触媒を有する反応器10と、その反応器に有機ハイドライドを供給する原料供給ラインL2と、電極21A、21Bに直流電圧を印加する電圧印加装置30と、反応器10に水素を供給する水素供給ラインL3と、を備え、脱水素用触媒は、少なくとも電極21A、21Bに直流電圧が印加される前の状態において、水素供給ラインL3から供給された前記水素によって還元された触媒を含む構成とする。【選択図】図1PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the generation of electric discharge between electrodes used for applying an electric field when a dehydrogenation reaction for desorbing hydrogen from an organic hydride is carried out by an electric field catalytic reaction. SOLUTION: A dehydrogenation reactor 1 has a pair of electrodes 21A and 21B, a reactor 10 having a dehydrogenation catalyst arranged between the electrodes, and a raw material supply line L2 for supplying organic hydride to the reactor. A voltage application device 30 for applying a DC voltage to the electrodes 21A and 21B and a hydrogen supply line L3 for supplying hydrogen to the reactor 10 are provided, and the dehydrogenation catalyst applies a DC voltage to at least the electrodes 21A and 21B. In the state before the hydrogen is supplied, the catalyst including the catalyst reduced by the hydrogen supplied from the hydrogen supply line L3 is included. [Selection diagram] Fig. 1

Description

本発明は、電場を印加した触媒の存在下において化学反応を行う電場触媒反応装置及び電場触媒反応方法に関する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electric field catalytic reaction apparatus and an electric field catalytic reaction method for performing a chemical reaction in the presence of a catalyst to which an electric field is applied.

従来、弱電場を印加した触媒の存在下において化学反応を行う電場触媒反応に関する技術が開発されている(非特許文献1参照)。この電場触媒反応によれば、従来の触媒反応では反応が進行しない比較的低温においても化学反応を進行させることが可能となるため、反応温度の抑制(低下)や、触媒の劣化防止などの効果が期待されている。   Conventionally, a technique relating to an electric field catalytic reaction in which a chemical reaction is performed in the presence of a catalyst to which a weak electric field is applied has been developed (see Non-Patent Document 1). According to this electric field catalytic reaction, it becomes possible to proceed the chemical reaction even at a relatively low temperature where the reaction does not proceed in the conventional catalytic reaction, so that the effect of suppressing (decreasing) the reaction temperature and preventing the deterioration of the catalyst can be obtained. Is expected.

Sakurai, S., Ogo, S., & Sekine, Y.(桜井 沙織, 小河 脩平, 関根 泰) (2016). Hydrogen production by steam reforming of ethanol over Pt/CeO2 catalyst in electric field at low temperature(セリア担持白金触媒を用いた低温電場中でのエタノール水蒸気改質による水素製造). Journal of the Japan Petroleum Institute(日本石油学会論文誌), 59(5), 174-183. DOI: 10.1627/jpi.59.174Sakurai, S., Ogo, S., & Sekine, Y. (Saori Sakurai, Shuhei Ogawa, Yasushi Sekine) (2016). Hydrogen production by steam reforming of ethanol over Pt / CeO2 catalyst in electric field at low temperature (Ceria Hydrogen production by steam reforming of ethanol in a low-temperature electric field using a supported platinum catalyst. Journal of the Japan Petroleum Institute, 59 (5), 174-183. DOI: 10.1627 / jpi.59.174

ところで、本願発明者らが鋭意検討した結果、上記のような電場触媒反応は、所定の条件下において有機ハイドライドから水素を脱離させる脱水素反応にも適用することが可能であり、それにより、吸熱反応である脱水素反応における反応温度の抑制などの効果が得られることが確認されている。   By the way, as a result of diligent study by the inventors of the present application, the electric field catalytic reaction as described above can also be applied to a dehydrogenation reaction for desorbing hydrogen from an organic hydride under predetermined conditions, whereby It has been confirmed that effects such as suppression of the reaction temperature in the dehydrogenation reaction which is an endothermic reaction can be obtained.

さらに、本願発明者らは、そのような電場触媒反応を行う反応器において、触媒層を挟み込むように配置された一対の電極の間に所定の電圧を印加する場合に、その触媒層の絶縁性が比較的高い状態にあると、それら電極間に放電が生じ、良好な脱水素反応が阻害されることを見出した。   Furthermore, the inventors of the present application, in a reactor that performs such an electric field catalytic reaction, when applying a predetermined voltage between a pair of electrodes arranged so as to sandwich the catalyst layer, the insulating property of the catalyst layer It has been found that when the temperature is relatively high, a discharge occurs between the electrodes and a good dehydrogenation reaction is hindered.

本発明は、このような従来技術の課題を鑑みて案出されたものであり、有機ハイドライドから水素を脱離させる脱水素反応を電場触媒反応によって行う場合に、電場の印加に用いられる電極間での放電の発生を抑制することを可能とする電場触媒反応装置及び電場触媒反応方法を提供することを主目的とする。   The present invention has been devised in view of such problems of the prior art, and when performing a dehydrogenation reaction for desorbing hydrogen from an organic hydride by an electric field catalytic reaction, an interelectrode electrode used for applying an electric field. The main object of the present invention is to provide an electric field catalytic reaction apparatus and an electric field catalytic reaction method capable of suppressing the occurrence of electric discharge in the electric field.

本発明の第1の側面では、有機ハイドライドから水素を脱離させる脱水素反応装置(1)であって、一対の電極(電極21A、21B)及びそれら電極間に配置された脱水素用触媒を有する反応器(10)と、前記反応器に前記有機ハイドライドを供給する原料供給ライン(L2)と、前記電極に直流電圧を印加する電圧印加装置(30)と、前記反応器に水素を供給する水素供給ライン(L3)と、を備え、前記脱水素用触媒は、少なくとも前記電極に直流電圧が印加される前の状態において、前記水素供給ラインから供給された前記水素によって還元された触媒を含むことを特徴とする。   In the first aspect of the present invention, there is provided a dehydrogenation reactor (1) for desorbing hydrogen from organic hydride, comprising a pair of electrodes (electrodes 21A, 21B) and a dehydrogenation catalyst arranged between the electrodes. A reactor (10) having the same, a raw material supply line (L2) for supplying the organic hydride to the reactor, a voltage applying device (30) for applying a DC voltage to the electrode, and hydrogen for supplying to the reactor. A hydrogen supply line (L3), and the dehydrogenation catalyst includes a catalyst reduced by the hydrogen supplied from the hydrogen supply line at least in a state before a DC voltage is applied to the electrode. It is characterized by

これによると、有機ハイドライドから水素を脱離させる脱水素反応を電場触媒反応によって行う場合に、水素供給ラインから反応器に供給する水素によって脱水素用触媒を還元することにより、当該脱水素用触媒の絶縁性を低下させることができるため、電場の印加に用いられる電極間での放電の発生を抑制することが可能となる。   According to this, when the dehydrogenation reaction for desorbing hydrogen from the organic hydride is performed by the electrocatalytic reaction, the dehydrogenation catalyst is reduced by reducing the dehydrogenation catalyst with hydrogen supplied from the hydrogen supply line to the reactor. Since it is possible to reduce the insulation properties of the, it is possible to suppress the occurrence of discharge between the electrodes used for applying the electric field.

本発明の第2の側面では、前記水素供給ラインにおける前記水素の流通を遮断可能な遮断弁(25)を更に備えたことを特徴とする。   The second aspect of the present invention is characterized by further comprising a shutoff valve (25) capable of shutting off the flow of the hydrogen in the hydrogen supply line.

これによると、反応器では脱水素反応の進行により水素が発生するため、脱水素反応が安定した後には、遮断弁により水素供給ラインにおける水素の流通を遮断することにより、反応器への不要な水素の供給を回避することが可能となる。   According to this, since hydrogen is generated in the reactor as the dehydrogenation reaction progresses, after the dehydrogenation reaction stabilizes, the shutoff valve shuts off the flow of hydrogen in the hydrogen supply line, thereby eliminating unnecessary reaction to the reactor. It becomes possible to avoid the supply of hydrogen.

本発明の第3の側面では、前記脱水素用触媒は、所定の担持体に担持された白金を含み、前記還元された触媒は、X線光電子分光法により測定されたスペクトルに関し、異なる価数の白金の各ピークの全体の面積のうちの価数ゼロの白金のピークの面積の百分率として算出される還元度が19%以上であることを特徴とする。   In the third aspect of the present invention, the dehydrogenation catalyst contains platinum supported on a predetermined support, and the reduced catalyst has different valences with respect to a spectrum measured by X-ray photoelectron spectroscopy. The degree of reduction calculated as a percentage of the area of the platinum peak having a valence of zero out of the total area of the respective platinum peaks is 19% or more.

これによると、脱水素用触媒の還元状態に関する適切な指標に基づき、電場の印加に用いられる電極間での放電の発生を抑制することが可能となる。   According to this, it becomes possible to suppress the occurrence of discharge between the electrodes used for applying the electric field, based on an appropriate index relating to the reduction state of the dehydrogenation catalyst.

本発明の第4の側面では、前記白金の異なる価数は、0価、+2価、及び+4価であることを特徴とする。   In a fourth aspect of the present invention, the different valences of platinum are 0 valence, +2 valence, and +4 valence.

これによると、脱水素用触媒の還元状態に関する適切な指標に基づき、電場の印加に用いられる電極間での放電の発生を抑制することが可能となる。   According to this, it becomes possible to suppress the occurrence of discharge between the electrodes used for applying the electric field, based on an appropriate index relating to the reduction state of the dehydrogenation catalyst.

本発明の第5の側面では、前記還元度が24%以上であることを特徴とする。   The fifth aspect of the present invention is characterized in that the degree of reduction is 24% or more.

これによると、脱水素用触媒の還元状態に関する適切な指標に基づき、電場の印加に用いられる電極間での放電の発生をより確実に抑制することが可能となる。   According to this, it becomes possible to more reliably suppress the occurrence of discharge between the electrodes used for applying the electric field, based on an appropriate index relating to the reduction state of the dehydrogenation catalyst.

本発明の第6の側面では、有機ハイドライドから水素を脱離させる脱水素反応方法であって、一対の電極及びそれら電極間に配置された脱水素用触媒を有する反応器に対し、前記有機ハイドライドを供給し、前記反応器において、前記電極間に直流電圧を印加した状態で前記有機ハイドライドの脱水素反応を行い、少なくとも前記脱水素反応の開始前において、前記反応器に水素を供給することを特徴とする。   According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a dehydrogenation reaction method for desorbing hydrogen from an organic hydride, wherein the organic hydride is added to a reactor having a pair of electrodes and a dehydrogenation catalyst arranged between the electrodes. Is supplied, in the reactor, a dehydrogenation reaction of the organic hydride is performed in a state in which a DC voltage is applied between the electrodes, and hydrogen is supplied to the reactor at least before the start of the dehydrogenation reaction. Characterize.

これによると、有機ハイドライドから水素を脱離させる脱水素反応を電場触媒反応によって行う場合に、水素供給ラインから反応器に供給される水素によって脱水素用触媒が還元されることにより、当該脱水素用触媒の絶縁性を低下させることができるため、電場の印加に用いられる電極間での放電の発生を抑制することが可能となる。   According to this, when the dehydrogenation reaction for desorbing hydrogen from the organic hydride is carried out by the electrocatalytic reaction, the dehydrogenation catalyst is reduced by the reduction of the dehydrogenation catalyst by the hydrogen supplied from the hydrogen supply line to the reactor. Since the insulating property of the catalyst for use can be reduced, it is possible to suppress the occurrence of discharge between the electrodes used for applying the electric field.

本発明の第7の側面では、前記脱水素反応の開始後において、前記反応器への前記水素の供給を停止することを特徴とする。   The seventh aspect of the present invention is characterized in that the supply of the hydrogen to the reactor is stopped after the start of the dehydrogenation reaction.

これによると、反応器では脱水素反応により水素が発生するため、脱水素反応が安定した後には、反応器への水素の供給を停止することにより、不要な水素の供給を回避することが可能となる。   According to this, since hydrogen is generated by the dehydrogenation reaction in the reactor, it is possible to avoid unnecessary hydrogen supply by stopping the hydrogen supply to the reactor after the dehydrogenation reaction has stabilized. Becomes

このように本発明によれば、有機ハイドライドから水素を脱離させる脱水素反応を電場触媒反応によって行う場合に、電場の印加に用いられる電極間での放電の発生を抑制することが可能となる。   As described above, according to the present invention, when the dehydrogenation reaction for desorbing hydrogen from the organic hydride is performed by the electric field catalytic reaction, it is possible to suppress the occurrence of discharge between the electrodes used for applying the electric field. ..

実施形態に係る脱水素反応装置の構成図Configuration diagram of a dehydrogenation reactor according to an embodiment 図1に示した反応器の詳細構成を示す説明図Explanatory drawing which shows the detailed structure of the reactor shown in FIG. 図1に示した電極の詳細構成を示す説明図Explanatory drawing which shows the detailed structure of the electrode shown in FIG. 図1に示した反応器の変形例を示す図The figure which shows the modification of the reactor shown in FIG. 図1に示した脱水素反応装置の変形例を示す図The figure which shows the modification of the dehydrogenation reaction apparatus shown in FIG. 電場印加が水素収率に及ぼす影響を示す説明図Explanatory diagram showing the effect of electric field application on hydrogen yield 電場印加がMCHの転化率に及ぼす影響を示す説明図Explanatory diagram showing the effect of electric field application on the conversion rate of MCH 触媒の種別が水素収率に及ぼす影響を示す説明図Explanatory diagram showing the effect of catalyst type on hydrogen yield 触媒の種別が水素収率に及ぼす影響を示す説明図Explanatory diagram showing the effect of catalyst type on hydrogen yield LHSVがMCH転化率に及ぼす影響を示す説明図Explanatory drawing showing the effect of LHSV on the MCH conversion rate 電極間距離がMCH転化率に及ぼす影響を示す説明図Explanatory diagram showing the influence of the distance between electrodes on the MCH conversion rate 原料ガス中のMCH濃度がMCH転化率に及ぼす影響を示す説明図Explanatory diagram showing the effect of MCH concentration in the raw material gas on the MCH conversion rate 触媒の表面積が水素収率に及ぼす影響を示す説明図Explanatory drawing showing influence of surface area of catalyst on hydrogen yield 触媒担持量が水素収率に及ぼす影響を示す説明図Explanatory diagram showing the effect of the amount of catalyst carried on the hydrogen yield 還元状態の異なる複数の触媒についてのXPSによる分析結果を示す説明図Explanatory drawing which shows the analysis result by XPS about several catalysts from which a reduction state differs. 還元状態の異なる複数の触媒についてのXPSによる分析結果を示す説明図Explanatory drawing which shows the analysis result by XPS about several catalysts from which a reduction state differs. 触媒の還元状態が水素収率に及ぼす影響を示す説明図Explanatory drawing showing influence of reduction state of catalyst on hydrogen yield

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施形態に係る脱水素反応装置1の構成図であり、図2及び図3は、それぞれ図1に示した反応器10及び電極21A、21Bの要部の詳細構成を示す説明図であり、図4は、図1に示した反応器10の変形例を示す図である。   FIG. 1 is a configuration diagram of a dehydrogenation reaction apparatus 1 according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2 and 3 show detailed configurations of essential parts of a reactor 10 and electrodes 21A and 21B shown in FIG. 1, respectively. It is an explanatory view shown, and Drawing 4 is a figure showing a modification of reactor 10 shown in Drawing 1.

脱水素反応装置1は、脱水素反応により有機ハイドライドから水素を脱離させる装置である。本実施形態では、有機ハイドライドとしてメチルシクロヘキサン(以下、MCHという。)を用いた例を示しており、脱水素反応装置1では、MCHの脱水素反応によって、水素及びトルエンが主として生成される。   The dehydrogenation reactor 1 is a device that desorbs hydrogen from organic hydride by a dehydrogenation reaction. The present embodiment shows an example in which methylcyclohexane (hereinafter referred to as MCH) is used as the organic hydride, and in the dehydrogenation reactor 1, hydrogen and toluene are mainly produced by the dehydrogenation reaction of MCH.

図1に示すように、脱水素反応装置1は、脱水素反応の原料となるMCH(液体)を収容する原料容器2を備えている。原料容器2には、不活性ガス(ここでは、Arガス)がガス供給ラインL1を介して供給される。ガス供給ラインL1の下流端は、原料容器2内のMCHの液中に挿入された状態にあり、これにより、MCHは、ガス供給ラインL1から導入されたArガスによってバブリングされ、Arガスと混合された原料ガスとして原料容器2から原料供給ラインL2に送出される。なお、原料容器2内のMCHは、図示しないヒータによって所定温度(例えば、約60℃)に加温される。   As shown in FIG. 1, the dehydrogenation reaction apparatus 1 includes a raw material container 2 that contains MCH (liquid) that is a raw material for the dehydrogenation reaction. The raw material container 2 is supplied with an inert gas (here, Ar gas) via the gas supply line L1. The downstream end of the gas supply line L1 is in a state of being inserted into the liquid of MCH in the raw material container 2, whereby the MCH is bubbled by Ar gas introduced from the gas supply line L1 and mixed with Ar gas. The raw material gas is sent from the raw material container 2 to the raw material supply line L2. The MCH in the raw material container 2 is heated to a predetermined temperature (for example, about 60 ° C.) by a heater (not shown).

ガス供給ラインL1には、Arガスの流量を調整する流量調整弁3及び流量計4が設けられている。流量調整弁3の動作は、流量計4の測定値に応じて流量制御器5から送出される制御命令によって制御される。脱水素反応装置1では、流量調整弁3によるArガスの流量制御により、原料供給ラインL2における原料ガス(ここでは、MCH及びArの混合ガス)の流量を制御することが可能である。   The gas supply line L1 is provided with a flow rate adjusting valve 3 and a flow meter 4 for adjusting the flow rate of Ar gas. The operation of the flow rate adjusting valve 3 is controlled by a control command sent from the flow rate controller 5 according to the measurement value of the flow meter 4. In the dehydrogenation reaction apparatus 1, it is possible to control the flow rate of the source gas (here, a mixed gas of MCH and Ar) in the source supply line L2 by controlling the flow rate of the Ar gas by the flow rate adjusting valve 3.

ここでは、原料ガス中のMCHの割合は、約20mol%(すなわち、Arガスが約80mol%)であるが、これに限らず、MCHの割合は適宜変更することができる。後述するように、MCHのみ(100%のMCH)を原料ガスとして用いてもよい。   Here, the ratio of MCH in the source gas is about 20 mol% (that is, Ar gas is about 80 mol%), but the present invention is not limited to this, and the ratio of MCH can be appropriately changed. As described later, MCH alone (100% MCH) may be used as the source gas.

脱水素反応装置1は、MCHの脱水素反応に電場触媒反応を適用した(すなわち、電場を印加した触媒の存在下においてMCHの脱水素反応を行う)反応器10を備えている。反応器10には、原料供給ラインL2の下流端が接続されており、これにより、原料容器2から原料ガスが供給される。原料供給ラインL2を流れる原料ガスは、図示しないヒータによって所定の温度(例えば、約110℃)に加温される。   The dehydrogenation reaction apparatus 1 includes a reactor 10 in which an electric field catalytic reaction is applied to the dehydrogenation reaction of MCH (that is, the MCH dehydrogenation reaction is performed in the presence of a catalyst to which an electric field is applied). The downstream end of the raw material supply line L2 is connected to the reactor 10, whereby the raw material gas is supplied from the raw material container 2. The raw material gas flowing through the raw material supply line L2 is heated to a predetermined temperature (for example, about 110 ° C.) by a heater (not shown).

原料供給ラインL2には、外部の水素(または水素を主成分とするガス)が導入される水素供給ラインL3が接続されており、これにより、必要に応じて外部の水素を反応器10に供給することが可能である。水素供給ラインL3には、外部からの水素の流量を制御(水素を完全に遮断する場合を含む)する制御弁25が設けられている。   A hydrogen supply line L3 into which external hydrogen (or a gas containing hydrogen as a main component) is introduced is connected to the raw material supply line L2, whereby external hydrogen is supplied to the reactor 10 as needed. It is possible to The hydrogen supply line L3 is provided with a control valve 25 for controlling the flow rate of hydrogen from the outside (including the case where hydrogen is completely shut off).

水素供給ラインL3を流れる水素は、反応器10における脱水素反応の開始時に(すなわち、脱水素反応が安定するまで)供給され、反応器10における脱水素触媒の還元に用いることができる。反応器10における脱水素反応が安定した後は、脱水素反応による水素が発生するため、水素供給ラインL3を流れる水素を制御弁25によって遮断することができる。これにより、反応器10への不要な水素の供給を回避することが可能となる。   Hydrogen flowing through the hydrogen supply line L3 is supplied at the start of the dehydrogenation reaction in the reactor 10 (that is, until the dehydrogenation reaction becomes stable), and can be used for reduction of the dehydrogenation catalyst in the reactor 10. After the dehydrogenation reaction in the reactor 10 is stabilized, hydrogen is generated by the dehydrogenation reaction, so that the hydrogen flowing through the hydrogen supply line L3 can be shut off by the control valve 25. This makes it possible to avoid unnecessary supply of hydrogen to the reactor 10.

反応器10には、熱供給により脱水素反応の温度を制御するための加熱器11が付設されている。加熱器11は、反応器10の外周を囲むように配置され、その動作は加熱制御器12によって制御される。加熱器11としては、例えば、ジュール熱や誘導加熱を利用する公知の装置を用いることができるが、これに限らず熱交換器等の他の公知の装置を用いてもよい。   The reactor 10 is provided with a heater 11 for controlling the temperature of the dehydrogenation reaction by supplying heat. The heater 11 is arranged so as to surround the outer periphery of the reactor 10, and its operation is controlled by the heating controller 12. As the heater 11, for example, a known device using Joule heat or induction heating can be used, but the heater 11 is not limited to this, and another known device such as a heat exchanger may be used.

また、反応器10には、反応温度(ここでは、後述する触媒層22の温度)を測定する温度測定器13および加熱器温度を測定する温度測定器14が付設されている。加熱制御器12は、温度測定器14の測定値に基づき加熱器11の動作を制御可能である。後述するように、反応温度を常温から300℃までの範囲内とするように加熱器11を制御することが好ましい。   Further, the reactor 10 is provided with a temperature measuring device 13 for measuring a reaction temperature (here, a temperature of the catalyst layer 22 described later) and a temperature measuring device 14 for measuring a heater temperature. The heating controller 12 can control the operation of the heater 11 based on the measurement value of the temperature measuring device 14. As will be described later, it is preferable to control the heater 11 so that the reaction temperature is within the range of room temperature to 300 ° C.

反応器10は、図2にも示すように、略円筒状をなす外殻20内に、互いに対向するように上下に配置された一対の電極21A、21Bと、それら電極21A、21B間に配置された脱水素用触媒から構成される略円柱状の触媒層22を有する。電極21A、21Bは、触媒層22の上面及び下面をそれぞれ画定する略円盤状の支持プレート23A、23Bに取り付けられている。電極21A、21Bの先端部は、それぞれ支持プレート23A、23Bの中心部を貫通し、触媒層22内に突出するように配置されている。なお、支持プレート23A、23Bの設置は必須ではなく、少なくとも触媒層22を安定して保持可能であればそれらを省略してもよい。   As shown in FIG. 2, the reactor 10 includes a pair of electrodes 21A and 21B arranged vertically in a substantially cylindrical outer shell 20 so as to face each other, and between the electrodes 21A and 21B. It has a substantially cylindrical catalyst layer 22 composed of the dehydrogenation catalyst. The electrodes 21A and 21B are attached to substantially disc-shaped support plates 23A and 23B that define the upper surface and the lower surface of the catalyst layer 22, respectively. The tips of the electrodes 21A and 21B are arranged so as to penetrate the central portions of the support plates 23A and 23B and project into the catalyst layer 22. The support plates 23A and 23B are not necessarily installed, and may be omitted if at least the catalyst layer 22 can be stably held.

また、図3に示すように、支持プレート23Aの適所には、反応前のMCHを通過させる複数の貫通孔24が設けられている。図示は省略するが、同様に支持プレート23Bの適所には、反応後の水素及びトルエン等を通過させる複数の貫通孔が設けられている。   Further, as shown in FIG. 3, a plurality of through holes 24 for allowing the MCH before the reaction to pass through are provided at appropriate places on the support plate 23A. Although illustration is omitted, similarly, a plurality of through holes through which hydrogen and toluene after the reaction are passed are provided at appropriate places on the support plate 23B.

なお、反応器10における電極の構成は、図1〜図3に示した構成に限らず種々の変更が可能である。例えば、図4に示すように、反応器10において、略円筒状をなす外殻20内に、その軸方向に延びる棒状の電極121Aと、その電極121Aを外囲するように配置された円筒形の電極121Bとが設けられ、それら電極121A、121Bの間に触媒層122を配置した構成も可能である。   The configuration of the electrodes in the reactor 10 is not limited to the configurations shown in FIGS. 1 to 3, and various changes can be made. For example, as shown in FIG. 4, in the reactor 10, a rod-shaped electrode 121A extending in the axial direction of the outer shell 20 having a substantially cylindrical shape, and a cylindrical shape arranged so as to surround the electrode 121A. It is also possible to have a configuration in which the electrode 121B of No. 1 is provided and the catalyst layer 122 is arranged between the electrodes 121A and 121B.

再び図1を参照すると、電極21A、21Bの一方は、直流電圧を印加する電圧印加装置30に接続され、その他方はアースに接続される。これにより、反応器10では、脱水素反応中に触媒層22に所定の電場を印加することが可能である。脱水素反応を適切に実施するためには、電極21A、21B間の電位勾配は、例えば0.1〜1000V/mmの範囲で設定するとよい。   Referring again to FIG. 1, one of the electrodes 21A and 21B is connected to the voltage applying device 30 that applies a DC voltage, and the other is connected to the ground. Accordingly, in the reactor 10, it is possible to apply a predetermined electric field to the catalyst layer 22 during the dehydrogenation reaction. In order to properly carry out the dehydrogenation reaction, the potential gradient between the electrodes 21A and 21B may be set in the range of 0.1 to 1000 V / mm, for example.

反応器10で生成された反応生成物(水素、トルエン、及び副生成物)は、生成物輸送ラインL4を介して気液分離器31に送られる。気液分離器31に供給される反応生成物は、図示しない冷却器によって所定の温度(例えば、約−5℃)に冷却される。   The reaction products (hydrogen, toluene, and by-products) produced in the reactor 10 are sent to the gas-liquid separator 31 via the product transport line L4. The reaction product supplied to the gas-liquid separator 31 is cooled to a predetermined temperature (for example, about −5 ° C.) by a cooler (not shown).

気液分離器31では、反応器10からの反応生成物が、主として水素を含むガス及び主としてトルエンを含む液体に分離される。そこで分離されたガスは、水素輸送ラインL5を介して外部(例えば、貯留タンク)に送られる。また、分離された液体は、液排出ラインL6を介して外部(例えば、貯留タンク)に排出される。液排出ラインL6から排出された液体の一部は、例えば、水素炎イオン化型検出器を用いたガスクロマトグラフによって分析され、MCHやトルエン等の濃度が測定される。   In the gas-liquid separator 31, the reaction product from the reactor 10 is separated into a gas containing mainly hydrogen and a liquid containing mainly toluene. The separated gas is sent to the outside (for example, a storage tank) via the hydrogen transportation line L5. In addition, the separated liquid is discharged to the outside (for example, a storage tank) via the liquid discharge line L6. A part of the liquid discharged from the liquid discharge line L6 is analyzed by, for example, a gas chromatograph using a hydrogen flame ionization type detector, and the concentrations of MCH, toluene and the like are measured.

水素輸送ラインL5には、気液分離器31で分離されたガスの流量を測定する流量計(ここでは、体積流量計)32が設けられている。また、水素輸送ラインL5における流量計32の上流側には、流れるガスの一部をサンプリングするサンプリングラインL7が接続されている。サンプリングラインL7からサンプリングされたガスは、例えば、水素炎イオン化型検出器または熱伝導度型検出器を用いたガスクロマトグラフによって分析され、水素や炭化水素等の濃度が測定される。   A flow meter (here, a volume flow meter) 32 that measures the flow rate of the gas separated by the gas-liquid separator 31 is provided in the hydrogen transportation line L5. A sampling line L7 for sampling a part of the flowing gas is connected to the hydrogen transport line L5 upstream of the flow meter 32. The gas sampled from the sampling line L7 is analyzed by, for example, a gas chromatograph using a hydrogen flame ionization type detector or a thermal conductivity type detector, and the concentrations of hydrogen and hydrocarbons are measured.

なお、脱水素反応装置1に用いられる有機ハイドライドとしては、MCHに限らず、シクロヘキサン等の単環式水素化芳香族化合物や、テトラリン、デカリン、メチルデカリン等の2環式水素化芳香族化合物や、テトラデカヒドロアントラセン等の3環式水素化芳香族化合物等を単独、或いは2種以上の混合物として用いることができる。   The organic hydride used in the dehydrogenation reactor 1 is not limited to MCH, but may be a monocyclic hydrogenated aromatic compound such as cyclohexane or a bicyclic hydrogenated aromatic compound such as tetralin, decalin or methyldecalin. , A tricyclic hydrogenated aromatic compound such as tetradecahydroanthracene, or the like can be used alone or as a mixture of two or more kinds.

また、触媒層22を構成する脱水素触媒としては、例えば、酸化セリウム、酸化セリウムと酸化ジルコニウムの固溶体、酸化チタン、及び多孔質酸化チタンなどから選ばれた坦体に、白金(Pt)、ニッケル(Ni)、及びパラジウム(Pd)のような第10族元素や、ロジウム(Rh)、イリジウム(Ir)、及びルテニウム(Ru)などから選ばれた少なくとも1種の活性金属を担持されたものであるが、これに限らず、有機ハイドライドの脱水素反応に用いられる公知の触媒を用いることができる。   Examples of the dehydrogenation catalyst constituting the catalyst layer 22 include platinum (Pt) and nickel on a carrier selected from cerium oxide, a solid solution of cerium oxide and zirconium oxide, titanium oxide, and porous titanium oxide. (Ni) and a Group 10 element such as palladium (Pd) and at least one active metal selected from rhodium (Rh), iridium (Ir), ruthenium (Ru), etc. However, the present invention is not limited to this, and a known catalyst used for the dehydrogenation reaction of organic hydride can be used.

また、電極21A、21Bの材料としては、ここでは、ステンレス材料が用いられるが、これに限らず、他の公知の材料を用いてもよい。   Further, as the material of the electrodes 21A and 21B, a stainless material is used here, but the material is not limited to this, and other known materials may be used.

図5は、図1に示した脱水素反応装置1の変形例を示す図である。図5では、上述の図1に示した構成要素と同様の構成要素については同一の符号を付してある。   FIG. 5: is a figure which shows the modification of the dehydrogenation reaction apparatus 1 shown in FIG. In FIG. 5, the same components as those shown in FIG. 1 described above are designated by the same reference numerals.

この変形例では、図1に示したArガス用のガス供給ラインL1が省略され、原料容器2内のMCH(液体)は、原料供給ラインL2に設けられた原料ポンプ41によって輸送されることにより気化器42に供給される。MCHは、気化器42において気化された後、反応器10に供給される。原料ポンプ41によりMCHの流量を調整するこのような
構成により、変形例では、100%のMCHを原料ガスとして用いることができる。
In this modification, the gas supply line L1 for Ar gas shown in FIG. 1 is omitted, and the MCH (liquid) in the raw material container 2 is transported by the raw material pump 41 provided in the raw material supply line L2. It is supplied to the vaporizer 42. The MCH is supplied to the reactor 10 after being vaporized in the vaporizer 42. With such a configuration in which the flow rate of MCH is adjusted by the raw material pump 41, 100% of MCH can be used as the raw material gas in the modified example.

以下では、上述の脱水素反応装置1による脱水素反応の実施例について説明する。ただし、本発明に係る脱水素反応装置1またはその脱水素反応方法は、それらの実施例で示される具体的な条件(例えば、脱水素反応装置1を構成する各構成要素のサイズや動作、触媒の種類や構成、原料ガスや反応生成物等の組成、流量、及び圧力など)に限定されるものではなく、当業者であれば本発明の範囲内において種々の変更が可能である。   Below, the Example of the dehydrogenation reaction by the above-mentioned dehydrogenation reaction apparatus 1 is described. However, the dehydrogenation reaction apparatus 1 or the dehydrogenation reaction method thereof according to the present invention can be performed under the specific conditions (for example, the size and operation of each component constituting the dehydrogenation reaction apparatus 1 and the catalyst). And the composition, the composition of raw material gas and reaction product, the flow rate, the pressure, etc.), and those skilled in the art can make various modifications within the scope of the present invention.

(実施例1)
触媒層22を構成する脱水素触媒として3wt%Pt/CeO(Ce含有酸化物上に3wt%の白金を担持させたもの:日本参照触媒JRC−CEO−1)を使用した。担持されるPtの前駆体はPt(NH(NOである。反応器10の内径を6mmとし、触媒層22高さを4.5mmとした。反応器10の内径は、その外殻20をなす石英製ガラス管の内径であり、略円柱状をなす触媒層22の外径に相当する。触媒層22を構成する脱水素触媒の粒径は約355〜500μmの範囲とし、触媒層22の重量は200mgとした。焼成された脱水素触媒の還元処理を行わず(すなわち、水素供給ラインL3から反応器10に水素を供給せず)に使用した。
(Example 1)
As a dehydrogenation catalyst constituting the catalyst layer 22, 3 wt% Pt / CeO 2 (3 wt% platinum supported on Ce-containing oxide: Japan reference catalyst JRC-CEO-1) was used. The carried precursor of Pt is Pt (NH 3 ) 4 (NO 3 ) 2 . The inner diameter of the reactor 10 was 6 mm, and the height of the catalyst layer 22 was 4.5 mm. The inner diameter of the reactor 10 is the inner diameter of the quartz glass tube forming the outer shell 20, and corresponds to the outer diameter of the catalyst layer 22 having a substantially columnar shape. The particle size of the dehydrogenation catalyst constituting the catalyst layer 22 was in the range of about 355 to 500 μm, and the weight of the catalyst layer 22 was 200 mg. It was used without reducing the calcined dehydrogenation catalyst (that is, without supplying hydrogen to the reactor 10 from the hydrogen supply line L3).

原料ガスは、MCH及びArの混合ガス(MCH:6.4ml/min、Arガス:30ml/min)として供給した。このとき、LHSV(Liquid Hourly Space Velocity)は15.8h−1であった。 The raw material gas was supplied as a mixed gas of MCH and Ar (MCH: 6.4 ml / min, Ar gas: 30 ml / min). At this time, LHSV (Liquid Hourly Space Velocity) was 15.8 h −1 .

反応器10の反応温度を150℃〜500℃の間で変化させ、電極21A、21Bに219Vの直流電圧(3mA定電流)を印加した状態でMCHの脱水素反応を行った。このとき、電極21A、21B間の電位勾配は、約50V/mmである。   The reaction temperature of the reactor 10 was changed between 150 ° C. and 500 ° C., and a dehydrogenation reaction of MCH was performed in a state where a DC voltage of 219 V (3 mA constant current) was applied to the electrodes 21A and 21B. At this time, the potential gradient between the electrodes 21A and 21B is about 50 V / mm.

(比較例1)
電極21A、21Bに電圧を印加しないことを除き、上述の実施例1と同様の構成及び条件において従来のMCHの脱水素反応を行った。
(Comparative Example 1)
A conventional dehydrogenation reaction of MCH was performed under the same configuration and conditions as in Example 1 except that no voltage was applied to the electrodes 21A and 21B.

図6は、上記実施例1及び比較例1に関し、電場印加が水素収率に及ぼす影響を示す説明図であり、図7は、上記実施例1に関し、MCHの転化率に及ぼす影響を示す説明図である。また、表1は、脱水素反応の反応生成物における副生メタン濃度を示す。   FIG. 6 is an explanatory view showing the influence of the electric field application on the hydrogen yield in the above Example 1 and Comparative Example 1, and FIG. 7 is an explanation showing the influence of the above in Example 1 on the conversion rate of MCH. It is a figure. Table 1 shows the concentration of by-product methane in the reaction product of the dehydrogenation reaction.

<電場印加が水素収率に及ぼす影響の評価>
図6に示すように、上記実施例1及び比較例1に関し、触媒温度(反応温度)の上昇にともない脱水素反応における水素収率(mol%)は増大する傾向にある。また、実施例1では、比較例1と同様の水素収率がより低い触媒温度において達成される。例えば、実施例1では触媒温度が約300℃の場合に水素収率が90%となるのに対し、比較例1では、触媒温度が約400℃の場合に同様の水素収率が達成される(図6中の破線参照)。つまり、MCHの脱水素反応に電場触媒反応を適用することにより、より低い温度で従来(電場印加なし)と同様の水素収率が実現される。
<Evaluation of influence of electric field application on hydrogen yield>
As shown in FIG. 6, regarding Example 1 and Comparative Example 1 described above, the hydrogen yield (mol%) in the dehydrogenation reaction tends to increase as the catalyst temperature (reaction temperature) rises. Also, in Example 1, the same hydrogen yield as in Comparative Example 1 is achieved at a lower catalyst temperature. For example, in Example 1, the hydrogen yield is 90% when the catalyst temperature is about 300 ° C., whereas in Comparative Example 1, the similar hydrogen yield is achieved when the catalyst temperature is about 400 ° C. (Refer to the broken line in FIG. 6). That is, by applying the electric field catalytic reaction to the dehydrogenation reaction of MCH, the hydrogen yield similar to the conventional one (without applying the electric field) is realized at a lower temperature.

<電場印加が副生メタンの生成に及ぼす影響の評価>
また、表1に示すように、実施例1では、比較例1に比べて副生メタンの生成が抑制される。例えば、水素収率を90%とする場合には、比較例1では2852ppm(触媒温度400℃)の副生メタンが生成されるのに対し、実施例1では202ppm(触媒温度300℃)の副生メタンが生成される。つまり、同じ水素収率を実現する場合には、MCHの脱水素反応に電場触媒反応を適用することにより、電場を印加しない従来の反応と比べて副生メタンの生成が効果的に抑制される。
<Evaluation of the effect of electric field application on the production of by-product methane>
Further, as shown in Table 1, in Example 1, the production of by-product methane is suppressed as compared with Comparative Example 1. For example, when the hydrogen yield is set to 90%, 2852 ppm (catalyst temperature of 400 ° C.) by-product methane is produced in Comparative Example 1, whereas 202 ppm (catalyst temperature of 300 ° C.) of by-product is produced in Example 1. Raw methane is produced. That is, in order to achieve the same hydrogen yield, by applying the electrocatalytic reaction to the dehydrogenation reaction of MCH, the production of by-product methane is effectively suppressed as compared with the conventional reaction in which no electric field is applied. ..

Figure 2020070485
Figure 2020070485

<電場印加がMCHの転化率に及ぼす影響の評価>
また、図7に示すように、上記実施例1では、反応温度が200℃以下の場合に、平衡転化率を超えるMCHの転化率が実現される。この電場触媒反応では、従来とは異なる反応メカニズムが生じていると考えられ、反応温度が従来の脱水素反応温度(例えば、300〜400℃)よりも低い300℃以下となる領域において(より好ましくは、反応温度が約200℃において)、MCHの転化率に関してより有利となる。
<Evaluation of influence of electric field application on conversion rate of MCH>
Further, as shown in FIG. 7, in Example 1 above, when the reaction temperature is 200 ° C. or lower, the conversion rate of MCH exceeding the equilibrium conversion rate is realized. In this electric field catalytic reaction, it is considered that a reaction mechanism different from the conventional one occurs, and the reaction temperature is lower than the conventional dehydrogenation reaction temperature (for example, 300 to 400 ° C.) in a range of 300 ° C. or lower (more preferably At a reaction temperature of about 200 ° C.) is more advantageous with respect to the conversion of MCH.

なお、図7では実施例1に関する150℃未満のデータが省略されているが、上記実施例1では、反応温度が常温(25℃)以上において、平衡転化率を超えるMCHの転化率が実現される。したがって、反応温度を常温から300℃までの範囲内とするように、反応器10に対する加熱(熱の供給)を制御するとよい。   Although the data of less than 150 ° C. for Example 1 is omitted in FIG. 7, in Example 1 above, the conversion rate of MCH exceeding the equilibrium conversion rate was realized at the reaction temperature of room temperature (25 ° C.) or higher. It Therefore, it is advisable to control the heating (supply of heat) to the reactor 10 so that the reaction temperature falls within the range of room temperature to 300 ° C.

(実施例2)
触媒層22を構成する脱水素触媒として3wt%Pt/TiO(Ti含有酸化物上に3wt%の白金を担持させたもの)を使用した。反応器10の内径を6mmとし、触媒層22高さを7mmとした。脱水素触媒の粒径は約355〜500μmの範囲とし、触媒層22の重量は200mgとした。焼成された脱水素触媒の還元処理を行わずに使用した。
(Example 2)
As the dehydrogenation catalyst constituting the catalyst layer 22, 3 wt% Pt / TiO 2 (a Ti-containing oxide on which 3 wt% platinum was supported) was used. The inner diameter of the reactor 10 was 6 mm, and the height of the catalyst layer 22 was 7 mm. The particle size of the dehydrogenation catalyst was in the range of about 355 to 500 μm, and the weight of the catalyst layer 22 was 200 mg. The calcined dehydrogenation catalyst was used without reduction treatment.

原料ガスは、MCH及びArの混合ガス(MCH:6.4ml/min、Arガス:30ml/min)として供給した。このとき、LHSVは10.2h−1であった。 The raw material gas was supplied as a mixed gas of MCH and Ar (MCH: 6.4 ml / min, Ar gas: 30 ml / min). At this time, LHSV was 10.2 h -1 .

反応器10の反応温度を約150℃とし、電極21A、21Bに178Vの直流電圧(3mA定電流)を印加した状態で120分間のMCHの脱水素反応を行った。このとき、電極21A、21B間の電位勾配は、約25V/mmである。   The reaction temperature of the reactor 10 was set to about 150 ° C., and a dehydrogenation reaction of MCH was carried out for 120 minutes while applying a DC voltage of 178 V (constant current of 3 mA) to the electrodes 21A and 21B. At this time, the potential gradient between the electrodes 21A and 21B is about 25 V / mm.

(比較例2)
上述の実施例1と同様の条件で120分間のMCHの脱水素反応を行った。
(Comparative example 2)
The dehydrogenation reaction of MCH was carried out for 120 minutes under the same conditions as in Example 1 above.

図8は、上記実施例2及び比較例2に関し、触媒の種別が水素収率に及ぼす影響を示す説明図であり、表2は、それらの脱水素反応の反応生成物における副生メタン濃度を示す。   FIG. 8 is an explanatory diagram showing the influence of the type of catalyst on the hydrogen yield regarding Example 2 and Comparative Example 2 described above, and Table 2 shows the concentration of by-product methane in the reaction product of the dehydrogenation reaction. Show.

<触媒の種別が水素収率に及ぼす影響を示す説明図の評価(1)>
図8に示すように、実施例2では比較例2よりも水素収率(mol%)は僅かに低下することを確認した。
<Evaluation of explanatory diagram showing influence of catalyst type on hydrogen yield (1)>
As shown in FIG. 8, it was confirmed that the hydrogen yield (mol%) of Example 2 was slightly lower than that of Comparative Example 2.

<触媒の種別が副生メタンの生成に及ぼす影響の評価(1)>
一方、表2に示すように、実施例2では、脱水素反応が安定した後(25分経過後)においては、副生メタン濃度がゼロとなり、比較例2(実施例1に相当)に比べて副生メタンの生成がより効果的に抑制される。つまり、触媒層22を構成する脱水素触媒として3wt%Pt/TiO(すなわち、酸化チタンを含む担持体)を用いることは副生メタンの生成量の低減に有効である。
<Evaluation of the effect of catalyst type on the production of by-product methane (1)>
On the other hand, as shown in Table 2, in Example 2, after the dehydrogenation reaction became stable (after 25 minutes had elapsed), the concentration of by-product methane became zero, which was higher than that in Comparative Example 2 (corresponding to Example 1). As a result, the production of by-product methane is suppressed more effectively. That is, using 3 wt% Pt / TiO 2 (that is, a carrier containing titanium oxide) as the dehydrogenation catalyst forming the catalyst layer 22 is effective in reducing the amount of by-produced methane.

Figure 2020070485
Figure 2020070485

(実施例3)
触媒層22を構成する脱水素触媒として3wt%Pt/HBT(HBT含有酸化物上に3wt%の白金を担持させたもの)を使用した。なお、HBTは、無機酸化物を核とし、その表面に酸化チタンが担持されてなる多孔質酸化チタン担持体である。より詳細には、HBTは、酸化チタンが、13質量%以上含有され、無機酸化物の表面に担持されてなり、無機酸化物の表面における酸化チタンの結晶格子面の繰り返し長さが、50Å以下である多孔質酸化チタン担持体である。反応器10の内径を6mmとし、触媒層22高さを5.3mmとした。脱水素触媒の重量は70mgとした。なお、HBTの詳細については、本願の出願人の特許第3781417号を参照されたい。また、HBTは、ハイブリッドチタニア触媒(CT−HBT(登録商標))としても知られている。
(Example 3)
As the dehydrogenation catalyst constituting the catalyst layer 22, 3 wt% Pt / HBT (HBT-containing oxide on which 3 wt% of platinum was supported) was used. HBT is a porous titanium oxide carrier having an inorganic oxide as a nucleus and titanium oxide supported on the surface thereof. More specifically, HBT contains 13 mass% or more of titanium oxide and is supported on the surface of an inorganic oxide, and the repeating length of the crystal lattice plane of titanium oxide on the surface of the inorganic oxide is 50 Å or less. Which is a porous titanium oxide carrier. The inner diameter of the reactor 10 was 6 mm, and the height of the catalyst layer 22 was 5.3 mm. The weight of the dehydrogenation catalyst was 70 mg. For details of the HBT, refer to Japanese Patent No. 3781417 of the applicant of the present application. HBT is also known as a hybrid titania catalyst (CT-HBT (registered trademark)).

原料ガスは、MCH及びArの混合ガス(MCH:6.4ml/min、Arガス:30ml/min)として供給した。このとき、LHSVは13.4h−1であった。 The raw material gas was supplied as a mixed gas of MCH and Ar (MCH: 6.4 ml / min, Ar gas: 30 ml / min). At this time, LHSV was 13.4 h -1 .

反応器10の反応温度を約150℃とし、電極21A、21Bに160Vの直流電圧(3mA定電流)を印加した状態で120分間のMCHの脱水素反応を行った。このとき、電極21A、21B間の電位勾配は、30V/mmである。   The reaction temperature of the reactor 10 was set to about 150 ° C., and a DC voltage of 160 V (3 mA constant current) was applied to the electrodes 21A and 21B to carry out a dehydrogenation reaction of MCH for 120 minutes. At this time, the potential gradient between the electrodes 21A and 21B is 30 V / mm.

(比較例3)
上述の実施例1と同様の条件で120分間のMCHの脱水素反応を行った。
(Comparative example 3)
The dehydrogenation reaction of MCH was carried out for 120 minutes under the same conditions as in Example 1 above.

図9は、上記実施例3及び比較例3に関し、触媒の種別が水素収率に及ぼす影響を示す説明図であり、表3は、それらの脱水素反応の反応生成物における副生メタン濃度を示す。   FIG. 9 is an explanatory diagram showing the influence of the type of catalyst on the hydrogen yield regarding Example 3 and Comparative Example 3 above, and Table 3 shows the concentration of by-product methane in the reaction product of the dehydrogenation reaction. Show.

<触媒の種別が水素収率に及ぼす影響を示す説明図の評価(2)>
図9に示すように、実施例3では比較例3よりも水素収率(mol%)は僅かに低下することを確認した。
<Evaluation of explanatory diagram showing influence of catalyst type on hydrogen yield (2)>
As shown in FIG. 9, it was confirmed that the hydrogen yield (mol%) of Example 3 was slightly lower than that of Comparative Example 3.

<触媒の種別が副生メタンの生成に及ぼす影響の評価(2)>
一方、表3に示すように、実施例3では、脱水素反応が安定した後(25分経過後)においては、副生メタン濃度がゼロとなり、比較例3(実施例1に相当)に比べて副生メタンの生成が効果的に抑制される。つまり、触媒層22を構成する脱水素触媒として3wt%Pt/HBTを用いることは副生メタンの生成量の低減に有効である。
<Evaluation of the effect of catalyst type on the production of by-product methane (2)>
On the other hand, as shown in Table 3, in Example 3, after the dehydrogenation reaction became stable (after 25 minutes had elapsed), the concentration of by-product methane became zero, which was higher than that in Comparative Example 3 (corresponding to Example 1). As a result, the production of by-product methane is effectively suppressed. That is, using 3 wt% Pt / HBT as the dehydrogenation catalyst forming the catalyst layer 22 is effective in reducing the amount of by-produced methane.

Figure 2020070485
Figure 2020070485

(実施例4)
触媒層22を構成する脱水素触媒として3wt%Pt/CeOを使用した。反応器10の内径を10mmし、電極21A、21Bの距離(すなわち、触媒層22高さ)を9mm(または18mm)とした。脱水素触媒の粒径は約0.85〜1.18mmの範囲とした。
(Example 4)
As the dehydrogenation catalyst forming the catalyst layer 22, 3 wt% Pt / CeO 2 was used. The inner diameter of the reactor 10 was 10 mm, and the distance between the electrodes 21A and 21B (that is, the height of the catalyst layer 22) was 9 mm (or 18 mm). The particle size of the dehydrogenation catalyst was in the range of about 0.85 to 1.18 mm.

原料ガスは、MCH及びArの混合ガスとし、電極21A、21Bの距離が9mmの場合、LHSVは、4h−1(MCH:8.1Ncm/min、Arガス:25Ncm/min)、8h−1(MCH:16.9Ncm/min、Arガス:60Ncm/min)、または12h−1(MCH:25.2Ncm/min、Arガス:94Ncm/min)とした。 The raw material gas was a mixed gas of MCH and Ar, and when the distance between the electrodes 21A and 21B was 9 mm, the LHSV was 4 h −1 (MCH: 8.1 Ncm 3 / min, Ar gas: 25 Ncm 3 / min), 8 h −. 1 (MCH: 16.9 Ncm 3 / min, Ar gas: 60 Ncm 3 / min) or 12 h -1 (MCH: 25.2 Ncm 3 / min, Ar gas: 94 Ncm 3 / min).

反応器10の反応温度を約150℃とし、電極21A、21Bへの投入電力を変化させながらMCHの脱水素反応を行った。   The reaction temperature of the reactor 10 was set to about 150 ° C., and the dehydrogenation reaction of MCH was performed while changing the input power to the electrodes 21A and 21B.

<LHSVがMCH転化率に及ぼす影響の評価>
図10は、上記実施例4に関し、LHSVがMCH転化率に及ぼす影響を示す説明図である。ここでは、電極21A、21Bの距離は9mmである。図に示すように、投入電力の増大にともないMCH転化率は増大する。また、LHSVの増大にともないMCH転化率は低下する。
<Evaluation of influence of LHSV on MCH conversion>
FIG. 10 is an explanatory diagram showing the effect of LHSV on the MCH conversion rate with respect to Example 4 above. Here, the distance between the electrodes 21A and 21B is 9 mm. As shown in the figure, the MCH conversion rate increases as the input power increases. Further, the MCH conversion rate decreases as the LHSV increases.

<電極間距離がMCH転化率に及ぼす影響の評価>
図11は、上記実施例4に関し、電極間距離がMCH転化率に及ぼす影響を示す説明図である。LHSVは12h−1とし、電極21A、21Bの距離が18mmの場合、原料ガスはMCH:50.4Ncm/min、Arガス:198Ncm/minとした。図に示すように、電極間距離の増大にともないMCH転化率は減少する。なお、このような電極間距離のMCH転化率への影響は、反応器10の内径を22mmとした場合にも同様であった。
<Evaluation of influence of distance between electrodes on MCH conversion rate>
FIG. 11 is an explanatory diagram showing the influence of the inter-electrode distance on the MCH conversion rate in Example 4 described above. LHSV was 12 h −1, and when the distance between the electrodes 21A and 21B was 18 mm, the source gas was MCH: 50.4 Ncm 3 / min and Ar gas: 198 Ncm 3 / min. As shown in the figure, the MCH conversion rate decreases as the distance between the electrodes increases. The influence of the distance between the electrodes on the MCH conversion rate was the same when the inner diameter of the reactor 10 was 22 mm.

(実施例5)
触媒層22を構成する脱水素触媒として3wt%Pt/CeOを使用した。反応器10の内径を22mmとし、電極21A、21Bの距離を18mmとした。脱水素触媒の粒径は約0.85〜1.18mmの範囲とした。
(Example 5)
As the dehydrogenation catalyst forming the catalyst layer 22, 3 wt% Pt / CeO 2 was used. The inner diameter of the reactor 10 was 22 mm, and the distance between the electrodes 21A and 21B was 18 mm. The particle size of the dehydrogenation catalyst was in the range of about 0.85 to 1.18 mm.

原料ガスは、MCH及びArの混合ガス(MCH:20%、Arガス:80%)またはMCH100%とした。MCH及びArの混合ガスでは、LHSVを6h−1とし、MCH100%では、LHSVを8h−1とした。 The raw material gas was a mixed gas of MCH and Ar (MCH: 20%, Ar gas: 80%) or MCH 100%. For mixed gas of MCH and Ar, LHSV was set to 6 h −1, and for MCH 100%, LHSV was set to 8 h −1 .

反応器10の反応温度を約150℃とし、電極21A、21Bへの投入電力を変化させながらMCHの脱水素反応を行った。   The reaction temperature of the reactor 10 was set to about 150 ° C., and the dehydrogenation reaction of MCH was performed while changing the input power to the electrodes 21A and 21B.

<原料ガス中のMCH濃度がMCH転化率に及ぼす影響の評価>
図12は、上記実施例5に関し、原料ガス中のMCH割合がMCH転化率に及ぼす影響を示す説明図である。図に示すように、原料ガス中のMCH濃度が高い(ここでは、100%)場合には、MCH濃度が低い(ここでは、20%)場合と比べてMCH転化率は多少低下するが、脱水素反応は問題なく進行する。
<Evaluation of influence of MCH concentration in raw material gas on MCH conversion rate>
FIG. 12 is an explanatory diagram showing the influence of the MCH ratio in the raw material gas on the MCH conversion rate in Example 5 described above. As shown in the figure, when the MCH concentration in the source gas is high (here, 100%), the MCH conversion rate is slightly lower than when the MCH concentration is low (here, 20%), but dehydration The elementary reaction proceeds without problems.

(実施例6)
触媒のBET比表面積の変更を除き、上述の実施例1と同様の構成及び条件において従来のMCHの脱水素反応を行った。触媒のBET比表面積は、141.1m/g、85.7m/g、29.9m/g、3.1m/g、または1.7m/gとした。それらのBET比表面積は、触媒の焼成温度を、焼成なし、600℃、700℃、900℃、または1100℃にそれぞれ設定することにより実現される。
(Example 6)
A conventional dehydrogenation reaction of MCH was carried out under the same structure and conditions as in Example 1 except that the BET specific surface area of the catalyst was changed. BET specific surface area of the catalyst was 141.1m 2 /g,85.7m 2 /g,29.9m 2 /g,3.1m 2 / g or 1.7 m 2 / g,. These BET specific surface areas are realized by setting the calcination temperature of the catalyst to 600 ° C., 700 ° C., 900 ° C., or 1100 ° C. without calcination, respectively.

<触媒の表面積が水素収率に及ぼす影響の評価>
図13は、上記実施例6に関し、触媒の表面積が水素収率に及ぼす影響を示す説明図である。図に示すように、触媒のBET比表面積が小さくなると、触媒活性が低下する。触媒のBET比表面積が1.7m/g(触媒の焼成温度が1100℃)の場合には、水素収率は略ゼロとなる。したがって、触媒の比表面積は3.1m/g以上であることが好ましい。
(実施例7)
Pt担持量の変更を除き、上述の実施例1と同様の構成及び条件において従来のMCHの脱水素反応を行った。触媒におけるPt担持量は、1wt%、3wt%、または5wt%とした。
<Evaluation of Effect of Surface Area of Catalyst on Hydrogen Yield>
FIG. 13 is an explanatory diagram showing the influence of the surface area of the catalyst on the hydrogen yield in Example 6 described above. As shown in the figure, as the BET specific surface area of the catalyst decreases, the catalyst activity decreases. When the BET specific surface area of the catalyst is 1.7 m 2 / g (the calcination temperature of the catalyst is 1100 ° C.), the hydrogen yield becomes substantially zero. Therefore, the specific surface area of the catalyst is preferably 3.1 m 2 / g or more.
(Example 7)
A conventional dehydrogenation reaction of MCH was performed under the same configuration and conditions as in Example 1 except for the change in the amount of Pt supported. The amount of Pt supported on the catalyst was set to 1 wt%, 3 wt%, or 5 wt%.

<触媒担持量が水素収率に及ぼす影響の評価>
図14は、上記実施例6に関し、触媒担持量が水素収率に及ぼす影響を示す説明図である。図に示すように、Pt担持量が1wt%の場合には、Pt担持量が3wt%または5wt%の場合と比べて水素収率は低下するものの、電場脱水素反応は進行する。したがって、Ptの担持量は、少なくとも1wt%以上とするとよい。
<Evaluation of influence of catalyst loading amount on hydrogen yield>
FIG. 14 is an explanatory diagram showing the effect of the amount of catalyst carried on the hydrogen yield in Example 6 above. As shown in the figure, when the Pt supported amount is 1 wt%, the hydrogen yield is lower than when the Pt supported amount is 3 wt% or 5 wt%, but the electric field dehydrogenation reaction proceeds. Therefore, the supported amount of Pt is preferably at least 1 wt% or more.

次に、電極21A、21B間における放電の発生に影響を及ぼす脱水素触媒の還元状態について説明する。   Next, the reduction state of the dehydrogenation catalyst that affects the occurrence of discharge between the electrodes 21A and 21B will be described.

図1または図5に示した反応器10において脱水素反応を行う場合に、触媒層22の絶縁性が比較的高い状態にあると、電極21A、21Bの間に所定の電圧を印加した際に、電極21A、21B間に放電が生じ、脱水素反応(すなわち、触媒に対する適切な電場の印加)が阻害されることがある。そこで、以下に示すように、上述の実施例1の構成を一部変更して、電極21A、21B間における放電の発生を確認するための試験を実施した。   When performing the dehydrogenation reaction in the reactor 10 shown in FIG. 1 or FIG. 5, if the insulating property of the catalyst layer 22 is relatively high, when a predetermined voltage is applied between the electrodes 21A and 21B. The discharge may occur between the electrodes 21A and 21B, and the dehydrogenation reaction (that is, application of an appropriate electric field to the catalyst) may be hindered. Therefore, as shown below, a part of the configuration of the above-described Example 1 was changed to perform a test for confirming the occurrence of discharge between the electrodes 21A and 21B.

触媒層22を構成する脱水素触媒として3wt%Pt/CeO(Ce含有酸化物上に3wt%の白金を担持させたもの)を使用した。担持されるPtの前駆体はPt(NH(NOである。Pt担持後、空気中で500℃、2時間焼成した。反応器10の内径を10mmとし、触媒層22高さを18mmとした。反応器10の内径は、その外殻20をなす石英製ガラス管の内径であり、略円柱状をなす触媒層22の外径に相当する。触媒層22を構成する脱水素触媒の粒径は約0.85〜1.18mmの範囲とし、触媒層22の重量は3.3gとした。 3 wt% Pt / CeO 2 (3 wt% platinum supported on Ce-containing oxide) was used as a dehydrogenation catalyst constituting the catalyst layer 22. The carried precursor of Pt is Pt (NH 3 ) 4 (NO 3 ) 2 . After supporting Pt, it was baked in air at 500 ° C. for 2 hours. The inner diameter of the reactor 10 was 10 mm, and the height of the catalyst layer 22 was 18 mm. The inner diameter of the reactor 10 is the inner diameter of the quartz glass tube forming the outer shell 20, and corresponds to the outer diameter of the catalyst layer 22 having a substantially columnar shape. The particle size of the dehydrogenation catalyst constituting the catalyst layer 22 was in the range of about 0.85 to 1.18 mm, and the weight of the catalyst layer 22 was 3.3 g.

反応器10には、Arガス25Ncm/minおよびHガス2.5Ncm/minを供給し、反応器10の触媒温度を約25℃とし、電極21A、21Bに絶縁破壊電圧以上の直流電圧を印加した。 Ar gas of 25 Ncm 3 / min and H 2 gas of 2.5 Ncm 3 / min were supplied to the reactor 10, the catalyst temperature of the reactor 10 was set to about 25 ° C., and a DC voltage higher than the breakdown voltage was applied to the electrodes 21A and 21B. Was applied.

また、触媒層22を構成する触媒として、還元状態の異なる複数の触媒をそれぞれ用いた。触媒の還元状態(ここでは、Ptの還元状態)については、(A)25℃還元(前段落で言及したArガスおよびHガスを供給し、25℃で30分水素還元したもの)、(B)150℃還元(前段落で言及したArガスおよびHガスを供給し、150℃で30分水素還元した後、25℃に戻したもの)、(C)500℃還元(前段落で言及したArガスおよびHガスを供給し、500℃で30分水素還元した後、25℃に戻したもの)、及び(D)反応後(反応器10における約150℃での脱水素反応によって2時間水素還元されたもの)とした。 In addition, a plurality of catalysts having different reduction states were used as the catalysts forming the catalyst layer 22. Regarding the reduction state of the catalyst (here, the reduction state of Pt), (A) 25 ° C. reduction (Ar gas and H 2 gas mentioned in the preceding paragraph were supplied and hydrogen reduction was performed at 25 ° C. for 30 minutes), ( B) 150 ° C. reduction (Ar gas and H 2 gas mentioned in the preceding paragraph were supplied, hydrogen reduction was carried out at 150 ° C. for 30 minutes and then returned to 25 ° C.), (C) 500 ° C. reduction (referred to in the previous paragraph) The Ar gas and the H 2 gas are supplied, hydrogen reduction is performed at 500 ° C. for 30 minutes and then returned to 25 ° C., and (D) reaction is performed (2 by the dehydrogenation reaction at about 150 ° C. in the reactor 10). (Reduced with hydrogen for an hour).

<触媒の還元状態が電極間の放電発生に及ぼす影響の評価>
反応器10の内を目視観察した結果、還元状態(A)の触媒を用いた場合には、電場の印加時に電極21A、21B間で放電が発生した。つまり、25℃での還元状態(A)では、触媒層22の絶縁性が比較的高い状態にあり、これにより、電極21A、21B間に放電が生じたと考えられる。
<Evaluation of influence of reduction state of catalyst on discharge generation between electrodes>
As a result of visual observation inside the reactor 10, when the catalyst in the reduced state (A) was used, discharge was generated between the electrodes 21A and 21B when the electric field was applied. That is, in the reduced state (A) at 25 ° C., the insulating property of the catalyst layer 22 is relatively high, which is considered to cause the discharge between the electrodes 21A and 21B.

その他の還元状態(B)及び(C)の触媒を用いた場合には、電場の印加時に電極21A、21B間での放電は発生しなかった。これにより、ある程度還元された触媒を用いることにより、電極21A、21B間での放電を抑制できることが確認された。   When the catalysts in the other reduced states (B) and (C) were used, no discharge was generated between the electrodes 21A and 21B when the electric field was applied. From this, it was confirmed that the discharge between the electrodes 21A and 21B can be suppressed by using the catalyst that has been reduced to some extent.

しかしながら、上述の還元状態(A)〜(D)のように、触媒の還元状態を還元処理の違いによって特定する方法では、放電の抑制に必要な触媒の還元の度合いを定量的に評価することは難しい。そこで、脱水素触媒の還元状態を定量的に評価するために、XPS (X線光電子分光法)による測定の結果に基づく指標(以下、還元度という。)を導入した。   However, as in the above-mentioned reduction states (A) to (D), in the method of identifying the reduction state of the catalyst by the difference in the reduction treatment, the degree of reduction of the catalyst necessary for suppressing discharge should be quantitatively evaluated. Is difficult Therefore, in order to quantitatively evaluate the reduction state of the dehydrogenation catalyst, an index (hereinafter referred to as reduction degree) based on the result of measurement by XPS (X-ray photoelectron spectroscopy) was introduced.

図15及び図16は、それぞれ還元状態の異なる複数の触媒についてのXPS (X線光電子分光法)による測定結果を示す説明図である。図15では、触媒の還元状態(A)及び(B)についての分析結果が示されており、また、図16では、触媒の還元状態(C)及び(D)についての分析結果が示されている。また、図17は、図15及び図16にそれぞれ示した還元状態(B)及び(C)に関し、触媒の還元状態が脱水素反応における水素収率に及ぼす影響を示す説明図である。ここで、触媒以外の脱水素反応の構成及び条件については上述の図14の場合と同様である。   15 and 16 are explanatory diagrams showing the measurement results by XPS (X-ray photoelectron spectroscopy) of a plurality of catalysts having different reduction states. FIG. 15 shows the analysis results for the reduction states (A) and (B) of the catalyst, and FIG. 16 shows the analysis results for the reduction states (C) and (D) of the catalyst. There is. Further, FIG. 17 is an explanatory diagram showing the influence of the reducing state of the catalyst on the hydrogen yield in the dehydrogenation reaction regarding the reducing states (B) and (C) shown in FIGS. 15 and 16, respectively. Here, the configuration and conditions of the dehydrogenation reaction other than the catalyst are the same as in the case of FIG. 14 described above.

XPSの測定を行う装置として、VersaProbe2(アルバック・ファイ株式会社(ULVAC-PHI, Inc.)製)を使用した。Al Kα線をX線源として用い、Pt,4f7/2軌道のXPS測定を実施した。各処理後のサンプルは大気に触れないように窒素置換したグローブボックス内で密閉可能な反応管からベッセル内のサンプルホルダーに移し替え、その後、真空中で測定チャンバー内に移動させた。測定時のパラメータはスイープ回数が200回、PassEnergyが187.85eVである。 VersaProbe 2 (manufactured by ULVAC-PHI, Inc.) was used as a device for measuring XPS. XPS measurement of Pt, 4f 7/2 orbit was performed using Al Kα ray as an X-ray source. The sample after each treatment was transferred from a reaction tube that could be sealed in a glove box purged with nitrogen so as not to be exposed to the atmosphere to a sample holder in a vessel, and then moved in a measurement chamber in vacuum. The parameters at the time of measurement are 200 times the number of sweeps and Pass Energy is 187.85 eV.

解析ソフトとしては、Multipakを使用した。バックグラウンド補正は、試料をホルダーに固定する際に用いたカーボン両面テープのC1sピークを284.8eVに補正した。フィッティング関数は、ガウスローレンツ関数を用い、フィッティング時の半値全幅FWHM(ピーク太さ)は、Pt,Pt2+,Pt4+でそれぞれ2.62、2.82、2.82である。Pt4f7/2とPt4f5/2は、ダブレットピークであるため、上述のFWHM等の値は揃えたまま理論値であるエネルギーシフト+3.3eVとピーク高さ比0.75倍を反映させてデコンボリューションを実施した。各サンプルでピークトップの位置が0.2以上ずれないようにしながら残渣が極力小さくなるよう解析した。ピークトップの位置については学術論文等を参照した。 As analysis software, Multipak was used. For background correction, the C1s peak of the carbon double-sided tape used when fixing the sample to the holder was corrected to 284.8 eV. As the fitting function, the Gauss-Lorentz function is used, and the full width at half maximum FWHM (peak thickness) at the time of fitting is 2.62, 2.82 and 2.82 for Pt 0 , Pt 2+ and Pt 4+ , respectively. Since Pt4f 7/2 and Pt4f 5/2 have doublet peaks, the values of FWHM, etc. described above remain the same, and the theoretical value of energy shift +3.3 eV and the peak height ratio of 0.75 times are reflected to make the deconversion. The volume was implemented. In each sample, the residue was analyzed so that the residue was as small as possible while the position of the peak top was not displaced by 0.2 or more. For the position of peak top, refer to academic papers.

図15及び図16に関し、触媒(ここでは、Pt)の還元度は、XPSにより測定されたスペクトルにおいて、Pt(4f7/2, 4f5/2)のピークについてPt、Pt2+、Pt4+の3本のピークで分割フィッティングし、それぞれのピーク面積(A(Pt)、A(Pt2+)、A(Pt4+))を求め、各ピークの全体の面積のうちPtに帰属するピークの面積(A(Pt))の割合(面積百分率)を還元度として定義した。
還元度(%)=A(Pt)/(A(Pt)+A(Pt2+)+A(Pt4+))×100
15 and 16, the degree of reduction of the catalyst (here, Pt) is Pt 0 , Pt 2+ , Pt 4+ for the peak of Pt (4f 7/2 , 4f 5/2 ) in the spectrum measured by XPS. The peak area (A (Pt 0 ), A (Pt 2+ ), A (Pt 4+ )) is calculated by split fitting with the three peaks, and the peak attributed to Pt 0 in the total area of each peak. The area ratio (area percentage) of the area (A (Pt 0 )) was defined as the degree of reduction.
Degree of reduction (%) = A (Pt 0 ) / (A (Pt 0 ) + A (Pt 2+ ) + A (Pt 4+ )) × 100

表4には、それらの還元度の算出結果を示す。

Figure 2020070485
Table 4 shows the calculation results of the degree of reduction.
Figure 2020070485

その結果、上述の還元状態(A)〜(D)の還元度は、それぞれ(A)23.7%、(B)37.2%、(C)68.2%、(D)39.8%となった。このような結果から、脱水素触媒の還元度は、少なくとも電極21A、21B間に電場が印加される前に、還元状態(A)の触媒の還元度よりも高い(例えば、24%以上である)こと、より好ましくは還元状態(B)の触媒の還元度以上(37.2%以上)であることが好ましい。   As a result, the reduction degrees in the above-mentioned reduction states (A) to (D) are (A) 23.7%, (B) 37.2%, (C) 68.2%, and (D) 39.8, respectively. It became%. From these results, the degree of reduction of the dehydrogenation catalyst is higher than that of the catalyst in the reduced state (A) (for example, 24% or more) at least before the electric field is applied between the electrodes 21A and 21B. ), And more preferably, the degree of reduction of the catalyst in the reduced state (B) is not less than (37.2%).

なお、還元状態(B)と(D)の還元度が、それぞれ37.2%、39.8%と、ほぼ同じであることから、電場反応によって触媒(Pt)の還元が劇的に進行することはない。   Since the reduction degrees of the reduced states (B) and (D) are almost the same, 37.2% and 39.8%, respectively, the reduction of the catalyst (Pt) dramatically progresses by the electric field reaction. There is no such thing.

また、図17に示すように、上述の還元状態(A)〜(D)において最も還元度の高い還元状態(C)を用いても電場反応は進行することを確認できた。ただし、還元状態(C)では、触媒は還元状態(B)もしくは(D)と比較してより高温で還元され、その結果、Pt粒子が凝集して粒径が大きくなる(シンタリングする)ことにより、触媒の活性が低下した可能性がある。つまり、還元状態(B)と比べて還元状態(C)の活性が低いのは、触媒の還元度の大きさに直接起因するものではないと考えられる。電場の安定発生(放電発生の抑制)のための触媒の還元度の範囲については、少なくとも触媒の活性を大きく阻害しない(すなわち、所望の反応について触媒の活性が許容範囲にある)限りにおいて、その上限を制限されることなく、還元状態(C)よりも更に大きな還元度を採用することが可能である。   Further, as shown in FIG. 17, it was confirmed that the electric field reaction proceeds even when the reduced state (C) having the highest reduction degree among the reduced states (A) to (D) described above is used. However, in the reduced state (C), the catalyst is reduced at a higher temperature than in the reduced state (B) or (D), and as a result, the Pt particles aggregate to increase the particle size (sintering). Therefore, the activity of the catalyst may have decreased. That is, it is considered that the fact that the activity in the reduced state (C) is lower than that in the reduced state (B) is not directly due to the degree of reduction of the catalyst. Regarding the range of the degree of reduction of the catalyst for stable generation of electric field (suppression of discharge generation), at least as long as it does not significantly inhibit the activity of the catalyst (that is, the activity of the catalyst is within an allowable range for the desired reaction) The upper limit is not limited, and it is possible to adopt a degree of reduction that is larger than that in the reduced state (C).

電場脱水素反応は、外部から供給された水素もしくは脱水素反応により生成した水素からプロトン(H+)が生成し、電場によって移動するプロトンとPt粒子に吸着したメチルシクロヘキサンが、Pt粒子と担体の界面で反応して進行すると考える。この界面のPtが還元されていないとプロトンが移動できず電場が発生しないと考える。   In the electric field dehydrogenation reaction, protons (H +) are generated from hydrogen supplied from the outside or hydrogen generated by the dehydrogenation reaction, and protons that move by the electric field and methylcyclohexane adsorbed on the Pt particles form an interface between the Pt particles and the carrier. I think it will react and proceed. If Pt at this interface is not reduced, protons cannot move and an electric field is not generated.

上述のように、図1または図5に示した脱水素反応装置1では、外部の水素を反応器10に導入する水素供給ラインL3が設けられているため、例えば、上述の還元状態(B)に概ね対応する脱水素触媒を使用することができる。   As described above, in the dehydrogenation reactor 1 shown in FIG. 1 or FIG. 5, since the hydrogen supply line L3 for introducing the external hydrogen into the reactor 10 is provided, for example, the above-mentioned reduction state (B) It is possible to use a dehydrogenation catalyst substantially corresponding to

より詳細には、まず、脱水素反応の準備工程において、焼成後の脱水素触媒を電極21A、21Bの間に配置する。その後、反応器10を150℃に加熱し、原料供給ラインL2を介して反応器10に原料ガスが供給される。このとき、外部の水素が水素供給ラインL3を介して原料ガスに混合される。これにより、反応器10内の脱水素触媒の一部が外部の水素によって還元される。続いて、電極21A、21Bに電場が印加され、反応器10における脱水素反応が開始される。このような構成により、脱水素触媒に電場が印加される前に、脱水素用触媒の絶縁性を低下させることができるため、電極21A、21B間での放電の発生を抑制することが可能となる。   More specifically, first, in the preparation step for the dehydrogenation reaction, the dehydrogenation catalyst after firing is placed between the electrodes 21A and 21B. Then, the reactor 10 is heated to 150 ° C., and the raw material gas is supplied to the reactor 10 through the raw material supply line L2. At this time, external hydrogen is mixed with the source gas via the hydrogen supply line L3. As a result, a part of the dehydrogenation catalyst in the reactor 10 is reduced by external hydrogen. Then, an electric field is applied to the electrodes 21A and 21B, and the dehydrogenation reaction in the reactor 10 is started. With such a configuration, the insulating property of the dehydrogenation catalyst can be reduced before the electric field is applied to the dehydrogenation catalyst, and thus it is possible to suppress the occurrence of discharge between the electrodes 21A and 21B. Become.

なお、水素供給ラインL3を介した外部の水素の供給は、反応器10における脱水素反応が開始時に、制御弁(遮断弁)25によって遮断することができる。より好ましくは、外部の水素の供給は、脱水素反応(すなわち、水素の発生)が安定するまで行うとよい。場合によっては、脱水素反応中も外部の水素を遮断することなく継続的に反応器10に供給することも可能である。   The supply of external hydrogen via the hydrogen supply line L3 can be shut off by a control valve (shutoff valve) 25 at the start of the dehydrogenation reaction in the reactor 10. More preferably, the external hydrogen is supplied until the dehydrogenation reaction (that is, the generation of hydrogen) is stabilized. Depending on the case, it is also possible to continuously supply hydrogen to the reactor 10 during the dehydrogenation reaction without blocking external hydrogen.

また、脱水素反応装置1では、予め還元された脱水素触媒(例えば、還元状態(B)〜(D))を使用する場合には、外部の水素の供給(すなわち、水素供給ラインL3)を省略することもできる。   Further, in the dehydrogenation reaction apparatus 1, when using a dehydrogenation catalyst that has been reduced in advance (for example, reduction states (B) to (D)), external hydrogen supply (that is, the hydrogen supply line L3) is performed. It can be omitted.

以上、本発明を特定の実施形態に基づいて説明したが、これらの実施形態はあくまでも例示であって、本発明はこれらの実施形態によって限定されるものではない。   The present invention has been described above based on the specific embodiments, but these embodiments are merely examples, and the present invention is not limited to these embodiments.

例えば、電場触媒反応に用いられる触媒の還元度合い(還元度)の調整に基づき電極間の放電の発生を抑制する効果は、有機ハイドライドから水素を脱離させる脱水素反応やそれに用いられる脱水素触媒に限らず、他の化学反応やそれに用いられる触媒についても同様に適用することが可能である。   For example, the effect of suppressing the occurrence of discharge between the electrodes based on the adjustment of the reduction degree (reduction degree) of the catalyst used in the electric field catalytic reaction is the dehydrogenation reaction for desorbing hydrogen from the organic hydride and the dehydrogenation catalyst used therefor. However, the present invention is not limited to this, and can be similarly applied to other chemical reactions and catalysts used therefor.

また、上述の実施形態に示した本発明に係る電場触媒反応装置及び電場触媒反応方法の各構成要素は、必ずしも全てが必須ではなく、当業者であれば少なくとも本発明の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜取捨選択することが可能である。   Further, each component of the electric field catalytic reaction device and the electric field catalytic reaction method according to the present invention shown in the above-mentioned embodiment is not necessarily all essential, as long as those skilled in the art do not deviate from the scope of the present invention at least. It is possible to select appropriately.

1 :脱水素反応装置
2 :原料容器
3 :流量調整弁
4 :流量計
5 :流量制御器
10 :反応器
11 :加熱器
12 :加熱制御器
13 :温度測定器
20 :外殻
21A、21B:電極
22 :触媒層
23A、23B:支持プレート
24 :貫通孔
25 :制御弁
30 :電圧印加装置
31 :気液分離器
32 :流量計
41 :原料ポンプ
42 :気化器
121A、121B:電極
122 :触媒層
L1 :ガス供給ライン
L2 :原料供給ライン
L3 :水素供給ライン
L4 :生成物輸送ライン
L5 :水素輸送ライン
L6 :液排出ライン
L7 :サンプリングライン
1: Dehydrogenation reactor 2: Raw material container 3: Flow control valve 4: Flow meter 5: Flow controller 10: Reactor 11: Heater 12: Heating controller 13: Temperature measuring device 20: Outer shells 21A, 21B: Electrode 22: Catalyst layers 23A, 23B: Support plate 24: Through hole 25: Control valve 30: Voltage application device 31: Gas-liquid separator 32: Flow meter 41: Raw material pump 42: Vaporizer 121A, 121B: Electrode 122: Catalyst Layer L1: Gas supply line L2: Raw material supply line L3: Hydrogen supply line L4: Product transport line L5: Hydrogen transport line L6: Liquid discharge line L7: Sampling line

Claims (7)

有機ハイドライドから水素を脱離させる脱水素反応装置であって、
一対の電極及びそれら電極間に配置された脱水素用触媒を有する反応器と、
前記反応器に前記有機ハイドライドを供給する原料供給ラインと、
前記電極に直流電圧を印加する電圧印加装置と、
前記反応器に水素を供給する水素供給ラインと、
を備え、
前記脱水素用触媒は、少なくとも前記電極に直流電圧が印加される前の状態において、前記水素供給ラインから供給された前記水素によって還元された触媒を含むことを特徴とする脱水素反応装置。
A dehydrogenation reactor for desorbing hydrogen from organic hydride,
A reactor having a pair of electrodes and a dehydrogenation catalyst disposed between the electrodes;
A raw material supply line for supplying the organic hydride to the reactor,
A voltage applying device for applying a DC voltage to the electrodes,
A hydrogen supply line for supplying hydrogen to the reactor,
Equipped with
The dehydrogenation reaction apparatus, wherein the dehydrogenation catalyst includes a catalyst reduced by the hydrogen supplied from the hydrogen supply line at least in a state before a DC voltage is applied to the electrodes.
前記水素供給ラインにおける前記水素の流通を遮断可能な遮断弁を更に備えたことを特徴とする請求項1に記載の脱水素反応装置。   The dehydrogenation reactor according to claim 1, further comprising a shutoff valve capable of shutting off the flow of the hydrogen in the hydrogen supply line. 前記脱水素用触媒は、所定の担持体に担持された白金を含み、
前記還元された触媒は、X線光電子分光法により測定されたスペクトルに関し、異なる価数の白金の各ピークの全体の面積のうちの価数ゼロの白金のピークの面積の百分率として算出される還元度が24%以上であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の脱水素反応装置。
The dehydrogenation catalyst contains platinum supported on a predetermined carrier,
The reduced catalyst is related to the spectrum measured by X-ray photoelectron spectroscopy and is calculated as a percentage of the area of the platinum peak of zero valence among the total area of each peak of platinum of different valence. The degree is 24% or more, The dehydrogenation reaction apparatus of Claim 1 or Claim 2 characterized by the above-mentioned.
前記白金の異なる価数は、0価、+2価、及び+4価であることを特徴とする請求項3に記載の脱水素反応装置。   The dehydrogenation reactor according to claim 3, wherein different valences of the platinum are 0 valence, +2 valence, and +4 valence. 前記還元度が37.2%以上であることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の脱水素反応装置。   The dehydrogenation reactor according to claim 3 or 4, wherein the degree of reduction is 37.2% or more. 有機ハイドライドから水素を脱離させる脱水素反応方法であって、
一対の電極及びそれら電極間に配置された脱水素用触媒を有する反応器に対し、前記有機ハイドライドを供給し、
前記反応器において、前記電極間に直流電圧を印加した状態で前記有機ハイドライドの脱水素反応を行い、
少なくとも脱水素反応の開始前において、前記反応器に水素を供給することを特徴とする脱水素反応方法。
A dehydrogenation reaction method for desorbing hydrogen from organic hydride,
Supplying the organic hydride to a reactor having a pair of electrodes and a dehydrogenation catalyst arranged between the electrodes,
In the reactor, a dehydrogenation reaction of the organic hydride is performed with a DC voltage applied between the electrodes,
A dehydrogenation reaction method comprising supplying hydrogen to the reactor at least before the start of the dehydrogenation reaction.
前記脱水素反応の開始後において、前記反応器への前記水素の供給を停止することを特徴とする請求項6に記載の脱水素反応方法。   The dehydrogenation reaction method according to claim 6, wherein the supply of the hydrogen to the reactor is stopped after the start of the dehydrogenation reaction.
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