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JP2020053311A - Touch sensor, wiring equipment - Google Patents

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JP2020053311A
JP2020053311A JP2018182925A JP2018182925A JP2020053311A JP 2020053311 A JP2020053311 A JP 2020053311A JP 2018182925 A JP2018182925 A JP 2018182925A JP 2018182925 A JP2018182925 A JP 2018182925A JP 2020053311 A JP2020053311 A JP 2020053311A
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Abstract

【課題】タッチ操作の検知精度の向上を図ることができるタッチセンサ、及び配線器具を提供する。【解決手段】タッチセンサは、基板30と、センサ電極31と、第1グランド電極32と、を備える。基板30は、第1層L1及び第2層L2を有する。センサ電極31は、第1層L1に形成されている。第1グランド電極32は、基板30の厚さ方向において少なくとも一部がセンサ電極31と重なるように第2層L2に形成されており、センサ電極31との間に寄生容量が形成される。センサ電極31と第1グランド電極32との少なくとも一方は、基板30の厚さ方向においてセンサ電極31と第1グランド電極32とが重なる領域内に形成された複数の貫通孔320を含む。【選択図】図4PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch sensor and a wiring device capable of improving the detection accuracy of a touch operation. A touch sensor includes a substrate 30, a sensor electrode 31, and a first ground electrode 32. The substrate 30 has a first layer L1 and a second layer L2. The sensor electrode 31 is formed on the first layer L1. The first ground electrode 32 is formed in the second layer L2 so that at least a part thereof overlaps with the sensor electrode 31 in the thickness direction of the substrate 30, and a parasitic capacitance is formed between the first ground electrode 32 and the sensor electrode 31. At least one of the sensor electrode 31 and the first ground electrode 32 includes a plurality of through holes 320 formed in a region where the sensor electrode 31 and the first ground electrode 32 overlap in the thickness direction of the substrate 30. [Selection diagram] Fig. 4

Description

本開示は、一般にタッチセンサ、及び配線器具に関し、より詳細には静電容量式のタッチセンサ、及び配線器具に関する。   The present disclosure relates generally to touch sensors and wiring devices, and more particularly to capacitive touch sensors and wiring devices.

従来、タッチセンサ部(タッチセンサ)を備えたスイッチ装置(配線器具)がある(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, there is a switch device (wiring device) provided with a touch sensor unit (touch sensor) (for example, see Patent Document 1).

特許文献1のスイッチ装置は、スイッチ本体と、操作ユニットとを備えている。   The switch device of Patent Document 1 includes a switch body and an operation unit.

操作ユニットは、人の操作(タッチ操作)を検知するタッチセンサ部と、タッチセンサ部を収納する扁平な箱状のハウジングとを有し、ハウジングの前面をタッチセンサ部の検知面とするように構成されている。   The operation unit has a touch sensor unit that detects a human operation (touch operation) and a flat box-shaped housing that houses the touch sensor unit, and the front surface of the housing is used as a detection surface of the touch sensor unit. It is configured.

スイッチ装置は、タッチセンサ部の検知結果に応じて、外部電源から負荷への給電を入切するように構成されている。   The switch device is configured to turn on / off power supply from an external power supply to the load according to a detection result of the touch sensor unit.

特開2015−187918号公報JP 2015-187918 A

タッチセンサにおいて、タッチ操作の検知精度の向上が望まれている。   In touch sensors, there is a demand for improved detection accuracy of touch operations.

本開示は、上記事由に鑑みてなされており、その目的は、タッチ操作の検知精度の向上を図ることができるタッチセンサ、及び配線器具を提供することにある。   The present disclosure has been made in view of the above circumstances, and an object of the present disclosure is to provide a touch sensor and a wiring device that can improve the detection accuracy of a touch operation.

本開示の一態様に係るタッチセンサは、タッチ操作を検知する静電容量式のタッチセンサである。前記タッチセンサは、基板と、センサ電極と、グランド電極と、を備える。前記基板は、第1層及び第2層を有する。前記センサ電極は、前記第1層に形成されている。前記グランド電極は、前記基板の厚さ方向において少なくとも一部が前記センサ電極と重なるように前記第2層に形成されており、前記センサ電極との間に寄生容量が形成される。前記センサ電極と前記グランド電極との少なくとも一方は、前記基板の厚さ方向において前記センサ電極と前記グランド電極とが重なる領域内に形成された複数の貫通孔を含む。   A touch sensor according to an aspect of the present disclosure is a capacitance-type touch sensor that detects a touch operation. The touch sensor includes a substrate, a sensor electrode, and a ground electrode. The substrate has a first layer and a second layer. The sensor electrode is formed on the first layer. The ground electrode is formed in the second layer such that at least a part of the ground electrode overlaps the sensor electrode in a thickness direction of the substrate, and a parasitic capacitance is formed between the ground electrode and the sensor electrode. At least one of the sensor electrode and the ground electrode includes a plurality of through holes formed in a region where the sensor electrode and the ground electrode overlap in a thickness direction of the substrate.

本開示の一態様に係る配線器具は、前記タッチセンサと、前記タッチセンサによるタッチ操作の検知結果に基づいて、負荷を制御する制御回路と、を備える。   A wiring device according to an aspect of the present disclosure includes the touch sensor, and a control circuit that controls a load based on a detection result of a touch operation performed by the touch sensor.

本開示では、タッチ操作の検知精度の向上を図ることができるという効果がある。   According to the present disclosure, there is an effect that detection accuracy of a touch operation can be improved.

図1は、本開示の一実施形態に係るタッチセンサを含む配線器具のブロック図である。FIG. 1 is a block diagram of a wiring device including a touch sensor according to an embodiment of the present disclosure. 図2は、同上の配線器具の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the above wiring device. 図3は、同上の配線器具が備える操作ユニットの分解斜視図である。FIG. 3 is an exploded perspective view of an operation unit included in the wiring device of the above. 図4Aは、同上のタッチセンサが備える基板の第1層の概略図である。図4Bは、同上の基板の第2層の概略図である。図4Cは、同上の基板の第3層の概略図である。図4Dは、同上の基板の第4層の概略図である。FIG. 4A is a schematic view of a first layer of a substrate provided in the touch sensor according to the first embodiment. FIG. 4B is a schematic view of a second layer of the substrate. FIG. 4C is a schematic view of a third layer of the substrate. FIG. 4D is a schematic diagram of a fourth layer of the above substrate. 図5は、同上の基板の第2層に形成された第1グランド電極の拡大図である。FIG. 5 is an enlarged view of a first ground electrode formed on a second layer of the substrate. 図6は、本開示の一実施形態の第1変形例に係るタッチセンサにおける基板の第2層の概略図である。FIG. 6 is a schematic diagram of the second layer of the substrate in the touch sensor according to the first modification of the embodiment of the present disclosure. 図7は、本開示の一実施形態の第2変形例に係るタッチセンサにおける基板の第2層の概略図である。FIG. 7 is a schematic diagram of the second layer of the substrate in the touch sensor according to the second modification of the embodiment of the present disclosure. 図8は、本開示の一実施形態の第3変形例に係るタッチセンサにおける基板の第2層の概略図である。FIG. 8 is a schematic diagram of the second layer of the substrate in the touch sensor according to the third modified example of the embodiment of the present disclosure. 図9Aは、本開示の一実施形態の第4変形例に係るタッチセンサにおける基板の第1層の概略図である。図9Bは、同上の基板の第2層の概略図である。FIG. 9A is a schematic diagram of a first layer of a substrate in a touch sensor according to a fourth modification of one embodiment of the present disclosure. FIG. 9B is a schematic view of a second layer of the substrate.

以下に説明する実施形態及び変形例は、本開示の一例に過ぎず、本開示は、実施形態及び変形例に限定されない。この実施形態及び変形例以外であっても、本開示の技術的思想を逸脱しない範囲であれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。   The embodiments and modifications described below are merely examples of the present disclosure, and the present disclosure is not limited to the embodiments and the modifications. Various changes can be made according to the design and the like, other than the embodiment and the modified examples, as long as they do not depart from the technical idea of the present disclosure.

本実施形態に係る配線器具10について、図1〜図5を参照して説明する。   The wiring device 10 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

本実施形態の配線器具10は、電源40から負荷41への給電を制御するスイッチ装置である。配線器具10は、例えば、取付枠100(図2参照)を用いて、壁に予め形成された孔に埋込配設される。電源40は、例えば商用電源である。負荷41は、例えば、照明器具、換気扇などの電気機器である。   The wiring device 10 of the present embodiment is a switch device that controls power supply from the power supply 40 to the load 41. The wiring device 10 is embedded and disposed in a hole formed in a wall in advance using, for example, a mounting frame 100 (see FIG. 2). The power supply 40 is, for example, a commercial power supply. The load 41 is, for example, an electric device such as a lighting device or a ventilation fan.

配線器具10は、スイッチ本体1と、操作ユニット2と、を備えている。   The wiring device 10 includes a switch body 1 and an operation unit 2.

まず、スイッチ本体1について説明する。   First, the switch body 1 will be described.

スイッチ本体1は、電源40から負荷41への給電を制御するように構成されている。スイッチ本体1は、スイッチ素子11と、制御回路12と、電源回路13と、第1通信部14と、第2通信部15と、を備えている。スイッチ本体1は、さらに、コネクタ16と、一対の電源端子171A,171Bと、一対の負荷端子172A,172Bと、一対の信号端子173A,173Bと、を備えている。   The switch body 1 is configured to control power supply from the power supply 40 to the load 41. The switch body 1 includes a switch element 11, a control circuit 12, a power supply circuit 13, a first communication unit 14, and a second communication unit 15. The switch body 1 further includes a connector 16, a pair of power terminals 171A and 171B, a pair of load terminals 172A and 172B, and a pair of signal terminals 173A and 173B.

スイッチ素子11は、例えば、双方向サイリスタである。スイッチ素子11は、電源端子171Bと負荷端子172Bとの間に電気的に接続されている。スイッチ素子11は、電源端子171B及び負荷端子172Bを介して、電源40と負荷41との直列回路と電気的に接続されている。スイッチ素子11の制御端子は、制御回路12と電気的に接続されている。   The switch element 11 is, for example, a bidirectional thyristor. The switch element 11 is electrically connected between the power supply terminal 171B and the load terminal 172B. The switch element 11 is electrically connected to a series circuit of a power supply 40 and a load 41 via a power supply terminal 171B and a load terminal 172B. The control terminal of the switch element 11 is electrically connected to the control circuit 12.

スイッチ本体1は、例えばプロセッサ及びメモリを有するマイクロコンピュータを有する。そして、プロセッサがメモリに格納されているプログラムを実行することにより、マイクロコンピュータが制御回路12として機能する。プロセッサが実行するプログラムは、ここではマイクロコンピュータのメモリに予め記録されているが、メモリカード等の非一時的な記録媒体に記録されて提供されてもよいし、インターネット等の電気通信回線を通じて提供されてもよい。   The switch body 1 has, for example, a microcomputer having a processor and a memory. When the processor executes a program stored in the memory, the microcomputer functions as the control circuit 12. The program executed by the processor is pre-recorded in the memory of the microcomputer here, but may be provided by being recorded on a non-temporary recording medium such as a memory card or provided through an electric communication line such as the Internet. May be done.

制御回路12は、スイッチ素子11のオン/オフを制御する。また、制御回路12は、第1通信部14及び第2通信部15を制御する。   The control circuit 12 controls on / off of the switch element 11. Further, the control circuit 12 controls the first communication unit 14 and the second communication unit 15.

電源回路13は、電源40が出力する交流電圧を直流電圧に変換するように構成されている。電源回路13は、例えばAC/DCコンバータである。電源回路13は、交流電圧から変換した直流電圧を制御回路12に出力する。電源回路13は、電源端子171Bと負荷端子172Aとの間に電気的に接続されている。電源回路13は、電源端子171B及び負荷端子172Aを介して電源40と電気的に接続されている。電源回路13は、制御回路12と電気的に接続されている。電源回路13は、電源40から供給された交流電圧を直流電圧に変換して制御回路12に出力する。   The power supply circuit 13 is configured to convert an AC voltage output from the power supply 40 into a DC voltage. The power supply circuit 13 is, for example, an AC / DC converter. The power supply circuit 13 outputs a DC voltage converted from the AC voltage to the control circuit 12. The power supply circuit 13 is electrically connected between the power supply terminal 171B and the load terminal 172A. The power supply circuit 13 is electrically connected to the power supply 40 via a power supply terminal 171B and a load terminal 172A. The power supply circuit 13 is electrically connected to the control circuit 12. The power supply circuit 13 converts an AC voltage supplied from the power supply 40 into a DC voltage and outputs the DC voltage to the control circuit 12.

制御回路12は、電源回路13から供給される電力によって動作する。また、制御回路12は、電源回路13から供給された電力を基に、コネクタ16を介して操作ユニット2に電力を供給する。つまり、電源回路13は、制御回路12を介して操作ユニット2に電力を供給する。   The control circuit 12 operates with power supplied from the power supply circuit 13. The control circuit 12 supplies power to the operation unit 2 via the connector 16 based on the power supplied from the power supply circuit 13. That is, the power supply circuit 13 supplies power to the operation unit 2 via the control circuit 12.

一対の電源端子171A,171Bは、互いに電気的に接続されている。電源端子171Aは、例えば送り配線に利用される。   The pair of power terminals 171A and 171B are electrically connected to each other. The power supply terminal 171A is used, for example, for sending wiring.

第1通信部14は、有線通信を可能とする通信インタフェースである。第1通信部14は、一対の信号端子173A,173Bと電気的に接続されている。一対の信号端子173A,173Bは、一対の信号線が接続される。一対の信号端子173A,173Bは、一対の信号端子173A,173Bを介して、一対の信号線と電気的に接続される。一対の信号端子173A,173Bは、一対の信号線を介して、他の配線器具10におけるスイッチ本体1の一対の信号端子173A,173Bと電気的に接続される。また、第1通信部14は、制御回路12と電気的に接続されている。   The first communication unit 14 is a communication interface that enables wired communication. The first communication unit 14 is electrically connected to the pair of signal terminals 173A and 173B. The pair of signal terminals 173A and 173B are connected to a pair of signal lines. The pair of signal terminals 173A and 173B are electrically connected to the pair of signal lines via the pair of signal terminals 173A and 173B. The pair of signal terminals 173A and 173B are electrically connected to the pair of signal terminals 173A and 173B of the switch main body 1 in another wiring device 10 via a pair of signal lines. Further, the first communication unit 14 is electrically connected to the control circuit 12.

第1通信部14は、例えば、他の配線器具10から一対の信号線を用いて送信された制御信号(第1制御信号)を、一対の信号端子173A,173Bを介して受信する。第1通信部14は、受信した第1制御信号を制御回路12に出力する。また、第1通信部14は、例えば、制御回路12からの制御信号(第2制御信号)を、一対の信号端子173A,173B及び一対の信号線を介して、他の配線器具10へ送信する。   The first communication unit 14 receives, for example, a control signal (first control signal) transmitted from another wiring device 10 using a pair of signal lines via a pair of signal terminals 173A and 173B. The first communication unit 14 outputs the received first control signal to the control circuit 12. In addition, the first communication unit 14 transmits, for example, a control signal (second control signal) from the control circuit 12 to another wiring device 10 via the pair of signal terminals 173A and 173B and the pair of signal lines. .

第2通信部15は、電波を媒体とする無線通信を可能とする通信インタフェースである。本実施形態では、第2通信部15は、免許を必要としない小電力無線(特定小電力無線)の通信方式での無線通信が可能に構成されている。小電力無線については、用途等に応じて使用する周波数帯域や空中線電力などの仕様が各国で規定されている。日本国においては、400MHz帯又は900MHz帯の電波を使用する小電力無線が規定されている。また、第2通信部15は、2.4GHz帯の電波を使用するBluetooth(登録商標)の通信方式で無線通信を行うように構成されていてもよい。   The second communication unit 15 is a communication interface that enables wireless communication using radio waves as a medium. In the present embodiment, the second communication unit 15 is configured to be able to perform wireless communication in a low-power wireless (specific low-power wireless) communication method that does not require a license. Regarding the low-power radio, specifications such as a frequency band to be used and an antenna power according to an application or the like are specified in each country. In Japan, a low-power radio using a 400 MHz band or 900 MHz band radio wave is specified. In addition, the second communication unit 15 may be configured to perform wireless communication by a Bluetooth (registered trademark) communication method using radio waves in the 2.4 GHz band.

第2通信部15は、制御回路12と電気的に接続されている。第2通信部15は、例えば制御装置から無線通信により送信された制御信号(第3制御信号)を受信する。第2通信部15は、受信した第3制御信号を制御回路12に出力する。また、第2通信部15は、例えば、制御回路12からの制御信号(第4制御信号)を、無線通信により制御装置に送信する。   The second communication unit 15 is electrically connected to the control circuit 12. The second communication unit 15 receives a control signal (third control signal) transmitted from the control device by wireless communication, for example. The second communication unit 15 outputs the received third control signal to the control circuit 12. In addition, the second communication unit 15 transmits, for example, a control signal (fourth control signal) from the control circuit 12 to the control device by wireless communication.

コネクタ16は、スイッチ本体1と操作ユニット2との電気的及び機械的な接続に用いられる。コネクタ16は、制御回路12と電気的に接続されている。   The connector 16 is used for electrical and mechanical connection between the switch body 1 and the operation unit 2. The connector 16 is electrically connected to the control circuit 12.

スイッチ本体1は、筐体18を更に備えている(図2参照)。筐体18は、例えば合成樹脂により矩形箱状に形成されている。スイッチ素子11、制御回路12、電源回路13、第1通信部14、第2通信部15等は、基板に実装された状態で筐体18に収納されている。また、コネクタ16は、筐体18の前面から露出している。一対の電源端子171A,171Bと、一対の負荷端子172A,172Bと、一対の信号端子173A,173Bとは、筐体18の後面から露出している。   The switch body 1 further includes a housing 18 (see FIG. 2). The housing 18 is formed in a rectangular box shape by, for example, a synthetic resin. The switch element 11, the control circuit 12, the power supply circuit 13, the first communication unit 14, the second communication unit 15, and the like are housed in a housing 18 while being mounted on a board. The connector 16 is exposed from the front of the housing 18. The pair of power terminals 171A and 171B, the pair of load terminals 172A and 172B, and the pair of signal terminals 173A and 173B are exposed from the rear surface of the housing 18.

次に、操作ユニット2について説明する。   Next, the operation unit 2 will be described.

操作ユニット2は、例えば、人により入力された操作(タッチ操作)を受け付けるように構成されている。操作ユニット2は、スイッチ本体1の前方に取り付けられる。操作ユニット2は、例えば、入力された操作に応じた操作信号を、スイッチ本体1に出力する。   The operation unit 2 is configured to receive, for example, an operation (touch operation) input by a person. The operation unit 2 is attached to the front of the switch body 1. The operation unit 2 outputs an operation signal corresponding to the input operation to the switch body 1, for example.

操作ユニット2は、タッチセンサ3と、コネクタ21と、筐体22(図3参照)と、を備えている。   The operation unit 2 includes a touch sensor 3, a connector 21, and a housing 22 (see FIG. 3).

タッチセンサ3は、静電容量式のタッチセンサであり、例えば、人体の手指等によるタッチ操作を寄生容量(静電容量)の変化により検出する。タッチ操作は、タップ操作、ロングタップ操作、スワイプ操作、スライド操作、フリック操作、ピンチ操作等を含む。   The touch sensor 3 is a capacitance-type touch sensor, and detects, for example, a touch operation by a finger or the like of a human body based on a change in parasitic capacitance (capacitance). The touch operation includes a tap operation, a long tap operation, a swipe operation, a slide operation, a flick operation, a pinch operation, and the like.

筐体22は、ベース23とパネル24とで扁平な矩形箱状に形成されている。   The housing 22 is formed in a flat rectangular box shape by the base 23 and the panel 24.

ベース23は、例えば合成樹脂により形成されており、長方形状の底壁230と、底壁230の周縁部から前方へ突出する矩形枠状の周壁231とを有する。底壁230と周壁231とで囲まれる収納空間に、タッチセンサ3の基板30が収納される。基板30は、複数のねじによりベース23の底壁230に固定される。   The base 23 is formed of, for example, a synthetic resin, and has a rectangular bottom wall 230 and a rectangular frame-shaped peripheral wall 231 protruding forward from a peripheral edge of the bottom wall 230. The substrate 30 of the touch sensor 3 is stored in a storage space surrounded by the bottom wall 230 and the peripheral wall 231. The substrate 30 is fixed to the bottom wall 230 of the base 23 with a plurality of screws.

パネル24は、ポリカーボネートなどの合成樹脂材料により、矩形平板状に形成されている。パネル24は、透光性及び電気絶縁性を有する。パネル24は、光拡散材の混入や凹凸加工、スクリーン印刷等により、比較的に高い光拡散性を有することが好ましい。パネル24は、透光性及び電気絶縁性を有する粘着シート25により、ベース23の開口を覆うように基板30の前面303に取り付けられる。パネル24の前面240は、ユーザがタッチ操作を行うための操作面として機能する。   The panel 24 is formed in a rectangular flat plate shape from a synthetic resin material such as polycarbonate. The panel 24 has translucency and electrical insulation. The panel 24 preferably has a relatively high light diffusion property due to mixing of a light diffusion material, uneven processing, screen printing, or the like. The panel 24 is attached to the front surface 303 of the substrate 30 by a translucent and electrically insulating adhesive sheet 25 so as to cover the opening of the base 23. The front surface 240 of the panel 24 functions as an operation surface on which a user performs a touch operation.

基板30は、多層のプリント基板である。基板30の前面303には、複数のセンサ電極31が形成されている(図4A参照)。基板30の内側の層には、第1グランド電極32(グランド電極)が形成されている(図4B参照)。複数のセンサ電極31の各々と第1グランド電極32との間には、寄生容量が形成されている。また、基板30の後面304には、抵抗、コンデンサ、インダクタ等を含む複数の電子部品が実装されている。複数の電子部品には、寄生容量の変化に基づいてタッチ操作を検知する検知部34(図1、図4D参照)が含まれる。基板30の詳細な構成については後述する。   The board 30 is a multilayer printed board. A plurality of sensor electrodes 31 are formed on the front surface 303 of the substrate 30 (see FIG. 4A). A first ground electrode 32 (ground electrode) is formed on a layer inside the substrate 30 (see FIG. 4B). A parasitic capacitance is formed between each of the plurality of sensor electrodes 31 and the first ground electrode 32. A plurality of electronic components including a resistor, a capacitor, an inductor and the like are mounted on the rear surface 304 of the substrate 30. The plurality of electronic components include a detection unit 34 (see FIGS. 1 and 4D) that detects a touch operation based on a change in parasitic capacitance. The detailed configuration of the substrate 30 will be described later.

検知部34は、例えばプロセッサ及びメモリを有するマイクロコンピュータを有する。そして、プロセッサがメモリに格納されているプログラムを実行することにより、マイクロコンピュータが検知部34として機能する。プロセッサが実行するプログラムは、ここではマイクロコンピュータのメモリに予め記録されているが、メモリカード等の非一時的な記録媒体に記録されて提供されてもよいし、インターネット等の電気通信回線を通じて提供されてもよい。   The detection unit 34 has, for example, a microcomputer having a processor and a memory. When the processor executes a program stored in the memory, the microcomputer functions as the detection unit 34. The program executed by the processor is pre-recorded in the memory of the microcomputer here, but may be provided by being recorded on a non-temporary recording medium such as a memory card or provided through an electric communication line such as the Internet. May be done.

検知部34は、各センサ電極31の寄生容量を監視している。例えば、ユーザが指でパネル24の前面240(操作面)に触れた場合、ユーザの指とセンサ電極31との間に新たな寄生容量が形成される。つまり、センサ電極31は、第1グランド電極32との間、及びユーザの指との間の両方に寄生容量が形成される。そのため、センサ電極31の寄生容量が増加することとなる。検知部34は、センサ電極31の寄生容量の変化(増加)を検知することにより、タッチ操作を検知する。   The detection unit 34 monitors the parasitic capacitance of each sensor electrode 31. For example, when the user touches the front surface 240 (operation surface) of the panel 24 with a finger, a new parasitic capacitance is formed between the user's finger and the sensor electrode 31. That is, the parasitic capacitance is formed between the sensor electrode 31 and the first ground electrode 32 and between the sensor electrode 31 and the finger of the user. Therefore, the parasitic capacitance of the sensor electrode 31 increases. The detection unit 34 detects a touch operation by detecting a change (increase) in the parasitic capacitance of the sensor electrode 31.

また、基板30の後面304には、コネクタ21(図1、図4D)が設けられている。コネクタ21は、スイッチ本体1と操作ユニット2との電気的及び機械的な接続に用いられる。コネクタ21は、検知部34と電気的に接続されている。コネクタ21は、筐体22におけるベース23の底壁230から露出している。操作ユニット2がスイッチ本体1に取り付けられることにより、コネクタ21とスイッチ本体1のコネクタ16とが機械的及び電気的に接続される。   The connector 21 (FIGS. 1 and 4D) is provided on the rear surface 304 of the substrate 30. The connector 21 is used for electrical and mechanical connection between the switch body 1 and the operation unit 2. The connector 21 is electrically connected to the detection unit 34. The connector 21 is exposed from the bottom wall 230 of the base 23 in the housing 22. By attaching the operation unit 2 to the switch body 1, the connector 21 and the connector 16 of the switch body 1 are mechanically and electrically connected.

検知部34は、タッチ操作を検知すると、検知したタッチ操作に応じた信号(操作信号)を、コネクタ21を介してスイッチ本体1の制御回路12に出力する。   When detecting the touch operation, the detection unit 34 outputs a signal (operation signal) corresponding to the detected touch operation to the control circuit 12 of the switch body 1 via the connector 21.

制御回路12は、操作ユニット2からの操作信号に応じて、スイッチ素子11を制御する。これにより、制御回路12は、電源40から負荷41への給電を制御することができる。つまり、制御回路12は、タッチセンサ3によるタッチ操作の検知結果に基づいて、負荷41を制御する。また、制御回路12は、操作ユニット2からの操作信号に応じて、第1通信部14から有線通信により制御信号を送信させる。また、制御回路12は、操作ユニット2からの操作信号に応じて、第2通信部15から無線通信により制御信号を送信させる。   The control circuit 12 controls the switch element 11 according to an operation signal from the operation unit 2. Thereby, the control circuit 12 can control the power supply from the power supply 40 to the load 41. That is, the control circuit 12 controls the load 41 based on the detection result of the touch operation by the touch sensor 3. Further, the control circuit 12 causes the first communication unit 14 to transmit a control signal by wired communication in accordance with an operation signal from the operation unit 2. Further, the control circuit 12 causes the second communication unit 15 to transmit a control signal by wireless communication in accordance with an operation signal from the operation unit 2.

次に、基板30の詳細な構成について、図4A〜図4Dを参照して説明する。   Next, a detailed configuration of the substrate 30 will be described with reference to FIGS. 4A to 4D.

基板30は、第1層L1(図4A参照)、第2層L2(図4B参照)、第3層L3(図4C参照)、及び第4層L4(図4D参照)を有する四層のプリント基板である。基板30は、例えばガラスエポキシ基板などの電気絶縁性を有する複数の基材が、例えばプリプレグで接着されることにより形成されている。本実施形態では、内層用基材3020の両面に、それぞれ第1外層用基材3021、第2外層用基材3022が接着されることにより、第1層L1〜第4層L4が形成されている。基板30の厚さ方向(前後方向)において、前方から第1層L1、第2層L2、第3層L3、第4層L4の順に形成されている。第1層L1は、第1外層用基材3021における内層用基材3020と反対側の表面である。第2層L2は、内層用基材3020における第1外層用基材側3021の表面である。第3層L3は、内層用基材3020における第2外層用基材側3022の表面である。第4層L4は、第2外層用基材3022における内層用基材3020と反対側の表面である。つまり、第1層L1が基板30の前面303(第1表面)側の層であり、第4層L4が基板30の後面304(第2表面)側の層である。   The substrate 30 is a four-layer print having a first layer L1 (see FIG. 4A), a second layer L2 (see FIG. 4B), a third layer L3 (see FIG. 4C), and a fourth layer L4 (see FIG. 4D). It is a substrate. The substrate 30 is formed by bonding a plurality of electrically insulating base materials such as a glass epoxy substrate with, for example, a prepreg. In this embodiment, the first layer L1 to the fourth layer L4 are formed by bonding the first outer layer base 3021 and the second outer layer base 3022 to both surfaces of the inner layer base 3020, respectively. I have. The first layer L1, the second layer L2, the third layer L3, and the fourth layer L4 are formed in this order from the front in the thickness direction (front-back direction) of the substrate 30. The first layer L1 is a surface of the first outer layer base material 3021 opposite to the inner layer base material 3020. The second layer L2 is a surface of the first outer layer substrate side 3021 in the inner layer substrate 3020. The third layer L3 is the surface of the second outer layer substrate side 3022 in the inner layer substrate 3020. The fourth layer L4 is the surface of the second outer layer base 3022 opposite to the inner layer base 3020. That is, the first layer L1 is a layer on the front surface 303 (first surface) side of the substrate 30, and the fourth layer L4 is a layer on the rear surface 304 (second surface) side of the substrate 30.

図4Aに示すように、基板30の第1層L1には、複数(本実施形態では12個)のセンサ電極31が形成されている。センサ電極31は、銅箔などの導電部材で構成されており、フォトリソグラフィ技術などにより第1層L1である第1外層用基材3021の表面に形成されている。   As shown in FIG. 4A, a plurality of (12 in the present embodiment) sensor electrodes 31 are formed on the first layer L1 of the substrate 30. The sensor electrode 31 is made of a conductive member such as a copper foil, and is formed on the surface of the first outer layer base material 3021 which is the first layer L1 by a photolithography technique or the like.

本実施形態では、12個のセンサ電極31は、基板30の第1層L1において、左右方向に2つ、上下方向に6つずつ並んで形成されている。各センサ電極31の形状は、矩形状である。各センサ電極31は、個別に基板30の後面(第4層L4)に設けられた検知部34と電気的に接続されている。タッチセンサ3では、基板30に複数のセンサ電極31が並んで形成されている。これより、タッチ操作におけるタップ操作(ロングタップ操作)だけでなく、スワイプ操作、スライド操作、フリック操作、ピンチ操作等の移動を伴うタッチ操作を検知することができる。   In the present embodiment, the twelve sensor electrodes 31 are formed on the first layer L1 of the substrate 30 so as to be arranged two in the left-right direction and six in the up-down direction. Each sensor electrode 31 has a rectangular shape. Each sensor electrode 31 is individually electrically connected to a detection unit 34 provided on the rear surface (fourth layer L4) of the substrate 30. In the touch sensor 3, a plurality of sensor electrodes 31 are formed side by side on a substrate 30. Thus, not only a tap operation (long tap operation) in the touch operation but also a touch operation involving movement such as a swipe operation, a slide operation, a flick operation, and a pinch operation can be detected.

なお、複数のセンサ電極31が電気的に接続されていてもよい。例えば、左右方向に並ぶ2つのセンサ電極31が電気的に接続されていてもよい。この場合、上下方向の移動を伴うタッチ操作を検知することができる。   Note that a plurality of sensor electrodes 31 may be electrically connected. For example, two sensor electrodes 31 arranged in the left-right direction may be electrically connected. In this case, a touch operation involving vertical movement can be detected.

図4Bに示すように、基板30の第2層L2には、第1グランド電極32が形成されている。第1グランド電極32は、銅箔などの導電部材で構成されており、フォトリソグラフィ技術などにより第2層L2である内層用基材3020の表面に形成されている。第1グランド電極32は、検知部34と電気的に接続されている。   As shown in FIG. 4B, the first ground electrode 32 is formed on the second layer L2 of the substrate 30. The first ground electrode 32 is formed of a conductive member such as a copper foil, and is formed on the surface of the inner layer base material 3020 which is the second layer L2 by a photolithography technique or the like. The first ground electrode 32 is electrically connected to the detection unit 34.

第1グランド電極32は、外形が矩形状である。第1グランド電極32は、基板30の厚さ方向(前後方向)において複数のセンサ電極31の全てと重なるように第2層L2に形成されている。言い換えれば、複数のセンサ電極31の各々は、基板30の厚さ方向において第1グランド電極32と重なっている。ここでいう「重なっている」とは、基板30の厚さ方向から見て、各センサ電極31と第1グランド電極32とが重なっていることを意味し、各センサ電極31と第1グランド電極32との間には第1外層用基材3021、プリプレグ等が介在している。   The outer shape of the first ground electrode 32 is rectangular. The first ground electrode 32 is formed on the second layer L2 so as to overlap with all of the plurality of sensor electrodes 31 in the thickness direction (front-back direction) of the substrate 30. In other words, each of the plurality of sensor electrodes 31 overlaps the first ground electrode 32 in the thickness direction of the substrate 30. The term "overlapping" as used herein means that each sensor electrode 31 and the first ground electrode 32 overlap when viewed from the thickness direction of the substrate 30, and each sensor electrode 31 and the first ground electrode 32 overlap. 32, a first outer layer base material 3021, a prepreg, and the like are interposed.

図4Bに示すように、第1グランド電極32は、基板30の厚さ方向において、各センサ電極31と重なる領域A1内に形成された複数の貫通孔320を含む。つまり、各センサ電極31は、基板30の厚さ方向において、一部が複数の貫通孔320と重なっている。図4B、図5に示すように、本実施形態では、第1グランド電極32は、網状に形成されており、複数の貫通孔320が複数の網目として形成されている。ここでいう「網状」とは、導電部材の形状が網のような形状であることを意味しており、導電部材が編まれている意味ではない。複数の貫通孔320は、基板30の表面に沿った方向において、規則的に並んで形成されている。また、複数の貫通孔320は、互いに同じ開口形状、同じ大きさである。各貫通孔320の開口形状は、正方形であり、各辺が上下方向に対して45度又は−45度傾斜している。つまり、各貫通孔320は、対角線が上下方向又は左右方向に沿っている。ただし、第1グランド電極における周縁部、及び基板30を貫通するように形成された丸孔301の周縁部に形成された貫通孔320は、他の貫通孔320と形状が異なる。   As shown in FIG. 4B, the first ground electrode 32 includes a plurality of through-holes 320 formed in a region A1 overlapping each sensor electrode 31 in the thickness direction of the substrate 30. That is, each sensor electrode 31 partially overlaps with the plurality of through holes 320 in the thickness direction of the substrate 30. As shown in FIGS. 4B and 5, in the present embodiment, the first ground electrode 32 is formed in a mesh shape, and the plurality of through holes 320 are formed as a plurality of meshes. Here, the term “net-like” means that the shape of the conductive member is a net-like shape, and does not mean that the conductive member is knitted. The plurality of through holes 320 are formed regularly in a direction along the surface of the substrate 30. The plurality of through holes 320 have the same opening shape and the same size. The opening shape of each through hole 320 is square, and each side is inclined at 45 degrees or −45 degrees with respect to the vertical direction. That is, the diagonal line of each through-hole 320 extends in the vertical direction or the horizontal direction. However, the shape of the through-hole 320 formed at the periphery of the first ground electrode and at the periphery of the round hole 301 formed so as to penetrate the substrate 30 is different from other through-holes 320.

各貫通孔320の内側は、内層用基材3020と第1外層用基材3021とを接着する電気絶縁性を有するプリプレグで埋められている。つまり、各貫通孔320の内側は、電気絶縁性を有する絶縁部材が設けられている。言い換えれば、各貫通孔320の内側には、電気導電性を有する導電部材がない。   The inside of each through-hole 320 is filled with an electrically insulating prepreg for bonding the inner layer base material 3020 and the first outer layer base material 3021. That is, an insulating member having electrical insulation properties is provided inside each through hole 320. In other words, there is no conductive member having electrical conductivity inside each through-hole 320.

図4Cに示すように、基板30の第3層L3には、第2グランド電極33が形成されている。第2グランド電極33は、銅箔などの導電部材で構成されており、フォトリソグラフィ技術などにより第3層L3である内層用基材3020の表面に形成されている。第2グランド電極33は、第3層L3において導電部材を形成可能な領域の一面にわたって形成されている。第2グランド電極33は、基板30の後面304に実装された複数の電子部品によって形成されるセンサ回路の回路グランドとして機能する。また、第2グランド電極33は、第1グランド電極32と電気的に接続されている。   As shown in FIG. 4C, a second ground electrode 33 is formed on the third layer L3 of the substrate 30. The second ground electrode 33 is made of a conductive member such as a copper foil, and is formed on the surface of the inner layer base material 3020, which is the third layer L3, by photolithography or the like. The second ground electrode 33 is formed over the entire surface of the third layer L3 where a conductive member can be formed. The second ground electrode 33 functions as a circuit ground of a sensor circuit formed by a plurality of electronic components mounted on the rear surface 304 of the substrate 30. Further, the second ground electrode 33 is electrically connected to the first ground electrode 32.

基板30の第4層L4には、複数の電子部品(検知部34、コネクタ21を含む)を実装するためのパッド、複数の電子部品間を電気的に接続する配線等が形成されている。パッド、配線は、銅箔などの導電部材で構成されており、フォトリソグラフィ技術などにより第4層L4である第2外層用基材3022の表面に形成されている。なお、図4Dでは、パッド、配線などの記載を省略している。   On the fourth layer L4 of the substrate 30, pads for mounting a plurality of electronic components (including the detection unit 34 and the connector 21), wirings for electrically connecting the plurality of electronic components, and the like are formed. The pad and the wiring are made of a conductive member such as a copper foil, and are formed on the surface of the second outer layer base material 3022 as the fourth layer L4 by a photolithography technique or the like. In FIG. 4D, illustration of pads, wirings, and the like is omitted.

また、基板30は、左右方向の中央において、複数(本実施形態では5つ)の丸孔301が上下方向に並べて形成されている。5つの丸孔301は、基板30を貫通している。基板30の第4層L4には、5つの丸孔301それぞれを跨ぐように、5つの発光ダイオード35が実装されている(図4D参照)。各発光ダイオード35は、丸孔301を通して光が前方に照射されるように実装されている。発光ダイオード35から放射された光は、丸孔301を通り、透光性を有する粘着シート25及びパネル24を介して、パネル24の前方に照射される。   The substrate 30 has a plurality of (five in the present embodiment) round holes 301 formed at the center in the left-right direction and arranged in the up-down direction. The five round holes 301 penetrate the substrate 30. Five light emitting diodes 35 are mounted on the fourth layer L4 of the substrate 30 so as to straddle each of the five round holes 301 (see FIG. 4D). Each light emitting diode 35 is mounted such that light is emitted forward through the round hole 301. The light emitted from the light emitting diode 35 passes through the round hole 301 and is applied to the front of the panel 24 through the translucent adhesive sheet 25 and the panel 24.

(利点)
本実施形態のタッチセンサ3では、網状の第1グランド電極32が基板30の第2層L2に形成されている。第1グランド電極32は、基板30の厚さ方向において、基板30の第1層L1に形成された各センサ電極31と重なる領域A1に複数の貫通孔320が形成されている。したがって、各センサ電極31は、基板30の厚さ方向において、一部が第1グランド電極32の複数の貫通孔320と重なる。これにより、本実施形態のタッチセンサ3では、第1グランド電極32に複数の貫通孔320が形成されていない構成と比べて、各センサ電極31と第1グランド電極32との間の寄生容量が小さくなる。
(advantage)
In the touch sensor 3 of the present embodiment, the net-like first ground electrode 32 is formed on the second layer L2 of the substrate 30. In the first ground electrode 32, a plurality of through holes 320 are formed in a region A1 overlapping the sensor electrodes 31 formed on the first layer L1 of the substrate 30 in the thickness direction of the substrate 30. Therefore, each sensor electrode 31 partially overlaps with the plurality of through holes 320 of the first ground electrode 32 in the thickness direction of the substrate 30. Accordingly, in the touch sensor 3 of the present embodiment, the parasitic capacitance between each sensor electrode 31 and the first ground electrode 32 is smaller than that in the configuration in which the plurality of through holes 320 are not formed in the first ground electrode 32. Become smaller.

上述したように、ユーザが指でパネル24の前面240(操作面)に触れた場合、ユーザの指とセンサ電極31との間に新たな寄生容量が形成されるため、センサ電極31の寄生容量が増加する。検知部34は、タッチ操作が行われた際におけるセンサ電極31の寄生容量の変化(増加)を検知することにより、タッチ操作を検知する。センサ電極31と第1グランド電極32との間の寄生容量が大きくなるにつれて、タッチ操作が行われる前後におけるセンサ電極31の寄生容量の変化の割合が小さくなる。そのため、センサ電極31と第1グランド電極32との間の寄生容量が大きくなるにつれて、検知部34におけるタッチ操作の検知感度が低下することとなる。   As described above, when the user touches the front surface 240 (operation surface) of the panel 24 with a finger, a new parasitic capacitance is formed between the user's finger and the sensor electrode 31, so that the parasitic capacitance of the sensor electrode 31 is changed. Increase. The detection unit 34 detects a touch operation by detecting a change (increase) in the parasitic capacitance of the sensor electrode 31 when the touch operation is performed. As the parasitic capacitance between the sensor electrode 31 and the first ground electrode 32 increases, the rate of change in the parasitic capacitance of the sensor electrode 31 before and after the touch operation is performed decreases. Therefore, as the parasitic capacitance between the sensor electrode 31 and the first ground electrode 32 increases, the detection sensitivity of the detection unit 34 for a touch operation decreases.

本実施形態のタッチセンサ3では、センサ電極31と第1グランド電極32との間の寄生容量が小さくなるように構成されている。したがって、本実施形態のタッチセンサ3では、第1グランド電極32に複数の貫通孔320が形成されていない構成と比べて、タッチ操作の検知感度が向上し、タッチ操作の検知精度の向上を図ることができる。   The touch sensor 3 of the present embodiment is configured such that the parasitic capacitance between the sensor electrode 31 and the first ground electrode 32 is reduced. Therefore, in the touch sensor 3 of the present embodiment, the detection sensitivity of the touch operation is improved, and the detection accuracy of the touch operation is improved as compared with the configuration in which the plurality of through holes 320 are not formed in the first ground electrode 32. be able to.

また、センサ電極31の寄生容量を低減するために、第1グランド電極32を省略する構成が考えられる。この場合、センサ電極31と、基板30の第3層L3に形成された第2グランド電極33と間に寄生容量が形成される。第2グランド電極33は、第2層L2に対して、センサ電極31が形成されている第1層L1とは反対側の第3層L3に形成されている。したがって、基板30の厚さ方向において、センサ電極31と第2グランド電極33との間の距離は、センサ電極31と第1グランド電極32との間の距離に比べて長い。そのため、第1グランド電極32を省略することにより、センサ電極31の寄生容量が低減される。   Further, in order to reduce the parasitic capacitance of the sensor electrode 31, a configuration in which the first ground electrode 32 is omitted may be considered. In this case, a parasitic capacitance is formed between the sensor electrode 31 and the second ground electrode 33 formed on the third layer L3 of the substrate 30. The second ground electrode 33 is formed on a third layer L3 opposite to the first layer L1 on which the sensor electrode 31 is formed with respect to the second layer L2. Therefore, in the thickness direction of the substrate 30, the distance between the sensor electrode 31 and the second ground electrode 33 is longer than the distance between the sensor electrode 31 and the first ground electrode 32. Therefore, by omitting the first ground electrode 32, the parasitic capacitance of the sensor electrode 31 is reduced.

しかし、第1グランド電極32が省略された構成では、センサ電極31の耐ノイズ性が低下する。耐ノイズ性が低い場合、例えば無線信号等によるノイズを受けやすくなり、タッチ操作を誤検知する可能性がある。また、耐ノイズ性が低い場合、センサ電極31からノイズが放射されやすくなる。   However, in a configuration in which the first ground electrode 32 is omitted, the noise resistance of the sensor electrode 31 decreases. When the noise resistance is low, for example, noise due to a wireless signal or the like is likely to be received, and a touch operation may be erroneously detected. When the noise resistance is low, noise is easily emitted from the sensor electrode 31.

本実施形態のタッチセンサ3では、第2層L2に第1グランド電極32が形成されており、第1グランド電極32がノイズを抑制するノイズシールドとして機能する。したがって、本実施形態のタッチセンサ3では、第1グランド電極32が省略された構成と比べて、耐ノイズ性が向上する。これにより、タッチ操作の誤検知が抑制され、タッチ操作の検知精度の向上を図ることができる。   In the touch sensor 3 of the present embodiment, the first ground electrode 32 is formed on the second layer L2, and the first ground electrode 32 functions as a noise shield for suppressing noise. Therefore, in the touch sensor 3 of the present embodiment, noise resistance is improved as compared with the configuration in which the first ground electrode 32 is omitted. Thereby, erroneous detection of the touch operation is suppressed, and the detection accuracy of the touch operation can be improved.

上述したように、本実施形態のタッチセンサ3では、第1グランド電極32が網状に形成され複数の貫通孔320を有する。これにより、本実施形態のタッチセンサ3では、タッチ操作の検知感度、及び耐ノイズ性が向上するので、タッチ操作の検知精度の向上を図ることができる。第1グランド電極32において、基板30の厚さ方向において、センサ電極31と重なる領域A1に対する複数の貫通孔320の面積の割合は、30%以上95%以下が好ましい。   As described above, in the touch sensor 3 of the present embodiment, the first ground electrode 32 is formed in a net shape and has a plurality of through holes 320. Thereby, in the touch sensor 3 of the present embodiment, the detection sensitivity of the touch operation and the noise resistance are improved, so that the detection accuracy of the touch operation can be improved. In the first ground electrode 32, in the thickness direction of the substrate 30, the ratio of the area of the plurality of through holes 320 to the region A1 overlapping the sensor electrode 31 is preferably 30% or more and 95% or less.

また、本実施形態の配線器具10は、タッチセンサ3におけるタッチ操作の検知結果に応じて無線信号を送信する第2通信部15(通信部)を備えている。本実施形態のタッチセンサ3では、第2通信部15が送信する無線信号によるノイズの影響をより抑制するように、第1グランド電極32における各貫通孔320の開口寸法X1(図5参照)が設定されている。開口寸法X1は、貫通孔320における開口の寸法の最大値である。本実施形態では、貫通孔320の開口形状は正方形である。したがって、開口寸法X1は、貫通孔320における開口の対角線の寸法である(図5参照)。   In addition, the wiring device 10 of the present embodiment includes a second communication unit 15 (communication unit) that transmits a wireless signal according to a detection result of a touch operation performed by the touch sensor 3. In the touch sensor 3 of the present embodiment, the opening dimension X1 (see FIG. 5) of each through hole 320 in the first ground electrode 32 is set so as to further suppress the influence of noise due to the wireless signal transmitted by the second communication unit 15. Is set. The opening dimension X1 is the maximum value of the size of the opening in the through hole 320. In the present embodiment, the opening shape of the through hole 320 is a square. Therefore, the opening dimension X1 is a diagonal dimension of the opening in the through hole 320 (see FIG. 5).

各貫通孔320の開口寸法X1は、第2通信部15から送信された無線信号を各センサ電極31が受けることを抑制するように設定されている。各貫通孔320の開口寸法X1は、第2通信部15が送信する無線信号の周波数に基づいて設定される。具体的には、各貫通孔320の開口寸法X1は、第2通信部15が送信する無線信号の波長の四分の一以下である。無線信号の波長は、下記の式(1)で表される。   The opening dimension X1 of each through hole 320 is set so as to prevent each sensor electrode 31 from receiving a wireless signal transmitted from the second communication unit 15. The opening dimension X1 of each through hole 320 is set based on the frequency of a wireless signal transmitted by the second communication unit 15. Specifically, the opening dimension X1 of each through hole 320 is equal to or less than a quarter of the wavelength of the wireless signal transmitted by the second communication unit 15. The wavelength of the wireless signal is represented by the following equation (1).

λ=c÷f×k …(1)
式(1)において、λは無線信号の波長、cは光の速度[m/s]、fは無線信号の周波数[Hz]、kは基板30の波長短縮率である。波長短縮率kは、下記の式(2)で表される。
λ = c ÷ f × k (1)
In Equation (1), λ is the wavelength of the wireless signal, c is the speed of light [m / s], f is the frequency of the wireless signal [Hz], and k is the wavelength reduction rate of the substrate 30. The wavelength shortening rate k is represented by the following equation (2).

k=1/√ε …(2)
式(2)において、εは、基板30の比誘電率である。
k = 1 / √ε r (2)
In the equation (2), ε r is the relative dielectric constant of the substrate 30.

例えば、無線信号の周波数fが1[GHz]、基板30の比誘電率が4である場合、波長λは、下記の式(3)で表される。   For example, when the frequency f of the wireless signal is 1 [GHz] and the relative permittivity of the substrate 30 is 4, the wavelength λ is represented by the following equation (3).

λ=3×10÷(1×10)×1/√4
=0.15[m]=150[mm] …(3)
各貫通孔320の開口寸法X1は、無線信号の波長λの四分の一以下が好ましく、波長λの八分の一以下がより好ましく、波長λの十分の一以下がさらに好ましい。開口寸法X1は、波長λの八分の一である場合、18.75[mm]となり、波長λの十分の一である場合、15[mm]となる。
λ = 3 × 10 8 ÷ (1 × 10 9 ) × 1 / √4
= 0.15 [m] = 150 [mm] (3)
The opening dimension X1 of each through hole 320 is preferably equal to or less than a quarter of the wavelength λ of the wireless signal, more preferably equal to or less than one eighth of the wavelength λ, and still more preferably equal to or less than one tenth of the wavelength λ. The opening dimension X1 is 18.75 [mm] when it is one eighth of the wavelength λ, and is 15 [mm] when it is one tenth of the wavelength λ.

各貫通孔320の開口寸法X1が上記数値に形成されていることによって、第2通信部15から送信された無線信号を各センサ電極31が受けることを抑制し、センサ電極31のノイズを抑制することができる。また、第1グランド電極32は、センサ電極31とスイッチ本体1(第2通信部15)との間に形成されているので、センサ電極31のノイズをより抑制することができる。   Since the opening dimension X1 of each through-hole 320 is formed to the above numerical value, it is possible to prevent each sensor electrode 31 from receiving a wireless signal transmitted from the second communication unit 15 and suppress noise of the sensor electrode 31. be able to. Further, since the first ground electrode 32 is formed between the sensor electrode 31 and the switch body 1 (the second communication unit 15), noise of the sensor electrode 31 can be further suppressed.

(変形例)
以下に、変形例について列記する。なお、以下に説明する変形例は、上記実施形態と適宜組み合わせて適用可能である。
(Modification)
Hereinafter, the modified examples will be listed. The modifications described below can be applied in appropriate combinations with the above embodiments.

(変形例1)
第1グランド電極32の形状は、図4B、図5に示す形状に限らない。図6に示すように、第1グランド電極32Aは、各貫通孔320Aにおける各辺が上下方向又は左右方向に沿った正方形に形成されていてもよい。
(Modification 1)
The shape of the first ground electrode 32 is not limited to the shapes shown in FIGS. 4B and 5. As shown in FIG. 6, the first ground electrode 32A may be formed such that each side of each through hole 320A is a square along the vertical direction or the horizontal direction.

また、第1グランド電極32の形状は、各貫通孔320の開口形状が正方形(四角形)である網状に限らない。図7に示すように、第1グランド電極32Bは、各貫通孔320Bの開口形状が円形に形成されていてもよい。また、図8に示すように第1グランド電極32Cは、各貫通孔320Cがスリット状に形成されていてもよい。図8に示す例では、貫通孔320Cの開口が、上下方向に対して傾斜した斜め方向に沿うように形成されている。   Further, the shape of the first ground electrode 32 is not limited to a mesh shape in which the opening shape of each through hole 320 is a square (quadrangle). As shown in FIG. 7, in the first ground electrode 32B, the opening shape of each through hole 320B may be formed in a circular shape. Further, as shown in FIG. 8, in the first ground electrode 32C, each through hole 320C may be formed in a slit shape. In the example shown in FIG. 8, the opening of the through hole 320C is formed so as to extend along an oblique direction that is inclined with respect to the vertical direction.

(変形例2)
上記実施形態では、第1グランド電極32が複数の貫通孔320を含むように構成されていたが、これに限らない。図9Aに示すように、各センサ電極31Dが複数の貫通孔310Dを含むように構成されていてもよい。
(Modification 2)
In the above embodiment, the first ground electrode 32 is configured to include the plurality of through holes 320, but is not limited thereto. As shown in FIG. 9A, each sensor electrode 31D may be configured to include a plurality of through holes 310D.

図9Aに示す例では、各センサ電極31Dが網状に形成されており、複数の貫通孔320Dが複数の網目として形成されている。また、本変形例では、図9Bに示すように、第1グランド電極32Dは、第3層L3において導電部材を形成可能な領域の一面にわたって形成されている。   In the example shown in FIG. 9A, each sensor electrode 31D is formed in a mesh shape, and a plurality of through holes 320D are formed as a plurality of meshes. Further, in the present modification, as shown in FIG. 9B, the first ground electrode 32D is formed over one surface of a region where a conductive member can be formed in the third layer L3.

本変形例は、網状に形成された複数のセンサ電極31Dが基板30の第1層L1に形成されている。つまり、各センサ電極31Dは、基板30の厚さ方向において、基板30の第2層L2に形成された第1グランド電極32Dと重なる領域に複数の貫通孔320Dが形成されている。したがって、第1グランド電極32Dは、基板30の厚さ方向において、一部がセンサ電極31Dの複数の貫通孔310Dと重なる。これにより、本変形例のタッチセンサ3では、各センサ電極31Dに複数の貫通孔310Dが形成されていない構成と比べて、各センサ電極31Dと第1グランド電極32Dとの間の寄生容量が小さくなる。これにより、タッチ操作の検知精度の向上を図ることができる。   In this modification, a plurality of sensor electrodes 31D formed in a net shape are formed on the first layer L1 of the substrate 30. That is, in each sensor electrode 31D, in the thickness direction of the substrate 30, a plurality of through holes 320D are formed in a region overlapping with the first ground electrode 32D formed in the second layer L2 of the substrate 30. Therefore, the first ground electrode 32D partially overlaps the plurality of through holes 310D of the sensor electrode 31D in the thickness direction of the substrate 30. Thus, in the touch sensor 3 of the present modification, the parasitic capacitance between each sensor electrode 31D and the first ground electrode 32D is smaller than that in the configuration in which the plurality of through holes 310D are not formed in each sensor electrode 31D. Become. Thereby, the detection accuracy of the touch operation can be improved.

本変形例では、第1グランド電極32Dが第3層L3において導電部材を形成可能な領域の一面にわたって形成されている。これにより、各センサ電極31Dが受けるノイズをより抑制することができる。   In the present modification, the first ground electrode 32D is formed on one surface of a region where a conductive member can be formed in the third layer L3. Thereby, the noise received by each sensor electrode 31D can be further suppressed.

また、各センサ電極31Dにおける各貫通孔310Dの開口面積は、ユーザがパネル24の前面240(操作面)に対してタッチ操作を行う際における指とパネル24との接触面積よりも小さいことが好ましい。   Further, the opening area of each through hole 310D in each sensor electrode 31D is preferably smaller than the contact area between the finger and panel 24 when the user performs a touch operation on front surface 240 (operation surface) of panel 24. .

また、図9Bに示すように、第1グランド電極32Dは、第3層L3において導電部材を形成可能な領域の一面にわたって形成されているが、これに限らない。基板30の第3層L3において、網状に形成され複数の貫通孔320を有する第1グランド電極32(図4B参照)が形成されていてもよい。つまり、タッチセンサ3は、各センサ電極31Dと第1グランド電極32との両方が網状に形成された構成であってもよい。   Further, as shown in FIG. 9B, the first ground electrode 32D is formed over one surface of a region where the conductive member can be formed in the third layer L3, but is not limited thereto. In the third layer L3 of the substrate 30, a first ground electrode 32 (see FIG. 4B) formed in a net shape and having a plurality of through holes 320 may be formed. That is, the touch sensor 3 may have a configuration in which both the sensor electrodes 31D and the first ground electrode 32 are formed in a net shape.

(その他の変形例)
上述した例では、基板30の第1層L1に複数(12個)のセンサ電極31が形成されていたが、複数のセンサ電極31の数は、12個に限らず、他の個数であってもよい。また、センサ電極31の数は、1つであってもよい。
(Other modifications)
In the above-described example, the plurality (12) of the sensor electrodes 31 are formed on the first layer L1 of the substrate 30. However, the number of the plurality of sensor electrodes 31 is not limited to 12, and may be another number. Is also good. Further, the number of the sensor electrodes 31 may be one.

センサ電極31の外形は、矩形状に限らず、他の形状(例えば円形)であってもよい。また、複数のセンサ電極31は、互いに同じ外形形状、同じ大きさに限らず、互いに異なる外形形状、大きさであってもよい。   The outer shape of the sensor electrode 31 is not limited to a rectangular shape, but may be another shape (for example, a circular shape). The plurality of sensor electrodes 31 are not limited to the same outer shape and the same size, but may have different outer shapes and sizes.

上述した例では、第1グランド電極32は、基板30の厚さ方向において、複数のセンサ電極31と重なる領域A1(図4B参照)以外の領域にも複数の貫通孔320が形成されているが、この限りでない。第1グランド電極32は、領域A1以外の領域の一面にわたって導電部材が形成されていてもよい。   In the example described above, although the first ground electrode 32 has a plurality of through holes 320 formed in a region other than the region A1 (see FIG. 4B) overlapping the plurality of sensor electrodes 31 in the thickness direction of the substrate 30. This is not the case. In the first ground electrode 32, a conductive member may be formed over one surface of a region other than the region A1.

上述した例では、基板30の厚さ方向において、1つの第1グランド電極32に複数のセンサ電極31が重なるように構成されていたが、この限りでない。基板30の第2層L2に複数の第1グランド電極が形成され、基板30の厚さ方向において、複数の第1グランド電極が複数のセンサ電極31と重なるように構成されていてもよい。   In the above-described example, the plurality of sensor electrodes 31 are configured to overlap with one first ground electrode 32 in the thickness direction of the substrate 30, but this is not a limitation. A plurality of first ground electrodes may be formed on the second layer L2 of the substrate 30, and the plurality of first ground electrodes may overlap the plurality of sensor electrodes 31 in the thickness direction of the substrate 30.

上述した例では、基板30は、四層の基板であったが、この限りでない。基板30は、第1層L1及び第2層L2のみを有する両面基板であってもよいし、三層又は五層以上の基板であってもよい。   In the above-described example, the substrate 30 is a four-layer substrate, but is not limited thereto. The substrate 30 may be a double-sided substrate having only the first layer L1 and the second layer L2, or may be a substrate having three or five or more layers.

(まとめ)
第1態様に係るタッチセンサ(3)は、タッチ操作を検知する静電容量式のタッチセンサである。タッチセンサ(3)は、基板(30)と、センサ電極(31,31D)と、グランド電極(第1グランド電極32,32A,32B,32C,32D)と、を備える。基板(30)は、第1層(L1)及び第2層(L2)を有する。センサ電極(31,31D)は、第1層(L1)に形成されている。グランド電極(32,32A,32B,32C,32D)は、基板(30)の厚さ方向において少なくとも一部がセンサ電極(31,31D)と重なるように第2層(L2)に形成されており、センサ電極(31,31D)との間に寄生容量が形成される。センサ電極(31,31D)とグランド電極(32,32A,32B,32C,32D)との少なくとも一方は、基板(30)の厚さ方向においてセンサ電極(31,31D)とグランド電極(32,32A,32B,32C,32D)とが重なる領域(A1)内に形成された複数の貫通孔(320,320A,320B,320C,310D)を含む。
(Summary)
The touch sensor (3) according to the first aspect is a capacitive touch sensor that detects a touch operation. The touch sensor (3) includes a substrate (30), sensor electrodes (31, 31D), and ground electrodes (first ground electrodes 32, 32A, 32B, 32C, 32D). The substrate (30) has a first layer (L1) and a second layer (L2). The sensor electrodes (31, 31D) are formed on the first layer (L1). The ground electrodes (32, 32A, 32B, 32C, 32D) are formed on the second layer (L2) so that at least a part thereof overlaps the sensor electrodes (31, 31D) in the thickness direction of the substrate (30). And a sensor electrode (31, 31D), a parasitic capacitance is formed. At least one of the sensor electrode (31, 31D) and the ground electrode (32, 32A, 32B, 32C, 32D) is connected to the sensor electrode (31, 31D) and the ground electrode (32, 32A) in the thickness direction of the substrate (30). , 32B, 32C, 32D) includes a plurality of through holes (320, 320A, 320B, 320C, 310D) formed in an area (A1) where the through holes overlap.

この態様によれば、タッチ操作の検知感度、及び耐ノイズ性が向上するので、タッチ操作の検知精度の向上を図ることができる。   According to this aspect, the detection sensitivity of the touch operation and the noise resistance are improved, so that the detection accuracy of the touch operation can be improved.

第2態様に係るタッチセンサ(3)では、第1態様において、センサ電極(31)とグランド電極(32,32A,32B,32C)とのうち、グランド電極(32,32A,32B,32C)にのみ複数の貫通孔(320,320A,320B,320C)が形成されている。   In the touch sensor (3) according to the second aspect, in the first aspect, the ground electrode (32, 32A, 32B, 32C) of the sensor electrode (31) and the ground electrode (32, 32A, 32B, 32C). Only a plurality of through holes (320, 320A, 320B, 320C) are formed.

この態様によれば、タッチ操作の検知感度、及び耐ノイズ性が向上するので、タッチ操作の検知精度の向上を図ることができる。   According to this aspect, the detection sensitivity of the touch operation and the noise resistance are improved, so that the detection accuracy of the touch operation can be improved.

第3態様に係るタッチセンサ(3)では、第2態様において、基板(30)は、第3層(L3)及び第4層(L4)を更に有する。第1層(L1)は、基板(30)の第1表面(303)側の層である。第2層(L2)は、基板(30)の内側の層であってグランド電極としての第1グランド電極(32,32A,32B,32C)が形成されている。第3層(L3)は、第2層(L2)に対して第1層(L1)とは反対側に形成された基板(30)の内側の層であって、第2グランド電極(33)が形成されている。第4層(L4)は、第3層(L3)に対して第2層(L2)とは反対側に形成された基板(30)の第2表面(304)側の層であって、タッチ操作を検知するための電子部品(検知部34)が配置される。   In the touch sensor (3) according to the third aspect, in the second aspect, the substrate (30) further includes a third layer (L3) and a fourth layer (L4). The first layer (L1) is a layer on the first surface (303) side of the substrate (30). The second layer (L2) is an inner layer of the substrate (30) and has first ground electrodes (32, 32A, 32B, 32C) as ground electrodes. The third layer (L3) is an inner layer of the substrate (30) formed on the opposite side of the second layer (L2) from the first layer (L1), and is a second ground electrode (33). Are formed. The fourth layer (L4) is a layer on the second surface (304) side of the substrate (30) formed on the opposite side of the third layer (L3) from the second layer (L2), and An electronic component (detection unit 34) for detecting an operation is arranged.

この態様によれば、タッチ操作を検知するための電子部品で構成されるセンサ回路のノイズがセンサ電極(31)に伝わるのを抑制することができる。   According to this aspect, it is possible to suppress transmission of noise of the sensor circuit including the electronic components for detecting the touch operation to the sensor electrode (31).

第4態様に係るタッチセンサ(3)では、第1態様において、センサ電極(31D)とグランド電極(32D)とのうち、センサ電極(31D)にのみ複数の貫通孔(310)が形成されている。   In the touch sensor (3) according to the fourth aspect, in the first aspect, among the sensor electrode (31D) and the ground electrode (32D), a plurality of through holes (310) are formed only in the sensor electrode (31D). I have.

この態様によれば、タッチ操作の検知感度、及び耐ノイズ性が向上するので、タッチ操作の検知精度の向上を図ることができる。   According to this aspect, the detection sensitivity of the touch operation and the noise resistance are improved, so that the detection accuracy of the touch operation can be improved.

第5態様に係るタッチセンサ(3)では、第1〜第4態様のいずれかにおいて、複数の貫通孔(320,320A,320B,320C,310D)は、基板(30)の表面に沿った方向において規則的に並んで形成されている。   In the touch sensor (3) according to the fifth aspect, in any one of the first to fourth aspects, the plurality of through-holes (320, 320A, 320B, 320C, 310D) extend in a direction along the surface of the substrate (30). Are regularly arranged.

この態様によれば、基板(30)の表面に沿った方向において、タッチ操作の検知感度の差を低減することができる。   According to this aspect, in the direction along the surface of the substrate (30), the difference in the detection sensitivity of the touch operation can be reduced.

第6態様に係るタッチセンサ(3)では、第1〜第5態様のいずれかにおいて、センサ電極(31,31D)とグランド電極(32,32A,32B,32C,32D)との少なくとも一方は、網状に形成されており、複数の貫通孔(320,320A,320B,320C,310D)が複数の網目として形成されている。   In the touch sensor (3) according to the sixth aspect, in any of the first to fifth aspects, at least one of the sensor electrode (31, 31D) and the ground electrode (32, 32A, 32B, 32C, 32D) It is formed in a mesh shape, and a plurality of through holes (320, 320A, 320B, 320C, 310D) are formed as a plurality of meshes.

この態様によれば、タッチ操作の検知感度、及び耐ノイズ性が向上するので、タッチ操作の検知精度の向上を図ることができる。   According to this aspect, the detection sensitivity of the touch operation and the noise resistance are improved, so that the detection accuracy of the touch operation can be improved.

第7態様に係るタッチセンサ(3)では、第1〜第6態様のいずれかにおいて、複数の貫通孔(320)の各々の開口寸法(X1)は、タッチ操作の検知結果に応じて送信される無線信号の波長(λ)の四分の一以下である。   In the touch sensor (3) according to the seventh aspect, in any one of the first to sixth aspects, the opening dimension (X1) of each of the plurality of through holes (320) is transmitted according to a detection result of the touch operation. Less than a quarter of the wavelength (λ) of the wireless signal.

この態様によれば、無線信号によってセンサ電極(31,31D)が受けるノイズを抑制することができる。   According to this aspect, it is possible to suppress noise received by the sensor electrodes (31, 31D) due to the wireless signal.

第8態様に係る配線器具(10)は、第1〜第7態様のいずれかのタッチセンサ(3)と、タッチセンサ(3)によるタッチ操作の検知結果に基づいて、負荷(41)を制御する制御回路(12)と、を備える。   A wiring device (10) according to an eighth aspect controls a load (41) based on the touch sensor (3) according to any one of the first to seventh aspects and a detection result of a touch operation by the touch sensor (3). And a control circuit (12).

この態様によれば、タッチセンサ(3)において、タッチ操作の検知感度、及び耐ノイズ性が向上するので、タッチ操作の検知精度の向上を図ることができる。   According to this aspect, in the touch sensor (3), the detection sensitivity of the touch operation and the noise resistance are improved, so that the detection accuracy of the touch operation can be improved.

10 配線器具
12 制御回路
3 タッチセンサ
30 基板
303 前面(第1表面)
304 後面(第2表面)
31,31D センサ電極
310D 貫通孔
32,32A,32B,32C,32D 第1グランド電極(グランド電極)
320,320A,320B,320C 貫通孔
33 第2グランド電極
34 検知部(電子部品)
L1 第1層
L2 第2層
L3 第3層
L4 第4層
X1 開口寸法
41 負荷
Reference Signs List 10 wiring device 12 control circuit 3 touch sensor 30 substrate 303 front surface (first surface)
304 back surface (second surface)
31, 31D Sensor electrode 310D Through holes 32, 32A, 32B, 32C, 32D First ground electrode (ground electrode)
320, 320A, 320B, 320C Through hole 33 Second ground electrode 34 Detection unit (electronic component)
L1 First layer L2 Second layer L3 Third layer L4 Fourth layer X1 Opening dimension 41 Load

Claims (8)

タッチ操作を検知する静電容量式のタッチセンサであって、
第1層及び第2層を有する基板と、
前記第1層に形成されたセンサ電極と、
前記基板の厚さ方向において少なくとも一部が前記センサ電極と重なるように前記第2層に形成されており、前記センサ電極との間に寄生容量が形成されるグランド電極と、を備え、
前記センサ電極と前記グランド電極との少なくとも一方は、前記基板の厚さ方向において前記センサ電極と前記グランド電極とが重なる領域内に形成された複数の貫通孔を含む、
タッチセンサ。
A capacitance-type touch sensor that detects a touch operation,
A substrate having a first layer and a second layer;
A sensor electrode formed on the first layer;
A ground electrode formed at the second layer so that at least a part thereof overlaps the sensor electrode in a thickness direction of the substrate, and a parasitic capacitance is formed between the sensor electrode and the ground electrode.
At least one of the sensor electrode and the ground electrode includes a plurality of through holes formed in a region where the sensor electrode and the ground electrode overlap in a thickness direction of the substrate.
Touch sensor.
前記センサ電極と前記グランド電極とのうち、前記グランド電極にのみ前記複数の貫通孔が形成されている、
請求項1に記載のタッチセンサ。
Of the sensor electrode and the ground electrode, the plurality of through holes are formed only in the ground electrode,
The touch sensor according to claim 1.
前記基板は、第3層及び第4層を更に有し、
前記第1層は、前記基板の第1表面側の層であり、
前記第2層は、前記基板の内側の層であって前記グランド電極としての第1グランド電極が形成され、
前記第3層は、前記第2層に対して前記第1層とは反対側に形成された前記基板の内側の層であって、第2グランド電極が形成され、
前記第4層は、前記第3層に対して前記第2層とは反対側に形成された前記基板の第2表面側の層であって、前記タッチ操作を検知するための電子部品が配置される、
請求項2に記載のタッチセンサ。
The substrate further has a third layer and a fourth layer,
The first layer is a layer on a first surface side of the substrate,
The second layer is a layer inside the substrate, and a first ground electrode as the ground electrode is formed,
The third layer is an inner layer of the substrate formed on a side opposite to the first layer with respect to the second layer, wherein a second ground electrode is formed,
The fourth layer is a layer on the second surface side of the substrate formed on the side opposite to the second layer with respect to the third layer, on which an electronic component for detecting the touch operation is arranged. Done,
The touch sensor according to claim 2.
前記センサ電極と前記グランド電極とのうち、前記センサ電極にのみ前記複数の貫通孔が形成されている、
請求項1に記載のタッチセンサ。
Of the sensor electrode and the ground electrode, the plurality of through holes are formed only in the sensor electrode,
The touch sensor according to claim 1.
前記複数の貫通孔は、前記基板の表面に沿った方向において規則的に並んで形成されている、
請求項1〜4のいずれか1項に記載のタッチセンサ。
The plurality of through holes are formed regularly in a direction along the surface of the substrate,
The touch sensor according to claim 1.
前記センサ電極と前記グランド電極との少なくとも一方は、網状に形成されており、前記複数の貫通孔が複数の網目として形成されている、
請求項1〜5のいずれか1項に記載のタッチセンサ。
At least one of the sensor electrode and the ground electrode is formed in a mesh, and the plurality of through holes are formed as a plurality of meshes.
The touch sensor according to claim 1.
前記複数の貫通孔の各々の開口寸法は、前記タッチ操作の検知結果に応じて送信される無線信号の波長の四分の一以下である、
請求項1〜6のいずれか1項に記載のタッチセンサ。
The opening size of each of the plurality of through holes is equal to or less than a quarter of the wavelength of the wireless signal transmitted in accordance with the detection result of the touch operation.
The touch sensor according to claim 1.
請求項1〜7のいずれか1項に記載のタッチセンサと、
前記タッチセンサによる前記タッチ操作の検知結果に基づいて、負荷を制御する制御回路と、を備える、
配線器具。
A touch sensor according to any one of claims 1 to 7,
A control circuit that controls a load based on a detection result of the touch operation by the touch sensor,
Wiring equipment.
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